CN1561517A - 光存储介质 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及可以读出和/或写入信息的光存储介质，该信息可以用光束记录(6)，所述的光存储介质在光束所入射的基本部件(1)的一面上包括一个或多个基本部件(1)，一层或多层信息存储层，至少一层透光覆盖薄膜和将所述覆盖薄膜互相粘结起来的一层或多层透光粘合层(4)，所述的粘合层中至少一层可以通过将所述粘合剂的可固化液状前体经过其后的固化而获得，所述覆盖薄膜(5)的20℃垂直二次光折射率至少在所述光束(6)的波长或波长频谱处分别少于0.001。

Description

光存储介质
发明领域
本发明是涉及光存储介质，特别是涉及数字视频可录盘(DVR)，信息可以读出和/或写入，信息可以用光束记录，所述的光存储介质包括至少位于光束所入射的基本部件的一面上的基本部件，一层或多层可读和/或可记录的信息存储层，及一层或多层透光覆盖薄膜。本发明进一步涉及制造光存储介质的方法，特别是涉及数字视频可录盘(DVR)。
发明背景
DVR盘显示了高存储能力，使之能用于数字记录和存储。
在例如EP 0,729,141，EP 0,867,873和EP 0,874,362中描述了DVR盘的典型结构和格式。
DVR盘通常包括盘形的基底或位于一层或两层主表面上的基本部件，信息储存层包括槽脊和凹槽的结构。DVR盘还包括用在信息储存层的透光覆盖薄膜。
在待审批的由本申请人在1999年4月22日申请的欧洲专利申请EP 99 107975.7中揭示了，与线偏振光相比可以改善光学储存介质和特别是DVR的传导，是通过使用基本上光学各向同性的透光覆盖薄膜来实现的，最好使用照射光束在至少20℃和至少分别在波长或波长频谱下其垂直二次光折射少于0.001。在EP 99 107 975.7中进一步揭示了这种透光覆盖薄膜是通过一层或多层压敏粘合层互相粘合到光束所入射的基本部件表面上和/或信息储存层上。为了能方便固化，压敏粘合层的厚度最好为10-100微米。在更复杂包含一层以上透光覆盖薄膜组成的DVR类型光记录介质的结构中，需要两个或多层压敏粘合层，这样由于压敏粘合层相对较厚，使得这种光学记录介质总传输出现不适宜的下降。而且，光学记录介质厚度差异的综合值可能不适宜地变高。
所以，本发明的目的是提供除了EP 99 107 975.7中揭示的以外制备光学记录介质例如DVR的供替换的方法。用此供替换方法提供例如DVR光存储介质是本发明的另一层目的。
本发明的其它目的从所公开的详细说明中可显而易见。
发明概述
本发明涉及可以读出和/或写入信息的光存储介质，该信息可以用光束记录，所述的光存储介质在光束所入射的基本部件的面上包括一个或多个基本部件，一层或多层信息存储层，至少一层透光覆盖薄膜和将所述覆盖薄膜互相粘结起来的一层或多层透光粘合层，所述粘合层中至少一层可以通过将所述的粘合剂的可固化液状前体经过随后的固化而获得，所述覆盖薄膜的20℃垂直二次光折射率至少在所述光束的波长或波长频谱处分别少于0.001。
本发明还涉及上述制备光记录介质的优选方法，它包括：
(1)提供至少一层基本部件，光束入射到它的一层表面，所述的表面光学上包括支持信息储存层的凹陷结构；
(2)提供多层薄膜，以给定的次序包括可剥离的保护薄膜，光透射覆盖薄膜、以及任选地通过一层或多层透光粘合层互相粘结起来的一层或多层透光覆盖薄膜，所述光透射覆盖薄膜任选地包含位于信息储存层的凹陷结构的内表面；
(3)将透光粘合剂的可固化液状前体加到基本部件的至少一层表面上和多层薄膜暴露的内表面上，及
(4)用多层薄膜组装基本部件，并通过因在透光粘合剂的可固化液状前体将它们互相粘结起来。
附图简要说明
图1a是示意图，示出了本发明包括基本部件1和光束6所入射的表面2的光学记录介质具体实施方式，它包含形成信息储存层3的一部分的槽脊和凹槽结构，所述光存储介质进一步包括透光覆盖薄膜5，它通过透光粘合层4与信息储存层3相连。
图1b是示意图，示出了本发明的光学记录介质的另一具体实施方式，它包括基本部件1以及包含形成第一层信息储存层3a的一部分槽脊的和凹槽结构的表面2，所述光存储介质还包括光束6所入射的透光覆盖薄膜5和包含形成第二个信息储存层3b一部分的槽脊和凹槽结构的表面9，它通过透光粘合层4与信息储存层3a相连。
应该注意，这些图仅是示意图并且特别是未按比例画。在图1a中，基本部件1一般的厚度是与透光覆盖薄膜5的厚度在同一数量级或者大于它，其中凹槽的深度通常为5-50nm，因此与基本部件1相比可以忽略不计。
发明的详细说明
上下文中，术语“薄膜”和“层”交换地使用，并是指在X-Y平面的尺寸比Z方向的尺寸(即与它的厚度相比)大(即至少例如3倍或更大)的制品。
本发明光储存介质包括至少一个在光束所入射的基本部件的一面上的基本部件，一层或多层可读和/或可记录的信息存储层，至少一层透光粘合层和至少一层透光覆盖薄膜，所述粘合层中至少一层是通过所述粘合剂的可固化液状前体并随后进行固化而获得的。
图1a示出了作为例子的本发明光存储介质的具体实施方式的横截面示意图，该介质包括位于光束6所入射的主表面2的一面上的基本部件1，形成信息储存层3的一部分的槽脊和凹槽结构。信息储存层3通过透光粘合层4粘结到透光覆盖薄膜5，透光粘合层4是通过涂覆所述粘合剂的可固化液状前体并随后进行固化而获得的。
本发明所用的光学储存介质更复杂的结构在例如参考结合于此的EP0,867,873中描述。光存储介质可以包括，例如，互相排列在基底的一层或两个主表面上的两层或多层的信息储存层3。图1b示出了一种结构，它由两个存储层3a，3b组成，分别用于基本部件的内表面和透光覆盖薄膜的内表面9。
基本部件1可以是任意形状，但最好是一层中心有孔的盘，以便在记录或播放装置中确定所安装的光学储存介质的中心。基底的盘或环面最好有约10到约360mm的外径和中心孔约为5到约35mm的内径，厚度最好在0.3和3.0mm之间，尤其宜在0.5和1.5mm之间。基底最好由聚合材料组成，例如丙烯酸类树脂、聚碳酸酯、环氧树脂、环状烯烃共聚物和聚烯烃。最好是硬塑料，例如甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯或热稳定的共聚碳酸酯(polyester cocarbonate)。
基底可以包括一种结构，该结构可以在它的主表面上分别包括一层或两个凹陷部分(或凹槽)和突出部分(或槽脊)，通常统称为凹陷。在例如参考结合于此的EP 0,874,362或EP0,867,873中揭示了为了将连续的槽脊和凹槽之间的光串扰减少到最少，凹陷的典型尺寸包括光的波长、透光层折射指数和凹槽的深度之间的关系。磁道间距是在相邻物理磁道的中心线之间沿径向方面测量所得的距离，宜为0.64μm或更小，更宜是0.32μm或更小。
凹陷结构可以分别构成一层或多层基本部件的一层或两层表面。在EP0,729,141的第四页，14-46行中所描述的方法通常包括主盘形成步骤(如EP‘141的4A-4G示意图所示)和注模步骤(在EP‘141的图5A-5B中所示)；EP‘141参考结合于此。不过，也有可能在透光覆盖薄膜中获得凹陷结构，方法是将加热到高于它的玻璃化转变温度的透光覆盖薄膜在两个滚筒之间通过，两个滚筒至少一层具有图案结构。该技术在EP0,867,873的图10中用示意图示出，其中透光覆盖薄膜在滚筒和冲压机之间通过。这样，透光覆盖薄膜可以粘结到基本部件或一层或多层其它透光覆盖薄膜上，它任选地具有凹陷结构，方法是通过一层液状、可固化粘合剂并随后进行固化，这样可以获得多样的有信息储存层的光学储存介质。通过以下描述的聚合铸塑技术将透光覆盖薄膜的可涂覆和可聚合前体加到适当成型的具有图案结构的基本部件上，然后聚合并将可固化透光覆盖薄膜从这样的基本部件上除去，这样可以获得有凹陷结构的光学储存介质。
信息储存层3的结构取决于是否允许读出和/或记录。
如果光学储存层是ROM类型，信息储存层3可以包括有Al，Au等反射薄膜凹陷结构，其厚度通常为20-60nm，并可以通过例如溅射喷涂而获得。
可记录的光学储存介质可以是相转变型或磁光型。按照EP0,867,873，相转变型信息储存层可以通过在凹陷结构上连续形成反射膜，例如铝薄膜、GeSbTe薄膜和ZnS-SiO2薄膜而获得。在例如EP0,874,362中描述了更复杂的相转变型信息储存层。磁光型信息储存层3包括，例如，有如铝薄膜，SiN薄膜，TbFeCo薄膜和SiN薄膜的(按此顺序)反射膜的凹陷结构。
一次写(write-once)类型的信息储存层可以通过例如将薄的铝、铜或其它金属的反射膜加到凹陷结构而获得，然后涂上有机着色薄膜而获得。
上述信息储存层仅是通过例子而得出的。本发明光学储存介质可以包括信息储存层其它和/或改进的结构。
本发明人发现，有优势的光学储存介质可以通过将这种介质与一层或多层透光粘合层结合起来而获得，这样的透光粘合层中至少一层是通过涂覆这种粘合剂可固化的液状前体并随后进行固化而获得的。另一透光粘合层，如果有的话，可以涂覆粘合剂的可固化液状前体并随后进行固化而获得，或者这些也可以是压敏粘合层。当压敏粘合层通常储存在隔离衬垫之间，这些衬垫必须在将压敏粘合层附在或碾压到压敏层之前去除和丢弃，透光粘合剂的可固化液状前体的使用不需要这种额外产生废物的步骤。典型的压敏粘合层的最小厚度约10μm，以避免在固化期间撕破和/或其它机械变形，而可以涂上较薄的层例如5μm或更少的可固化液状前体。例如，在由两个或多层透光覆盖薄膜组成的光学透明介质中，为了将由于隔离层的存在引起的传输损失减少到最小和/或将光存储介质的厚度的总差异减小到最少，可以使用薄的粘合层。
图1a中示出的光存储介质的具体实施方式仅包括一层透光粘合层4，它将透光覆盖薄膜5连接到信息储存层3，其中所述的粘合层是通过使用粘合剂的可固化前体来进行处理的。本发明的另一光学储存介质包括两个或更多的信息储存层。光学储存介质的具体实施方式在图1b中示出，也仅包括一层透光粘合层4，它在光束6所投射的透光覆盖薄膜5上将具有第一层信息储存层3a的基本部件1粘结到第二个信息储存层3b，所述粘合层是通过涂覆粘合剂的可固化前体并随后进行固化而得到的。
粘合剂或者通过各可固化前体而获得的粘合剂，如果有的话，压敏粘合层或多层粘合层需在入射光束6的波长光学上透明或透光，信息从光学储存介质上读出和/或记录到其中。产生光束6的合适的光源包括那些具有例如在400-700nm波长范围内发射光谱的激光，对红光来说宜在600-660nm，对蓝光来说宜在400-420nm。也可以使用具有合适的单色滤波器如干扰滤波器的多色光源。压敏粘合剂在入射光束的波长处的光透明性或光传导是可以测量的，例如，按照ASTM D1746，较佳是至少80％，最好是至少85％。
透光粘合剂的可固化前体最好是通过将它暴露在如紫外光(UV)、伽马(γ)射线或电子-光束辐射的照射下进行固化。透光粘合剂的可固化前体至少包括一层或多层可照射固化的化合物及一层或多层聚合引发剂。
合适的可照射固化的化合物包括具有双键的单体、低聚物和预聚物，在受到例如电子光束或紫外光照射时变得可反应的。优选包含至少一层丙烯酸基团
Figure A0181786400091
可照射固化的化合物。尤其优选包含至少一层(甲基)丙烯酰基团
可照射固化的化合物。
适于本发明中的可照射固化化合物宜选自包括羟基、羧基、或羧酸酯改性烷基或烷氧基丙烯酸脂、丙烯酸氨基甲酸乙酯，环氧丙烯酸脂和丙烯酰胺。
尤其优选的是包括至少一层N-乙烯基的可照射固化的化合物。适于本发明的包含可辐射固化的单体的优选N-乙烯基包括例如N-乙烯基己内酰胺、N-乙烯基吡咯烷酮和N-乙烯基咪唑。
本发明中适合的聚合引发剂包括在紫外、γ射线或电子光束辐射下能产生自由基的任何常规聚合引发剂。可作示范的聚合引发剂包括苯偶姻醚-光引发剂，如苯偶姻异丙基醚和苯偶姻异丁基醚；二苯甲酮光引发剂，诸如二苯甲酮、P-甲氧基二苯甲酮和P-溴代苯并-苯酚；乙酰苯光引发剂，例如苄基甲基缩酮、2，2-二乙氧基乙酰苯酚，和1，1-二氯乙酰苯酚；噻吨酮光引发剂，例如2-氯代噻唑酮；醌光引发剂，例如蒽醌(anthoraquinone)和酚蒽醌(phenanthoraquinone)；硫醚光引发剂，例如苄基硫醚和四甲基硫醚；以及取代α酮醇，例如2-甲基-2-羟基苯基·乙基酮。市售光引发剂包括Irgacure 819和Darocur 1173(均可从美国纽约的Hawthorne的Ciba-Geigy公司获得)，TPO(可从美国新泽西Parsipannyd BASF获得)和Irgacure 651，可从Ciba-Geigy公司获得且被认为是2，2-二甲氧基-1，2-二苯乙基-1-酮，也可以使用共聚光引发剂。
聚合引发剂使用时的数量是能有效地使可照射固化的化合物聚合。这个量将会根据情况变化，例如，聚合引发剂的类型和/或它的分子量。聚合引发剂的使用量可以可照射固化的化合物的质量计约为0.001-5重量份。优选的用量为0.05-3重量份。
以上提到的可照射固化的化合物和聚合引发剂化合物仅是示范作用，也可以使用其它化合物。
透光粘合剂的可照射固化的化合物还包括照射活性的化合物，例如交联剂或链转移剂或照射惰性或不反应化合物和粘合剂，例如，诸如疏水或亲水二氧化硅或抗氧化剂填料。
如果存在的话，所述交联剂的浓度宜较低，以透光粘合剂的可固化前体的重量计，少于0.50重量份。尤其优选可固化前体不包括交联剂。有用的交联剂包括，例如，就像US4,379,201揭示的多官能团丙烯酸脂，或US4,737,559揭示的可共聚的芳族内酯低聚物。
照射惰性或不反应化合物或粘合剂的量，以透光粘合剂的可固化前体的质量计，较佳的是少于25重量份，最佳的是少于10重量份。
选择透光粘合剂的可固化前体的化合物，使前体在没有溶剂的室温下粘度为10-10,000mPa·s，宜为50-8,000mPa·s，尤其宜为100-5,000mPa·s。当透光粘合剂的可固化前体的粘度少于约10mPa·s，这种前体在涂覆随后以及在辐射照射之前可能从基底的圆周部分滴下，所以使可固化粘合层的厚度变得不均匀。另一方面，当粘度大于10,000mPa·s，将会引起涂层厚度的不均匀，从而使得可固化粘合层厚度不均匀。
最佳的是，选择透光粘合剂的可固化前体的化合物，使得前体或产生的粘合剂能够将基底和/或相应的层分别以不多于一分钟和宜为1-20秒内粘结起来。
在透光粘合剂的可固化前体和固化之后的粘合剂与如金属反射层粘结起来这种情况下，需要选择粘合剂和前体，使得能抑制或避免腐蚀。
本发明适于在光学储存介质上使用的透光粘合剂的可固化前体在已有技术中揭示了。待审批专利申请的JP 160,083/99，题为“已有粘合剂组合物以及用它制备的光盘”，由本发明申请人在1999年6月7日申请的，揭示了透光粘合剂的可照射固化的前体，包括(1)有聚(四亚甲基乙二醇)骨架的丙烯酸氨基甲酸乙酯，(2)其分子中有羟基的丙烯酸酯和(3)光引发剂。待审批专利申请的U.S.S.N.09/324,148，题为“聚碳酸酯制品和粘合剂组合物”，由本发明申请人在1999年6月2日申请的，揭示了透光粘合剂的可固化前体，包括其中包含含有单体的N-乙烯基和具有4-20个碳原子的烷基的非叔醇的丙烯酸酯单体。U.S.S.N.09/324,148和JP 160,083/99所揭示的透光粘合剂的可固化前体表现出有优势的粘合剂固化特性，固化后的粘合剂对激光的高透明性，对金属薄膜有促进作用的腐蚀特性和粘性在所要的10-10,000mPa·s粘性范围内，所以尤其优选用于本发明光存储介质中。本发明中所用的透光粘合薄膜的另一层可固化前体在US 5,445,855中予以揭示。
本发明的光存储介质包括一种或更多的透光覆盖薄膜，所述薄膜任选地在一层或两层主表面上具有凹陷结构。本发明人发现，通过在这种存储介质上使用在20℃室温和分别用作记录和/或读出信息的光束6的至少在波长处或波长频谱时，一层或多层基本上光学各向同性且宜是具有少于0.001，更好是少于8×10-4的垂直双折射的透光覆盖薄膜，尤其适宜的是少于6.5×10-4可以获得具有重复性的高穿透性的光存储介质，尤其是相对于线偏振光。
在已有技术中，已经描述了基本上光学各向同性且垂直双折射值低的透光聚合薄膜，但是到目前为止提供具有高性能的光存储介质、优良的光学特性和特别是对线偏振光的高穿透性的重要性还没有认识到。
对给定的一片在X和Y方向延伸的平面和在Z方向有厚度的聚合薄膜来讲，垂直双折射是在与薄膜垂直的平面，如Z方向折射率和与薄膜平面平行的两个主要平面，如包含X方向和Y方向的平面的折射率的平均值的之间的差。垂直折射率是使用以下描述的测量方法测量得到的，在20℃室温，最好使用激光源，激光源也可以分别用作从光学储存介质记录和/或读出信息。可以使用的激光源包括例如在400-700nm的波长范围里有发射光谱线。也可以使用单色滤波器的多色光源。
本发明的光存储介质中分别使用的透光覆盖薄膜宜在20℃室温和光束用于记录和/或读出信息的波长或波长频谱处少于±30nm的面内延迟(in-planerefardation)，较佳的是少于±25nm，最好是少于±15nm。使用下列描述的测量方法测量平面内延迟，即使用DVD测试器“普罗米修斯MT136”，商业上可以从德国Martinsried的Schenk GmbH博士获得。面内双折射是将面内延迟值除以透光覆盖薄膜的厚度而获得。
在EP 99 107 975.7中揭示基本上光学各向同性且示垂直双折射值低和可选择平面内双折射的透光覆盖薄膜，可以使用例如溶剂铸塑，特别是聚合铸塑技术来获得。在待审批由本申请人在2000年10月24日在EPO提出的欧洲专利申请题为“光存储介质”中予以揭示了透光覆盖薄膜也可以通过挤料技术而获得。
由溶剂铸塑形成的透光覆盖薄膜的制备方法包括，当信息储存层包括在透光覆盖薄膜中时，将聚合物溶解在溶剂里、将溶液分别倾倒到平滑的基底或微结构的表面，并通过蒸发溶剂将聚合物固化。优选聚合物包括，例如，聚碳酸酯、三醋酸纤维素和聚烯烃基聚合物，例如聚双环戊二烯或降冰片烯/双环戊二烯/甲基丙烯酸甲酯三元共聚物。合适的溶剂包括例如二氯甲烷、二氧戊环、环己酮、四氢呋喃、二噁烷以及它们的组合物。
由聚合铸塑形成的透光覆盖薄膜的制备方法包括可涂覆的、浆状前体的制备，它一般包括在过量的单体或低聚物中部分聚合的可固化前体溶液。然后该溶液放到平滑的基底，并聚合以提供透光覆盖薄膜。该技术允许形成均聚物或共聚物。为了调节它的粘性和/或修改所形成透光覆盖薄膜特性，可混合一种或几种聚合物成可聚合前体。为了调节它的粘性和可涂覆性，可聚合前体包括一种或几种溶剂，但是最好使用无溶剂的可聚合前体。可聚合前体最好包括至少一层有丙烯酸官能团的单体，当它聚合时，玻璃化转变温度至少为10℃。较佳的是从约10℃到约140℃，更好的是从约20℃到约110℃，尤其好的是从约40℃到约100℃，及/或者不易碎。
由可聚合前体的聚合而获得的透光覆盖薄膜是刚性或柔软的。正如在此所使用的，术语“刚性”意思是抗伸展、抗变形和尺寸上稳定。特别是，透光覆盖薄膜在室温下其拉伸模量大于1,380MPa(每平方英寸200千磅)、更好的是大于2,070Mpa(300kpsi)和最好是大于2,760MPa(400kpsi)。
透光覆盖薄膜的拉伸模量是按照ASTM测试方法D-822-88使用10.2cm(4英寸)标准长度和5.1cm/min(2英寸/分钟)而确定的。
如在此使用的，术语“柔软的透光覆盖薄膜”是指拉伸模量少于1,380Mpa(＝200kpsi)和室温下拉伸延长度大于50％、最佳的是大于150％的薄膜。拉伸模量和拉伸延长度是按照ASTM测试方法D-822-88使用10.2cm标准长度和12.7cm/min(5英寸/分钟)而测定的。此处使用的“拉伸延长度”是在所指的拉伸测试过程中柔软的材料断裂时的延长度。
优选分别具有刚性或柔软性规定值的透光覆盖薄膜。不过，上述的拉伸测试过程仅仅用来检查透光覆盖薄膜测试样品的机械特性。本发明光存储介质中是不使用这样的测试样品的。本发明光存储介质中使用的透光覆盖薄膜必须固化为尽可能无压力以使得这种薄膜不具有光学各向异性。所以，本发明中的透光覆盖薄膜不应易于拉伸。
选择透光覆盖薄膜的可聚合前体的单体成分最好使得产生的透光覆盖薄膜在室温时不粘的。不过，粘的透光覆盖薄膜也可以有用，例如，如果本发明光学记录介质，特别是DVR是装在卡盘中时。本发明所用的单体包括丙烯酸烷基酯，其烷基平均有2-24个原子。术语“平均有2-24个原子”是指丙烯酸烷基酯化合物的碳原子平均数在4-24之间，宜为4-12个碳原子，更好是4-10个碳原子。有用的丙烯烷基酸酯(即丙烯酸烷基酯单体)包括线型或支链的单官能团不饱和丙烯酸酯或非叔烷基醇的甲基丙烯酸酯，它们的烷基有2-24个碳原子、特别是2-20个碳原子。发明中使用的这些低级丙烯烷基酸酯包括但是不限于丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丁丙烯酸n-丁酯、丙烯酸异丁酯、丙烯酸己酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸n-辛酯、甲基丙烯酸n-辛酯、丙烯酸2-甲基丁酯、丙烯酸异壬酯、丙烯酸n-壬酯、丙烯酸异戊酯、丙烯酸n-葵酯、丙烯酸异葵酯、甲基丙烯酸异葵酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸4-甲基-2-戊酯、丙烯酸十二烷基酯、丙烯酸十六烷基酯、丙烯酸十八烷基酯和丙烯酸二十烷基酯。优选的低级丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯包括丙烯酸异辛酯、丙烯酸n-丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸异壬酯和丙烯酸十二烷基酯。透光覆盖薄膜的可聚合前体最好包括最多5个，特别是1-4个烷基。如上所规定的丙烯烷基酸酯的烷基中碳原子数在2-20之间，较佳的是在2-12之间，最佳的是在2-6之间。也可以使用不同丙烯酸烷基酯的混合物。
透光覆盖薄膜的可聚合前体，除了丙烯酸酯还可以进一步包括不饱和脂肪族羧酸的烷基酯，例如，马来酸烷基酯和延胡索烷基酸酯(分别以马来酸和延胡索酸为基础)。这样，优选马来酸二丁酯、马来酸二辛酯、延胡索酸二丁酯和延胡索酸二辛酯。与丙烯酸酯不同，不饱和脂肪族羧酸的烷基酯的酯化合物的量最好不要太高，相对于丙烯烷基酸酯，最好不超过25重量％。
透光覆盖薄膜的可聚合前体还可以进一步包含一层或多层中度极化和/或强极化的单体。极性(也就是氢-结合的能力)是经常使用术语“强”、“中度”、“弱”来描述的。描述这些和其它溶解度的术语的参考书包括《溶剂》，油漆测试手册，第三版，G.G.，Seward，Ed，针对测试和材料的美国团体，费城，宾西法尼亚洲，和《溶解性的一层三维方法》，油漆技术杂志，第38卷，496号，269-280页。强极性单体的例子是丙烯酸、甲基丙烯酸和丙烯酰胺，而N-乙烯基内酰胺，例如N-乙烯基吡咯烷酮和N-乙烯基己内酰胺、丙烯腈和甲基丙烯酸二甲基氨基-丙酯是中度极性单体的典型例子。弱极性单体的例子包括，例如丙烯酸异冰片酯、乙酸乙酯、N-辛基丙烯酰胺、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯或苯乙烯。
可聚合前体还可以进一步包括二丙烯酸甘油酯、三丙烯酸甘油酯、丙烯酸乙二酯、丙烯酸二乙二醇酯、三丙烯酸三甲酯、三甲基丙烯酸1，2，4-丁三醇酯、丙烯酸1，4-环己二醇酯、三丙烯酸季戊四醇酯、四丙烯酸季戊四醇酯、四甲基丙烯酸季戊四醇酯、六丙烯酸山梨醇酯、二[1-(2-丙烯酰(cacryloxy))]P-乙氧基苯基丙烷、二[1-(3-丙烯酰-2-羟基)]-p-丙氧基苯基-丙烷、三羟乙基异氰脲酸酯、分子重量为200-500的聚乙二醇的三甲基丙烯酸酯、二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯以及如US4,642,126中描述的丙烯酸低聚物。
透光覆盖薄膜的可聚合前体还可以进一步包括与单体组相容的薄膜形成材料。该薄膜形成材料宜包括可与单体成分反应的聚合物，例如，有丙烯酸官能团的共聚酯、有丙烯酸官能团的聚氨酯-丙烯酸酯共聚物、分枝状单体(dendrimers)或有丙烯酸官能团的大分子，还有不起反应的聚合物，且所述聚合物最好选择使它们在可聚合前体和在可固化前体中，即在透光覆盖薄膜中都是可溶解的。优选当与透光覆盖薄膜的前体混合时会产生带负值X(“chi”)聚合物的不反应的聚合物。这种不反应添加剂可以选自包括聚α-烯烃、热塑性嵌段共聚物、不起化学反应的丙烯酸聚合物和聚亚苯基醚。
可聚合前体中优选使用的单体包括，例如，(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、较低量的(甲基)丙烯酸(C4-C8烷基)酯、丙烯腈、甲基丙烯酰胺、烷基取代的甲基丙烯酰胺，例如N，N，-二甲基丙烯酰胺、辛基丙烯酰胺、N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基己内酰胺或苯乙烯。
可聚合前体的预聚合程度最好选择能提供易于涂覆的前体，它粘性例如在室温时为0.3-200Pa·s。
透光覆盖薄膜的聚合物的可聚合前体最好包含选自(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、较低量的(甲基)丙烯酸(C4-C8烷基)酯、丙烯腈、烷基丙烯酸苯乙烯酯、甲基丙烯酰胺和烷基取代的甲基丙烯酰胺、一种或多种聚合引发剂，与可聚合前体的单体共聚的有一种或多种不饱和双链的一层或多层乙烯基单体中的单体组分。
透光覆盖薄膜的厚度较佳的是分别在10和200μm之间，更佳的是在20和150μm之间，最佳的是在40和120μm之间。在本发明包含两个或更多透光覆盖薄膜的光学储存介质的更复杂的结构中，各透光覆盖薄膜的厚度是在10和100μm之间，更佳的是在20和90μm之间。
本发明的一片或一些透光覆盖薄膜的厚度和一层或几层光学储存介质的压敏粘合层的厚度之和的最大厚度可以按照EP0,867,873和JP3-225,650，使用JP3-225,650为CD所建立的关系来估算，即在这最大厚度和光盘记录和/或复制装置的光学磁头装置的数字孔径和使用的光源的波长和斜的边缘之间的关系。当使用波长约0.65μm的激光源，EP0,867,873提出一张或一些透光覆盖薄膜的厚度和一层或几层压敏粘合层的厚度之和值为288μm或更少，而对当使用波长0.4μm的蓝色激光时，宜为177μm或更少。
在制备透光覆盖薄膜的铸塑溶剂和聚合铸塑两种技术中，最好小心地控制铸塑层的厚度以便制得非常均匀的透光覆盖薄膜。我们发现，使用以下测试部分中描述的测量方法，在任选的光学记录介质的横截面测得的透光覆盖薄膜的厚度在整个范围内的变化不超过±3μm，更加的是±2μm。
我们发现，按照WO95/29,764和WO95/29,765描述的冲模涂覆方法和精确涂覆的方法可以较佳地获得非常平整和均匀的精确测径器透光覆盖薄膜。该方法可以用来，例如，将部分预聚合的、透光覆盖薄膜聚合物浆状的前体或者此聚合物的溶液分别涂到移动带或鼓或剥离衬垫上，接着分别固化前体和/或使溶液干。由此而获得的透光覆盖薄膜可以在分别固化或干燥后直接从移动带转移到所暴露的压敏粘合层。当使用移动带或剥离衬垫基本上具有平整和光滑的表面，其表面粗糙度RZ少于2μm时，可以获得很均匀的透光覆盖薄膜，其厚度容差约±3μm或更少，较佳的是约±2μm或更少。合适的带子或分别与所需要的平滑的表面包括例如高抛光的不锈钢表面。
本发明人发现，溶剂铸塑技术提供基本上是光学各向同性的透光覆盖薄膜，它尤其表现为其垂直双折射值低，满足了本发明的要求。不同铸塑之间，垂直双折射存在一定程度的差异，但是本发明人发现，进行有限几次且不使用不适当的实验法进行实验，就可能获得透光覆盖薄膜，其垂直双折射在20℃时至少在入射光束6的波长或波长光谱处分别少于0.001。
一般来说，必须使用铸塑方法，这样铸塑溶剂的薄膜的压力减少到最小。本发明人发现，透光覆盖薄膜最好从已经用例如10-25重量％、较佳的是12.5-17.5重量％的残留溶剂含量在其睛上铸塑的基底中除去。然后，通过例如强制风冷炉，透光覆盖薄膜进一步干燥成自立式无需支撑的薄膜。
进一步发现，在EP0,380,028中揭示，通过将合适的聚合物溶液和/或可聚合前体铸塑到具有低的最好少于约35达因/厘米的表面能量的移动带或剥离衬垫，透光覆盖薄膜的光学各向同性可以增加，尤其是它的垂直双折射可以减少。合适的低表面能量材料包括，例如，聚四氟乙烯、聚偏二氟乙烯、聚三氟氯乙烯和聚乙烯，优选聚乙烯、聚三氟氯乙烯、聚偏二氟乙烯。
进一步发现，通过增加透光覆盖薄膜的厚度，透光覆盖薄膜的光学各向同性可以增加，尤其是它的垂直双折射可以减少。所以，按照本发明，在具有一层或一些透光覆盖薄膜和一层或一些透光粘合层的给定总厚度的透光存储介质的特定结构中，通过增加透光覆盖薄膜的厚度而相应地减少透光粘合层的厚度，透光覆盖薄膜的垂直双折射可以降低。
本发明人进一步发现，通过降低将引起光学各向异性的聚合物组合物成分的量，透光覆盖薄膜的光学各向同性可以增加，尤其是它的垂直双折射可以减少。例如，随着TCM量的减少，通过将聚合物制剂的溶剂铸塑，聚合物的光学各向异性可以降低，所述聚合物制剂包括聚碳酸酯和各种量的1，1-二(4-羟苯基)-3，3，5-三甲基环己烷(TCM)。
本发明人进一步发现，通过聚合铸塑技术，可以获得垂直双折射率低或者非常低的透光覆盖薄膜。该技术能提供具有更高的光学各向同性，特别是垂直双折射率与铸塑溶剂的薄膜一样低或者更低的透光覆盖薄膜。优选聚合铸塑技术。
按照本发明，对光存储介质来说，垂直双折射率值低是重要的，因为已聚焦光束(6)的数字孔径的值很大。本发明的光存储介质进一步分别呈现面内延迟值低或面内双折射率值低。通过透光覆盖薄膜溶剂铸塑或聚合铸塑技术，面内延迟值在20℃至少在入射光束6的波长或波长光谱出分别能少于±30nm和较佳的是少于±25nm，特别好的是少于±15nm；这些值对应于透光覆盖薄膜的典型值，例如，75微米分别对应面内双折射值0.0004、0.00033和0.0002。
根据这些发现，透光覆盖薄膜基本上是光学各向同性的且尤其具有所需要的少于0.001的垂直双折射率值，每次在20℃和至少在入射光束6的波长或波长光谱处分别能显示少于±30nm的面内双折射率，可以再现地获得透光覆盖薄膜。如以下的举例部分，也可以购得透光聚合薄膜，它具有所需要的低的垂直双折射率值和可任选的平面内延迟值。
我们发现，在处理和安装光学记录介质时，为了保护透光覆盖薄膜的表面，需要可去除的保护薄膜层压到至少一层透光覆盖薄膜的主表面上。
具有压敏粘合层的各种聚合物薄膜可以用作可去除的保护薄膜。有用的聚合物薄膜可以用来与压敏粘合层连接起来使用，例如，聚烯烃薄膜，包括均聚物如聚乙烯或聚丙烯薄膜；共聚物如乙烯，丙烯共聚物，及均聚物和共聚物的混合，例如聚乙烯或聚丙烯的混合物，对苯二酸乙二酯薄膜或聚氨酯薄膜等，例如，聚醚氨酯类型或聚酯型基甲酸脂类型的可延伸弹性聚氨酯。也可以使用至少两个聚合物薄膜的层压膜，其中较低的暴露的薄膜连接到透光覆盖薄膜5上，呈现出自粘特性。有自粘特性聚合物的合适例子包括有较高的乙酸乙烯含量的EVA薄膜(乙烯-乙酸乙烯共聚物)，例如相对于EVA聚合物的质量约5-20重量％。这样的层压片可以用作不含压敏粘合层的可去除的保护薄膜。
如果有压敏粘合层，最好选择使得可以很容易从透光覆盖薄膜中移去而不留下任何残留粘合剂。本发明人，发现最好选择该方法，使得按照PSTC方法PSTC-3，从聚碳酸酯基底90°剥离粘合性测得为不大于1N/2.54cm，更佳的是不大于75cN/2.54cm，最佳的是少于50cN/2.54cm。合适的丙烯酸酯基可去除粘合剂在例如参考结合于此的US4,166,152中予以描述，这种粘合剂对制备可撕去的保护薄膜有用。本发明所用的可撕去的保护薄膜可以从3M的保护带产品中获得的，合适的样品是3M保护带#2104。
图1a中制备光存储介质的优选方法中，提供有盘状部件1，它有外圆周和一中心孔(图1a未示出)并位于信息储存层3上。基本部件1通过其中心孔加到具有支撑销的可旋转支架上，该支撑销保证所述的基本部件加到可旋转支架。然后，透光粘合薄膜的可固化前体铸塑到基本部件的信息储存层3。由于在装配过程的以后步骤中，粘合剂将通过旋转基本部件，即通过离心力的应用而分散，我们发现，铸塑可固化前体到离开中心孔的外圆周的基本部件的信息储存层3是有优势的。优选以绕着中心孔的外周成环状的形式涂覆前体。也可以将液体粘合剂的前体，例如作为一层点或其它几何形状和/或从中心孔的外周的较大距离来加入，但是本发明人发现，当将这种前体以靠近中心孔的外周的环状的形式加入时，可固化前体层的厚度的均匀性增加了。
下一步，制备去除其外周和中心孔的尺寸对应于基本部件1的尺寸的透光覆盖薄膜5，并将它放置到基本部件1的信息储存层3。通过中心孔到旋转支架的支撑销，保证了透光覆盖薄膜的去除。
下一步，旋转盘状部件1和连着的透光覆盖薄膜5，将信息储存层3和覆盖薄膜5之间的可固化前体旋转出来。可固化前体层的厚度的变化可以最佳化，特别是通过选择旋转支架合适的最大旋转频率和改变旋转时间和旋转加速时间曲线，该曲线用来使旋转频率分别从最大值直线上升和下降。熟练掌握该技术的人员可以不经过试验就很容易地确定一给定盘结构和几何尺寸的合适的参数。典型的最大旋转频率是在500和5,000rpm之间。
下一步，较佳的是通过透光覆盖薄膜5照射透光粘合层的可固化前体来进行固化。使用产生波长范围从约250nm到约450nm波长，更好的是从约300nm到约400nm波长的紫外灯通过紫外线照射来固化。
在最后一步，本发明中将旋转支架的支撑销抽出来将装配好的光存储介质取出。
在上述制备光存储介质的方法中，不需要将透光覆盖薄膜5置于真空中，因为在透光粘合剂的可固化前体层中形成的气泡在以下的旋转步骤中被排除的。将所述粘合剂的可固化前体加入来进行接下来的固化而获得的透光粘合层4所产生的光学储存介质的厚度变化，在整个范围内在光学储存介质的任选的横截面上测得不大于约±2微米，更好的是不大于约±1微米。将所述粘合剂的可固化前体加入来进行接下来的固化而获得的固化后的透光粘合层的厚度一般是从0.5-20μm，更佳的是从2-10μm，特别佳的是从2-8μm。
所以，优选以上详细所述的制备光学储存介质的方法。
在图1a中制备光存储介质的一种供替换的方法中，透光粘合层4的可固化前体，通过旋转涂、刀涂或喷涂加到基本部件的信息储存层3，并在透光覆盖薄膜5去除之前用例如紫外线照射来固化。在这种情况下，为了保证透光覆盖薄膜5和信息储存层3之间有足够的粘性，宜选择透光粘合层4的可固化前体，这样固化后的粘合剂是压敏粘合剂。不过透光覆盖薄膜5要在真空下加到基本部件上，以避免气泡的进入。在具有压力传感粘合特性的固化后的粘合层中，优选如待审批欧洲专利申请EP99 107 957.7所揭示的，将透光粘合层4作为独立制备的层或薄膜进行涂覆。
上述的方法是示范性的，决不用于限制本发明的范围。
测试方法
厚度和平整度测量
使用DVD测试仪，市售的来自德国Sternenfeld的STEAG Hama Tech AG的ETA-DVD 80，可以测量透光覆盖薄膜和粘合层的厚度和厚度差异。ETA-DVD测试仪在径向最大有0.1mm的分辨率，在切向有0.1mm的分辨率，厚分辨率在25-120μm范围内为0.1μm。ETA-DVD测试仪由其上安装了盘的旋转桌、激光/感应系统和计算机测量装置作为样本支持物。
将要评估的透光覆盖薄膜的样盘带有在空白CD盘的切开的截面上双面涂覆的粘合带。安装测量是从盘中心37..5mm的半径处进行的。每圈测量三百(300)个值。这反映出使用这种仪器可以测量的最大分辨率。
粘合层的样品是作为完整的盘结构的组成部分来进行评价的。
透光覆盖薄膜的垂直双折射
使用的设备
显微镜
使用从德国Ernst Leitz Wetzlar GmbH Wetzlar(现在的德国LeitzMikroskopie und Systeme GmbH，Wetzlar)购买的Leitz Ortholux II Pol显微镜。显微镜配有40X/0.85NA无应变(strain-free)的物镜和全波补偿片。显微镜还配备Bertrand镜头用于锥光偏振的观看。
偏振分析仪：
RPA2000偏振分析仪可选择配备RW或旋转波盘和一层435nm干扰滤波器。该仪器由德国仪器系统GmbH，Neumarkter Str.83，81673Munich制造。
测量过程：
该过程由三个独特步骤组成：
1)在透光覆盖薄膜平面上，最小和最大折射指数方向的定向。
2)沿着与透光覆盖薄膜平面成45°的方向，测量光通过Mueller矩阵。
3)来自Mueller矩阵的垂直双折射的计算。
步骤1
透光覆盖薄膜的样品放置在显微镜台上，并使用40X物镜进行良好的对焦。通过使用锥光偏振仪观察证实，透光覆盖薄膜有3个主要折射率：2个几乎相等的折射率，互相垂直但是在薄膜的平面内，第三个折射率与薄膜平面垂直。这点可以通过观察当台子旋转时干涉图仍然居中来得到证实。如果干涉图仍然居中，则确定了主要折射率在薄膜所在平面的方向。
步骤2
调试RPA2000偏振分析仪，使得旋转台的平面与偏振状态发生器和偏振状态分析仪之间的光路垂直。透光覆盖薄膜的样品放置在支持物上，该支持物结构是为了保证用来分析薄膜的光束以与透光覆盖薄膜的平面成45°通过薄膜。另外，在透光覆盖薄膜的平面内高折射率方向用来与光束垂直。然后，样本支持物放置在RPA2000偏振分析仪的旋转台上。然后薄膜在该特定的方向测量Mueller矩阵。如果矩阵的非对角线数字与0差别很大，则旋转台子，使这些条件最小化，然后重新测量Mueller矩阵。
步骤3
根据《偏振光：基础和应用》，Edward Collet，M.Dekker，纽约1993，第581页给出的方程式，计算当光以45°通过透光覆盖薄膜时的延迟。然后，从下列等式中可以得到光通过透光覆盖薄膜的路的长度。
光路＝薄膜的厚度/(COSarcsin(4标称折射率))，使用平均平面内折射率作为标称折射率。
双折射是在45°的延迟值除以路长。由于平面内折射率是已知的，45°的折射率可以计算出。
最后的计算使用橢圆中的径线长度的等式来计算与薄膜平面垂直的折射率。椭圆的长轴是薄膜平面的折射率，45°径线长度是以上计算的折射率。这就能计算橢圆的未知的短轴或者与薄膜平面垂直的折射率。
垂直双折射率是可以将平面内的折射率和与透光覆盖薄膜平面垂直的折射率之差而获得。
垂直双折射率是在20℃室温和在435nm波长处测得的。
透光覆盖薄膜的平面内延迟
样本的：将要评估的透光覆盖薄膜的样本是安装在双层涂过的粘合带上在作为样本支持物的CD空白盘的剪下的截面上。
可以在适合评估光存储介质特性的市售设备上进行测量，该设备可以从德国Martinsried的Schenk GmbH博士处购到，为“普罗米修斯MT136”。选择“相对双折射”测量方法。
形成图表，给出(Y轴)(单位nm)双折射(T)相对于测量角(X轴)(单位为度)的关系。形成的图表显示了仪器观察样本支持物的那些部分。这些部分被忽略。余下的显示形状的信号从接近平直变化到正弦波。
每个样本部分进行两次测量，分别从盘的中央的35mm和40mm半径处。另一次测量是在64mm进行，对应于在盘的区域之外只能观察空气的位置处。这是作为参考对照物。
取出曲线的最大和最小值，然后平均。记录平均值与平均值的偏差。
因为盘旋转，在透光覆盖薄膜特性上有多层方向产生信息。人可以观察透光覆盖薄膜的横向和从上往下方向和对双折射的影响。
透光覆盖薄膜的微粗糙度和波状粗糙度
透光覆盖薄膜的样本是在圆形薄膜拉伸装置中，该装置设置成在测量时能夹紧薄膜。然后在导覆盖薄膜的表面上，使用UMB激光表面光度仪MikrofocusCompact测量微量粗糙度，该设备可从德国Ettlingen，UBM Messtechnik GmbH。
用每毫米1000个数据点评估10mm距离的薄膜表面，总的是10,000个数据点。产生图表，以在10mm范围(0-10mm)距离上的微米显示粗糙度。通过测量所产生的线的宽度可以视觉上估算微粗糙度。类似波形函数如可以在几毫米的距离上观察到。测量和记录在波形的底部和顶部之间的差。
实施例中使用的材料
1.透光覆盖薄膜
1.1透光覆盖薄膜A
APEC9331(Baver AG)，聚碳酸酯包括90重量％为双酚A，10重量％为1，1-二(4-羟苯基)-3，3，5-三甲基环己烷(TMC)，它在二氯甲烷中溶解并铸塑到平滑的不锈钢带，然后干燥到15％的剩余溶液。薄膜从带中移去，并通过强制通风炉(ca.80-100℃)直到薄膜中的剩余溶液少于1重量％。
产生的透光覆盖薄膜的厚度为77微米。薄膜是从Lofo High Tech Film GmbH，Weil am Rhein获得的。
透光覆盖薄膜是按照以上给出的测试方法评估的，它的特性如下表1所述。
然后，将以上制备透光覆盖薄膜层压到可去除的保护薄膜上，该保护薄膜的设计是为了保护透光覆盖薄膜在以后的数字多功能盘制造时，不被擦伤和被灰尘污染。可去除的保护薄膜是多层聚烯烃基片，厚度为50微米，从德国Lengerich的Bischof和Klein GmbHd的GH-X 173可以获得。层压操作是在23℃使用薄膜碾压器进行的。
1.2透光覆盖薄膜B
从德国Lofo High Tech Film GmbH，Wei am Rhein可以获得聚烯烃透明薄膜，为TRANSPHAN TMOG 652GL。薄膜的厚度为98微米并包括降冰片三聚物、二环戊二烯和丙烯酸甲酯。在本发明中，这样的薄膜是作为透光覆盖薄膜来评估和使用的。
测量薄膜的垂直双折射、厚度、传导和粗糙度。薄膜特性列于表1中。
1.3透光覆盖薄膜C
丙烯酸异冰片酯(IBOA)和GENOMERTM1112以50wt％的量和以单体100重量份计，为0.03重量份的光引发剂混合。丙烯酸异冰片酯(IBOA)可以从日本Osaka的Osaka化学公司得到。GENOMERTM1112单官能团脂肪族聚丙烯酸氨基甲酸乙酯可以从瑞士Zuerich的Rahn AG得到。IRGACURETM651是2，2-二甲氧基-1，2-二苯乙烷-1-酮，可以从德国Ciba-Geigy，Lautertal获得。三组分混合物用氮清除，然后使用紫外光部分聚合，直到混合物有ca.1500mPa.s.的粘度。
IRGACURETM651的第二部分加到浆液，其量以浆液的100重量份计，占0.10份。部分聚合的浆液首先脱气，然后涂覆到两个厚度为ca.50微米的透明的聚合薄膜之间，使用刮刀涂布器进行涂覆，且所述浆液层厚度为ca.75微米。
这样制备的结构在中等压力紫外灯下通过，所述灯有约90％后发射光位于300和400nm之间，峰值在351nm处。该结构用总能量为103mJ/cm2照射。在照射固化过程中，已基本上完成聚合。
本发明中，薄膜是作为透光覆盖薄膜来评估的。测量垂直双折射、粗糙度和传导。结果列于表1中。
表1例子中使用的透光覆盖薄膜的特性
薄膜   薄膜厚度，微米+/- 垂直双折射 平面内延迟 微粗糙度   波形粗糙度，nm
  A   77.0+/-0.6   0.000660   -1，+/-9   60   800
  B   97.6+/-1.5   0.000383   -2，+/-8   40   400
  C   0.000044   **   300   --
**低于仪器测量域
2.在实施例中使用的照射可固化粘合剂前体
2.1液状粘合剂前体S
80重量份的聚(1，4-丁二醇)丙烯酸氨基甲酸乙酯(UV-6100B，由Nippon合成化学IN有限责任公司)，20重量份的丙烯酸2-羟丙基酯(LIGHT ESTER HOP-A，由Kyoeisha化学有限公司制造)和1重量份的Darocur1173光引发剂(由Ciga-Geigy制造)的混合物。
2.2粘合剂前体T
将16.5g来自Rohm&Haas，Philadelphia，PA的丙烯酸2-乙基己酯(EHA)和8.5g来自International Spevialty Products Performance Chemicals，Wayne，NJ的N-乙烯基己内酰胺(NVC)的混合物与0.01g Irgacure 651光引发剂(来自Ciba-Geigy)混合。光引发剂溶解后，用氮气冲洗混合物约两分钟，然后用紫外线光进行部分聚合，直到用Brookfield粘度计在No.4 LTV纺锤体60rpm下测得粘度上升到约200cps。然后，另外将0.04g的IRGACURE 651光引发剂加到混合物中，在一滚筒上搅动所述组成约30分钟使它溶解。
实施例1
通过形成母盘并随后按EP0,729,141第6列，第14-46行描述的步骤进行铸塑形成一盘状的基本部件，适于制备有8GB记录容量的DVR盘，它包括一盘形的聚碳酸酯基底，其外径为120mm，厚度为1.2mm，中央孔直径为15mm。所述盘状的基本部件有第一平坦的主表面和与第一主表面相对的由喷射铸塑而产生的第二主表面。约50nm厚的铝层通过EP 0,729,141第6列，第47-55行溅射涂到第二主表面凹陷结构上。然后，将上述 实施例中所用的材料的液体粘合剂前体S涂覆到聚碳酸酯盘的信息层上的珠状圆环上。然后，将上述 实施例中所用的材料并且具有与盘形基本部件相同尺寸的透光覆盖薄膜A放置到粘合剂前体的珠状圆环的上部。没有可去除的保护薄膜的薄膜的一面粘结到基本部件的信息层上。在允许毛细管现象来轻微地分散基本部件和透光覆盖薄膜之间的粘合剂的3秒钟之后，层压结构以每分钟3000转的速度旋转5秒钟，这样就获得了透光粘合剂的前体的薄层。
然后，粘结到DVR盘状结构的覆盖膜一面暴露到高压水银灯下20秒钟来固化粘合前体并完成粘合连接，水银灯有300nm和400nm之间峰值为351nm的光谱输出。
已固化的粘合层的厚度为ca 10μm
实施例2-3
除了分别使用透光覆盖薄膜B和C以外，重复实施例1。
例4-6
上述在 实施例中所用的材料的粘合剂前体T分别和透光覆盖薄膜A，B，C一起使用。在各情况下，旋转涂覆和固化粘合剂前体的方法相同的。

Claims (18)

1.可以从中读出和/或写入信息的光存储介质，所述信息可以用光束(6)记录，所述光存储介质包括一个或几个在光束(6)所入射的基本部件(1)的一面上的基本部件(1)，一层或多层信息储存层(3)，至少一层透光覆盖薄膜(5)以及一层或多层相互粘结到所述覆盖薄膜(5)上，并粘结到光束(6)所入射的基本部件(1)的表面(2)和/或粘结到一层或多层信息储存层(3)上的透光粘合层(4)；所述至少一个粘合层是通过施涂所述粘合剂的可固化液状前体并随后进行固化而获得的，所述覆盖薄膜(5)的20℃垂直双折射率至少在所述光束(6)的波长或波长光谱处分别少于0.001。
2.权利要求1所述的光存储介质，其特征在于所述覆盖薄膜(5)的20℃面内延迟至少在所述光束(6)的波长或波长光谱处分别少于±30nm。
3.权利要求1-2任一项所述的光存储介质，其特征在于当涂覆所述透光粘合剂的可固化液状前体时，其粘度在20℃下为10-10,000mPa·s；
4.权利要求1-3任一项所述的光储存介质，其特征在于它包括一个基本部件(1)，其表面(2)具有在其上形成信息储存层的凹陷结构。
5.权利要求1-4任一项所述的光储存介质，其特征在于它包括在基本部件(1)的表面(2)上通过施涂所述粘合剂可固化液状前体并随后进行固化而获得的透光粘合层(4)粘结到信息储存层(3)的一层透光覆盖薄膜(5)。
6.权利要求1-5任一项所述的光储存介质，其特征在于所述透光覆盖薄膜(5)是通过铸塑一种或多种溶于溶剂中的聚合物前体并随后进行干燥和/或固化而形成的。
7.权利要求6所述的光储存介质，其特征在于所述溶于溶剂中的聚合物选自聚碳酸酯、三乙酸纤维素或聚烯烃基聚合物。
8.权利要求1-5任一项所述的光储存介质，其特征在于所述透光覆盖薄膜(5)是通过铸塑可聚合的聚合物前体并随后进行固化而形成的。
9.权利要求8所述的光储存介质，其特征在于所述可聚合的聚合物前体包括至少一种丙烯酸官能团单体，所述单体聚合时，其玻璃化转变温度至少为10℃，并且它不易碎。
10.权利要求8或9所述的光储存介质，其特征在于所述可聚合的聚合物前体还含有混合在其中的一种或多种聚合物。
11.权利要求8-10任一项所述的光储存介质，其特征在于所述可聚合的聚合物前体包括选自下列的组分：(甲基)丙烯酸甲酯[(methyl)methacrylate]、(甲基)丙烯酸乙酯[(methyl)ethylacrylate]、(甲基)丙烯酸丙酯[(methyl)propylacrylate]、少量的(甲基)丙烯酸(C4-C8烷基)酯[(methyl)(C4-C8 alkyl)acrylate]、丙烯腈、烷基丙烯酸苯乙烯酯、甲基丙烯酰胺和烷基取代甲基丙烯酰胺，一种或多种聚合引发剂和任选的一种或多种具有一个或多个和可聚合前体的单体共聚的不饱和双键的乙烯基单体。
12.权利要求1-11任一项所述的光储存介质，其特征在于所述透光覆盖薄膜(5)的厚度为10-200μm。
13.权利要求1-12任一项所述的光储存介质，其特征在于所述通过固化其可固化液状前体而获得的透光粘合层(4)的厚度为0.5-20μm。
14.权利要求1-13任一项所述的光储存介质，其特征在于各透光覆盖薄膜(5)的厚度差异和/或由各透光覆盖薄膜(5)产生的光记录介质厚度差异，按光记录介质的任选的横截面处测定，在其整个范围不超过约±3μm。
15.权利要求1-14任一项所述的光储存介质，其特征在于各透光粘合层(4)的厚度差异和/或由各透光粘合层(4)产生的光记录介质厚度差异，按光记录介质的任选的横截面处测定，在其整个范围不超过约±2μm。
16.权利要求1-15任一项所述的光储存介质，所述光储存介质包括一层透光覆盖薄膜(5)和一层透光粘合层(4)，其特征在于所述各透光覆盖薄膜(5)的厚度差异或由各透光覆盖薄膜(5)产生的光记录介质的厚度分别与各透光粘合层(4)的厚度差异或由各透光粘合层(4)产生的光记录介质的厚度差异之和不超过±4μm，在此，其和是在光记录介质任选的横截面处在其整个范围内测得的。
17.制备权利要求1-16任一项所述光学记录介质的方法，其特征在于它包括：
(1)提供至少一个基本部件(1)，它具有光束(6)所入射的表面(2)，所述表面任选地包括在于信息储存层(3)的凹陷结构；
(2)提供多层薄膜(12)，它按给定的顺序包括可剥离保护薄膜(7)、透光覆盖薄膜(5)，以及任选地通过一层或多层透光粘合层(4’)粘结到透光覆盖薄膜(5)和/或相互粘结的一层或多层透光覆盖薄膜(5’)，所述透光覆盖薄膜(5)的内表面任选地包括位于信息储存层(3)上的凹陷结构，；
(3)将透光粘合剂的可固化液状前体施涂到基本部件(1)的至少一个表面(2)和多层薄膜(12)露出的内表面上；
(4)将基本部件(1)组装到多层薄膜(12)上，并通过固化该可固化液体将它们相互粘结。
18.权利要求17所述的方法，其特征在于所述透光覆盖薄膜(5)和(5’)中的至少一个分别是通过将透光覆盖薄膜(5)和(5’)的可固化液状前体铸塑到表面并随后进行固化来制备的，在此，所述表面可以通过多层薄膜(12)之一层的不露出的表面或者其上形成了透光覆盖薄膜并随后作为固化层结合到所述多层薄(12)中的基底来形成，透光覆盖薄膜是在该感光底层上形成的，接下来作为已固化的层包括在多层薄膜(12)中。
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