JPH01146916A - 光デイスク基板用メタクリル樹脂 - Google Patents
光デイスク基板用メタクリル樹脂Info
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- JPH01146916A JPH01146916A JP62305667A JP30566787A JPH01146916A JP H01146916 A JPH01146916 A JP H01146916A JP 62305667 A JP62305667 A JP 62305667A JP 30566787 A JP30566787 A JP 30566787A JP H01146916 A JPH01146916 A JP H01146916A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は低吸湿性で寸法安定性に優れた光ディスク基板
用メタクリル樹脂に関する。
用メタクリル樹脂に関する。
最近、情報を記録し再生するビデオディスクやオーディ
オディスクなどの光ディスク類が、社会の要望に沿って
実用化されている。これらの光ディスク類は半導体レー
ザ等を用いて情報標識を記録し再生するため、透明な樹
脂を用いて射出成形。
オディスクなどの光ディスク類が、社会の要望に沿って
実用化されている。これらの光ディスク類は半導体レー
ザ等を用いて情報標識を記録し再生するため、透明な樹
脂を用いて射出成形。
あるいは、圧縮成形等により基板を成形し、その記録面
にアルミニウムを蒸着させ、さらに、その上に保護被膜
をコートして形成される。
にアルミニウムを蒸着させ、さらに、その上に保護被膜
をコートして形成される。
このような光ディスク基板用樹脂には、ポリカポネート
樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリメ
タクリレート樹脂等が提案されている。中でもポリメチ
ルメタクリレート樹脂は光線透過率に優れ、傷つきにく
く、又、光ディスクで特に重要視される特性の一つであ
る複屈折率が低く、表面精度が良好なため光ディスク基
板として用いられている。しかしメタクリレート系樹脂
はスチレン樹脂や、ポリカーボネート樹脂にくらべ、吸
湿量が大きい、すなわち、具体的には70℃で水中二週
間で2.2%以上の吸湿率を示す。
樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリメ
タクリレート樹脂等が提案されている。中でもポリメチ
ルメタクリレート樹脂は光線透過率に優れ、傷つきにく
く、又、光ディスクで特に重要視される特性の一つであ
る複屈折率が低く、表面精度が良好なため光ディスク基
板として用いられている。しかしメタクリレート系樹脂
はスチレン樹脂や、ポリカーボネート樹脂にくらべ、吸
湿量が大きい、すなわち、具体的には70℃で水中二週
間で2.2%以上の吸湿率を示す。
この樹脂をオーディオデイ、スフ等に提供するとおわん
状に変形するそり現象が発生し、高度の寸法安定性も損
なわれるという大きな問題があった。
状に変形するそり現象が発生し、高度の寸法安定性も損
なわれるという大きな問題があった。
そのため、吸湿性の改良が要望されていた。この意味か
ら、特開昭60−217215号公報で提案されている
メチルメタクリレートとフッ素化アルキルメタクリレー
トとの共重合体は注目すべきものであった。
ら、特開昭60−217215号公報で提案されている
メチルメタクリレートとフッ素化アルキルメタクリレー
トとの共重合体は注目すべきものであった。
しかしながら吸湿性を低減させるための成分量としてフ
ッ素化アルキルメタクリレートを比較的多量に必要とし
、その結果、メタクリレート系樹脂の耐熱性と機械的強
度を低下させるという欠点をもち、使用範囲の制限を生
じるなど、更に、改良を要する問題があった。
ッ素化アルキルメタクリレートを比較的多量に必要とし
、その結果、メタクリレート系樹脂の耐熱性と機械的強
度を低下させるという欠点をもち、使用範囲の制限を生
じるなど、更に、改良を要する問題があった。
本発明者らは耐熱性2機械的強度に優れた低吸湿性メタ
クリレート樹脂の開発を鋭意検討した結果、本発明に到
達した。
クリレート樹脂の開発を鋭意検討した結果、本発明に到
達した。
本発明の目的は低吸湿性メタクリレート系樹脂を用いて
、そりの少ない寸法安定性に優れた光ディスク基板を提
供することにある。
、そりの少ない寸法安定性に優れた光ディスク基板を提
供することにある。
吸湿性の低いメタクリレート樹脂を得るには、次の方法
が周知となっている。それは疎水基をもつモノマとメチ
ルメタクリレートモノマの共重合である。疎水基をもつ
モノマを導入すると、樹脂中で弱親木基のカルボキシメ
チル基のしめる割合が減少するため吸湿率は低下する。
が周知となっている。それは疎水基をもつモノマとメチ
ルメタクリレートモノマの共重合である。疎水基をもつ
モノマを導入すると、樹脂中で弱親木基のカルボキシメ
チル基のしめる割合が減少するため吸湿率は低下する。
しかし、疎水基の分子や原子が多く含まれると樹脂中の
分子配列がみだれ易くなる傾向にある。その結果、もろ
くなったり耐熱性が低下する問題があった。
分子配列がみだれ易くなる傾向にある。その結果、もろ
くなったり耐熱性が低下する問題があった。
本発明の目的は疎水性で原子半径の小さいフッ素を含む
メタクリレートと疎水性で分子容の大きな脂環式系メタ
クリレートとの共重合体を提供することにある6 本発明の光ディスク基板用メタクリル樹脂の製造方法は
塊状重合、溶液重合、懸濁重合、乳化重合等周知の重合
法で可能である。大量生産の可能な成形材料を製造する
には懸濁重合、乳化重合が作業効率の面で好ましい。い
ずれの方法でも周知の技術で製造可能である。
メタクリレートと疎水性で分子容の大きな脂環式系メタ
クリレートとの共重合体を提供することにある6 本発明の光ディスク基板用メタクリル樹脂の製造方法は
塊状重合、溶液重合、懸濁重合、乳化重合等周知の重合
法で可能である。大量生産の可能な成形材料を製造する
には懸濁重合、乳化重合が作業効率の面で好ましい。い
ずれの方法でも周知の技術で製造可能である。
本発明のメタクリレート樹脂の優れた低吸湿性と機械的
強度を保持するため樹脂組成の範囲は、メチルメタクリ
レート20〜60重量部、好ましくは20〜50重量部
フッ素化アルキル系メタクリレート2〜50重量部、好
ましくは4〜40重量部、脂環式炭化水素系メタクリレ
ートが5〜50重量部、好ましくは10〜45重量部で
ある。
強度を保持するため樹脂組成の範囲は、メチルメタクリ
レート20〜60重量部、好ましくは20〜50重量部
フッ素化アルキル系メタクリレート2〜50重量部、好
ましくは4〜40重量部、脂環式炭化水素系メタクリレ
ートが5〜50重量部、好ましくは10〜45重量部で
ある。
樹脂中のフッ素化アルキル系メタクリレートは、50重
量部を超えると樹脂の耐熱性の低下が大きくなり、又、
2重量部未満では実質的な低吸湿性は得られない。一方
、脂環式炭化水素系メタクリレートは50重量部を超え
ると機械的強度の繊維が難しく、又、5重量部未満では
実質的な低吸湿性は得られない。
量部を超えると樹脂の耐熱性の低下が大きくなり、又、
2重量部未満では実質的な低吸湿性は得られない。一方
、脂環式炭化水素系メタクリレートは50重量部を超え
ると機械的強度の繊維が難しく、又、5重量部未満では
実質的な低吸湿性は得られない。
次に、本発明を実施例により詳細に説明する。
しかし、本発明はこれによってなんら限定されるもので
はない。
はない。
なお、以下の実施例中の物性測定は次に示す方法で行っ
た。
た。
吸湿率は70℃水中に二週間放置してその重量変化から
求めた。
求めた。
熱変形温度(HD T)はJISK7207のA法、光
線透過率は自記分光々度肝(日立340型)で測定した
表中には890nmの値を示す。
線透過率は自記分光々度肝(日立340型)で測定した
表中には890nmの値を示す。
複屈折性(リターデーション)は溝尻光学社製DVA3
6LS型エリプリメータを用いて測定した。機械的性質
はアイゾツト衝撃強度(ノツチなし)でJISK711
0に従った。
6LS型エリプリメータを用いて測定した。機械的性質
はアイゾツト衝撃強度(ノツチなし)でJISK711
0に従った。
〈実施例1〉
メチルメタクリレート40重量部、トリフロロエチルメ
チクリレート30重量部、アダマンチルメタクリレート
30重量部に重合開始剤ラウロイルバーオキサイド0.
3 重量%、連鎖移動剤1−オクチルチオール0.1
重量部からなるモノマ溶液を、水200重量部、ポリメ
タクリル酸カリウム1重量部からなる懸濁相に入れ、チ
ッ素雰囲気中で65℃に加熱する。重合開始3.5時間
の後、97℃に再加熱し二時間重合を続け、重合を終了
させた。得られたビーズ状のメタクリル系樹脂を冷却、
洗浄、乾燥した。そして、ビーズを射出成形機(名機爬
作所M200/800 DM)を用いて射出成形を行い
片面に情報標識の入った300mmφ、厚さ1.2mm
の光ディスク基板を得た。射出成形温度280℃、射出
圧力900〜1000kg/c+112であった。更に
、光ディスク基板を蒸着装置で10−’mmHgの真空
下にアルミニウム蒸着を行った。その後、常法により保
護膜を被覆し。
チクリレート30重量部、アダマンチルメタクリレート
30重量部に重合開始剤ラウロイルバーオキサイド0.
3 重量%、連鎖移動剤1−オクチルチオール0.1
重量部からなるモノマ溶液を、水200重量部、ポリメ
タクリル酸カリウム1重量部からなる懸濁相に入れ、チ
ッ素雰囲気中で65℃に加熱する。重合開始3.5時間
の後、97℃に再加熱し二時間重合を続け、重合を終了
させた。得られたビーズ状のメタクリル系樹脂を冷却、
洗浄、乾燥した。そして、ビーズを射出成形機(名機爬
作所M200/800 DM)を用いて射出成形を行い
片面に情報標識の入った300mmφ、厚さ1.2mm
の光ディスク基板を得た。射出成形温度280℃、射出
圧力900〜1000kg/c+112であった。更に
、光ディスク基板を蒸着装置で10−’mmHgの真空
下にアルミニウム蒸着を行った。その後、常法により保
護膜を被覆し。
二枚の基板を接着剤により貼り合わせた。尚、そり試験
は次に示す方法で行なった。
は次に示す方法で行なった。
温度60℃、相対湿度95%の雰囲気下に二週間放置し
、光ディスク基板のそり試験を行った。
、光ディスク基板のそり試験を行った。
そりの測定は光ディスク基板の中心がディスク基板の外
周上にある少なくとも二点を通る平面から隔たる距離を
時間ごとに三次元測定機(AF−121三豊社製)で測
定し、その最大のそり量を求めた。
周上にある少なくとも二点を通る平面から隔たる距離を
時間ごとに三次元測定機(AF−121三豊社製)で測
定し、その最大のそり量を求めた。
表にその結果を示す。
表
(注)傘:ノツチなし
〈実施例2〉
メチルメタクリレート40重量部、2,2,3゜3−テ
トラフロロプロピルメタクリレート25重量部、トリシ
クロ(5,2,1,O)デカニルメタクリレート35重
量部からなるモノマ組成物を実施例1と同法で重合し物
性測定を行った。その結果を表中に併記した。
トラフロロプロピルメタクリレート25重量部、トリシ
クロ(5,2,1,O)デカニルメタクリレート35重
量部からなるモノマ組成物を実施例1と同法で重合し物
性測定を行った。その結果を表中に併記した。
〈実施例3〉
メチルメタクリレート40重量部、LH,LH。
5H−オクタフロロペンチルメタクリレート20重量部
、トリシクロ(5,2,1,O)デカニルメタクリレー
ト40重量部からなるモノマ組成物を実施例1と同法で
重合させた。その結果を表中に併記する。
、トリシクロ(5,2,1,O)デカニルメタクリレー
ト40重量部からなるモノマ組成物を実施例1と同法で
重合させた。その結果を表中に併記する。
〈実施例4〉
メチルメタクリレート45重量部、LH,LH。
2H,2H−へブタデカフロロデシルメタクリレート1
5重量部、トリシクロ(5,2,1,01デ力ニルメタ
クリレート40重量部からなるモノマ組成物を実施例1
と同法で重合し、物性測定を行なった。その結果を表中
に併記する。
5重量部、トリシクロ(5,2,1,01デ力ニルメタ
クリレート40重量部からなるモノマ組成物を実施例1
と同法で重合し、物性測定を行なった。その結果を表中
に併記する。
く比較例1〉
メチルメタクリレート100重量部から成る組成物を実
施例1と同法で重量し物性測定を行なつた。その結果を
表中に併記する。
施例1と同法で重量し物性測定を行なつた。その結果を
表中に併記する。
く比較例2〉
市販のメタクリレート系樹脂であるH R−1000(
共和ガス化学社ml)を用い実施例1と同法で物性測定
した。その結果を表中に併記する。
共和ガス化学社ml)を用い実施例1と同法で物性測定
した。その結果を表中に併記する。
本発明のプラスチックは低吸湿性であるため、光ディス
ク基板のそりが小さくする効果がある。
ク基板のそりが小さくする効果がある。
更に、耐熱温度、透過率、複屈折、衝撃強度に特性のバ
ランスのとれた光ディスク基板が得られる。
ランスのとれた光ディスク基板が得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、メチルメタクリレート20〜60重量部とフッ素化
アルキル系メタクリレート2〜50重量部及び脂環式炭
化水素系メタクリレート5〜50重量部との共重合体か
ら成ることを特徴とする光ディスク基板用メタクリル樹
脂。 2、前記フッ素化アルキル系メタクリレートがトリフロ
ロエチルメタクリレート、トリフロロイソプロピルメタ
クリレート、ヘキサフロロブチルメタクリレートのいず
れかである特許請求の範囲第1項記載の光ディスク基板
用メタクリル樹脂。 3、前記脂環式炭化水素系メタクリレートがアダマンチ
ルメタクリレート、〔2、2、2〕ビシクロオクタンメ
タクリレート、トリシクロ〔5、2、1、0〕デカニル
メタクリレートのいずれかである特許請求の範囲第1項
記載の光ディスク基板用メタクリル樹脂。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62305667A JPH01146916A (ja) | 1987-12-04 | 1987-12-04 | 光デイスク基板用メタクリル樹脂 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62305667A JPH01146916A (ja) | 1987-12-04 | 1987-12-04 | 光デイスク基板用メタクリル樹脂 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01146916A true JPH01146916A (ja) | 1989-06-08 |
Family
ID=17947900
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62305667A Pending JPH01146916A (ja) | 1987-12-04 | 1987-12-04 | 光デイスク基板用メタクリル樹脂 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01146916A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000065409A3 (en) * | 1999-04-22 | 2001-04-05 | 3M Innovative Properties Co | Optical storage medium |
-
1987
- 1987-12-04 JP JP62305667A patent/JPH01146916A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2000065409A3 (en) * | 1999-04-22 | 2001-04-05 | 3M Innovative Properties Co | Optical storage medium |
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