JPS60217216A - 低ソリ性アクリル系樹脂を基盤とするデイスク盤 - Google Patents
低ソリ性アクリル系樹脂を基盤とするデイスク盤Info
- Publication number
- JPS60217216A JPS60217216A JP59071812A JP7181284A JPS60217216A JP S60217216 A JPS60217216 A JP S60217216A JP 59071812 A JP59071812 A JP 59071812A JP 7181284 A JP7181284 A JP 7181284A JP S60217216 A JPS60217216 A JP S60217216A
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- JP
- Japan
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- weight
- substrate
- copolymer
- disc
- polymerization
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- Pending
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、低ソリ性のアクリル樹脂系ディスク盤に関し
、さらに詳しくは、特定の共重合体を用いることにより
ポリメチルタフリレート製ディスク盤の最大の欠点であ
るクリープ等によるソリを少なくシタ実用性に優れた性
能を有するディスク盤に関するものである。最近、情報
を記録し再生するビデオディスクやオーディオディスク
などのディスク類が、情報化社会その他の要望に沿って
開発され実用されている。これらのディスク類は半導体
レーザー等を用いて情報標識を記録し再生するために、
透明な樹脂を用いて射出成形又は圧縮成形などにより基
盤を成形し、その記録面にアルミニウムを蒸着させ、さ
らにその上に保護被膜を被覆して形成される。
、さらに詳しくは、特定の共重合体を用いることにより
ポリメチルタフリレート製ディスク盤の最大の欠点であ
るクリープ等によるソリを少なくシタ実用性に優れた性
能を有するディスク盤に関するものである。最近、情報
を記録し再生するビデオディスクやオーディオディスク
などのディスク類が、情報化社会その他の要望に沿って
開発され実用されている。これらのディスク類は半導体
レーザー等を用いて情報標識を記録し再生するために、
透明な樹脂を用いて射出成形又は圧縮成形などにより基
盤を成形し、その記録面にアルミニウムを蒸着させ、さ
らにその上に保護被膜を被覆して形成される。
このような基盤用樹脂としては、例えば、ポリ塩化ビニ
ル、ポリスチレン１ポリメチルメタクリレート、ポリカ
ーボネートなどの樹脂が使用できるものと提案されてい
るが、いずれもが、成形性および複屈折等の点に難点が
あり、なかではポリメチルメタクリレートが限定された
用途に使用可能とされている。
ル、ポリスチレン１ポリメチルメタクリレート、ポリカ
ーボネートなどの樹脂が使用できるものと提案されてい
るが、いずれもが、成形性および複屈折等の点に難点が
あり、なかではポリメチルメタクリレートが限定された
用途に使用可能とされている。
一般射出成形あるいは圧縮成形などによって成形される
基盤は、成形の際の配向によって複屈折が高くなる。複
屈折が高くなると、再生する音質や画像に悪い影響赫与
えるので、複屈折が出来るだけ小さい基盤を提供するこ
とができ、かつ成形加工性のよい樹脂が有利に使用され
る。
基盤は、成形の際の配向によって複屈折が高くなる。複
屈折が高くなると、再生する音質や画像に悪い影響赫与
えるので、複屈折が出来るだけ小さい基盤を提供するこ
とができ、かつ成形加工性のよい樹脂が有利に使用され
る。
ポリメチルメタクリレートは固有複屈折率が他の樹脂に
比べて小さく、成形加工性もよいので、成形配向が抑制
される点では、比較的優れた素材樹脂である。
比べて小さく、成形加工性もよいので、成形配向が抑制
される点では、比較的優れた素材樹脂である。
しかしながら、情報標識を記録した基盤を特にオーディ
オディスク、ダイレクト リード アフターライト（Ｄ
ＲＡＷ）ディスクとして提供するとき、傘状に変形する
ノリ現象がみられ実用できない致命的欠陥を有する。
オディスク、ダイレクト リード アフターライト（Ｄ
ＲＡＷ）ディスクとして提供するとき、傘状に変形する
ノリ現象がみられ実用できない致命的欠陥を有する。
この現象は、形成されたディスクの樹脂基盤のクリープ
によるソリ等が原因と考えられる。このようなソリの発
生しない基盤を提供する事は当該技術分野において重要
な技術課題であり、ディスクの品質を向上させるために
も大いに要望されるところである。
によるソリ等が原因と考えられる。このようなソリの発
生しない基盤を提供する事は当該技術分野において重要
な技術課題であり、ディスクの品質を向上させるために
も大いに要望されるところである。
本発明者らは上記課題を解決する手段として、耐熱変形
性が顕著に改善された特定のアクリル樹脂を発明し、特
許出願した。（特願昭５８−１４９１７８ ）更に、本
発明者らはディスク盤形成時に、樹脂の熱分解に起因す
る表面不良が発生のない、耐熱分解性がよく、かつソリ
の発生しない基盤用樹脂をみいだすべく鋭意研究を重ね
た結果、ある特定の組成のアクリル系樹脂がディスク基
盤に好適な性質をもたらすことをみいだし本発明をなす
に至った。
性が顕著に改善された特定のアクリル樹脂を発明し、特
許出願した。（特願昭５８−１４９１７８ ）更に、本
発明者らはディスク盤形成時に、樹脂の熱分解に起因す
る表面不良が発生のない、耐熱分解性がよく、かつソリ
の発生しない基盤用樹脂をみいだすべく鋭意研究を重ね
た結果、ある特定の組成のアクリル系樹脂がディスク基
盤に好適な性質をもたらすことをみいだし本発明をなす
に至った。
すなわち本発明は、メチルメタクリレート単位６０−９
７．５重量％、メチルフェニルマレイミド単位２．５−
４０重ｆｉ ％からなる共重合体を基盤としてなるディ
スク盤であって、ディスク盤中の残存モノマーが０．８
重量−以下であることを特徴とするディスク盤を提供す
るものである。
７．５重量％、メチルフェニルマレイミド単位２．５−
４０重ｆｉ ％からなる共重合体を基盤としてなるディ
スク盤であって、ディスク盤中の残存モノマーが０．８
重量−以下であることを特徴とするディスク盤を提供す
るものである。
本発明のディスク盤を構成するメチルメタクリレートと
０−メチルフェニルマレイミドからなる共重合体は特公
昭４３−９７３５号公報に開示されている。この特許方
法によって得られる共重合体は、２．０−５．０重量−
の未重合単量体を含んでおり、高温射出成形時には表面
外観不良（シルバー）、着色不良等を発生する。この１
こめ、用途が一般用に限定され、高温射出成形を行う光
ディスク盤用途にもちいることは出来なかった。
０−メチルフェニルマレイミドからなる共重合体は特公
昭４３−９７３５号公報に開示されている。この特許方
法によって得られる共重合体は、２．０−５．０重量−
の未重合単量体を含んでおり、高温射出成形時には表面
外観不良（シルバー）、着色不良等を発生する。この１
こめ、用途が一般用に限定され、高温射出成形を行う光
ディスク盤用途にもちいることは出来なかった。
本発明のディスク盤にもちいる共重合体は耐熱変形性、
耐熱分解性、高温成形性に優れ、固有複屈折も小さく更
に透明性もよくディスク盤用基材と１て、極めてすぐれ
た材料である。
耐熱分解性、高温成形性に優れ、固有複屈折も小さく更
に透明性もよくディスク盤用基材と１て、極めてすぐれ
た材料である。
本発明のディスク盤基材としてもちいることのできる共
重合体は、メチルメタクリレート単位６？ −９７，５
重量％、好ましくはＴＯ−９０重量％含有することが必
要である。メチルメタクリレート単位が６０重ｉｉｔ％
未満では、透明性の低下、機械強度の低下、が著しく実
用上問題である。
重合体は、メチルメタクリレート単位６？ −９７，５
重量％、好ましくはＴＯ−９０重量％含有することが必
要である。メチルメタクリレート単位が６０重ｉｉｔ％
未満では、透明性の低下、機械強度の低下、が著しく実
用上問題である。
共重合成分であるＯ−メチ省フェニルマレイミド単位２
．５−４０重量％、好ましくは１０−３０重量％含有す
ることが必要である。０−メチルフェニルマレイミド単
位２．５重量−未満であるばあいには、耐熱変形性の向
上とい、う本発明の効果の一つを発揮できないし、４０
重量％を越えて用いたばあいには残存モノマーの低減が
非常に困難となりその、結果高温成形ができない、着色
が著しくなる等の問題を生じ実用に供し得ない。
．５−４０重量％、好ましくは１０−３０重量％含有す
ることが必要である。０−メチルフェニルマレイミド単
位２．５重量−未満であるばあいには、耐熱変形性の向
上とい、う本発明の効果の一つを発揮できないし、４０
重量％を越えて用いたばあいには残存モノマーの低減が
非常に困難となりその、結果高温成形ができない、着色
が著しくなる等の問題を生じ実用に供し得ない。
さらに本発明においては、ディスク盤中に残存するモノ
マーが０．８重量−以下であることが必要であって、好
ましくは、０．４重量％以下である。
マーが０．８重量−以下であることが必要であって、好
ましくは、０．４重量％以下である。
この量が０．８重量％を越えるとディスク盤のクリープ
等によるソリが大きくなり実用上使用できない。上記の
残存モノマーが０．８重量％以下のディスク盤の作成に
用いることのできる共重合体はメタクリル酸メチルとＯ
−メチルフェニルマレイミドの共重合体でらってディス
ク盤作成前のペレット中の残存モノマーが０．６垂蓋チ
以下であることが必要であり、０．６重量％を越えると
得られるディスク盤の表面外観が損なわれ（シルバー発
生）好ましくない。また得られたディスク盤中の残存モ
ノマーも０．８軍ｉｔチを越え好ましくない。特に残存
Ｏ−メチルフェニルマレイミド６、ホリマー着色要因に
なり好ましくない。
等によるソリが大きくなり実用上使用できない。上記の
残存モノマーが０．８重量％以下のディスク盤の作成に
用いることのできる共重合体はメタクリル酸メチルとＯ
−メチルフェニルマレイミドの共重合体でらってディス
ク盤作成前のペレット中の残存モノマーが０．６垂蓋チ
以下であることが必要であり、０．６重量％を越えると
得られるディスク盤の表面外観が損なわれ（シルバー発
生）好ましくない。また得られたディスク盤中の残存モ
ノマーも０．８軍ｉｔチを越え好ましくない。特に残存
Ｏ−メチルフェニルマレイミド６、ホリマー着色要因に
なり好ましくない。
〇−メチルフェニルマレイミドの代わりにブチルフェニ
ルマレイミド、クロロフェニルマレイミド、ニトロフェ
ニルマレイミド等を用いて共重合した場合、共重合性が
悪く残留単量体が多くなり、赤黄色に帯色するなどの問
題を生じる。また高温成形が出来ないという致命的な欠
陥を有する。
ルマレイミド、クロロフェニルマレイミド、ニトロフェ
ニルマレイミド等を用いて共重合した場合、共重合性が
悪く残留単量体が多くなり、赤黄色に帯色するなどの問
題を生じる。また高温成形が出来ないという致命的な欠
陥を有する。
本発明に用いる共重合体はディスク盤の性質を低下させ
ない範囲において第三成分としてアクリル酸エステル、
スチレン等の共重合単位を含有することができる。
ない範囲において第三成分としてアクリル酸エステル、
スチレン等の共重合単位を含有することができる。
本発明に用いる共重合体を製造するための重合開始剤と
しては、通常のラジカル重合に使用されている重合開始
剤が用いられる。例えばアゾビスイソブチロニトリル、
２．２アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）の
ようなアゾ系開始剤、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−
ブチルパーオキシ２−エチルヘキサノエート等の過酸化
物等を用いる事ができる。また共重合においては連鎖移
動剤を用いる事が好ましく、その例としては、ブチルメ
ルカプタン、オクチルメルカプタン等のアルキルメルカ
プタンがある。
しては、通常のラジカル重合に使用されている重合開始
剤が用いられる。例えばアゾビスイソブチロニトリル、
２．２アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）の
ようなアゾ系開始剤、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−
ブチルパーオキシ２−エチルヘキサノエート等の過酸化
物等を用いる事ができる。また共重合においては連鎖移
動剤を用いる事が好ましく、その例としては、ブチルメ
ルカプタン、オクチルメルカプタン等のアルキルメルカ
プタンがある。
本発明に用いる共重合体の好ましい重合方法としては懸
濁重合、乳化重合、溶液重合および塊状重合が用いられ
る。特に好ましくは懸濁重合法があり、５０−９５℃の
範囲の一定温度で、上記の開始剤、連鎖移動剤と通常の
懸濁剤、助剤を用いて重合することによシ目的の共重合
体をうろことが出来る。
濁重合、乳化重合、溶液重合および塊状重合が用いられ
る。特に好ましくは懸濁重合法があり、５０−９５℃の
範囲の一定温度で、上記の開始剤、連鎖移動剤と通常の
懸濁剤、助剤を用いて重合することによシ目的の共重合
体をうろことが出来る。
実施例１
メタクリル酸メチル９０重量部、０−メチルフェニルマ
レイ之ド１ Ｏ１Ｌｉｋ部、ｔ −フｆルバーオキシー
２−エチルヘキサノエート０．２０ ｌｉ量部、オクチ
ルメルカプタン０．２６重量部からなる単量体溶液を、
ジャケット付き重合機中で水２５０重量部、ポリメタク
リル酸カリウム１重量部からなる懸濁相に懸濁させ、ジ
ャケットに温水を通し、重合温度８０℃で重合を開始し
た。重合開始後１８０分で重合温度を９５℃に昇温し、
さらにＳＯＯ分反応を続は反応を完結させた。得られた
重合体を冷却、洗浄、乾燥し０．３．径のビーズを得た
。このビーズを３０寵φベント伺き押出機で押出温度３
０５℃、ベントの真空度３０ｗＨｆの条件下にベレット
化した。得られたペレットを射出成形機（毛根製作所製
Ｍ−２００／８００ ＤＭ ）を用いて射出成形を行い
片面に情報標識の入った３００ ｗφ、厚み１．２Ｕの
基盤を得た。射出成形温度は２９０℃、射出圧力、射出
スピードは高圧、高速で行った。この基７− 盤蒸着装置に固定しｌ□”’ ｗＨｙの真空下にアルミ
二二ム蒸着を行った。
レイ之ド１ Ｏ１Ｌｉｋ部、ｔ −フｆルバーオキシー
２−エチルヘキサノエート０．２０ ｌｉ量部、オクチ
ルメルカプタン０．２６重量部からなる単量体溶液を、
ジャケット付き重合機中で水２５０重量部、ポリメタク
リル酸カリウム１重量部からなる懸濁相に懸濁させ、ジ
ャケットに温水を通し、重合温度８０℃で重合を開始し
た。重合開始後１８０分で重合温度を９５℃に昇温し、
さらにＳＯＯ分反応を続は反応を完結させた。得られた
重合体を冷却、洗浄、乾燥し０．３．径のビーズを得た
。このビーズを３０寵φベント伺き押出機で押出温度３
０５℃、ベントの真空度３０ｗＨｆの条件下にベレット
化した。得られたペレットを射出成形機（毛根製作所製
Ｍ−２００／８００ ＤＭ ）を用いて射出成形を行い
片面に情報標識の入った３００ ｗφ、厚み１．２Ｕの
基盤を得た。射出成形温度は２９０℃、射出圧力、射出
スピードは高圧、高速で行った。この基７− 盤蒸着装置に固定しｌ□”’ ｗＨｙの真空下にアルミ
二二ム蒸着を行った。
蒸着終了後、常法により保護膜を被覆し、二枚の基盤を
接着剤により貼シ食わせた。
接着剤により貼シ食わせた。
（ソリ試験）
温度５０℃、相対湿度８０ｑ６の状態で、ディスク盤の
ソリ試験を行った。ノリの測定はディスク盤の中心がデ
ィスク盤の外周上にある少なくとも二点を通る平面から
隔たる距離を時間ごとに測定し、最大のソリ量をノリと
した。
ソリ試験を行った。ノリの測定はディスク盤の中心がデ
ィスク盤の外周上にある少なくとも二点を通る平面から
隔たる距離を時間ごとに測定し、最大のソリ量をノリと
した。
実施例２−４、比較例１−５
光に示す各種モノマー組成の共重合体を実施例１と同様
にして製造した。このようにして本発明に係わる共重合
体（実施例２−４）及び本発明とは異なる共重合体（比
較例！−５）のディスク盤を実施例１と同様にして得た
。ディスク盤の特性を光に示す。
にして製造した。このようにして本発明に係わる共重合
体（実施例２−４）及び本発明とは異なる共重合体（比
較例！−５）のディスク盤を実施例１と同様にして得た
。ディスク盤の特性を光に示す。
比較例６
実施例１において９５℃の重合を６０分行い反応を終え
た。得られたビーズをＳｏｗφベント付８− き押出機でベレット化した。通常の押出条件すなわちベ
ントの真空度は１５０ ｍｘ Ｈｆ−、押出温度は２４
０℃であった。荀られたベレットの残存モノマーは１．
１重量％であった。実施例１と同様に射出成形によりデ
ィスク盤を作成しようとしたがディスク盤の表面にシル
バーが発生し良品は得られなかった。ディスク盤の残存
上ツマ−は１．６５重量％であった。結果を表に示す。
た。得られたビーズをＳｏｗφベント付８− き押出機でベレット化した。通常の押出条件すなわちベ
ントの真空度は１５０ ｍｘ Ｈｆ−、押出温度は２４
０℃であった。荀られたベレットの残存モノマーは１．
１重量％であった。実施例１と同様に射出成形によりデ
ィスク盤を作成しようとしたがディスク盤の表面にシル
バーが発生し良品は得られなかった。ディスク盤の残存
上ツマ−は１．６５重量％であった。結果を表に示す。
以下余白
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）メチルメタクリレート単位６０−９７．５重１ｔｑ
６．０−メチルフェニルマレイミド単ｔ ２．５−４０
重量％からなる共重合体を基盤としてなるディスク盤 ２）ディスク盤中の残存モノマーが０．８重量−以下で
あることをＩ￥ｆ徴とする特許請求の範囲第１）。 項記載のディスク盤
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59071812A JPS60217216A (ja) | 1984-04-12 | 1984-04-12 | 低ソリ性アクリル系樹脂を基盤とするデイスク盤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59071812A JPS60217216A (ja) | 1984-04-12 | 1984-04-12 | 低ソリ性アクリル系樹脂を基盤とするデイスク盤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60217216A true JPS60217216A (ja) | 1985-10-30 |
Family
ID=13471348
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59071812A Pending JPS60217216A (ja) | 1984-04-12 | 1984-04-12 | 低ソリ性アクリル系樹脂を基盤とするデイスク盤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60217216A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61141715A (ja) * | 1984-12-13 | 1986-06-28 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 耐熱性共重合体樹脂、その製造法およびそれからなる光学用素子 |
| JPS61171708A (ja) * | 1984-12-14 | 1986-08-02 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 耐熱性樹脂、その製造法およびそれからなる光学用素子 |
| JPS62267350A (ja) * | 1986-05-14 | 1987-11-20 | Sumitomo Naugatuck Co Ltd | 外観および耐熱性に優れる成形用樹脂組成物 |
-
1984
- 1984-04-12 JP JP59071812A patent/JPS60217216A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61141715A (ja) * | 1984-12-13 | 1986-06-28 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 耐熱性共重合体樹脂、その製造法およびそれからなる光学用素子 |
| JPH0582406B2 (ja) * | 1984-12-13 | 1993-11-18 | Mitsubishi Rayon Co | |
| JPS61171708A (ja) * | 1984-12-14 | 1986-08-02 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 耐熱性樹脂、その製造法およびそれからなる光学用素子 |
| JPH0582405B2 (ja) * | 1984-12-14 | 1993-11-18 | Mitsubishi Rayon Co | |
| JPS62267350A (ja) * | 1986-05-14 | 1987-11-20 | Sumitomo Naugatuck Co Ltd | 外観および耐熱性に優れる成形用樹脂組成物 |
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