CN1357141A - 光学存储介质 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及用光束可读出和/或存入信息的光学存储介质,所述介质包括一层或多层基片,它在光束入射的一侧上载有一层或多层信息存储层和至少一层透光覆盖膜,其特点是所述覆盖膜通过一层或多层透光压敏粘结剂层互相粘合,并粘合于光束入射基片的表面上,和/或粘合于一层或多层信息存储层上,本发明还涉及制备该光学存储介质的方法。

Description

光学存储介质
                        发明领域
本发明涉及一种光学存储介质，尤其涉及一种可用光束读出信息和/或记录信息的数字视频可记录光盘(DVR)，所述光学存储介质包括至少一层基片，其光入射的表面上载有一层或多层可读出和/或可记录的信息存储层以及一层或多层透光覆盖膜。本发明还涉及制造该光学存储介质的方法，尤其是制造数字视频可记录光盘(DVR)的方法。
                        发明背景
适合于记录和再现图像的光学存储介质需要8吉字节(GB)或更大的存储容量。某些DVD格式(数字视频光盘，有时还有数字多用途光盘)能满足这个需要。DVD可分为专用于再现的DVD-ROM、也可用于数据存储的DVD-RAM、可一次记录(“一次写入，多次读出”)的DVD-R、音频DVD以及视频DVD。DVD的格式已经一个工业联盟(ECMA，DVD联盟执行委员会)临时制定为ECMA/TC31/97/2，Geneva，Switzerland，Jan.1997，目前包括4.7GB，8.5GB，9.4GB和17GB格式。
DVD通常包括两个圆盘形的基片，它们的内表面用一种粘结剂互相结合在一起，如果在一层或多层记录层上的信息是通过粘结剂层读取的话，该粘结剂应是透明的。在4.7GB单层格式中，仅其一个基片上具有由基片内表面形成的一个信息存储层，该信息存储层一系列最小尺寸例如为0.4μm的坑。在所述信息存储层上沉积有铝层，有时还有其它层，有时上面再有一层保护涂层。第二基片(它是一个假基片)的内表面粘合于第一基片的内表面上，即例如粘合于铝层或保护性涂覆层上。8.5GB格式，尤其是9.4GB和17GB格式的结构较为复杂，一般是在每一基片上有一层信息存储层。DVD以及其制造方法可详见例如EP 0,725,396和本申请人于1998年2月10日提交的共同待批的美国专利申请No.09/021,225。
4.7GB的单层可重写DVD格式比例如常规CD(紧凑盘)容易处理，但对图像记录用途，其存储容量不够。
近来提出了一种高存储容量的格式，称为DVR(数字视频可记录光盘)，它克服了这个问题。除了其它结构之外，它还提供了一种存储容量高、适于数字视频记录与存储的单存储层格式。
DVR光盘的一般结构与格式在例如EP0,729,141；EP0,867,873和EP0,874,362中有描述。
DVR光盘通常包括一个圆盘形基片，在其一个或两个主表面上具有一个由平地和凹槽构成的信息存储层。DVR光盘还有一透光覆盖膜，在该膜的一面或两面上施加有信息存储层。
EP0,867,873披露，可将一种液态可紫外线固化的树脂旋涂在信息存储膜上，然后固化来获得该透光膜。但这种方法有几个缺点。DVD光盘中，透光覆盖膜在光盘径向上的厚度差异或不均匀性必需仔细控制，使得投射光的光程差尽量小。用液态可紫外固化的树脂进行旋涂，要使液体层的厚度差很小，就得例如将树脂注加在盘的中心。如果液体树脂施加时偏离中心，所得旋涂树脂层的厚度就会有很大差异。因为DVD光盘一般有个中心孔，所以必须在旋涂时在光盘上加上可除去的部件，以暂时盖住该中心孔。即使将液体树脂加至DVR光盘的中心，也难以保持直到光盘外缘仍获得所需的层厚差异。主要问题在于，将液体粘结剂从盘的中心推向外缘的离心力随半径而线性增大。一方面离心力的作用与另一方面因液体粘结剂产生的摩擦力可以取得平衡。但是由于离心力和半径的依赖关系，从原理上是不可能获得恒定厚度的层的。曾经建议，为了减少厚度差异，将盘的直径稍为增大，而在旋涂和较佳实行UV固化以后，对包括盘形基片的DVR盘冲切，以获得所需的尺寸。固化以后对盘形基片冲切是不利的，一则是增加操作步骤，再则会形成碎屑和/或在基片中引起应力，因而使透光层产生光学畸变。UV固化时，还会使UV固化层产生收缩和/或形变，且在固化时会放出不适宜的热量。
EP0,867,873还指出，使用诸如聚碳酯片等聚合物膜作为透光覆盖膜，并借助于用UV固化液体树脂旋涂生成的薄层将此覆盖膜粘附于信息存储层上。但该方法有几个缺点。液体树脂旋涂生成的层厚要薄至例如5μm，这很费时间，从经济观点看是不合适的。而且，在液体树脂层中观察到气泡的形成，这使所得的DVR光盘在光学上不合格。
DVR光盘上的透光覆盖膜是光学上高度各向同性的，因此投射光面对的此透光层的折射率的改变或差异尽可能的小。透光层的光入射表面还应该尽量光滑，为的是避免散射损耗。如何选择聚合物膜作为透光覆盖膜，使得其在光学性能上具有所需较低或很低的差异，此判断依据尚未知道。
                         发明内容
本发明旨在提供一些新型的光学存储介质，用一光束从这些介质能够读出信息和/或将信息记录进去，所述光学存储介质包括至少一层基片，在此基片的光入射的表面上载有至少一层信息存储层，至少一层透光覆盖层，有时还有透光层。由此，所述光学存储介质不存在现有技术中这种类型光学存储介质的缺点，或者虽有这些缺点但程度小得多。具体地说，本发明致力于提供具有上述部件的光学存储介质，其中因透光层引入光学记录介质而产生的厚度差异很小，较好的是小于±5μm，其测量是在光学存储介质的整个平面范围上对任意选定截面进行的。本发明还致力于提供具有透光覆盖膜的光学存储介质，该膜在光学性能特别是折射率上的变化很小，还提供了制备这种新型光学存储介质的方法，尤其是制备DVR盘型光学存储介质的方法。
本发明涉及一种可用光束(6)读出信息和/或记录信息的光学存储介质，所述光学存储介质包括至少一层基片(1)，在此基片(1)的光束(6)入射表面上载有一层或多层信息存储层(3)以及一层或多层透光覆盖膜(5)，其特点是所述透光覆盖膜(5)通过一层或多层透光压敏粘结剂层(4)互相粘合，并粘合在基片(1)的光束(6)入射表面(2)上，和/或粘合在一层或多层信息存储层(3)上。
本发明还涉及制备本发明光学存储介质的方法，其步骤为：(a)提供至少一层具有光束(6)入射表面(2)的基片(1)，所述表面上可能有坑结构，坑结构上面载有信息存储层(3)；(b)在两个辊子间层压两个层叠物层，其中一个层叠物是至少一层透光覆盖膜(5)，其内表面可能具有坑结构，并载有信息存储层(3)和一层可剥离的保护膜(7)，另一个层叠物依序包括至少一层压敏粘结剂层(4)和一层可剥离衬里(8)；(c)除去所述可剥离衬里(8)，提供一可结合的层叠物(12)；(d)将层叠物(12)层压在基片(1)之表面(2)上的信息存储层(3)的表面(2)上。
                     附图简述
应该指出，这些附图仅是示意的，特别是未按比例绘制的。
图1a示意显示本发明光学存储介质的一个具体实施方式，它包括一个基片1，光束6入射到其表面2上，表面2具有一个由平地和凹槽组成的结构，该结构构成信息存储层3的一部分，所述光学存储介质还包括一层通过压敏粘结剂层4与信息存储层3粘合的透光覆盖膜5。图1a中，基片1的厚度一般比透光覆盖膜5的厚度大一个数量级以上，而凹槽深度一般为5-50nm，因此与基片1的厚度相比可忽略不计。
图1b示意显示本发明光学存储介质的另一个具体实施方式，它包括一个基片1，其表面2具有一个由平地和凹槽组成的结构，该结构构成第一信息存储层3a的一部分，所述光学存储介质还包括一个透光覆盖层5，光束6入射于其上，覆盖层5的表面9有具有一个由平地与凹槽组成的结构，该结构构成第二信息存储层3b的一部分，第二信息存储层3b通过压敏粘结剂4粘合在所述信息存储层3a上。
图2示意显示第一层叠物和第二层叠物在两个辊子50，51之间进行叠压的情况，其中第一层叠物包括可剥离保护膜7和透光覆盖膜5，第二层叠物包括透光压敏粘结剂层4和光滑的可剥离衬里8，叠压以后，压敏粘结剂层4的外露表面就与透光覆盖膜5的外露表面粘合起来。
图3示意显示了将可剥离衬里8拉过辊子52，从而从依次包括可剥离保护膜7、透光覆盖膜5和压敏粘结剂层4的层叠物上去除可剥离衬里8，提供一个可粘合的层叠物12，将该层叠物12通过空气抽吸连接于一个真空固定板上，然后对其冲切，生成一个具有中心孔10和外缘11的盘形层叠物，图中未显示所用的冲切刀具，但用箭头表示了冲切方向。
图4示意显示一个依序包括可剥离保护膜7、透光覆盖膜5和外露的透光压敏粘结剂层4的盘形层叠物，所述层叠物有中心孔10和外缘11，并通过空气抽吸作用固定在真空固定板53上。
图5示意显示一个具有上真空室56和下压力室58的真空结合装置60，真空室可用泵55进行抽吸，下室可用泵57增压，上室包括一个上板54和可动的下板59，下板59结合一柔性密封61将上室56和下室58分隔开来，下板59上面是真空固定板53，真空固定板53上载有由可剥离保护层7、透光覆盖膜5和压敏粘结剂层4构成的冲切层叠物，上板54上持有基片1，基片1上载有信息存储层3。
                     本发明的详细描述
本发明的光学存储介质包括至少一层基片，基片在其接受光入射的一侧载有一层或多层可读和/或可记录的信息存储层、至少一层透光压敏粘结剂层以及至少一层透光覆盖膜。
图1a示意显示本发明光学存储介质一个具体实施例的剖面图，包括一层基片1，所述基片在光束6入射的主表面2上具有一个平地凹槽结构，此结构构成信息存储层3的一部分。信息存储层3上载有压敏粘结剂层4，而透光覆盖膜5粘合在其上面。
可用于本发明的结构更加复杂的光学存储介质在例如EP0,867,873中有叙述，该专利通过引用包括在此。光学存储介质例如可包括2层或更多层信息存储层3，它们彼此叠放在基片的一个或两个主表面上。图1b显示一个包括两层信息存储层3a和3b的结构，这两层存储层分别施加在基片的内表面2与透光覆盖膜的内表面9上。
基片1可为任意形状，但较好是圆盘状，它有个中心孔用来将组装的光学存储介质对准轴心装在记录或重放台上。此圆盘或圆环形基片的外直径较好为大约50-360mm，中心孔的内直径约5-35mm，厚度宜为0.3-3.0mm，更好的是在0.8-1.5mm之间。基片的材料较好是聚合物材料，如丙烯酸树脂、聚碳酸酯、环氧树脂、环烯烃共聚物和聚烯烃。特别好的是硬塑料，如聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯或热稳定的聚酯碳酸酯共聚物(polyester cocarbonate)。
基片在其一个或两个主表面上分别有包括凹部(或凹槽)和凸部(平地)的结构，凹部与凸部通常统称为坑。为了最大限度减少相邻平地和凹槽之间的光学串扰，坑的一般尺寸包含了光波长、透光层折射率与凹槽深度之间的关系，这在例如EP0,874,362或EP0,867,873中有叙述，这些专利通过引用包括在此。道距是径向测量的相邻机械纹道中心线之间的距离，一般为0.64μm或更小。
坑的结构可以在基片的一个或两个主表面上分别模制出来。该方法详述于EP0,729,141，p.4，lns.14-46，通常包括一个母盘成形步骤(示于EP’141的图4A-4G)和注塑成型步骤(示于EP’141的图5A-5B)；EP’141通过引用包括在此。然而也可以在透光覆盖膜上获得坑结构，其方法是将该膜加热到超过其玻璃转变温度以上，然后通过两个至少其一具有图案结构的辊子。这个技术示于EP0,867,873的图10中，它是让透光覆盖膜通过一个辊子和一个压模之间。这样获得的透光覆盖膜可以通过压敏粘结剂层粘合到基片上，或粘合到一层或多层可能具有坑结构的透光覆盖膜上，从而获得具有多层信息存储层的光学存储介质。信息存储层3的结构取决于它是否用于读出和/或记录。
如果光学存储层是ROM类型，则信息存储层3包括的坑结构上载有一层例如用溅射法获得的一般厚20-60nm的Al、Au等金属的反射膜。
可记录光学存储介质可以是相变类型，也可以是磁光类型。按EP0,867,873，相变型信息存储层的获得可以是在坑结构上形成一层反射膜，如Al膜、GeSbTe膜和ZnS-SiO2膜。更为复杂的相变型信息存储层在例如EP0,874,362中有叙述。磁光型信息存储层3包括的坑结构上，例如载有依序例如Al膜、SiN膜、TbFeCo膜等反射膜。
一次写入型信息存储层，其获得例如可以是在坑结构上施加Al、Au或其它金属的薄反射膜，然后再涂覆以花青或酞青系统的有机颜料膜。上述那些信息存储层只是一些例子。本发明的光学存储介质可以包括别的和/或经修改的信息存储层结构。
本发明人发现，厚度变化不大、光学性能良好且不稳定性值低的光学存储介质可以通过将这种介质与一层或多层透光压敏粘结剂层粘合来获得的。因此本发明涉及的是用一层或多层压敏粘结剂粘合的光学存储介质，它避免了使用现有技术不利的UV固化的树脂层。
在图1a所示具体实施方式的光学存储介质中，压敏粘结剂层4将透光覆盖膜5粘合到信息存储层3上。在如上所述的有多层信息存储层的较复杂结构中，压敏粘结剂层4可用来将两层或更多层透光覆盖膜5(有时还包括信息存储层3)互相粘合起来。
本发明另一种光学存储介质包括两层或更多层信息存储层。在图1b所示具体实施方式的光学存储介质中，压敏粘结剂层4将载有第一信息存储层3a的基片1粘合到有光束6入射的的透光覆盖膜5的第二信息存储层3b。
压敏粘结剂需要在用来从光学存储介质读出信息和/或将信息记录进入光学存储介质的入射光束6的波长下是透明的。产生光束6的合适光源例如是发射谱线波长在400-700nm，较好地在600-660nm范围内的激光器。压敏粘结剂在入射光波长下的透明度可以例如按ASTM D 1746进行测量，其值较好是至少80％，至少85％尤佳。
粘结剂层可以包括一透明背衬层和/或载体层，例如有时是经表面处理的非晶态聚合物层，如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯或聚甲基丙烯酸甲酯((PMMA)层，这种层位于粘结剂层的两个面上。但是粘结剂层较好是不包括背衬层和/或载体层的贴花薄膜。若是贴花薄膜的话，该粘结剂层较好的平均厚度是10-100μm，更好是15-80μm，尤其好是15-50μm，而具有背衬层和/或协体层的双面胶粘带，其厚度可为50-150μm，较好为50-100μm。
丙烯酸酯基的压敏粘结剂一般可满足光学透明度的要求，但硅酮基压敏粘结剂、橡胶树脂基压敏粘结剂、嵌段共聚物基粘结剂(特别是那些包含氢化弹性体的)，或以乙烯醚聚合物为基的压敏粘结剂也都可以使用。这些材料都可以拌和以逆塑化剂和/或增粘剂来调节其性质。优选用丙烯酸酯基压敏粘结剂。
适用于本发明的丙烯酸酯基压敏粘结剂的制法可以是，将包括其烷基平均原子数为4-14的一种或多种丙烯酸烷基酯的前体物质进行聚合。平均原子数4-14的意思是：诸丙烯酸烷基酯化合物的平均碳(C)原子数，用它们各自相对于丙烯酸烷基酯组分重量的重量百分数加权后，在4-14之间之间，尤其在4-12碳原子之间为好。可用的丙烯酸烷基酯(即，丙烯酸烷基酯单体)包括线性或分枝的非叔烷基醇的单官能不饱和丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯，其中的烷基具有4-14个碳原子，尤其是4-12个碳原子为好。用于本发明的这些低级丙烯酸烷基酯例如包括但不限于丙烯酸正丁酯、丙烯酸异丁酯、丙烯酸己酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸正辛酯、甲基丙烯酸正辛酯、丙烯酸2-甲基丁酯、丙烯酸异壬酯、丙烯酸正壬酯、丙烯酸异戊酯、丙烯酸正癸酯、丙烯酸异癸酯、甲基丙烯酸异癸酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸4-甲基-2-戊酯以及丙烯酸十二烷酯。较佳的低级丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯包括丙烯酸异辛酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸异壬酯和丙烯酸十二烷酯。压敏粘结剂的可聚合前体物质较好包含多达5个特别是1-4个丙烯酸烷基酯。丙烯酸烷基酯中的烷基的平均碳原子数如前所定义，较好是4-12，特别好是5-10。也可使用不同丙烯酸烷基酯的混合物。
压敏粘结剂的可聚合前体物质还可以含有丙烯酸以外的不饱和脂肪族羧酸的烷基酯，例如马来酸烷基酯和富马酸烷基酯(分别以马来酸和富马酸为基)。在这方面，马来酸二丁酯、马来酸二辛酯、富马酸二丁酯和富马酸二辛酯是优选的。丙烯酸以外的不饱和脂肪族羧酸的酯合化物的含量不宜太高，较好的是相对于丙烯酸烷基酯组分的重量不超过25wt.％。
压敏粘结剂的可聚合前体物质还可以含有一种或多种中等极性和/或强极性的单体。极性(即，与氢结合的能力)通常用“强”、“中等”、“弱”这些词来描述。关于这些和其它溶解度方面术语的参考文献包括“Solvents”，′aintTesting Manual，3rd ed.，G.G.Seward，Ed.，American Society for Testingand Materials，Philadelphia，Pennsylvania，与“A Three-DimensionalApproach to Solubility”，Journal of Paint Technology，Vol.38，No.496，pp.269-280。强极性单体的例子有丙烯酸、甲基丙烯酸和丙烯酰胺，而N-乙烯内酰胺如N-乙烯基吡咯烷酮和N-乙烯基己内酰胺、丙烯腈和甲基丙烯酸二甲基氨基丙酯都是中等极性单体的典型代表。弱极性单体的例子包括例如，丙烯酸异冰片酯、乙酸乙烯酯、N-辛基丙烯酰胺、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯或苯乙烯。然而，已经发现当至少一个基片的内表面包括一层腐蚀性层，例如铝反射层时，强极性单体相对于丙烯酸酯重量的百分数较好小于10wt.％，小于5wt.％更好。压敏粘结剂较好应不含丙烯酸，以免基片的内表面受到腐蚀。
可用于本发明的丙烯酸酯基压敏粘结剂在例如US4,181,752，US4,418,120，WO95/13,331或Handbook of Pressure-sensitive AdhesiveTechnology；D，Satas ed.；Second Edition，NY 1989，pp396-491中有叙述。这些资料通过引用包括在此。
适用于本发明的压敏粘结剂还可包含一些组分，例如聚合物添加剂、增稠剂、增粘剂、链转移剂和其它添加剂，只要它们不会降低压敏粘结剂的透明度，也不会影响压敏粘结剂层厚度的均匀性至不适宜和/或不合格的程度。这些添加剂占压敏粘结剂的重量百分数不宜超过5wt.％，以0-2wt.％更好。
适用于本发明的压敏粘结剂较好是具有模量G’(测量于23℃和1弧度/秒的频率)为5×105-2×106达因/厘米2，更好为6×105-1.5×106达因/厘米2，尤其好为6.5×105-9.5×105达因/厘米2。
压敏粘结剂层的制备，可以是将其作为有机的或水性的溶液或分散液涂覆在一可剥离衬里上，然后蒸发掉溶剂，或者还使其固化；或者是作为基本上不含溶剂的预聚合液浆进行涂覆，然后固化。后一方法在例如US4,181,752中有了较详描述，而涂覆压敏粘结剂的溶液或分散液的方法，则在例如Handbookof Pressure-sensitive Adhesive Technology；D.Satased.；Second Edition，NY 1989，pp767-868中有描述(通过引用包括在此)。也可用热熔涂覆法施加压敏粘结剂层。压敏粘结剂层外露的那个表面通常在固化前或后用另一层可剥离衬里保护之。
本发明人发现，压敏粘结剂层的厚度应该仔细控制，为的是能制备非常均匀的光学存储介质。发现由压敏粘结剂层引起的光学记录介质厚度的差异，在光学记录介质整个范围内对其任意选取的截面进行测量时，较好不大于约±3μm，更好不大于约±2μm，所用的测量方法在下面的测试部分中将描述。
制造满足这些要求的平面度非常好、厚度精确而均匀的压敏粘结剂层的一个较好方法在例如WO95/29,766中有描述，该文献通过引用包括在此。该方法是将压敏粘结剂的基本上不含溶剂的可聚合前体物质液浆通过一个模头涂覆在基片的表面上(此时基片相对于模头运行)。模头包括一个适合于输入压敏粘结剂前体物质的通道和一个宽度可调的狭槽，该狭槽与前述液浆通过的通道相连。该狭槽形成于位于基片下游面上的一个基本上直的锐边与位于基片上游面上的一个平地之间。该模涂法和精密涂覆用的模头在WO95/29,764和WO95/29,765中有较详细(通过引用包括在此)。这个方法可用于例如将丙烯酸酯基压敏粘结剂剂的实质上无溶剂的预聚合液浆前体物质涂覆在运行的带或可剥离衬里上，随后对所得的压敏粘结剂层进行固化。该压敏粘结剂层可在固化后直接从运动带上转移到光学存储介质第一基片的内表面上，也可以在两层可剥离衬里之间暂时保存，供以后施加到第一基片的内表面上之用。当使用表面粗糙度为Rz(如下面定义为小于2μm)的表面平整而光滑的运动带或可剥离衬里时，可获得非常均匀的压敏粘结剂层，其厚度容差为±3μm或更小，较好是±2μm或更小。这些粘结剂层可用于制备很均匀的光学记录介质，由此压敏粘结剂层对光学存储介质引起的厚度容差一般是±3μm或较小。
压敏粘结剂层的折射率较好是适配于透光覆盖膜的折射率。这两者的折射率之差较好不大于0.05，更好要小于0.02。按例如ASTM D 542测量的压敏粘结剂的折射率较好至少为1.45，更好至少为1.49。本发明人发现，可用于本发明的丙烯酸酯基压敏粘结剂层的折射率约1.50，它可以通过在可聚合前述物质中加入足够量的例如丙烯酸苯氧基乙酯来获得。
本发明的光学存储介质包括一层或多层透光覆盖膜，其每一层可以在一个或两个主表面上具有坑结构。透光覆盖膜的厚度较好是10-150μm，更好是20-130μm，尤其好是20-100μm。在本发明光学存储介质的包括两层或更多层透光覆盖膜的更为复杂的结构中，每一覆盖层的厚度较好是10-70μm，更好是20-60μm。
本发明光学存储介质的透光覆盖膜与压敏粘结剂层的总厚度最大值可按EP0,867,873和JP 3-225,650采用JP3-225,650对于CD建立的一个关系式来估算，该关系式是上述最大总厚度、光盘记录和/或再现设备的光头器件的数值孔径、所用光源的波长以及歪斜边界之间的关系式。当使用波长约0.65μm的激光光源时，EP0,867,873建议上述总厚度为288μm或较小，而对波长0.4μm的蓝光，则为177μm或更小。
本发明人发现，在图1示意显示的结构中，压敏粘结剂层的厚度较好是15-100μm，更好是20-50μm，透光覆盖膜的厚度较好是50-200μm，更好是50-100μm，尤其好是50-85μm。而且发现，在包括两层或更多层透光覆盖膜和相应层数压敏粘结剂层的较复杂结构中，这两种层的总厚度较好小于300μm，更好小于250μm。
本发明人发现，透光覆盖膜应是光学上高度各向同性的，为的是将光束穿过该膜时的畸变减至最小。
每层透光覆盖膜的双折射应小于±30nm/d，其中d是各透光覆盖膜的厚度，较好小于±25nm/d，尤其好小于±15nm/d。
本发明人发现，具有所需低值双折射的透光覆盖膜的较好制法是(i)浇注由一种或多种适合聚合物组成的溶液，然后干燥之，和/或(ii)浇注各聚合物的未聚合或部分预聚合的前体物质，然后进行聚合。
对各聚合物进行挤压来制备透光度覆盖膜的方法往往会产生应力并且产生聚合物链的至少部分取向，而这会在挤压成的聚合物层中引起光学不均匀性和/或双折射。因此，挤压成的聚合物层不大适宜用作透光覆盖膜。
用溶剂浇注法制备透光覆盖膜，是将聚合物溶解于一种溶剂中，将所得溶液浇注涂覆在光滑基片上，蒸发掉溶剂使聚合物固化。较佳聚合物例如包括聚碳酸酯、三乙酸纤维素和聚二环戊二烯。合适的溶剂例如有二氯甲烷、二氧戊环、环己酮、四氢呋喃和二噁烷。
用聚合浇注法制备透光覆盖膜，是先制备可涂覆的前体物质浆液，这一般是部分已聚合的可固化聚合物前体在过量单体或低聚物中的溶液。将该溶剂浇注在光滑基片上，然后聚合生成透光覆盖膜。这种方法可形成均聚物或共聚物。较佳的单体包括甲基丙烯酸甲酯、乙基丙烯酯甲酯或丙基丙烯酸甲酯，低量的(C4-C8烷基)丙烯酸甲酯、丙烯腈、苯乙烯。宜选择适当的预聚合度，以便提供具有例如0.3-200Pa·s粘度的易涂覆的前体。
浇注层的厚度要仔细控制，以便制成非常均匀的透光覆盖膜。已发现该膜的厚度差异不宜超过±3μm，最好不超过±2μm，测量是用下面测试部分中所述的方法在光学存储介质整个范围内对任意选取的截面进行的。
发现要制备平面度非常好，厚度均匀精确的透光覆盖膜，较好是用前面引述过的WO95/29,764和WO95/29,765中所述的模涂法和涂覆用的精密模头。该方法可用于例如将透光覆盖膜聚合物的部分预聚合前体浆液或该种聚合物的溶液分别涂覆在运动带或运动鼓或可剥离衬里上，然后分别固化此前体浆液和/或干燥此溶液。这样制得的透光覆盖膜可以在分别固化或干燥后直接由运动带转移到露出的压敏粘结剂层上。当使用的运动带或可剥离衬里的表面很平整光滑，表面粗糙度RZ如下定义小于2μm时，可制得厚度容差约±3μm或更小，较好约±2μm或更小的非常均匀的透光覆盖膜。分别具有所需光滑表面的适合带子或鼓例如有高度抛光的不锈钢表面。本发明一个较佳方法中，获得透光覆盖膜是将一种合适聚合物和/或可聚合前体的溶液浇注在表面能很低即最好小于35达因/厘米的运动带或可剥离衬里上。通过引用包括在此的EP0,380,028披露，在这种表面上浇注聚合物溶液可制备双折射低的聚合物膜。低表面能的合适材料例如有聚四氟乙烯、聚偏二氟乙烯、聚三氟氯乙烯、聚乙烯和聚苯乙烯，聚乙烯、聚四氟乙烯和聚偏二氟乙烯尤其好。
在一较佳方法中，采用后续浇注步骤可以获得包括一透光覆盖膜和一压敏粘结剂层的多层膜。在此方法中，先施加具有光滑表面的可剥离衬里，然后用溶剂浇注法或聚合浇注法将透光覆盖膜施涂在上述可剥离衬里上，然后如上所述干燥或固化。然后将压敏粘结剂的可固化前体涂覆在该透光覆盖膜的露出表面上，再如上所述进行固化。所得的多层膜可以例如直接层压到在一个基片炎坑表面上形成的信息存储层上。如果需要，再除去可剥离衬里，即得图1a的光学存储介质。也可以将可剥离衬里层压到压敏粘结剂层的外露表面上，然后从透光覆盖膜上除去可剥离衬里，有时还将一可剥离保护层层压到透光覆盖膜上。
发现有必要将一可剥离保护膜层压到透光覆盖膜的至少一个主表面上，以便在处理或安装光学记录介质时保护透光覆盖膜的表面。
可选择载有压敏粘合剂层的种种聚合物膜可以用作可剥离保护膜。可以与压敏粘结剂层结合使用的有用的聚合物膜例如有聚烯烃膜，该膜包括诸如聚乙烯或聚丙烯膜等均聚物、诸如乙烯/丙烯共聚物等共聚物，以及均聚物或共聚物的混合物，如聚乙烯与聚丙烯的混合物，聚烯烃膜还包括聚对苯二甲酸乙二醇酯膜或聚氨酯膜，例如聚醚型聚氨酯或聚酯型聚氨酯类型的可延展弹性体聚氨酯。还可以使用含有两层聚合物膜的层叠物，其中下面外露的那层膜与透光覆盖膜5结合，显示自粘合性质。有自粘合性质的聚合物例如有EVA膜(乙烯—醋酸乙烯酯共聚物)，EVA膜例如会有占EVA聚合物约5-20wt.％的高含量醋酸乙烯酯。这类层叠物可以用作可剥离保护膜而无需压敏粘结剂层。
如果用压敏粘结剂的话，应选择能容易从透光覆盖膜上除去，不会留有残余粘结剂的那种。本发明人发现，压敏粘结剂经较好选择，可以使按照PSTC法PSTC-3测量时从聚碳酸酯基材上作90度剥离的粘着力不大于1N/2.54cm，较好不大于75cN/2.54cm，尤其好小于50cN/2.54cm。在US4,166,152中举例描述了可用于制备可剥离保护膜，且具有低剥离粘着强度和高内聚强度的丙烯酸酯基可剥离粘结剂，该专利通过引用包括在此。可用于本发明的可剥离保护膜有3M公司提供的保护带产品，一个合适例子是3M保护带#2104。
在制备用图1a所示的光学存储介质的一个优选方法中，如图2所示，在两个辊了50与51之间，将包括可剥离保护膜7与透光覆盖膜5的第一个层叠物层压到包括压敏粘结剂层4与光滑的可剥离衬里8的第二个层叠物上。辊子的表面很光滑，经安置能进行无应力和无气泡的层压。
所得的层叠物输入一个图3示意所示的结合装置，该装置的操作是准连续方式的。可剥离衬里8例如通过一个分离用的棱或辊子52从该层叠物上分开，余下的部分通过空气抽吸作用固定在真空固定板53上。用适当的冲切设备(图中未示)冲切成的层叠物如图4所示具有中心孔10和对应于圆盘形基片1的外缘11。真空固定板53连同与其固定的冲切层叠物转移到图5所示的真空结合装置60。该装置有一个上真空室56和一个下压力室58，这两个室被可动下板59与柔性密封61所隔开。上室56可用泵55抽真空，下室58可以用泵57相应地或抽真空或增压。真空固定板53固定于真空结合装置40的下板59上，被固定的冲切层叠物的外露粘结剂层4朝上。载有信息存储层3的基片1则固定在真空结合装置60的上板54上，信息存储层3朝下。将下室58抽真空，使得后来在对上室56抽真空之前下板59处于下面的位置。然后对真空结合装置60的上室56用泵55抽真空。然后将下室58中的压力用泵57增加至一定值，从而将冲切的层压物上推顶住基片1。然后对下压力室58抽真空使下板59运动到下面位置。在将真空结合装置60的上室56增压至大气压后，图1a所示的本发明光学存储介质即可从真空结合装置中取出。将可剥离的保护膜7除去，得到图1a所示的本发明一具体实施例的光学存储介质。
制备图1a的光学存储介质有另一种方法，将压敏粘结剂层4层压到形成于基片1有坑结构的表面2上的信息存储层3上。提供的压敏粘结剂层可以例如是冲压成具有基片的形状。压敏粘结剂层最好是先贴在基片的一个边缘附近，然后逐步以例如45度或较小的层压角在基片表面上抹过层压之，以免夹杂气泡。从压敏粘结剂层上除去可剥离衬里，再将载有压敏粘结剂层的基片固定于图5真空结合装置60的下板59上。而将包括可剥离保护膜和透光覆盖膜的层叠物施加在上板上。如上所述，对下室58增压，推动下板59至上板59，从而制得光学存储介质。
制备图1a的光学存储介质还有再一种方法，是将包括可剥离保护膜2、透光覆盖膜5以及外露压敏粘结剂层4的层叠物用本申请人在共同待批的美国专利申请S.N.09/065,295(通过引用包括在此)中所述的一种轮子结合装置粘合到圆盘形基片1的信息存储层3的外露表面上。在下面实施例3中将较详叙述的该轮子结合过程可以确保粘合几乎不夹杂空气，并且层压的光学存储介质的平面度很高。
上述的方法只是示例性的，决不是对本发明范围的限制。
                         实施例
                        测试方法表面粗糙度
使用来自德国Ettlingen市UBM Messtechnik GmbH公司的型号为UB-16的激光表面光度仪测量压敏粘结剂层的表面粗糙度。该仪器装有的软件按DIN4768计算表面的峰-谷高度作为表面粗糙度。以微米(μm)记录的平均表面粗糙度Rz定义为按DIN 4765规定的几个分开的测量区域中的平均峰—谷的高度值。
每层压敏粘结剂层有第一和第二主表面，在测定表面粗糙度之前这两个主表面都是用可剥离衬里保护的。这两个可剥离衬里在粗糙度和/或可剥离涂层方面相同或不同。每层透光覆盖膜也有第一的第二主表面，在从制造厂家获得时未受保护。
要测试的表面在测试前总是用一种得自于德国Wiesbaden市PfeiferHochvacuum GmbH公司的型号为Balzers Model SCD 050的溅射涂膜器用金涂覆两次。第一次溅射时靶金表面平行于粘结剂层60秒，电流为60毫安(mA)。第二次溅射时靶金对于平行位置呈30度角度，为时60秒，电流60mA。表面观察：扫描电子显微镜检查
得自于日本Tokyo市JEOL公司的型号为JSM-5400的扫描电子显微镜用来提供可剥离衬里、压敏粘结剂层、可剥离保护膜和透光覆盖膜之表面的显微图。表面观察：光学显微镜检查
得自于德国Bensheim市Reichert-Jung公司的型号为Polyver MET的光学显微镜用来获得可剥离衬里、可剥离保护膜、透光覆盖膜以及用来浇注压敏粘结剂层与透光覆盖膜的运动带之表面的显微图。拍摄照片时使用暗场入射光方式。平面度测量
采用至少下列一种装置测量压敏粘结剂层、透光覆盖膜以及包括压敏粘结剂层和透光覆盖膜的层叠物的厚度差异：
(i)购自德国Martinsried市Dr.Schenk GmbH公司的型号为Biref 126 SDVD的DVD测试仪，
(ii)购自德国Sternenfeld市STEAG Hama Tech AG公司的型号为ETA-DVD80的DVD测试仪，
(iii)购自美国MN州Minneapolis市Modern Control公司的型号为Profiler 140E的电容厚度测量仪。
分别用(i)或(ii)测量压敏粘结剂层的平面度时，先将压敏粘结剂层层压在两片圆盘形聚碳酸酯基片之间，基片平滑表面的直径为12cm，厚度为0.6mm，中心孔直径为15mm。一个基片的内表面上有铝涂层，另一个基片的内表面上有碳化硅(SiC)的半透明涂层。分别用Biref 126 S DVD测试仪(i)和ETA-DVD测试仪(ii)一点一点地测量厚度。，Biref测试仪在径向的最大分辨率为1mm，在切向的最大分辨率为2mm。厚度分辨率在1μm范围内。ETA-DVD测试仪在径向的最大分辨率为0.1mm，切向最大分辨率为0.1mm，厚度分辨率在25-120μm范围时为0.1μm。
透光覆盖膜的平面度用电容厚度仪Profiler 140 E(iii)测量。厚度分辨率为0.01μm，测试速度为1cm/sec。
在组装的光学存储介质中，透光覆盖板和压敏粘结剂层总厚度的平面度用ETA-DVD测试仪(ii)测量。将载有反射性铝层的一个小型圆盘形基片在真空结合装置60中与压敏粘结剂层4和透光覆盖膜5层压起来。粘合成的光盘具有0.2mm基片、反射铝层、压敏粘结剂层、透光覆盖层和可剥离保护膜，在除去可剥离保护膜后将其装在ETA-DVD测试仪上。该ETA-DVD测试仪由安装该光盘的转台、激光器/传感器系统和测量计算机单元构成。光学延迟
透光覆盖膜和压压敏粘结剂层产生的光学延迟用Biref 126 S DVD测试对组装的光学存储介质进行测量。可剥离保护膜脱离透光覆盖膜的180度剥离粘着力
用一个1kg的橡胶辊子施加手压，将相应的可剥离保护膜层试样压在厚度75μm的Pokalon OG46 GL聚碳酸酯透光覆盖膜上。此层叠物储存2小时，然后在60℃下作炉内老化1小时。切下1英寸(2.54cm)宽的试样，将此层叠物的外露的聚碳酸酯表面用购自美国MN州St.Paul市3M公司的双面压敏胶粘带Tape#444粘合在铝基材上。将相应的可剥离保护膜之外露表面的朝上一端翻开，用一片购自3M公司的压敏胶粘带包起来。将该整个装配物放置24小时。然后将铝板(铝基材)固定在一标准拉力试验机的下部夹子中，而将胶粘带固定在上部夹子中，使用100N的测力规。剥离试验速度为150mm/min。
                     制备实施例
实施例1
取瑞典Weil/Rhein市Lonza公司的商品名为“Pokalon OG46 GL”的厚75μm的溶剂浇注聚碳酸酯膜作为聚碳酸酯透光覆盖膜。该膜的平面度用光学显微镜以放大倍数600x进行定性估测。从Pokalon OG46 GL膜的两个主表面上拍摄的显微照片表明，表面很光滑，基本上没有缺陷。其表面粗糙度RZ约小于0.1μm。用140E Profiler测量的厚度差异，在横向任意选取的25mm距离上为0.32μm，在纵向任意选取的25mm距离上为0.05μm。
将一片合适的透光保护膜(约60cm×30cm)放置在一光滑PVC表面上。取3M公司的光学透明层压压敏粘结剂转移膜#8142作为压敏粘结剂层(无载体层，只为单一的粘结剂层)。该压敏粘结剂层用两个基本光滑的聚酯可剥离衬里(其表面粗糙度RZ小于2μm)保护之。该#8142压敏粘结剂层的厚度为50μm，厚度差异用Biref 126 S DVD测试仪测出为±2μm。该压敏粘结剂层的折射率为1.475，两个表面上的表面粗糙度约为0.5μm，其洁净度符合级别1000洁净室的要求。
提供一片合适的尺寸比透光覆盖膜大些的#8142压敏粘结剂层，它有两个胶粘带，其带头粘附在可剥离衬里上并延伸经过有衬里的压敏粘结剂层的周边，为的是便于除去可剥离衬里而不致污染压敏粘结剂层。除去下面的可剥离衬里后，该#8142压敏粘结剂层通过其外露表面层压到所述Pokalon OG46 GL聚碳酸酯膜上。其粘着面置于聚碳酸酯膜一个边缘的附近，用一个重1Kg的橡皮层压辊子通过手压将粘着面从该一个边缘到另一个边缘压到聚碳酸酯膜的外露表面上，其方式要使可剥离衬里上的外露粘结剂表面在层压辊子下输入时是绕着辊子向后弯折的，使得可剥离衬里对于其自身呈大约45度或更小的角度。这样，可剥离衬里上的柔性压敏粘结剂层的外露表面就施加到聚碳酸酯膜的外露表面上，其方式可防止在两个表面的界面上夹入空气泡。将所得的层叠物翻过来，使得其外露的可剥离衬里表面置于不锈钢基片上，而聚碳酸酯膜的一个表面外露。
然后，将一条3M公司提供的包括背衬并载有易剥离压敏粘结剂层的胶粘带(系列号2104 C)作为可剥离保护膜。取一片合适的尺寸大于聚碳酸酯膜的上述可剥离保护膜，采用重1kg的橡皮层压辊子用手施压，通过其压敏粘结剂层将可剥离保护膜层压到外露的聚碳酸酯膜上。
然后制备适合于制造记录容量为8 GB的DVR光盘的圆盘形基片，其材料为聚碳酸酯，外径为120mm，厚1.2mm，有个15mm直径的中心孔。其制法是，先形成一个母盘，然后搂EP 0,729,141 col.6，lns.14-46所述的步骤进行注塑成型。制得的圆盘形基片有一个平坦的第一主表面和与该第一主表面相背的第二主表面，第二主表面上有注塑成型产生的坑结构。按EP 0,729,141，col.6，lns 47-55所述的溅射法在第二主表面的坑结构上施加约50nm厚的铝层。
然后提供一块涂有硅尿素可剥离涂层且上面有个凹穴的聚胺板，其中凹穴用来在以后的层压过程中固定上述圆盘形DVR基片。在从包括可剥离保护层、透光覆盖膜、压敏粘结剂层和聚酯可剥离衬里的层叠物上除去聚酯可剥离衬里，并将DVR基片放入上述凹穴中并以其信息存储层朝上之后，将该层叠物的外露压敏粘结剂层置于DVR基片的一个边缘附近，采用重1kg的橡皮层压辊子用手施压将上述外层压敏粘结剂层从该一边缘逐步滚压到另一边缘，使其压合到外露的信息存储层上，此时如同上述采用大约45度或较小的层压角。
将所得的DVR光盘翻过来，使得可剥离保护膜置于上述聚胺基材板上，然后将粘附于基片之信息存储层的该层叠物的内边和外边用一个小手术刀沿基片的内周和外周进行切割。
将所得的DVR光盘翻过来，将一条胶粘带的带头粘附于可剥离保护层的外露表面上，以便除去该可剥离保护层。
如上所述，用ETA-DVD 80 DVD测试仪对该DVR光盘中的透光覆盖膜与压敏粘结剂层的组合测量其平面度。上述这两层总共的平均厚度为102.8μm，最小厚度为102.2μm，最大厚度为103.4μm，标准偏差为0.3μm。
所得的DVR光盘再测其平面度，是测量当Biref 126 SDVD测试仪的激光束由光盘的信息存储层反射时，该激光束的径向和切向的倾斜角。DVR光盘的光学延迟为±25nm。对比例1
将瑞典Weil/Rhein市Lonza公司的商品名为Triphan P91GL的厚50μm的三乙醋、酸纤维素膜用作透光覆盖膜。用Reichert-Jung公司的光学显微镜Polyvar MET对该膜进行的显微分析表明，膜的表面上分布有一些细小颗粒，它们是Triphan P91Gl膜制造和处理过程中所需的防粘剂(antiblockingagent)团聚物。由于细小颗粒会起散射中心的作用，故该Triphan P91GL膜没有用于制造DVR光盘。
实施例2
重复实施例1，不同的是使用3M公司的光学透明层叠压敏粘结剂#8141作为压敏粘结剂层。该层用两层基本光滑的聚酯可剥离衬里(表面粗糙度Rz小于2μm)进行保护，用Biref 126 S DVD测试仪测出的厚度为25μm±1.5μm。
此例重复三次，测量结果见表1。
表1
  试验   最小厚度(μm)   最大厚度(μm)   平均厚度(μm) 厚度标准偏差(μm)
    1     101.6     103.2       -       -
    2     101.3     102.4       -       -
    3     102.2     103.4     102.8      0.3
实施例3
重复实施例2，不同的是包括可剥离保护膜、透光覆盖膜和外露的压敏粘结剂层的层叠物与圆盘形基片的信息存储层外露表面的粘合是用本申请人共同待批的美国专利申请S.N09/065,295中描述的的轮子结合装置进行的。将载有信息存储层的圆盘形基片以及上述层叠物装在两个稍微弯曲的表面上，这两个表面的曲率对应于直径至少为1.2m的轮子的外曲率。以一定压力通过逆向旋转这两个曲面，使圆盘形基片的信息存储层与层叠物的压敏粘结剂层进行接触。这一过程能确保载有信息存储层的圆盘形基片的尚未粘合区以及该层叠物的未粘合区分别与曲面保持接触，而已粘合区则脱离相应的曲面。
在载有信息存储层的圆盘形基片与上述由压敏粘结剂层/Pokalon OG46GL聚碳酸酯膜/#8141压敏粘结剂层组成的层叠物进行层压以前，用Biref 126 SDVD测试仪对该基片测量垂直入射激光束的径向与切向倾斜度，并在用轮子结合装置进行层压以后，对获得的光学记录介质测量垂直入射激光束的径向与切向倾斜度。
由表2可见，在层压前径向倾斜角的平均跨度达0.50±0.10°，而层压后该值只稍微增至0.58±0.15°。同样，层压前切向倾斜角的平均跨度是0.35±0.06°，而层压后该值为0.43±0.09°。这一点表明，美国专利申请09/065,295所述的轮子结合方法只对光学记录介质的平面度引起很小且可接受的影响。
表2
    载有信息存储层的基片(层压前)     DvR光盘(层压后)
  试验   最小径向倾斜度(°) 最大径向倾斜度(°)   跨度(°) 最小切向倾斜度(°) 最大切向倾斜度(°)   跨度(°) 最小径向倾斜度(°) 最大径向倾斜度(°)   跨度(°) 最小切向倾斜度(°) 最大切向倾斜度(°)   跨度(°)
    1     -0.41     -0.04     0.37     -0.09     0.2     0.29     -0.24     0.41     0.65     -0.22     0.2     0.42
    2     -0.38     0.15     0.53     -0.22     0.19     0.41     -0.2     0.21     0.41     -0.14     0.2     0.34
    3     -0.4     0.1     0.5     -0.29     0.16     0.45     -0.19     0.08     0.27     -0.08     0.15     0.23
    4     -0.3     0.15     0.45     -0.1     0.13     0.23     -0.27     0.17     0.44     -0.26     0.2     0.46
    5     -0.39     0.14     0.53     -0.16     0.21     0.37     -0.35     0.26     0.61     -0.16     0.18     0.34
    6     -0.22     0.11     0.33     -0.16     0.17     0.33     -0.09     0.33     0.42     -0.17     0.24     0.41
    7     -0.27     0.24     0.51     -0.01     0.28     0.27     -0.14     0.41     0.55     -0.22     0.16     0.38
    8     -0.2     0.25     0.45     -0.16     0.19     0.35     -0.17     0.38     0.55     -0.17     0.26     0.43
    9     -0.28     0.33     0.61     -0.19     0.2     0.39     -0.28     0.4     0.68     -0.14     0.22     0.36
    10     -0.45     0.27     0.72     -0.22     0.22     0.44     -0.33     0.45     0.78     -0.28     0.27     0.55
    11     -0.3     0.13     0.43     -0.15     0.24     0.39     -0.21     0.39     0.6     -0.21     0.32     0.53
    12     -0.3     0.22     0.52     -0.15     0.15     0.3     -0.2     0.4     0.6     -0.24     0.23     0.47
    13     -0.31     0.28     0.59     -0.14     0.23     0.37     -0.17     0.67     0.84     -0.29     0.26     0.55
    14     -0.21     0.19     0.4     -0.12     0.16     0.28     -0.15     0.55     0.7     -0.29     0.24     0.53
    平均     -0.32     0.18     0.50     -0.15     0.20     0.35     -0.21     0.37     0.58     -0.21     0.22     0.43
    标准偏差     -0.08     0.09     0.10     0.07     0.04     0.06     0.07     0.15     0.15     0.06     0.04     0.09
实施例4
提供下列的可剥离保护膜：
a)按实施例1所述，通过混合挤压获得一双层结构的可剥离保护层，它包括的第一层是50wt.％聚丙烯PPC 8750(购自Fina Deutschland GmbH公司，Blichstr.2-4，D-60313 Frandkfurt，德国)与50wt.％低密度聚乙烯LD0304(购自ELF Atochem Deutschland GmbH公司，Fersteegenstr.28，D-40401Duesseldorf，德国)的聚合物混合物，此第一层的厚度为50μm，其第二层是EVA共聚物Evatane 2803(购自ELF Atochem Deutschland GmbH公司)，其厚度为26μm。此可剥离保护膜具有PPC 8750/LD 0304聚合物层的无光表面和Evatane的光滑自粘附表面。
b)按a)所述的过程，通过混合挤压获得双层结构的可剥离保护层，其第一层是厚50μm的低密度聚乙烯LD 0304，第二层是共聚物Evatane 2803。此可剥离保护层具有LD 0304层的光滑表面和Evatane 2803层的光滑自粘附表面。
c)从德国Lengerich市Bischof & Klein公司获得商品名为“GH-X173”的可剥离保护层叠膜，它包括两个聚合物层，其中一层具有处粘附性能。该膜厚50μm，其两个主表面均光滑。
d)从3M公司获得胶粘带#2104 C作为可剥离保护膜，它包括一层背衬，并载有一层易剥离压敏粘结剂层。该背衬的露出表面是光滑的。
e)从德国Nitto Deutschland GmbH公司(Am Sandbach 34，D-40878Ratingen)获得胶粘带5057 A5作为可剥离保护膜，它包括一层载有易剥离压敏粘结剂层的背衬。该背衬的露出表面是光滑的。
如上所述测量上述每一种可剥离保护膜脱离Pokalon OG46 GL聚碳酸酯膜的180度剥离粘合力。测量结果见表3。
                                        表3
                           180°剥离粘合力(cN/2.54cm)
    可剥离保护膜沿层压方向从聚碳酸酯膜上剥离     可剥离保护膜在垂直层压方向从聚碳酸酯膜上剥离
  可剥离保护膜 测量次数   平均值 标准偏差 测量次数   平均值 标准偏差
    a     10     9.01     2.7     6     6.6     0.6
    b     4     12.51     7.6     -      -      -
    c     4     8.0     6.0     6     4.9     0.7
    d     4     46.4     10.4     -      -      -
    e     4    102.9     16.7     -      -      -

Claims (11)

1.一种可用光束从中读出信息和/或将信息记录进去的光学存储介质，所述光学存储介质包括一层或多层基片，在光束入射的基片一侧载有一层或多层信息存储层和至少一层透光覆盖膜，其特征在于，所述覆盖膜通过一层或多层透光压敏粘结剂层相互粘合，并粘合于光束入射的基片表面，和/或粘合于一层或多层信息存储层。
2.如权利要求1所述的光学存储介质，其特征在于，包括一个基片，该基片表面上有一坑结构，在此坑结构上形成一信息存储层。
3.如权利要求2所述的光学存储介质，其特征在于，包括一个透光覆盖膜，此覆盖膜通过透光压敏粘结剂层粘合到基片表面上的信息存储层上。
4.如权利要求1所述的光学存储介质，其特征在于，所述透光覆盖膜是将溶解于一种溶剂的聚合物和/或聚合物的可聚合前体物质进行浇注，随后干燥和/或固化而形成的。
5.如权利要求4所述的光学存储介质，其特征在于，所述溶解在溶剂中的聚合物选自由聚碳酸酯、三乙酸纤维素和聚二环戊二烯组成的聚合物组。
6.如权利要求1所述的光学存储介质，其特征在于，所述透光覆盖膜的厚度为10-200μm。
7.如权利要求1所述的光学存储介质，其特征在于，所述透光压敏粘结剂层的厚度为10-100μm。
8.如权利要求1所述的光学存储介质，其特征在于，所述每一透光覆盖膜厚度的差异和/或由每一透光覆盖膜引起的光学存储介质的厚度差异，在该光学存储介质整个平面范围内对任意选择的截面进行测量时，不大于约±3μm。
9.如权利要求1所述的光学存储介质，其特征在于，所述每一透光压敏粘结剂层的厚度差异和/或由每一透光压敏粘结剂层引起的光学存储介质的厚度差异，在该光学存储介质整个平面范围对任意选择的截面进行测量时，不大于约±3μm。
10.如权利要求1所述的光学存储介质，其特征在于，它包括一层透光覆盖膜和一层透光压敏粘结剂层，其中透光覆盖膜的厚度差异或因其引起的光学存储介质的厚度差异分别与透光压敏粘结剂层的厚度差异或因其引起的光学存储介质的厚度差异之和，在该光学存储介质整个平面范围对任意选择的截面进行测量时，不超过±5μm。
11.一种制备如权利要求1所述的光学存储介质的方法，其特征在于，包括如下步骤：
(1)提供至少一个基片，基片具有一个光束入射的表面，所述表面可以选择包括一个坑结构，此坑结构上载有一信息存储层；
(2)在两个辊子中间按所给定的顺序层压两个层叠物，其中一个层叠物包括至少一层透光覆盖膜和一层可剥离保护膜，另一个层叠物包括至少一层压敏粘结剂层和一层可剥离衬里，其中所述透光覆盖膜的内表面可以选择具有一个载有信息存储层的坑结构；
(3)去除所述可剥离衬里，产生可粘合的层叠物；
(4)将上述层叠物层压在基片表面上的信息存储层的表面上。
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Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002074749A (ja) * 2000-08-30 2002-03-15 Sony Corp 光学記録媒体およびその製造方法
TW583660B (en) * 2001-01-25 2004-04-11 Koninkl Philips Electronics Nv Optical information medium and a method of manufacturing the medium
US6773649B2 (en) * 2001-02-16 2004-08-10 General Electric Company Film extrusion process for producing thermoplastic film
US7300690B2 (en) 2001-03-29 2007-11-27 General Electric Company Radial tilt reduced media
TWI242206B (en) 2001-06-22 2005-10-21 Fuji Photo Film Co Ltd Optical information recording medium
JP3912058B2 (ja) 2001-08-21 2007-05-09 ソニー株式会社 光ディスクおよびその製造方法
US6716505B2 (en) 2001-08-31 2004-04-06 General Electric Company Storage medium for data with improved dimensional stability
US7341820B2 (en) 2001-11-30 2008-03-11 Fujifilm Corporation Optical information recording medium
EP1324328A3 (en) * 2001-12-14 2007-04-04 FUJIFILM Corporation Method for producing an optical information recording medium
JP4229613B2 (ja) * 2002-01-09 2009-02-25 リンテック株式会社 光ディスク用保護フィルム及びそれを用いた光ディスク
EP1331635A3 (en) * 2002-01-23 2003-12-17 Fuji Photo Film Co., Ltd. Optical information recording medium
JP2003331472A (ja) * 2002-03-07 2003-11-21 Fuji Photo Film Co Ltd 光情報記録媒体
KR100971442B1 (ko) 2003-01-14 2010-07-21 코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. 광 데이터 저장매체의 제조방법, 광 데이터 저장매체와,상기 방법을 수행하기 위한 장치
JP4133539B2 (ja) 2003-04-18 2008-08-13 リンテック株式会社 光記録媒体製造用シートおよび光記録媒体
DE10335620A1 (de) * 2003-08-04 2005-03-03 Basf Coatings Ag Verfahren zur Herstellung von Kunststoffformteilen mit funktionalen Oberflächen
US7244813B2 (en) 2003-08-26 2007-07-17 General Electric Company Methods of purifying polymeric material
US7354990B2 (en) 2003-08-26 2008-04-08 General Electric Company Purified polymeric materials and methods of purifying polymeric materials
US7041780B2 (en) 2003-08-26 2006-05-09 General Electric Methods of preparing a polymeric material composite
US7256225B2 (en) 2003-08-26 2007-08-14 General Electric Company Methods of preparing a polymeric material
IN266857B (zh) * 2004-04-22 2015-06-09 Mitsubishi Kagaku Media Co Ltd
JP4658616B2 (ja) * 2005-01-07 2011-03-23 リンテック株式会社 光ディスク用保護フィルム及びそれを用いた光ディスク
CN102163394B (zh) 2006-07-14 2013-12-25 迪睿合电子材料有限公司 图像显示装置、树脂组成物及树脂固化物层
CN101675461B (zh) 2007-04-09 2013-11-13 迪睿合电子材料有限公司 图像显示装置
JP2009186957A (ja) 2007-04-09 2009-08-20 Sony Chemical & Information Device Corp 樹脂組成物及び表示装置
JP5401824B2 (ja) 2007-04-09 2014-01-29 デクセリアルズ株式会社 画像表示装置
JP5470735B2 (ja) 2007-04-10 2014-04-16 デクセリアルズ株式会社 画像表示装置の製造方法
JP5343391B2 (ja) 2007-07-17 2013-11-13 デクセリアルズ株式会社 樹脂組成物及び画像表示装置
CN101743507B (zh) 2007-07-17 2014-03-05 迪睿合电子材料有限公司 图像显示装置及其制造方法
KR100945846B1 (ko) * 2008-04-16 2010-03-12 비전하이테크 주식회사 도광판 진공성형 장치 및 진공성형 방법
JP5307738B2 (ja) * 2010-01-18 2013-10-02 有限会社都波岐精工 フィルム貼付装置およびフィルム貼付方法
CN111907050B (zh) * 2020-08-05 2022-02-22 广东华中科技大学工业技术研究院 一种旋转多工位曲面贴合装置

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5766538A (en) * 1980-10-08 1982-04-22 Toshiba Corp Information storage medium
FR2524186B1 (fr) * 1982-03-23 1989-02-24 Thomson Csf Disque optique protege comprenant un element souple de fermeture
JPS60125945A (ja) * 1983-12-13 1985-07-05 Daicel Chem Ind Ltd 高密度情報記録担体およびその製造法
JPS62204450A (ja) * 1986-03-03 1987-09-09 Fujitsu Ltd 光デイスク
JPH07107753B2 (ja) * 1986-09-05 1995-11-15 キヤノン株式会社 カ−ド状情報記録媒体
EP0287394B1 (en) * 1987-04-16 1994-03-02 Canon Kabushiki Kaisha Process for producing optical recording medium
JPH083916B2 (ja) * 1987-05-29 1996-01-17 松下電器産業株式会社 光カ−ド
JPH01146916A (ja) * 1987-12-04 1989-06-08 Hitachi Ltd 光デイスク基板用メタクリル樹脂
JP2545253B2 (ja) * 1987-12-19 1996-10-16 藤森工業株式会社 光カードの光記録層保護用積層体
EP0384041B1 (en) * 1989-02-24 1994-06-29 Agfa-Gevaert N.V. Process for the production of a heat-mode recording material
US5312714A (en) * 1991-08-02 1994-05-17 Canon Kabushiki Kaisha Optical recording medium, process for producing recording medium, and information recording method
JPH09237440A (ja) * 1995-12-28 1997-09-09 Nitto Denko Corp 光記録媒体およびその製法
JPH10208319A (ja) * 1997-01-28 1998-08-07 Kitano Eng Kk ディスク基板の貼り合わせ方法
JP3062452B2 (ja) * 1997-04-24 2000-07-10 株式会社リコー 光ディスク

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Publication number Publication date
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CN1357142A (zh) 2002-07-03
MXPA01010620A (es) 2002-06-04

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