KR20030051733A - 광학 저장 매체 - Google Patents

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KR20030051733A
KR20030051733A KR10-2003-7005610A KR20037005610A KR20030051733A KR 20030051733 A KR20030051733 A KR 20030051733A KR 20037005610 A KR20037005610 A KR 20037005610A KR 20030051733 A KR20030051733 A KR 20030051733A
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KR
South Korea
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translucent
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storage medium
adhesive layer
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KR10-2003-7005610A
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쇠펠볼프강게.
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쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니
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Publication date
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Abstract

본 발명은 정보가 판독될 수 있고 그리고/또는 정보가 광 빔(6)으로 기록될 수 있는 광학 저장 매체에 관한 것으로, 광학 저장 매체는 광 빔(6)이 입사되는 기부 부재(1)의 측면 상에 지탱되는 하나 이상의 기부 부재(1), 하나 이상의 정보 저장층(3), 적어도 하나의 투광 덮개막(5), 및 덮개막(5)을 광 빔(6)이 입사되는 기부 부재(1)의 표면(2)에 및 하나 이상의 정보 저장층(3)에 상호 결합시키는 하나 이상의 투광 접착제층(4)을 포함하고, 덮개막(5)은 압출되어 광 빔(6)의 적어도 파장 또는 파장 스펙트럼 각각에서 20℃에서 0.001 미만의 수직 복굴절을 나타낸다.

Description

광학 저장 매체 {OPTICAL STORAGE MEDIUM}
DVR 디스크는 디지털 기록 및 저장에 유용한 고저장 용량을 나타낸다.
DVR의 전형적인 구조 및 포맷은, 예컨대 EP 제0,729,141호, EP 제0,867,873호, 및 EP 제0,874,362호에 기술된다.
DVR 디스크는 하나 또는 양 주요면 상에 랜드 및 홈(lands and grooves)의 구조를 포함한 정보 저장층을 나타내는 디스크형 기판 또는 기부 부재를 통상 포함한다. DVR 디스크는 정보 저장층에 인가된 투광 덮개막을 추가로 포함한다.
1999년 4월 22일에 본 출원인에 의해 출원된 계류중인 특허 출원 EP 제99 107 975.7호에서 선형 편광에 대해서 광학 저장 매체, 특히 DVR의 투과율은 본질적으로 광학적 이방성인 투광 덮개막을 사용하여, 보다 바람직하게는 충돌 광빔(impinging light beam)의 적어도 파장 또는 파장 스펙트럼의 각각에서 적어도 20℃인 경우에 0.001 미만의 수직 복굴절을 나타냄으로써 향상될 수 있다. EP 제99 107 975.7호는 수직 복굴절이 낮거나 매우 낮은 투광 덮개막이 용매 주입(solvent-casting) 및 중합 주입(polymerization-casting) 기술을 구비한 주입 공정에 의해 달성될 수 있다는 것을 개시하지만, 압출 중합체층은 DVR과 같은 광학 저장 매체에서 투광 덮개막으로 통상 사용될 수 없는 것으로 기술된다.
그러나, 용매 주입 기술은 주입 단계 중에 투광 덮개막의 중합체를 용해하도록 염화 메틸렌과 같은 다량의 용매를 필요로 한다. 용매는 고가의 장비와 높은 에너지 비용을 필요로 하는 제품으로부터 증발되어 재활용되어야 한다. 중합 주입 기술은 경제적인 관점에서 단점을 가지는 적어도 하나의 해제 라이너(release liner)의 사용을 필요로 한다.
따라서, 본 발명의 목적은 투광 덮개막을 준비할 때 종래에 당면한 결함과 단점을 나타내지 않거나 이러한 결합과 단점을 적게만 나타내는 DVR과 같은 광학 저장 매체에 사용되기 위한 투광 덮개막을 구비하는 대안 방법을 제공하는 것이었다. 본 발명의 다른 목적은 이러한 유리한 방법에 의해 달성된 투광 덮개막을 포함하는 DVR과 같은 광학 저장 매체를 제공하는 것이였다.
본 발명의 다른 목적은 첨부된 상세한 설명으로부터 명백할 것이다.
본 발명은 광학 저장 매체에 관한 것으로, 특히 정보가 판독될 수 있고 정보가 광 빔으로 기록될 수도 있는 디지털 비디오 기록식 디스크(DVR)에 관한 것으로, 상기 광학 저장 매체는 광 빔이 입사하는 기부 부재의 측부 상에 지탱되는 적어도 하나의 기부 부재, 하나 이상의 판독식 및/또는 기록식 정보 저장층, 및 하나 이상의 투광 덮개막을 포함한다. 또한, 본 발명은 광학 저장 매체를 제조하기 위한 방법에 관한 것으로, 특히 디지털 비디오 기록식 디스크(DVR)에 관한 것이다.
도1a는 표면(2) 상에 광 빔(6)이 입사되고 정보 저장층(3)의 일부를 형성하는 랜드 및 홈의 구조를 포함하는 기부 부재(1)를 구비한 본 발명에 따른 광학 기록 매체의 특정 실시예를 개략적으로 도시하는 것으로, 상기 광학 저장 매체는 추가로 감압 접착제층(4)에 의해 정보 저장층(3)에 결합되는 압출 투광 덮개막(5)을 추가로 포함한다.
도1b는 표면(2)이 제1 정보 저장층(3a)의 일부를 형성하는 랜드 및 홈의 구조를 포함하는 기부 부재(1)를 구비한 본 발명에 따른 광학 기록 매체의 다른 특정 실시예를 개략적으로 도시하는 것으로, 상기 광학 저장 매체는 광 빔(6)이 입사되고 표면(9)이 감압 접착제층(4)에 의해 정보 저장층(3a)에 결합되는 제2 정보 저장층(3b)의 일부를 형성하는 랜드 및 홈의 구조를 포함하는 압출 투광 덮개막(5)을 추가로 포함한다.
도2는 감압 접착제층(4)의 노출면이 압출 투광 덮개막(5)의 노출면에 접착되도록 2개의 롤러(50, 51) 사이에 해제 가능한 보호막(7) 및 압출 투광 덮개막(5)을 포함하는 제1 적층물의, 투광 감압 접착제층(4)과 원활 해제 라이너(8)를 포함하는 제2 적층물로의 적층을 개략적으로 도시한다.
도3은 결합된 적층물(12)을 제공하는 롤러(52)에 걸쳐 해제 라이너를 견인함으로써 해제 가능한 보호막(7), 투광 압출 덮개막(5) 및 감압 접착제층(4)을 순서대로 포함하는 적층물로부터의 해제 라이너(8)의 제거와 중심 구멍(10)과 외부 주연부(11)를 갖는 원반형 적층물을 제공하도록 공기 흡입 및 다음의 다이 절단에 의해 진공판 홀더(53)로의 이러한 적층물의 부착을 개략적으로 도시하고, 다이 절단 공구는 화살표로만 표시되고 도시되지 않는다.
도4는 해제 가능한 보호막(7), 압출 투광 덮개막(5) 및 노출 투광 감압 접착제층(4)을 순서대로 포함하는 디스크형 적층물을 개략적으로 도시하고, 상기 적층물은 중심 구멍(10)과 외부 주연부(11)를 가지고 공기 흡입에 의해 진공판 홀더(53)에 부착된다.
도5는 상부 진공 챔버(56), 하부 압력 챔버(58)를 갖는 진공 결합 장치(60)를 개략적으로 도시하고, 펌프(55) 및 진공 또는 정상 또는 과압에 의해 진공 챔버에 각각 인가될 수 있는 진공은 펌프(57) 또는 공기 밸브에 의해 하부 챔버에 각각 인가될 수 있고, 상부 챔버는 가요성 시일(61)과 조합식으로 상부 챔버(56)와 하부 챔버(58)를 분리하는 이동식 하부판(59)과 상부판(54)을 포함하고, 하부판(59)은 해제 보호층(7)의 다이 절단 적층물, 압출 투광 덮개막(5), 및 감압 접착제층(4)을지탱한 진공판 홀더(53)와 정보 저장층(3)을 지탱한 기부 부재(1)를 보유하는 상부판(54)을 포함한다.
도면은 개략적인 것일 뿐이고 일정 비례로 도시되지 않았다는 것을 주지해야한다. 도1a에 있어서, 기부 부재(1)의 두께는 압출 투광 덮개막(5)의 두께보다 1배 이상이지만, 홈의 깊이는 통상 5 내지 50nm의 범위이고, 이에 따라 기부 부재(1)의 두께에 비해 무시할만하다.
본 발명은 정보가 판독될 수 있고 그리고/또는 광 빔(6)으로 기록될 수 있는 광학 저장 매체에 관한 것으로, 상기 광학 저장 매체는 광 빔(6)이 입사되는 기부부재(1)의 측면 상에 지탱되는 하나 이상의 기부 부재(1), 하나 이상의 정보 저장층(3), 적어도 하나의 투광 덮개막(5), 및 덮개막(5)을 광 빔(6)이 입사되는 기부 부재(1)의 표면(2)에 및 하나 이상의 정보 저장층(3)에 상호 결합시키는 하나 이상의 투광 접착제층(4)을 포함하고, 덮개막(5)은 압출되어 광 빔(6)의 적어도 파장 또는 파장 스펙트럼 각각에서 20℃에서 0.001 미만의 수직 복굴절을 나타낸다.
본 발명은 또한 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 따른 광학 기록 매체를 준비하기 위한 방법에 관한 것으로,
(1) 광 빔(6)이 입사되는 표면(2)을 갖는 적어도 하나의 기부 부재(1)를 제공하는 단계로서, 표면은 정보 저장층(3)을 지탱하는 피트의 구조를 선택적으로 포함하고,
(2) 해제 가능한 보호막(7), 내부면이 정보 저장층(3)을 보유하는 피트의 구조를 선택적으로 포함하는 투광 덮개막(5), 투광 감압 접착제층(4) 및 해제 라이너(8)를 순서대로 포함하는 다중층 막을 제공하는 단계로서, 다중층 막은 투광 덮개막(5)과 감압 접착제막 사이에 하나 이상의 추가 투광 접착제층(4')에 의해 상호 결합되는 하나 이상의 추가 투광 덮개막(5')을 선택적으로 추가 포함하고, 덮개막(5, 5')은 광 빔(6)의 적어도 파장 또는 파장 스펙트럼 각각에서 20℃에서 0.001 미만의 수직 복굴절을 나타내고, 적어도 하나의 덮개막(5, 5')은 압출되고,
(3) 해제 라이너(8)를 제거하는 단계와,
(4) 기부 부재(1)의 표면(2) 상의 정보 저장 층(3)의 표면(2)에 다중층 막(12)을 적층시키는 단계를 포함한다.
본 발명은 또한 광학 저장 매체의 하나 이상의 압출 투광 덮개막(5)의 사용에 관한 것으로, 적어도 하나의 덮개막은 광학 저장 매체로부터 정보를 판독하고 그리고/또는 이에 기록하는 데에 사용되는 광 빔(6)의 적어도 파장 또는 파장 스펙트럼 각각에서 20℃에서 0.001 미만의 수직 복굴절율을 나타내고, 광학 저장 매체는 광 빔(6)이 입사되는 기부 부재(1)의 측부 상에서 지탱되는 하나 이상의 기부 부재(1), 하나 이상의 정보 저장층(3), 적어도 하나의 투광 덮개막(5), 및 덮개막(5)을 광 빔이 입사되는 기부 부재(1)의 표면(2)에 및/또는 하나 이상의 정보 저장층(3)에 상호 결합시키는 하나 이상의 투광 접착제층(4)을 포함한다.
상기 및 이하에서, "막" 및 "층"이라는 용어는 상호 교환하여 사용되고 z방향으로의 연장부(즉, 두께)에 대해 큰(즉, 적어도 예컨대 3배 이상인) x-y 평면으로의 연장부를 갖는 입자를 의미한다.
본 발명의 광학 저장 매체는 광이 입사하는 기부의 측부 상에 지탱되는 적어도 하나의 기부 부재, 판독 가능한 및/또는 기록 가능한 하나 이상의 정보 저장층, 적어도 하나의 투광 감압 접착제층, 및 적어도 하나의 압출 투광 덮개막을 포함한다.
도1a는 광(6)이 입사하는 측부 상에서 주요면(2) 상에서 정보 저장층(3)의 일부를 형성하는 랜드 및 홈의 구조를 나타내는 기부 부재(1)를 포함하는 본 발명에 따른 광학 저장 매체의 특정 실시예의 단면도의 개략도를 예로서 도시한다. 정보 저장층(3)은 투광 덮개막(5)이 결합되는 감압 접착제층(4)을 지탱한다.
본 발명에 유용한 광학 저장 매체의 보다 복잡한 구조는, 예컨대 본 발명에서 참조로 사용되는 EP 제0,867,873호에 기술된다. 광학 저장 매체는, 예컨대 기판의 하나 이상의 주요면 각각의 위에서 상호 상하로 배열되는 2개 이상의 정보 저장층(3)을 포함한다. 도1b는 기부 부재의 내부면(2)과 투광 덮개막의 내부면(9)에 각각 인가된 2개의 정보 저장층(3a, 3b)을 포함하는 구조를 도시한다.
기부 부재(1)는 임의의 형상일 수도 있지만 조립식 광학 저장 매체를 기록 또는 작동 스테이션에 중심을 맞추는 데에 유용한 중심 구멍을 나타내는 디스크인 것이 바람직하다. 디스크 또는 환형 기판은 약 10 내지 360mm의 외경과 약 5 내지 35mm의 중심 구멍의 내경을 가지는 것이 바람직하고, 두께는 0.3과 3.0mm 사이인 것이 바람직하고, 특히 0.5와 1.5mm 사이인 것이 바람직하다. 기판은, 예컨대 아크릴 수지, 폴리카보네이트, 에폭시 수지, 환식 올레핀 중합체, 및 폴리올레핀과 같은 중합체 재료를 포함하는 것이 바람직하다. 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리카보네이트, 또는 열적으로 안정한 폴리에스테르 코카보네이트와 같은 경질 플라스틱이 특히 바람직하다.
기판은 그 주요면의 한면 또는 양면 각각에서 피트(pit)로 집합적으로 통상 지칭되는 오목부(또는 홈) 및 볼록부(또는 랜드)를 포함하는 구조를 포함할 수도 있다. 연속적인 랜드와 홈 사이의 광학 누설을 최소화하도록 광의 파장, 투광 덮개막의 굴절율, 및 홈의 깊이 사이의 관계를 구비한 피트의 전형적인 치수는 본원에서 참조로 사용되는, 예컨대 EP 제0,874,362호 또는 EP 제0,867,873호에서 개시된다. 반경 방향으로 측정되는 바와 같이 인접한 물리적인 트랙의 중심선 사이의 거리인 트랙 피치는 통상 0.64㎛이하, 보다 바람직하게는 0.32㎛ 이하이다.
피트의 구조는 기부 부재 또는 부재들의 한면 또는 양면 각각에 성형될 수있다. EP 제0,729,141호의 4쪽 14 내지 46줄에 상세히 기술되는 이 공정은 (EP '141호의 도4A 내지 도4G에 개략적으로 도시된 바와 같이) 마스터 디스크 형성 단계와 (EP '141호의 도5A 및 도5B에 개략적으로 도시된 바와 같이) 사출 성형 단계를 통상 포함하며, EP '141호는 본원에서 참조로 사용된다. 그러나, 피트의 구조는 적어도 하나가 패턴 구조를 나타내는 2개의 롤러 사이에서 유리 전이 온도를 넘는 온도로 가열되는 압출 투광 덮개막을 지나감으로써 압출 투광 덮개막에서 달성되는 것이 또한 가능하다. 이 기술은 압출 투광 덮개막이 롤러와 스탬퍼(stamper) 사이로 지나가는 EP 제0,867,873호의 도10에서 개략적으로 도시된다. 이에 따라 획득된 압출 투광 덮개막은 다수의 정보 저장층을 갖는 광학 저장 매체가 달성될 수 있도록 감압 접착제층에 의해 피트 구조를 선택적으로 지탱한 하나 이상의 다른 투광 덮개막에 또는 기부 부재에 접착될 수 있다.
정보 저장층(3)의 구조는 판독 및/또는 기록을 허용하는 지에 따른다.
광학 저장층이 ROM 형태라면, 정보 저장층(3)은 예컨대 스퍼터링에 의해 달성될 수 있는 통상 20 내지 50nm 사이의 두께를 갖는 Al, Au 등의 반사막을 지탱하는 피트 구조를 포함할 수도 있다.
기록식 광학 저장 매체는 위상 변화형 또는 자기 광학형일 수도 있다. EP 제0,867,873호에 따르면, 위상 변화형 정보 저장층은 Al 막, GeSbTe 막 및 ZnS-SiO2막과 같은 반사막을 피투 구조 상에 연속적으로 형성함으로써 달성될 수도 있다. 보다 복잡한 위상 변화형 정보 저장층은, 예컨대 EP 제0,874,362호에 기술된다.자기 광학형 정보 저장층(3)은 예컨대 Al 막, SiN 막, TbFeCo 막, 및 SiN 막과 같은 반사막을 순서대로 지탱하는 피트 구조를 포함한다.
한번 쓰기형(write-once type)의 정보 저장층은, 예컨대 Al, Au, 또는 다른 금속의 얇은 반사막을 시아닌 및 프탈로시아닌계 유기 착색막으로 코팅된 피트 구조에 인가함으로써 달성될 수 있다.
전술된 정보 저장층은 예로서만 제시된다. 본 발명에 따른 광학 저장 매체는 정보 저장층의 기타 및/또는 변경 구조를 포함할 수 있다.
낮은 두께 변화량, 유리한 광학 특성, 낮은 지터값(jitter value)을 갖는 광학 저장 매체는 이러한 매체를 하나 이상의 투광 감압 접착제층과 결합시킴으로써 획득될 수 있다는 것이 1999년 4월 22일에 본 출원인에 의해 출원된 계류중인 EP 제99 107 975.7호에 개시된다. 2000년 10월 24일에 본 출원인에 의해 유럽 특허청에 출원된 "광학 저장 매체"로 명명된 계류중인 유럽 특허 출원에서, DVR과 같은 광학 저장 매체가 이후의 경화 작업과 함께 투광 접착제의 액체 경화식 프리커서(precursor)를 인가함으로써 또한 접착될 수도 있다. 그러나, 감압 접착제층 또는 막의 사용이 바람직하다.
도1a에 개략적으로 도시된 광학 저장 매체의 특정 실시예에 있어서, 접착제층(4)은 압출 투광 덮개막(5)를 정보 저장층(3)에 결합시킨다. 전술된 바와 같이 다수의 정보 저장층을 포함하는 보다 복잡한 구조에서, 접착제층(4)은 정보 저장층(3)을 선택적으로 포함한 2개 이상의 투광 덮개막(5)을 상호 접착시키는 데에 또한 사용될 수 있다.
본 발명의 다른 광학 저장 매체는 2개 이상의 정보 저장층을 포함한다. 도1b에 개략적으로 도시된 광학 저장 매체의 특정 실시예에 있어서, 접착제층(4)은 제1 정보 저장층(3a) 내지 제2 정보 저장층(3b)을 지탱하는 기부 부재(1)를 광 빔(6)이 입사하는 압출 투광 덮개막(5) 상에 접착시킨다.
접착제층은 정보가 판독되고 광학 저장 매체에 기록되는 입사 광 빔(6)의 파장에서 광학적으로 투명 및 투광할 것이 요구된다. 광 빔(6)을 생성하기에 적절한 광원은, 예컨대 400 내지 700nm, 바람직하게는 적색 레이저에 대해 600 내지 660nm 사이, 청색 레이저에 대해 400 내지 420nm 사이의 파장에서 방출선을 갖는 레이저를 포함한다. 간섭 필터와 같은 적절한 모노크로마틱 필터로 폴리크로마틱 광원을 사용하는 것이 또한 가능하다. 예컨대 ASTM D 1746에 따라 측정될 수 있는 입사광의 파장에서 접착제층(4)에 사용된 접착제의 광 투명성 또는 광 투과율은 적어도 80%인 것이 바람직하고, 적어도 85%인 것이 더욱 바람직하다.
하나 이상의 감압 접착제층이 본 발명의 광학 저장 매체에 사용되는 경우에, 이러한 감압 접착제층은 각 측부에 접착제층을 지지하는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트 또는 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)와 같은 선택적으로 표면 처리된 무정형 폴리머층과 같은 투명 후방 및/또는 캐리어층을 포함할 수도 있지만, 후방 및/또는 캐리어층을 전혀 포함하지 않는 이송막인 것이 바람직하다. 이송막인 경우에, 감압 접착제층은 바람직하게는 10 내지 100㎛ 사이, 보다 바람직하게는 15 내지 80㎛ 사이, 특히 바람직하게는 15 내지 50㎛ 사이의 평균 두께를 가지지만, 후방 및/또는 캐리어층을 포함한 양면 접착 테이프는 30과 100㎛ 사이의두께를 가질 수도 있고, 보다 바람직하게는 40과 80㎛ 사이의 두께를 가질 수도 있다.
광 투명 조건은 아크릴레이트계 감압 접착제에 의해 통상 만족되지만, 특히 수소화 엘라스토머 또는 비닐에테르 중합체계 감압 접착제를 포함하는 실리콘계 감압 접착제, 고무 수지계 감압 접착제, 블록 공중합체계 접착제가 사용될 수 있다. 이러한 임의의 재료는 그 특성을 맞추도록 가소제 및/또는 접착 부여제(tackifier)와 혼합될 수도 있다. 아크릴레이트계 감압 접착제가 바람직하다.
본 발명에 유용한 아크릴레이트계 감압 접착제는 그 알킬 그룹이 평균 4 내지 14의 원자를 갖는 하나 이상의 알킬 아크릴레이트를 포함한 프리커서의 중합에 의해 획득될 수 있다. 평균 4 내지 14의 원자라는 용어는 알킬 아크릴레이트 화합물의 탄소(C) 원자의 평균 개수가 4 내지 14 사이이고, 특히 4 내지 12 C 원자라는 것을 의미한다. 유용한 알킬 아크릴레이트(즉, 아크릴산 알킬 에스테르 모노머)는 그 알킬 그룹이 4 내지 14, 특히 4 내지 12 탄소 원자를 갖는, 선형 또는 가지형의 단일 기능기의 불포화된 아크릴레이트 또는 3차가 아닌 알킬 알콜의 메타크릴레이트를 구비한다. 본 발명에 사용된 저급 알킬 아크릴레이트의 예는 이에 제한되지는 않으나, n-부틸 아크릴레이트, 이소부틸 아크릴레이트, 헥실 아크릴레이트, 2-에틸헥실 아크릴레이트, 이소옥틸 아크릴레이트, n-옥틸 아크릴레이트, n-옥틸 메타크릴레이트, 2-메틸부틸 아크릴레이트, 이소노닐 아크릴레이트, n-노닐 아크릴레이트, 이소아밀아크릴레이트, n-데실 아크릴레이트, 이소데실 아크릴레이트, 이소데실 메타아크릴레이트, 이소보르닐 아크릴레이트, 4-메틸-2-펜틸 아크릴레이트,및 도데실 아크릴레이트를 구비한다. 저급 아크릴레이트 및 메타크릴레이트 에스테르는 이소옥틸 아크릴레이트, n-부틸 아크릴레이트, 2에틸헥실 아크릴레이트, 이소노닐 아크릴레이트 및 도데실 아크릴레이트를 구비한다. 감압 접착제의 중합된 프리커서는 바람직하게는 5 까지, 특히 1 내지 4개의 알킬 아크릴레이트를 포함한다. 전술된 바와 같은 알킬 아크릴레이트의 알킬 그룹의 탄소 원자의 평균 개수는, 바람직하게는 4 내지 12 사이이고, 특히 5 내지 10 사이이다. 다양한 알킬 아크릴레이트의 혼합물이 또한 사용될 수도 있다.
감압 접착제의 중합된 프리커서는, (각각 말레산 및 푸마르산계인) 예컨대 알킬 말레이트 및 알킬 푸마레이트와 같은 아크릴산 이외에 불포화 지방성 카르복실산의 알킬 에스테르를 추가로 포함할 수 있다. 그 점에 대해, 디부틸 말레이트, 디옥틸 말레이트, 디부틸 푸마레이트, 및 디옥틸 푸마레이트가 바람직하다. 아크릴산 이외의 불포화된 지방성 카르복실산의 에스테르 화합물량은 그리 많지 않고, 바람직하게는 알킬 아크릴레이트 성분의 중량에 대해 25중량 %를 초과하지 않는다.
감압 접착제의 중합된 프리커서는 하나 이상의 적절히 극성화된 및/또는 강하게 극성화된 모노머를 추가로 포함할 수 있다. 극성(즉, 수소 결합능)은 "강하게", "적절하게", 및 "약하게"와 같은 용어를 사용하여 종종 기술된다. 이들 및 기타 용해도 용어를 기술하는 참조물은 펜실바니아주 필라델피아소재의 테스팅 및 재료를 위한 미국 학회에서 편집자 지.지. 수어드(G.G. Seward)에 의한 페인트 테스팅 매뉴얼 3판 및 페인트 기술 저널 제38권 제496호의 269 내지 280쪽에서의 "용해도에 대한 3차원적 접근"의 "용매"를 포함한다. 강극성 모노머의 예는 아크릴산, 메타크릴산, 및 아크릴아미드이고, 예컨대 N-비닐 피롤리돈 및 N-비닐 카프로락탐과 같은 N-비닐 락탐, 아크릴로니트릴 및 디메틸 아미노-프로필 메타크릴레이트는 온극성 모노머의 전형적인 예이다. 약극성 모노머의 예는, 예컨대 이소-보르닐 아크릴레이트, 비닐 아세테이트, N-옥틸 아크릴아미드, t-부틸 아크릴레이트, 메틸 아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트 또는 스틸렌을 구비한다. 그러나, 적어도 하나의 부재의 내면이, 예컨대 Al 반사층과 같은 부식층을 포함할 때, 강극성 모노머의 백분율은 마크릴레이트 모노머의 중량에 대해 그 중량이 약 10% 미만인 것이 바람직하고, 그 중량이 약 5% 미만인 것이 더욱 바람직하다는 것을 알아냈다. 감압 접착제는 바람직하게 부식에 의한 부재의 내면의 심각한 손상을 회피하도록 아크릴산이 본질적으로 없어야 한다.
본 발명에 유용한 아크릴레이트계 감압 접착제는, 예컨대 US 제4,181,752호, 제4,418,120호, WO 제95/13,311호에 기술되고 또는 1989년에 뉴욕에서 편집자 디. 산타스(D. Santas)에 의한 감압 접착제 기술의 핸드북 제2판의 396 내지 491쪽에 기술된다. 이들 참조물은 본원에서 참조로 사용된다.
본 발명에 유용한 감압 접착제층은, 예컨대 감압 접착제의 투명도를 감소시키지 않고 감압 접착제의 원치않는 및/또는 수용불능한 정도로의 두께의 균일성에 역영향을 주지 않는다면 중합체 첨가제, 농후제(thickening agent), 접착 부여제, 체인 이송제 및 기타 첨가제와 같은 추가적인 성분을 포함할 수도 있다. 이러한 첨가제의 량은 감압 접착제의 중량에 대해 바람직하게는 5 중량% 이하이고, 보다 바람직하게는 0 내지 2 중량 %이다.
본 발명에 유용한 감압 접착제는 바람직하게는 (23℃의 온도 및 1 라디안/초의 진동수로 측정된) 5×105내지 2×106dyne/㎠ 사이, 보다 바람직하게는 6×105내지1.5×106dyne/㎠ 사이, 특히 바람직하게는 6.5×105내지 9.5×105dyne/㎠ 사이의 저장율(G')을 나타낸다.
감압 접착제층 또는 막은 용매의 다음 증발과 선택적인 경화와 수반하여 유기 용액 또는 수용액 또는 분산제로서 또는 다음 경화에 수반하여 본질적으로 무용매 사전 중합식 시럽으로서 감압 접착제층을 해제 라이너에 코팅함으로써 준비될 수 있다. 후자의 방법은, 예컨대 US 제4,181,752호에서 상세히 기술되지만, 용액의 코팅 또는 감압 접착제의 분산은 (본원에서 참조로 사용되는) 1989년에 뉴욕의 편집자 디. 산타스에 의한 감압 접착제 기술의 핸드북 제2판 767 내지 868쪽에서 기술된다. 감압 접착제층의 노출면은 경화 이전 또는 이후에 제2 해제 라이너로 통상 보호된다.
감압 접착제층의 두께가 매우 균일한 광학 저장 매체의 준비를 허용하도록 세심하게 제어되어야 한다는 것이 본 발명자에 의해 발견되었다. 감압 접착제층에 의해 도입된 광학 저장 매체의 두께의 변화량은 이후의 테스트 부분에서 기술된 측정 방법을 사용하여 전체 연장부에 걸쳐 광학 저장 매체의 임의로 선택된 단면을 가로질러 측정된 바와 같이 바람직하게는 약 ±3㎛이하이고, 보다 바람직하게는 약 ±2㎛이라는 것을 알아냈다.
이들 조건을 충족하는 매우 평탄하고 균일한 정밀 캘리퍼 감압 접착제층를준비하는 양호한 방법은, 예컨대 본원에서 참조로 사용되는 WO 제95/29,766호에 기술된다. 이 방법은 기판이 다이에 대해 이동됨에 따라 감압 접착제의 무용매의 중합식 시럽 프리커서를 다이를 통해 기판의 표면 상에 코팅하는 단계를 포함한다. 다이는 감압 접착제의 프리커서를 수용하도록 구성된 채널과 프리커서가 통과하는 상기 채널과 연통하는 조절식 폭 슬롯을 구비한다.
슬롯은 기판의 하류측 상에 위치된 대체로 일직선의 예리한 모서리와 기판의 상류측 상에 위치된 랜드 사이에 형성된다. 다이 코팅 방법과 정밀 코팅 다이는 (본원에서 참조로 사용되는) WO 제95/29,764호 및 WO 제95/29,765호에 상세히 기술된다. 이 방법은 감압 접착제층의 다음 경화에 수반하여, 예컨대 아크릴레이트계 감압 접착제의 본질적으로 무용매식의 사전중합식 시럽형 프리커서를 해제 라이너 또는 이동 벨트 상에 코팅하는 데에 사용될 수 있다. 감압 접착제층 또는 막은 경화된 후에 이동 벨트로부터 광학 저장 매체의 제1 부재의 내면 상에 직접 이송될 수도 있고, 또는 제1 부재의 내면으로의 인가 이전에 해제 라이너 사이에 임시 저장될 수도 있다. 2㎛ 미만으로 이후에 한정된 바와 같이 표면 거칠기(Rz)를 갖는 본질적으로 평탄하고 원활한 표면을 갖는 이동 벨트 또는 해제 라이너를 사용할 때, ±3㎛ 이하의 두께 공차, 바람직하게는 약 ±2㎛ 이하의 두께 공차를 갖는 매우 균질한 감압 접착제층이 획득될 수 있다. 이들 접착제층은 매우 균일한 광학 저장 매체의 준비에 사용될 수 있고, 감압 접착제층에 의해 광학 저장 매체 내로 도입된 두께 공차는 통상 ±3㎛ 이하이다.
감압 접착증의 굴절율은 투광 덮개막의 평균 굴절율로 조절된다. 투광 덮개막의 평균 굴절율과 감압 접착제층의 굴절율 사이의 차이는 0.05 이하이고, 보다 바람직하게는 0.02 미만이다. 예컨대 ASTM D 542에 따라 측정될 수 있는 충돌 광 빔(6)의 파장에서의 감압 접착제의 굴절율[또는 충돌 광 빔(6)의 파장 스펙트럼에서의 각각의 감압 접착제의 평균 굴절율]은 바람직하게는 적어도 1.45이고, 보다 바람직하게는 1.49이다. 본 발명에 유용한 적어도 약 1.50의 굴절율을 갖는 아크릴레이트계 감압 접착제층이, 예컨대 중합식 프리커서로의 페녹시 에틸 아크릴레이트의 충분한 양을 구비함으로써 획득될 수 있다는 것이 본 발명자에 의해 발견되었다.
본 발명의 광학 저장 매체가 투광 접착제의 액정 경화식 프리커서를, 예컨대 투광 덮개막(5)의 다음 인가 및 프리커서의 경화와 수반하여 기부 부재(1)의 정보 저장층(3) 상에 인가시킴으로써 달성되는 경우에, 투광 접착제의 이러한 프리커서는, 예컨대 자외선(UV), 감마(Γ) 또는 e-빔 조사와 같은 방사에 노출됨으로써 경화되는 것이 바람직하다. 투광 접착제의 프리커서는 적어도 하나 이상의 조사-경화식 화합물과 하나 이상의 중합 기폭제를 포함한다.
적절한 조사 경화식 화합물은, 예컨대 e-빔 또는 UV 광으로 조사시에 반응하게 되는 이중 결합을 갖는 프리폴리머, 모노머, 및 올리고머를 구비한다.
적어도 하나의 아크릴 그룹을 포함한 조사 경화식 화합물이 바람직하다. 적어도하나의 (메트) 아크릴로일 그룹[(meth) acryloyl group]을 포함하는 조사 경화식 화합물이 특히 바람직하다.
본 발명에 적절한 조사 경화식 화합물은 선택적으로 하이드록시-, 카르복실-, 또는 카르복실레이트-변경 알킬 또는 알콕시 아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트, 에폭시 아크릴레이트 및 아크릴아미드를 포함한 화합물의 그룹에서 선택되는 것이 본질적으로 바람직하다.
또한, 적어도 하나의 N-비닐 그룹을 포함한 조사 경화식 화합물이 특히 바람직하다. 본 발명에 적절한 조사-경화식 모노머를 포함한 양호한 N-비닐은, 예컨대 N-비닐 카프로락탐, N-비닐 피로리돈 및 N-비닐 이미다졸(imidazole)을 구비한다.
본 발명에 적절한 중합 기폭제(들)는 UV, Γ또는 e-빔 조사시에 라디칼을 생성하는 임의의 종래 중합 기폭제를 구비한다. 예시적인 중합 기폭제는 벤조인 이소프로필에테르 및 벤조인 이소부틸에테르; 벤조페논, p-메톡시벤조페논, 및 p-브로모벤조-페논과 같은 벤조페논 광기폭제; 벤질메틸케탈, 2,2-디에톡시아세토페논, 및 1,1-디클로로아세페논과 같은 아세페논 광기폭제; 2-클로로티옥산톤과 같은 티옥산톤 광기폭제; 앤트라퀴논 및 펜앤트라퀴논과 같은 퀴논 광기폭제; 벤질설파이드, 테트라메틸설파이드와 같은 설파이드 기폭제; 2-메틸-2-하이드록시프로피오페논과 같은 치환된 알파케톨을 구비한다. 상업적으로 입수 가능한 광기폭제의 예는 [미국 뉴욕주 호손 소재의 시바-게이지사(Ciba-Geigy Corp.)로부터 모두 입수 가능한] 이르가큐어 819(Irgacure 819) 및 다로큐르 1173(Darocur 1173), [미국 뉴욕주 팔시페니 소재의 바스프사(BASF)로부터 입수 가능한] 루서른 티피오(Lucern TPO), 시바-게이지사로부터 입수 가능하고 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-원이 되는 것으로 여겨지는 이르가큐어 651(Irgacure 651)을 포함한다. 또한, 공중합체 광기폭제가 유용하다.
다음 경화와 수반하여 상기 접착제의 액체 경화식 프리커서를 인가함으로써 달성되는 경화식 투광 접착제층의 두께는 통상 0.5 내지 20 ㎛, 보다 바람직하게는 2 내지 10㎛, 특히 바람직하게는 2 내지 8㎛이다. 이러한 경화식 접착제층에 의해 도입된 광학 저장 매체의 두께의 변화량은 약 ±2㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 ±1㎛ 이하이다.
투광 접착제층의 액체 경화식 프리커서를 인가함으로써 달성되는 접착제층에 대한 추가적인 세부 사항은 2000년 10월 24일에 유럽 특허청에서 본 출원인에 의해 출원된 "광학 저장 매체"라고 명명된 유럽 특허 출원에서 취할 수 있다.
본 발명의 광학 저장 매체는 그 주요면의 하나 또는 모두에서 피트의 구조를 선택적으로 각각 나타내는 하나 이상의 투광 덮개막을 포함한다. 특히 선형 편광에 대해 재생 가능하게 높은 투과율을 갖는 광학 저장 매체는 이러한 저장 매체에서 본질적으로 광학 등방성이고 저장 및/또는 정보의 판독에 사용되는 광 빔(6)의 적어도 파장 또는 파장 스펙트럼 및 20℃의 온도에서 바람직하게는 수직 복굴절이0.001 미만이고, 보다 바람직하게는 8×10-4미만이고, 특히 바람직하게는 6.5×10-4미만인 하나 이상의 투광 덮개막을 사용함으로써 달성될 수 있다.
x, y 방향으로 연장하는 평면과 z 방향의 두께를 갖는 중합막의 소정의 시트에 대해, 수직 복굴절은, 예컨대 z 방향으로 막의 평면에 수직인 굴절율과 막의 평면, 즉 x 및 y 방향으로 포함한 평면에 평행한 2개의 주요 방향으로의 평균 굴절율 사이의 차이이다. 수직 복굴절은 바람직하게는 광학 저장 매체로부터 정보를 각각 저장 및/또는 판독하는 데에 또한 사용될 수 있는 레이저 광원을 사용하여 20℃의 온도에서 후술되는 바와 같이 측정 방법을 적용하여 측정된다. 사용될 수 있는 레이저 광원은 예컨대 400 내지 700nm 사이의 파장 범위에 방출선을 갖는 것을 구비한다. 또한, 모노크로마틱 필터를 사용한 폴리크로마틱 광원을 사용하는 것이 또한 가능하다.
본 발명에 유용하고 특히 20℃의 온도 및 충돌 광 빔의 각각의 파장 및 파장 스펙트럼에서 0.001 미만의 낮은 수직 복굴절율을 나타내는 투광 덮개막이 압출 방법을 사용하여 획득될 수 있다는 것을 알아냈다.
적절한 압출식 중합체는 40 내지 200g/10분, 보다 바람직하게는 50 내지 150g/10분 사이에서 1.2kg의 중량을 사용하여 ISO 1133에 따라 측정된 바와 같이 300℃에서 용융 흐름율을 나타내는 것이 바람직하다. 특정 예는, 예컨대 폴리디사이클로펜타디엔과 같은 폴리카보네이트 및 폴리올레핀계 중합체를 구비한다. 주입 적용예에 통상 추천되는 약 15,000 및 약 20,000 사이의 저분자량(Mw)을 갖는 폴리카보네이트 분자가 작은 평면내 복굴절율값을 갖는 폴리카보네이트 막을 준비하는 데에 바람직하게 사용될 수 있다는 것이 WO 제00/09,591호에 개시된다.
압출식 중합체는 본원에서 참조로 사용되는 1986년에 뮌헨, 한세르-베르라크에서 헨젠(Hensen) 등에 의해 발행된 "합성수지 압출 기술의 핸드북, 2권, 압출 장치"의 164 내지 171쪽, 6.5.2.7절 "냉각 롤 인장 장치"에서 상세히 기술되는 소위 냉각 롤 압출 방법을 사용하여 용융 및 압출된다. 이 기술이 수직 복굴절율의 유리한 값, 특히 20℃의 온도 및 충돌 광 빔의 적어도 파장 및 파장 스펙트럼 각각에서 0.001 미만의 수직 복굴절율을 갖는 중합체 막의 준비를 허용한다는 것이 본 발명자에 의해 발견되었다. 냉각 롤 압출 기술은 작은 평면내 복굴절값을 갖는 저분자량 폴리카보네이트 막의 압출을 허용하는 것이 WO 제00/09,591호에 개시된다. 그러나, 당업자는 막의 일측부 상의 냉각 금속롤 및 막의 타측부 상의 대기의 존재로 인해 z 방향으로 폴리카보네이트에 도입된 응력으로 인해 수직 복굴절율에 불리한 값을 가질 것으로 예상하였다.
냉각 롤 방법에 의해 획득된 압출된 중합체 막의 수직 복굴절율이 바람직하게 적어도 0.6m, 특히 바람직하게 적어도 0.8m, 특히 바람직하게는 적어도 1.0m의 대경을 갖는, 폴리머가 형성된, 냉각 롤을 사용하여 감소될 수 있다는 것이 본 발명자에 의해 발견되었다. 그러나, 냉각 롤 또는 롤들로부터 이러한 막을 각각 해제시킬 때 일어나는 압출 중합체막의 z 방향으로의 응력의 도입이 대경 냉각 롤을 사용하여 감소될 수 있다는 것이, 이러한 이론에 의해 얽매이지 않으려는 본 발명자에 의해 추정된다. 특히 양호한 방법에 있어서, 냉각 롤 또는 롤들은 하나 이상의 냉각 벨트에 의해 대체된다.
중합체가 압출식 무용매 및/또는 무-모노머 및/또는 가스 배출식 저분자량 입자인 것이 본 발명자에 의해 추가로 발견되었다. 폴리머의 용액 및/또는 폴리머의 중합식 프리커서가 초기에 요구된다면, 압출기의 다이에서의 폴리머의 가스 배출식 저분자량 입자 및/또는 용매의 농도가 폴리머의 중량에 대해 1 중량% 미만, 바람직하게는 0.5 중량 % 미만, 및 특히 바람직하게는 0.1 중량 % 미만이도록 환기식 압출기가 사용되는 것이 바람직하다. 다량의 용매가 존재함으로써 응력 및 이에 따른 광 이방성 및/또는 용매의 증발 중에 z-방향으로의 용매의 구배로 인한 투광 중합체막의 z 방향으로의 응력을 도입하려는 경향이 있다는 것이 본 발명자에 의해 추정된다.
본 발명의 광학 저장 매체에 각각 사용되는 투광 덮개막 또는 막들은 정보를 저장 및/또는 판독하는 데에 사용되는 광 빔의 파장 및 파장 스펙트럼 및 20℃의 온도 각각에서 ±30nm 미만, 보다 바람직하게는 ±25nm 미만, 특히 바람직하게는 ±15nm 미만의 평면내 지연을 추가로 나타내는 것이 바람직하다. 평면내 지연은 독일 마르틴스리xm 소재의 독터. 쉥크 게엠바하(Dr. Schenk GmbH)로부터 상업적으로 입수 가능한 DVD 테스터 “프로메테우스 엠티 136(Prometheus MT 136)”을 사용하여 이후에 기술되는 바와 같이 측정 방법을 적용하여 측정된다. 평면내 복굴절은 투광 덮개막의 두께로 평면내 지연값을 분할함으로써 평면내 지연값으로부터 달성된다.
중합식 프리커서의 중합에 의해 획득되는 투광 덮개막은 강인하고 강성인 것이 바람직하다. 본원에서 사용되는 바와 같이, “강인”이라는 용어는 내신장성, 변형 저항성, 및 치수적으로 안정하다는 것을 의미한다. 보다 특별하게는, 투광 덮개막은 1,380Mpa(1제곱인치당 200킬로파운드)를 초과하고, 보다 바람직하게는 2,070Mpa(300kpsi)를 초과하고, 가장 바람직하게는 2,760Mpa(400kpsi)를 초과한 실온에서 인장률을 가지는 것이 바람직하다.
투광 덮개막의 인장율은 5.1cm/분(2 인치/분)의 분리율 및 10.2cm(4인치) 게이지 길이를 사용하여 ASTM 테스트 방법 D-822-88에 따라 결정된다.
본원에서 사용된 바와 같이, "강인 투광 덮개막"이라는 용어는 실온에서 50%를 초과하는, 보다 바람직하게는 150%를 초과하는 인장 신장율 및 1,380MPa(=200kpsi)미만의 인장율을 갖는 막을 의미한다. 인장율과 인장 신장율은 12.7cm/분(5 인치/분)의 분리율 및 10.2cm의 게이지 길이를 사용하여 ASTM 시험 방법 D-882-88에 따라 측정된다. 본원에서 사용되는 "인장 신장율은"은 기준 인장 테스트 절차 중에 측정된 바와 같이 강인 재료의 파단시의 신장율을 의미한다.
특정 강성 및 강인치를 각각 갖는 투광 덮개막이 바람직하다. 그러나, 전술된 인장 테스트 절차는 투광 덮개막의 테스트 샘플의 기계적 특성을 검사하는 데에만 사용된다. 이러한 테스트 샘플은 본 발명의 광학 저장 매체에 사용되지 않는다. 본 발명의 광학 저장 매체 사용되는 투광 덮개막은 이러한 막에 광 이방성을 가하지 않는 한 응력에 구애받지 않고 취급되어야 한다. 따라서, 본 발명에 유용한 투광 덮개막은 신장되지 말아야 한다.
투광 덮개막 또는 막들의 두께는 바람직하게는 10과 200㎛ 사이이고, 보다바람직하게는 20과 150㎛ 사이이고, 특히 바람직하게는 40과 120㎛ 사이이다. 2개 이상의 투광 덮개막을 포함하는 본 발명의 광학 저장 매체의 보다 복잡한 구조에 있어서, 각 덮개층의 두께는 5와 100㎛사이이고, 보다 바람직하게는 10과 90㎛ 사이이다.
본 발명의 광학 저장 매체의 감압 접착제층 또는 층들 및 투광 덮개막 또는 막들의 두께의 합의 최대 두께는 CD용 JP 제3-225,650호에서 성립된 관계를 사용하여 EP 제0,867,873 및 JP 제3-225,650호에 따라 이러한 최대 두께, 광 디스크 기록 및/또는 재생 장치의 광 헤드 장치의 개구수, 이용되는 광원의 파장, 및 비스듬한 가장자리(skew margin) 사이에서 평가될 수 있다. 대략 0.65㎛의 파장을 갖는 레이저 광원을 사용할 때, EP 제0,867,873호는 투광 덮개막 또는 막들 및 감압 접착제층 또는 층들의 두께합에 대해 288㎛ 이하의 값을 제안하는 반면 0.4㎛의 파장을 갖는 청색 광 레이저에 대해 177㎛ 이하의 값을 제안하는 것으로 개시된다.
압출 투광 덮개막의 두께는 매우 균일한 투광 덮개막의 준비를 허용하도록 신중히 제어되는 것이 바람직하다. 투광 덮개막의 두께의 변화량은 이후의 테스트부에서 기술된 측정 방법을 사용하여 전체 연장부에 걸쳐 광학 저장 매체의 임의로 선택된 단면을 가로질러 측정된 바와 같이 바람직하게는 ±3㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 ±2㎛ 이하인 것을 알아냈다.
매우 평탄하고 균일한 정밀 두께 투광 덮개막의 준비는, 예컨대 약 15,000 내지 약 20,000의 분자량(Mw)을 갖는 저분자량 폴리카보네이트의 냉각 롤 압출 작업에서 정밀 다이 코팅 적용예에 사용하기 위해 상기 인용된 WO 제95/29,764호 및WO 제95/29,765호에 개시된 다이를 사용하여 바람직하게 수행될 수 있다. 이러한 폴리카보네이트는 상기 정밀 다이가 사용될 수 있도록 약 80g/10분의 1.2kg의 중량을 사용하여 ISO 1133에 따라 측정된 바와 같이 300℃에서 상대적으로 높은 용융 흐름율을 나타낸다.
냉각 롤 또는 롤들의 속도가 기계의 방향으로 두께 변화량을 최소화시키도록 각각 신중히 제어될 필요가 있다는 것이 본 발명자에 의해 추가로 발견되었다. 교차 방향으로의 두께는 이러한 자료에 근거하여 교차 방향으로 다이의 게이지 변화량을 조절함으로써 교차 방향으로 압출된 막의 두께의 제조 과정의(in-process) 주사 작업에 의해 감소될 수 있다.
냉각 롤 또는 롤들의 온도는 주위 수분의 응축을 회피하도록 적어도 10℃, 보다 바람직하게 적어도 15℃이다. 온도는 롤을 냉각시킴으로써 달성될 수 있는 적어도 ±1℃, 보다 바람직하게는 ±0.5℃의 정밀도로 신중히 제어되어야 한다. 세부 사항은 한세르 등에 의한 전개서에서 발견될 수 있다.
본 발명에 따른 광학 저장 매체에 대해, 수직 복굴절율의 작은 값은 초점 형성된 충돌 광 빔(6)의 개구수의 큰 값으로 인해 필수적이다. 추가로, 본 발명의 광학 저장 매체는 평면내 지연 또는 평면내 복굴절의 작은 값을 각각 나타내는 것이 바람직하다. 압출 기술, 특히 냉각 롤 압출 기술에 의해 달성된 투광 덮개막은 입사 광 빔(6)의 적어도 파장 및 파장 스펙트럼 및 20℃에서 바람직하게는 ±30nm 미만, 보다 바람직하게는 ±25nm 미만, 특히 바람직하게는 ±15nm의 평면내 지연값을 각각 나타낸다; 이들 값은, 예컨대 75미크론의 투광 덮개막의 통상적인 값에 대해 0.0004, 0.00033 및 0.0002의 평면내 복굴절값에 각각 대응한다.
이들 발견에 근거하여, 본질적으로 광학적 이방성이고 입사 광 빔(6)의 적어도 파장 또는 파장 스펙트럼 및 20℃인 각 경우에 0.001 미만의 수직 복굴절율의 요구치, 및 선택적으로 ±30nm 미만의 평면내 복굴절의 요구치를 나타내는 투광 덮개막은 압출 방법에 의해 재생식으로 획득될 수 있다. 수직 복굴절율, 선택적으로 평면내 지연의 작은 요구치를 갖는 압출식 투광 중합체막은 이후의 예시부에서 취할 수 있는 바와 같이 또한 상업적으로 입수가능하다.
광학 저장 매체의 취급 및 장착 중에 투광 덮개막의 표면을 보호하기 위해서 해제 가능한 보호막을 투광 덮개막의 적어도 하나의 주요면에 적층시키는 것이 바람직하다는 것을 알아냈다.
감압 접착제층을 선택적으로 지탱한 광범위한 중합체 막은 해제 가능한 보호막으로 사용될 수 있다. 감압 접착제층과 정합되어 사용될 수 있는 유용한 중합체막은, 예컨대 폴리에틸렌 또는 폴리프로필렌 막과 같은 호모중합체, 에틸렌/프로필렌 공중합체와 같은 공중합체, 및 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌의 혼합물과 같은 공중합체 또는 호모중합체의 혼합물을 구비한 폴리올레핀막, 예컨대 폴리에테르우레탄 또는 폴리에스테르우레탄 형의 신장형 엘라스토머식 폴리우레탄과 같은 폴리에틸렌 테레프탈레이트 막 또는 폴리우레탄 막등을 포함한다. 그 하부 노출막이 자기 접착 특성을 나타내는 압출식 투광 덮개막(5)에 결합되는 적어도 2개의 중합체막의 적층물을 사용하는 것이 또한 가능하다. 자기 접착 특성을 갖는 적절한 중합체의 예는 EVA(폴리에틸렌비닐아세테이트) 중합체의 중량에 대해, 예컨대 약 5 내지 20 중량%의 높은 비닐 아세테이트 함량을 갖는 EVA 막을 구비하였다. 이러한 적층물은 감압 접착제층없이 해제 가능한 보호막으로 사용될 수 있다.
감압 접착제는 임의의 잔류 접착제를 남기지 않고 투과 덮개막에서 용이하게 제거될 수 있도록 바람직하게 선택된다면 해제 가능한 보호막에 선택적으로 사용된다. PSTC 방법 PSTC-3에 따라 측정된 바와 같이 폴리카보네이트 기판으로부터의 90°박리 접착이 1N/2.54 cm 이하, 바람직하게는 75 cN/2.54cm 이하, 특히 바람직하게는 50cN/2.54cm 이하이도록 선택되는 것이 바람직하다는 것이 본 발명자에 의해 발견되었다. 해제 가능한 보호막의 준비에 유용한 높은 접착 강도와 낮은 박리 접착 강도를 나타내는 적절한 아크릴레이트계 제거식 접착제는, 예컨대 본원에서 참조로 사용되는 US 제4,166,152호에서 기술된다. 본 발명에 유용한 해제 가능한 보호막은 3M에서 보호 테이프로서 입수가능하고, 적절한 예는 3M 보호 테이프 #2104이다.
도1a에 따른 광학 저장 매체를 준비하는 양호한 방법에 있어서, 해제 가능한 보호막(7)과 압출 투광 덮개막(5)을 포함하는 제1 적층물은 도2에서 개략적으로 도시된 바와 같이 2개의 롤(50, 51) 사이에서 감압 접착제층(4)과 원활 해제 라이너(8)를 포함하는 제2 적층물에 적층된다. 롤은 높은 원활면을 나타내고 본질적으로 응력에서 자유롭고 기포가 생기지 않는 막의 적층을 허용하도록 배열된다.
최종적인 적층물은 유사 연속 모드에서 작동되는 도3에서 개략적으로 도시된 접착 스테이션에 급송된다. 해제 라이너(8)는, 예컨대 분배 모서리 또는 롤(52)에 의해 최종 적층물로부터 분리된 후, 공기 흡입에 의해 진공판 홀더(53)에 부착된다. (도시되지 않은) 적절한 다이-절단 장비를 사용하여, 원반형 기부 부재(1)의 치수에 대응하는 중심 구멍(10)과 외부 주연부(11)를 나타내는 도4에 개략적으로 도시된 다이 절단 적층물이 달성된다. 그런 후, 부착된 다이 절단 적층물을 갖는 진공판 홀더(53)는 도5에 개략적으로 도시된 진공 결합 장치(60)에 이송된다. 진공 결합 장치는 이동식 하부판(59)과 가요성 시일(61)에 의해 분리되는 상부 진공 챔버(56) 및 하부 압력 챔버(58)를 포함한다. 상부 챔버(56)는 펌프(55)에 의해 분리될 수 있고, 하부 챔버(58)는 펌프(57)에 의해 각각 소기 및 가압될 수 있다. 진공판 홀더(53)는 부착된 다이 절단 적층물의 노출된 접착제층(4)이 상향으로 대면한 상태로 진공 결합 장치(6)의 하부판(59)에 부착된다. 정보 저장층(3)을 보유한 기부 부재(1)는 정보 저장층(3)이 하향 대면한 상태로 진공 결합 장치(60)의 상부판(54)에 부착된다. 하부 챔버(58)는 주요 챔버(56)의 다음 소기 중에 하부판(59)을 하부 위치에 유지시키도록 소기된다. 그런 후, 진공 결합 장치(60)의 주요 챔버(56)는 펌프(55)를 경유하여 소기된다. 그런 후, 하부 챔버(58)의 압력은 펌프(57)를 경유하여 임의의 수준으로 증가됨으로써 기부 부재(1)에 대항하여 다이 절단 적층물을 밀어낸다. 그런 후, 하부판(59)은 하부 압력 챔버(58)를 소기시킴으로써 하부 위치로 구동된다. 진공 결합 장치(60)의 주요 챔버(56)를 대기압으로 가압한 후에, 본 발명의 도1a에 따른 광학 저장 매체는 진공 결합 장치(60)로부터 제거될 수 있다. 해제 가능한 보호막(7)은 도1a에 따른 본 발명에 따라 광학 저장 매체의 특정 실시예를 제공하도록 제거된다.
도1a에 따른 광학 저장 매체를 준비하기 위한 대안적인 방법에 있어서, 감압접착제층(4)은 기부 부재(1)의 피트 표시면(2) 상에 형성된 정보 저장층(3)에 적층된다. 감압 접착제층은, 예컨대 기부 부재의 형상을 갖는 다이 절단부로서 공급될 수 있다. 감압 접착제층은 바람직하게는 기부 부재의 일 모서리 주위에 부착된 후에, 기부 부재의 표면을 가로질러 점진적으로 적층되고, 공기 기포의 포획을 회피하도록, 예컨대 45도 이하의 적층 각도를 적용한다. 해제 라이너는 감압 접착제층으로부터 제거되고 감압 접착제층을 지탱한 기부 부재는 도5의 진공 결합 장치(60)의 하부판(59)에 부착될 수 있다. 해제 가능한 보호막과 압출 투광 덮개막을 포함하는 적층물은 상부판에 인가된다. 그런 후, 광학 저장 매체는 하부 챔버(58)를 가압함으로써 준비되어 전술된 바와 같이 하부판(59)을 상부판(54)으로 밀어낸다.
도1a에 따른 광학 저장 매체를 준비하는 다른 방법에 있어서, 해제 가능한 보호막(8), 압출 투광 덮개막(5), 및 노출된 감압 접착제층(4)을 포함하는 적층물은 (본원에서 참조로 사용되는) WO 제99/54,116호에 개시된 휠 결합 장치에 의해 원반형 기부 부재(1)의 정보 저장층(3)의 노출면에 결합된다. 휠 결합 공정은 적층된 광학 저장 매체의 양호한 평탄도 뿐만아니라 공기 산입에 거의 자유로운 접착 작업을 보장한다.
전술된 바와 같은 방법은 예시적인 것일 뿐이며 본 발명의 범위에 의해 제한되지 않는다.
테스트 방법
두께 및 평탄도 측정
투광 덮개막과 PSA 층의 두께 및 두께 변화량은 독일 스테르넨펠트 소재의슈테아게 하마테크 아게(STEAG HamaTech AG)로부터의 ETA-DVD 80으로 상업적으로 입수 가능한 DVD 테스터를 사용하여 측정되었다. ETA-DVD 테스터는 0.1mm의 반경 방향 및 0.1mm의 접선 방향으로 최대 해상도를 가지고, 두께 해상도는 25 내지 120㎛의 범위 내에서 0.1㎛이다. ETA-DVD 테스터는 디스크가 장착되는 턴테이블, 레이저/센서 시스템, 및 측정 컴퓨터 유닛으로 이루어진다.
측정될 투광 덮개막의 샘플은 샘플 홀더로 작용하는 CD 디스크 블랭크(CD disk blank)의 단면에 걸쳐 양면 코팅 접착 테이프로 장착되었다. 측정은 37.5mm의 반경에서 디스크 중심으로부터 이루어졌다. 주기당 삼백회(300)가 측정되었다. 이는 이 기구를 사용하여 측정될 수 있는 최대 해상도를 반영한다.
접착제층의 샘플은 완전한 디스크 구성의 요소로 측정되었다.
투광 덮개막의 수직 복굴절
사용된 장치
현미경
독일 베츠라르 소재의 에른스트 라이츠 베츠라르 게엠바하[Ernst Leitz Wetzlar GmbH; 현재 독일 베츠라르 소재의 라이카 미크로스코피 및 시스템 게엠바하(Leica Mikroskopie und Systeme GmbH)]에서 구입한 라이츠 오쏘룩스 Ⅱ 폴(Leitz Ortholux Ⅱ Pol) 현미경이 사용되었다. 이 현미경에는 40X/0.85NA 무응력 대물 렌즈 및 전파 보상판이 설치되었다. 또한, 현미경에는 간섭 관찰을 위한 베르트랜드 렌즈(Bertrand lense)가 설치되었다.
편광 분석기:
RPA200 편광 분석기에는 RW 또는 회전 파장판 옵션 및 435nm 간섭 필터가 설치되었다. 기구는 독일 뮌헨 노이마르크터 슈트라세 83소재의 인스트루먼트 시스템 게엠바하(Instrument System GmbH)에 의해 제조된다.
측정 절차
절차는 3개의 개별 단계로 이루어진다:
1) 투광 덮개막의 평면에서 최대 및 최소 굴절율 방향으로의 배향을 결정.
2) 투광 덮개막의 평면에 경로 45도를 따라 투광 덮개막을 통해 전파되는 광에 대해 뮐러 매트릭스(Mueller matrix)를 측정.
3) 뮐러 매트릭스로부터 수직 복굴절율을 계산.
이들 단계는 추가로 이후에 기술된다.
1 단계
투광 덮개막의 샘플은 현미경 단에 배치되고 40배 대물렌즈를 사용하여 양호한 초점을 형성한다. 간섭 관찰을 사용함으로써 투광 덮개막이 3개의 주요 굴절율을 가지고; 2개의 거의 동일한 굴절율은 상호 수직이지만 막의 평면 내에 있고 제3 굴절율은 막의 표면에 수직이다. 이는 단이 회전됨에 따라 간섭 도면이 중심이 설정된 상태로 있다는 것을 관찰함으로써 확인될 수 있다. 간섭 도면이 양호하게 중심이 설정되면, 막의 평면으로의 주요 굴절율의 방향은 결정된다.
2 단계
RPA2000 편광 분석기는 회전 테이블의 평면이 편광 상태 생성기 및 편광 상태 분석기 사이의 광로에 수직이도록 설정된다. 투광 덮개막의 샘플은 막을 분석하는 데에 사용되는 광 빔이 투광 덮개막의 평면에 대해 45도로 막을 통과하는 것을 보장하도록 구성되었던 홀더 상에 배치된다. 부가적으로, 투광 덮개막의 평면의 고굴절율 방향은 광 빔에 수직이도록 배향된다. 그런 후, 샘플 홀더는 RPA2000 편광 분석기의 회전 테이블 상에 배치된다. 그런 후, 뮐러 매트릭스는 특정 배향의 막에 대해 측정된다. 매트릭스의 비대각선 요소가 제로와 현저히 다르다면, 테이블은 이들 기간 최소화하도록 회전되고 뮐러 매트릭스는 재측정된다.
3 단계
투광 덮개막을 통해 45도로 진행하는 광의 지연은 뉴욕주의 에드워드 콜레트(Edward Collet), 엠. 데커(M. Dekker)의 "편광: 기초와 적용" 제581면에 제시된 등식에 근거하여 계산된다. 그런 후, 투광 막을 통한 광의 경로 길이는 다음 등식에서 달성된다.
경로 길이 = 막 두께/(cos(arcsin(45/공칭 굴절율)))
공칭 굴절율로서 평면내 평균 굴절율을 사용함.
45도에서의 복굴절율은 경로 길이에 의해 분할된 45도에서의 지연이다. 평면내 굴절율이 공지되기 때문에, 45도에서의 굴절율은 계산될 수 있다.
최종 계산은 막의 평면에 수직인 굴절율을 계산하도록 타원의 반경선의 길이부에 대한 등식을 사용한다. 타원의 장축은 막의 평면에서 굴절율이고 45도의 반경선의 길이는 상기 계산된 굴절율이다. 이는 막의 평면에 수직인 굴절율 또는 타원의 미지의 단축의 계산을 허용한다.
수직 복굴절은 투광 덮개막의 평면에 수직인 굴절율과 평면내 굴절율 사이의차이로서 달성된다.
수직 굴절율의 값은 20℃ 및 435nm의 파장에서 측정되었다.
투광 덮개막의 평면내 지연
샘플 준비: 계산될 투광 덮개막의 샘플은 샘플 홀더로 기능하는 CD 디스크 블랭크의 절단부에 걸쳐 이중 코팅된 접착 테이프로 장착되었다.
측정은 "프로메테우스 엠티 136" 모델로서 독일, 마르틴스리드, 독터. 쉥크 게엠바하로부터 입수 가능한 광학 저장 매체의 특성을 평가하는 데에 적합한 상업적 설비로 이루어졌다. "상대 복굴절" 측정 모드가 선택되었다.
그래프는 nm으로의 주어진 상대 복굴절(T)(Y축)에 대한 각도의 측정 각도(X축)로 생성되었다. 최종 그래프는 기구가 시료 홀더를 관찰하였던 부분을 도시하였다. 이들 부분은 고려되지 않았다. 잔류 신호는 거의 평탄하게 시작하여 사인 파형으로 변화하는 형상으로 나타났다.
2번의 측정은 디스크의 중심에서 35mm 및 40mm 반경으로서 각 시료 부분에서 각각 이루어졌다. 다른 측정은 공기만이 관찰되는 디스크의 영역 외부의 위치에 대응하는 64mm에서 이루어졌다. 이는 기준 및 제어수로 기능한다.
곡선으로부터의 최소 및 최대값이 취해진 후, 평균을 내었다. 평균과 평균으로부터의 편차 모두가 기록되었다.
디스크가 회전하기 때문에, 정보는 여러 방향으로 투광 덮개막의 특성에 대해 생성된다. 투광 덮개막의 교차 웨브(cross-web) 및 하향 웨브 방향과 복굴절에 대한 영향을 관찰할 수 있다.
그래프는 미크론으로 두께에 대한 각도를 도시하며 생성되었다. 기구는 최대, 최소, 평균, 및 편차를 계산한다. 이들 계산된 값은 샘플 홀더로부터의 주기적인 간섭으로 인해 몇몇 예에서 사용될 수 없다. 이들 경우에, 값은 곡선으로부터 수동으로 취해졌다.
투광 덮개막의 미세 거칠기 및 파형 거칠기
투광 덮개막의 샘플은 측정 중에 막을 평탄하게 유지하도록 설계된 원형의 막 인장 장비에 보유되었다. 그런 후, 미세 거칠기는 독일, 우베엠 메스테크닉 게엠바하(UBM Messtechnik GmbH)로부터 입수 가능한 UBM 레이저 프로필로미터 미크로포커스 컴팩트(UBM Laser Profilometer Mikrofocus Compact)를 사용하여 투광 덮개막의 표면 상에서 측정되었다.
막 표면의 10mm의 거리는 총 10,000 데이터 지점에 대해 mm당 1000 데이타 지점으로 평가되었다. 그래프는 미크론으로 거칠기에 대한 10mm 범위(0 내지 10mm)에 걸친 거리를 도시하며 생성되었다. 미세 거칠기는 생성 라인의 폭을 측정함으로써 가시적으로 계산되었다. 파형 기능은 수 mm의 거리에 걸쳐 관찰될 수 있었다. 파형의 마루와 골 사이의 차이는 측정되어 기록되었다.
예
예1
저분자량 폴리카보네이트 중합체는 냉각 롤 공정에서 80μ의 두께로 압출되었다. 막은 독일, 담슈타드 소재의 룀 게엠바하(Roehm GmbH)로부터 유로플렉스(등록 상표명) 막 클리어 99506으로 상업적으로 달성될 수 있다.
막의 특성은 상기 주어진 테스트 방법에 따라 측정되었고 표1에 요약된다.
놀랍게도, 예 1의 압출 폴리카보네이트 막의 수직 복굴절은 비교 예1의 주입 폴리카보네이트 막(cast polycarbonate film)에 대략적으로 비교가능할 뿐만아니라, 이는 실제 낮거나 향상되었다.
그런 후, 압출 폴리카보네이트 투광 덮개막은 후속 공정에 의해 DVR을 위한 덮개 시트에서 구성 요소로 사용되었다.
투광 덮개막은 광학적으로 판독 가능한 디스크의 다음 제조 중에 투광 덮개막이 먼지로 오염되거나 긁히는 것으로부터 보호하도록 설계된 해제 가능한 보호막에 적층되었다. 해제 가능한 보호막은 독일, 렝게리히 소재의 비쇼프 앤드 클라인 게엠바하(Bischof and Klein GmbH)로부터 GH-X 173으로서 입수 가능한, 50 미크론의 두께를 갖는, 다중층 폴리올레핀계 시트였다. 적층은 23℃에서 막 적층물을 사용하여 수행되었다.
2개의 50 미크론의 두꺼운 실리콘화 폴리에스테르 해제 라이너 사이의 아크릴 감압 접착제의 25 미크론의 두꺼운 층은 미국, 미네소타주, 세인트폴 소재의 쓰리엠사(3M Company)로부터 광학적 투명 접착제 8141으로서 상업적으로 획득되었다. 접착제의 원형 부분은 약(ca.) 120mm의 직경을 갖는 원으로 절단되었다.
원형 접착제 부분은 하부으로부터 라이너의 연속적인 스트립(strip) 상에 지지되었다. 각 원형 접착제 부분은 라이너의 동일한 크기의 원형 부분에 의해 위로부터 보호되었다. 각 원형 접착제/라이너 부분은 15mm의 중심 구멍을 갖는다.
다음 공정은 표면 상에 정보 저장층을 지탱하는 기부 부재를 결합시키고 해제 가능한 보호막을 보유한 투광 덮개막을 상기 준비된 바와 같이 결합시키도록 사용되었다. 도5에 개략적으로 도시된 결합 장치는 청정실 클래스 100 환경에 위치되었다. 도5의 장치로의 DVR 구성 요소의 도입 및 이러한 구성 요소의 결합은 다음과 같이 수행되었다.
1. 기부 부재(1)는 도5의 결합 장치의 상부판(54)의 진공판 홀더에 부착되었고 정보 저장층이 아래를 가리킨 상태로 진동으로 유지되었다.
2. (하나의 해제 라이너의 제거 후에) 감압 접착제층(4)은 잔류한 해제 라이너가 하부 중앙을 대면한 상태로 하부판(59)의 진공판 홀더(53) 상에 놓였다.
3. 주요 진공 챔버(56)는 폐쇄되었다.
4. 주요 챔버(56)는 0.08mbar의 진공에 도달할 때까지 소기되었다.
5. 하부판(59)은 이를 상승시키도록 환기되어서 감압 접착제층(4)을 기부 부재(1)의 정보 저장층(3)에 결합시켰다.
6. 하부판(59)의 진공판 홀더(53)는 소기되어 바닥판(59)은 하강되었다.
7. 주요 진공 챔버(56)는 환기된 후에 개방되었다.
8. 상부판(54)에 부착된 상태인 결합 구조[기부 부재(1)/정보 저장층(3)/감압 접착제층(4)/ 해제 라이너]는 진공판 홀더에 의해 유지되었다.
9. 해제 라이너는 감압 접착제층(4)으로부터 제거되었다.
10. 투광 덮개판(5)과 보호 막(7)의 절단 적층물은 해제 가능한 보호막이 중앙 하단에 대면한 상태로 하부판(59)의 진공판 홀더(53) 상에 놓였다.
11. 주요 진공 챔버(56)는 폐쇄되었다.
12. 주요 챔버(56)는 0.08mbar의 진공에 도달할 때까지 소기되었다.
13. 하부판은 환기됨으로써 상승되었고, 투광 덮개막(5)은 감압 접착제층(4)에 접착되어 광학 저장 매체를 형성하였다.
14. 상부판(54)의 진공판 홀더는 소기되었다.
15. 하부판(59)은 하강되었다.
16. 주요 진공 챔버(56)는 환기되었다.
17. 주요 챔버(56)는 개방되었다.
완성된 광학 저장 매체의 성능을 평가하기 위해서, 해제 가능한 보호막은 제거되었다. 광학 저장 매체는 선형 편광에 대해 유리한 광학 특성, 작은 두께 변화, 작은 지터값, 및 높은 투과율을 나타냈다.
비교예 1
90% 중량의 비스페놀 A과 10% 중량의 1,1-비스(4-하이드록시페닐)-3,3,5-트라이메틸 사이클로헥산(TMC)를 포함하는, APEC 9331[바이엘 아게(Bayer AG)], 폴리카보네이트 중합체는 염화 메틸렌과 캐스트에서 원활한 스테인레스 스틸 벨트 상에서 용해된 후에 15% 잔류 용매 이하로 건조되었다. 막은 막의 잔류 용매가 중량에 대해 1% 미만일 때까지 벨트에서 제거되어 강제 공기 오븐(약 80 내지 100도)을 통과하였다.
최종적인 투광 덮개막은 77.0 미크론의 두께를 가졌다. 막은 독일, 베일 암 라인 소재의 로포 하이 테크 필름 게엠바하(Lofo High Tech Film GmbH)로부터 달성되었다.
투광 덮개막은 상기에서 주어진테스트 방법에 따라 평가되었다. 결과는 표 1에 요약된다.
그런 후, 주입 폴리카보네이트 막은 예1 로서 광학 저장 매체를 위한 보호 덮개막으로 사용되었다.
예 막두께, 미크론+/- 수직 복굴절 평면내 지연 nm +/- 미세 거칠기, nm 파형 거칠기, nm
1. 압출 PC 81.3, +/-2 0.00029 -4, +/-8 40 200
Cl.용매 주입 PC 77.0, +/-0.6 0.00066 -1, +/-9 60 400

Claims (12)

  1. 정보가 판독될 수 있고 그리고/또는 광 빔(6)으로 기록될 수 있는 광학 저장 매체이며,
    상기 광학 저장 매체는 광 빔(6)이 입사되는 기부 부재(1)의 측면 상에 지탱되는 하나 이상의 기부 부재(1), 하나 이상의 정보 저장층(3), 적어도 하나의 투광 덮개막(5), 및 상기 덮개막(5)을 광 빔(6)이 입사되는 기부 부재(1)의 표면(2)에 및 하나 이상의 정보 저장층(3)에 상호 결합시키는 하나 이상의 투광 접착제층(4)을 포함하고, 상기 덮개막(5)은 상기 광 빔(6)의 적어도 파장 또는 파장 스펙트럼 각각에서 20℃에서 0.001 미만의 수직 복굴절을 나타내고 적어도 하나의 상기 덮개막은 압출되는 것을 특징으로 하는 광학 저장 매체.
  2. 제1항에 있어서, 상기 접착제층(4)은 감압 접착제막인 것을 특징으로 하는 광학 저장 매체.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 덮개막 또는 막들(5)은 상기 광 빔(6)의 적어도 파장 또는 파장 스펙트럼 각각에서 20℃에서 ±30nm 미만의 평면내 지연을 나타내는 것을 특징으로 하는 광학 저장 매체.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 정보 저장층(3)이 형성되는피트의 구조를 표면(2)이 지탱하는 하나의 기부 부재(1)를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 저장 매체.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 투광 접착제층(4)에 의해 기부 부재(1)의 표면(2) 상에서 정보 저장층(3)에 결합되는 하나의 투광 덮개막(5)을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 저장 매체.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 투광 덮개막 또는 막들(5)의 두께는 10㎛ 내지 200㎛인 것을 특징으로 하는 광학 저장 매체.
  7. 제2항에 있어서, 상기 투광 감압 접착제층 또는 층들(4)의 두께는 5㎛ 내지 100㎛인 것을 특징으로 하는 광학 저장 매체.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 각 투광 덮개막(5)의 두께의 변화량 및/또는 전체 연장부에 걸쳐 광학 기록 매체의 임의로 선택된 단면을 가로질러 측정된 바와 같이 각 투광 덮개막(5)에 의해 도입된 광학 기록 매체의 두께의 변화량은 약 ±3㎛이하인 것을 특징으로 하는 광학 저장 매체.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 각 투광 접착제층(4)의 두께의 변화량 및/또는 전체 연장부에 걸쳐 광학 기록 매체의 임의로 선택된 단면을 가로질러 측정된 바와 같이 각 투광 접착제층(4)에 의해 도입된 광학 기록 매체의 두께의 변화량은 약 ±3㎛이하인 것을 특징으로 하는 광학 저장 매체.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 하나의 투광 덮개막(5)과 하나의 투광 접착제층(4)을 포함하고, 상기 투광 덮개막(5)의 두께의 변화량 또는 상기 투광 덮개막(5)에 의해 도입된 광 매체의 두께의 변화량의 각각, 및 투광 접착제층(4)의 두께의 변화량 또는 접착제층(4)에 의해 도입된 광학 기록 매체의 두께의 변화량의 각각의 합은 약 ±5㎛이하이고, 이로써 이러한 합은 전체 연장부에 걸쳐 상기 광학 기록 매체의 임의로 선택된 단면을 가로질러 측정되는 것을 특징으로 하는 광학 저장 매체.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 따른 광학 기록 매체를 제조하기 위한 방법이며,
    (1) 상기 광 빔(6)이 입사되는 표면(2)을 갖는 적어도 하나의 기부 부재(1)를 제공하는 단계로서, 상기 표면은 상기 정보 저장층(3)을 지탱하는 피트의 구조를 선택적으로 포함하는, 기부 부재(1)의 제공 단계와,
    (2) 해제 가능한 보호막(7), 내부면이 정보 저장층(3)을 보유하는 피트의 구조를 선택적으로 포함하는 투광 덮개막(5), 투광 감압 접착제층(4) 및 해제 라이너(8)를 순서대로 포함하는 다중층 막을 제공하는 단계로서, 상기 다중층 막은 상기 투광 덮개막(5)과 상기 감압 접착제막 사이에 하나 이상의 추가 투광 접착제층(4')에 의해 상호 결합되는 하나 이상의 추가 투광 덮개막(5')을 선택적으로 추가 포함하고, 상기 덮개막(5, 5')은 상기 광 빔(6)의 적어도 파장 또는 파장 스펙트럼 각각에서 20℃에서 0.001 미만의 수직 복굴절을 나타내고, 적어도 하나의 상기 덮개막(5, 5')은 압출되는, 다중층 막의 제공 단계와,
    (3) 상기 해제 라이너(8)를 제거하는 단계와,
    (4) 상기 기부 부재(1)의 표면(2) 상의 상기 정보 저장 층(3)의 표면(2)에 다중층 막(12)을 적층시키는 단계를
    포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  12. 광학 저장 매체의 하나 이상의 압출 투광 덮개막(5)의 사용이며,
    적어도 하나의 상기 덮개막은 상기 광학 저장 매체로부터 정보를 판독하고 그리고/또는 이에 기록하는 데에 사용되는 광 빔(6)의 적어도 파장 또는 파장 스펙트럼 각각에서 20℃에서 0.001 미만의 수직 복굴절율을 나타내고, 상기 광학 저장 매체는 광 빔(6)이 입사되는 기부 부재(1)의 측부 상에서 지탱되는 하나 이상의 기부 부재(1), 하나 이상의 정보 저장층(3), 적어도 하나의 투광 덮개막(5), 및 상기 덮개막(5)을 광 빔이 입사되는 기부 부재(1)의 표면(2)에 및/또는 하나 이상의 정보 저장층(3)에 상호 결합시키는 하나 이상의 투광 접착제층(4)을 포함하는 것을 특징으로 하는 하나 이상의 압출 투광 덮개막의 사용.
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