JP2007048389A - 光ディスクおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】
受容層の表層は吸水性を持っており、受容層の表層に光沢があり、なおかつクランプエリアまでが印刷層で覆われた場合、媒体がドライブの中のチャッキング機構と貼り付きを起こす可能性が高くなる。このことから、媒体使用時、クランプエリアの剥離が起こらず、印刷画質がクリアで高画質なワイド印刷対応光ディスクが求められていた。
【解決手段】
受容層表面が、ドライブのチャッキング機構に貼り付かないようにするためには、表面を荒らすことが必要であるが、有色微粒子を用いると、受容層へ印刷した際、画質がクリアではなくなってしまう。そこで、受容層に用いられている粒子吸収剤、高分子吸収剤との密着性を向上させ、受容層を補強し、かつ印刷後のクリアな高画質化を実現するため、受容層の膜厚の１／２以上の平均粒子径を有するアクリルビーズを受容層に添加することを見いだした。
【選択図】図１

Description

本発明は、表面に印刷が可能な光ディスクに関し、更に詳細には、光沢を有する写真並みの画像を印刷可能な光ディスクに関する。

ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒなどの記録型の光ディスクでは、光ディスクに記録したデータのタイトルや内容を、家庭用のインクジェットプリンタを用いてユーザが手軽に印刷することができるように、光ディスクの光入射側とは反対側の面に、インク受容層を設けて被印刷領域を形成したタイプの光ディスクが実用化されている。

これら光ディスクには、記録再生装置で光ディスクを固定し、回転駆動するためのクランプエリアがディスク中止孔の周りに設けられているが、被印刷領域に例えばデジカメ等で撮影した写真等の画像を印刷する場合、ディスク中心孔とその周辺のクランプエリアなど、受容層の設けられていない部分があるため、画像の一部が抜け落ちてしまう。しかし、最近では、写真画像が抜ける部分を少なくするために、クランプエリアを越えてディスク中止孔近くにまで受容層を設けて被印刷領域を内周部分まで拡大した、例えば特許文献１に示すような、いわゆるワイド印刷対応の光ディスクが実用化されている。
一方で、高画質な写真画像を印刷するのに好適な、例えば特許文献２のような、受容層に光沢を持たせたタイプの光ディスクも実用化されている。

特開２００４−２５３０７１ 特開２００４−０３０７１６

印刷領域を内周部分まで拡大し、且つ、高画質な画像をきれいに印刷するため光沢をもたせた受容層を有する光ディスクは、写真等の画像を光ディスクに印刷する場合、従来の被印刷領域を形成したタイプの光ディスクより好適である。
しかし、光ディスクに従来から用いられている光沢を持たせた受容層を、クランプエリアを越えて中心孔付近の内周部まで設けたところ、記録再生装置での挿入／排出を繰り返すうちに、光ディスクがドライブのチャッキング機構と貼り付きを起こし、ドライブから取り出せない、或いは、受容層のクランプエリアで剥離が発生し、印刷した画像を保存できないことがわかった。
この原因を検討したところ、膜の表面が平滑であればあるほど、ドライブのチャッキング機構に、ディスクのクランプエリアの部分が貼り付きやすくなっていることが分かった。
通常、受容層は下地層上に設けるが、高画質印刷に対応した光沢性を有する受容層は、光沢性を持たせるために、表面粗度が小さくする必要がある。また、印刷の際、通常より.多量のインクを受容しなければならず、そのため、印刷インクに含まれる大量の溶媒、とりわけ水分を吸収することが出来る構造でなければならない。これにより、水分を吸収した受容層が柔らかくなり、密着しやすくなる。また、この現象は高温高湿の条件下においては、顕著に見られる。
従って、本発明の目的は、光沢を有する受容層を光ディスクの中心孔付近にまで設け、記録再生装置で繰り返し使用しても、クランプエリアがドライブのチャッキング機構に貼り付かない光ディスクを提供することにある。

従来からある、いわゆるマットタイプのワイド印刷対応光ディスクでは、繰り返しの使用を行っても、ドライブのチャッキング機構への貼り付きや、クランプエリアの受容層の剥離は発生しない。マットタイプの受容層は粒状吸収剤、主としてＳｉＯ２などの無機微粒子や、プロテインパウダーなどの有機微粒子を用いているが、これらの微粒子は、効率的な吸水効果を得るために大きな粒子を使用する必要があり、結果として表面粗さが大きくなる。

表面粗さが大きくなると、受容層表面とドライブのクランプ部との接触面積が減少するため、あるいは密着力が小さくなるため、クランプエリアへの貼り付きが発生しにくくなる。しかし、表面粗さが大きいと、一般に光沢性は低く、また、ＳｉＯ２は、粒子間、受容層表面での微小凹凸による乱反射がおこることや、プロテインパウダーは光透過性がない、などにより、受容層に光沢性をもたせることは困難である。つまり、表面性と光沢性はトレードオフの関係にある。

そこで、微粒子の材料について、種々検討したところ、透明樹脂ビーズであるアクリルビーズを用いた場合、光沢性を維持しつつ、且つ、表面を粗らすことが可能であることがわかった。これは、透明樹脂を微粒子と用いることで、受容層中での光の散乱や吸収を少なくし、光を効率的に利用することが可能になるためであると思われる。従って、無機微粒子ではなく透明樹脂ビーズであるアクリルビーズを用いた受容層を光ディスクのクランプエリアを越えて中心孔近傍まで形成すれば、ドライブのチャッキング機構との貼り付きや、クランプエリアで受容層の剥離が発生せず、光沢のある高画質な画像を印刷可能な光ディスクを実現できることがわかった。

すなわち、本発明の第１の態様に従えば、基板の上に記録層、反射層、下地層、印刷可能な光沢を有する受容層の順に積層した光ディスクであって、そのうち下地層と受容層がクランプエリアにまで覆っており、少なくともクランプエリアにある受容層に、受容層膜厚と同じか、それより厚く２倍以下の平均粒子径を有しているアクリルビーズが、均一に分布している光ディスクが提供される。アクリルビーズの大きさがある一定の大きさ、つまり、受容層の膜厚と同じか、それより厚く２倍以下の平均粒子径を有することで、受容層の表面を適度に粗らすことができ、ドライブのクランプ部との貼り付きを低減し、受容層の剥離を防止することができる。

また、本発明の第２の態様に従えば、更に、受容層の膜厚と同じか、それより厚く２倍以下の平均粒子径を有しているアクリルビーズが受容層全面に均一に分布している光ディスクが提供される。アクリルビーズが受容層全面に均一に分布しているため、光ディスク全面に画像をムラなく印刷することができる。

また、本発明の第３の態様に従えば、光ディスクの光入射面側とは反対側の基板上に、印刷可能な光沢を有する受容層があり、基板と受容層との間に下地層を有する光ディスクであって、そのうち下地層と受容層がクランプエリアにまで覆っており、少なくともクランプエリアにある受容層に、受容層膜厚と同じか、それより厚く２倍以下の平均粒子径を有しているアクリルビーズが、均一に分布している光ディスクが提供される。本発明第１の態様と同様に、アクリルビーズの大きさがある一定の大きさ、つまり、受容層の膜厚と同じか、それより厚く２倍以下の平均粒子径を有することで、受容層の表面を適度に粗らすことができ、ドライブのクランプ部との貼り付きを低減し、受容層の剥離を防止することができる。

また、本発明の第４の態様に従えば、第２の態様と同様に、更に、受容層の膜厚と同じか、それより厚く２倍以下の平均粒子径を有しているアクリルビーズが受容層全面に均一に分布している光ディスクが提供される。アクリルビーズが受容層全面に均一に分布しているため、光ディスク全面に画像をムラなく印刷することができる。
また、本発明の第５の態様に従えば、透明樹脂ビーズの材質としては、透明度が高く、受容層用樹脂の屈折率と同等あるいは近い値である樹脂であればよく、例えば、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸メチル、架橋ポリスチレン、架橋ポリメタクリル酸エチル、ポリエチレン、エチレンーアクリル酸共重合体、エチレンー酢酸ビニル共重合体、等が挙げられる。

また、本発明の第６の態様に従えば、更に、受容層を成膜するための受容層用塗料に含まれるアクリルビーズの含有量が１．５wt％以上４wt％以下である光ディスクが提供される。アクリルビーズの添加量を多くすると光沢性は維持するが、印字性が悪くなる。また添加量が少ないと表面粗さが従来と変わらないので、ドライブのチャッキング機構への貼り付きを起こしやすくなる。そのため、アクリルビーズ添加量を適度にコントロールする必要があり、好適には２wt％以上３wt%以下である。

また、本発明の第７の態様に従えば、更に、クランプエリア表面の１０点算術平均粗さが１．２μｍ以上２．０μｍ以下で、中心線平均粗さは、０．３μｍ以上０．８μｍ以下である光ディスクが提供される。アクリルビーズを添加し、受容層の表面粗さを１．２μｍ以上２．０μｍ以下にすることで、貼り付きがなくなり、中心線平均粗さは、０．３μｍ以上０．８μｍ以下であることで光沢性を維持することができる。

また、本発明の第８の態様に従えば、受容層の膜厚が５μm以上５０μｍ以下である光ディスクが提供される。また、さらに好ましくは５〜２０μｍがよい。受容層の膜厚が５μｍ未満であると、インク溶媒を吸収しきれず、印刷画像ににじみが発生する。一方、受容層の膜厚が５０μｍ以上であると、膜厚が厚くなることにより、膜作製時の乾燥条件である乾燥熱、乾燥時間が大幅に増大することになり、受容層以外の層への熱の影響による性能劣化、膜作製時のプロセス時間増加などの影響が現れる。
また、本発明の第９の態様に従えば、本発明の光ディスクの製造方法であって、透明樹脂ビーズを含有する樹脂溶液を塗布したのち、硬化させることにより、受容層中に透明樹脂ビーズを含む受容層を形成する光ディスクの製造方法が提供される。受容層を透明樹脂ビーズを含有する樹脂溶液を塗布したのち硬化させることで、目的の機能を有する受容層を容易に形成することができる。

また、本発明の第１０の態様に従えば、樹脂溶液として熱硬化樹脂溶液を用い、熱硬化させることにより受容層を形成することが好ましい。樹脂成分は、耐候性、耐久性などの観点より、熱硬化樹脂としては、光ディスクに用いられているのものであれば、公知のものを用いることができるが、一般にはエポキシ，フェノール，メラミンおよびシリコン樹脂等を用いることができる。例えば、エポキシ基含有単量体である（メタ）メタクリル酸グリシジル、（メタ）アリルグリシジルエーテル、１−アリルオキシ−３，４−エポキシブタン、１−（３−ブテニルオキシ）−２，３−エポキシプロパンや、シリル基などの加水分解縮合性基含有単量体であるビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリブトキシシラン、ビニルメトキシジメチルシラン、ビニルエトキシジメチルシランなどである。

また、本発明の第１１の態様に従えば、樹脂溶液として光硬化樹脂溶液を用い、光硬化させることにより受容層を形成することが好ましい。光硬化性樹脂としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、エチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコール変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレングリコール変性ペンタエリルリトールトリ（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等があり、
光重合開始剤は、例えば、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，４−ジエチルチオキサントン、ｏ−ヘンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェンなどが挙げられる。

受容層に、上記のようなアクリルビーズを加えることで、受容層の表面に適度な粗さが加わり、ドライブのチャッキング機構との貼り付きを防止でき、且つ、光沢を有する受容層を備えた光ディスクが実現できた。

以下、図面を参照しながら本発明について更に詳細に説明する。

図１は実施例に係わる光ディスク１の断面構造を示す。この図から明らかなように、本例の光ディスク１は、透明基板２の記録膜３および反射膜４上の表面を接着層５にて被い、ダミー基板６を貼り合わせ、その上から下地層７、受容層８を形成してなる。
透明基板２は、ガラスなどの透明セラミック材料や、ポリカーボネイト樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリオレフィン樹脂、エポキシ樹脂等の透明樹脂材料などをもって所望の形状及び寸法に形成される。この記録体３および４については公知に属する技術であり、かつ本発明の要旨でもないので、詳細な説明を省略する。これらについては光ディスクの種類に応じて、公知に属する適切の技術を応用できる。

下地層７は一般的に紫外線硬化型樹脂をバインダーとするＵＶインクにより形成される。該下地層７は、スクリーン印刷法、スプレーコート、スピン塗布法等により形成できる。

受容層８は、主に親水基を多く持つ高分子化合物と透明樹脂ビーズとの混合物からなる。
受容層８に含まれる親水基成分として、例えば、アニオン基としてカルボキシル基、スルホン酸基、カチオン基として第４級アンモニウム塩、両性であるアミノ基、ノニオン性親水基としてポリオキシル等が挙げられる。
透明樹脂ビーズは、平均粒子径が受容層膜厚と同じか、それより厚く２倍以下であるものを用いる。
該受容層８の膜厚は、インク溶媒のインク吸収能を低下させず、媒体そのものが歪まないために、５μｍ以上５０μｍ以下にする。受容層８は親水基を持つ高分子化合物をスピンコータ、ロールコータ、バーコータなどによって塗布できる。また、受容層表面の平滑性を高めるために親水基を持つ高分子化合物を水や有機溶媒、あるいはそれらの混合溶媒に溶解し塗布した後、乾燥させることも可能である。

（ビーズ径と受容層膜厚との関係）
（サンプルＡ）
0.6ｍｍ厚のポリカーボネイト製の透明基板２の信号面にテトラフロロプロパノールに溶解した色素をスピンコートし、厚さ１５０ｎｍの記録層３を形成した。その上に銀合金からなる反射層４をスパッタリングにより積層した。
反射膜４の表面に紫外線硬化型接着剤をスピン塗布し、前記ポリカーボネイト製のディスク状透明基板２と同形のダミー基板を張り合わせ、しかる後に高圧水銀ランプによる紫外線の照射をダミー基板側から行い接着剤を硬化させた。
次いでダミー基板６の表面に白色からなるＵＶインクをスクリーン印刷法により半径１０mmから半径５９mmまで定着させ、紫外線照射することにより、白色の下地層７を形成した。
平均粒子径１２μｍのアクリルビーズを３wt％添加した受容層インクを半径１０mmから５９mmまで定着させ、下地層７上に塗布して受容層８を膜厚１０μｍになるように形成後、６５℃で１０分間乾燥させて、図１の断面構造を有する光ディスクを完成した。
（印刷）
作製した光ディスクの受容層に対し、インクジェットプリンタ（キヤノン製 PIXUS iP８６００）を用いて、画像をプリントし、受容層８全面に画像を印刷した光ディスク1を作成した。
（評価方法）
表１に、作成した光ディスクに対する、受容層の膜厚、受容層の表面粗さの１０点平均表面粗さ、中心線平均粗さ、受容層へ画像印刷後のクランプへの貼り付き試験、光沢度評価、印字性評価の結果を示す。
受容層の膜厚は、光ディスク１の中心から４ｃｍの部分の厚み測定を行った。
表面粗さは、受容層表面を無作為に１０点選び、小坂研究所製ＳＥＦ−１０Ａを用いて測定した表面粗さを算術平均した値と、中心線平均粗さを採用した。
クランプエリアの貼り付き評価は、画像を印刷した前記光ディスク1を温度４５℃湿度８０％２０時間保存後、市販のドライブでローディングを１回行い、受容層のドライブのクランプへの貼り付きを調べた。
光沢度は、６０°鏡面光沢度測定法により印刷時の受容層表面を測定した。表１の光沢評価は、光沢度が３０以上を○、３０未満を×とした。
印字性の評価は、印刷後の画像が、鮮明に印刷されている場合を○、にじんだりすることにより、きれいに印刷されていない場合を×とした。
図２乃至４では、請求範囲に入っているものを合格とし、入っていないものを不合格としている。
（サンプルＢ）
平均粒子径が１５μｍのアクリルビーズを２．５wt％混ぜたものを加えて調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚１５μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルＣ）
平均粒子径が１５μｍのアクリルビーズの添加量を、２．５wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚１３μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルＤ）
平均粒子径が１５μｍのアクリルビーズの添加量を、２．５wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚１０μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルＥ）
平均粒子径が１５μｍのアクリルビーズの添加量を、２．５wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚７．５μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルＦ）
平均粒子径が２０μｍのアクリルビーズの添加量を、２．５wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚１５μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルＧ）
平均粒子径が２０μｍのアクリルビーズの添加量を、２．５wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚１３μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルＨ）
平均粒子径が２０μｍのアクリルビーズの添加量を、３wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚１５μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルＩ）
平均粒子径が２０μｍのアクリルビーズの添加量を、３wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚１３μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルａ）
平均粒子径が１５μｍのアクリルビーズの添加量を、２．５wt％に変更して調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚１８μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルｂ）
平均粒子径が１５μｍのアクリルビーズの添加量を、２．５wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚６．５μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。

（透明樹脂ビーズ添加量と表面粗さの関係）
（サンプルJ）
平均粒子径が１５μｍのアクリルビーズの添加量を、１．５wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚１３μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルK）
平均粒子径が１５μｍのアクリルビーズの添加量を、２wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚１３μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルL）
平均粒子径が１５μｍのアクリルビーズの添加量を、２．５wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚１３μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルM）
平均粒子径が１５μｍのアクリルビーズの添加量を、３wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚１３μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルN）
平均粒子径が１５μｍのアクリルビーズの添加量を、４wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚１３μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルｃ）
平均粒子径が１５μｍのアクリルビーズの添加量を、１．２wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚１３μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルｄ）
平均粒子径が１５μｍのアクリルビーズの添加量を、４．５wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚１３μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。

（中心平均粗さRaと十点平均粗さRzとの関係）
（サンプルＣ）
平均粒子径が１５μｍのアクリルビーズの添加量を、２．５wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚１３μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルN）
平均粒子径が１５μｍのアクリルビーズの添加量を、４wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚１３μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルO）
平均粒子径が１５μｍのアクリルビーズの添加量を、２．５wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚１１μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルP）
平均粒子径が１５μｍのアクリルビーズの添加量を、３wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚１０μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルQ）
平均粒子径が４０μｍのアクリルビーズの添加量を、２．５wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚３０μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルｃ）
平均粒子径が１５μｍのアクリルビーズの添加量を、１．２wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚１３μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルｄ）
平均粒子径が１５μｍのアクリルビーズの添加量を、４．５wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚１３μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルe）
市販の光沢ワイドプリンタブルディスクを用いた以外はサンプルＡと同様にして光ディスクを作製し測定及び評価を行った。
（サンプルｆ）
透明樹脂ビーズの代わりに無機微粒子であるＳｉＯ2を含有させ、受容層に光沢性のないマット使用の樹脂を用いた以外はサンプルＡと同様にして光ディスクを作成し測定及び評価を行った。
（サンプルｇ）
平均粒子径が１５μｍのアクリルビーズの添加量を、２．５wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚１８μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルｈ）
平均粒子径が２０μｍのアクリルビーズの添加量を、１．５wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚２０μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルi）
平均粒子径が２０μｍのアクリルビーズの添加量を、２wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚８μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。

（受容層膜厚と印字性の関係）
（サンプルR）
平均粒子径が１０μｍのアクリルビーズの添加量を、３wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚５μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルS）
平均粒子径が１５μｍのアクリルビーズの添加量を、３wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚１０μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルT）
平均粒子径が１５μｍのアクリルビーズの添加量を、２．５wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚１３μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルU）
平均粒子径が２０μｍのアクリルビーズの添加量を、２．５wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚１５μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルR）
平均粒子径が４０μｍのアクリルビーズの添加量を、２．５wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚３０μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルｂ）
平均粒子径が１５μｍのアクリルビーズの添加量を、２．５wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚６．５μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルｊ）
平均粒子径が５μｍのアクリルビーズの添加量を、２．５wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚３μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。
（サンプルｋ）
平均粒子径が６０μｍのアクリルビーズの添加量を、２．５wt％に調整した受容層用インクを下地層の上から、膜厚５３μｍになるように塗布したこと以外は、サンプルＡと同様にして光ディスクを作製した。




















（ディスクの評価）
表１および図２のようにサンプルA乃至Kでは、下記の結果より、実施例に係わる光ディスクは、アクリルビーズの大きさが膜厚と同じか、それより厚く、膜厚の２倍以下の厚さであるため、クランプへの貼り付き防止に顕著な効果を得ることができ、光沢度を維持している。

なお、サンプルaのように受容層膜厚の同等以下の平均粒子径であるアクリルビーズを添加した場合、十分な表面粗さを得ることができず、クランプへの貼り付き防止に有効ではなかった。

サンプルｂのように受容層膜厚２倍以上の平均粒子径であるアクリルビーズを添加した場合、十分な表面粗さは得られたが、印字性が悪く、実用的ではなかった。
また、透明樹脂ビーズではなく、透明でないビーズ、例えば合成雲母や、TiO2を用いた場合、貼り付き試験は合格しても、光沢度は、十分なものが得られなかった。

表２のサンプルｃおよび図３にあるように、ビーズの添加量が１．５ｗｔ％未満の場合、十分な表面粗さは得られず、クランプへの貼り付き防止に有効ではなかった。
表２のサンプルｄにあるように、ビーズの添加量が４ｗｔ％を越えた場合、十分な表面粗さは得られたが、印字性が悪く、実用的ではなかった。

また、表３のように、１０点平均粗さＲｚが、請求範囲よりも小さいと、印字性はよくなるが、貼り付きが起きやすく、請求範囲よりも大きいと、貼り付きはおきにくいが、印字性が悪くなる。中心線表面粗さＲａが請求範囲よりも小さいと、印字性もよく、光沢性が上がるが、貼り付きが起きやすく、請求範囲よりも大きいと、貼り付きはおきにくいが、印字性が悪く、光沢性も落ちる。場合は、ドライブのチャッキング機構との貼り付きが起きやすくなる。

また、表４にあるように、受容層の膜厚が５ミクロン以下では、受容層のインク吸収能力が小さいため、にじみが発生し、受容層膜厚が５０ミクロン以上では、膜厚が厚くなることにより、膜作製時の乾燥条件である乾燥熱、乾燥時間が大幅に増大することになり、受容層以外の層への熱の影響による性能劣化、膜作製時のプロセス時間増加などの影響が現れた。よって、受容層膜厚を５０μｍ以上にすることは、光ディスクの性能、製造プロセスの観点から、採用しなかった。

本発明における光ディスクの上面図と断面図 表１におけるビーズ径と受容層膜厚の比、と光沢度の関係を示す図 表２におけるビーズ添加量と表面粗さの関係を示す図 表３における１０点平均粗さと中心平均粗さとの関係を示す図

符号の説明

１ 光ディスク
２ 透明基板
３ 記録層
４ 反射膜
５ 接着層
６ ダミー基板
７ 下地層
８ 受容層
９ クランプエリア
１０ ディスク中心孔

Claims (11)

1. 基板の上に記録層、反射層、下地層、印刷可能な光沢を有する受容層の順に積層した光ディスクであって、そのうち下地層と受容層がクランプエリアにまで覆っており、少なくともクランプエリアにある受容層に、受容層の膜厚と同じか、それより厚く２倍以下の平均粒子径を有している透明樹脂ビーズが、均一に分布しており、JIS Z８７４１に定められている６０°鏡面光沢度法で、前記受容層表面を測定した時の光沢度が３０以上であることを特徴とする光ディスク
2. 請求項１記載の光ディスクにおいて、受容層の膜厚と同じか、それより厚く２倍以下の平均粒子径を有している透明樹脂ビーズが、受容層全面に均一に分布していることを特徴とする光ディスク
3. 光ディスクの光入射面側とは反対側の基板上に、印刷可能な光沢を有する受容層があり、基板と受容層との間に下地層を有する光ディスクであって、そのうち下地層と受容層がクランプエリアにまで覆っており、少なくともクランプエリアにある受容層に、受容層の膜厚と同じか、それより厚く２倍以下の平均粒子径を有している透明樹脂ビーズが、均一に分布しており、JIS Z８７４１に定められている６０°鏡面光沢度法で、前記受容層表面を測定した時の光沢度が３０以上であることを特徴とする光ディスク
4. 請求項３記載の光ディスクにおいて、受容層の膜厚と同じか、それより厚く２倍以下の平均粒子径を有している透明樹脂ビーズが、受容層全面に均一に分布していることを特徴とする光ディスク
5. 請求項１乃至４記載の光ディスクにおいて、受容層中に用いられている透明樹脂ビーズが、アクリルビーズであることを特徴とする光ディスク
6. 請求項１乃至４記載の光ディスクにおいて、受容層を成膜するための受容層用塗料に含まれる透明樹脂ビーズの含有量が１．５wt％以上４wt％以下であることを特徴とする光ディスク
7. 請求項１乃至４記載の光ディスクにおいて、クランプエリア表面の１０点算術平均粗さが１．２μｍ以上２．８μｍ以下、かつ中心線平均粗さが０．３μｍ以上０．９μｍ以下であることを特徴とする光ディスク
8. 請求項１乃至４記載の光ディスクにおいて、受容層の膜厚が５μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする光ディスク
9. 請求項１乃至４記載の光ディスクの製造方法であって、透明樹脂ビーズを含有する樹脂溶液を塗布したのち、硬化させることにより、受容層中に透明樹脂ビーズを含む受容層を形成することを特徴とする光ディスクの製造方法。
10. 請求項７記載の光ディスクの製造方法であって、受容層として透明樹脂ビーズを含有する樹脂溶液として、熱硬化樹脂溶液を用い、熱硬化させることにより、透明樹脂ビーズを含む受容層を形成することを特徴とする光ディスクの製造方法。
11. 請求項７記載の光ディスクの製造方法であって、受容層として透明樹脂ビーズを含有する樹脂溶液として、光硬化性樹脂溶液を用い、光を照射させることにより、透明樹脂ビーズを含む受容層を形成することを特徴とする光ディスクの製造方法。
    

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