CN1698108A - 光存储介质 - Google Patents

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Abstract

光存储介质，用一光束(6)可从它读出信息和/或可把信息记录在其内，所述光存储介质包括一个或更多部分(1)，它带有光束(6)入射到基本部分(1)的一个侧面，一层或更多信息存储层(3)，至少一层光透射覆盖薄膜(5)和一层或更多光透射粘合层(4)，后者把所述覆盖薄膜(5)彼此粘结，粘结到有光束(6)入射的基本部分(1)的表面(2)和/或粘结到一层或更多信息存储层(3)，所述覆盖薄膜(5)是挤压的，并在200℃分别在所述光束(6)的波长或波长谱呈现小于0.001的垂直双折射率。

Description

光存储介质
发明领域
本发明涉及光存储介质，具体地说，涉及数字视频可记录圆片(DVR)，用光束可以该圆片读出信息和/或把信息记录到该圆片，所述光存储介质包括至少一个基本部分，光束入射到正对基本元件一侧面，一个或更多可读和/或可记录信息的存储层和一个或更多光透射覆盖薄膜。本发明还涉及光存储介质的制造方法，而具体地地说涉及数字视频可记录圆片(DVR)。
发明背景
DVR圆盘呈现出高存储容量，这使得这种圆盘可用于数字记录和存储。
已描述过DVR圆盘典型的构造和格式，例如参见EP 0,729,141、EP0,867,873和EP 0,874,362。
DVR通常包括圆盘形基底或在一或两个主表面上呈现包括纹间表面和沟槽的信息存储层的基本部分。DVR圆盘还包括涂敷在信息存储层的光透射覆盖层。
在1999年4月22日提交的本申请EP 99107975号未审批的专利申请中揭示了相对于线性偏振光的光存储介质的传递系数，尤其是DVRs，可采用本质上是光各向同性的光透射覆盖薄膜来改善，而更佳的是，在每个例子中至少在20℃和至少分别在入射光束的波长或波长光语呈现出小于0.001的垂直双折射率。EP 99107957.7揭示了具有低的或非常低的垂直双折射率值的光透射覆盖薄膜，可用包括溶剂浇铸和聚合浇铸技术的浇铸方法来获得，而又指出挤压成形的聚合物薄层一般是不在诸如DVRs的光存储介质中用作光透射覆盖薄膜的。
但是，溶剂浇剂技术在浇铸过程中需要大量的诸如亚甲氧化物溶剂来溶解光透射覆盖薄膜的聚合物。该溶剂在生产中需蒸发并回吸再利用，这就需要昂贵的设备和高能耗成本，聚合浇铸技术需要用至少一层分离垫料，这从经济观点来看是不利的。
所以，本发明的一个目的就是要提供诸如DVRs等光存储介质之用的光透射覆盖薄膜的替换制备方法，当制备光透射覆盖薄膜时这方法不会显现在现有技术中所遇到的缺点和不足或只有较低程度上显现出这种缺点和不足。本发明的另一目的是提供包括由这种较佳方法得到的包含光透射薄膜的存储介质，诸如DVR等。
从所附详细说明可清楚了解本发明的其它目的。
发明概要
本发明涉及光存储介质，用一光束(6)可从它读出信息和/或可以把信号存储其内，所述光存储介质包括一个或更多基本元件(1)，光线入射到正对基本元件(1)的一侧面，一层或更多信息存储层(3)，只少一层光透射覆盖薄膜(5)和一层或更多光透射粘合层(4)后者把所述覆盖薄膜(5)彼此粘结，粘结到光束(6)入射到的基本部分(1)的表面(2)，或粘结到一层或更多信息存储层(3)，所述覆盖薄膜(5)是被挤压的并在20℃至少分别在所述光束(6)的波长或波长谱显现出小于0.001的垂直双折射率。
本发明还涉及根据权利要求1～10所述制备任一光记录介质的较佳制备方法，包括：
(1)提供至少一个至少光束(6)入射的基本部分(1)表面(2)，所述表面可选择地包括具有信号存储层(3)的坑结构，
(2)提供多层薄膜(12)，它按给出的次序包括可分离保护薄膜(7)，光透射覆盖薄膜(5)，它的内表面可选择地包括带有信息存储层(3)的坑结构，光透射压力灵敏粘合层(4)和分离垫料层(8)，可选择地还包括在光透射覆盖薄膜(5)和压力灵敏粘合薄膜(4)彼此粘合起来，其中所述覆盖薄膜(5，5’)显现出在20℃、至少分别在所述光束(6)的波长或彼长谱显现出小于0.001的垂直双折射率，且其中至少一层所述覆盖薄膜(5，5’)是挤压的，
(3)移去所述分离垫料层(8)以及
(4)把多层薄膜12层压到在基本元件(1)表面上(2)的信息存储层(3)的表面(2)上。
本发明还涉及在光存储介质中一层或更多挤压光透射覆盖薄膜(5)的用途，所述覆盖薄膜在20℃分别在用于读出或存入到所述光存储介质的光束(6)的波长或波长谱显现小于0.001的垂直双折射率，所述光存储介质包括一个或更多光束(6)入射到的基本部分(1)，一层或更多信息存储层(3)，至少一层光透射覆盖薄膜(5)和一层或更多光透射粘合层(4)，它把所述覆盖薄膜(5)彼此粘结起来，粘结到光束(6)入射到的基本部分(1)的表面(2)和/或粘结到一层或更多信息存储层(3)。
附图简述
图1a用示意图示出根据本发明的光记录介质的具体实施例，包括基本部分1，它的光束6入射的表面(2)，它包括形成部分信息存储层3的纹间表面和沟槽，所述光存储介质还包括用压力灵敏粘合层4粘结到信息存储层3的挤压光透射覆盖薄膜5。
图1b用示意图示出了根据本发明光记录介质另一具体实施例，包括基本部分1，表面2，后者包括形成部分第一信息存储层3a的纹间表面和沟槽结构，所述光存储介质还包括光束6入射在其上的挤压光透射覆盖薄膜5，表面9包括形成第二信息存储层3b的纹间表面和沟槽的结构，该第二信息存储层3b用压力灵敏粘合层4粘结到信息存储层3a。
图2用示意图示出在两个滚筒50，51间的第一层叠材料的层叠，它包括可分离的防护薄膜7和挤压到第二层叠材料的挤压光透射覆盖薄膜5，这第二层叠材料包括光透射压力灵敏粘合层4和光滑分离垫料8，这样，压力灵敏粘合层4的曝露表面被粘附到挤压光透射覆盖薄膜5上。
图3用示意图示出通过在滚筒52上拉出分离垫料8把它从层叠材料中去除面提供可粘结层叠材料12的情况，这层叠材料包括按给定次序可分离保护薄膜7，光透射挤压覆盖薄膜5和压力灵敏粘合层4，而这层叠材料12用空气抽空的办法把它固定在真空圆盘夹具上，接下来发生的模切产生具有中心孔10和外围11的圆盘形层叠材料，图中虽未示出模切工具但由箭头来表示。
图4用示意图示出包括按给定次序的可分离防护薄膜7，挤压光透射覆盖薄膜5和曝露的光透射压力灵敏粘合层4，所述层叠材料具有中心孔10和外围11，并用空气抽空的办法把它固定在真空圆盘夹具53。
图5用示意图示出真空粘结装置60，它具有上部真空室56和底部压力室58，通过泵浦55可将直空室抽真空而通过泵浦57或空气阀门则可使底部室分别为真空或常压或超压在上室中包括顶盘54和可移动底盘59，结合柔性密封垫61把上室56和底室58分开，底盘59包括带有可分离防护层7，挤压光透射覆盖薄膜5和压力灵敏粘合层4的模切层叠材料的真空圆盘夹具53，以及固定带有信息存储层3的基本部分1的顶盘54。
应注意，这些图仅是图示的，尤其是不按比例作的图。在图1a中基本部分的厚度一般是挤压光透射覆盖薄膜5厚度为一个数量级大小不相上下或比它大得多，而沟槽的深度一般在5到50nm的范围，因此，与基本部分1的厚度相比是可以忽略的。
发明内容
在上文和下文中，术语“薄膜”和“薄膜”可互换使用，它指的是在X-Y平面上的广度大于(也就是说，至少例如3倍或更多)相对于Z方向的广度(也就是说，它的厚度)。
本发明的光存储介质包括至少一个基本部分，光入射到基底的一侧面，一层或更多可以读出和/或可以记录的信息存储层，至少一层光透射压力灵敏粘合层和至少一层挤压光透射覆盖薄膜。
图1A示出根据本发明光存储介质的具体实施例用图示代表的一个例子，它包括基本部分1，其在受到光束6入射一侧的在表面上2上显现出形成部分信息存储层3的纹间表面和沟槽结构。信号存储层3支承着在其上粘结着光透射覆盖薄膜5的压力灵敏粘合层4。
对本发明有用的光存储介质更复杂的结构在，例如，EP 0,867,873中描述，通过引用把它结合在此。光存储介质或包括，例如，相互分别设置在一或二个基底主表面上的二层或更多信息存储层3。图1b用图示法示出包括分别施加到基本部分内表面2和光透射覆盖薄膜内表面9的二层信号存储层3a，3b的结构。
基本部分1可以是任何形状，但较佳的是，有一个中心孔的圆盘，这小孔具有在记录或播放台上对准装配好的光存储介质中心的用途。圆盘即环形基底较佳的是有约为10到360mm的外径，而中心孔的内径约5到35mm，较佳的厚度是在0.3和3.0mm之间而特佳的是在0.5和1.5mm之间。较佳的基底是包括聚合材料，诸如像丙烯酸树脂，聚碳酸脂，环氧树脂，环状烯共聚物和聚烯烃。特佳的是诸如聚甲基丙酸甲酯，聚碳酸酯，或热温度的聚酯共碳酸酯。
基底可分别包括它的主表面中的一个或两个都包括的结构，这结构包括凹部(即沟槽)和凸部(即使间表面)一般把它们总称为坑。包括在光的波长，光透射覆盖薄膜的折射率和为了把连贯的纹间表面和沟槽间光串扰减到最小的沟槽深度之间关系的一般坑尺寸在，例如，EP 0,874,362或EP 0,867,873中揭示，通过引用把它们结构在此。在矢径方向测量的相邻的物理轨道中心线间的距离，即信道距离，一般是0.64μm或更小，更佳的是0.32μm或更小。
可把坑结构分别浇铸到基本部分或元件的一个或两个表面。这过程(在EP0,729,141第4页第14-46行有详细描述)一般包括主圆盘形成过程步骤(如用示意图示于EP’141图4A-4G)和注入浇铸过程(如用示意图示于EP’141图5A-5B)；通过引用把EP’141结合在此。不过，也可以用把加热到高于其玻璃转变温度的挤压光透射覆盖薄膜通过两个滚筒之间通过来获得挤压先透射覆盖薄膜中的坑结构，其中这两个滚筒至少它们中的一个显现图案结构。这个技术用示意图示于EP0,867,873的图10，在该图中挤压光透射覆盖薄膜在一个滚筒和一个压模之间通过这样获得的挤压光透射覆盖薄膜可以用压力灵敏粘合层把它粘结到基本部分或到一层或更多可选择地带有坑结构的其它光透射覆盖薄膜，这样可以获得具有信息存储层多样性的光存储介质。
信息存储层3的结构依赖于是否可供读出和/或记录之用。
如果光存储层3是ROM型的，则信息存储层3可包括带有Al、Au等反射薄膜，其厚度可用，例如，溅射能获得的一般为20～60nm之间的坑结构。
可记录光存储介质可以是相变型或磁光型。根据EP 0,867,873相变型信息存储层可以通过连续地在坑结构上形成诸如Al薄膜，GeSbTe薄膜和ZnS-SiO2薄膜的反射薄膜来获得。较复杂的相应型信息存储层在，例如EP0,874,362中描述。磁光型信息存计层3包括，例如，带有诸如按这个次序的Al薄膜，SiN薄膜，TbFeCo薄膜和SiN薄膜的反射薄膜的坑结构。
通过把Al、Au或一次写入型信息存储层其它金属的薄反射薄膜涂敷到坑结构，(于是再用花青染料或酞花青染料系统有机颜料薄膜镀膜)来获得。
以上描述的信息存储层仅作为例子给出的。根据本发明的光存储介质可包括其它的和/或信息存储层的修改结构。
在1999年4月22日由本申请提交的未审批EP 99107975.7中揭示了具有低厚度变化，有利的光学性质和低跳动值的光存储介质，它可以通过把这种介质与一层或更多光透射压力灵敏粘合层粘结来获得。在2000年10月24日由本申请提交给欧洲专利办公室题为“光存储介质”的未审批欧洲专利申请中揭示了诸如DVRs之类的光存储介质也可通过涂敷液态可固化光透射粘合剂的前体随着接着发生的固化而粘结。不过，采用压力灵敏粘合层即薄膜是可取的。
在用示意图示于图1a中的光存储介质的具体实施例中，粘合层4把挤压光透射覆盖薄膜5粘结到信息存储层3。如上所述在包括信息存储层多重性的较复杂结构中粘合层4也能用于把可选择地包括信息存储层3的两层或更多光透射覆盖薄膜5彼此粘结。
本发明另一光存储介质包括两层或更多信息存储层。在图1b示出的光存储介质的具体实施例中，粘合层4把带有第一信号存储层3a的基本部分1粘结到有光束6入射的挤压光透射覆盖薄膜5上的第二信息存储层3b。
粘合层必须对入射光束6的波长是光学透明即光透射的，信息是从光存储介质用光束6读出和/或把信息记录到存储介质的。产生光束6的适当光源包括激光器，例如，对红光激光器，其波长范围，在400～700nm间，较佳的是600～660mm之间；或蓝光激光器，波长范围在400～420nm。也可采用具有诸如干涉滤光器的合适单色滤波器的多色光源。用于粘合层4在入射波长时的粘合剂的光透明度即光透射率可根据，例如，ASTMD1746来测量，较佳的是至少80％，更佳的是至少85％。
假使在本发明的光存储介质采用一层或更多压力灵敏粘合层时，这种压力灵敏粘合层可包括透明背撑和/或载体层，诸如聚乙烯对酞酸盐(PET)或有机玻璃(PMMA)层在每侧携带一层，但是最好它是不包括背撑和/或载体层的转移薄膜。如果是转移薄膜，则压力灵敏粘合层的较佳平均厚度在10～100μm之间，更佳的是在15～80μm之间，而特佳的是在15～50μm之间，而包括背撑和/或载体层的双侧粘合带的厚度在30μm和100μm之间，而佳在40μm到80μm之间。
透光要求通常由丙烯酸酯基压敏粘合剂来实现，但是也可以适用二氧化硅基压敏粘合剂、橡胶树脂基压敏粘合剂、嵌段共聚物基粘合剂，尤其是那些含有氢化弹性体的粘合剂或者乙烯基醚聚合物基压敏粘合剂。任何这些材料可以和增塑剂和/或增粘剂化合以确定它们的性质。优选丙烯酸酯基压敏粘合剂。
本发明所用的丙烯酸酯基压敏粘合剂可以通过聚合含有一种或多种丙烯酸烷基酯，所述烷基具有4-14个原子平均数。术语4-14个原子平均数是指丙烯酸烷基酯化合物的碳原子(C)的平均数为4-14之间，尤其是在4-12之间。有用的丙烯酸烷基酯(即，丙烯酸烷基酯单体)包括线型或者分枝单官能团不饱和丙烯酸酯或者非叔烷基醇的甲基丙烯酸酯，所述烷基具有4-14，尤其是4-12个碳原子。本发明所用的这些低级丙烯酸烷基酯例子包括但不限于丙烯酸正丁酯、丙烯酸异丁酯、丙烯酸己酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸正辛酯、甲基丙烯酸正辛酯、丙烯酸2-甲基丁酯、丙烯酸异壬酯、丙烯酸正壬酯、丙烯酸异戊酯、丙烯酸正癸酯、丙烯酸异癸酯、甲基丙烯酸异癸酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸4-甲基-2-戊酯和丙烯酸十二烷基酯。优选的低级丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯包括丙烯酸异辛酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸异壬酯和丙烯酸十二烷基酯。所述压敏粘合剂的可聚合前体含有最多5个，尤其是1-4个丙烯酸烷基酯。上述丙烯酸烷基酯的烷基中碳原子的平均数宜为4-12，尤其是5-10。也可以使用不同丙烯酸烷基酯的混合物。
所述压敏粘合剂的可聚合前体还包括不是丙烯酸的不饱和脂肪族羧酸的烷基酯，例如，马来酸烷基酯和延胡索酸烷基酯(分别以马来酸和延胡索酸为基础)。处于这一点，优选马来酸二丁酯、马来酸二辛酯、延胡索酸二丁酯和延胡索酸二辛酯。所述不是丙烯酸的不饱和脂肪族羧酸的烷基酯的量宜不能太高，以丙烯酸烷基酯组分的质量计宜不超过25重量％。
所述压敏粘合剂的可聚合前体还可以包含一种或多种适度极性和/或强极性的单体。极性(即氢键能力)常通过使用术语如“强”、“适度”和“差”来表述。表述这些和其它溶解性术语的参考文献包括“Solvents”，Paint TestingManual，3rded.，G.G.Seward，Ed.，American Society for Testing andMaterial，Philadelphia，Pennsylvania和“A Three-Dimensional Approachto Solubility”，Journal of Paint Technology，Vol.38，No.496，pp.269-280。强极性单体的例子是丙烯酸、甲基丙烯酸和丙烯酰胺，而例如N-乙烯基内酰胺如N-乙烯基吡咯烷酮和N-乙烯基己内酰胺、丙烯腈和甲基丙烯酸二甲氨基丙酯是适度极性的单体的典型实施例。差极性单体的例子包括例如丙烯酸异冰片酯、乙酸乙酯、丙烯酰胺正辛酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯或者苯乙烯。但是，发现当至少一种部件的内表面含有腐蚀层如Al反射层时强极性单体的百分数以丙烯酸酯单体质量计宜低于约10重量％，更宜低于约5重量％。所述压敏粘合剂宜基本不含丙烯酸，以避免因腐蚀而严重损害部件的内表面。
在本发明中有用的以丙烯酸盐为基的压力灵敏粘合剂在，例如，US4,181,752、US 4,418,120，WO 95/13,331或在由D.Satas编的《压力灵敏粘合剂技术手册》第396-491页有描述。这些参考都通过引用结合在此。
在本发明中有用的压力灵敏粘合层还包括诸如像聚合物添加剂，变厚作用剂，增粘剂，链转移作用剂和其它添加剂，只要它们不降低压力灵敏粘合剂的透明度或不利地影响压力灵敏粘合层厚度的均匀性到不希望有的和/或不能接收的程度。这种添加剂较佳是相对压力灵敏粘合剂质量不超过5个百分重量，而更佳的是在0～2个百分重量。
在本发明中有用的压力灵敏粘合剂较佳的存储模量G是在5×105到2×106达因/厘米2之间(在温度23℃和频率为1弧度/秒下测量)，更佳是在6×105到1.5×106dyne/cm2之间，而特佳的是在6.5×105到9.5×105dyne/cm2之间。
压力灵敏粘合层或薄膜可以通过把成为有机的或含水的溶液或分散体的压力灵敏粘合层涂膜到分离垫料层随着该溶剂的相继蒸发与任意固化来制备，或成为实际上不含溶剂的，预先聚合反应的浆的压力灵敏粘合层薄膜到分离垫料层，随着相继的固化来制备。后面的方法在，例如，US 4,181,752中有较详细的描述，而溶液镀膜或压力灵敏粘合剂的分散体则在，例如，由D.Satas编的《压力灵敏粘合技术手段》中描述(第二版，纽约，1989年第767～868页)(通过引用结合在此)，通常用第二分离垫料在固化前后期中保护压力灵敏粘合层的曝露面。
本发明人已经发现必须仔细控制压力灵敏粘合层的厚度以便为非常均匀的光记录介质的制备创造条件。已经发现由压力灵敏粘合层引入的光记录介质厚度的变化较佳的是不多于约±3μm，而佳的是是不多于约±2μm，这是用在下面测试节中描述的测量法，即在它的整个延伸范围通过光记录介质任选的截面来测量的。
在WO 95/29,766中描述了一个较佳方法，它完成制备压力灵敏粘合层的一些要求，如非常平坦、均匀精确的厚度等，通过引用结合在此。这方法包括把压力灵敏粘合剂的基本上无溶剂、可聚合反应的浆状前体，当基底相对于模具作运动时通过这模真涂覆到这基底上，这模具包括适合于接受压力灵敏粘合剂前体的通道和可调节宽度的与所述通道联系的狭槽，通过它使前身通过。
这狭槽形成在位于基底下游一侧在基本笔直的、陡的边缘和位于基底上游一侧的纹间表面之间。在WO 95/29,764和WO95/29,765(通过引用结合在此)中较详细地描述了模具镀膜法和精确的镀膜模具。这个方法可以用来，例如，随着压力灵敏粘合层的相继固化，把基本上无溶剂、预先聚合好的、以丙烯酸盐为基的压力灵敏粘合剂涂覆到移动带上或分离垫料层上。压力灵敏粘合层，或薄膜，可从移动带上在固化后直接转移到光记录介质第一基本部分的内表面上，或它在涂敷到第一基本部分内表面前可以被暂时储存在分离垫料层之间。当用具有基本上平坦和光滑的表面，其表面粗糙度Rz，正如下面所限定的，小于2μm的移动带或分离垫料层时，可以得到其厚度公差为±3μm或更小，较佳的是±2μm或更小、非常均质的压力灵敏粘合层。这些粘合层可用于非常均匀光记录介质的制备，由压力灵敏粘合层引入到光记录介质的厚度公差一般为±3μm或更小。
压力灵敏粘合层的折射率较佳是适应光透射覆盖薄膜的平均折射率。在光透射覆盖薄膜的平均折射率与压力灵敏粘合层折射率之间的差较佳的是不大于0.05而更佳的是小于0.02。在入射光束(6)的波长时的压力灵敏粘合剂的折射率(或分别在入射光束(6)的波长谱时的压力灵敏粘合剂的平均折射率)可以，例如，根据ASTN D542来测量，其较佳是至少1.45，而更佳的是至少1.49。本发明人已发现对本发明是有用的折射率至少为1.50，通过把足够量的苯氧乙基包括进可聚合反之的前体中得到。
假使本发明的光存储介质包括一层或更多粘合层，它是这样获得的，通过把光透射粘合剂的液态可固化前身涂敷到例如基本部分1的信息存储层3上，随着光透射覆盖薄膜5的相继涂敷和前体的固化，把这样的光透射粘合剂的前身放在诸如紫外线(UV)，伽玛(α)或电子束较射的辐射曝光下，它会被较佳地固化。光透射粘合剂的前体包含至少一种或更多辐照固化的化合物和一种或更多聚合反应的引发剂。
合适的照射固化化合物包括具有在例如e-射线或紫外线照射下变得具有活性的双键单体、低聚物和预聚合物。优选含有下式所示至少一种丙烯酸基团的照射固化化合物。
Figure A0181766400121
尤其优选含有下式所示至少一种(甲基)丙烯酸基团的照射固化化合物。
适于本发明的照射固化化合物尤其宜选自含有任选地羟基、羧基或羧化物改性丙烯酸烷基酯或烷氧基酯、丙烯酸氨基甲酸乙酯、环氧丙烯酸酯和丙烯酰胺的化合物。
而且，尤其优选含有至少一种N-乙烯基的照射固化化合物。优选的适于本发明的含N-乙烯基的照射固化单体包括例如N-乙烯基己内酰胺、N-乙烯基吡咯烷酮和N-乙烯基咪唑。
适于本发明的聚合引发剂包括任何在UV、γ或者e-射线照射下产生自由基的常规聚合引发剂。示例性聚合引发剂包括苯偶姻醚光引发剂如苯偶姻异丙醚和苯偶姻异丁醚；二苯甲酮光引发剂如二苯甲酮、p-甲氧基二苯甲酮和p-溴代二苯甲酮；苯乙酮光引发剂如苄基甲缩酮、2，2-二乙氧基苯乙酮和1，1-二氯苯乙酮；噻吨酮光引发剂如2-氯代噻吨酮光；邻醌光引发剂如葸醌(anthoraquinone)和菲醌(phenanthoraquinone)；以及硫醚光引发剂如苄基硫醚和四甲基硫醚；以及取代α酮醇如2-甲基-2-羟基苯基·乙基(甲)酮。市售光引发剂的例子包括Irgacure 819和Darocur 1173(均从Ciba-Geigy Corp.，Hawthorne，NY，USA购得)、Lucern TPO(从BASF，Parsipanny，NJ，USA购得)和Irgacure 651(从Ciba-Geigy Corporation购得)，其中Irgacure 651被认为是2，2-二甲氧基-1，2-二乙苯基-1-酮。也可以使用共聚光引发剂。
通过涂敷液态可固化所述粘合剂的前体，随着相继的固化所得到的已固化光透射粘合层厚度一般从0.5～20μm，更佳的是从2～10μm而特佳的是从2～8μm。由这样固化的粘合层引入的光存储介质厚度的变化一般不大于约±2μm而更佳的是不大于约±1μm。
通过涂敷可固化光透射粘合剂层前体得到的关于粘合剂层的更多详情可参见2000年10月24日由本申请在欧洲专利局提交的题为“光存储介质”的欧洲专利申请。
本发明的光存储介质包括一层或更多光透射覆盖薄膜，可选择地，层都在它们的一个或两个主表面上呈现出坑结构。在未审批的欧洲专利EP 99107957.7中揭示了具有可重复的高透射率，特别是相对于线偏振光的光存储介质，可以通过在这种存储介质中采用一层或更式基本上是各向同性的光透射覆盖薄膜获得，且较佳的是在温度20℃分别在用于记录和/或读出信息的光束6的波长或波长谱时具有小于0.001的双折射率，更佳的是小于8×10-4，而特佳的是6.5×10-4。
对于一张具有在X-和Y-方向延伸的平面和在Z-方向厚度d给定的聚合物薄膜，垂直双折射率是在垂直于薄膜平面，例如，在Z方向的折射率与平行于薄膜平面，例如，包含X和Y方向的平面，两个主方向的平均折射率之差。应用如下所述的方法来测量垂直双折射率，在温度为20℃最好采用能分别用于记录和/或读出信息分别进入和从该光存储介质的激光光源，例如具有发射谱线在400～700μm之间的激光器。也可以用使用单色滤光器的多色光源。
本发明人惊奇发现在本发明中有用的光透射覆盖薄膜，尤其在温度20℃，且至少分别在入射光束的波或波长谱时呈现出小于0.001的低双折射率，是可以通过挤压方法得到。
合适的可挤压聚合物按照ISO 1133用1.2kg重量测量在300℃时呈现出较佳的融化速率流率为40～200g/10分，而更佳的是50-150g/10分，具体的例子包括，例如，聚碳酸酯类和以聚烯烃为基的聚合物，诸如像聚双环戊二烯。在WO00/09,591中揭示具有在约15,000和约20,000间的低分子量Mn的聚碳酸酯分子是典型地被介绍来作注入应用，可较佳地用于制备在平面上具有低双折射率的聚碳酸酯薄膜。
可挤压聚合物是采用，尤其是，所谓的激冷滚筒(chill roll)法来融化与挤压的，这个方法在由F.Hensess编的《Hand backder kunststoff Extrusionsteknik Vol II，Extrusiousanlagen》第6.5.2.7节，第164-171页中的”ChillRoll-Abzugsanlegen”来描述，此文通过引用结合在此。本发明人惊奇地发现这个技术为制备具有垂直双折射率有利值的聚合物薄膜创造条件，具体来说，在温度为20℃，并至少分别在入射光波长或波长谱处有小于0.001的垂直双折射率。在WO 00/09,596中揭示了激冷滚筒挤压技术，为具有低值平面折射率的低分子量聚碳酸酯薄膜的挤压创造条件。不过，在本领域中的技术人员应当会预料到对垂直双折射率有不利的值，这是因为由于在薄膜的一侧，存在着激冷金属滚筒，而在薄膜的另一侧存在着周围气氛而在Z方向引入到聚碳酸酯的张力所致。
本发明人发现通过激冷滚筒法获得的挤压聚合物的垂直双折射率可以通过在聚合物形成的激冷滚筒来降低具有0.6m的大直径的为较佳，更佳的至少为0.8米，而特佳的至少为1.0m。但是，本发明人假设他本人并不希望被这样的理论限制，就是，当把薄膜分别从激冷滚筒或多个滚筒分离时发生的引入到挤压聚合物薄膜Z方向张力能用大直径激冷滚筒来降低。在一个具体的较佳方法中激冷滚筒或多个滚筒被一个或更多激冷带所替代。
本发明人还发现聚合物较佳的是挤压的无溶剂和/或无单聚物和/或可排气的低分子量的配料。如果一开始就需要聚合物的溶液和/或聚合物的可聚合反应的前体，则最好使用泄出式挤压机，这样，在挤压机的模具中的聚合物中溶剂的和/或可排气的低分子量配料的浓度相对于聚合物的质量较佳的是小于1重量％，更佳的小于0.5wt％而特佳约是小于0.1重量％。本发明人假设较高量溶剂的存在造成引入应架，因此，当溶剂在蒸发时期中，由于在Z方向溶剂的梯度，在光透射聚合物薄膜的Z方向引入光各向异性和/或应变。
光透射覆盖薄膜，分别用于本发明的光存储介质中，而且较佳的是在温度20℃，分别用于记录和/或读出信息光束的波长或波长谱呈现出小于±30nm的平面内的光学延迟量，更佳是是少于±25nm，而特佳的是少于±15nm。平面内光学延迟量是应用如下描述的，采用在德国市场上能买到的DVD测试仪“PrometheusMT 136”(由Dr.Schenk GmbH，Martinsried)测量方法来测量的。平面内双折射率是从平面内光学延心量通过后者除以光透射覆盖薄膜的厚度得到的。
光透射覆盖薄膜是通过可聚合物前体的聚合反应而得到的，以刚性的或有延性的为佳。这里所用的术语“刚性”意指抗拉伸，抗蠕变和尺寸稳定的。具体地说，光透射覆盖薄膜在室温时最好有大于1,380MPa(每平英寸200千磅)的拉伸模量，更佳的是大于2,070MPa(300kpsi)而最佳为大于2,760Mpa(400kpsi)。
光透射覆盖薄膜的拉伸模量是根据ASTM测试方法D-822-88采用标距长度为10.2cm(4英寸)和分离率为5.1cm/min(2英寸/分)来确定的。
这里所用的术语“有延性的光透射覆盖薄膜”指的是具有少于1,380MPa(＝200kpsi)拉伸模量的及在室温时大于50％，较佳的是大于150％的抗张伸展率的薄膜。拉伸模量和抗张伸展率是根据ASTM测试方法D-882-88采用标距长度为10.2cm和分离率12.7cm/min(5英寸/分)来测量的。用于本文中的“抗张伸展率”指的是在被引用的拉伸试验过程中测量时，延性材料断裂时的拉伸量。
具有分别指定的刚性或延性值的光透射覆盖薄膜是较佳的。但是，为检查光透射覆盖薄膜测试样品的力学性质，仅应用了上述的拉伸测试过程。这种测试样品不用在本发明的光存储介质上。用于本发明的光存储介质的光透射覆盖薄膜为了不使光各向异性加到这种薄膜上，必须尽可能地作无应力处理。所以，在本发明中有用的光透射薄膜不应受到拉伸。
光透射覆盖薄膜的厚度，分别是，较佳是在10和200μm之间，更佳是在20和150μm之间，而特佳的是在40和120μm之间，在本发明结构较复杂的光存储介质中包括两层或更多光透射覆盖薄膜，每层覆盖层的厚度较佳的是在5和100μm之间而更佳的是在10和90μm之间。
本发明的光存储介质的光透射覆盖薄膜或几层薄膜和压力灵敏粘合层或几层的厚度总和的最大厚度可根据EP 0,867,873和JP3-225,650，采用为CDs建立在JP3-225,650中的在这种最大厚度、光学圆盘记录和/或复制装置中光学头器件的数字孔径所用光源的波长和扭曲边缘之间的关系来估计。当使用具有波长约为0.65μm的激光光源时，EP 0,867,873对该光透射覆盖薄膜或几层薄膜和压力灵敏粘合层或几层的厚度总和建立为288μm或为更小值，而对波长为0.4μm的蓝光激光，则为一个177μm或更小值。
挤压光透射覆盖薄膜的厚度最好也要仔细控制，以便为非常均匀的光透射覆盖薄膜的制备创造条件。在采用下面测试部分是描述的测试方法来测试通过光记录介质整个延伸部分任选的一个横截面上的光透射覆盖薄膜的厚度变化时发现较佳的不大于±3μm而更佳是不大于±2μm。
发现可采用在WO 95/29,76和WO95/29,765中揭示的模具能较好地完成非常平坦、厚度均匀精确的光透射覆盖薄膜的制备。这WO二文在上面供给精确模制薄膜应用、具有分子重量MT为，例如，从约15,000到约20,000的低分子重量的聚碳酸酯的激冷滚筒挤压之用时引用过。这种聚碳酸酯在按照ISO1133，采用重为1.2kg测量时在300℃时呈现出约为80g/10min相当高的熔融流率，这样可用上述精确的模具。
而且，本发明人还发现激冷滚筒或几个滚筒的速度，需要分别地仔细控制，以便把在加工方向的厚度变化变得最小。在横向的厚度变化可以根据这种数据在横向调节模具的标距变化，通过在横向的挤压薄膜厚度在过程中仔细观察于以降低。
激冷滚筒或几个滚筒的温度较佳为至少10℃而更佳为至少15℃，以便避免外界湿度的凝聚。需要在精确至少为±1°，更佳至少为±0.5°的范围内，仔细地控制温度，这个精度可以通过冷却滚筒而获得。详细情况可在Hanser等人的上述引文中找到。
对根据本发明的光存储介质，因为聚焦的入射光束(6)的大数值数字孔径，所以必须要有低值的垂直双折射率。而且，本发明的光存储介质还较佳地分别显现出低值的平面内光学延迟量即平面内双折射率。由挤压技术和，尤其是，由激冷滚筒挤压技术得到的光透射覆盖薄膜在20℃至少分别在入射光束6的波长或波长谱较佳地显现出小于±30nm的平面内光学延迟量的值，更佳的是小于±25nm，而特佳的是小于±15nm，这些值对75微米的光透射覆盖薄膜来说分别相当于平面内双折射率为0.0004，0.00033和0.0002的典型值。
根据这些发现，基本上光各向同性，且，尤其是，显现出小于0.001的垂直双折射率的所需值，以及，可选择地，在每个例子中，在20℃和至少分别在入射光束6的波长或波长谱有小于±30nm的平面内双折射率的所需值的光透射覆盖薄膜可通过挤压方法重复地获得。具有垂直双折射率的所需低值，以及可选择地，平面内光程差的挤压光透射聚合物薄膜也可从市场上买到，可取自下面示例的一节。
各种支承压敏粘合剂层的聚合物薄膜可以用作可剥离保护薄膜。可和压敏粘合剂层结合使用的聚合物薄膜例如含有包括均聚物如聚乙烯或聚丙烯薄膜、共聚物如乙烯/丙烯共聚物以及均聚物或共聚物的混合物如聚乙烯和聚丙烯的混合物的聚烯烃薄膜；聚对苯二甲酸乙二酯薄膜或者如聚醚氨酯和聚酯型氨基甲酸酯类型的可延伸弹性体聚氨酯(例如)的聚氨酯薄膜。也可以使用具有至少两层聚合物薄膜的层压片，所述较低的粘结到挤出透光覆盖膜5的裸露薄膜呈现自粘附性能。合适的具有自粘附性能的聚合物例子包括具有高乙酸乙酯含量(例如，以EVA共聚物的质量计，约为5-20重量％)的EVA薄膜(乙烯-乙酸乙烯共聚物)。这种层压片可以用作不具有压敏粘合剂层的剥离保护膜。
如果目前是较佳的选择得使可分离保护薄膜触容易地从光透射覆盖薄膜除去而不留下任何剩余的粘合剂的话，则压力灵敏粘合剂可选择地使用可分离保护膜。本发明人发现较佳地选择压力灵敏粘合剂使得按照PSTC方法PSTC-3测试的来自聚碳酸酯基底的90°撕裂粘合力不大于1N/2.54cm，较佳的是不大于75CN/2.54cm，而特佳的是小于50CN/2.54cm。一种显示低撕裂粘合强度和高粘附强度在可分离防护薄膜的制备中有用、以丙烯酸盐为基适宜的可除去粘合剂在，例如，US 4,166,152中描述。在本发明中有用作为3M防护带产品的可分离防护薄膜有商品供应，适宜的例子是3M防护带#2104。
根据图1a的光记录介质制备的一个较佳方法，在两个滚筒50，51间包括可分离防护薄膜7和挤压光透射覆盖薄膜5的第一层压板被层压到包括压力灵敏粘合层4和平滑分离垫层8的第二层压板，如图2所示，两个滚筒呈现出非常光滑的表面，并被安排得为形成薄膜的基本上无应力和无气泡的层叠板创造条件。
把最后得到的层叠板送到如图3所示的粘结台，它是以准连续模式运行的。例如，用调剂边缘或滚筒52，将分离垫层8从产生的层叠板分离出来，于是通过空气抽吸把分离垫层附着到真空板支架53。采用合适的模切设备(未示出)就可得到显现中心孔10和对应于圆盘形基本部分1尺寸的外围11的模切层叠板4，如图4所示。于是把带有粘附着的模切层叠板的真空板支架53转移到真空粘结装置60，如图5所示。真空粘结装置包括上真空室56和底真空室58，它们被可移动底板59和柔性塞61分开，而分别可对底真空室58，用泵浦57抽空或加压。真空室支架53带有所粘附着、面向上模切层叠板的曝露粘合剂层4附着到真空粘结装置60的底板59上。承载着信息存储层3的基本部分，带着面朝下的信息存储层3附着到真空粘结装置60的顶板54上。抽空底室58以便在下面的主室56的抽空中使底板59保持在较低的位置。接着，把通过泵55把真空粘结装置60的主室56抽真空。然后，通过泵57将底室58的压力增加到某个水平，从而推模切层叠板使之顶住基本部分1。然后通过把底部压力室58抽室把底板59向较低的位置。在把真空粘结装置60的主室56加压到大气压力后，可从真空粘结室60中除去，根据本发明图1a的光存储介质。把可分离防护薄膜7除去，于是提供了根据本发明按照图1a的光存储介质的一个
具体实施例。
在根据图1a光制备记录介质的替换方法中，把压力灵敏粘合层4层叠到基本部分1的显示坑的表面2上形成的信息存储层3。压力灵敏粘合层可把它补足成像具有基本部分的形状的模切(die-cut)。压力灵敏粘合层最好附着在靠近基本部分的一条边缘处，然后从基本部分表面的这头逐渐层叠到另一头。在层叠时施加一个，例如，45°或较小的层叠角以避免夹带空气泡。将分离垫料从压力灵敏粘合层除去，而带着压力灵敏粘合层的基本部分可以附着到图5中真空粘结装置60的底板59。把包括可分离防护薄膜和挤压光透射覆盖薄膜的层叠板敷设到顶板。于是通过对底室58加压，完成光记录介质的制备，从而把底板59推到顶板54，如上所述。
在按照图1a光记录介质制备的另一方法中，把包括可分离防护薄膜8，挤压光透射覆盖薄膜5和曝露的压力灵敏粘合层4的层压板用转轮粘结(wheel-bonding)装置粘结到圆盘形基本部分1的信息存储层3的曝露表面，它揭示于WO99/54,116(通过引用结合在此)。转轮粘结工艺除了具有层压光存储介质好的平坦度外，还确保了几乎没有空气包含物的粘结。
如上所描述的方法仅是示范性的，决不限制本发明的范围。
测试方法
厚度和平坦度的测量
光透射覆盖薄膜和PSA层的厚度和厚度变化由德国的ETA-DVD80DVD测试仪测量(德国，STEAG Hama Tech Sternenfeld)。ETA-DVD测试仪具有在径向方向为0.1mm和在切向为0.1mm的最大分辨率，在25-120μm范围内的厚度分辨率为0.1μm，ETA-DVD包括转台在其上装有圆盘，激光器/传感器和测量计算机单元。
待鉴定的光透射覆盖薄膜用双面镀膜的粘合带安装在起到样品架作用的CD圆片坯的切断部分上。在距离圆片中心半径为37.5mm处进行测量。每周期测量三百(300)分数值。这反映了采用这个仪器能够测量到的最大分辨。
作为完整的圆片结构的组成部分鉴定了粘合层的样品。
光透射覆盖薄膜的垂直双折射率
所用设备
显微镜：
使用一架德国制造的Leitz Ortholux II Pol显微镜(德国Ernst LeitzWetzlar GmbH，Wetzlar(现为德国，Leica Mikroskopie and Systeme GmbH，Wetzlar)。该显微镜装备有40×10.85NA无应力目镜和全波补偿片。它也装备着用于锥光偏振观察的Bertrand透镜。
偏振分析器：
RP2000偏振分析器装备着RW或转动波片供选择和435nm干涉滤波器，这仪器由德国制造。(德国，Nenmarkter Str。83.81673 Mnmich，GmbH仪器设置公司)制造。
测量过程
该过程包括3个不同的步骤
1)在光透射覆盖薄膜的平面上，确定最小和最大折射率方向。
2)沿着对光透射覆盖薄膜成45°的一条路径，测量通过光透射覆盖薄膜传播的光的Hueller矩阵。
3)从Mueller矩阵计算垂直双折射。
这些步骤进一步描述如下：
步骤1：
把光透射覆盖薄膜的样品放在显微镜平台上，并用40×目镜调好焦距。通过锥光偏振观察，证实该光透射覆盖薄膜有三个主折射率。其中2个与彼此相互垂直且在薄膜平面上的折射率接近相等，而第三个折射率则是垂直于薄膜的平面。通过观察确认了干涉图样在平台转动时保留定位在中心。如果干涉图彻底定位在中心，那末可以确定在薄膜平面确定上述主折率。
步骤2：
设置RPA2000偏振分析，使转动台平面与垂直在偏振态发生器和偏振态分析仪之间的光路垂直，把光透射覆盖薄膜的样品放在支架上，构筑该支架，确保用于分析薄膜的光束以45°角经过薄膜传播到光透射覆盖薄膜的平面。另外，使光透射覆盖薄膜平面的高折射率方向垂直该光束。然后把该样品支架设置在RP2000偏振分析仪的转台上。在这个特定的方向，测量该薄膜的Muuellev矩阵。如果矩阵的非对角元显然不为零，则转动该平台把这些项减到最小，然后再测量Mueller矩阵。
步骤3
当光经过光透射覆盖薄膜以45°角传播时它的光程差是通过E.Collt，M.Dekker《偏振光：基础和应用》p.581一书中给出的方程来计算的。于是，从下列方程可得出光通过光透射覆盖薄膜的光路长度。
光路长度＝薄膜厚度/(cos(arc sin(45/标称折射率)))
采用平面内平均折射率作为标称折射率。
45°的双折射率是在45°时的光程差除以光路长度。因为平面内折射率是已知的，所以就可以计算在45°时的折射率。
最后的计算采用用于在椭圆中矢径线长度的方程来计算垂直于薄膜平面的折射率。椭圆的长轴是垂直于薄膜平面的折射率，而在45°的矢径线长度则是上面计算的折射率。于是，能够计算未知的椭圆短轴或垂直于薄膜平面的折射率。
由在平面内折射率和垂直于光透射覆盖薄膜之差可以得到垂直双折射。
垂直双折射率的值是在20℃并在波长为435nm时测量的。
光透射覆盖薄膜的平面内光程差
样品制备：
用双面镀膜的粘合带待待鉴定的光透射覆盖薄膜的样品安装在作为样品支架的CD圆片坯的切断部分上。
在适于鉴定光记录介质性质的商品设备上进行测量，这台设备型号为“Prometheus MT 136”，在德国有售。(由Dr.Scherk GmbH，Martin-Sired销售)。选择测量模式为“相当双折射率”。
制成了以nm为单位(Y轴)的相对双折射率(T)对以度为单位的测量角(X轴)的曲线图。生成图表明了仪器观察样品支架的部分。不把这些部分考虑在内。余下的信号表面为从接近平坦的形状到正弦(波形)。
对每个部分分别进行离圆片中心半径为35mm和40mm的两次测量。另一个测量是在64mm处进行，这个位置相当于在只能观察到空气的圆片区外。这起到了参考数或控制数的作用。
从曲线取最小值和最大值进行平均，从平均值记录了平均和偏差。
因为圆片是转动的，所以得到光透射覆盖薄膜各方向性质的信息。人们能够观察到光透射薄膜的交叉网膜(cross-web)和下网膜(down-web)方向及其对双折射的影响。
制作了示出用微米为单位的厚度对角度曲线图。该仪器计算了最小值、最大值、平均值和变化值。因为来自样品支架的周期干涉，所以这些计算值不能在少数例子中使用。在这些情况中，这些数值要用人工从曲线中取出。
光透射覆盖薄膜微粗糙度和类波粗糙度
将光透射覆盖薄膜的样品固定在为在测量中平坦固定薄膜而设计的圆形薄膜拉紧装置上。采用在德有售的UBM激光光法度轮廓仪(UBM LaserPrafilometer Mikrofocus Compact)测量在光透射覆盖薄膜表面上的粗糙度。
在距离为10mm的薄膜表面，用每mm1000个数据点，共计10,000个数据点来鉴定薄膜表面。制作了示出用微米为单位的粗糙度对10mm范围10-10mm距离的曲线图。通过制作线宽度用肉眼观察来估计微粗糙度。在几个mm的距离上也能观察到类波函数。测量并记录波谷和波之差。
示例
例1
把低分子重量的聚碳酸酯聚合物用激冷滚筒工艺挤压成厚度为80μ。这薄膜是德国Roehm GmbH，Darmstatt的商品，EUROPLEXTM Film Clear 99506。
根据上述测试方法测量了该薄膜的性质，并总结于表1。
令人惊奇的是，例1中的挤压聚碳酸酯薄膜的垂直双折射率不仅与比较例1中浇铸聚碳酸酯薄膜相比成本不相上下，而且实际上还是较低和可改良的。
于是，挤压聚碳酸酯光透射覆盖薄膜作为一个部件用于DVR的覆盖薄层，过程如下：
把光透射覆盖薄膜层压到为在光可读圆片相继的制作中防护光透射覆盖薄膜不受擦伤和灰尘污染而设计的可分离防护薄膜上。可分离防护薄膜是有50微米厚的多层聚烯烃为基的薄层，(在德国有售型号为GH-X173，货源为Bischof和Klein GmbH，Lengerich)在23℃使用薄膜层压器来完成层压片。
在两层50微米厚的硅化处理的聚酯分离垫料间的25微米厚的丙烯酸盐型号为光学纯粘合剂8141的压力灵敏粘合剂在美国3M公司有售。粘合剂的圆形部分切成直径大约为120mm的圆。
把圆粘合部分承载在来自底部垫料的连续狭条上。每个圆粘合部由来自上面的相同尺寸形部分垫料防护。每个圆粘合/垫料部分有一个15mm的中心孔。
下述用来粘合如上面制备在表面上带有信息存储层的基本部分和带有可分离防护薄膜的光透射覆盖薄膜。图5示出的粘结装置设置在清洁室为100级的环境中，将DVR部件引导到图5的装置和这种部件的粘合由如下步骤来完成：
1.基本部分1附着在图5粘结装置顶板54的真空板支架，并使其信息存储层朝下通过其室来固定。
2.将压力灵敏粘合层4(在除去一个分离垫料层后)放上底板59的真空板支架53，使其余的分离垫料面朝下，并对准中心。
3.关闭主真空室56。
4.把主室56抽真空，达到0.08mbar的真空为止。
5.对底板59通气使其升高，因此，把压力灵敏粘合剂4粘结到基本部分1的信息存储层3。
6.抽空底板59的真空板支架53，而使底板59降低。
7.把主真空56通气，然后将其打开。
8.这结合的结构(基本部分1/信息存储层3/压力灵敏粘合层4/分离垫料)仍保留附着顶板54，通过它的直径板支架固定。
9.从压力灵敏粘合层4除去分离垫料。
10.光透射覆盖层5的模切层压片和防护薄膜7使分离防护层面朝下放在底板59上，并对准中心。
11.关闭主真空室56。
12.抽空主室56直到达到真空度为0.08mbar为止。
13.给底板通气从而使其升高，而将光透射覆盖薄膜5粘结到压力灵敏粘合层4，于是，形成光存储介质。
14.抽空顶板54的真空板支架。
15.底板59降低。
16.给主真空室56通气。
17打开主室56。
为鉴定已完成的光存储介质的性能，除去可分离防护层。所得到的光存储介质显现有益的光学性质，包括低厚度变化，低跳动值和相对于线性偏振光的高透射率。
比较例1
把APEC 9331(Bayer AG)，一种包括按重量90％的bisphenolA和重量10％的1，1-二(4-颖苯基)-3.3.5-三甲基环己烷(TMC)的聚碳酸酯聚合物溶解在亚甲氯化物中并浇铸在平滑的不锈钢带上，然后干燥到15％的剩余溶剂。从该带取走这薄膜，并经过强迫空气炉(约80～100℃)通过，直至在薄膜中的剩余溶剂按重量少于1％为止。
最后的光透射覆盖薄膜的厚度为77.0微米。该薄膜可以德国Lofo HishTech Film GmbH，Weil am Bhein得到。
这光透射覆盖薄膜根据上面给出的测试方法鉴定。结果总结于表1。
从而，浇铸聚碳酸酯薄膜就用作像在例1中的光存储介质的防护覆盖薄膜。
  样品  薄膜厚度微米+/- 垂直双折射率 平面内光延迟量nm+/-   微粗糙度nm   类波粗糙度nm
  1.挤压PC  81.3+/-2 0.00029 -4，+/-8   40   200
  C1溶剂浇铸PC  77.0+/-0.6 0.00066 -1，+/-9   60   400

Claims (12)

1.一种光存储介质，用一光束(6)可从它读出信息和/或可把信息存储其内，其特征在于，所述光存储介质包括一个或更多基本部分(1)，且光束(6)入射到基本部分(1)的一侧面，一层或更多信息存储层(3)，至少一层光透射覆盖薄膜(5)，以及一个或更多光透射粘合层(4)它其他所述覆盖薄膜(5)彼此粘结，粘结到由光束(6)入射到的基本部分(1)的表面(2)和/或一个或更多信息存储层(3)，所述覆盖薄膜(5)在20℃分别在所述光束(6)的波长或波长谱呈现出小于0.001的垂直双折射率，且所述覆盖薄膜中的至少一层是挤压的。
2.如权利要求1所述的光存储介质，其特征在于，所述粘合层(4)是压力灵敏粘合薄膜。
3.如权利要求1和2所述的光存储介质，其特征在于，所述覆盖膜或几层薄膜(5)在20℃至少分别在所述光束(6)的波长或波长谱显现出小于±30nm的平面内光程差。
4.如权利要求1-3所述的光存储介质，其特征在于，包括基本部分(1)，它的表面(2)含有坑结构，在这坑结构上形成信息存储层3。
5.如权利要求1-4所述的光存储介质，其特征在于，包括用光透射粘合层(4)粘结到在基本部分(1)的表面(2)上的信息存储层(3)的一层光透射覆盖薄膜(5)。
6.如权利要求1到5所述的光存储介质，其特征在于，光透射覆盖薄膜(5)的厚度从10μm到200μm。
7.如权利要求2所述的光存储介质，其特征在于，光透射压力灵敏粘合层或几层(4)的厚度从5μm到100μm。
8.如权利要求1-7所述的光存储介质，其特征在于，在光记录介质整个延伸上、在横越它的任选横截面上测量到的每层光透射覆盖薄膜(5)的厚度变化和/或由每层光透射覆盖薄膜(5)引入的光记录介质厚度变化不大于±3μm。
9.如权利要求1-8所述的光存储介质，其特征在于，在光记录介质整个延伸上、在横越它的任选横截面上测量到的每层光透射粘合层(4)的厚度变化和/或由每层光透射粘合层(4)引入的光记录介质的厚度变化不大于±3μm。
10.如权利要求1-9所述的光存储介质，其特征在于，包括光透射覆盖薄膜(5)和光透射粘合层(4)，其中光透射覆盖薄膜(5)的厚度变化总和或由光透射覆盖薄膜引入的光介质的厚度变化总和，以及光透射粘合层(4)的厚度变化总和或由粘合层(4)引入的光记录介质的厚度变化的总和，都不大于±5μm，由此，这种总和是在光记录介质的整个延伸上，在横越它的任选横截面上测量的。
11.一种根据权利要求1～10所述的光记录介质的制备方法，其特征在于，包括：
(1)提供至少一个基本部分(1)，其有表面(2)，光束(6)入射在它的上面所述表面可选择地包括带着信息存储层(3)的坑结构，
(2)提供多层薄膜(12)，包括按给定次序的可分离防护薄膜(7)，光透射覆盖薄膜(5)，在它的内表面可选择地包括带有信息存储层(3)的坑结构，光透射压力灵敏粘合层(4)以及分离垫料(8)，可选择地还包括在光透射覆盖薄膜(5)和压力灵敏粘合薄膜间的一层中更多另一层光透射覆盖薄膜(5’)，用一层或更多另一层光透射粘合层(4’)将其彼此粘结，其中所述(5，5’)在20℃至少分别在所述光束(6)的波长或波长谱显现出小于0.001的垂直双折射率，以及其中所述覆盖薄膜(5，5’)中至少一个是挤压的。
(3)除去所述分离垫料(8)，以及
(4)把多层薄膜(12)层压到在基本部分(1)的表面(2)上信息存储薄膜(3)的表面(2)。
12.在光存储介质中一层或更多挤压光透射覆盖薄层(5)的使用，其特征在于，将在20℃分别在光束(6)的波长或波长带呈现小于0.001的垂直双折射率的所述覆盖薄膜中的至少一层用来从所述光存储介质读书信息和/或把信息存放所述光存储介质，所述光存储介质包括一个或更多基本部分(1)，它带有由光束(6)入射到基本部分(1)的一个侧面，一层或更多信息存储层(3)，至少一层光透射覆盖面(5)以及一层或更多光透射粘合层(4)，它把所述覆盖薄膜(5)彼此粘结，粘结到光束(6)入射到基本部分(1)的表面(2)和/或粘结到一层或更多信息存储层(3)。
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