JPS58127754A - 低吸湿性アクリル系樹脂を基板とするデイスク盤 - Google Patents

低吸湿性アクリル系樹脂を基板とするデイスク盤

Info

Publication number
JPS58127754A
JPS58127754A JP57009709A JP970982A JPS58127754A JP S58127754 A JPS58127754 A JP S58127754A JP 57009709 A JP57009709 A JP 57009709A JP 970982 A JP970982 A JP 970982A JP S58127754 A JPS58127754 A JP S58127754A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
weight
disc board
amount
base plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57009709A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsuaki Maeda
前田 勝昭
Shinichi Toyoshima
真一 豊島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Kasei Corp
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Asahi Kasei Kogyo KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd, Asahi Kasei Kogyo KK filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP57009709A priority Critical patent/JPS58127754A/ja
Publication of JPS58127754A publication Critical patent/JPS58127754A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、低吸湿性のアクリル系樹脂製ディスク盤に関
し、さらに詳しくは、耐吸湿性が顕著に改善され、実質
的に吸湿ソリのないビデオディスクやオーディオディス
ク用基板として優れた実用性を有するアクリル系樹脂を
用いたディスク盤に 1− 関するものである。
最近、情報を記録し再生するビデオディスクやオーディ
オディスクなどのディスク類が、情報化社会その他の要
望に沿って開発され実用されている。これらのディスク
類は半導体レザー等を用いて情報標識を記録し再生する
ために、透明な樹脂を用いて射出成形又は圧縮成形など
により基板を成形し、その記録面にアルミニウムを蒸着
させ、さらにその上に保護被膜を被覆して形成される。
このような基板用樹脂は透明なものが用いられ、例えば
、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリメチルメタクリ
レート、ポリカーボネートなどの樹脂類が使用できるが
、成形性及び複屈折率等の点から、ポリメチルメタクリ
レートが最適樹脂とされている。一般に射出成形あるい
は圧縮成形などによって成形される基板は、成形の際の
配向によって複屈折率が高くなる。複屈折率が高くなる
と、再生する音質や画像に悪い影響を与えるので、複屈
折率ができるだけ小さい基板を提供することができ、か
つ成形加工性のよい樹脂が有利に使用される。ポリメチ
ルメタクリレートは固有複屈折率が他の樹脂に比べて小
さく、成形加工性もよいので、成形配向が抑制される点
で極めて望ましい素材樹脂である。
ポリメチルメタクリレートは、今のところ最も好適な樹
脂であるが、情報標識を記録した基板を特にオーディオ
ディスクとして提供するとき、傘状に変形するソリ現象
がみられ、実用できない致命的欠陥を有する。この現象
は、形成されたディスクの樹脂基板の片面にのみ情報標
識が記録されるので、表面と裏面の表面積の差が著しく
、かつ゛  基板のポリメチルメタクリレートの吸湿性
が大きいため、その吸湿により生ずるものである。この
ような吸湿ソリ現象は、ビデオディスクなどのように片
面に記録された樹脂基板を2枚貼り合わせて形成される
ディスクの場合には、表裏各面績の差がそれほど大きく
ないし、まだソリ現象を抑制するだめの種々の技術的改
良手段を施すことも比較的容易であるが、オーディオデ
ィスクなどのように1枚の樹脂基板のみで形成されるデ
ィスク類は、そのソリ現象を克服することは容易でなく
、ソリ現象を伴なわない基板を提供することは、当該技
術分野の重要な技術的課題であり、また2枚を貼り合わ
せて形成される一層優れた品質のディスク類を容易に提
供するためにも大いに要望されるところである。
本発明者らは、上記課題を解決する方法として、特に耐
吸湿性が顕著に改善され、成形性及び耐熱変形性の優れ
た基板用樹脂を見い出すべく鋭意研究を重ね、多くの実
験を行なった結果、ディスク基板に好適な樹脂を見い出
し本発明に至った。
すなわち、本発明は、メチルメタクリレート25〜90
重量%、シクロへキシルメタクリレート10〜70重量
%及びアルキルアクリレート0〜5重量%より成る共重
合体を基板として成るディスク盤を提供するものである
本発明のディスク盤に用いる樹脂は、透明性及び耐吸湿
性に優れ、機械的性質や耐熱変形性もよく、ディスク盤
用基板として極めて好ましい材料である。本発明に用い
る樹脂には、その構成成分としてメチルメタクリレート
を25〜90重量%含有させることが必要である。25
重量%未満では機械的性質及び熱変形温度が低下するの
で好ましくなく、また90重量%を超えると耐吸湿性の
改良効果が期待できない。また、第2の成分であるシク
ロへキシルメタクリレートは樹脂中に10〜70重量%
含まれることが重要である。10重量%未満では、耐吸
湿性改善効果が充分でなく、70重量%を超えると機械
的性質及び耐熱変形性が低下し好ましく女い。さらに、
他の構成成分としてアルキルアクリレートを樹脂中に5
重量%以下導入することができる。5重量%を超えて導
入すると、耐熱変形性が低下するとともに、耐吸湿性改
善効果も小さくなシ好ましくない。このようなアルキル
アクリレートとしては、例えばメチルアクリレート、エ
チルアクリレート及びブチルアクリレートなどを挙げる
ことができる。
本発明のディスク盤に用いる上記成分から構成される樹
脂は、それらのモノマー成分組成を共重合させることに
より容易に得ることができる。重合は懸濁重合、溶液重
合あるいは塊状重合等いずれの方法も採用できるが、水
中懸濁重合が工業的に有利である。
本発明に係る樹脂を製造するだめの重合開始剤は、通常
ラジカル重合開始剤が用いられる。そのような重合開始
剤としては、アゾビスイソブチロニトリル、  2.2
’−アゾビス−(2,4−ジメチルバレロニトリル)な
どのアゾビス系開始剤、ラウロイルパーオキサイド、ベ
ンゾイルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド
、デカノイルパーオキサイド、ターシャリ−ブチルハイ
ドロパーオキサイド、クメンハイドロ−パーオキサイド
、ジターシャリ−ブチルパーオキサイド及びターシャリ
−ブチルパーオキシヘキサノエートなどのパーオキサイ
ド系開始剤を挙げることができる。また、共重合におい
ては、分子量調整剤を剛いることが好ましく、そのよう
な調整剤としては、例えばブチルメルカプタン、ヘキシ
ルメルカプタン、オクチルメルカプタン、デシルメルカ
プタンなどのようなアルキルメルカプタンが挙げられる
。さらに懸濁重合においては、ポリ酢酸ビニルの部分ケ
ン化物、ポリアクリルアミド、アクリルアミドとアクリ
ル酸エステルとの共重合体などの有機分散剤が好都合に
用いられ、懸濁助剤として、例えば塩化ナトリウム、リ
ン酸水素ニナトリウム、リン酸水素二カリウムなどのア
ルカリ金属塩を用いることができる。
次に、本発明のディスク盤に用いる樹脂を懸濁重合によ
り製造する方法例について説明する。
メチルメタクリレート、シクロへキシルメタクリレート
及びアルキルアクリレートを所望重量割合で混合してモ
ノマー混合物を調製し、これにラジカル重合開始剤及び
分子量調歪剤の各所定量を加え均一に溶解する○ 次に有機懸濁剤及び助剤を用いて調製した重合槽中の水
に上記混合モノマー液を注加懸濁させ、例えば50〜9
0℃の加温条件下で共重合させ、所望成分の樹脂を製造
する。
上記のようにして製造される本発明のディスク盤形成用
樹脂は、樹脂中に残存するモノマー類が0.6重量%以
下であることが好ましい。残存モノマーが0.6重量%
を超える場合には、ディスク盤の表面に銀条を発生しや
すく、製品として使用することができない。樹脂中の残
存モノマーは、樹脂の成形に先だって、例えば押出機を
用いてペレット化する際あるいは射出成形機の混線工程
において、脱モノマー化手段により低減させてもよいが
、重合において、その終了時に生成ポリマー中に含まれ
ているモノマー量をできるだけ少なくすることが望まし
い。重合終了時の共重合体中に含有される残存モノマー
量を可及的に低減させる方法としては、使用する重合開
始剤により、その開始剤に好適な重合温度を選択するこ
とがよく、特に開始剤の半減期がその重合温度で約10
時間であるような重合温度を採用するとき、本発明のデ
ィスク盤用に好適な低残存モノマー含有樹脂が得られる
例えば、65℃で重合する場合、オクタノイルパーオキ
サイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオ
キサイド、アゾビスイソブチロニトリルなどが使用可能
であJ、150℃で重合する場合、ターシャリ−ブチル
ハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイ
ド、ジターシャリ−ブチルパーオキサイドなどを用いる
ことが可能である。
まだ、本発明で用いる特定の組成範囲の樹脂は、押出成
形や射出成形の際に、熱分解によるモノマーの発生が極
めて小さいことが重要で、熱分解が高度に抑制されたも
のであることが望ましい。そのような望ましい樹脂は、
用いられる重合開始剤とその重合温度の選択のほか、重
合開始剤の使用量が適切であることが要求される。その
使用量は2.3の簡単な実験によシ容易に確認すること
ができる。例えば80℃で重合する場合、ターシャリ−
ブチルパーオキシヘキサノエートを重合系懸濁液に基い
て0.10〜0.20重量%を用いることが重要である
。0.20%を超えて多量に用いた場合には、ポリマー
の熱分解性が悪い影響を与える〇このことはポリマーの
末端構造が開始剤の量の増加とともに不安定になること
と関連しているものと思われる。まだ0.10%に達し
ない量で用いると、未重合のモノマーが増えて好ましく
ない。使用する開始剤の量は開始剤の種類と重合温度に
よりそれぞれ異なる。次に、実施例によシ本発明をさら
に詳細に説明する。
実施例1 メチルメタクリレート(MMA)、シクロヘキシルメタ
クリレ−)(OHMA)及びアルキルアクリレ−)(R
A)として、メチルアクリレート(MA )、エチルア
クリレート(KA)並びにブチルアクリレ−)(BA)
を用い、後掲第1表に示す各種モノマー組成の樹脂をセ
ルキャスト重合によシ製造した。
セルキャスト重合は、次のように行なった。大きさが2
50 X 300 inn、厚さが6tranの2枚の
硝子板の外周辺部を、柔軟性のある塩化ビニル製ガスケ
ットで張り回らし、2枚の硝子板の距離が1.2+mn
になるようにし、セルを組み立てて準備する。第1表に
記載のモノマー組成の混合物にラウロイルパーオキサイ
ド0.17 f及びオクチルメル力プクン0.17Fを
加え、全量が86fになるようにした配合液をかきまぜ
、脱気後セルに注入した。これを温度65℃で18時間
重合させたのち、1]0℃で3時間重合させた。
このようにして、本発明に係る樹脂(実験A1〜14)
及び本発明外の樹脂(実験扁15及び16)を製造し、
得られた各版の吸湿試験を行なった。試験は150mm
X150 +噺×1.2能のキャスト板を温度50℃の
乾燥機中で1週間乾燥後、温度23℃の水に浸け、その
板の重量を経時的に測定してその重量増加から含水量を
求めた。表には各板の重量に対する重量増加を含水率(
重量%)としてまとめて示した。
上表よシ、本発明に係る樹脂は、一般的なポリメチルメ
タクリレートなど(実験Al 5.16 )に比べて捧
〜見の含水率であシ、耐吸水性は顕著に改善されている
ことがわかる。
実施例2 実施例1の実験A8の組成のモノマー配合液20に9.
ポリビニルアルコール(ゴーセノールGH20) 4.
 f?、リン酸水素二ナトリウム407、ラウロイルパ
ーオキサイド602、オクチルメルカプタン60グ、純
水35に7を60tオートクレーブに仕込み重合した。
重合温度は65℃で8時間重合し、さらに110℃で3
時間重合した。このようにして得だビーズを40wrl
押出機でペレタイズし成形材料とした。
次に、得られた成形材料樹脂を射出成形機(東芝機械■
製工5315 )を用いて射出成形を行ない、片面に情
報標識の入った120箪φ、厚み1.2胴の基板を得た
。射出成形温度は265℃、射出成形時間は4秒であっ
た。
この基板を蒸着装置に固定し、10’mmHgの真空下
にアルミニウム蒸着を行なった。次に常法により保護層
をアルミニウム蒸着膜の上に被覆させた。
上述の如くにして得だディスクを23℃、相対湿度60
%の状態で48時間保存し、吸湿ソリを測定した。測定
はディスクの中心がディスクの外周上にある少なくとも
二点を通る平面から隔たる距離を測定し、吸湿ソリとし
だ。吸湿ソリは実質的にOであった。まだ、ASTMD
648 18.6KgAJで測定した耐熱変形温度は9
3℃、残存モノマーの量は0.23であった。
実施例3〜5及び比較例1 実施例2において実験番号8の組成の代りに、実験番号
2、実験番号5、実験番号13、実験番号15の組成の
モノマー配合液を用い実施例2と同様にディスクを作り
、吸湿ソリ及び耐熱変形温度(HDT )を測定した。
なお、実施例3〜5の本発明のディスク盤の樹脂中に残
存するモノマーを測定し、結果を下掲第2表に捷とめて
示した。
比較例2 7クロヘキシルメタクリレ一ト90%、メチルメタクリ
レート5%、メチルアクリレート5%の組成のモノマ相
組成を用いる以外は実施例2と同様にしてディスクを作
った。吸湿ソリは実質的にOであったが、耐熱変形温度
は84℃と低かった。
また、ディスクは機械的強度が低く、成形時にクラック
がH忍められだ。
特許出願人 旭化成工業株式会社 代理人 阿 形 明 15− 手続補正書 1事イqの表示 昭和57年特許願第9709号 2発明の名称 低吸湿性アクリル系樹脂?基板とするディスク盤3補正
をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪府大阪市北区堂島浜1丁目2番6号氏 名
 (003)旭化成工業株式会社代表者 宮 崎  輝 4代理 人 〒104東京都中央区銀座6丁目4番5号土屋ビル5階
=16− 8、補正の内容 (1)特許請求の範囲ケ別紙のとおり訂正します。
(2)明細書第4ページ第12〜16行の[すなわち、
本発明は、・・・提供するものである。]を以下のとお
り訂正し1丁。
「すなわち、本発明は、メチルメタクリレート25〜4
9重骨幅、シクロヘキシルメタクリレート46〜70重
骨幅及びアルキルアクリレ−1−0〜5重量重量箱囲の
モノマ一単位を合計100重量%になる割合で含み、か
つ残存モノマー量が06重量骨幅下の共重合体を基板と
して成るディスク盤全提供するものである。」 (3)同第4ページ末行〜第5ページ第10行の「本発
明に用いる・・・好ましくない。J kJR下のとおシ
訂正します。
[本発明における共重合体は、メチルメタクリレ−トド
、シクロヘキシルメタクリレ−)’を必須のモノマー成
分とするものであるが、この中のシクロヘキシルメタク
リレートは、ポリメチルメタクリレートの欠点である耐
吸湿性?改善するだめの成分である。したがって、この
量があ寸り少ないと所望の耐吸湿性が得られないことに
なるし、またこの量をあ捷り多くするとポリメチルメタ
クリレートの優れた特性である機械的強度、透明性、耐
熱変形性がそこなわれることになるので、46〜70重
量係の範骨幅共重合体中に含ませるのが必要である。他
方、メチルメタクリレートについては、これがあマシ少
ないとポリメチルメタクリレートの本来の性質が失われ
ることになるし、またこの量をあまシ多くすると、相対
的にシクロヘキシルメタクリレートの量が減少するため
、前記のように耐吸湿性の向上が達成されないので、通
常25〜49重量%の範囲で選ばれる。」(4)  同
第8ページ第1行の「ことが好ましい。」を「ことが必
要である。」に訂正します。
(5)同第11ページ第5〜6行の「(実験扁1〜14
)」全1(実験)に1〜7)」に、第6〜7行の「(実
験扁15及び16)」?「(実験扁8及び9)」にそれ
ぞれ訂正します。
(6)同第12ページの第1表全以下のとおシ訂正し1
丁。
(7)同第13ページ第2行の「(実験A15.16)
」全「(実験扁8.9)」に訂正します。
(8)同第13ページ第6行の「実験ira 8 」を
「実験扁4」に訂正します。
(9)同第14ページ第12行の「実施例3〜5及び比
較例1」全1実施例3及び比較例1」に訂正し′!f、
丁。
00)同第14ページ第13〜15行の「実験番号8の
代りに・・・実験番号15」を、「実験扁4の組成の代
りに、実験扁2及び実験扁8」に訂正し1丁。
αの 同第15ページの第2表全以下のとおシ訂正し1
丁。
特許請求の範囲 1 メチルメタクリL/ −ト25〜49重量係、骨幅
ロヘキシルメタクリンート(晃〜70重骨幅及びアルキ
ルアクリレートO〜5重骨幅の範囲のモを基板として成
るディスク盤。
365−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ■ メチルメタクリレート25〜90重量%、シクロへ
    キシルメタクリレート10〜70重量%及びアルキルア
    クリレート0〜5重量%よ9成る共重合体を基板として
    成るディスク盤。 2 基板共重合体中に含有される残存モノマーが0.6
    重量%以下である特許請求の範囲第1項記載のディスク
    盤。
JP57009709A 1982-01-25 1982-01-25 低吸湿性アクリル系樹脂を基板とするデイスク盤 Pending JPS58127754A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57009709A JPS58127754A (ja) 1982-01-25 1982-01-25 低吸湿性アクリル系樹脂を基板とするデイスク盤

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57009709A JPS58127754A (ja) 1982-01-25 1982-01-25 低吸湿性アクリル系樹脂を基板とするデイスク盤

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS58127754A true JPS58127754A (ja) 1983-07-29

Family

ID=11727771

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57009709A Pending JPS58127754A (ja) 1982-01-25 1982-01-25 低吸湿性アクリル系樹脂を基板とするデイスク盤

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS58127754A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58162614A (ja) * 1982-03-20 1983-09-27 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 光学用樹脂組成物及び光学用素子
JPS5940335A (ja) * 1982-08-30 1984-03-06 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 情報記録媒体用基盤
JPS59135211A (ja) * 1982-12-30 1984-08-03 レ−ム・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング 低吸水性を有するアクリル樹脂の製造法
WO1986002653A1 (en) * 1984-11-02 1986-05-09 Sumitomo Chemical Company, Limited Optical resin materials
WO1989006248A1 (en) * 1988-01-07 1989-07-13 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Lowly hygroscopic methacrylate polymer
US5043405A (en) * 1988-01-07 1991-08-27 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Methacrylic copolymer having low moisture absorption properties

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57186241A (en) * 1981-05-11 1982-11-16 Mitsui Toatsu Chem Inc Optical information recording disc
JPS585318A (ja) * 1981-07-02 1983-01-12 Mitsubishi Rayon Co Ltd 低吸湿性メタクリル系樹脂

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57186241A (en) * 1981-05-11 1982-11-16 Mitsui Toatsu Chem Inc Optical information recording disc
JPS585318A (ja) * 1981-07-02 1983-01-12 Mitsubishi Rayon Co Ltd 低吸湿性メタクリル系樹脂

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58162614A (ja) * 1982-03-20 1983-09-27 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 光学用樹脂組成物及び光学用素子
JPS5940335A (ja) * 1982-08-30 1984-03-06 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 情報記録媒体用基盤
JPS59135211A (ja) * 1982-12-30 1984-08-03 レ−ム・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング 低吸水性を有するアクリル樹脂の製造法
JPH0578570B2 (ja) * 1982-12-30 1993-10-29 Roehm Gmbh
WO1986002653A1 (en) * 1984-11-02 1986-05-09 Sumitomo Chemical Company, Limited Optical resin materials
WO1989006248A1 (en) * 1988-01-07 1989-07-13 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Lowly hygroscopic methacrylate polymer
US5043405A (en) * 1988-01-07 1991-08-27 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Methacrylic copolymer having low moisture absorption properties

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0141610B1 (en) Optical elements comprising polymers of (meth)acrylate esters
JPS58127754A (ja) 低吸湿性アクリル系樹脂を基板とするデイスク盤
JPS6412019B2 (ja)
EP0072017B1 (en) Methacrylate resin composition for optical information recording medium
JPS58154751A (ja) 低吸湿性アクリル系樹脂を用いたデイスク盤
JPS6173705A (ja) 重合体からなる光学機器
JPS6013335A (ja) メタクリル系樹脂からなる情報記録体
JPS60115605A (ja) 低吸湿性メタクリル樹脂
JPH056161B2 (ja)
JPH02233710A (ja) 低吸湿性メタクリル系樹脂
JPS60217216A (ja) 低ソリ性アクリル系樹脂を基盤とするデイスク盤
JPS6260734B2 (ja)
JPS62199605A (ja) 光学用樹脂材料
WO1989006248A1 (en) Lowly hygroscopic methacrylate polymer
JPS6183213A (ja) デイスク基板とその製造方法
JPS63241011A (ja) 光学用樹脂材料
JP3495091B2 (ja) 光学式情報記録媒体
JPS60258219A (ja) デイスク用基板およびその製造方法
JP2000178317A (ja) 重合体の製造方法
JPH0120641B2 (ja)
JPS63213506A (ja) 光学用材料
JP2844631B2 (ja) 光学用樹脂
JP2678030B2 (ja) 良流動性低吸湿性メタクリル系共重合体
JPH0442410B2 (ja)
JPS61103911A (ja) 低反性アクリル系樹脂を基盤とするデイスク盤