JP4752349B2 - パターン形成体およびその製造方法 - Google Patents
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Description
まず、本発明のカラーフィルタの製造方法について説明する。本発明のカラーフィルタの製造方法は、基材と、前記基材上に形成され、シランカップリング剤または前記シランカップリング剤の重合体を含有する中間層と、前記中間層上にパターン状に形成された樹脂層とを有するパターニング用基板に、前記樹脂層側からフッ素ガスを導入ガスとしてプラズマ照射するプラズマ照射工程を有することを特徴とする方法である。
以下、本発明のプラズマ照射工程およびその他の工程について説明する。
本発明におけるプラズマ照射工程は、基材と、上記基材上に形成され、シランカップリング剤または上記シランカップリング剤の重合体を含有する中間層と、上記中間層上にパターン状に形成された樹脂層とを有するパターニング用基板に、上記樹脂層側からフッ素ガスを導入ガスとしてプラズマ照射する工程である。
以下、上述したような工程に用いられるパターニング用基板について説明する。
本発明に用いられるパターニング用基板は、基材と、その基材上に形成された中間層と、その中間層上にパターン状に形成された樹脂層とを有するものであれば、特に限定されるものではない。以下、このようなパターニング用基板に用いられる各構成について説明する。
まず、本発明に用いられる中間層について説明する。本発明に用いられる中間層は、シランカップリング剤、またはシランカップリング剤の重合体を含有する層であれば、特に限定されるものではない。
YnSiX(4−n)
(ここで、Yはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基、クロロアルキル基、イソシアネート基、もしくはエポキシ基、またはこれらを含む有機基であり、Xはアルコキシル基、アセチル基またはハロゲンを示す。nは0〜3までの整数である。)で示されるシランカップリング剤、またはこれらの1種または2種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物である重合体であることが好ましい。なお、ここでXで示されるアルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基であることが好ましい。また、Yで示される有機基全体の炭素数は1〜20の範囲内、中でも5〜10の範囲内であることが好ましい。
CF3(CF2)3CH2CH2Si(OCH3)3;
CF3(CF2)5CH2CH2Si(OCH3)3;
CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)3;
CF3(CF2)9CH2CH2Si(OCH3)3;
(CF3)2CF(CF2)4CH2CH2Si(OCH3)3;
(CF3)2CF(CF2)6CH2CH2Si(OCH3)3;
(CF3)2CF(CF2)8CH2CH2Si(OCH3)3;
CF3(C6H4)C2H4Si(OCH3)3;
CF3(CF2)3(C6H4)C2H4Si(OCH3)3;
CF3(CF2)5(C6H4)C2H4Si(OCH3)3;
CF3(CF2)7(C6H4)C2H4Si(OCH3)3;
CF3(CF2)3CH2CH2SiCH3(OCH3)2;
CF3(CF2)5CH2CH2SiCH3(OCH3)2;
CF3(CF2)7CH2CH2SiCH3(OCH3)2;
CF3(CF2)9CH2CH2SiCH3(OCH3)2;
(CF3)2CF(CF2)4CH2CH2SiCH3(OCH3)2;
(CF3)2CF(CF2)6CH2CH2Si CH3(OCH3)2;
(CF3)2CF(CF2)8CH2CH2Si CH3(OCH3)2;
CF3(C6H4)C2H4SiCH3(OCH3)2;
CF3(CF2)3(C6H4)C2H4SiCH3(OCH3)2;
CF3(CF2)5(C6H4)C2H4SiCH3(OCH3)2;
CF3(CF2)7(C6H4)C2H4SiCH3(OCH3)2;
CF3(CF2)3CH2CH2Si(OCH2CH3)3;
CF3(CF2)5CH2CH2Si(OCH2CH3)3;
CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH2CH3)3;
CF3(CF2)9CH2CH2Si(OCH2CH3)3;
CF3(CF2)7SO2N(C2H5)C2H4CH2Si(OCH3)3
次に、本発明に用いられる樹脂層について説明する。本発明に用いられる樹脂層は、上記中間層上にパターン状に形成されたものであり、本工程によりフッ素が導入されるものであれば特に限定されるものではない。
次に、本発明に用いられる基材について説明する。本発明に用いられる基材は、上記中間層を形成可能なものであれば特に限定されるものではなく、パターン形成体の用途等に応じて適宜選択される。本発明において上記基材は、有機材料からなるものであってもよく、また無機材料からなるものであってもよい。具体的には石英ガラスやパイレックス(登録商標)ガラス、合成石英板等の可撓性のないリジッド材、あるいは、樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有するフレキシブル材等が挙げられる。
本発明は、上述したプラズマ照射工程以外に、例えばパターニング用基板を形成するパターニング用基板形成工程等を有していてもよい。
次に、本発明のパターン形成体について説明する。本発明のパターン形成体は、基材と、上記基材上に形成され、シランカップリング剤または上記シランカップリング剤の重合体を含有する中間層と、上記中間層上にパターン状に形成され、表面にフッ素が含有されている撥液性樹脂層とを有することを特徴とするものである。
以下、本発明のパターン形成体の各構成ごとに説明する。
まず、本発明に用いられる撥液性樹脂層について説明する。本発明に用いられる撥液性樹脂層は、後述する中間層上にパターン状に形成されたものであり、表面にフッ素を含有するものであれば、特に限定されるものではない。
次に、本発明に用いられる中間層について説明する。本発明に用いられる中間層は、後述する基材上に形成されており、かつシランカップリング剤またはその重合体を含有するものである。また上記樹脂層が形成されていない領域においては、親液性領域とされているものであり、表面の水との接触角が所定の値以下とされていることが好ましい。
本発明に用いられる基材としては、上述した中間層を形成可能なものであれば特に限定されるものではなく、パターン形成体の用途等に応じて適宜選択される。このような基材としては、例えば有機材料からなるものであってもよく、また無機材料からなるものであってもよい。具体的には石英ガラスやパイレックス(登録商標)ガラス、合成石英板等の可撓性のないリジッド材、あるいは、樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有するフレキシブル材を用いることができる。
本発明のパターン形成体は、基材と、中間層と、樹脂層とを有するものであれば、特に限定されるものではなく、例えばその他に遮光層等、必要に応じて適宜有していてもよい。
次に、本発明のカラーフィルタについて説明する。本発明のカラーフィルタは、上述したパターン形成体の親液性領域上に着色層が形成されたものである。上述したパターン形成体上には、中間層が露出した親液性領域と、撥液性の高い撥液性樹脂層とが形成されていることから、これらの濡れ性の差を利用して、高精細に上記親液性領域のみに着色層が形成されたものとすることができる。また、上記中間層が形成されていることから、基材が無機材料からなるものであっても、着色層と基材との密着性を高いものとすることができるという利点も有する。
次に、本発明の有機EL素子について説明する。本発明の有機EL素子は、上記親液性領域上に有機EL層が形成されたものである。上述したパターン形成体上には、中間層が露出した親液性領域と、撥液性の高い撥液性樹脂層とが形成されていることから、これらの濡れ性の差を利用して、高精細に上記親液性領域のみに有機EL層が形成されたものとすることができる。また、上記中間層が形成されていることから、基材が無機材料からなるものであっても、有機EL層と基材との密着性を高いものとすることができるという利点も有する。
次に、本発明におけるマイクロレンズについて説明する。本発明のマイクロレンズは、上記親液性領域にレンズが形成されたことを特徴とするものである。上述したパターン形成体上には、中間層が露出した親液性領域と、撥液性の高い撥液性樹脂層とが形成されていることから、これらの濡れ性の差を利用して、高精細に上記親液性領域のみにレンズが形成されたものとすることができる。また、上記中間層が形成されていることから、基材が無機材料からなるものであっても、レンズと基材との密着性を高いものとすることができるという利点も有する。
次に、本発明における細胞培養用基板について説明する。本発明に用いられる細胞培養用基板は、上記親液性領域上が、細胞を培養するために用いられることを特徴とするものである。本発明によれば、上記撥液性樹脂層上の撥液性によって、上記撥液性樹脂層上には細胞が接着しないものとすること等ができる。これにより、上記親液性領域上でのみ、細胞を培養することが可能となり、高精細なパターン状に細胞を培養することが可能なものとすることができるのである。
デシルトリメトキシシラン1.5gとテトラメトキシシラン5gと0.1規定塩酸2gとを混合し、5時間攪拌した。これをイソプロパノールで10倍希釈し、370×470mm×0.7mmガラス基板上に均一にスピンコーターにて塗布し、膜厚0.1μmの中間層を得た。
上記ガラス基板に対しカーボンブラックを含有する黒色レジスト(新日鉄化学製V-259BKレジスト)を塗布し、露光を行った後、現像、ポストベーク処理を行って、膜厚1.0μm、幅20μm、開口部が280μm×280μmの遮光性を有する樹脂層を形成した。
前記基板に対し、CF4を10L/min、N2を20L/min流し、搬送速度0.5m/minで2回処理し、パターン形成体とした。このとき電源出力は190V−4.8Aとした。上記樹脂層上、および中間層(開口部)上の水の接触角を測定したところ、樹脂層は105°、開口部は7°であった。
上記パターン形成体のうち、親水化が行われ濡れ性が変化した開口部に対してピエゾ駆動式インクジェット装置にて赤の熱硬化型インク(粘度5cP)を吐出し加熱処理を行い、基板上に赤色の着色層(1.5μm)を得た。上記着色層は樹脂層壁面まで濡れ広がっており白抜けは起こらなかった。尚、上記粘度は、粘度測定器VIBROVISCOMETER CJV5000(A&D社製)を用いて温度20度で測定した値である。次いで青、緑の着色層を同様に形成し、赤色と同様に白抜けのないカラーフィルタを形成した。
2 …中間層
3 …樹脂層
4 …パターニング用基板
6 …撥液性樹脂層
Claims (3)
- 基材と、前記基材上に形成され、シランカップリング剤または前記シランカップリング剤の重合体を含有する中間層と、前記中間層上にパターン状に形成された樹脂層とを有するパターニング用基板に、前記樹脂層側からフッ素ガスを導入ガスとしてプラズマ照射するプラズマ照射工程を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法。
- 前記中間層が、光触媒を含有していないことを特徴とする請求項1に記載のパターン形成体の製造方法。
- 前記中間層が、前記シランカップリング剤または前記シランカップリング剤の重合体のみからなる層であることを特徴とする請求項2に記載のパターン形成体の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005182997A JP4752349B2 (ja) | 2005-06-23 | 2005-06-23 | パターン形成体およびその製造方法 |
US11/472,895 US8039092B2 (en) | 2005-06-23 | 2006-06-22 | Pattern formed body and method for manufacturing same |
US12/616,449 US8241513B2 (en) | 2005-06-23 | 2009-11-11 | Pattern formed body and method for manufacturing same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005182997A JP4752349B2 (ja) | 2005-06-23 | 2005-06-23 | パターン形成体およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007003755A JP2007003755A (ja) | 2007-01-11 |
JP4752349B2 true JP4752349B2 (ja) | 2011-08-17 |
Family
ID=37689464
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005182997A Expired - Fee Related JP4752349B2 (ja) | 2005-06-23 | 2005-06-23 | パターン形成体およびその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8039092B2 (ja) |
JP (1) | JP4752349B2 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010098436A1 (ja) * | 2009-02-27 | 2010-09-02 | 東レ株式会社 | 熱可塑性樹脂製器材用のコーティング剤 |
US8637411B2 (en) | 2010-04-15 | 2014-01-28 | Novellus Systems, Inc. | Plasma activated conformal dielectric film deposition |
US9373500B2 (en) | 2014-02-21 | 2016-06-21 | Lam Research Corporation | Plasma assisted atomic layer deposition titanium oxide for conformal encapsulation and gapfill applications |
US9997357B2 (en) | 2010-04-15 | 2018-06-12 | Lam Research Corporation | Capped ALD films for doping fin-shaped channel regions of 3-D IC transistors |
US9257274B2 (en) | 2010-04-15 | 2016-02-09 | Lam Research Corporation | Gapfill of variable aspect ratio features with a composite PEALD and PECVD method |
US9892917B2 (en) | 2010-04-15 | 2018-02-13 | Lam Research Corporation | Plasma assisted atomic layer deposition of multi-layer films for patterning applications |
JP6105223B2 (ja) * | 2012-07-30 | 2017-03-29 | 東京応化工業株式会社 | 細胞培養用プレートの作製方法、この作製方法で作製された細胞培養用プレート、細胞培養方法、細胞シート作製方法、細胞シート、及び感光性樹脂組成物 |
JP6538300B2 (ja) | 2012-11-08 | 2019-07-03 | ノベラス・システムズ・インコーポレーテッドNovellus Systems Incorporated | 感受性基材上にフィルムを蒸着するための方法 |
US20160032146A1 (en) * | 2013-03-08 | 2016-02-04 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Organic/inorganic transparent hybrid films and a process for producing the same |
US9564312B2 (en) | 2014-11-24 | 2017-02-07 | Lam Research Corporation | Selective inhibition in atomic layer deposition of silicon-containing films |
US10566187B2 (en) | 2015-03-20 | 2020-02-18 | Lam Research Corporation | Ultrathin atomic layer deposition film accuracy thickness control |
US9773643B1 (en) | 2016-06-30 | 2017-09-26 | Lam Research Corporation | Apparatus and method for deposition and etch in gap fill |
US10062563B2 (en) | 2016-07-01 | 2018-08-28 | Lam Research Corporation | Selective atomic layer deposition with post-dose treatment |
US10037884B2 (en) | 2016-08-31 | 2018-07-31 | Lam Research Corporation | Selective atomic layer deposition for gapfill using sacrificial underlayer |
US10269559B2 (en) | 2017-09-13 | 2019-04-23 | Lam Research Corporation | Dielectric gapfill of high aspect ratio features utilizing a sacrificial etch cap layer |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2839936B2 (ja) * | 1990-01-12 | 1998-12-24 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルター |
JPH10133370A (ja) * | 1996-11-01 | 1998-05-22 | Mitsubishi Chem Corp | カラーフィルター用レジスト組成物及びカラーフィルター |
JP3343811B2 (ja) * | 1997-10-31 | 2002-11-11 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタの製造方法 |
JP3529306B2 (ja) * | 1998-12-09 | 2004-05-24 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタおよびその製造方法 |
JP4138117B2 (ja) | 1998-12-21 | 2008-08-20 | セイコーエプソン株式会社 | カラーフィルタ基板の製造方法 |
JP3974319B2 (ja) * | 2000-03-30 | 2007-09-12 | 株式会社東芝 | エッチング方法 |
JP3854782B2 (ja) * | 2000-06-02 | 2006-12-06 | キヤノン株式会社 | 光学素子とその製造方法 |
ATE324603T1 (de) * | 2000-06-02 | 2006-05-15 | Canon Kk | Herstellungsverfahren für ein optisches element |
JP2002105272A (ja) * | 2000-07-28 | 2002-04-10 | Sekisui Chem Co Ltd | 着色樹脂エマルジョン、インクジェット印刷用インク、及び、カラーフィルター |
KR100877708B1 (ko) * | 2001-03-29 | 2009-01-07 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 패턴 형성체의 제조 방법 및 그것에 사용하는 포토마스크 |
US6822256B2 (en) * | 2001-09-18 | 2004-11-23 | Intel Corporation | Forming organic light emitting device displays |
JP4236081B2 (ja) | 2001-10-16 | 2009-03-11 | 大日本印刷株式会社 | パターン形成体の製造方法 |
US7390597B2 (en) * | 2002-06-13 | 2008-06-24 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Method for manufacturing color filter |
US7655365B2 (en) * | 2002-07-01 | 2010-02-02 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Wettability variable substrate and wettability variable layer forming composition |
JP4551625B2 (ja) * | 2003-03-31 | 2010-09-29 | 大日本印刷株式会社 | パターン形成体の製造方法 |
JP4289924B2 (ja) * | 2003-04-07 | 2009-07-01 | 大日本印刷株式会社 | パターン形成体 |
JP4374210B2 (ja) * | 2003-05-08 | 2009-12-02 | 大日本印刷株式会社 | パターン形成体の製造方法 |
JP4433722B2 (ja) * | 2003-08-12 | 2010-03-17 | セイコーエプソン株式会社 | パターンの形成方法及び配線パターンの形成方法 |
JP4945893B2 (ja) * | 2004-11-11 | 2012-06-06 | 大日本印刷株式会社 | パターン形成用基板 |
US20070128738A1 (en) * | 2005-06-23 | 2007-06-07 | Hironori Kobayashi | Pattern formed body and method for manufacturing same |
-
2005
- 2005-06-23 JP JP2005182997A patent/JP4752349B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-06-22 US US11/472,895 patent/US8039092B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-11-11 US US12/616,449 patent/US8241513B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8039092B2 (en) | 2011-10-18 |
US20070041000A1 (en) | 2007-02-22 |
US8241513B2 (en) | 2012-08-14 |
JP2007003755A (ja) | 2007-01-11 |
US20100051579A1 (en) | 2010-03-04 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080521 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101221 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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