KR20020005711A

KR20020005711A - 광학 기억 매체

Info

Publication number: KR20020005711A
Application number: KR1020017013514A
Authority: KR
Inventors: 쇼엡펠볼프강
Original assignee: 캐롤린 에이. 베이츠; 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니
Priority date: 1999-04-22
Filing date: 2000-04-22
Publication date: 2002-01-17
Also published as: EP1173844A1; CN1357141A; MXPA01010616A; WO2000065409A2; AU4032500A; EP1173795B1; JP2002543545A; AU4297900A; KR20020005713A; ATE244415T1; EP1173795A1; DE60003669D1; DE60003669T2; JP2002543547A; WO2000065586A1; WO2000065409A3; EP1047055A1; CN1357142A; MXPA01010620A

Abstract

본 발명은 광빔(6)에 의해 정보의 판독 및/또는 기록이 가능한 광학 기억 매체에 관한 것으로, 이 광학 기억 매체는 광빔(6)이 입사되는 측면을 갖는 1개 이사의 베이스 부재(1), 1개 이상의 정보 저장층(3) 및 적어도 하나의 투광성 커버막(5)을 포함하고, 상기 투광성 커버막(5)은 광빔(6)이 입사되는 상기 베이스 부재(1)의 표면(2)에 및/또는 상기 1개 이상의 정보 저장층(3)에 1개 이상의 투광성 감압 접착제층(4)에 의해 상호 접합되고, 상기 투광성 커버막(5)은 적어도 20℃에서 및 상기 광빔(6)의 파장 또는 파장 스펙트럼에서 각각 본질적으로 광학적 등방성을 갖는다.

Description

광학 기억 매체{OPTICAL STORAGE MEDIUM}

고저장 능력을 나타내는 DVR 디스크는 디지털 기록 및 저장에 유용한 DVR 디스크를 제공한다.

예를 들면, DVR 디스크의 통상적인 구조 및 포맷이 EP 0,729,141, EP 0,867,873 및 EP 0,874,362에 개시되어 있다.

DVR 디스크는, 일반적으로 하나 또는 두 개의 주표면 상에 랜드(land) 및 홈(groove) 구조를 포함하는 정보 저장층을 나타나는 디스크형 기판 또는 베이스 부재를 포함한다. 또한, DVR 디스크는 투광성 커버막의 하나 또는 두 개의 측면 상에 정보 저장층을 공급하는 투광성 커버막을 더 포함한다.

EP 0,867,873에는 액상 자외선 경화 가능 수지(liquid ultraviolet-curable resin)를 정보 저장막 상에 스핀 코팅하고, 그 후 경화시킴으로써 얻어질 수 있는 투광성 커버막이 개시되어 있다.

이러한 기술에 의해 얻어진 투광성막은 낮은 표면 거칠기(surface roughness)와 바람직한 투과 성질을 나타내는 경향이 있는 반면에, 생성된 막의 두께의 변화는 제어하기 어렵다.

액상층의 두께에 작은 변화를 갖는 액상 UV 경화 가능 수지의 스핀 코팅법은, 예를 들어 DVR 디스크의 중앙에 한번 주입되는 수지를 필요로 한다. 액상 수지가 중앙을 벗어나 공급되면, 스핀 코팅된 생성 수지층의 두께에 큰 변화가 생긴다. 통상적인 DVR 디스크는 중심 구멍(center hole)을 포함하고 있기 때문에, DVR 디스크에 부착될 제거 가능한 부품이 스핀 코팅하는 동안 중심 구멍을 일시적으로 막는다. 액상 수지를 DVR 디스크의 중앙에 공급하는 경우, DVR 디스크의 외측 모서리에 이르기까지 필요한 층의 두께 변화를 얻기 어렵다. 주된 문제는 원심력이 액상 접착제를 반경을 따라 선형으로 증가하도록 DVR 디스크의 중앙으로부터 DVR 디스크의 주변부로 밀어 낸다는 것이다. 일측면 상에서의 원심력 동작 및 타측면 상에서의 액상 접착제의 점성에 기인하는 마찰력으로부터 평형 상태(equilibrium)가 얻어진다. 일정한 두께의 층을 얻는 것은 원심력의 반경 의존(the radius dependence of the centrifugal force)에 기인하여 원칙적으로 불가능하다. DVR 디스크의 지름을 약간 증가시킴으로써 두께 변화를 감소시키며, 스핀 코팅하고 바람직하게 UV 경화시킨 후 디스크형 베이스 부재를 구비하는 DVR 디스크를 다이 커팅함으로써 필요한 크기를 얻는 방법이 제안되었다. UV 경화시킨 후 디스크형 부재를 다이 커팅하는 것은 추가적인 처리 단계를 설정하기 때문에 불리하며, 투광성층을 광학적으로 왜곡시키는 부스러기(debris)의 형성 및/또는 응력의 베이스 부재로의 도입으로 귀착될 수 있다. 또한, UV 경화는 UV 경화 가능층의 수축 및/또는 왜곡과 경화시에 바람직하지 못한 열 발생으로 귀착될 수 있다.

투광성 커버막에 의해 광학 기억 매체로 도입되는 두께의 변화는, 작은 두께의 변화를 갖는 미리 제조된 투광성 커버막을 사용하며, 예를 들어 EP 0,867,873에 개시되어 있는 바와 같은 UV 경화 가능 액상 수지의 얇게 스핀 코팅된 층(thin-spin-coated layer)에 의해 정보 저장층에 이러한 막을 접착시킴으로써 감소될 수 있다. 그러나, 이 방법은 여러 가지 단점을 가지고 있다. 예를 들면, 5㎛ 만큼의 얇은 두께를 갖는 액상 접착제 수지층의 스핀 코팅에는 경제적인 면에서 바람직하지 못한 처리를 제공하는 상당한 시간을 필요로 한다. 또한, 생성된 광학 기억 매체의 광학 특성에 악영향을 미치는 스핀 코팅된 액상 접착제 수지층에 기포(air bubble)의 형성을 피하기 어렵다.

본원 발명자는 바람직한 특성, 특히 낮은 두께 변화를 갖는 미리 제조된 투광성 커버막을 구비하는 이러한 매체를 겹합시킴으로써 얻어질 수 있는 낮은 두께 변화 및 낮은 지터값을 갖는, 1개 이상의 감압성 접착제층을 갖는 광학 기억 매체를 발명하였다. 또한, 본원 발명자는 투광성 커버막이 도달광(impinging light)의 산란 손실(scattering loss)을 피하기 위해 매우 매끄러운 표면(smooth surface)을 갖는 것이 바람직하다는 것을 알 수 있었다.

비록 광학 기억 매체, 특히 1개 이상의 감압성 접착제층에 의해 접합되는 DVR의 품질 및 성능이, 일반적으로 우수하다고 하더라도, DVR의 투과율이 특히 선형으로 편광된 광에 대해 변화되어 매우 낮아질 수 있다는 것을 알 수 있었다.

따라서, 본 발명의 목적은 광빔에 의해 정보의 판독 및/또는 기록이 가능한 DVR과 같은 광학 기억 매체를 제공하는 것으로, 상기 광학 기억 매체는 광빔이 입사되는 측면을 갖는 베이스 부재, 1개 이상의 정보 저장층 및 적어도 하나의 투광성 커버막을 포함하고, 상기 투광성 커버막은 광빔이 입사되는 베이스 부재의 표면에 및/또는 1개 이상의 정보 저장층에 1개 이상의 투광성 감압 접착제층에 의해 상호 접합됨으로써, 이러한 기록 매체의 투과율이 특히 선형으로 편광된 광에 대해서 높아 재현가능하게 제어될 수 있다. 본 발명의 다른 목적은 이러한 새로운 광학 기억 매체, 특히 DVR 디스크형 광학 기억 매체를 준비하는 방법을 제공하는 것이다.

본 발명은 광학 기억 매체에 관한 것으로, 특히 광빔에 의해 정보의 판독 및/또는 기록이 가능한 디지털 화상 기록 가능 디스크(DVR: Digital Video Recordable disc)에 관한 것인데, 상기 광학 기억 매체는 광빔이 입사되는 측면을 갖는 베이스 부재(base member), 1개 이상의 판독 가능 및/또는 기록 가능 정보 저장층 및 1개 이상의 투광성 커버막(light-transmissive cover film)을 포함한다. 또한, 본 발명은 광학 기억 매체, 특히 디지털 화상 기록 가능 디스크(DVR)를 제조하는 방법에 관한 것이다.

도 1a는 본 발명에 따른 베이스 부재(1), 광빔(6)이 입사되는 표면(2), 정보 저장층(3)의 일부를 형성하는 랜드와 홈의 구조 및 감압성 접착제층(4)에 의해 정보 저장층(3)에 접합되는 투광성 커버막(5)을 포함하는 광학 기록 매체의 특정 실시예를 개략적으로 도시하는 도면.

도 1b는 본 발명에 따른 베이스 부재(1), 제1 정보 저장층(3a)의 일부를 형성하는 랜드와 홈의 구조를 포함하는 표면(2), 광빔(6)이 입사되는 투광성 커버막(5) 및 감압성 접착제층(4)에 의해 정보 저장층(3a)에 접합되는 제2 정보 저장층(3b)의 일부를 형성하는 랜드와 홈의 구조를 포함하는 표면(9)을 포함하는 광학 기록 매체의 다른 특정 실시예를 개략적으로 도시하는 도면.

도 2는 제거 가능한 보호막(7) 및 투광성 커버막(5)을 포함하는 제1 적층을 두 개의 롤러(50, 51) 사이에 투광성 감압 접착제층(4) 및 매끄러운 릴리즈 라이너(8)을 포함하는 제2 적층에 적층시켜, 감압성 접착제층(4)의 노출면이 투광성 커버막(5)의 노출면에 접착되는 단계를 개략적으로 도시하는 도면.

도 3은 제거 가능한 보호막(7), 투광성 커버막(5) 및 롤러(52)를 통하여 릴리즈 라이너를 압연하여, 공기 흡입(air suction)에 의해 진공판 홀더(53)에 이러한 적층이 부착되고, 그 후 중심 구멍(10) 및 외부 주연부(11)를 갖는 디스크형 적층을 제공하도록 다이 커팅(여기서, 다이 커팅 도구는 도시되지 않았지만 화살표에 의해 지시됨)되는 접합 가능 적층(12)을 제공하는 감압성 접착제층(4)을 소정 순서로 포함하는 적층에서 릴리즈 라이너(8)를 제거하는 단계를 개략적으로 도시하는 도면.

도 4는 제거 가능한 보호막(7), 투광성 커버막(5) 및 노출된 투광성 감압 접착제층(4)을 포함하는 디스크형 적층[여기서, 적층은 중심 구멍(10) 및 외부 주연부(11)을 갖고 공기 흡입에 의해 진공판 홀더(53)에 부착됨]을 개략적으로 도시하는 도면.

도 5는 양 진공 챔버(56, 58)가 펌프(55)에 의해 펌핑 가능하고, 상부 진공 챔버(56)는 상부판(54) 및 상부 진공 챔버(56)에서 분리되는 제거 가능한 하부판(59)을 포함하며, 하부 감압 챔버(58)는 가요성 봉인부(61)에 접합되고, 하부판(59)은 제거 가능한 보호층(7)의 다이 커팅된 적층을 포함한 진공판 홀더(53), 투광성 커버막(5) 및 감압성 접착제층(4)을 포함하며, 상부판(54)은 정보 저장층(3)을 포함한 베이스 부재(1)을 유지하는, 상부 진공 챔버(56) 및 하부 감압 챔버(58)를 구비하는 진공 접합 장치(60)를 개략적으로 도시하는 도면.

본 발명의 상세한 설명

도면은 개략적으로 도시된 것일 뿐이지 특별히 스케일링하여 도시하지 않았다는 것을 주목하자. 도 1a에 있어서, 베이스 부재(1)의 두께는 통상적으로 투광성 커버막(5)의 두께보다 최대 1 차수의 크기가 큰 반면에, 홈의 깊이는 통상적으로 5 내지 50 nm 범위에 있기 때문에, 베이스 부재(1)의 두께에 대해 무시 가능하다.

본 발명에 따른 광학 기억 매체는 광이 입사되는 베이스부의 측면 상에 포함된 적어도 하나의 베이스 부재, 판독 가능 및/또는 기록 가능할 수 있는 1개 이상의 정보 저장층, 적어도 하나의 투광성 감압 접착제층 및 적어도 하나의 투광성 커버막을 포함한다.

도 1a는 본 발명에 따른 광학 기억 매체의 특정 실시예의 횡단면도를 개략적으로 도시하는 일례로서 도시되는 도면으로, 본 발명에 따른 광학 기억 매체는 광(6)이 입사되는 측면 상에 베이스 부재(1)의 주표면(2) 상에 나타나는 베이스 부재(1), 정보 저장층(3)의 일부를 형성하는 랜드와 홈의 구조를 포함한다. 정보 저장층(3)은 감압성 접착제층(4)을 포함하고. 투광성 커버막(5)이 감압성 접착제층(4)에 결합된다.

본 발명에 유용한 광학 기억 매체의 보다 복잡한 구조가, 예를 들어 EP 0,867,873에 개시되어 있으며, 그 내용이 본 명세서에 포함된다. 광학 기억 매체는, 예를 들어 기판의 하나 또는 두 개 별도로 주표면 상에 상기 서로 배열된 두 개 이상의 정보 저장층(3)을 포함할 수 있다. 도 1b는 베이스 부재의 내부면(2) 및 투광성 커버막의 내부면(9)에 각각 공급되는 두 개의 정보 저장층(3a, 3b)를 포함하는 구조를 개략적으로 도시한다.

베이스 부재(1)는 소정 형상일 수 있지만, 기록 또는 재생 스테이션에 어셈블링된 광학 기억 매체의 중심을 잡기에 유용한 중심 구멍을 나타내는 디스크인 것이 바람직하다. 디스크 또는 환형 기판은 대략 50 내지 대략 360 mm의 외부 지름 및 대략 5 내지 대략 35 mm의 중심 구멍의 내부 지름을 갖는 것이 바람직하고, 두께는 0.3과 3.0 mm 사이인 것이 바람직하며, 특히 0.8과 1.5 mm 사이인 것이 바람직하다. 기판은, 예를 들어 아크릴 수지(acrylic resin), 폴리카보네이트(polycarbonate), 에폭시 수지(epoxy resin), 시클릭 올레핀 공중합체(cyclic olefin copolymer) 및 폴리올레핀(polyolefin)과 같은 중합체 물질을 포함하는 것이 바람직하다. 특히, 폴리메틸메타아크릴레이트(polymethylmethacrylate), 폴리카보네이트 또는 열적으로 안정한 폴리에스터 코카보네이트(polyester cocarbonate)와 같은 경성 플라스틱(hard plastics)이 바람직하다.

기판은 기판의 주표면의 하나 또는 양쪽 각각 상에 포함할 수 있고, 구조는 대개 피트로서 집합적으로 지칭되는 오목부(또는 홈) 및 볼록부(또는 랜드)를 포함한다. 통상적인 피트의 치수는 광의 파장 사이의 관계를 포함하고, 연속적인 랜드와 홈 사이의 광학 크로스토크(optical crosstalk)를 최소화하기 위한 투광성층의 반사율 및 홈의 깊이가, 예를 들어 EP 0,874,362 또는 EP 0,867,873에 개시되며, 그 내용이 본 명세서에 포함된다. 트랙 피치는 방사 방향으로 측정된 바와 같이 인접한 물리 트랙의 중심선 사이의 거리이며, 통상적으로 0.64 ㎛ 이하이다.

피트 구조는 베이스 부재 또는 베이스 부재들의 하나 또는 양쪽 모두 각각의 표면에 성형될 수 있다. EP 0,729,141, 제4쪽, 제14행 내지 제46행에 상세히 기술된 이 처리는 대개 [EP 0,729,141의 도 4a 내지 도 4g에 개략적으로 도시된 바와 같은] 마스터 디스크 형성 단계 및 [EP 0,729,141의 도 5a 내지 도 5b에 개략적으로 도시된 바와 같은] 사출 성형 단계를 포함하며, EP 0,729,141은 그 내용이 본 명세서에 포함된다. 또한, 그러나 피트 구조는 두 개의 롤러 사이에 투광성 커버막의 유리 전이 온도(glass translation temperature) 위의 온도로 가열되는 투광성 커버막을 통과시킴으로써 투광성 커버막에 포함되며, 피트들 중 적어도 하나는패터닝된 구조를 나타낸다. 이 기술은 EP 0,867,873의 도 10에 개략적으로 도시되며, 투광성 커버막이 롤(roll) 및 스탬퍼(stamper) 사이를 통과한다. 따라서, 투광성 커버막은 감압성 접착제층에 의해 베이스 부재에 또는 피트 구조를 선택적으로 포함하는 1개 이상의 다른 투광성 커버막에 결합될 수 있기 때문에, 정보 저장층의 다중화(multiplicity)를 갖는 광학 기억 매체가 얻어질 수 있다. 또한, 피트 구조를 나타내는 투광성 커버막은 패터닝된 구조를 나타내는 적절하게 형상화된 기판에 투광성 커버막의 코팅 가능하고 중합 가능한 전구물질(precursor)을 공급하고, 그 후에 중합하며, 이러한 기판으로부터 경화된 투광성 커버막을 제거하는 이하에 기술되는 중합 캐스팅 기술(polymerization casting technique)에 의해 얻어질 수 있다.

정보 저장층(3)의 구조는 판독 및/또는 기록할 수 있도록 할 것인지 여부에 따른다.

광학 저장층이 ROM 타입인 경우, 정보 저장층(3)은, 예를 들어 스퍼터링법에 의해 얻어질 수 있는 통상적으로 20 내지 60 nm 두께를 갖는 Al 및 Au 등의 반사막을 포함한 피트 구조를 포함한다.

기록 가능한 광학 기억 매체는 상변화형(phase-change type) 또는 광자기형(magnet-optical type)의 것일 수 있다. EP 0,867,873에 따르면, 상변화형 정보 저장층은 Al막, GeSbTe막 및 ZnS-SiO₂막과 같은 반사막을 피트 구조 상에 연속적으로 형성함으로써 얻어질 수 있다. 보다 복잡한 상변화형 정보 저장층은,예를 들어 EP 0,874,362에 개시되어 있다. 광자기형 정보 저장층(3)은, 예를 들어 Al막, SiN막, TbFeCo막 및 SiN막과 같은 반사막을 이 순서로 포함하는 피트 구조를 포함한다.

1회 기록형(write-once type) 정보 저장층은, 예를 들어 피트 구조에 Al, Au 또는 다른 금속의 얇은 반사막을 공급한 후, 시아닌(cyanin) 또는 프타로시아닌계 유기 염료막(phthalocyanine system organic pigment film)에 의해 코팅됨으로써 얻어질 수 있다.

상기된 정보 저장층은 실시예만에 의해 제공된다. 본 발명에 따른 광학 기억 매체는 다른 및/또는 수정된 구조의 정보 저장층을 포함할 수 있다.

본원 발명자는 1개 이상의 투광성 감압 접착제층을 갖는 이러한 매체를 결합시킴으로써 얻어질 수 있는 낮은 두께 변화, 바람직한 광학 성질 및 낮은 지터값을 갖는 광학 기억 매체를 발명하였다. 따라서, 본 발명은 1개 이상의 감압성 접착제층에 의해 결합된 광학 기억 매체를 제공하는 반면, 바람직하지 않은 종래기술의 UV 경화 가능 수지층을 피한다.

도 1a에 개략적으로 도시된 광학 기억 매체에 대한 특정 실시예에 있어서, 감압성 접착제층(4)은 투광성 커버막(5)을 정보 저장층(3)에 결합시킨다. 상기한 바와 같은 정보 저장층의 다중화를 포함하는 보다 복잡한 구조에 있어서, 또한 감압성 접착제층(4)은 정보 저장층(3)을 선택적으로 포함하는 두 개 이상의 투광성 커버막(5)을 서로 접합하도록 사용될 수 있다.

본 발명에 따른 또 다른 광학 기억 매체는 두 개 이상의 정보 저장층을 포함한다. 도 1b에 개략적으로 도시된 광학 기억 매체의 특정 실시예에 있어서, 감압성 접착제층(4)은 제1 정보 저장층(3a)을 포함한 베이스 부재(1)를 광빔(6)이 입사되는 투광성 커버막(5) 상의 제2 정보 저장층(3b)에 결합시킨다.

감압성 접착제층은 정보가 광학 기억 매체로부터 판독되거나 광학 기억 매체에 기록되는 입사 광빔(6)의 파장에서 광학적으로 투명하거나 투광성적이어야 한다. 광빔(6)을 생성하기 위한 적절한 광원은 예컨대 파장의 범위가 400 내지 700 nm, 바람직하게는 적색 레이저의 경우 600 내지 660 nm, 청색 레이저의 경우 400 내지 420 nm의 방출선을 가진 레이저를 포함한다. 또한 간섭 필터와 같은 적절한 단색 필터를 가진 다색 광원이 가능하다. 예컨대 ASTM D 1746에 따라 측정 가능한 입사광의 파장에서 감압성 접착제의 광학 투명도 또는 투광성도는 적어도 80%, 바람직하게는 85%이다.

감압성 접착제층은 예컨대, 접착제층을 각 사이드에서 지지하는 폴리에틸렌 텔레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트 또는 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA) 등의 선택적으로 표면 처리된 비정형 중합체층과 같은 투명 지지층 및/또는 지지층을 포함할 수 있으나 감압성 접착제층은 지지층이 없는 전달막이 좋다. 전달막의 경우, 감압성 접착제층은 평균 두께가 10 ㎛ 내지 100 ㎛, 바람직하게는 15 ㎛ 내지 80 ㎛, 더욱 바람직하게는 15 ㎛ 내지 50 ㎛ 이며, 지지층을 가진 양면 접착 테이프는 두께가 50 ㎛와 150 ㎛ 사이, 바람직하게는 50 ㎛와 100 ㎛ 사이인 것이 좋다.

일반적으로, 광투명 요건은 아크릴레이트계 감압성 접착제에 의해서 충족되나, 실리콘계 감압성 접착제, 고무 수지기의 감압성 접착제, 블록 공중합체키의 접착제, 특히 수소화 탄성중합체 또는 비닐 에테르계 감압성 접착제가 또한 사용 가능하다. 이들 물질 중 어느 하나는 그들의 특성에 맞추도록 가소제 및/또는 택키파이어(tackifier)와 합성 가능하다. 아크릴레이트계 감압성 접착제가 좋다.

본 발명에서 유용한 아크릴레이트계 감압성 접착제는 4 내지 14 원자 평균을 가진 알킬 그룹과 1개 이상의 알킬 아크릴레이트을 함유하는 전구물질의 중합화에 의해서 얻어질 수 있다. 4 내지 14 원자 평균이란 4 내지 14, 특히 4 내지 12 C 원자 사이에서 알킬 아크릴레이트 합성물의 카본(C) 원자의 평균수가 있다는 것을 의미한다. 유용한 알킬 아크릴레이트(즉, 아크릴레이트 알킬 에스테르 단량체)는 선형 또는 분기 단기능의 불포화 아크릴레이트 또는 넌터샤리 알킬 알콜의 메타아클산, 4 내지 14, 특히 4 내지 12 카본 원자의 알킬 그룹을 함유한다. 본 발명에서 사용되는 저급 알킬 아크릴레이트의 예는 n 부틸 아크릴레이트, 이소부틸 아크릴레이트, 헥실 아크릴레이트, 2-에틸헥실 아크릴레이트, 이소옥틸 아크릴레이트, n 옥틸 아크릴레이트, n 옥틸 메타아크릴레이트, 2-메틸부틸 아크릴레이트, 이소노닐 아크릴레이트, n 노닐 아크릴레이트, 이소아밀아크릴레이트, n 데실 아크릴레이트, 이소데실 아크릴레이트, 이소데실 메타아크릴레이트, 이소보닐 아크릴레이트, 4-메틸-2-펜틸 아크릴레이트, 도데실 아크릴레이트를 포함하며, 이들에 한정되는 것은 아니다. 양호한 저 아크릴레이트 및 메타아크릴레이트 에스테르는 이소옥틸 아크릴레이트, n 부틸 아크릴레이트, 2에틸헥실 아크릴레이트, 이소노닐 아크릴레이트, 도디실 아크릴레이트를 함유한다. 감압성 접착제의 중합 가능한 전구물질은 5, 특히 1-4 알킬 아크릴레이트까지 함유한다. 상기한 바와 같이 알킬 아크릴레이트의알킬군에서 카본 원자의 평균수는 바람직하게는 4 내지 12 더욱 바람직하게는 5 내지 10이다. 상이한 알킬 아크릴레이트의 혼합이 또한 사용 가능하다.

감압성 접착제의 중합 가능한 전구물질은 예컨대 알킬 말레이레이트 및 알킬 퍼머레이트(각각 말레이산 및 퍼머산에 기초)와 같은 아크릴산 이외의 불포화 지방족 카복실산의 알킬 에스테르를 더 함유할 수 있다. 이와 관련하여, 디부틸 말레이레이트, 디옥틸 말레이레이트, 디부틸 퍼머레이트, 디옥틸 퍼머레이트가 좋다. 아크릴산 이외의 불포화 지방족 카르복실산의 에스테르 화합물량은 너무 많지 않고 바람직하게는 알킬 아크릴레이트 성분의 중량에 대해서 25 중량 %를 초과하지 않는 것이 좋다.

감압성 접착제의 중합 가능한 전구물질은 1개 이상의 적절한 폴라 및/또는 강한 폴러 단량체를 함유할 수 있다. 극성(즉, 수소 결합력)에 대해서는 "강하게", "적절히", "약하게" 등의 용어를 사용하여 자주 기술된다. 이러한 용해도 용어를 기술하는 참조 문헌은 페인트 테크놀러지 저널 38권 496호 269 내지 280 페이지에 기재된 "용해도에 대한 3차원 방법"과 펜실베니아주 필라델피아 소재의 테스팅 및 물질을 위한 어메리칸 소사이어티의 G.G. Seward Ed의 페인트 테스팅 매뉴얼의 "솔벤트"가 있다. 강극성의 단량체의 예는 아크릴산, 메타아크릴산, 아크릴아미드이며, 예컨대 N-비닐 피로리돈 및 N-비닐 카프로락탐, 아크로릴로니트릴 및 디메틸아미노 프로필 메타아크릴레이트 등의 N-비닐 락탐이 적절한 극성의 단량체의 전형적인 예이다. 약한 극성의 단량체의 예는 예컨대 이소보닐 아크릴레이트, 비닐 아세테이트, N-옥틸 아크릴아미드, t 부틸 아크릴레이트, 메틸 아크릴레이트, 메틸메타아크릴레이트 또는 스티렌을 포함한다. 그러나, 멤머중 적어도 하나의 내면이 Al 반사층과 같은 부식층을 함유하고 있으면, 강극성의 단량체의 퍼센트는 아크릴레이트 단량체의 중량에 대해서 바람직하게는 약 10 중량 %, 보다 바람직하게는 약 5 중량 % 이하인 것임을 알 수 있다. 감압성 접착제에는 부식원의 내면에 주는 심각한 손상을 회피하기 위해 필수적으로 아크릴산이 없는 것이 좋다.

본 발명에서 유용한 아크릴레이트계 감압성 접착제는 예컨대 미국 특허 제US 4,181,752호, 미국 특허 제US 4,418,120호, 국제 공개 공보 제WO 95/13,331호 또는 감압 접착 기술 핸드북에 기술되어 있다.

본 발명에서 유용한 감압성 접착제층은 감압성 접착제층의 투명도를 감소하지 않거나 감압성 접착제층의 두께의 균일성이 비소망 및/또는 수용할 수 없는 각도이면, 예컨대 중합체 첨가물, 농후제, 택키파이어, 연쇄 전달제, 다른 접착제 등의 추가 성분일 수 있다. 이러한 첨가물양은 감압성 접착제의 질량에 대해서 바람직하게는 5중량 % 이하, 더욱 바람직하게는 0 내지 2 중량 %가 좋다.

본 발명에서 유용한 감압성 접착제는 모듈러스 G'(23℃ 온도와 1 라디안/초의 주파수에서 측정)는 5 ×10⁵내지 2 ×10⁶dyne/㎤, 바람직하게는 6 ×10⁵내지 1.5 ×10⁶dyne/㎤, 더욱 바람직하게는 6.5 ×10⁵내지 9.5 ×10⁵dyne/㎤을 나타낸다.

용매 및 옵션 경화의 연속적인 증발로 릴리즈 라이너 위에서 유기 또는 수용성 용액 또는 분산물로서 또는 연속 경화로 필수적으로 용매가 없이 사전 중합된시럽으로서 감압성 접착제층을 코팅하여 감압성 접착제층을 준비한다. 후자의 방법은 미국 특허 제US 4,181,752호에 상세히 그 일부가 기술되어 있고, 감압성 접착제의 용액 또는 분산물의 코팅에 대해서는 예컨대 여기서 참조 문헌으로 인용되고 있는 D. Satas의 감압성 접착제 기술 핸드북(제2판 767 내지 868 페이지, 1989년 뉴욕)에 기술된 내용을 참조하라. 감압성 접착제층의 노출 표면은 통상 경화 전이나 후에 제2 릴리즈로 보호된다.

본원 발명자들은 아주 균일한 광학 기록 매체의 준비를 가능하게 하기 위해서는 감압성 접착제층의 두께가 세심하게 제어되어야 함을 발견하였다. 감압성 접착제층에 의해서 도입된 광학 기록 매체의 두께 변화는 이후의 테스트 섹션에서 기술된 측정 방법을 이용하여 전체 확장부상에서 광학 기록 매체의 임의적으로 선택된 단면을 가로 질러 측정된 것으로서 바람직하게는 약 ±3㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 약 ±2 ㎛ 이하 이어야 함을 찾아내었다.

이러한 요건을 충복하는 매우 평평하며 균일한 정밀 캘리퍼 감압성 접착제층을 준비하기 위한 양호한 방법이 여기서 참조 문헌으로 인용되고 있는 국제 공개 공보 제WO 95/29,766호에 기재되어 있다. 이 방법은 기판이 다이와 관계해서 움직일 때 기판의 표면상의 다이를 통해 필수적으로 용매 없이 중합 가능한 시럽 전구물질의 코팅을 포함한다. 다이는 전구물질이 통과되는 채널과 관계하여 조정 가능한 폭 슬롯과 감압성 접착제의 전구물질을 수용하기 위한 채널을 포함한다. 슬롯은 기판의 다운스트림측에 위치하고 있는 실질적으로 직선의 샤프한 엣지와 기판의 업스트림측에 위치하고 있는 랜드 사이에 형성되어 있다. 다이 코팅 방법 정밀 코팅다이의 상세에 대해서는 여기서 참조 문헌으로 인용되고 있는 국제 공개 공보 제WO 95/29,764호와 국제 공개 공보 제WO 95/29,765호를 참조하라. 이 방법은 예컨대 감압성 접착제층을 연속해서 경화하여 가동 벨트 또는 릴리즈 라이너 위에서 아크릴레이트계 감압성 접착제의 필수적으로 용매가 없는 사전 중합 가능한 시럽 전구물질을 코팅하기 위해 사용 가능하다. 감압성 접착제층은 가동 벨트에서 광학 기록 매체의 제1 맴버의 내면으로 경화한 후 바로 이동 가능하거나 제1 멤버의 내면에 도포되기전에 릴리즈 라이너 사이에 일시적으로 저장 가능하다. 아래에서 정의하고 있는 바와 같이 2 ㎛ 이하의 표면 거칠기 R_z로 플랫하고 매끄러운 표면을 가진 가동 벨트 또는 릴리즈 라이너를 이용할 때, ±3 ㎛ 이하의 두께 허용 오차 또는 바람직하게는 약 ±2 ㎛ 이하의 두께 허용 오차를 가진 동질의 감압성 접착제층이 얻을 수 있었다. 이 접착제층은 매우 균일한 광학 기록 매체를 준비하기 위해 사용될 수 있고 감압성 접착제층에 의해서 광학 기록 매체에 도입된 두께 허용 오차는 통상 ±3 ㎛ 이하이다.

감압성 접착제층의 굴절률은 투광성 커버막의 평균 굴절률에 적용되는 것이 좋다. 투광성 커버막의 평균 굴절률과 감압성 접착제층의 평균 굴절률간의 차이는 0.05 이하, 바람직하게는 0.02 이하가 좋다. ASTM D 542에 따라 측정될 수 있는 감압성 접착제의 굴절률은 적어도 1.45, 바람직하게는 적어도 1.49인 것이 좋다. 본원 발명자들은 본 발명에서 유용한 적어도 약 1.50의 굴절률을 갖는 아크릴레이트계 감압성 접착제층을 사전 중합 가능한 프리커서에서 페놀 아크릴레이트의 충분한양을 포함함으로써 얻을 수 있음을 찾아내었다.

본 발명의 광학 기억 매체는 투광성 커버 막 각각이 그의 주면중 한면 또는 양면에서 피트(pits) 구조를 선택적으로 나타내는 1개 이상의 투광성 커버막을 포함하고 있다. 본원 발명자들은 선형적으로 분극된 광에 대해서 재생 가능하게 고투과율을 갖는 광학 기억 매체가 필수적으로 광학적으로 이방성이며 20℃의 온도에서 0.001 이하, 바람직하게는 8 ×10^-4이하, 더욱 바람직하게는 6.5 ×10^-4이하의 수직 복굴절성과 정보 기록 및/또는 판독을 위해 사용되는 광빔(6)의 적어도 파장 또는 파장 스펙트럼을 갖는 1개 이상의 투광성 커버막을 광학 기억 매체에서 이용함으로써 얻어질 수 있음을 찾아내었다.

필수적으로 광학적으로 이방성이며 낮은 값의 수직 복굴절성을 나타내는 투광성 중합막에 대해서는 종래 기술에서 설명되었으나, 고성능의 우수한 광학 특성, 특히 선형 분극된 광으로 고투과율을 갖는 광학 기억 매체를 제공하는데 있어 투광성 중합막이 중요한 역할을 한다는 것은 지금까지 인식하지 못했다.

x 방향과 y 방향으로 연장하는 평면과 z 방향의 두께 d를 갖는 중합막의 소정 시트에 대해서, 막의 평면 예컨대 z 방향에 대해서 수직의 굴절률과 막의 평면, 예컨대 x 방향 및 y 방향을 포함하는 평면에 평행한 두개의 주방향에서의 굴절률의 평균간의 차이가 수직 복굴절성이다. 수직 복굴절성은 광학 기억 매체에 정보를 기록하고 광학 기억 매체로부터 정보를 판독하기 위해 사용될 수 있는 레이저광을 이용하여 20℃의 온도에서 아래에 기술된 바와 같은 측정 방법을 적용하여 측정된다. 예컨대 사용될 수 있는 레이저 광원은 파장 범위가 400 내지 700㎚인 방출선을 포함한다. 또한 단색 필터를 이용한 다색 광원을 이용하는 것도 가능하다.

본 발명의 광학 기억 매체에서 사용되는 투광성 커버막은 20℃의 온도에서 ±30 ㎚, 바람직하게는 ±25 ㎚, 더욱 바람직하게는 ±15 ㎚의 평면내 지연도와 파장 또는 파장 스펙트럼을 나타낸다. 평면내 지연도는 독일 마틴스리트 소재의 Dr. Schenk 게엠바하사로부터 입수가 가능한 DVD 테스터 "Prometheus MT 136"을 이용하여 이후 기술되는 바와 같은 측정 방법을 적용하여 측정된다. 평면내 복굴절성은 투광성 커버막의 두께로 평면내 지연도를 분할함으로써 평면내 지연도값에서 얻어진다.

본원 발명자들은 수직 복굴절성 및 선택적 평면내 복굴절성의 낮은 소요값을 갖는 필수적 광학 이방성 투광성 커버막은 예컨대 용매 캐스팅 특히 중합화 캐스팅 기술을 이용하여 얻을 수가 있음을 찾아내었다. 이와는 대조적으로 각 중합체를 압출에 의한 투광성 커버막을 준비하는데 있어 광의 비동질, 특히 수직값 및/또는 이 값을 초과하는 압출된 중합체층의 평면내 복굴절성으로 변환하는 중합체 연쇄의 적어도 부분 배향과 스트레스가 형성되는 경향이 있다. 그러므로, 압출된 중합체층은 통상 본 발명에 따른 투광성 커버막으로서 사용이 불가능하다.

용매 캐스팅에 의한 투광성 커버막의 준비는 중합체를 용매에서 용해하고, 정보 저장층이 투광성 커버막에 도입되는 경우 마이크로 구조 표면 또는 매끄러운 기판 위에 용액을 캐스팅하고, 용매를 증발시켜 중합체를 고형화하는 것을 포함한다. 중합체는 예컨대 폴리디사이클로펜타디엔 또는 노보르넨/디사이클로펜타디엔/메틸 메타아크릴레이트 테르중합체 등의 폴리카보네이트 셀룰로우즈 트리아세테이트 및 폴리올레핀계 중합체를 포함하는 것이 좋다. 적절한 용매는 예컨대 디클로로메탄, 디옥소란, 시클로헥사논, 테트라히드로푸란, 디옥산, 이들의 조합을 함유한다.

중합 캐스팅에 의한 투광성 커버막의 준비는 통상 과잉 단량체 또는 올리고머에서 중합체의 부분 중합된 경화성 프리커서의 용액을 포함하는 코팅 가능한 시럽 전구물질을 준비하는 것을 포함한다. 다음에 이용액은 투광성 커버막을 제공하도록 연속적인 중합화로 매끄러운 기판상에서 캐스트된다. 이 기술에 의해 호모중합체 또는 공중합체의 형성이 가능하다. 또한 1개 이상의 중합체가 그의 점도를 조절하고 결과의 투광성 커버막의 특성을 변경하기위해 중합 가능한 전구물질에서 혼합되는 것이 가능하다. 또한 중합 가능한 전구물질은 그의 점도 및 코팅성을 조절하기 위해 1개 이상의 용매를 함유하는 것이 가능하고 용매없이 중합 가능한 전구물질이 좋다. 중합 가능한 전구물질은 중합 시 적어도 10 ℃, 바람직하게는 약 10℃ 내지 140℃, 더욱 바람직하게는 약 20℃ 내지 100℃, 더더욱 바람직하게는 약 40℃ 내지 60℃의 유리 천이 온도를 나타내는 적어도 하나의 아크릴 기능의 단량체를 함유하며 쉽게 부서지지 않는다.

중합 가능한 전구물질의 중합화에 의해서 얻어진 투광성 커버막은 단단한 막이억나 연성막이다. 여기서 사용되고 있는 "단단한"이란 용어는 잘 긁히지 않고, 잘 변형되지 않으며, 크기적으로 안정하다는 것을 의미한다. 특히, 투광성 커버막은 실온에서 1,380 MPa(스퀘어 인치당 200 킬로 파운드), 바람직하게는 2,070(300kpsi), 더욱 바람직하게는 2,740 MPa(400 kpsi)의 인장률을 갖는 것이 좋다.

투광성 커버막의 인장률은 5.1 ㎝/min(2 inches/min)의 분리율과 10.2 cm(4 inch) 게이지 길이를 이용하여 ASTI 테스트 방법 D-822-88에 따라서 정해진다.

여기서 사용된 "연성의 투광성 커버막"이란 실온에서 50% 이상, 바람직하게는 150% 이상의 신율(tensile elongation)과 1,380 MPa(=200 kpsi) 이하의 인장률을 갖는 막을 지칭하는 것이다. 인장률과 신율은 12.7 ㎝/min(5 inches/min)의 분리율과 10.2 cm의 게이지 길이를 이용하여 ASTI 테스트 방법 D-822-88에 따라서 측정된다. 여기서 사용되는 "신율"이란 인장 테스트 절차 동안에 측정된 연성 재료의 파손시의 신장율을 지칭하는 것이다.

강성 또는 연성의 규정치를 갖는 투광성막이 바람직하다. 상기 인장 테스트 절차는 단지 투광성 커버막의 테스트 샘플의 기계적인 특성을 체크하기 위해 사용된다. 이러한 테스트 샘플은 본 발명의 광학 기억 매체에서 사용되지 않는다. 본 발명의 광학 기억 매체에서 사용될 투광성 커버막은 이 막에 광학 이방성을 주지 않도록 가능한 한 응력이 없게 다루어져야 한다. 그러므로, 본 발명에서 유용한 투광성 커버막은 긁힘이 일어나지 않아야 한다.

투광성 커버막의 중합 가능한 전구물질의 단량체 성분은 최종의 투광성 커버막이 실온에서 비점성 상태이도록 선별되는 것이 좋다. 그러나 점성의 투광성 커버막은 예컨대 광기록 매체, 특히 본 발명에 따른 DVR이 카트리지에서 조립되는 경우 유용할 수 있다. 본 발명에서 유용한 단량체는 평균 2 내지 24 원자를 가진 알킬 그룹의 알킬 아크릴레이트를 함유한다. 평균 2 내지 24 원자란 알킬 아크릴레이트화합물의 카본 C 원자의 평균수가 4 내지 24, 바람직하게는 4 내지 12 C 원자, 더욱 바람직하게는 4 내지 10C 원자 사이에 있다는 것을 의미한다. 유용한 알킬 아크릴레이트(즉, 아크릴산 알킬 에스테르 단량체)는 2 내지 24 범위, 특히 2 내지 20 범위의 카본 원자를 갖는 알킬 그룹, 넌터사리 알킬 알콜의 메타아크릴레이트 또는 분기형 또는 선형 단기능 불포화 아크릴레이트를 함유한다. 본 발명에서 사용되는 저급 알킬 아크릴레이트의 예는

메틸 아크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 프로필 아크릴레이트, n 부틸 아크릴레이트, 이소부틸 아크릴레이트, 헥실 아크릴레이트, 2-에틸헥실 아크릴레이트, 이소옥틸 아크릴레이트, n 옥틸 아크릴레이트, n 옥틸 메타아크릴레이트, 2-메틸부틸 아크릴레이트, 이소노닐 아크릴레이트, n 노닐 아크릴레이트, 이소아밀아크릴레이트, n 데실 아크릴레이트, 이소데실 아크릴레이트, 이소데실 메타아크릴레이트, 이소보닐 아크릴레이트, 4-메틸-2-펜틸 아크릴레이트, 도데실 아크릴레이트, 헥사데실 아크릴레이트, 옥타데실 아크릴레이트, 에이코실 아크릴레이트를 포함하며, 이들에 한정되는 것은 아니다. 양호한 저급 아크릴레이트 및 메타아크릴레이트 에스테르는 이소옥틸 아크릴레이트, n 부틸 아크릴레이트, 2에틸헥실 아크릴레이트, 이소노닐 아크릴레이트, 도디실 아크릴레이트를 함유한다. 투광성막의 중합 가능한 전구물질은 5, 특히 1-4 알킬 아크릴레이트까지 함유한다. 상기한 바와 같이 알킬 아크릴레이트의 알킬군에서 카본 원자의 평균수는 바람직하게는 2 내지 20, 더욱 바람직하게는 2 내지 12, 더더욱 바람직하게는 2 내지 6 사이의 범위이다. 상이한 알킬 아크릴레이트의 혼합이 또한 사용 가능하다.

투광성 커버막의 중합체화 가능한 전구물질은, 예컨대 아크릴산이 아닌 불포화 지방 카복실산의 일종인 (각각 말레인산 및 푸머레인산에 기반하고 있는) 말레인산 알킬, 푸머레인산 알킬과 같은 에스테르산 알킬을 더 포함할 수 있다. 이런 맥락에서, 말레인산 디부틸, 말레인산 디옥틸 및 무머레인산 디옥틸을 사용하는 것이 바람직하다. 아크릴 산이 아닌 불포화 지방 카복실산의 일종인 에스테르 합성물의 양은 너무 높지 않은 것이 바람직하며, 알크릴산 알킬 성분의 질량에 대하여 25 wt.%를 넘지 않는 것이 바람직하다.

또한, 투광성 커버막의 중합체화 가능한 전구물질은 1개 이상의 적당한 극성 및/또는 강한 극성의 단량체을 포함할 수도 있다. 극성(즉, 수소 접합 능력)은 "강하게", "적절하게" 및 "약하게"와 같은 용어를 사용하여 자주 기술하였다. 이들 및 다른 용해도 용어들은 펜신베니아주 필라델피아에 소재해 있는 American Society for Testing and Materials의 G.G. Seward, Ed.의 3판인 Paint Testing Manual의 'Solvents' 및 Journal of Paint Technology, Vol. 38, No 496, pp269 - 280의 'A Three-Dimensional Approach to solubility'를 포함한다. 강한 극성 단량체에 대한 예로서는 아크릴산, 메타크릴산 및 아크릴아미드 등이 있는 반면에, 통상적으로 적절한 극성 단량체의 예로서는 N-비닐 필로리돈, N-비닐 카프로락탐, 아크릴로 니트릴 및 디메틸 아미노프로필 메타크릴레이트 등과 같은 N-비닐 락탐들이 있다. 예컨대, 약한 극성 단량체의 예로서는 이소보닐 아크릴레이트, 비닐 아세테이트, N-옥틸 아크릴아미드, t-부틸 아크릴레이트, 메틸 아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트 또는 스티렌 등이 있다.

중합체화 가능한 전구물질은 미국 특허 제4,642,126호에 기술된 바와 같이, 글리세롤 디아크릴레이트, 글레세롤 트리아크릴레이트, 에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜, 디메타크릴레이트, 1,3-프로판디올 디아크릴레이트, 1,3-프로판디올 디메타크릴레이트, 트리메타놀 트리아크릴레이트, 1,2,4-부탄트리올 트리메틸아크릴레이트, 1,4-사이클로헥산디올 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라메타크릴레이트, 소비톨 헥사크릴레이트, 비스[1-(2-아크릴옥시)]p-에톡시페닐 디메틸메탄, 비스[1-(3-아크릴옥시-2-히드록시)]p-프로포옥시페닐 디메틸메탄, 트리스히드록시에틸 이소시아네이트 트리메타크릴레이트 및 200 - 500 분자 중량의 폴리에탄 글리콜의 비스메타크릴레이트 및 아크릴 올리고머 등을 더 포함할 수 있다.

투광성 커버막의 중합체의 중합체화 가능한 전구물질은 단량체 성분과 친화성을 갖는 막 형성 재료도 포함할 수도 있다. 이러한 막 형성 재료는 단량체 성분을 갖는 중합체 반응물, 예컨대 아크릴 작용기성 폴리에스테르, 아크릴 작용기성 폴리우레탄 아크릴레이트 공중합체, 덴드리머(dendrimer), 또는 아크릴레이트 작용기성 마크로머 및 비작용기성 중합체들이 중합체화 가능한 전구물질 및 경화 전구물질 내에서, 즉 투광성 커버막 내에서 모두 용해 가능하도록 하기 위하여 비작용기성 중합체도 포함하는 것이 바람직하다. 비작용성 중합체는 투광성 커버막의 전구물질와 혼합된 경우, 음의 값("chi")을 갖는 중합체인 것이 바람직하다. 예컨대, 이러한 비작용성 첨가제는 폴리알파올레핀 열가소성 공중합체, 비작용성아크릴 중합체 및 폴리페닐린 에테르를 포함하는 중합체의 그룹으로부터 선택될 수 있다.

예컨대, 중합체화 가능한 전구물질에 사용되는 바람직한 단량체는 (메틸)메타크릴레이트, (메틸)프로필라크릴레이트, 소량의 (메틸)(C4 - C8 알킬)아크릴레이트, 알킬로나이트릴, 메타크릴라미드, N,N,-디메틸아크릴 아미드와 같은 알킬 대체 메타크릴 라미드, 옥틸아크릴아미드, N-비닐폴로리돈, N-비닐카프로락탐, 또는 스틸렌 등이 사용될 수 있다. 중합체화 가능한 전구물질의 사전 중합체화 정도는, 예컨대 실온에서 0.3 내지 200 Pa.s 사이의 점도를 갖는 쉽게 코팅 가능한 전구물질을 제공하도록 선택되는 것이 바람직하다.

투광성 커버막의 중합체의 중합체화 가능한 전구물질은 (메틸)메타크릴레이트, (메틸)에틸아크릴레이트, (메틸)프로필아크릴레이트, 소량의 (메틸)(C4 -C8알킬)아크릴레이트, 아크릴로니트릴, 스틸렌 알킬 아크릴레이트, 메타크릴아미드 및 알킬 대체 메타크릴아미드를 포함하는 그룹으로부터 선택되 단량체 성분, 1개 이상의 중합체화 기폭제 및 선택적으로 중합체화 가능한 전구물질의 단량체와 공중합체 가능한 1개 이상의 불포화된 이중 접합을 갖는 1개 이상의 비닐 단량체를 포함하는 것이 바람직하다.

투광성 커버막 또는 막들의 두께 각각은 10 ㎛ 내지 200 ㎛ 사이에 있는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 20 ㎛ 내지 150 ㎛ 사이에 있는 것이 바람직하며, 특히 바람직하게는 40 ㎛ 내지 120 ㎛ 사이에 있는 것이 좋다. 2개 이상의 투광성 커버막을 포함하는 본 발명의 광학 기억 매체의 보다 복잡한 구조에서, 각 커버층의 두께는 10 ㎛ 내지 100 ㎛이며, 20 ㎛ 내지 90 ㎛인 것이 보다 바람직하다.

본 발명의 투광성 매체의 투광성 커버막 또는 투광성 커버막들과 감압성 접착제층 또는 감압성 접착제층들의 두께의 총합의 최대 두께는 CD용으로 일본 특허 공개 평성 제JP 3-225,650호에 기술된 관계를 이용하여 EP 0,867,873 및 일본 특허 공개 평성 제JP 3-225,650호에 따라 이들 간의 최대 두께들, 광학 디스크 기록 및/또는 재생 장치의 광 헤드 장치의 다수의 개구, 사용되는 광원의 파장 및 스큐 마진(skew margin)들 사이에서 추정할 수 있다. 대략 0.65 ㎛의 파장을 갖는 레이저 광원을 사용하는 경우, EP 0,867,873은 투광성 커버막 또는 막들 및 감압성 접착제층 및 층들의 두께의 총합을 288 ㎛ 이하의 값을 제안하고 있으며, 반면에 0.4 ㎛의 파장을 갖는 청색광 레이저에 대하여서는 177 ㎛를 제안하고 있음이 개시되어 있다.

투광성 커버막을 준비하는 용매 캐스팅 및 중합체화 캐스팅 기법 모두에 있어서, 캐스팅층의 두께는 매우 균일한 투광성 커버막을 얻기 위하여 조심스럼게 제어되는 것이 바람직하다. 투광성 커버막의 두께의 변동폭은 ±3 ㎛를 넘지 않는 것이 바람직하며, 아래의 시험 부분에서 기술된 측정 방법에 의해 모든 연장선 상에 있는 임의로 선택된 광 기록 매체의 단면에 걸쳐 측정된 바와 같이 ±2 ㎛를 넘지 않는 것이 바람직하다.

매우 평탄하고 균일하며 정밀한 캘리퍼 투광성 커버막이 다이 코팅 방법에 의해 바람직하게 얻어질 수 있음이 밝혀졌으며, 이들 정밀 코딩 다이는 전술한 국제 공개 공보 제WO 95/29,764호 및 제WO 95/29,765호에 개시되어 있다. 예컨대, 이방법은 투광성 커버막의 중합체의 사전에 부분적으로 중합체화된 시럽형 전구물질, 또는 이들 중합체의 용액 각각을 이동 밸트 또는 드럼 또는 전구물질을 연속적으로 각각 경화시키고/또는 용액을 각각 건조시키는 릴리즈 라이너 상에 코팅되도록 사용된다. 따라서, 획득된 투광성 커버막은 각각 경화 및 건조된 이후에 노출된 감압성 접착제층으로부터 직접 이동될 수 있다. 하기에 정의된 ±2 ㎛이하의 표면 거칠기를 갖는, 실질적으로 평평한 평탄면을 갖는 이동 벨트 또는 릴리즈 라이너를 사용하는 경우, 대략 ±3 ㎛이하의 두께 내구성을 갖는 매우 균일한 투광성 커버막을 얻을 수 있으며, 바람직하게는 대략 ±2 ㎛이하의 두께 내구성을 갖는 것이 바람직하다. 예컨대, 요구되는 평탄면을 갖는 적절한 벨트 또는 드럼은 각각 높게 정제된 스테인레스 스틸 표면을 포함한다.

본원 발명자는 용매 캐스팅 기법이 실질적으로 광학적 등방성을 가지며, 특히 본 발명의 요구 사항을 충족시키는 낮은 수직 복굴절성 값을 가지게 됨을 밝혀냈다. 수직 복굴절성 값은 상이한 캐스팅 유출량에 따라 어느 정도까지 변화될 수 있지만, 본원 발명자는 20 ℃에서 수직 광 빔(6)의 적어도 파장 또는 파장 스펙트럼에서 각각 제한된 수의 유출량을 가지며, 0.001 이하의 요구되는 수직 복굴절성을 갖는 투광성 커버막을 얻을 수 있음을 알아내었다.

일반적으로, 캐스팅 공정은 용매 캐스팅 막 내에 도입된 스트레스가 최소화되도록 이용되어 왔다. 본원 발명자는 투광성 커버막이 기판 위에 용매 캐스팅되어 있으며, 예컨대 중량 단위로 10 - 25 %, 보다 바람직하게는 중량 단위로 12.5 -17.5 %의 잔류 용매 함유량을 갖는 기판으로부터 제거되는 것이 바람직하다. 투광성 커버막은 독립되어 그리고 통과, 예컨대 강제 에어 오븐을 통과하여 지지되지 않은 막으로써 추가적으로 건조된다.

투광성 커버막의 광학적 등방성 특성이 증가하고, 특히 EP 0,380,028에 개시된 바와 같이 적적한 중합체 및/또는 중합체화 가능한 전구물질을 대략 35 dynes/cm 이하의 낮은 표면 에너지를 갖는 이동 벨트 또는 릴리즈 라이너 상에 캐스팅함으로써 감소될 수 있다. 적합한 낮은 표면 에너지 재료로는, 예컨대 폴리(테트라플루로르에틸렌), 폴리(비닐리덴 플루오라이드), 폴리(트리플루로르크로로에틸렌 ), 폴리에틸렌을 함유하는 폴리에틸렌 및 폴리스틸렌, 폴리(테트라플루오르에틸렌) 및 폴리(비닐리덴 플루오라이드) 등을 사용하는 것이 특히 바람직하다.

투광성 커버막의 광학적 등방성 특성은 증가될 수 있으며, 특히 수직 복굴절성은 이러한 막의 두께를 증가시킴으로써 감소될 수 있다. 따라서, 투광성 커버막 또는 투광성 커버막들 및 감압성 접착제층 또는 감압성 접착제층들의 각각의 소정의 총 두께를 갖는 본 발명에 따른 광학 기억 매체의 특정 구조에서, 투광성 커버막의 수직 복굴절성은 투광성 커버막 또는 투광성 커버막들의 두께를 증가시키는 한편, 대응적으로 감압성 접착제층 또는 감압성 접착제층들의 두께를 감소시킴으로써 감소될 수 있다.

본원 발명자는 투광성 커버막의 광학적 등방성 특성이 증가될 수 있음을 밝혀내었으며, 특히 중합체 합성물 내에서 이의 수직 복굴절성이 광학적 이방성을 전하는 경향이 있는 성분의 양을 감소시킴으로써 감소될수 있음을 밝혀 내었다. 예컨대, 폴리카보네이트 중합체를 포함하는 중합체 공식화를 용매 캐스팅함으로써, 그리고 1,1-비스(4-히드록시페닐)-3,3,5-트리메틸 클로로헥산(TCM)의 양을 가변시킴으로써 얻어진 중합체의 광학 이방성 특성이 TCM의 양을 감소시킴에 따라 감소됨이 밝혀졌다.

또한, 본원 발명자는 낮거나 매우 낮은 수직 복굴절성 값을 갖는 투광성 커버막이 중합 캐스팅 기법에 의해 얻어질 수 있음을 알아내었다. 이 기법은 높은 광학적 등방성을 가지며, 특히 용매 캐스팅 막의 복굴절성 이하의 수직 복굴절성값을 갖는 투광성 커버막을 제공하는 경향이 있다. 이 중합 캐스팅 기법을 이용하는 것이 바람직하다.

용매 캐스팅 기법 및 중합 캐스팅 기법 모두에 의해 얻어진 투광성 커버막의 평면내 복굴절성은 수직 복굴절성보다 매우 낮은 것이 통상적이다. 투광성 커버막은 ±30 nm 이하의 평면내 지연도를 나타내었으며, 특히 적어도 수직 광 빔(6)의 파장 또는 파장 스펙트럼에서 각각, 그리고 20℃에서 ±25 nm 이하의 평면내 지연도를 나타내었다.

이와 같은 발견에 기초하여 실질적으로 광학 등방성을 갖는 투광성 커버막은 0.001 이하의 수직 복굴절성 요구값을 나타내었으며, 선택적으로 각 경우에 있어서 20℃에서 및 입사 광빔(6)의 적어도 파장 또는 파장 스펙트럼에서 각각 ±30 nm 이하의 평면내 요구 지연도가 재현적으로 얻어질 수 있다. 또한, 요구된 낮은 값의 수직 복굴절성 및 선택적으로 평면내 지연도를 갖는 투광성 중합체막은 이하의 실시예부로부터 알 수 있는 바와 같이 상업적으로 이용 가능하다.

바람직한 방법에 있어서, 투광성 커버막 및 감압성 접착제층을 포함하는 다중층막은 이하의 캐스팅 단계들에 의해 얻어질 수 있다. 이 방법에 있어서, 상기한 바와 같이, 매끄러운 표면을 갖는 릴리즈 라이너가 첫 번째로 제공되고, 투광성 커버막이 용매 캐스팅 또는 중합체화 캐스팅 각각에 의해 이러한 릴리즈 라이너에 공급되며, 그 후 각각 건조 또는 경화된다. 그 후, 상기한 바와 같이 감압성 접착제의 경화 가능한 전구물질이 투광성 커버막의 노출된 표면에 코팅되고, 그 후 경화된다. 생성된 다중층막은, 예를 들어 베이스 부재의 피트가 나타나는 표면 상에 형성되는 정보 저장층 상으로 직접 적층될 수 있는 것이 바람직하고, 그 후 도 1a에 도시된 광학 기억 매체를 제공하도록 릴리즈 라이너를 제거한다. 이와 달리, 릴리즈 라이너는 감압성 접착제층의 노출된 표면에 적층될 수 있고, 그 후 투광성 커버막으로부터 릴리즈 라이너를 제거하며, 선택적으로 제거 가능한 보호층을 투광성 커버막에 적층한다.

광학 기록 매체를 핸들링 및 장착하는 동안, 투광성 커버막의 표면을 보호하기 위해서 투광성 커버막의 적어도 하나의 주표면에 제거 가능한 보호막을 적층하는 것이 바람직하는 것을 알 수 있었다.

감압성 접착제층을 선택적으로 갖는 여러 가지 중합체막은 제거 가능한 보호막으로서 사용될 수 있다. 감압성 접착제층과 결합하여 사용될 수 있는 유용한 중합체막은, 예를 들어

폴리에틸렌 또는 폴리프로필렌과 같은 호모중합체를 포함한 폴리올레핀막, 에틸렌/프로필렌 공중합체 및 호모중합체의 혼합물 또는 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌의 혼합물과 같은 공중합체와 같은 공중합체, 및 예를 들어 폴리에틸렌 테레프탈레이트막 또는 폴리에테르에탄 또는 폴레에스테르에탄형의 확장 가능한 탄성 폴리우레탄과 같은 폴리우레탄막을 포함한다. 또한, 적어도 두 개의 중합체막의 적층을 사용할 수 있고, 투광성 커버막(5)에 접합되는 하부 노출막은 자기 접착(self-adhering) 성질을 나타낸다. 자기 접착 성질을 갖는 중합체의 적절한 예는 예를 들어 EVA 중합체의 중량에 대해서 대해서 대략 5 내지 20 중량%의 높은 비닐 아세테이트를 갖는 EVA막(폴리에틸렌 비닐아세테이트)를 포함한다. 이러한 적층은 감압성 접착제층을 사용하는 일이 없이 제거 가능한 보호막으로서 사용될 수 있다.

감압성 접착제(만일 존재한다면)는 소정의 잔류 접착제를 뒤쪽에 남기는 일이 없이 투광성 커버막으로부터 용이하게 제거될 수 있도록 선택되는 것이 바람직하다. 본원 발명자는 PSTC법의 PSTC-3에 따라 측정하였을 때, 감압성 접착제가 폴리카보네이트 기판으로부터 90°박리 접착(peel adhesion)이 1 N/2.54 cm를 넘지 않고, 바람직하게는 75 cN/2.54 cm를 넘지 않으며, 특히 바람직하게 50 cN/2.54보다 낮도록 선택되는 것이 바람직하다는 것을 알 수 있었다. 저박리 접착 강도 및 제거 가능한 보호막을 준비하는데 유용한 고접합 강도를 나타내는 적절한 아크릴레이트 기저형 제거 가능한 접착제는, 예를 들어 미국 특허 제US 4,166,152호에 개시되며, 그 내용이 본 명세서에 포함된다. 본 발명에서 유용하게 사용된 제거 가능한 보호막은 3M사로부터 생산되는 보호 테이프로서 이용 가능하며, 그 적절한 예는 3M 보호 테이프 # 2104이다.

도 1a에 도시된 광학 기록 매체를 준비하는 바람직한 방법에 있어서, 도 2에 개략적으로 도시한 바와 같이, 두 개의 롤러(50, 51) 사이에서 제거 가능한보호막(7) 및 투광성 커버막(5)을 포함한 제1 적층이 감압성 접착제층(4) 및 매끄러운 릴리즈 라이너(8)를 포함한 제2 적층에 적층된다. 롤부는 매우 매끄러운 표면을 나타내고, 본질적으로 응력이 없고 기포가 없이 적층된 막을 허용하도록 배열된다.

생성된 적층은 준 연속성 모드(quasi-continuous mode)에서 동작되는 도 3에 개략적으로 도시된 접합 스테이션 내로 공급된다. 릴리즈 라이너(8)는, 예를 들어 분배 모서리(dispensing edge) 또는 롤부(52)에 의해 생성된 적층으로부터 분리되고, 그 후 공기 흡입에 의해 진공판 홀더(53)에 부착된다. 적절한 다이 커팅 장치(도시하지 않음)를 사용하면, 중심 구멍(10) 및 디스크형 베이스 부재(1)의 치수에 상당하는 외주연부(11)를 나타내는, 도 4에 개략적으로 도시된 다이 커팅된 적층이 얻어진다. 그 후, 부착된 다이 커팅 적층을 갖는 진공판 홀더(53)는 도 5에 개략적으로 도시된 진공 접합 장치로 전달된다. 진공 접합 장치는 상부 진공 챔버(56) 및 제거 가능한 하부판(59) 및 가요성 봉인부(61)에 의해 분리되는 하부 감압 챔버(58)를 포함한다. 상부 챔버(56)는 펌프(55)에 의해 배기될 수 있고, 하부 챔버(58)는 펌프(57)에 의해 각각 배기 또는 감압될 수 있다. 진공판 홀더(53)는 부착된 다이 커팅 적층의 노출된 접착제층(4)의 위쪽으로 면하는 진공 접합 장치(60)의 하부판(59)에 부착된다. 정보 저장층(3)을 갖는 베이스 부재(11)는 정보 저장층(3)을 아래쪽으로 면하는 진공 접합 장치(60)의 상부판(54)에 부착된다. 하부 챔버(58)는 다음 메인 챔버(56)를 배기하는 동안 하부 위치에 하부판(59)을 유지시키기 위해 배기된다. 그 후, 진공 접합 장치(60)의 메인 챔버(56)는 펌프(55)를 통하여 배기된다. 그 후, 하부 챔버(58)의 압력이 펌프(57)를 통하여 소정 레벨로 증가함으로써 베이스 부재(11)에 대향하여 다이 커팅 적층에 압력을 가한다. 그 후, 하부판(58)은 하부 감압 챔버(58)를 배기함으로써 하부 위치로 구동된다. 본 발명의 도 1a에 도시된 광학 기억 매체는 진공 접합 장치(60)의 메인 챔버(56)를 대기압으로 감압한 후 진공 감압 장치(60)로부터 제거될 수 있다. 제거 가능한 보호막(7)은 도 1a에 도시된 본 발명에 다른 광학 기억 매체의 특정 실시예를 제공하기 위해 제거된다.

도 1a에 도시된 광학 기억 매체를 준비하는 또 다른 방법에서, 감압성 접착제층(4)은 베이트 부재(1)의 표면(2)을 나타내는 피트 상에 형성된 정보 저장층(3)에 적층된다. 예컨대, 감압성 접착제층은 베이스 부재의 형태를 갖는 다이 커트로서 제공될 수 있다. 감압성 접착제층은 공기 기포를 피하기 위하여 베이스 부재의 한쪽 모서리 부근에 부착되고, 다음으로 베이스 부재의 표면에 걸쳐 점차적으로 적층되며, 예컨대 45°의 각도로 적층하는 것이 바람직하다. 릴리즈 라이너는 감압성 접착제층으로부터 제거되어 감압성 접착제층을 포함하는 베이스 부재가 도 5의 진공 접합 장치(60)의 하부판(59)에 접착될 수 있다. 제거 가능한 보호막 및 투광성 커버막을 포함하는 이 층은 상부판에 부착된다. 광학 기억 매체는 상기한 바와 같이 하부 챔버(58)을 가압한 후에 하부판(59)을 상부판(54)에 밀어넣어 형성된다.

도 1a에 도시된 광학 기억 매체를 형성하는 또 따른 방법에서, 제거 가능한 보호막(2), 투광성 커버막(5) 및 노출된 감압성 접착제층(4)을 포함하는 층이 (본 명세서에 참조로 통합된) 국제 공개 공보 제WO 99/54,116호에 개시된 휠 접합 장치에 의해 디스크형 베이스 부재(1)의 정보 기억 장치(3)의 노출된 표면 상에 접합된다. 실시예 3에 어느 정도 상세하게 기술된 휠 접합 프로세스는 거의 공기 흡입에 자유로운 접합 뿐만 아니라 적층된 광학 기억 매체의 양호한 매끄러움(flatness)를 보증한다.

상기된 바와 같은 방법은 단지 예시일 뿐 본 발명의 범주를 제한하는 것은 아니다.

테스트 방법

감압성 접착제층의 표면 거칠기

감압성 접착제층의 표면 거칠기는 Model Number UB-16과 같은 독일 에트링겐 유비엠 메스테취닉 지엠비에치사로부터의 이용 가능한 레이저 외형 분석기(laser profilometer)를 사용하여 측정된다. 이 장치는 DIN 4768에 따른 표면의 피크 대 계곡(peak-to-valley) 높이로서 표면 거칠기를 계산하는 소프트웨어와 결합된다. 마이크로메터(㎛)로 기록된 평균 표면 거칠기 Rz는 DIN 4762에 따라 결정된 여러 개별적인 측정 영역의 평균 피크 대 계곡 높이로서 정의된다.

감압성 접착제층은 제1 및 제2 주표면을 가지며, 각각은 표면 거칠기에 대한 평가에 앞서 릴리즈 라이너에 의해 보호된다. 두 개의 릴리즈 라이너 각각은 같거나 또는 거칠기 및/또는 릴리즈 코팅에 관해서는 다르다. 각 투광성 커버막은 제1 및 제2 주표면을 가지며, 이것은 보호되지 않은 것이 제조자로부터 얻어진다.

평가될 표면은 독일 위에스바덴에 있는 피페이퍼 호치베쿰 게엠베하로부터의 발저스 모델 SCD 050과 같은 이용가능한 스퍼터 코터를 사용하여 평가 전에 항상 2번 금으로 스퍼터링된다. 첫 번째 스퍼터링은, 60 밀리암페어(mA)로 60초 동안 접착제층과 평행한 목표 금표면과 도통된다. 두 번째 스퍼터링은 60 mA로 60초 동안 평행면과 30도의 각도로 목표 금표면과 도통된다.

전자 현미경 및 광 현미경 각각의 스캐닝에 의한 표면의 시각적인 정밀검사

모델 JSM-5400과 같은 일본 도쿄 JEOL로부터의 이용 가능한 스캐닝 전자 현미경은 릴리즈 라이너, 감압성 접착제층, 제거 가능한 보호막 및 투광성 커버막의 표면의 현미경 사진을 제공하기 위해 사용된다. 모델 폴리바 MET와 같은 독일 벤셰임, 레이처트-정(현재는 독일 엣즐러, 레이카 마이크로스코피 언드 시스템 게엠베하)으로부터 구입한 광 현미경은 릴리즈 라이너, 제거 가능한 보호막, 투광성 커버막, 감압성 접착제층 및 투광성 커버막을 각각 캐스팅하기 위해 사용되는 이동가능한 벨트의 현미경 사진을 제공하기 위해 사용된다. 광현미경의 현미경 사진은 어두운 필드 입사 광 보드를 사용하여 얻어진다.

평탄도 측정

감압성 접착제층, 빛 전달 커버막 및 감압성 접착제층 및 빛 전달 커버막을 각각 포함하는 라미네이트의 두께 변화는 적어도 하나의 다음 장치를 사용하여 측정될 수 있다.

(i) 독일 마틴스리드 닥터 스캔크 게엠베하(Dr. Schenk GmbH)의 상업적으로 이용 가능한 DVD 시험장치 비레프 126 S DVD(Biref 126 S DVD),

(ii) 독일 스테르넨펠드 스테아그 하마테크 AG(STEAG HamaTech AG)의 상업적으로 이용 가능한 DVD 시험장치 ETA-DVD 80,

(iii) 미국 미네소타주 미네아폴리스, 모던 콘트롤(Modern Control)의 상업적으로 이용 가능한 용량성 두께 계측기 프로파일러(Profiler) 140 E.

(i) 또는 (ii)로 각각 감압성 접착제층의 평탄도 측정은 직경 12 cm, 두께 0.6 mm 및 15 mm의 중심 구멍을 갖는 매끄러운 표면의 두 개의 디스크 형태의 폴리카보네이트 기판 사이의 감압성 접착제층을 라미네이팅함으로써 실행될 수 있다. 하나의 기판의 내부 표면은 알루미늄 코팅이 되어있고, 다른 하나의 기판의 내부 표면은 실리콘 탄화물(SiC)의 반투명 코팅을 갖는다, 두께는 비레프 126 S DVD(i) 또는 ETA-DVD 시험 장치(ii)를 각각 사용하여 일일이 측정되었다. 비레프 시험 장치는 방사상 방향으로 1 mm, 접선 방향으로 2 mm 의 최대 분해능을 갖는다. 두께 분해능은 1 마이크로미터의 범위 내에 있다. ETA-DVD 시험 장치는 방사상 방향으로 0.1 mm, 접선 방향으로 0.1 mm 의 최대 분해능을 갖고, 두께 분해능은 25 내지 120 마이크로미터의 범위 내에서 0.1 마이크로미터의 두께 분해능을 갖는다.

투광성 커버막의 평탄도는 용량성 두께 계측기 프로파일러 140 E(iii)를 사용하여 측정될 수 있다. 두께 분해능은 0.01 마이크로미터이고 검사 속도는 1cm/sec 이다.

조립된 광학 기억 매체 내의 투광성 커버막 및 감압성 접착제층의 두께의 합계의 평탄도는 ETA-DVD 시험 장치(ii)를 사용하여 실행될 수 있다. 반사성 알루미늄층을 지니고 있는 콤펙트 디스크 형상의 베이스 부재는 진공 접합 장치(60) 내에서 감압성 접착제층(4) 및 투광성 커버막(5)으로 라미네이트된다. 0.2 mm 두께의기초 부재, 반사성 알루미늄층, 감압성 접착제층, 투광성 커버막, 제거 가능한 보호막을 포함하는 접착된 디스크는 제거 가능한 보호막을 제거한 후 ETA-DVD 시험 장치 상에 설치된다. ETA-DVD 시험 장치는 디스크가 설치되는 턴테이블, 레이저/센서 시스템 및 측정 컴퓨터 유닛으로 구성된다.

제거 가능한 보호막 점착의 투광성 커버막으로부터의 180°벗김

각각의 제거 가능한 보호막의 샘플은 1 kg의 고무 로울러를 사용하여 손으로 압력을 가함으로써 75 마이크로미터 두께의 포칼론(Pokalon) OG 46 GL 폴리카보네이트 투광성 커버막에 라미네이트되었다. 라미네이트는 실내 온도에서 2 시간동안 저장된 후 60°에서 1 시간동안 오븐 숙성된다. 1 인치(2.54 cm) 폭의 시험 견본이 잘려지고, 라미네이트의 노출된 폴리카보네이트 표면이 미국 미네소타주 세인트 폴, 미네소타 미닝 앤 매뉴펙쳐링 컴파니("3M")의 테이프 #444 와 같은 상업적으로 사용가능한 이중 코팅된 감압성 접착 테입을 사용하여 알루미늄 기판 상에 접착된다. 표면을 위로한 각각의 제거 가능한 보호막의 노출된 표면의 한쪽 끝은 들어올려지고 3M 컴파니에 의해 사용 가능하게 된 마스킹 감압성 접착 테입의 단편으로 감싸진다. 셋업된 것은 실온에서 24 시간동안 보관된다. 그 다음, 알루미늄 플레이트는 표준 장력 시험 장치의 아래쪽 클램프 내에 고정되고 마스킹 테이프는 표준 장력 시험 장치의 위쪽 클램프 내에 고정된다. 100 N 힘계측기가 사용된다. 벗김 시험 속도는 150mm/min이다.

투광성 커버막의 수직 복굴절성

사용된 장비

현미경:

독일 웨즐라, 언스트 레잇즈 엣^^즐라 게엠베하(Ernst Leitz Wetzlar GmbH)[현재는 독일 엣즐라, 레이카 마이크로스코피 언드 시스템 게엠베하(Leica Mikroskopie und Systeme GmbH)]로부터 구매한 레잇즈 오쏘럭스 II 폴(Leitz Ortholux II Pol) 현미경이 사용되었다. 이 현미경은 40X/0.85NA 의 변형 없는 대물렌즈 및 전파(全波) 보상 플레이트를 갖추고 있다. 현미경은 또한 간섭 관찰용 버트랜드(Bertrand) 렌즈를 갖추고 있다.

편광 분석기:

RPA2000 편광 분석기는 RW 즉 회전 웨이브플레이트(rotating waveplate) 옵션 및 435 nm 간섭 필터를 갖추고 있다. 이 기계는 독일 문이치 81673 네우마크터 스트리트 83의 인스트루먼트 시스템 게엠베하(Instrument Systems GmbH)에 의해 생산되었다.

측정 과정:

과정은 3개의 구별되는 단계로 구성된다.

1) 투광성 커버막의 평면 내에 최소 및 최대 굴절률 방향의 방위 결정

2) 투광성 커버막 평면에 45° 경로를 따라 투광성 커버막을 통과한 광전파를 위한 뮬러 메트릭스(Mueller matrix)의 측정.

3) 뮬러 메트릭스로부터의 수직 복굴절성 계산.

부기 1)

투광성 커버막의 샘플은 현미경 스테이지 상에 배치되고 40X의 대물렌즈를사용하여 양호한 초점을 만들어 낸다. 간섭 관찰을 사용하여, 3개의 중요한 굴절률을 갖는 투광성 커버막이 검증되며, 2개의 아주 거의 같은 굴절률은 막 평면 내에서 다른 하나와 수직이고 세 번째 굴절률은 막의 평면과 수직이다. 이것은 스테이지가 회전됨에 따라 중심에 남아있는 간섭도를 관찰함으로써 확인될 수 있다. 간섭도가 중심에 잘 남아있다면, 그 다음, 막 평면 내의 중요한 굴절률의 방향이 결정된다.

부기 2)

회전 테이블의 평면이 편광 상태 발생기와 편광 상태 분석기 사이의 광경로와 수직이 되도록, RPA2000 편광 분석기가 셋업 된다. 투광성 커버막의 샘플은 투광성 커버막의 평면과 45°에서 막을 통과하여 막을 분석하기 위해 사용되는 광빔을 보증하기 위해 구성된 홀더 상에 배치된다. 부가적으로, 투광성 커버막의 평면 내의 고굴절률 방향은 광빔과 수직방향이 되는 방향을 향한다. 샘플 홀더는 그 다음, RPA2000 편광분석기의 회전 테이블 상에 배치된다. 그 후, 이 특정 방향의 막에 대해 뮬러 매트릭스가 측정된다. 매트릭스의 비대각선 요소가 영과 현저한 차이가 나면, 테이블은 이러한 차이를 최소화시키기 위해 회전되고 뮬러 매트릭스는 재측정된다.

부기 3)

45°에서 투광성 커버막을 통해 이동하는 바와 같은 광의 지연도는 저자가 에드우드 콜레트(Edward Collet), 엠. 덱커(M. Dekker)이고, 1993년 뉴욕에서 발간된 581 페이지의 "편광된 빛: 기본 및 응용"에 제시된 식을 토대로 계산된다. 그다음, 투광성 커버막을 통한 광의 경로 길이는 다음 식에 의해 얻어지며, 공칭 굴절률로서 평균 평면내 굴절률을 사용한다.

경로 길이=

막의 두께/(cos(arcsin(45/공칭 굴절률)).

45°에서의 복굴절성은 경로 길이에 의해 나누어진 45°에서의 지연도이다. 평면내 굴절률은 알고 있으므로, 45°에서의 굴절률은 계산될 수 있다.

최종 계산은, 막의 평면에 수직인 굴절률을 계산하기 위해 타원 내의 방사선(放射線)의 길이에 대한 식을 사용한다. 타원의 장축은 막의 평면 내의 굴절률이고 45°에서의 방사선의 길이는 위에서 계산된 굴절률이다. 이것은 모르는 타원 단축 또는 막 평면과 수직인 굴절률의 계산을 할 수 있도록 한다.

수직 복굴절성은 평면내 굴절률과 투광성 커버막의 평면과 수직인 굴절률 사이의 차이로서 얻어진다.

수직 복굴절성의 값은 20℃ 및 435 nm의 파장에서 측정된다.

투광성 커버막의 평면내 지연도

샘플 준비: 평가될 투광성 커버막의 샘플은 이중 코팅된 접착 테이프를 사용하여 샘플 홀더로서 작용하는 CD 디스크 공백의 컷아웃 섹션 위에 설치된다.

측정은, 광학 기록 매체의 특성을 평가하기 위해 모델 "프로메테우스 MT 136"과 같은 독일 마틴스리드 닥터 스캔크 게엠베하로부터의 이용 가능한 적절한 상업적인 장비에서 이루어진다. "관련된 복굴절성" 측정 모드가 선택된다.

nm (Y-축)으로 관련된 복굴절성 대 각도(X-축)로 측정각이 주어지는 그래프가 생성된다. 결과 그래프는 기계가 샘플 홀더를 관찰하는 섹션을 보여준다. 이러한 부분은 무시된다. 남아있는 신호는 거의 평평한 형태에서 사인파형으로 변하는 형상으로 나타난다. 디스크 중심으로부터 각각 35 mm 및 40 mm 반지름의 두 개의 측정이 각 샘플 섹션에서 이루어진다. 다른 측정은 단지 공기만이 관찰되는 디스크 영역의 바깥 위치에 대응하는 64 mm에서 이루어진다. 이것은 기준 또는 제어 번호로서 제공된다.

곡선으로부터 최소 및 최대값이 얻어지고 그 다음, 평균이 얻어진다. 평균 및 이 평균으로부터의 편차 모두가 기록된다.

디스크는 회전하므로, 정보는 여러 방향의 투광성 커버막의 특성 상에 생성된다. 사람은 투광성 커버막의 크로스 웹 및 다운 웹 방향 및 복굴절성 상의 영향을 관찰할 수 있다.

[광학대(optical bench) 방법에 의한] 투광성 커버막의 전달 I ₁ /I ₀

단색성 램프(레이저 또는 간섭 필터를 갖는 다색 램프), 초점 장치, 편광 필터, 샘플 홀더, 제2 편광 필터, 검출기는 광학대 상의 선에 설치된다. 샘플 홀더는 투광성 커버막의 샘플이 광경로에 대해 45°각도에서 고정되고 스스로 축(투광성 커버막의 표면에 수직인 축) 둘레를 회전될 수 있도록 배치된다.

두 개의 측정이 이루어짐:

1. 편광기는 위상이 틀어져 90°가 되도록 조정되어 최소의 광이 통과된다. 투광성 막은 광경로에 배치되고 최소의 광이 통과(최대 단절)될 때까지 회전된다.제2 편광기는 그 후, 제1 편광기와 일치되도록 조정된다. 그 후, 광의 세기(I₀)는 측정되고 기록된다.

2. 샘플 투광성 커버막은 그 후 자신의 축 둘레를 45°회전된다. 제2 편광기는 제1 편광기와 위상이 틀어지게 배치된다. 그 다음, 제2 세기로서 I₁이 특정되고 기록된다.

3. 그 다음, I₁/I₀의 비가 계산된다. 이 비는 편광된 광이 투광성 커버막을 통과한 때 차단된 광의 양을 표시한다. 세기(I₁)는 지연도에 비례하여 거칠게 변한다.

(UV-VIS 분광 광도계를 사용한)투광성 커버막의 투과

여러 파장에서의 투광성 커버막의 투과는 독일 우에벨링겐(Uebelingen) 퍼킨 엘머로부터의 이용 가능한 퍼킨 엘머(Perkin-Elmer) 모델 550 SE UV-VIS 분광 광도계를 사용하여 측정된다. 투광성 커버막은 분당 60 nm 로 스캐닝된다. 결과는 파장의 함수로서 % 투과로 기록된다.

투광성 커버막의 두께

투광성 커버막의 두께는 독일 헤인스버그(Heinsberg), 에타 옵틱 게엠베하(Eta Optik GmbH)로부터의 Eta-DVD80 시험 장치와 같은 상업적으로 이용 가능한 광학 기록 매체의 시험에 특히 적절한 기계를 사용하여 측정된다. 전술한 샘플 홀더는 평면내 지연도에서 적용되었다. 측정은 디스크 중심으로부터 37.5 mm의 반경에서 이루어진다. 원에 대하여 300의 값이 측정된다. 이것은 이 기계를 사용하여 측정될 수 있는 최대 분해능을 반영한다.

각도에 대해 미크론으로 두께를 나타내는 그래프가 생성된다. 기계는 최소, 최대, 평균 및 변화량을 계산한다. 이들 계산된 값은 샘플 홀더로부터의 주기적 간섭 때문에 일부 예에는 사용될 수 없다. 이러한 경우에 있어서, 값은 곡선으로부터 손수 얻어진다.

투광성 커버막의 미세한 거칠기 및 물결형 거칠기

투광성 커버막의 샘플은 측정 동안에 막을 평평하게 유지하기 위해 설계된 원형 막 신장(伸張) 장치 내에 지지된다. 그 후, 투광성 커버막의 표면 상의 미세한 거칠기는 독일 에뜰링겐(Ettlingen) UBM 메스테크닉 게엠베하(UBM Messtechnik GmbH)의 이용 가능한 UBM 레이저 외형 분석기 미크로포커스 콤펙트(UBM Laser Profilometer MiKrofocus Compact)를 사용하여 측정된다.

막 표면의 10 mm의 거리는 총 10,000 데이터 포인트에 대해 밀리미터(mm)당 1,000 데이터 포인트로 평가된다. 10 mm 범위(0 - 10 mm)에 걸친 거리에 대해 미크론으로 거칠기를 나타내는 그래프가 생성된다. 미세한 거칠기는 생성된 선의 폭을 측정함으로써 시각적으로 추정된다. 물결형 함수는 수밀리(mm)의 거리만큼 잘 관찰될 수 있다. 파형의 마루와 골 사이의 차이가 측정되고 기록된다.

실시예

실시예 1

75 마이크로미터의 두께를 갖는 솔벤트가 가해진 폴리카보네이트 막이 스위스 웨일/레인(Weil/Rhein), 론자(Lonza)로부터의 "Pokalon OG46 GL" 거래 지정하에서 이용 가능한 폴리카보네이트 투광성 커버막으로서 제공된다. 막의 평탄도는 기본적으로 흠이 없는 매우 매끄러운 표면을 나타내는 포칼론 OG 46 GL 막의 두 개의 주표면으로부터 얻어지는 배율이 600X인 현미경 사진을 사용한 광현미경 수단에 의해 질적으로 평가할 수 있다. 표면 거칠기(Rz)는 대략 0.1 ㎛ 보다 작다. 140 E 프로파일러로 측정되는 두께 변화는 직교 방향으로 25 mm의 임의적으로 선택된 거리를 0.32 ㎛ 초과하고 기계 방향으로 25 mm의 임의적으로 선택된 거리를 0.05 ㎛ 초과한다.

투광성 보호 막의 적절한 조각(대략 60 cm ×30 cm)이 매끄러운 PVC 표면 상에 배치된다. 감압성 접착제층(캐리어가 없는 순수한 접착제층)이 그 후 3M 컴파니로부터의 사용 가능한 광학적으로 투명한 라미네이팅 감압성 접착 전달 막 #8142 로서 제공된다. 감압성 접착제층은 두 개의 본질적으로 매끄러운 폴리에스터 릴리즈 라이너[릴리즈 라이너의 표면 거칠기(Rz)은 2 ㎛ 보다 적다)에 의해 보호된다. # 8142 감압성 접착제층은, 비리프 126 S DVD 시험 장치로 측정된 ±2 ㎛의 두께 변화를 갖는 50 ㎛ 두께이다. # 8142 감압성 접착제층은 1.475의 굴절률을 가지며, 각 표면 상의 표면 거칠기는 대략 0.5 ㎛ 이고, 등급 1000의 크린-룸 요구를 만족하는 청결도를 갖는다.

투광성 커버막보다 큰 # 8142 감압성 접착제층의 적절한 조각은 그 다음, 릴리즈 라이너에 부착되는 두 개의 접착 테이프 탭을 갖고, 압축 민감 접착제층을 오염시키지 않고 릴리즈 라이너의 제거를 돕는 라이너형 압축 민감 접착 시트의 경계선을 지나 연장된다. 아래 릴리즈 라이너의 제거 후, # 8142 감압성 접착제층은 노출된 표면이 포칼론 OG46 GL 폴리카보네이트 막 상으로 라미네이트된다.

접착 면은 폴리카보네이트 막의 하나의 모서리 근처에 배치되고 하나의 모서리로부터 다른 모서리로 고무 라미네이션 로울러를 사용하여 폴리카보네이트 막의 노출된 표면 상에 손의 압력과 함께 1Kg의 질량으로 압착되고, 이러한 방법으로 릴리즈 라이너 상의 노출된 접착 표면은 로울러 위로 역으로 휘게 되는 한편 라미네이션 로울러 밑에 공급되어 릴리즈 라이너는 대략 45°또는 이보다 작은 각도를 스스로 만든다. 그러므로, 릴리즈 라이너 상의 가요성 감압성 접착제층의 노출된 표면은 이러한 표면 사이의 경계면에서 기포 함정을 막는데 대해 이러한 방법으로 폴리카보네이트 막의 노출된 표면에 제공된다. 그 후, 결과 라미네이트는 뒤집어져서 노출된 릴리즈 라이너 표면은 스테인리스 스틸 기판 상에 배치되고 폴리카보네이트 막의 표면은 노출된다.

배킹을 포함하고, 로우 릴리즈 감압성 접착제층을 지니며, 3M 회사로부터 입수 가능한 2104 C의 일련 번호를 갖는 접착 테이프는 제거 가능한 보호막으로서 제공된다. 폴리카보네이트막의 사이즈보다 더욱 큰 제거 가능한 보호막의 적절한 부분은 수동 압력으로 1kg의 질량을 갖는 고무 증착 롤러를 사용하여 노출된 폴리카보네이트막으로 그것의 감압성 접착제층과 함께 적층된다.

그후, 120mm의 외부 직경과, 1.2mm의 두께와, 15mm의 직경을 갖는 중심구를 갖는 디스크 형상의 폴리카보네이트 기판을 포함하고, DVR 디스크가 8 GB의 기록 용량을 갖도록 하는데 적절한 디스크 형상의 베이스 부재는 유럽 특허 공보 0,729,141호 컬럼 6의 라인 14∼46에 개시된 절차 후에 마스터 디스크 및 주입 성형을 형성함으로써 제조된다. 디스크 형상의 베이스 부재는 제1의 평평한 주요 표면과, 주입 성형에 의해 생성된 피트를 지니고 있는 제1 평평한 주요 표면의 반대 위치의 제2 주요 표면을 갖고 있다. 대략 50nm 두께의 알루미늄층은 유럽 특허 공보 0, 729, 141호 컬럼 6의 라인 47∼55에 개시된 바와 같이, 스퍼터링에 의해 제2의 주요 표면상의 피트의 구조에 이용된다.

그후, 다음의 적층 동안에 접시형의 DVR 베이스 부재를 고정시키는데 적절한 홈을 진열시키는 실리콘 요소의 릴리즈 코팅법으로 코팅된 폴리아미드판이 구비된다. 제거 가능한 보호층, 투광성 커버막, 감압성 접착제층 및 폴리에스테르 릴리즈 라이너를 포함하는 적층으로부터 폴리에스테르 릴리즈 라이너의 제거와 DVR 베이스 부재를 직면해있는 정보 저장층을 갖는 홈에 배치시킨 후, 적층의 노출된 감압성 접착제층은 DVR 베이스 부재의 하나의 모서리 근처에 배치되어, 상기된 바와 같이 대략 45°또는 이하의 적층각 하에서 수동 압력으로 1kg의 질량을 갖는 고무 적층 롤러를 사용하여 하나의 모서리로부터 다른 모서리로 점진적으로 노출된 정보 저장층으로 프레스된다.

그로 인하여, DVR 디스크는 제거 가능한 보호막이 폴리아미드판에 배치되도록 플립되고, 베이스 부재의 정보 저장층에 부착되는 적층의 내부 모서리 및 외부 모서리는 베이스 부재의 외부 주변부 및 내부 주변부을 따라 스칼펠로 절단된다.

그로 인하여, DVR 디스크는 플립되고 접착 테이프 탭은 제거 가능한 보호층의 제거를 촉진하기 위해 제거 가능한 보호층의 노출면에 부착된다.

취득된 DVR 디스크내의 투광성 커버막과 감압성 접착제층의 결합으로 상기된바와 같이 ETA-DVD 80 DVD 테스터를 사용하여 매끄러움을 시험한다. 상기 2 개의 층은 102.2㎛의 최소 두께값을 갖는 102.8㎛의 평균 두께와, 103.4㎛의 최대 두께값과, 0.3㎛의 표준 편차를 갖고 있다.

또한, 취득된 상기 DVR 디스크는 상기 디스크의 정보 저장층으로부터 반영될 때 Biref 126 S DVD 테스터의 레이저빔의 방사 및 접선 틸트를 측정하여 매끄러움을 시험한다. DVR 디스크의 광학 지연도는 ±25nm 이다.

비교예 1

투광성 커버막으로서 사용되는 50㎛ 두께의 셀룰로스 트리아세테이트막은 스위스, Weil/Rhein, Lonza로부터의 Triphan P91GL로서 취득된댜. Reichert-Jung 라이트 현미경인 Polyvar MET으로 상기 막의 현미경으로의 분석은 상기 막이 이러한 막의 표면에 확장되는 작은 입자를 나타내고 있다는 것을 보여준다. 이러한 작은 입자는 Triphan P91GL 막의 생성 및 처리에 필요한 안티블로킹 에이전트의 덩어리이다. 작은 입자가 분산 센터로서의 역할을 하므로, Triphan P91GL 막은 DVR 디스크의 제조에는 사용되지 않는다.

실시예 2

3M 회사로부터 입수 가능한 광학적인 클리어 적층 감압성 접착제 # 8141은 감압성 접착제층으로 사용된다는 차이점을 갖고서 실시예 1은 반복된다. 이러한 # 8141 감압성 접착제층은 2 개의 필수적인 매끄러운 폴리에스테르 릴리즈 라이너(2㎛ 이하의 릴리즈 라이너의 표면 조도(Rz))에 의해 보호되고 Biref 126 S DVD 테스터로 측정된 바와 같이 25㎛ ±1.5㎛의 두께를 갖는다.

상기 실시예는 3번 반복되고 측정 결과는 표 1에 요약된다.

런	최대 두께[㎛]	최대 두께[㎛]	평균 두께[㎛]	표준 편차 두께[㎛]
1	101.6	103.2	-	-
2	101.3	102.4	-	-
3	102.2	103.4	102.8	0.3

실시예 3

실시예 2는 제거 가능한 보호막, 투광성 커버막 및 디스크 형상의 베이스 부재의 정보 저장층의 노출면에 노출된 감압성 접착제층을 포함하고 있는 적층의 결합은 본 출원인의 계류 중인 미국 출원 번호 제S.N 09/065,295호에 공개되어 있는 휠 결합 장치의 수단에 의해 실행된다. 제거 가능한 보호막, 투광성 커버막 및 노출된 감압성 접착제층을 포함하고 있는 적층 뿐만 아니라 정보 저장층을 지니고 있는 디스크 형상의 베이스 부재는 2 개의 약간 구부러진 표면상에 부착된다. 이러한 표면 굴곡은 적어도 1.2m의 직경을 갖는 롤의 외부 굴곡에 대응한다. 디스크 형상의 베이스 부재의 정보 저장층과 적층의 감압성 접착제층은 굴곡 표면의 카운터-회전 및 특정 압력에 의해 접점에 놓인다. 상기 과정은 제거 가능한 보호막, 투광성 커버막 및 노출된 감압성 접착제층을 포함하는 적층의 접합되지 않은 영역 뿐만 아니라 정보 저장층을 지니고 있는 디스크 형상의 베이스 부재의 여전히 접합되지 않은 영역은 굴록 표면에 접촉을 유지하고, 반면 이미 결합된 영역은 각각의 굴록 표면으로부터 릴리즈되는 것을 보증하는 방식으로 실행된다.

수직의 인씨던트 레이저빔의 방사 및 접선의 각각의 틸트는 감압성 접착제층/Pokalon OG46GL 폴리카보네이트막/# 8141 감압성 접착제층의 적층에 앞서정보 저장층을 포함하고 있는 디스크 형상의 베이스 부재와, 휠결합 장치로 그러한 결합 후에 이로 인한 광학적인 기록 매체 디스크에 대해 Biref 126 S DVD 테스터기로서 측정된다. 상기 실시예가 14번 반복되고, 그 결과는 표 2에 요약되어 있다.

방사 틸트 스팬의 평균값은 적층에 앞서 0.50 ±0.10°이고 이 값은 적층 후에 0.58 ±0.15°로 약간 증가된다는 것은 표 2로부터 분명하다. 이와 유사하게, 접선 틸트 스팬의 평균값은 적층에 앞서 0.35 ±0.06°이고, 적층 후의 대응되는 값은 0.43 ±0.09°이다. 이로서 미국 출원 번호 제US 09/065,295호에 개시되고 있는 휠결합 방법으로 인하여 단지 광학적인 기록 매체의 매끄러움이 적고 허용 가능할 정도로 저하된다는 것을 제시해 주고 있다.

	정보 저장층을 갖는 베이스 부재(적층에 앞서)	DVR 디스크(적층후)
런	분.방사 틸트[°]	최대.방사틸트[°]	스팬[°]	분.접선틸트[°]	최대.접선틸트[°]	스팬[°]	분.방사틸트[°]	최대.방사틸트[°]	스팬[°]	분.접선틸트[°]	최대.접선틸트[°]	스팬[°]
1	-0.41	-0.04	0.37	-0.09	0.2	0.29	-0.24	0.41	0.65	-0.22	0.2	0.42
2	-0.38	0.15	0.53	-0.22	0.19	0.41	-0.2	0.21	0.41	-0.14	0.2	0.34
3	-0.4	0.1	0.5	-0.29	0.16	0.45	-0.19	0.08	0.27	-0.08	0.15	0.23
4	-0.3	0.15	0.45	-0.1	0.13	0.23	-0.27	0.17	0.44	-0.26	0.2	0.46
5	-0.39	0.14	0.53	-0.16	0.21	0.37	-0.35	0.26	0.61	-0.16	0.18	0.34
6	-0.22	0.11	0.33	-0.16	0.17	0.33	-0.09	0.33	0.42	-0.17	0.24	0.41
7	-0.27	0.24	0.51	-0.01	0.28	0.27	-0.14	0.41	0.55	-0.22	0.16	0.38
8	-0.2	0.25	0.45	-0.16	0.19	0.35	-0.17	0.38	0.55	-0.17	0.26	0.43
9	-0.28	0.33	0.61	-0.19	0.2	0.39	-0.28	0.4	0.68	-0.14	0.22	0.36
10	-0.45	0.27	0.72	-0.22	0.22	0.44	-0.33	0.45	0.78	-0.28	0.27	0.55
11	-0.3	0.13	0.43	-0.15	0.24	0.39	-0.21	0.39	0.6	-0.21	0.32	0.53
12	-0.3	0.22	0.52	-0.15	0.15	0.3	-0.2	0.4	0.6	-0.24	0.23	0.47
13	-0.31	0.28	0.59	-0.14	0.23	0.37	-0.17	0.67	0.84	-0.29	0.26	0.55
14	-0.21	0.19	0.4	-0.12	0.16	0.28	-0.15	0.55	0.7	-0.29	0.24	0.53
Mean	-0.32	0.18	0.50	-0.15	0.20	0.35	-0.21	0.37	0.58	-0.21	0.22	0.43
Std.Dev.	-0.08	0.09	0.10	0.07	0.04	0.06	0.07	0.15	0.15	-0.06	0.04	0.09

실시예 4

다음의 제거 가능한 보호막이 제공된다:

a) 50㎛의 두께를 갖는 50 wt.%의 저밀도 폴리프로필렌 PPC 8750(독일 프랑크푸르트 D-60313, Bleichstr. 2-4, Fina Deutschland GmbH로부터 상업적으로 활용 가능함)과 50 wt.%의 저밀도 폴리에틸렌 LD 0304(독일 Duesseldorf D-40401, Tersteengenstr.28, ELF Atochem Deutschland GmbH로부터 상업적으로 활용 가능함)의 중합체 혼합물의 제1 층과, EVA 공중합체 Evatane 2803(ELF Atochem Deutschland GmbH로부터 상업적으로 활용 가능함)의 제2 층을 포함하는 2 층의 제거 가능한 보호막은 실시예 1에서 세부적으로 설명된 바와 같이 코익스트루젼에 의해 취득된다. 제거 가능한 보호막은 PPC 8750/LD 0304 중합체층의 매트면과 Evatane의 매끄러운 자체 접착면을 드러낸다.

b) 50㎛의 두께를 갖는 저밀도 폴리에틸렌 LD 0304의 제1 층과 EVA 공중합체 Evatane 2803의 제2 층은 상기 a)에서 적용된 절차후에 코익스트루젼에 의해 취득된다. 제거 가능한 보호막은 LD 0304 층의 매끄러운 표면과 Evatane 2803 층의 매끄러운 자체 접착 표면을 드러낸다.

c) 상표 지정 "GH-X 173" 하에 활용 가능한 자체 접착 특성을 나타내는 것 중의 하나를 갖는 2 개의 중합체층을 포함하고 있는 제거 가능한 보호 적층막은 독일 Lengerich, Bischof & Klein으로부터 취득된다. 상기 막은 50㎛의 두께를 갖고 양쪽의 주요면에서 부드럽다.

d) 배킹을 포함하고 로우 릴리즈 감압성 접착제층을 지니는 제거 가능한 보호막은 접착 테이프 #2104 C와 같이 3M 회사로부터 취득될 수 있다. 배킹은 매끄러운 노출면을 드러낸다.

e) 로우 릴리즈 감압 접착물을 지니는 배킹을 포함하는 제거 가능한 보호막은 접착 테이프 5057 A5와 같이, 독일, Ratingen D-40878, Am Sandbach 32, Nitto Deutschland GmbH로부터 취득될 수 있다. 배킹은 매끄러운 노출면을 드러낸다.

Pokalon OG46 GL 폴리카보네이트막으로부터의 각각의 제거 가능한 보호막의 180°접착필은 상기된 바와 같이 측정된다. 측정 결과는 표 3에 요약되어 있다.

180°의 필 포스[cN/2.54 cm]

	폴리카보네이트막에 대한 제거 가능한보호막의 적층 방향으로 필링	폴리카보네이트막에 대한 제거 가능한 보호막의 적층 방향에 수직 필링
제거 가능한보호막	측정번호	평균값	표준편차	측정번호	평균값	표준편차
a	10	9.01	2.7	6	6.6	0.6
b	4	12.51	7.6	-	-	-
c	4	8.0	6.0	6	4.9	0.7
d	4	46.4	10.4	-	-	-
e	4	102.9	16.7	-	-	-

실시예 5

바이스페놀 A의 무게 90%와 1,1-바이스(4-히드록시페닐)-3,3,5-트리메틸 시클로헥산(TMC)의 무게 10%를 포함하는 폴리카보네이트 중합체인, APEC 9331(Bayer AG)는 메틸렌 클로라이드로 분해되어 매끄러운 스테인레스강 벨트상에 캐스팅되어 15%의 잉여 용매로 건조된다. 상기 막은 벨트로부터 제거되어 상기 막의 잉여 용매의 무게가 15 이하일 때까지 강제 통풍 오븐(ca. 80-100℃)을 통과한다.

그로 인하여, 투광성 커버막은 77 마이크론의 두께를 갖는다. 상기 막은 독일, Weil am Rhein, Lofo High Tech Film GmbH로부터 취득될 수 있다.

투광성 커버막은 상기된 테스트 방법에 따라 평가된다. 제시된 UV-VIS스펙트로포토미터를 사용하는 투과는 370nm의 파장에서 87.7%의 투과를 나타내고, 400nm의 파장에서 88.9%의 투과를 나타내고 600nm의 파장에서 90.0%의 투과를 나타낸다.

다른 시험 결과는 표 4 내지 표5에 도시된다.

상기된 바와 같이 제조된 투광성 커버막은 디지털 가변성의 디스크의 다음 제조 동안에 스크래치 및 먼지로 인한 오염으로부터 투광성커버막을 보호하도록 설계된 제거 가능한 보호막으로 적층된다. 제거 가능한 보호막은 독일, Lengerich, Bischof and Klein GmbH로부터 GH-X 173으로 활용 가능한 50 마이크론의 두께를 갖는 다층의 폴리오레핀을 기초한 시트이다. 23℃에서 막 적층기를 사용하여 적층이 실행된다.

2 개의 50 마이크론 두께의 실리콘 폴리에스테르 릴리즈 라이너 사이의 아크릴 감압 접착물의 25 마이크론 두께의 층은 광학적인 클리어 접착물 8141과 같이, MN/USA, ST.Paul, 3M 회사로부터 상업적으로 취득될 수 있다. 접착물의 원형부는 ca. 120nm의 직경을 갖는 원에서 절단된다.

원형 접착부는 하부로부터의 라이너의 연속적인 스트립상에 지지된다. 각각의 원형 접착부는 상기 라이너의 동일한 사이즈의 원형부에 의해 보호된다. 각각의 원형 접착/라이너부는 15mm의 중심구를 갖는다.

다음 과정은 표면에 정보 저장층을 지니는 베이스 부재와, 상기된 바와 같이 제조된 제거 가능한 보호막을 지니는 투광성 커버막을 접합하는데 사용된다. 도 5에 개략적으로 도시된 바와 같이 이용되는 결합 장치는 클린룸 클래스(100) 환경에 위치한다. 다음의 설명은 도 5의 장치 및 도 5에서 사용되는 참조 번호를 참조함으로써, 도 5에 도시된 바와 같이 2 개의 디스크 핼브는 다음의 설명을 위해 무시되어야 한다. DVR 구성 요소의 도 5의 장치로의 도입 및 그러한 구성 요소의 결합은 다음과 같이 실행된다:

1. 베이스 부재(1)는 도 5의 결합 장치의 상위판(54)의 진공판 홀더에 부착되고 하부를 가리키는 정보 저장층과 함께 진공으로 유지된다.

2. 감압성 접착제층(4)(하나의 릴리즈 라이너의 제거 후)은 잉여 릴리즈 라이너가 하부로 향하면서 하부 기판(59)의 진공판 홀더(53) 상에 놓인다.

3. 메인 진공 쳄버(56)는 폐쇄된다.

4. 메인 진공 쳄버(56)는 0.08mbar의 진공 상태에 이를때까지 공기가 빠진다.

5. 하부 기판(59)은 감압성 접착제층(4)을 베이스 부재(1)의 정보 저장층(3)에 접합하기 위해 세워진다.

6. 하부 기판(59)의 진공 기판 홀더(53)는 배기되어 하부 기판(59)은 낮아진다.

7. 메인 진공 쳄버(56)는 배기되어 그후 개방된다.

8. 결합된 구성체(베이스 부재(1)/정보 저장층(3)/감압성 접착제층(4)/릴리즈 라이너)는 그것의 진공판 홀더에 의해 유지되는 상위 기판(54)에 부착되어 있다.

9. 릴리즈 라이너는 감압성 접착제층(4)으로부터 제거된다.

10. 투광성 커버층(5)과 보호막(7)의 다이-컷 적층은 제거 가능한 보호막이 하부로 향하고 중심으로 모이면서 하부 기판(59)의 진공 기판 홀더(53) 상에 놓인다.

11. 메인 진공 쳄버(56)는 폐쇄된다.

12. 메인 진공 쳄버(56)는 0.08 mbar의 진공 상태에 이를때까지 공기가 빠진다.

13. 하부 기판이 세워지고 투광성 커버막(5)은 감압성 접착제층(4)에 부착되어 광학적인 저장 매체를 형성한다.

14. 상부 기판(54)의 진공판 홀더는 배기된다.

15. 하부 기판(59)은 낮아진다.

17. 메인 진공 쳄버(56)은 배기된다.

18. 메인 진공 쳄버(56)는 개방된다.

완성된 광학 기억 매체의 성능을 평가하기 위해, 제거 가능한 보호막이 제거된다. 취득된 광학적인 저장 매체는 유용한 광학적인 특성, 낮은 두께 편차, 낮은 지터값 및 선형으로 분극된 라이트에 대한 높은 투과를 나타낸다.

실시예 6

투명한 폴리카보네이트막이 97 마이크론의 두께를 갖는 것을 제외하고 실시예 5의 투광성 커버막의 제조가 반복된다.

	중합체 상표명	Wt.% TMC
Ex.5	APEC 9331	10
Ex.6	APEC 9331	10

	막 두께,미크론 +/-	수직 복굴절성	평면내 지연도nm, +/-	마이크로 거칠기, nm	파형 거칠기, nm
실시예 5	77.0, +/-0.6	0.000660	-1, +/- 9	60	800
실시예 6	97.2, +/-1.1	0.000508	-1, +/- 7	60	400

비교예 2-3

비교예 2-3의 투광성 커버막은 메틸렌 클로라이드 내에 폴리카보네이트 중합체를 각각 용해하고, 이들을 나이프 코터를 사용하여 유리판 위에서 캐스팅(casting)함으로써 준비하였다. 상기 막들은 기포의 형성 및 표면 불균일을 방지하기 위하여 ca.80℃의 온도의 압축 공기 오븐에서 천천히 건조시켰다. 막 두께는 약 75 미크론이었다. 중합체와 막의 상표명은 표 6에 표시하였다. 상기 막들은 독일 Weil am Rhein의 Lofo High Tech Film GmbH에서 입수하였다.

이와 같이 얻어진 막의 수직 복굴절성은 이후 설명하는시험 방법의 방법에 의해 측정하였다. 그 결과는 표 7에 표시하였다. 실시예 5와 실시예 6을 비교예 2-3과 비교하여 보면 폴리카보네이트에서의 소량의 TMC가 복굴절성의 하부값을 초래하게 된다는 것을 알 수 있다.

실시예	중합체 상표명	막 상표명	Wt.%TMC
C2	APEC^TM9340	POKOLON^TMUK 180-3	22
C3	APEC^TM9203	POKOLON^TMUK 180-1	55

실시예	막 두께,미크론 +/-	투과율(l₁/l₀)	수직 복굴절성	평면내 지연도nm, +/-	마이크로 거칠기, nm	파형 거칠기, nm
C2	72.8, +/-2.7	0.2247	0.003084	-5, +/- 1	60	200
C3	77.7, +/-3.5	0.4367	0.002837	-6, +/- 2	60	60

실시예 7-8

보호막을 갖는 투명 폴리카보네이트 막을 일본 오사카 테이진으로부터 PUREACE로서 얻었다. 각각 102 미크론과 70 미크론의 두께로 얻어진 막은 본 발명에서 사용하기 위해 투광성 커버막으로서 평가하였다. 수직 복굴절성은 하기의 표 9에 표시한 것처럼 측정하였다.

실시예 7에 대하여 UV-VIS 분광광도계를 사용하여 투과율 측정을 행하였고, 그 결과 파장 370 nm에서 88.9%, 파장 400 nm에서 89.4% 및 파장 600 nm에서 90.0%의 투과율를 나타내었다.

70 미크론 및 102 미크론의 막을 각각 감압성 접착제층(4)에 적층하고, 그 다음에 실시예 5에서 설명한 것처럼 정보 저장층을 갖는 베이스 부재의 표면에 접착하였다.

실시예 9

폴리오레핀계 투명막을 독일 Weil am Rhein의 Lofo High Tech Film GmbH로부터 TRANSPHAN^TMOG 652GL로서 얻었다. 이 막은 두께가 98 미크론이었고, 노르보르닌, 디시클로펜타디엔 및 메틸 메타크릴레이트의 삼량체로 구성되었다. 이 막을 본 발명에서 사용하기 위해 투광성 커버막으로써 평가하였다.

이 막들의 수직 복굴절성, 두께, 투과율 및 거칠기를 측정하여 표 9에 요약하였다.

상기 막들을 감압성 접착제층에 적층하고, 그 다음에 실시예 1에서 설명한 것처럼 정보 저장층을 갖는 베이스 부재의 표면에 접착하였다.

실시예	중합체 종류	막의 상표명
7	폴리카보네이트	PUREACE
8	폴리카보네이트	PUREACE
9	노르보르닌, 시클로펜타디엔, MMA	TRANSPHAN^TMOG 652GL

실시예	막 두께,미크론 +/-	투과율(l₁/l₀)	수직 복굴절성	평면내 지연도nm, +/-	마이크로 거칠기, nm	파형 거칠기, nm
7	71.0, +/-0.2	--	0.000656	-1, +/- 10	60	800
8	102.2, +/-0.6	--	0.000417	-1, +/- 8	400	600
9	97.6, +/-1.5	0.0016	0.000383	-2, +/- 8	40	400

실시예 10-13 및 비교예 4-5

투광성 커버막은 실시예 5에서 설명한 공정에 의해 준비하였다. 이 막들은 독일 Weil am Rhein의 Lofo High Tech Film에서 제공한 것이다.

막의 조성은 표 10에 표시하였고, 그 막의 물리적 광학적 특성은 표 11에 표시하였다.

이 막들은 실시예 5에서 설명한 광학 기억 매체를 마련하기 위해 사용하였다.

실시예	중합체 상표명	막의 상표명	Wt.%TMC
10	MAKROLON^TM5730	POKOLON^TMOG 46 GL 03963674	0
11	MAKROLON^TM5730	POKOLON^TMOG 46 GL	0

12	APEC^TM9201	POKOLON^TMHT	10
13	APEC^TM9351	POKOLON^TMOG 461 GL	35
C4	APEC^TM9203	POKOLON^TMHT BV 411	55
C5	APEC^TM9203		55

실시예	막 두께,미크론 +/-	투과율(l₁/l₀)	수직 복굴절성	평면내 지연도nm, +/-	마이크로 거칠기, nm	파형 거칠기, nm
10	77.8,+/- 0.3	0.0099	0.000842	-2, +/- 6	200	200
11	90.2,+/- 1.0	0.0092	0.000784	-1, +/- 11	400	1200

12	78.8,+/- 1.2	0.0069	0.000669	-3, +/- 10	40	200
13	75.8,+/- 2.2	0.0167	0.000697	-2, +/- 3	400	400
C4	74.9,+/- 0.9	--	0.001125	-4, +/- 4	40	200
C5	77.8,+/- 0.6	--	0.001136	0, +/- 3	100	200

실시예 14

이소보닐 아크릴레이트(IBOA)와 GENOMER^TM1112를 각각 50 중량%씩 100 중량부 단량체에 기초한 0.05 중량부의 광개시제와 혼합하였다. 이소보닐 아크릴레이트(IBOA)는 일본 오사카의 Osaka Chemical Company로부터 입수 가능하다. 단일 작용성 지방족 우레탄 아크릴레이트인 GENOMER^TM은 스위스 쮸리히의 Rahn AG로부터 입수 가능하다. IRGACURE^TM651은 2,2-디메톡시-1,2-디페닐레탄-1-온이고, 독일Lautertal의 Ciba-Geigy에서 입수 가능하다. 3-성분 혼합물을 질소로 세정한 다음 그 혼합물이 ca.1500 mPa.s의 점도를 가질 때까지 UV광을 이용하여 부분적으로 중합시킨다.

제2부의 IRGACURE^TM651 광개시제를 100 중량부의 시럽에 기초하여 0.10 중량부의 양으로 상기 시럽에 부가하였다. 부분 중합된 시럽은 먼저 가스가 제거되고, 다음에 두께가 ca.50 미크론인 2개의 투명 실리콘화 폴리에스테르막 사이에서 코팅되었다. 상기 코팅은 나이프 코터를 사용하여 행하여졌고, 시럽층은 두께가 ca.75 미크론이었다.

이와 같이 하여 마련된 구성물은 351 nm에서 최대 방사 능력을 갖고 300 nm와 400 nm 사이에서 약 90%의 방사 능력을 갖는 중간압 UV 램프 아래로 통과되었다. 이 구성물은 총에너지 103 mj/㎠로 조명되었다. 중합은 상기 방사선 경화 공정 중에 거의 완료되었다.

결과적으로 얻어진 막의 화학적 조성은 표 12에 표시하였다. 이 막은 본 발명에서 사용하기 위해 투광성 커버막으로써 평가되었다. 수직 복굴절성, 거칠기 및 투과율을 측정하였고, 그 결과를 표 13에 요약하였다.

실시예 15

27 중량%의 이소보닐 아크릴레이트(IBOA), 73 중량%의 ACTILANE^TM250 HD 25 및 100 중량부의 단량체에 기초한 0.10부의 혼합물을 혼합하여 ca.1700 mPa.s의 코팅가능 점도를 갖는 혼합물을 형성하였다. ACTILANE^TM250 HD 25는75 중량%의 삼작용성 지방족 우레탄 아크릴레이트와 25 중량%의 헥산디올 디아크릴레이트(HDDA)의 혼합물이고, 독일 Dueren의 Akcros Chemicals로부터 입수 가능하다. 코팅 가능 점도를 얻기 위하여 선중합(prepolymerization)을 행할 필요는 없었다.

혼합물은 가스가 제거되고 2개의 실리콘화 폴리에스테르 시트 사이에서 코팅되었으며 실시예 14에서와 같이 UV광을 사용하여 중합되었다. 그 결과 깨끗하고 비점성의 막은 두께가 75 미크론이었다.

결과적으로 얻어진 막의 화학적 조성은 표 12에 요약하였다. 이 막은 본 발명에서 사용하기 위해 투광성 커버막으로써 평가되었다. 수직 복굴절성, 거칠기 및 투과율을 측정하여 그 결과를 표 13에 요약하였다.

실시예 16

처음에 5.0 몰(1110g)의 이소포론 디이소시아네이트(IPDI, NCO eq. wt. of 111)를 온도계, 기계적 교반기, 불활성 가스 주입구 및 환류 응축기가 설비되어 있는 5 리터의 목이 4개인 플라스크에 넣어서 이작용성 폴리우레탄 메타크릴레이트(I)를 마련하였다. 그 다음에, 2.0 당량(2.126g)의 폴리카보네이트디올(독일 Leverkusen의 Bayer로부터 DESMOPHEN^TMC 200으로써 입수 가능한 OH eq. wt. of 1063)을 반응 온도가 60℃를 넘지 않도록 3 부분에서 상기 플라스크에 첨가하였다. 그 다음에 2개의 당량(1 몰)의 부탄디올을 4 부분에서 천천히 첨가하였고, 그 결과적인 혼합물은 2 시간 동안 50℃에서 유지되었다. 혼합물을 23℃로 냉각시키고, 그 혼합물의 이소시아네이트 농도를 DIN(Deutsche Industrie Norm) 53185에 따라 적정(滴定;titration)에 의해 측정하였다. ca.6.6몰에 대응하는 계산된 몰당량(10% 초과)의 2-하이드록시에틸메타크릴레이트(HEMA)를 드롭핑 퍼넬을 이용하여 첨가하였다. 결과로서 얻어진 메타크릴로일 작용성 중합체의 잔류 NCO는 DIN 53 185에 따라 적정에 의해 측정한 바, 0.1% 이하임을 확인하였다.

이소보닐 아크릴레이트(IBOA)를 45.5 중량% 및 54.5 중량%의 양으로 각각 위에서 마련한 이작용성 폴리우레탄 아크릴레이트(I)와 혼합하였다. 그 혼합물에 100 중량부의 단량체에 기초한 0.10 중량부의 양으로 광개시제(IRGACURE^TM651)를 첨가하였다. 이렇게 하여 형성된 혼합물은 ca. 2000 mPa.s의 코팅 가능 점도를 가졌다.

그 혼합물에서 가스를 제거하고, 실시예 14에서 처럼 코팅 및 경화하여 깨끗한 자기 지지막을 형성하였다. 결과적으로 얻어진 막의 화학적 조성은 표 12에 요약하였다. 그 막을 본 발명에서 사용하기 위해 투광성 커버막으로써 평가하였다. 수직 복굴절성, 거칠기 및 투과율을 측정하여 그 결과를 표 13에 요약하였다.

	단량체 1	단량체 2	광개시제
실시예 14	IBOA, 50.0 wt%	GENOMER^TM1122,50.0 wt%	IRGACURE^TM651,0.15 %
실시예 15	IBOA, 27.0 wt%	ACTILANE^TM250 HD 25,73.0 wt%	IRGACURE^TM651,0.10 %
실시예 16	IBOA, 45.5 wt%	디메타크릴레이티(I),54.5 wt%	IRGACURE^TM651,0.10 %

	370 nm에서의 투과율, %	400 nm에서의 투과율, %	600 nm에서의 투과율, %	수식 복굴절성	평면내 지연도	마이크로 거칠기, nm
실시예 14	87.8	89.4	90.0	0.000048	**	300
실시예 15	88.7	89.2	90.2	0.000051	**	*
실시예 16	88.7	89.1	90.3	0.000044	**	300

* 측정하지 않음

** 사용된 기술의 측정 임계치 이하

본 발명은 광빔(6)에 의해 정보의 판독 및/또는 기록이 가능한 광학 기억 매체에 관한 것으로, 상기 광학 기억 매체는 광빔(6)이 입사되는 측면을 갖는 베이스 부재(1), 1개 이상의 정보 저장층(3) 및 적어도 하나의 투광성 커버막(5)을 포함하고, 상기 투광성 커버막(5)은 광빔(6)이 입사되는 상기 베이스 부재(1)의 표면(2)에 및/또는 상기 1개 이상의 정보 저장층(3)에 1개 이상의 투광성 감압 접착제층(4)에 의해 상호 접합되고, 상기 투광성 커버막(5)은 적어도 20℃에서 및 상기 광빔(6)의 파장 또는 파장 스펙트럼에서 각각 본질적으로 광학적 등방성이다.

또한, 본 발명은 상기한 바와 같은 광학 기억 매체에 관한 것으로, 상기 투광성 커버막(5)은 적어도 20℃에서 및 상기 광빔(6)의 파장 또는 파장 스펙트럼에서 각각 0.001 이하의 수직 복굴절성(vertical birefringence)을 나타낸다.

또한, 본 발명은 상기한 바와 같은 광학 기억 매체에 관한 것으로, 상기 투광성 커버막(5)은 적어도 20℃에서 및 상기 광빔(6)의 파장 또는 파장 스펙트럼 각각에서 각각 ±30 nm 이하의 평면내 지연도(in-plane retardation)를 나타낸다.

또한, 본 발명은 상기한 바와 같은 광학 기억 매체를 준비하는 방법에 관한 것으로,

(1) 광빔(6)이 입사되며 정보 저장층(3)을 갖는 피트 구조를 선택적으로 포함하는 표면(2)을 가진 적어도 하나의 베이스 부재(1)를 제공하는 단계와,

(2) 제거 가능한 보호층(7), 내부 표면에 선택 사양으로서 정보 저장층(3)을 갖는 피트 구조를 포함하는 투광성 커버막(5), 투광성 감압 접착제층(4) 및 릴리즈 라이너를 상기 기재 순서대로 포함하고, 선택사양으로서 상기 투광성 커버막(5)과 감압성 접착제층 사이에 1개 이상의 추가의 투광성 감압 접착제층(4')에 의해 서로 접합되어진 추가의 투광성 커버막(5')을 추가로 포함하는 다층막(12)을 제공하는 단계와,

(3) 상기 릴리즈 라이너(8)를 제거하는 단계와,

(4) 상기 베이스 부재(1)의 표면(2)상에서 상기 정보 저장층(3)의 표면(2)에 상기 다층막(12)을 적층하는 단계를 포함한다.

Claims

광빔(6)에 의해 정보의 판독 및/또는 기록이 가능한 광학 기억 매체로서, 광빔(6)이 입사되는 측면을 갖는 1개 이상의 베이스 부재(1), 1개 이상의 정보 저장층(3) 및 적어도 하나의 투광성 커버막(5)을 포함하고, 상기 투광성 커버막(5)은 광빔(6)이 입사되는 상기 베이스 부재(1)의 표면(2)에 및/또는 상기 1개 이상의 정보 저장층(3)에 1개 이상의 투광성 감압 접착제층(4)에 의해 상호 접합되며, 상기 투광성 커버막(5)은 적어도 20℃에서 및 상기 광빔(6)의 파장 또는 파장 스펙트럼에서 각각 본질적으로 광학적 등방성을 갖는 것인 광학 기억 매체.
제1항에 있어서, 상기 투광성 커버막(5)은 20℃에서 및 상기 광빔(6)의 파장 또는 파장 스펙트럼에서 각각 0.001 이하의 수직 복굴절성을 나타내는 것인 광학 기억 매체.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 투광성 커버막(5)은 20℃에서 및 상기 광빔(6)의 파장 또는 파장 스펙트럼에서 각각 ±30nm 이하의 평면내 지연도(in-plane retardation)를 나타내는 것인 광학 기억 매체.
제1항 또는 제2항에 있어서, 정보 저장층(3)이 형성되는 피트 구조를 표면(2)상에 갖는 하나의 베이스 부재(1)를 포함하는 것인 광학 기억 매체.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 투광성 감압 접착제층(4)에 의해 상기 베이스 부재(1)의 표면(2)상에서 정보 저장층(3)에 결합된 하나의 투광성 커버막(5)을 포함하는 광학 기억 매체.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 투광성 커버막(들)(5)은 용매에 용해된 1개 이상의 중합체를 캐스팅(casting)하고, 이어서 건조 및/또는 경화시킴으로써 형성되는 것인 광학 기억 매체.
제6항에 있어서, 용매에 용해된 중합체는 폴리카보네이트, 셀룰로즈 트리아세테이트 또는 폴리오레핀계 중합체로 구성된 중합체 그룹으로부터 선택되는 것인 광학 기억 매체.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 투광성 커버막(들)(5)은 중합체의 중합 가능한 전구물질을 캐스팅하고 이어서 경화시킴으로써 형성되는 것인 광학 기억 매체.
제8항에 있어서, 상기 중합체의 중합 가능한 전구물질은 중합되었을 때 적어도 10℃의 유리 전이 온도를 나타내며 부서지지 않는 적어도 하나의 아크릴 작용성 단량체를 포함하는 것인 광학 기억 매체.
제8항 또는 제9항에 있어서, 상기 중합체의 중합 가능한 전구물질은 그 전구물질에 혼합된 1개 이상의 추가의 중합체를 포함하는 것인 광학 기억 매체.
제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 중합체의 중합 가능한 전구물질은 (메틸)메타크릴레이트, (메틸)에틸아크릴레이트, (메틸)프로필아크릴레이트, 소량의 (메틸)(C₄-C₈알킬)아크릴레이트, 아크릴로니트릴, 스티렌 알킬 아크릴레이트, 메타크릴아미드 및 알킬 치환 메타크릴아미드, 1개 이상의 중합 개시제, 및 중합 가능 전구물질과 공중합 가능한 1개 이상의 불포화 이중 결합을 갖는 선택사양으로서의 1개 이상의 비닐 단량체를 포함하는 그룹으로부터 선택된 단량체 성분을 포함하는 것인 광학 기억 매체.
제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 투광성 커버막(들)(5)의 두께는 10㎛ 내지 200㎛인 것인 광학 기억 매체.
제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 투광성 감압 접착제층(들)(4)의 두께는 10㎛ 내지 100㎛인 것인 광학 기억 매체.
제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 각각의 투광성 커버막(5)의 두께의 변화 및/또는 광학 기록 매체의 임의로 선택한 단면을 그 전체 범위에 걸쳐 측정하였을 때 각각의 투광성 커버막(5)에 의해 유도된 광학 기록 매체의 두께의 변화는 ±3㎛보다 크지 않은 것인 광학 기억 매체.
제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 각각의 투광성 감압 접착제층(4)의 두께의 변화 및/또는 광학 기록 매체의 임의로 선택한 단면을 그 전체 범위에 걸쳐 측정하였을 때 각각의 투광성 감압 접착제층(4)에 의해 유도된 광학 기록 매체의 두께의 변화는 ±3㎛보다 크지 않은 것인 광학 기억 매체.
제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 하나의 투광성 커버막(5) 및 하나의 투광성 감압 접착제층(4)을 포함하고, 상기 투광성 커버막(5)의 두께의 변화 또는 상기 투광성 커버막(5)에 의해 각각 유도된 광학 기록 매체의 두께의 변화의 합 및 상기 투광성 감압 접착제층(5)의 두께의 변화 또는 투광성 감압 접착제층(4)에 의해 각각 유도된 광학 기록 매체의 두께의 변화의 합은 ±5㎛보다 크지 않으며, 그에 따라 상기 합은 광학 기록 매체의 임의로 선택된 단면을 그 전체 범위에 걸쳐 측정되는 것인 광학 기억 매체.
제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 기재된 광학 기억 매체를 제조하는 방법에 있어서,

(1) 광빔(6)이 입사되며 정보 저장층(3)을 갖는 피트 구조를 선택적으로 포함하는 표면(2)을 가진 적어도 하나의 베이스 부재(1)를 제공하는 단계와,

(2) 제거 가능한 보호층(7), 내부 표면에 선택 사양으로서 정보 저장층(3)을 갖는 피트 구조를 포함하는 투광성 커버막(5), 투광성 감압 접착제층(4) 및 릴리즈 라이너(8)를 상기 기재 순서대로 포함하고, 선택사양으로서 상기 투광성 커버막(5)과 감압성 접착제층 사이에 1개 이상의 추가의 투광성 감압 접착제층(4')에 의해 서로 접합되어진 추가의 투광성 커버막(5')을 추가로 포함하는 다층막(12)을 제공하는 단계와,

(3) 상기 릴리즈 라이너(8)를 제거하는 단계와,

(4) 상기 베이스 부재(1)의 표면(2)상에서 상기 정보 저장층(3)의 표면(2)에 상기 다층막(12)을 적층하는 단계를 포함하는 광학 기억 매체 제조 방법.
제17항에 있어서, 상기 투광성 커버막(5, 5')의 적어도 하나는 각각 표면상에서 상기 투광성 커버막(5, 5')의 경화 가능한 전구물질을 각각 캐스팅하고 이어서 경화시킴으로써 마련되며, 그에 따라 상기 표면은 다층막의 층들중의 하나의 비노출 표면에 의해서, 또는 투광성 커버막이 상기 다층막(12)에 경화된 층으로써 후속 통합되는 기재에 의해서 형성될 수 있는 것인 광학 기억 매체 제조 방법.