JP2000178317A - 重合体の製造方法 - Google Patents
重合体の製造方法Info
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- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
- C08F220/14—Methyl esters, e.g. methyl (meth)acrylate
Abstract
優れ、かつ低複屈折のメタクリル系成形材料の製造方法
を提供する。 【解決手段】 下記の一般式(1)で示されるα置換ア
クリル酸エステル単量体を、重合温度115℃以上で重
合することを特徴とする重合体の製造方法。 【化1】
Description
重合体の製造方法に関する。
工性、耐候性等にバランスのとれた性質を有しており、
シート材料あるいは成形材料として多方面に使用されて
いる。更に、メタクリル樹脂は透明性、低分散性、低複
屈折等の光学的にも優れた性質を有している。最近では
こうした特性を活かして、ビデオディスク、オーディオ
ディスク、コンピューター用追記型ディスク等のディス
ク材料やカメラ、ビデオカメラ、投写型テレビ、光ピッ
クアップ等のレンズ材料、さらに光ファイバー、光コネ
クターなど種々の光伝送材料として用途が広がってい
る。
高く、耐熱性が低いという問題点を有している。吸湿に
よる寸法変化や成形品のそりが生じたり、吸湿と乾燥の
長期繰り返しサイクルによりクラックが発生することも
あるため、その使用が制限されている用途もある。特
に、ディスク材料やそれらの光学系に用いる光ピックア
ップレンズ、コネクター等には吸湿による寸法変化の影
響が大きいといわれている。また、耐熱性が低いため車
載用途などの使用が制限されることもある。さらに、メ
タクリル樹脂からなるシートは、吸湿によるそりが生じ
ることもある。また更に近年、記録媒体の高密度化によ
り、ディスク材料、レンズ等の光学樹脂材料の更なる低
複屈折化が求められ、ポリメタクリル酸メチルよりもさ
らに低い複屈折の樹脂が求められている。
質を保持しながら、吸湿性の改善、耐熱性の向上、低複
屈折化等に関し数多くの提案がなされている。例えばメ
タクリル樹脂に低吸水性を付与する方法として、メチル
メタクリレートとシクロヘキシルメタクリレートとの共
重合体(特開昭58−5318号公報)、メチルメタク
リレートとシクロヘキシルメタクリレート及びベンジル
メタクリレートとの共重合体(特開昭58−13652
号公報)が提案されている。しかしながら、これらの共
重合体は低吸湿化は達成されるものの耐熱性が低下する
という欠点を有していた。また、耐熱性及び低複屈折を
付与する方法としては、メタクリル酸メチルとo−メチ
ルフェニルマレイミドとの共重合体(特開昭60−21
7216号公報)、メタクリル酸メチルとマレイミド化
合物との共重合体(特開昭61−95011号公報)が
提案されている。しかしながら、この場合にはマレイミ
ド系単量体を導入するため、得られる共重合体は、一般
に着色が大きい等の欠点を有している。
分子運動を抑え耐熱性を向上する方法がある。このよう
な重合体として、テトラヒドロピラン環を主鎖に持つ重
合体が提案されている(USP4,889,948号公報、USP5,24
7,035号公報、Polymer , 1994, 35 , 3317.)。
の重合体はその機械強度が低く通常の射出成形は困難で
あり、さらに懸濁重合または塊状重合により製造した場
合、架橋体が生成してしまう。即ち、単量体濃度の低い
溶液重合でしか製造できず、生産性に劣るという欠点が
あり、事実上工業的生産は不可能である。また、Polyme
r , 1994 , 35 ,3317.では140℃での溶液重合が記載
されているがコンバージョンが5%程度と低いため生産
性に劣る。USP5,247,035号公報では明細書中に50〜1
60℃での重合が好ましいとの記載があるが、65℃で
の溶液重合のみしか実施されていない。これらの公報に
も文献にも、生産性の高い高温重合については開示され
ていない。
施可能であり、透明性、耐熱性、低吸水性及び機械的強
度に優れ、かつ低複屈折のメタクリル系成形材料の製造
方法を提供することにある。
の温度以上で重合することにより、副反応である架橋反
応の抑制が可能となり、透明性、耐熱性、低吸水性及び
機械的強度に優れ、かつ、低複屈折のメタクリル系成形
材料の工業的に実施可能な製造方法を見出した。
(1)で示されるα置換アクリル酸エステル単量体を、
重合温度115℃以上で重合することを特徴とする重合
体の製造方法にある。
を示す。)また本発明の要旨は、一般式(1)で示され
るα置換アクリル酸エステル単量体と他のビニル単量体
を、重合温度115℃以上で重合することを特徴とする
共重合体の製造方法にある。
いて10時間半減期温度が90℃以上である重合開始剤
を使用する重合体または共重合体の製造方法にある。
造方法に用いられる一般式(1)で表されるα置換アク
リル酸エステル単量体としては、ジメチル 2,2'-[オキ
シビス(メチレン)]ビス-2-プロペノエート、ジエチル
2,2'-[オキシビス(メチレン)]ビス-2-プロペノエート、
ジ(n-プロピル) 2,2'-[オキシビス(メチレン)]ビス-2-
プロペノエート、ジ(イソプロピル) 2,2'-[オキシビス
(メチレン)]ビス-2-プロペノエート、ジ(n-ブチル) 2,
2'-[オキシビス(メチレン)]ビス-2-プロペノエート、ジ
(イソブチル) 2,2'-[オキシビス(メチレン)]ビス-2-プ
ロペノエート、ジ(t-ブチル)2,2'-[オキシビス(メチレ
ン)]ビス-2-プロペノエート、ジステアリル 2,2'-[オキ
シビス(メチレン)]ビス-2-プロペノエート、ジラウリル
2,2'-[オキシビス(メチレン)]ビス-2-プロペノエー
ト、ジ(2-エチルヘキシル) 2,2'-[オキシビス(メチレ
ン)]ビス-2-プロペノエート、ジ(メトキシエチル) 2,2'
-[オキシビス(メチレン)]ビス-2-プロペノエート、ジベ
ンジル 2,2'-[オキシビス(メチレン)]ビス-2-プロペノ
エート、ジフェニル 2,2'-[オキシビス(メチレン)]ビス
-2-プロペノエート、ジシクロヘキシル 2,2'-[オキシビ
ス(メチレン)]ビス-2-プロペノエート、ジ(4-t-ブチル
シクロヘキシル) 2,2'-[オキシビス(メチレン)]ビス-2-
プロペノエート、ジ(ジシクロペンタジエニル) 2,2'-
[オキシビス(メチレン)]ビス-2-プロペノエート、ジ(ト
リシクロデカニル) 2,2'-[オキシビス(メチレン)]ビス-
2-プロペノエート、ジアダマンチル 2,2'-[オキシビス
(メチレン)]ビス-2-プロペノエート等が挙げられる。
シビス(メチレン)]ビス-2-プロペノエート、ジシクロヘ
キシル 2,2'-[オキシビス(メチレン)]ビス-2-プロペノ
エート、ジ(4-t-ブチルシクロヘキシル) 2,2'-[オキシ
ビス(メチレン)]ビス-2-プロペノエート、ジ(トリシク
ロデカニル) 2,2'-[オキシビス(メチレン)]ビス-2-プロ
ペノエート、ジアダマンチル 2,2'-[オキシビス(メチレ
ン)]ビス-2-プロペノエートが好ましく、ジメチル 2,2'
-[オキシビス(メチレン)]ビス-2-プロペノエート、ジ(4
-t-ブチルシクロヘキシル) 2,2'-[オキシビス(メチレ
ン)]ビス-2-プロペノエート、ジ(トリシクロデカニル)
2,2'-[オキシビス(メチレン)]ビス-2-プロペノエートが
より好ましい。
られる他のビニル単量体としては、メタクリル酸メチ
ル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n-プロピル、メ
タクリル酸イソプロピル、メタクリル酸n-ブチル、メタ
クリル酸イソブチル、メタクリル酸t-ブチル、メタクリ
ル酸イソアミル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸
フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸シクロ
ヘキシル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸2-エ
チルヘキシル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、
アクリル酸n-プロピル、アクリル酸イソプロピル、アク
リル酸n-ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸t-
ブチル、アクリル酸イソアミル、アクリル酸ラウリル、
アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸
シクロヘキシル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸2-
エチルヘキシル等の(メタ)アクリル酸エステル、ある
いはスチレン、α−メチルスチレン、アクリロニトリルな
どが挙げられる。これらのなかでも、透明性および耐候
性の面からメタクリル酸メチル、メタクリル酸ベンジ
ル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸メチルが
好ましい。
般式(1)で示されるα置換アクリル酸エステル単量体
と他のビニル単量体との組成比は特に限定されないが、
材料としての特性から一般式(1)で示されるα置換ア
クリル酸エステル単量体の重量組成比が10〜70重量
%の範囲であることが好ましく、10〜50重量%の範
囲であることがより好ましい。一般式(1)で示される
α置換アクリル酸エステル単量体の重量組成比が少なす
ぎる場合は耐熱性や吸水性が不足し、多すぎる場合は機
械的強度が低下する傾向がある。
下、これらを併せて「(共)重合体」という)は、前述
のα置換アクリル酸エステル単量体、またはα置換アク
リル酸エステル単量体と他のビニル単量体との単量体混
合物を懸濁重合、塊状重合、溶液重合または乳化重合に
よって製造することができるが、得られた共重合体の成
形品における透明性等の点で、懸濁重合または塊状重合
が好ましい。
15℃以上である。重合温度が115℃未満の場合は、
α置換アクリル酸エステル単量体の生長反応は分子間生
長が主反応となるため、熱成形不可能な架橋体が生成
し、成形材料としての使用が困難になる。重合温度は1
60℃以下であることが好ましい。
一般にラジカル重合において用いられる公知の重合開始
剤を使用することができる。
90℃以上である重合開始剤が好ましい。これらの重合
開始剤としては、ジ-t-ブチルパーオキサイド(10時
間半減期温度125℃)、ジイソプロピルベンゼンハイ
ドロパーオキサイド(10時間半減期温度148℃)、
2,2-ビス(4,4-ジ-t-ブチルパーオキシシクロヘキシ
ル)プロパン(10時間半減期温度92℃)等が挙げら
れる。これらの開始剤を使用した場合、効率よく短時間
で高分子量の(共)重合体の製造が可能となる。
剤を添加することもできる。連鎖移動剤としては特に限
定されないが、n-オクチルメルカプタン、n-ドデシルメ
ルカプタン、チオフェノール、t-ブチルメルカプタンな
どのメルカプタン化合物が好ましい。
形物を製造する際には、公知の溶融成形法、溶液成形法
などが使用できる。また、シート状成形体を製造する場
合にはガラス板間に、前述のα置換アクリル酸エステル
単量体、または単量体混合物を注入し、重合するキャス
ト成形法も使用できる。
-6以下であることが好ましく、70×10-6以下である
ことがより好ましい。複屈折率が高すぎる場合は、高い
読みとり、書き込み精度が要求される光学材料への使用
が困難となる。
0,000〜200,000が好ましい。数平均分子量
が低すぎる場合は(共)重合体の機械強度が低下するた
め射出成形が困難となり、高すぎる場合は溶融時の流動
性が低下する。
剤、架橋剤、熱安定剤、着色剤、紫外線吸収剤、抗酸化
剤、離型剤等を添加して成形物を製造することができ
る。特に衝撃強度を向上させる強化剤、耐候性を向上さ
せる紫外線吸収剤、抗酸化性を向上させる抗酸化剤の添
加が好ましい。
は、透明性、耐熱性及び低吸水性に優れており、導光
体、耐熱シートとして用いることができる。さらに低複
屈折であるためレンズ、ディスク、光伝送材料として十
分な性能を発揮できる。またさらに、その耐候性が優れ
ていることから表面被覆剤としても用いることができ
る。即ち、用途としては、光ピックアップレンズ、レー
ザービームプリンター用fθレンズ、眼鏡レンズ、カメ
ラレンズ、ビデオカメラレンズ、ランプレンズ等のレン
ズ材料、ビデオディスク、オーディオディスク、コンピ
ューター用追記型ディスク等のディスク材料、光ファイ
バー、光コネクター、導光体等の光伝送材料、看板、水
槽、光拡散板等のディスプレイ材料、ポリカーボネート
表面コート材料、ポリカーボネート板積層用のシート材
料等が挙げられる。その中でも光ピックアップレンズ、
レーザービームプリンター用fθレンズ、ランプレン
ズ、ディスク、光ファイバーのコア材、導光体、光拡散
板、ポリカーボネート板積層用のシート材料に特に適し
ている。
る。なお、実施例で得られた(共)重合体、その(共)
重合体をシリンダー温度240℃で押出し得られたペレ
ット、およびそのペレットを90℃で24時間乾燥し、
シリンダー温度245℃、金型温度70℃で射出成形
し、得られた50×100×2mmの平板試験片の評価
は、以下の方法により行った。
(Mw/Mn) PMMAをスタンダードとしてGPC法(溶媒:クロロホル
ム)により求めた。
有率 1H NMRにより定量した(溶媒:クロロホルム-d , 測定
温度:60℃)。
で7日間乾燥させた後、乾燥重量を測定し、ついで60
℃の温水中に60日間浸漬し、吸水重量を測定した。浸
漬後の吸水率を飽和吸水率として、次の式により求め
た。
量)/乾燥重量]×100 4)全光線透過率 前述の厚み2mmの平板試験片を用い、ASTM D1003に従
って測定した。
形し、ASTM D1525に従って測定した。
温度245℃(比較例4は240℃)、金型温度90℃
(比較例4は70℃)で射出成形し、50×100×2
mmの平板試験片を得た。偏光顕微鏡を用い、波長54
6nmの光線でゲートから50mmの場所の光路差を測
定した。測定値を厚みで割って、複屈折率を求めた。
中において4-t-ブチルシクロヘキシルアクリレート84
0g(4mol:シクロヘキシル環に対するcis体/
trans体=38重量%/72重量%)、純度75%
のパラホルムアルデヒド160g(4mol)、1,4-ジ
アザビシクロ[2,2,2]オクタン60g(0.53mo
l)、p-メトキシフェノール616mg、t-ブチルアル
コール120gを、空気バブリングを行いながら80℃
で20時間反応させた。反応終了後、3リットルのメタ
ノール中にこの反応溶液を注ぎ、30分間攪拌した。つ
いで、この混合溶液を0℃で一晩静置し,白色結晶のジ
(4-t-ブチルシクロヘキシル) 2,2'-[オキシビス(メ
チレン)]ビス-2-プロペノエートを520g(収率7
4.2%)得た。
ブに、メタクリル酸メチル 283.5g、ジ(4-t-ブ
チルシクロヘキシル) 2,2'-[オキシビス(メチレン)]
ビス-2-プロペノエート31.5g,重合開始剤として
ジ−t−ブチルパーオキサイド0.1g(日本油脂製パ
ーブチルD)および連鎖移動剤としてn-オクチルメルカ
プタン0.945gからなる単量体混合物相と、水45
0g、分散安定剤としてメタクリル酸とメタクリル酸2-
スルホエチルのナトリウム塩の共重合体 1.22g及
び分散助剤として硫酸ナトリウム1.13gからなる水
相を加え、30分窒素バブリングすることによりオート
クレーブ内の雰囲気を窒素置換した。攪拌翼の回転数を
400rpm、温度を150℃として2時間懸濁重合を行
った。重合反応終了後、冷却、濾過、水洗及び熱風乾燥
することにより共重合体300g(収率95%)を得
た。この共重合体を評価し、表1の結果を得た。
ル) 2,2'-[オキシビス(メチレン)]ビス-2-プロペノ
エートを94.5g、メタクリル酸メチルを220.5
g、n-オクチルメルカプタンを1.575gとした以外
は実施例1と同様にして共重合体300g(収率95
%)を得た。この共重合体を評価し、表1の結果を得
た。
アンプル管に ジ(4-t-ブチルシクロヘキシル)2,2'-
[オキシビス(メチレン)]ビス-2-プロペノエート40
g,パーブチルD 0.1g,n-オクチルメルカプタン
0.945gを加え、真空脱気により窒素置換し、15
0℃で5時間塊状重合を行った。反応終了後、重合体を
取り出し、表1の結果を得た。
た以外は、それぞれ実施例1〜3と同様に重合を行っ
た。得られた(共)重合体は架橋体であり、クロロホル
ムに不溶、熱成形不可能なため評価ができなかった。
H(三菱レイヨン(株)製)を評価し、表1の結果を得
た。
水性及び機械的強度に優れた低複屈折の(共)重合体
が、生産性が高く工業的に実施可能な製造方法で提供さ
れる。得られた(共)重合体はその性質から光ピックア
ップレンズ等のレンズ材料、ディスク材料、光伝送材
料、看板等のディスプレイ材料に適用可能である。
Claims (5)
- 【請求項1】 下記の一般式(1)で示されるα置換ア
クリル酸エステル単量体を、重合温度115℃以上で重
合することを特徴とする重合体の製造方法。 【化1】 (式中、Rは炭素数1〜20の炭化水素基を示す。) - 【請求項2】 一般式(1)で示されるα置換アクリル
酸エステル単量体と他のビニル単量体とを、重合温度1
15℃以上で重合することを特徴とする共重合体の製造
方法。 - 【請求項3】 他のビニル単量体が(メタ)アクリル酸
エステルであることを特徴とする請求項2に記載の方
法。 - 【請求項4】 重合が懸濁重合または塊状重合であるこ
とを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載の
方法。 - 【請求項5】 10時間半減期温度が90℃以上である
重合開始剤を使用することを特徴とする請求項1〜請求
項4のいずれかに記載の方法。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP36093398A JP3623891B2 (ja) | 1998-12-18 | 1998-12-18 | 重合体の製造方法 |
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ID=18471519
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1227313A3 (en) * | 2001-01-25 | 2004-05-19 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Surface plasmon resonance measuring chip and method of manufacture thereof |
JP2005239999A (ja) * | 2004-01-27 | 2005-09-08 | Nippon Shokubai Co Ltd | 可視光線、近赤外線又はネオン光線吸収層形成用樹脂組成物 |
WO2015012229A1 (ja) * | 2013-07-22 | 2015-01-29 | 株式会社クラレ | 共重合体の製造方法 |
-
1998
- 1998-12-18 JP JP36093398A patent/JP3623891B2/ja not_active Expired - Lifetime
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JPWO2015012229A1 (ja) * | 2013-07-22 | 2017-03-02 | 株式会社クラレ | 共重合体の製造方法 |
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