CN1582093A - 图形形成方法及布线图形形成方法，电光学装置及电子设备 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种图形形成方法，在包含升华性色素的基材(1)上设置薄膜(2)，对基材(1)照射光，利用通过光的照射产生的热，使所需区域的升华性色素升华，除去对应于光照射的照射区域的薄膜(2)，对该薄膜(2)进行图形化。根据本发明的图形形成方法，能够利用简单低成本的方法高精度地对薄膜进行图形化。

Description

图形形成方法及布线图形形成方法，电光学装置及电子设备
技术领域
本发明涉及在基材上形成薄膜图形的图形形成方法，以及使用该薄膜图形的布线图形的形成方法，电光学装置及电子设备。
背景技术
在现有技术中，作为具有半导体集成电路等的微细的布线图形的器件的制造方法，大多采用光刻法，但利用液滴喷出法(喷墨法)的器件的制造方法正在引起人们的注意。在利用液滴喷出法形成微细的布线的情况下，为了提高图形线宽的精度，有人提出了在基材上预先形成疏液区域和亲液区域的图形，将液滴选择性地配置在亲液区域的方法。在下面所述的特开2000-282240号公报，公开了一种利用化学气相蒸镀法，将设置在基板上的单分子膜图形化的技术。
不过，在上述现有技术中，存在着以下的问题。上述特开2000-282240号公报公开的技术，通过照射短波长的紫外线或电子束，从基板上除去单分子膜，形成图形。这时因为，形成图形的单分子膜吸收带处于短波长处，利用没有吸收带的长波长的红外线等，即使用具有多高能量的光照射，也很难进行图形的形成。因此，为了进行单分子膜等的有机薄膜的图形形成，需要真空紫外线照射或电子射线等价格昂贵的大型设备。
发明内容
本发明鉴于上述情况，其目的是提供一种利用简单低成本的方法，可以将薄膜以高精度形成图形的图形形成方法。进而，其目的是，提供一种使用该薄膜形成布线图形的布线图形的形成方法，具有该布线图形的电光学装置及电子设备。
为了解决上述课题，本发明的图形的形成方法，其特征在于，在包含升华性材料的基材上设置薄膜，通过将光照射到前述基材上，利用由前述光的照射产生的热使所需区域的前述升华性材料升华，除去对应于前述光照射的照射区域的前述薄膜，对该薄膜进行图形化。这里，前述升华材料包含升华性色素。前述薄膜包括有机薄膜，单分子膜，以及含有光引发剂的单体。根据本发明，通过在基材上或基材内设置升华性材料，利用照射的光，将所需的区域的升华性材料加热，通过该升华性材料的升华，可以将所需区域的薄膜气化或分解，可以对薄膜进行图形化。从而，即使是利用薄膜不具有直接吸收带的光，也可以用升华性材料或光热转换材料所具有的吸收带形成图形，可以简单并且以高分辨率对薄膜进行图形化，即，根据本发明，可以拓宽所使用的光照射装置的选择范围，即使不用高价大型的光照射装置，也可以很好地从基材上除去薄膜，高精度地形成图形。
此外，本发明的图形的形成方法，其特征在于，在包含有气体发生材料的基材上设置薄膜，通过将光照射到前述基材上，利用前述光的照射从所需区域的前述气体发生材料中发生气体，除去对应于前述光照射的照射区域的前述薄膜，对该薄膜进行图形化。根据本发明，通过在基材上或基材中设置气体发生材料，利用照射的光使之从所需的区域发生其气体，通过该其气体的发生，可以将所需区域的薄膜从基材上除去，能够对薄膜进行图形化。从而，即使是利用薄膜不具有直接吸收带的光，也可以用升华性材料或光热转换材料所具有的吸收带形成图形，可以简单并且以高分辨率对薄膜进行图形化。即，根据本发明，可以拓宽所使用的光照射装置的选择范围，即使不用真空紫外线照射及电子射线等高价大型的光照射装置，也可以很好地从基材上除去薄膜，高精度地形成图形。
在本发明的图形的形成方法中，前述升华性材料，也可以在前述基材的表面侧或背面侧，作为与前述基材及前述薄膜独立的升华性色素层形成。此外，前述升华性色素层，也可以采用设置在前述基材的设置前述薄膜的一侧的结构，或者，前述升华性色素层，也可以采用与前述薄膜邻接设置的结构。此外，前述升华性色素层也可以采用设置在前述基材与前述薄膜之间的结构，或者，也可以采用前述升华性材料混合存在于前述基材上的结构。在任何一种结构中，都可以利用照射的光光能使升华性材料升华，借助这种升华，将所需区域的薄膜气化或分解。这里，通过将升华性色素层和薄膜邻接地设置，可以使升华区域和将薄膜气化或分解的区域高精度地一致，能够以更高的分辨率对薄膜进行图形化。
在本发明的图形的形成方法中，优选地，前述基材包含有将光能转换成热能的光热转换材料。这样，通过将光照射到基材的所需区域上，光热转换材料以更高的效率将该光能转换成热能，可以将该热能供应给所需区域的升华性材料。因此，即使不用电子束或紫外线等高能源，也可以简单地获得使升华性材料升华、除去薄膜用的足够的热能。从而，根据本发明，进一步拓宽使用的光照射装置的选择范围，即使不用高价大型的光照射装置及掩模，也没有从基材上更好地除去薄膜，更高精度地形成图形。
在本发明的图形的形成方法中，包含前述光热转换材料的光热转换层，可以采用与前述薄膜及前述升华性色素层独立设置的结构，也可以采用前述光热转换材料混合存在于前述基材中的结构，在任何一种结构中，都能够将光的光能转换成热能，将该热能提供给升华性色素层。这里，优选地，前述光热转换层和前述升华性色素层邻接地设置。这样，可以使由于光的照射发热的部位和升华性色素层贴紧，将热能高效率地供应给升华性色素层的同时，能够以高精度使升华性色素层的所需区域升华。
在本发明的图形的形成方法中，在采用独立地设置光热转换层的结构的情况下，可以采用前述光热转换层设置在前述基材的设置前述薄膜的一侧的结构，或者，也可以采用前述基材的不设置前述薄膜的另一侧的结构。此外，也可以采用前述光热转换层设置在前述基材与前述薄膜之间的结构。从而，本发明的图形的形成方法，可以通过在前述基材的表面或背面的至少其中之一上形成前述光热转换层，在前述光热转换层的上面形成升华性色素层，在前述升华性色素层的上面形成前述薄膜，然后进行前述光的照射的步骤来实行。这样，利用光的照射，在光热转换层的所需区域上产生热，将该热提供给升华性色素层的所需区域，将该升华性色素层的所需区域升华，通过这种升华，除去薄膜的所需区域，形成图形。这里，由于薄膜是对外部敞开的状态(露出状态)，所以，可以将利用升华除去的薄膜顺滑地排出。
在本发明的图形的形成方法中，可以采用从前述基材的设置前述薄膜的一侧照射前述光的方法，也可以采用从前述基材的不设置前述薄膜的另一侧照射前述光的方法。在从一侧照射光的情况下，由于不经过基材将光照射到升华性色素层或光热转换层等上，所以，例如，不会发生由于经过基材引起的衍射或散射等造成的光照射位置的偏移等，可以将光照射到所需的位置，以所需的图形高精度地对薄膜进行图形化。此外，在从另一侧照射光的情况下，通过将升华性色素层(及光热转换层)设置在基材和薄膜之间，光可以不经过薄膜，经由基材直接对升华性色素层(及光热转换层)照射，可以高效率地将光能转换成热能，可以将该热能提供给升华性色素层。
在本发明的图形的形成方法中，可以根据前述薄膜，前述升华性色素层，前述光热转换层以及前述基材的至少其中之一的透光率，决定从前述一侧和另一侧的哪一侧照射前述光。例如，可以在基材的透光率非常低的情况下，从前述一侧(基材的表面侧)照射光，在基材的透光率高、薄膜的透光率低的情况下，从另一侧(基材的背面侧)照射光。即，例如，相对于照射的光的波长，薄膜是吸收该波长的光的材料时，在采用薄膜下侧设置升华性色素层及光热转换层的结构的情况下，当从薄膜的上层侧直接照射光时，存在着该光被薄膜吸收、产生不能到达下层侧的光热转换层的不当之处的可能性。因此，在这种情况下，可以决定从薄膜的下层侧(基材的背面侧)照射光。
在本发明的图形的形成方法中，也可以将前述光热转换材料混合存在于前述升华性色素层中。这样，当升华性材料升华时，光热转换材料也一起升华，可以将该光热转换材料从基材上除去。
在本发明的图形的形成方法中，也可以采用在前述基材或前述光热转换层与前述升华性色素层之间，设置包含有通过光照射或加热发生气体的气体发生材料的气体发生层的结构。这样，只通过光的照射，只通过加热，或者通过光照射和加热两者，使之发生气体，可以对薄膜进行图形化。
在本发明的图形的形成方法中，优选地，前述光是激光，具有对应于前述升华性材料及前述光热变换材料至少其中之一的波长。借此，可以高效率地将照射到前述升华性材料或前述光热转换材料的光能转换成热能。特别是，作为光通过利用红外线激光，可以制成比较廉价地装置的结构。此外，在前述光的照射中，优选地，将该光聚焦在前述升华性色素层或前述光热转换层上。这样，可以将光能以高精度且高分辨率提供给升华性色素层或光热转换层，可以简单地形成高分辨率的薄膜图形。
在本发明的布线图形的形成方法中，其特征在于，在具有利用上面所述的图形形成方法形成的薄膜图形的前述基材上，形成布线图形。进而，在本发明的布线图形的形成方法中，包括在形成前述薄膜图形的基材上，配置包含布线图形形成用材料的液滴的工序。根据本发明，基于液滴喷出法，在抑制消耗材料的浪费的同时，可以很好地以高分辨率形成微细的布线图形。
本发明的电光学装置，其特征在于，它具有利用上述布线形成方法形成的布线图形。此外，本发明的电子设备，其特征在于，它具有上述电光学装置。根据本发明，可以提供基于利用液滴喷出法形成的微细的布线图形，可以发挥所需性能的电光学装置及具有该电光学装置的电子设备。此外，作为电光学装置，可以列举出液晶显示装置，有机EL(electroluminescence场致发光)显示装置，以及等离子体显示装置等。
此外，使用利用根据本发明的图形的形成方法形成的薄膜图形，可以形成滤色片，液晶显示装置，有机EL装置，等离子体显示装置，微型透镜，以及DNA芯片等各种结构部件。
上述液滴喷出法，使用备有喷出头的液滴喷出装置来实现，该液滴喷出装置包括配备有喷墨头的喷墨装置。喷墨装置的喷墨头利用喷墨法能够定量地喷出含有功能液的液体材料的液滴，例如，是一种能够定量地断续地滴下每一个点1～300毫微克液体材料的装置。此外，作为液滴喷出装置，也可以是分配器装置。
所谓液体材料，是指具有能够从液滴喷出装置的喷出头的喷嘴喷出来(能够滴下)的粘度的介质。不管是水性的还是油性的。只要具有能够从喷嘴等喷出来的流动性(粘度)即可，即使混入固体物质，只要作为整体是流动体即可。此外，包含在液体材料中的材料，可以是加热到熔点以上熔化的材料，也可以是作为微粒子在溶剂中搅拌获得的材料，除溶剂之外，也可以添加染料或颜料等其它功能性材料。
此外，上述功能液，是包含有功能性材料的液体材料，通过配置在基材上，发挥规定的功能。作为功能性材料，可以列举出：形成包含滤色片的液晶显示装置用的液晶显示装置形成用材料，形成有机EL(electroluminescence场致发光)显示装置用的有机EL显示装置形成用材料，形成等离子体显示装置用的等离子体显示装置形成用材料，以及包含形成电流流过用的布线图形用的金属的布线图形形成用材料等。
附图说明
图1是表示用于本发明的图形的形成方法的图形形成装置的一种实施形式的简略结构图。
图2是表示本发明的图形的形成方法的一种实施形式的示意图。
图3是表示本发明的图形的形成方法的另外一种实施形式的示意图。
图4是表示本发明的图形的形成方法的另外一种实施形式的示意图。
图5是表示本发明的薄膜的形成步骤的一个例子的示意图。
图6是表示用于本发明的图形的形成方法的图形形成装置的另外一种实施形式的简略结构图。
图7是表示本发明的布线图形的形成方法的一种实施形式的示意图。
图8是表示用于本发明的布线图形的形成方法的喷出头的简略结构图。
图9是表示具有利用本发明的布线图形的形成方法形成的布线图形的电光学装置的一个例子的等离子体显示器的分解立体图。
图10是表示使用利用本发明的图形的形成方法形成的薄膜制造的电光学装置的一个例子的图示，是表示液晶显示装置的滤色片的制造工艺的一个例子的图示。
图11是表示使用利用本发明的图形的形成方法形成的薄膜制造的电光学装置的一个例子的图示，是表示有机EL显示装置侧视图。
图12是表示具有本发明的电光学装置的电子设备的一个例子的图示。
图13是表示使用本发明的薄膜图形形成微型透镜的步骤的示意图。
图14是表示使用本发明的薄膜图形形成基因芯片的一种实施形式的示意图。
图中：1…基材，2…薄膜(单分子膜)，3…除去区域，4…光热转换层，5…升华性色素层，11…光源，15…掩模，20…喷出头。
具体实施方式
<薄膜图形的形成方法>
下面，参照附图对本发明的图形的形成方法进行说明。图1是用于本发明的薄膜图形的形成方法的图形形成装置的一种实施形式的简略结构图。在图1，图形形成装置10，包括：射出具有规定的波长的激光光束的激光光源11，支撑作为处理对象基材1的载物台12。在基材1的上表面上，设置光热转换层4，在该光热转换层4的上层设置升华性色素层5，在该升华性色素层5的上层设置薄膜2。在该基材1(上表面侧的各个层)结构中，也可以省略光热转换层4，在基材1的上面设置升华性色素层5，在该升华性色素层5的上层设置薄膜2。在本实施形式中，作为激光光源11，使用近红外半导体激光器(波长830nm)。
这里，在下面的说明中，将水平面内规定的方向作为X轴方向，在水平面内与X轴垂直的方向作为Y轴方向，将分别垂直于X轴及Y轴的方向(铅直方向)作为Z轴方向。
载物台12，在支撑基材1的状态下，可沿着X轴方向及Y轴方向移动地设置，基材1，借助载物台12的移动，可以相对于从光源11射出的光束移动。此外，载物台12也能够沿着Z轴方向移动。这里，在光源11和被支撑在载物台12上的基材1之间，配置图中未示出的光学系统。通过支撑基材1的载物台12沿Z轴方向移动，可以调整基材1相对于前述光学系统的焦点的位置。同时，从光源11出射的光束，照射在支撑于载物台1上的基材1(光热转换层4)上。前述光学系统的焦点，优选地位于光热转换层4上。在如上所述，将光热转换层4省略的情况下，优选地，使前述光学系统的焦点位于升华性色素层5上。
此外，这里，将基材1沿XY方向平移移动地支撑在载物台12上，但在将基材1保持在旋转滚筒上的情况下，例如，将光源11的扫描方向作为X轴方向，将旋转滚筒的旋转方向作为Y轴方向。
作为基材1，例如，可以利用玻璃基板或透明性高分子等。作为透明性高分子，例如能够采用玻璃基板或透明性高分子等。作为透明性高分子，可列举如聚对苯二甲酸乙二醇酯的聚酯、聚酰亚胺、聚丙烯酸、聚环氧、聚乙烯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚砜等。在由透明性高分子形成基材1的时候，其厚度优选在10～500μm。如此，例如，能够将基材1形成带状，卷成滚筒状，也能够保持在旋转圆盘等上搬送(移动)。
光热转换层4，与基材1，升华性色素层5及薄膜2独立设置，在本实施形式中，设置在基材1的设置薄膜2的表面侧，具体地说，设置在基材1与升华性色素层5之间。光热转换层4，是包含有将光能转换成热能的光热转换材料的层。作为构成光热转换层4的光热转换材料，可以使用公知的材料，只要是能够有效地将激光转换成热的材料即可，没有特定的限制，例如，可列举由铝、其氧化物及/或其硫化物构成的金属层，或由添加炭黑、石墨或红外线吸收色素等的高分子构成的有机层等。作为红外线吸收色素，举出蒽醌系、二硫代镍配位体系、花青系、偶氮钴配位化合物系、二铵系(diiminium)、squalirium系、酞箐系、萘菁系等。此外，也可以将环氧树脂等合成树脂作为粘结剂，将前述光热转换材料溶解或分散在该粘结剂树脂中，设置在基材1上。此外，不言而喻，也可以不溶解或分散在粘结剂中，将前述光热转换材料设置在基材1上。
在作为光热转换层4使用前述金属层的情况下，可以利用真空蒸镀法，电子束蒸镀法，或者溅射法形成在基材1上。在作为光热转换层4使用前述有机层的情况下，可以采用一般的薄膜涂敷方法形成在基材1上，例如，利用挤压涂敷方法，旋转涂敷方法，凹板印刷涂敷方法，逆转辊涂敷方法，棒涂法、微逆转辊涂敷法、刮板涂敷法等在基材1上形成。
升华性色素层5，与基材1，光热转换层4基薄膜2独立设置。同时，在本实施形式中，升华性色素层5设置在基材1的设置薄膜2的表面侧，具体地说，设置在光热转换层4和薄膜2之间。构成升华性色素层5的升华性色素，具有被加热时升华，使色素气化排出的性质。利用这种性质的升华复制方式，在现有技术中，作为图像打印装置等使用。此外，最近，升华性色素，作为最适合于从数字照相机中打印出图像的方法的打印方式，正在引起人们的注意。利用这种升华性色素的记录方式的基础，是作为纤维染色法之一的升华印染(在高温下是色素气化的染色方法)。以用于这种升华印染的称作分散染料的着色剂为线索，使用对色彩，灵敏度(升华性)在粘结剂树脂中的溶解性等进行改进的材料。
其次，对于构成升华性色素层5的升华性色素的例子，列举出升华记录用的三原色的例子。作为黄(Y)，使用羟基吡啶偶氮系材料，二氰基苯乙烯系材料，喹诺酞酮系材料。作为品红(M)，使用蒽醌系材料，三氰基苯乙烯系材料，苯偶氮系材料。作为蓝色(C)使用蒽醌系材料，靛酚系材料，靛萘酚系材料等。
当加热升华性色素层5的所需区域使之升华时，与该升华同时，可以将对应于该所需区域的部位的薄膜2在物理学上使之气化或者分解。
在基材1的上面，设置光热转换层4，作为在该光热转换层4的上层设置的升华性色素层5的材料，例如，有激光热复制打印机用的薄膜(Imation制)。这种激光热复制打印机用薄膜，在聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)中具有光热转换层，在其上涂布升华性色素构成。此外，对于这种激光热复制用打印机用薄膜，优选地，在大气压等离子体中以10[mm/s]进行处理，进行表面改性。
薄膜2由有机薄膜构成，在升华性色素层5(基材1)上，例如，可以利用化学气相蒸镀法，浸渍法，蒸镀法，旋转浇注法，化学吸附法，自组织膜形成方法等形成。在本实施形式中，薄膜2(有机薄膜)由氟烷基硅烷(FAS)构成的单分子膜构成。此外，作为形成单分子膜的材料，例如，可以列举出十七氟-1，1，2，2，-四氢癸基三甲氧基硅烷(FAS-17)，或者用作表面活性剂的十八烷基胺等。
此外，作为薄膜2的形成方法可以采用一般的方法，例如，挤压涂敷方法，旋转涂敷方法，凹板印刷涂敷方法，逆转辊涂敷方法，棒涂敷法，微型凹板印刷涂敷方法等，形成在升华性色素层5(基材1)上。在这种情况下的薄膜2的涂敷方法中，优选地，除去基材1的表面上所带的静电，在基材1上均匀地形成薄膜形成用功能液，优选地在各种方法中使用的装置上安装去静电装置。
其次，说明在上述激光热复制打印机用的薄膜(在基材1的上面设置光热转换层4，在该光热转换层4上设置升华性色素层5的薄膜)上，形成薄膜2的方法的一个例子。首先，在特氟龙(注册商标，聚四氟乙烯)制的容器中，装入已装有FAS-17的容器和经过表面改性的上述激光热复制打印机用薄膜。然后，将上述整个特氟龙(注册商标)制的容器置于电炉中，将电炉内的温度上升到80℃，保持2小时。然后，从电炉中取出特氟龙(注册商标)制的容器，放置一夜。借此，蒸镀的FAS-17化学气相蒸镀到激光热复制打印机用薄膜上，形成有机薄膜(薄膜2)。
例如，对上述形成在激光热复制打印机用薄膜上的薄膜2，利用CTR用板调节器，将波长830nm的近红外半导体激光(输出11W)，以滚筒的旋转速度130rpm，照射到任意位置上。这样，升华性色素的颜色消失，变成看到激光热复制打印机用薄膜本身的颜色，确认升华性色素(升华性色素层5)被除去。此外，由于在近红外半导体激光照射后的激光热复制打印机用薄膜表面对水的接触角(亲液性、疏液性)的变化，从109度，变成72度，所以，可以确认，在将升华性色素层5除去的同时，也将薄膜2除去。
其次，参照图2上面说明图形的形成步骤。如图2(a)所示，从基材1设置薄膜2的上面(表面)侧起，照射具有规定的光束直径的激光光束。通过照射激光光束，加热对应于该照射位置的基材1以及基材1上的光热转换层4。光热转换层4吸收所照射的激光光束，将该光能转换成热能。由光热转换层4生成的热能，将与该光热转换层4相邻的升华性色素层5的一部分升华，借助这种升华，将薄膜2的一部分气化或分解，从基材1上选择性地将其除去。借此，如图2(b)所示，将对应于光照射的照射区域(照射位置)的薄膜2的一部分及升华性色素层5的一部分从基材1上除去，对薄膜2进行图形化。
通过照射光，在除去薄膜2及升华性色素层5的除去区域3上，露出光热转换层4(此外，在后面图4的实施形式中，露出基材1)。这里，在光热转换层4(基材1)上形成薄膜2及升华性色素层5之前，对光热转换层4(基材1)进行亲液化处理，通过照射光，具有亲液性的光热转换层4(基材1)露出。此外，作为亲液化处理，包括紫外线(UV)照射处理，O2等离子体处理等。同时，由于由FAS(或(FAS-17)构成的薄膜(单分子膜2)具有疏液性，所以，通过对薄膜2进行图形化，在基材1上形成疏液区域和亲液区域。
这时，通过沿着XY平面使载物台12对于照射的激光光束移动，描绘出与该载物台12的移动轨迹对应的除去区域3。这样，在基材1上形成薄膜图形。
如上面说明的，通过在基材1上设置包含光热转换材料的光热转换层4，在光热转换层4上设置色素层5，可以将照射的光的光能高效率地转换成热能，将该热能供应给升华性色素层5，通过该升华性色素层5的升华，可以将除去区域3的薄膜2气化或者分解，可以对薄膜2进行图形化。因此，即使不象现有技术那样用薄膜本身具有的吸收带的波长照射光，也能够形成图形。此外，所需的能量即使不是除去薄膜2用的能量，而是用升华性色素层5的升华所必须的能量就可以对薄膜2进行图形化。从而，拓宽所使用的光照射装置的选择范围，即使不用高价大型的光照射装置，也可以从基材1上很好地、并且以高分辨率除去薄膜2，形成图形。
此外，也可以用含有光引发剂的单体形成薄膜2。通过激光光束的照射，可以从基材1上除去单体。从而，在基材1上涂布含有光引发剂及单体的涂液(功能液)，通过激光照射形成薄膜图形后，通过对应于光引发剂的光照射，进行聚合(光固化)可以制成形成图形的薄膜2。此外，含有光引发剂及单体的涂液，可以利用上面所述的一般的薄膜涂敷方法(旋转涂敷方法，凹板印刷涂敷方法，逆转辊涂敷方法，棒涂敷法，微型凹版印刷涂敷方法等)涂布到升华性色素层5上。
此外，优选地，形成薄膜2(有机薄膜)的化合物，在其一部分上具有与基材1(升华性色素层5)产生化学相互作用(氢键，静电相互作用，酸碱相互作用，疏水性相互作用，共价键等)的官能团。作为官能团，可以列举出醛基，酮基，酰胺基，酰亚胺等。或者，也可以是烷氧基，卤素，烷基，具有氨基的硅基等。进而，也可以是铵基，吡啶鎓基等离子性基团。
此外，在本实施形式中，通过移动支撑基材1的载物台12，在基材1上描绘除去区域3，但是，不言而喻，也可以在使基材1停止的状态下，移动光束，也可以同时移动基材1和光束两者。此外，在移动基材1的情况下，除用载物台12在XY平面内移动的结构之外，也可以采用如上面所述的在保持在旋转滚筒上的状态下将其移动的结构。
如图3所示，在将光热转换层4及升华性色素层5设置在基材1和薄膜2之间的情况下，可以从基材1没有设置薄膜2的背面侧，对基材1照射光束。在这种情况下，基材1由能够透射光束的透明材料形成。借此，可以将光经由基材1直接照射到光热转换层4上，光热转换层4顺利地将照射的光的光能转换成热能，可以将对应于邻接的升华性色素层5的照射区域(照射位置)的升华性色素层5及薄膜2的一部分除去，形成图形。此外，通过将光热转换层4及升华性色素层5设置在基材1和薄膜2之间，使薄膜2处于对外部敞开的状态(露出状态)，将对应于光照射区域的薄膜2的一部分顺利地排放到外部。
此外，在采用从基材1的背面侧经由基材1将光照射到光热转换层4上的结构的情况下，由于光通过基材1时有可能发生散射(衍射)，所以，优选地，预先计测其散射状态，为了将光照射到光热转换层4的所需位置上，根据前述计测结果，一面调整照射条件，一面从基材1的背面侧照射光。此外，也可以从基材1的表面侧和背面侧两侧照射光。
此外，也可以根据薄膜2，升华性色素层5，光热转换层4或基材1的特性(材料特性，例如，透光率等)，决定从基材1的表面侧及背面侧的哪一侧照射光。例如，相对照射的光的波长而言，薄膜2是吸收该波长的光的材料时，如图2所示，当从表面侧照射光时，有可能造成该光被薄膜2吸收，不能达到下层侧的光热转换层4(或升华性色素层5)的不当之处。因此，在这种情况下，可以决定从基材1的背面侧照射光。
如图4所示，也可以采用将光热转换层4设置在基材1的不设置薄膜2及升华性色素层5的背面侧的结构。在这种情况下，优选地，光从基材1的背面侧(设置光热转换层4的一侧)照射。这时，为了很好地将光热转换层4产生的热能传递给设于表面侧的升华性色素层5上，基材1恰当地选择其厚度和材料。此外，也可以将光热转换层4设置在基材1的表面侧及背面侧两侧。
此外，在参照图1～图4说明的实施形式中，光热转换材料设置在与基材1、升华性色素层5及薄膜2独立的层(光热转换层4)上，但也可以采用将光热转换材料混合存在于基材1内的结构，也可以采用将光热转换材料混合存在于薄膜2内的结构。在这种结构中，可以将照射的激光的光能转换成热能，将该热能提供给升华性色素层5。此外，也可以在光热转换材料混合存在的基材1上，与之分开地设置光热转换层4。
此外，在参照图1～图4说明的实施形式中，升华性色素，设置在与基材1，光热转换层4及薄膜2独立的层(升华性色素层5)上，但也可以采用使光热转换材料及升华性色素混合存在于基材1中的结构，也可以采用使升华性色素混合存在于薄膜2中的结构。在这些结构中，利用照射的光，将所需区域的升华性色素加热，通过该升华性色素的升华，可以将所需区域的薄膜2气化或分解，可以对薄膜2进行图形化。
此外，也可以使光热转换材料混合存在于升华性色素层5中。这样，在升华性色素升华时，光热转换材料也一起升华，可以将该光热转换材料从基材1上除去。
另一方面，在将包含光热转换材料的光热转换层4和升华性色素层5和薄膜2分开设置时，在照射光后，有时会在基材1上残留光热转换层4，但是，例如在残留光热转换层4的除去区域3上，配置包含有通过热处理或光处理显示出导电性的材料的功能液，通过从基材1的背面侧将光照射到光热转换层4上，利用从光热转换层4产生的热，可以在前述材料中显示出导电性。这里，作为通过热处理或光处理显示出导电性的材料，可以列举成后面描述的有机银化合物。
在设置光热转换层4的情况下，优选地，照射具有对应于光热转换材料的波长的光。即，由于根据所使用的光热转换材料良好的吸收的光的波长范围不同，所以，通过照射具有对应于光热转换材料的波长的光，可以高效率地将光能转换成热能。换句话说，根据照射的光，选择所使用的光热转换材料。在本实施形式中，由于作为激光光源，使用近红外半导体激光(波长830nm)，所以，作为光热转换材料，优选地，使用具有吸收红外线～可见光区域的光的性质的材料。
此外，在将光热转换层4设置在基材1与升华性色素层5之间的情况下，可以在升华性色素层5与薄膜2之间(或者在升华性色素层5之内)，设置包含有通过光的照射发生气体的气体发生材料的气体发生层，在基材1上成薄膜2的情况下，可以在基材1与背面2之间，设置包含有通过光的照射发生气体的气体发生材料的气体发生层。气体发生材料，当吸收光，或者吸收由光能转换的热能时，引起分解反应，放出氮气或者氢气等，具有通过发生的气体提供除去薄膜2的能量的作用。作为这种气体发生材料，可以列举出季戊四醇四硝酸酯(pentaerythriotol tetranitrate：PETN)及三硝基甲苯：TNT)构成的组中选择出来的至少其中之一，或者，GAP(缩水甘油叠氮聚合物)等。
此外，在光热转换层4与升华性色素层5之间，可以设置为了使光热转换层4的光热转换作用均匀化用的中间层。作为这种中间层的材料，可以列举出满足上述主要条件的树脂材料。这种中间层，可以将具有规定组成的树脂组合物，例如，基于旋转涂敷方法，凹版印刷方法，模压涂敷方法等公知的涂敷方法涂布到光热转换层4的表面上，通过使之干燥形成。当照射激光光束时，借助光热转换层4的作用，将光能转换成热能，进而，借助中间层的作用将这种热能均匀化。从而，向相当于光照射区域的部分的升华性色素层5上提供均匀的热能。
其次，作为薄膜(单分子膜)2的形成方法一个例子，对于自组织化膜形成法进行说明。在自组织化膜形成方法中，在基材1的表面上形成由有机分子膜构成的自组织化膜。有机分子膜，具有能够与基材1结合的官能团，以及诱发分子间相互作用用的直链结构，结合到基材1上自己组织起来，形成分子膜，例如，单分子膜。
这里，所谓自组织化的分子膜(自组织化单分子膜：SAM(SelfAssembled Monolayer)，是一种通过界面活性的有机分子的极性部分与基板表面的相互作用，将有机分子吸附到表面，同时，借助在非极性部分起作用的分子间的相互作用，有机分子彼此集合起来，在表面上整齐地排列形成的具有高的取向性的单分子膜，从而，自组织化膜，准确地具有一个分子层的厚度，此外，可以将具有各种功能的有机分子作为自组织化膜使用。
作为上述具有高取向性的化合物，通过使用上述氟烷基硅烷(FAS)，各个化合物以氟烷基位于膜的表面上的方式进行取取向，形成自组织化膜，给予膜的表面均匀的疏液性。作为这种形成自组织化膜的化合物的FAS，可以列举出十七氟-1，1，2，2-四氢化癸基三乙氧基硅烷，十七氟-1，1，2，2-四氢化癸基三甲氧基硅烷，十七氟-1，1，2，2-四氢化癸基三氯硅烷，十三氟-1，1，2，2-四氢化辛基三乙氧基硅烷，十三氟-1，1，2，2-四氢化辛基三甲氧基硅烷，十三氟-1，1，2，2-四氢化辛基三氯硅烷，三氟丙基三甲氧基硅烷等氟烷基硅烷等。这些化合物可以单独使用，也可以将两种以上组合使用。此外，通过使用FAS，可以获得与基板的紧密性基良好的疏液性。
FAS，一般地，用结构式R正Si-X(4-n)表示。这里，n表示1以上、3以下的整数，X是甲氧基，乙氧基，卤素原子等水解基。此外，R是氟烷基，具有(CF3)(CF2)x(CH2)y的结构(这里，x表示0以上的整数，y表示0以上的整数)，在整个的R或者X结合到Si上的情况下，R或X可以完全相同，也可以不同。用X表示的水解基，通过水解，形成硅烷醇，与基板(玻璃，硅)衬底的羟基反应，以硅氧键与基板结合。另一方面，由于R在表面上具有(CF3)等氟基，所以，将基板的衬底表面改性成不沾湿的(表面能量低)的表面。
图5是在基材1(升华性色素层5)上形成由FAS构成的自组织化膜(FAS膜)的FAS处理装置40的简略结构图。FAS处理装置40，在基材1(升华性色素层5)上形成由FAS构成的自组织化膜。如图5所示，FAS处理装置40，包括：室41，设于室41内、保持基材1的保持器42，收容液相状态的FAS(液体FAS)的容器43。同时，在室温环境下，通过将基材1和收容液体FAS的容器43放置在室41内，容器43内的液体FAS从容器43的开口部43a成为气相排放到室41内，例如，在2～3天左右，在基材1(升华性色素层5)上，由FAS构成的自组织化膜成膜。此外，通过将整个室41保持在100℃左右，在三个小时左右，自组织化膜在基材1(升华性色素层5)上成膜。此外，这里，对由气相的形成法进行了说明，但也可以从液相形成自组织化膜。例如，将基材1浸渍在包含原料化合物的溶液中，通过清洗，干燥，在基材1上形成自组织化膜。
此外，作为疏液性膜，也可以是通过等离子体处理法形成的氟化处理膜。在等离子体处理法中，在常压或在真空中对基板进行等离子体照射。用于等离子体处理的气体的种类，可以考虑到将要形成布线图形的基材1的表面的材质等因素，进行各种选择。作为处理气体，例如，可以列举出四氟甲烷，全氟己烷，全氟癸烷等。
图6表示对于已施加FAS处理的基材1，经由具有规定的图形的掩模15照射红外线激光的形式的图示。如图6所示，在形成薄膜图形时，可以对具有对应于想要形成的薄膜图形的图形的掩模15照射光束，将经过掩模15的光照射到具有光热转换层4及升华性色素层5的基材1。在图6中，掩模15以贴紧在支撑于载物台12上的基材1上的薄膜2的方式配置。从光源11出射的光束，对掩模15照明。通过掩模15的光，照射被支撑在载物台12上的基材1上。利用根据该照射的光从光热转换层4上产生的热，与升华性色素层5的升华一起，将薄膜2的一部分除去，形成薄膜图形。通过利用掩模15，可以形成比从激光光源11出射的光束的直径微细的薄膜图形。另一方面，如图参照图1说明的那样，通过一面相对移动光束和基材1一面描绘薄膜图形(除去区域3)，可以节省制造掩模15的工作。
此外，在图6所示的例子中，在掩模15和基材1贴紧的状态下，对掩模15照射光，但也可以在掩模15和基材1离开的状态下照射光，将经由该掩模15的光照射到基材1上。
<布线图形的形成方法>
下面，对于在具有利用上面说明的方法形成的薄膜图形的基材1上形成布线图形的方法进行说明。图7是在形成有薄膜2的图形的基材1上，形成布线图形的方法的示意图。在本实施形式中，由于将布线图形形成用的材料配置在基材1上，所以，采用喷出含有布线图形形成材料的功能液的液滴的液滴喷出法(喷墨法)。在液滴喷出法中，在使喷出头20和基材1对向的状态下，利用液滴喷出头20对薄膜2的除去区域3喷出包含布线图形形成用材料的功能液的液滴。这里，薄膜(单分子膜)2具有疏液性，除去区域3，其薄膜2被除去，具有亲液性。此外，在本实施形式中，如图7所示，在基材1的表面侧，设置薄膜2及升华性色素层5，在背面侧设置光热转换层4。
这里，作为液滴喷出法的喷出技术，可以列举出带电控制方法，加压振动方式，电热转换方式，静电吸引方式，电机械转换方式等。带电控制方式，是一种利用带电电极付与材料电荷，用偏转电极控制材料的飞行方向，从喷嘴喷出来的方法。加压振动方式，是向材料上外加30kg/cm2左右的超高压，使材料从喷嘴前端侧喷出来的方法，在不施加控制电压的情况下，材料直线前进，从喷嘴中喷出，当施加控制电压时，在材料之间引起静电排斥，材料飞散，不能从喷嘴中喷出。此外，电热转换方式，是一种利用设置在贮存材料的空间内的加热器，使材料急剧气化，使之发生气泡(泡)，借助气泡的压力将空间内的材料喷出的方法。静电吸引方式，是一种在贮存材料的空间内施加微小的压力，在喷嘴内形成材料的弯液面，在这种状态下，在施加静电吸引力之后，将材料引出的方法。电机械转换方式，是一种利用压电元件接收脉冲电信号变形的性质，通过压电元件的变形，经由挠性物质向贮存材料的空间施加压力，将材料从该空间中挤压出来，从喷嘴中喷出来的方法。此外，也可以利用由电场引起的流体的粘性变化的方式，以及，利用放电火花飞溅的方式等技术。液滴喷出法，对于材料的使用浪费少，而且具有可以准确地将所需量的材料配置到所需的位置上的优点。此外，利用液滴喷出法喷出的液体材料的一滴的量，例如为1～300毫微克。在本实施形式中，采用电机械转换方式(压电方式)。
图8是用于说明利用压电方式进行的功能液(液体材料)的喷出原理的图示。在图8中，喷出头20包括收容功能液(包含布线图形形成用材料的液体材料)的液体室21，以及邻接该液体室21设置的压电元件22。经由包括收容功能液的材料容器的供应系统23，向液体室21供应功能液。压电元件22连接到驱动电路24上，经由该驱动电路24向压电元件22上外加电压，通过使压电元件22变形，液体室21变形，从喷嘴25喷出功能液。在这种情况下，通过使外加电压值变化，控制压电元件22的变形量。此外，通过使外加电压的频率变化，控制压电元件22的变形速度。由于利用压电方式的液滴的喷出不必将材料加热，所以，具有不会影响材料的组成的优点。
下面，说明形成布线图形的步骤。利用规定的溶剂等将基材1清洗之后，用上面描述的方法在基材1上设置光热转换层4。然后，通过紫外线(UV)照射处理或O2等离子体处理，付与该基材1亲液性。然后，利用上面说明的方法，形成升华性色素层5以及薄膜2，照射光，形成薄膜图形。借此，在基材1上具有疏液性的薄膜2的一部分上，形成具有亲液性的除去区域3。
其次，利用喷出头20，进行在基材1上的除去区域3上配置含有布线图形形成用材料的功能液的液滴的材料配置工序。这里，作为构成布线图形形成用材料的导电性材料，使用有机银化合物，作为溶剂使用二甘醇二乙醚，喷出含有该有机银化合物的功能液。在材料配置工序中，如图7所示，从喷出头20将含有布线图形形成用材料的功能液制成液滴喷出来。喷出来的液滴，配置在基材1上的除去区域3上。这时，由于具有亲液性的除去区域3的周围被具有疏液性的薄膜2包围，所以，可以阻止液滴扩散到规定的位置之外。此外，利用薄膜2的疏液性，即使喷出的液滴的一部分落到薄膜2上，也会流到除去区域3上。进而，由于基材1露出的除去区域3被付与亲液性，所以，喷出来的液滴在除去区域3可以更容易扩散，借此，功能液被均匀地配置在规定的位置内。
此外，作为功能液，可以利用将导电性微粒子分散到分散剂中的分散液。作为导电性微粒子，例如，可以利用包括金、银、铜、铝、钯及镍中至少其中之一的金属微粒子，此外，也可以利用它们的氧化物以及导电性聚合物或超导体的微粒子等。这些导电性微粒子，利用气体中蒸发法，溅射法，金属蒸气合成法，流动油状真空蒸发法，胶体法，醇盐法，共沉淀法，均匀沉淀法，有机化合物热分解法，氢中还原法，溶剂蒸发等制作，为了不会由于凝聚引起二次粒子，所以，粒子表面适当地用分散剂等有机分子被覆。作为分散剂，只要能够分散上述导电性微粒子，不引起凝聚，没有特定的限制。例如，除水外，可示例甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等的醇类、正庚烷、正辛完、癸烷、十二烷、十四烷、甲苯、二甲苯、异丙基甲苯、均四甲苯、茚、二戊烯、四氢萘、十氢萘、环己基苯等烃类化合物；或乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、聚乙二醇甲基乙基醚、二甘醇二甲醚、二甘醇二乙醚、二甘醇甲基乙基醚、1，2-二甲氧基乙烷、双(2-甲氧基乙基)醚、p-二噁烷等的醚类化合物；以及碳酸丙烯酯、γ-丁内酯、N-甲基-2-吡咯烷酮、二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、环己酮等极性化合物。其中，从微粒子的分散性与分散液的稳定性、或对液滴喷出法的适用难易性出发，最好是水、醇类、烃类化合物、醚类化合物，作为更优选的分散剂，可举出水、烃类化合物。
在材料配置工序(液滴喷出工序)之后，进行烧结工序。通过对含有导电性材料的功能液进行烧结处理，获得导电性。特别是，在有机银化合物的情况下，通过进行烧结处理除去其有机成分，残留银粒子，显示导电性。因此，对于材料配置工序后的基材1，作为烧结处理，进行热处理及光处理至少其中之一。热处理·光处理，通常在大气中进行，但根据需要，也可以在氮、氩、氦等惰性气体气氛中进行。热处理·光处理的处理温度，在考虑到溶剂的沸点(蒸气压)，气氛的种类及压力，微粒子的分散性及有机银化合物，氧化等热行为，有没有涂敷材料及涂敷材料的量，基材的耐热温度等因素的情况下，适当决定。例如，为了除去有机银化合物的有机成分，有必要在约200℃左右进行烧结。此外，在使用塑料等基板的情况下，优选地在室温以上、100℃以下进行。通过以上工序，喷出工序后的导电性材料(有机银化合物)，通过银粒子的残留，变换成具有导电性的布线图形。
此外，在材料配置工序之后，进行中间干燥工序(或者烧结工序)，通过交替地重复这些材料配置工序和中间干燥工序(烧结工序)，可以将布线图形形成用材料在除去区域3叠层。
此外，在烧结工序后或用于形成薄膜图形(除去区域3)的光照射工序之后等规定的时刻，可以除去设置在基材1的背面上的光热转换层4。例如，通过利用规定的溶剂进行的清洗，可以从基材1上除去光热转换层4。此外，在材料配置工序(液滴喷出工序)之后或烧结工序之后等规定的时刻，可以除去基材1上的全部薄膜2。例如，通过激光照射，可以将整个薄膜2从基材1上除去。
此外，在本实施形式中，为了形成布线图形，采用液滴喷出法，但是，例如，也可以利用镀膜法对除去区域3配置布线图形形成用材料。
<等离子体显示装置>
其次，作为具有利用本发明的布线图形的形成方法形成的布线图形的电光学装置的一个例子，参照图9说明等离子体显示器(等离子显示装置)。图9是表示制有地址电极511和总线电极512a的等离子体显示器500的分解立体图。该等离子体显示器500大致由相互对向配置的玻璃基板501和玻璃基板502，以及形成于它们之间的放电显示部510构成。
放电显示部510，由多个放电室516集中构成，在多个放电室516中，红色放电室516(R)、绿色放电室516(G)、蓝色放电室516(B)三个放电室516成对配置，构成一个象素。在前述(玻璃)基板501的上面，以规定的间隔，形成带状的地址电极511，以覆盖这些地址电极511和基板501的上面的方式，形成电介质层519，进而，在电介质层519上，在地址电极511、511之间、沿着各个地址电极511形成间隔壁515。此外，在间隔壁515上，在其长度方向的规定位置，沿着与地址电极511垂直的方向，也以规定的间隔分隔开(图中省略)，基本上形成由地址电极511的宽度方向的左右两侧邻接的间隔壁以及沿着与地址电极511垂直的方向延伸设置的间隔壁间隔开的长方形的区域，对应这些长方形区域地形成放电室516，这些长方形的区域成为三对，构成一个象素。此外，在由间隔壁515划分成的长方形的区域的内侧，设置荧光体517。荧光体517发出红、绿、蓝任何一种荧光，在红色放电室516(R)的底部，配置红色荧光体517(R)，在绿放电室516(G)的底部配置绿色荧光体517(G)，在蓝色放电室516(B)的底部配置蓝色荧光体517(B)。
其次，在前述玻璃基板502侧，沿着与前面的地址电极511垂直的方向，以规定的间隔形成多个由ITO构成的带状透明显示电极512，同时，为了补充高电阻的ITO，形成由金属构成的总线电极512a。此外，形成电介质层513将它们覆盖，进而，形成由MgO等构成的保护膜514。同时，以使前述地址电极511…和显示电极5112…相互垂直的方式，使前述基板501和玻璃基板502对向并相互粘贴，将被基板501和间隔壁515以及形成在玻璃基板502侧的保护膜514包围起来的空间部分排气，封入稀有气体，形成放电室516。此外，形成在玻璃基板502侧的显示电极512，以相对于各个放电室516而言，每个放电室配置两个的方式形成。前述地址电极511和显示电极512，连接到图中省略的交流电源上，通过向各个电极通电，在需要位置的放电显示部510将荧光体517激发使之发光，可以进行彩色显示。
同时，在本例中，特别是，前述地址电极511和总线电极512a，利用根据本发明的布线图形的形成方法形成。即，对于这些地址电极511或总线电极512a，为了特别有利于其图形形成，通过喷出使金属胶体材料(例如，金胶体或银胶体)或导电性微粒子(例如金属微粒子)分散而构成功能液，进行干燥·烧结形成。此外，对于荧光体517，也可以通过由喷出头20喷出将荧光体材料溶解在溶剂中或者分散在分散剂中的功能液，干燥·烧结形成。
<滤色片>
其次，参照图10说明使用根据本发明的薄膜，制造液晶显示装置的滤色片的步骤。此外，在本实施形式中的薄膜，不是单分子膜，它由具有规定高度(厚度)的有机薄膜构成，构成划分基材上的规定区域的围堰(黑矩阵)。首先，如图10(a)所示，对于透明的基板(基材)P的一个面，形成黑矩阵(围堰)52。该黑矩阵52用于划分出滤色片的形成区域，利用本发明的围堰的形成方法形成。在形成黑矩阵(围堰)时，通过和光引发剂及单体一起使用黑色升华性材料，在后面的光照射工序中，可以将黑矩阵固化。
其次，如图10(b)所示，从前述喷出头20，喷出滤色片用功能液的液滴54，使之落到滤光片单元53上。对于喷出的功能液54的量，考虑到在加热工序(干燥·烧结工序)中功能液的体积的减少，使之具有足够的量。
这样，在向整个基板P上的滤光片单元53上填充液滴54之后，利用加热器，将基板P加热到规定的温度(例如，70℃)，进行加热处理。通过这种加热处理，功能液的溶剂蒸发，功能液的体积减少。在这种体积减少比较剧烈时，重复液滴喷出工序和加热工序，直到作为滤色片获得足够的膜厚为止。通过这种处理，包含在功能液中的溶剂蒸发，最终只残留包含在功能液中的固体成分(功能性材料)，形成薄膜，如图10(c)所示，变成滤色片55。
然后，为了将基板P平坦化，并且保护滤色片55，如图10(d)所示，在基板P上形成保护膜56，覆盖滤色片55及黑矩阵52。在形成该保护膜56时，可以采用旋转涂敷法，辊涂敷法，刮刀法等，但与滤色片55时的情况一样，也可以利用前述喷出装置进行。接着，如图10(e)所示，在保护膜56的整个面上，利用溅射法或真空蒸镀法等，形成透明导电膜57。然后，将透明导电膜57形成图形，如图10(f)所示，使象素电极58与前述滤光片单元53对应，形成图形。此外，在对于液晶显示面板的驱动采用TFT(Thin Film Transistor：薄膜晶体管)的情况下，无需这种图形的形成。在这种滤色片的制造当中，由于使用前述喷出头20，所以，可以没有障碍地连续喷出滤色片材料，从而，在可以良好地形成滤色片的同时，还可以提高生产率。
<有机EL显示装置>
下面，参照图11说明使用本发明的围堰制造有机EL显示装置的步骤。此外，在本实施形式中，薄膜也不是单分子膜，是由具有规定高度(厚度)的有机薄膜构成的，该薄膜构成划分基材上的规定区域的围堰。图11是利用前述喷出头20制有部分结构部件的有机EL显示装置的侧视剖面图，首先，说明这种有机EL显示装置的简略结构。此外，这里形成的有机EL显示装置，是根据本发明的电光这种的一种实施形式。如图11所示，这种有机EL显示装置301，在由基板(基材)311，电路元件部321，象素电极331，围堰部341，发光元件351，阴极361(对向电极)以及密封基板371构成的有机EL元件302上，连接有柔性基板(图中省略)的布线及驱动IC(图中省略)。电路元件部321形成在基板311上，多个象素电极331整齐地排列在电路元件321上。同时，在各个象素电极331之间，形成栅格状的围堰部341，在由围堰部341产生的凹部开口344内，形成发光元件351。阴极361形成在围堰部341及发光元件351的上部的整个面上，在阴极361上叠层密封用基板371。
围堰部341，由第一围堰部342和叠层于其上的第二围堰部343构成。同时，在形成该围堰部341时，利用本发明的薄膜图形的形成方法。
含有有机EL元件的有机EL显示装置301的制造工艺，包括：形成围堰341的围堰部形成工序，用于恰当地形成发光元件351的等离子体处理工序，形成发光元件351的发光元件形成工序，形成阴极361的对向电极形成工序，将密封用基板叠层在阴极361上并进行密封的密封工序。
发光元件形成工序，通过在凹部开口344内，即，在象素电极331上，形成空穴注入层352以及发光层353，形成发光元件351，包括空穴注入层形成工序和发光层形成工序。同时，空穴注入层形成工序包括：将形成空穴注入层352用的第一功能液喷出到各个象素电极331上的第一喷出工序，以及使喷出的第一功能液干燥、形成空穴注入层352的第一干燥工序，发光层形成工序，包括：将形成发光层353用第二功能液喷出到空穴注入层352上的第二喷出工序，以及使喷出的第二功能液干燥、形成发光层353的第二干燥工序。
在这种发光元件形成工序中，在空穴注入层形成工序中的第一喷出工序，及发光层形成工序中的第二喷出工序，使用前述喷出头20。
<电子设备>
下面，说明备有上述电光学装置(液晶显示装置，有机EL显示装置，等离子体显示装置等)的电子设备的应用例。图12(a)是表示便携式电话的一个例子的立体图。在图12(a)中，标号1000表示便携式电话主体，标号1001表示利用上述电光学装置的显示部。图12(b)是表示手表型电子设备的一个例子的立体图。在图12(b)中，标号1100表示手表主体，标号1101表示利用上述电光学装置的显示部。图12(c)是表示文字处理机、个人计算机等便携式信息处理装置的一个例子的立体图。在图12(c)中，标号1200表示信息处理装置，标号1202表示键盘等输入部，标号1204表示信息处理装置主体，标号1206表示利用上述电光学装置的显示部。图12(a)～(c)所示的电子设备，由于配备有上述实施形式的电光学装置，所以，能够以低的成本实现配备有显示等级(特别是分辨率)优异、明亮的画面显示部的电子设备。
此外，除上述例子之外，作为其它的例子，可以列举出液晶电视，取景器型机监视器以及直视型磁带录象机，自动导航装置，寻呼机，电子记事本，台式电子计算机，文字处理器，工作站，电视电话，POS终端，电子文件，触摸屏等设备。本发明的电光学装置，适合用作这种电子设备的显示部。
<微型透镜>
图13是表示使用本发明的薄膜图形，形成微型透镜的工艺的一个例子的图示。本实施形式中的薄膜，利用由FAS膜等构成的具有疏液性的单分子膜构成。
在本例中，首先，如图13(a)所示，用喷出头20在基板(基材)P上喷出由透光性树脂构成的液滴622a，将其涂布。此外，在从各个喷出头20喷出液滴622a时，在该喷出之前，在基板P上形成本发明的薄膜图形，将液滴622a配置在具有亲液性的除去区域3上。
作为基板P，例如，在将获得的微型透镜应用于屏幕用的光学膜的情况下，采用醋酸纤维素或丙基纤维素等纤维素系树脂，聚氯乙稀，聚乙烯，聚丙烯，聚酯等透明树脂(透光性树脂)构成的透光性片或者透光性薄膜。此外，作为基板，可以使用玻璃，聚碳酸酯，聚丙烯酸酯，聚醚砜，非晶质聚烯烃，聚对苯二甲酸乙二醇酯，聚甲基丙烯酸甲酯等透明材料(透光性材料)等构成的基板。
作为透光性树脂，可以列举出聚甲基丙烯酸甲酯，多羟基甲基丙烯酸乙酯，聚环己基甲基丙烯酸酯等丙烯酸系树脂，聚二乙二醇二烯丙基碳酸酯，碳酸酯等烯丙系树脂，甲基丙烯酸树脂，聚氨酯系树脂，聚酯系树脂，聚氯乙稀系树脂，聚乙酸乙烯酯系树脂，纤维素系树脂，聚酰胺系树脂，氟系树脂，聚丙烯系树脂，聚苯乙烯系树脂等热塑性或热固化性树脂，可以使用它们中的一种，或者混合使用它们中的多种。
但是，在本例中，作为透光性树脂，特别使用放射线照射固化型树脂。这种放射线照射固化型树脂，在前述透光性树脂中配合有双咪唑系化合物等光聚合引发剂，通过这种光聚合引发剂的配合，付与放射线固化性。所谓放射线，是可见光线，紫外线，远紫外线，X射线，电子束等的总称，特别是，一般地，使用紫外线。
根据所需的单个微型透镜的大小，将一个和多个这种放射线固化型的透光性树脂的液滴662a，喷出到基板P上。这样，由该液滴622构成的透光性树脂623，借助其表面张力，变成图13(a)所示的凸的形状(大致的半球状)。这样，对于将要形成的单一的微型透镜，喷出涂布规定量的透光性树脂，进而，在根据微型透镜的个数进行过这种涂布处理之后，将紫外线等放射线照射到这些透光性树脂623上，如图13(b)所示，使之固化，制成固化体623a。此外，从喷出头20喷出的液滴622a的每一滴的容量，尽管因喷出头20或喷出的油墨材料而异，但通常为1pL～20pL左右。
然后，如图13(c)所示，在这些固化体623a的每一个上，从喷出头20喷出所需个数的分散有多个光散射性微粒子626的液滴622b，附着在固化体623a的表面上。作为光散射性微粒子626，可以列举出二氧化硅，氧化铝，二氧化钛，碳酸钙，氢氧化铝，丙烯酸树脂，有机硅酮树脂，聚苯乙烯，尿素树脂，甲醛缩合物等微粒子。使用它们当中的一种，或者将多种混合使用。但是，为了充分发挥光散射性微粒子626的光扩散性，在该微粒子为透光性的情况下，其折射率和前述透光性树脂的折射率必须具有足够大的差别。从而，在光散射性微粒子626是透光性时的情况下，为了满足这种条件，根据所使用的透光性树脂，适当地进行选择使用。
这种光散射性微粒子626，通过预先分散在适当的溶剂(例如用于透光性树脂的溶剂)中，可以在能够从喷出头20中喷出的油墨中进行调整。这时，优选地，通过利用表面活性剂将光散射性微粒子626的表面进行被覆处理，或者，进行用熔融树脂的覆盖处理，提高光散射性微粒子626向溶剂内的分散性，通过进行这种处理，可以将从喷出头20中喷出的良好的流动性附加到光散射性微粒子626上。此外，作为用于表面处理用的表面活性剂，可以根据光散射性微粒子624的种类适当地选择使用阳离子系，阴离子系，非离子性，两性，硅酮系，氟系树脂等。
此外，作为这种光散射性微粒子626，优选地，使用其粒径为200nm以上、500nm以下的微粒子。这是因为，如果在这种范围内的话，通过粒径在200nm以上，确保其良好的光扩散性，通过使之在500nm以下，可以很好地从喷出头20的喷嘴中喷出。此外，对于分散有光散射性微粒子626的液滴622b的喷出，可以利用和喷出透光性树脂的液滴622a的喷出头20同样的喷出头，也可以利用另外的喷出头。在利用同一个喷出头的情况下，可以简化含有喷出头20的装置的结构。另一方面，在利用另外的喷出头的情况下，对于各种功能液(由透光性树脂构成的功能液和由光散射性微粒子24构成的功能液)的每一个，可以设为专用的喷出头，在涂布功能液的切换时，没有必要进行喷出头的清洗等，可以提高生产率。
然后，通过进行加热处理，减压处理，或者加热减压处理，使分散有光散射性微粒子624的液滴622b中的溶剂蒸发。这样，通过固化体623a的表面由液滴622b的溶剂软化，在其上附着光散射性微粒子626，伴随着溶剂蒸发，固化体623a的表面再次固化，光散射性微粒子624固定到固化体623a的表面上。同时，通过这样将光扩散性微粒子624固定到固化体623a的表面上，如图13(d)所示，光扩散性微粒子624分散在其表面上。获得本发明的微型透镜625。
由于利用喷墨法形成由透光性树脂623和光散射性微粒子624构成的凸状(大致的半球状)的微型透镜625，所以，不必像采用金属模成形法及注塑成形法那样利用金属模，并且也没有材料的耗损。从而，可以降低制造成本。此外，由于所获得的微型透镜625是凸状(大致的半球状)的，所以，可以将这种微型透镜用于例如在360°这样宽的角度范围(方向)内均匀地进行光扩散，而且，
通过将光扩散性微粒子626复合化，可以付与获得的微型透镜以高的光扩散性能。
<DNA芯片>
图14是用于说明使用本发明的薄膜图形，形成作为检查仪器的DNA芯片的实施形式的图示，(a)是俯视图，(b)及(c)是A-A剖面图。此外，关于DNA芯片技术，在特开平10-168386毫公报，特开2000-232883号公报中进行过描述。
在图14(a)及(b)中，本例的DNA芯片，通过在基材900上设置反应膜902构成。在本实施形式中，在反应膜902的周围，设置具有疏液性的薄膜903。薄膜903由具有疏液性的单分子膜构成。作为形成DNA芯片用的反应膜902的反应剂，例如，使用DNA片段。使溶液中包含预先已经搞清基因序列的几十至几百种DNA片段，固定到基材900上。进而，本例的DNA芯片，如图13(c)所示，光从基材900的背面侧入射，经过反应膜902被提取出来。在本例的DNA芯片的使用过程中，制成液体的基因样品905，将其配置在芯片上。在存在适合于样品的基因的情况下，利用捕捉反应在反应膜902上反应，确定碱基序列，利用合成的荧光染料，发出荧光。
为了制造上述DNA芯片，首先，在基材900上形成薄膜903，其次，基于本发明的薄膜图形的形成方法，形成具有除去区域3的薄膜图形。然后，利用喷出头20，在除去区域3上用喷出头20喷出反应剂，向基材900上形成反应膜902。借此，制造DNA芯片。
此外，也可以在具有光热转换层的基材900的整个面上预先设置反应膜902，对该反应膜902照射光，通过除去对应于光照射的区域反应膜902，形成图形，在基材900上离散地设置反应膜902。同时，也可以对离散地配置的反应膜902配置基因样品905。
<其它实施形式>
在上述实施形式中，也可以代替升华性色素层5(或升华性色素)，设置包含有通过光的照射发生气体的气体发生材料的气体发生层。这样，通过在基材1上或基材1内设置气体发生材料，利用照射的光从所需的区域发生气体，通过该气体的发生，可以将所需区域的薄膜2从基材1上除去，可以对薄膜2进行图形化。从而，无需现有技术中图形成形中的掩模，此外，不用电子束或紫外线，可以简单地并且以高分辨率对薄膜进行图形化。即，根据本实施形式，可以拓宽所使用的光照射装置的选择范围，即使不用高价大型的光照射装置，也能够很好地从基材上除去薄膜，高精度地形成图形。
此外，上述气体发生层。也可以是通过光照射不发生气体，而是通过加热发生气体。同时，也可以邻接光热转换层4设置气体发生层，用光照射光热转换层4，使之发热，利用该热使气体发生层发生气体，对薄膜2进行图形化。因此，可以采用在上述实施形式中的基材1或光热转换层4与升华性色素层5之间，设置包含有通过光照射或加热发生气体的气体发生材料的气体发生层的结构。这样，只通过光照射，只通过加热，或者通过光照射和加热两者，使之发生气体，可以对薄膜2进行图形化。
气体发生材料，吸收光，或者吸收从光能转换的热能，引起分解反应放出氮气或氢气，具有利用所发生的气体提供除去薄膜2所需的能量的作用。作为这种气体发生材料可以列举出季戊四醇四硝酸酯(pentaerythriotoltetranitrate：PETN)及三硝基甲苯(trinitrotoluene：TNT)构成的组中选择出来的至少其中的一种物质等，或者，GAP(缩水甘油叠氮聚合物)等。

Claims (29)

1、一种图形的形成方法，其特征在于，在包含升华性材料的基材上设置薄膜，通过对所述基材照射光，利用由所述光的照射而产生的热使所需区域的所述升华性材料升华，除去对应于所述光照射的照射区域的所述薄膜，对该薄膜进行图形化。
2、根据权利要求1所述的图形的形成方法，其特征在于，所述升华性材料包含升华性色素。
3、一种图形的形成方法，其特征在于，在包含有气体发生材料的基材上设置薄膜，通过对所述基材照射光，利用所述光的照射使从所需区域的所述气体发生材料中发生气体，除去对应于所述光照射的照射区域的所述薄膜，对该薄膜进行图形化。
4、根据权利要求1～3中任一项所述的图形的形成方法，其特征在于，所述薄膜包含有机薄膜。
5、根据权利要求1～4中任一项所述的图形的形成方法，其特征在于，所述薄膜包含单分子膜。
6、根据权利要求1～4中任一项所述的图形的形成方法，其特征在于，所述薄膜包括含有光引发剂的单体。
7、根据权利要求1～6中任一项所述的图形的形成方法，其特征在于，所述升华性材料在所述基材的表面侧或背面侧，作为与所述基材及所述薄膜独立的升华性色素层形成。
8、根据权利要求7所述的图形的形成方法，其特征在于，所述升华性色素层，设置在所述基材的设置有所述薄膜的一侧。
9、根据权利要求7所述的图形的形成方法，其特征在于，所述升华性色素层，与所述薄膜邻接设置。
10、根据权利要求7～9中任一项所述的图形的形成方法，其特征在于，所述升华性色素层，设置在所述基材和所述薄膜之间。
11、根据权利要求1～10中任一项所述的图形的形成方法，其特征在于，在所述基材中，混入所述升华性材料。
12、根据权利要求1～11中任一项所述的图形的形成方法，其特征在于，所述基材包含有将光能转换成热能的光热转换材料。
13、根据权利要求7～12中任一项所述的图形的形成方法，其特征在于，在所述升华性色素层中混入所述光热转换材料。
14、根据权利要求13所述的图形的形成方法，其特征在于，包含所述光热转换材料的光热转换层，与所述基材、所述薄膜及所述升华性色素层独立地设置。
15、根据权利要求14所述的图形的形成方法，其特征在于，所述光热转换层和所述升华性色素层邻接设置。
16、根据权利要求14所述的图形的形成方法，其特征在于，所述光热转换层，设置在所述基材的设置有所述薄膜的一侧。
17、根据权利要求14～16中任一项所述的图形的形成方法，其特征在于，所述光热转换层设置在所述基材和所述薄膜之间。
18、根据权利要求14～17中任一项所述的图形的形成方法，其特征在于，所述光热转换层设置在所述基材的没有设置所述薄膜的另一侧。
19、根据权利要求13～18中任一项所述的图形的形成方法，其特征在于，在所述基材上，混入所述光热转换材料。
20、根据权利要求13～19中任一项所述的图形的形成方法，其特征在于，
在所述基材的表面及背面中的至少一方上形成所述光热转换层，
在所述光热转换层的上面形成所述升华性色素层，
在所述升华性色素层的上面形成所述薄膜，
然后，进行所述光的照射。
21、根据权利要求14～20中任一项所述的图形的形成方法，其特征在于，在所述基材或所述光热转换层与所述升华性色素层之间，设置包含有通过光照射或加热而发生气体的气体发生材料的气体发生层。
22、根据权利要求1～21中任一项所述的图形的形成方法，其特征在于，从所述基材的设置有所述薄膜的一侧，照射所述光。
23、根据权利要求1～22中任一项所述的图形的形成方法，其特征在于，从所述基材的没有设置所述薄膜的另一侧，照射所述光。
24、根据权利要求22或23所述的图形的形成方法，其特征在于，根据所述薄膜、所述升华性色素层、所述光热转换层及所述基材中的至少一个的透光率，确定是从所述的一侧还是从另一侧照射所述光。
25、根据权利要求1～24中任一项所述的图形的形成方法，其特征在于，所述光具有与所述升华性材料及所述光热转换材料中的至少一方对应的波长。
26、一种布线图形的形成方法，其特征在于，在具有利用权利要求1～25中任一项所述的形成方法形成的薄膜图形的所述基材上，形成布线图形。
27、根据权利要求26所述的布线图形的形成方法，其特征在于，包括在形成有所述薄膜图形的基材上，配置包含有布线图形形成用材料的液滴的工序。
28、一种电光学装置，具有利用权利要求26或27所述的形成方法形成的布线图形。
29、一种电子设备，其特征在于，具有权利要求28所述的电光学装置。
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