JPH02233710A - 低吸湿性メタクリル系樹脂 - Google Patents

低吸湿性メタクリル系樹脂

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JPH02233710A
JPH02233710A JP5370089A JP5370089A JPH02233710A JP H02233710 A JPH02233710 A JP H02233710A JP 5370089 A JP5370089 A JP 5370089A JP 5370089 A JP5370089 A JP 5370089A JP H02233710 A JPH02233710 A JP H02233710A
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JP
Japan
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resin
copolymer
methacrylate
methyl methacrylate
polymerization
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Application number
JP5370089A
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English (en)
Inventor
Hironori Suezawa
末澤 寛典
Sumio Aihara
相原 住男
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Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH02233710A publication Critical patent/JPH02233710A/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/12Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/14Methyl esters, e.g. methyl (meth)acrylate

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  • Health & Medical Sciences (AREA)
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  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は新規な低吸湿性メタクリル系樹脂に関する。更
に詳し《は、本発明は、メタクリル酸tertブチルシ
クロヘキシル単位、メタクリル酸メチル単位、及びメタ
クリル酸シクロヘキシル単位ならびに所望によりこれら
単量体単位と共重合可能な特定のエチレン性不飽和化合
物単位とを特定量比で含有してなり、無色性、透明性、
耐熱性、低複屈折性、熱安定性、低吸湿性を有し、さら
に成形性に優れ、それ故、光学素子基体及び光透過性押
出板などの成形品の素材に適した低吸湿性メタクリル系
共重合体に関するものである。
本発明でいう光学素子基体とは光学素子のボディー基体
を意味する。又、ここでいう光学素子とは、光線の透過
、屈折、反射等光学特性を利用する器具の総称である。
光学素子の具体例としては、例えば、光学式情報記録用
ディスク (以下光ディスクという)、光学式情報記録
用カード、光学式情報記録用シート、光学式情報記録用
フィルム、レンズ、モラー、プリズム等を挙げることが
できる。光透過性押出板は、例えば看板、ディスプレ、
間仕切り、採光窓、テレビ前面板、液晶表示装置前面板
などを包含する。
〔従来の技術] 従来、メタクリル酸メチル樹脂は、透明性に優れ、かつ
複屈折が小さいなど、光学的に優れた樹脂であることか
ら、例えば光ディスク基盤などの光学素子基体、或いは
透光板など、光が透過することによって機能を発揮する
製品の素材として幅広く用いられている。
しかしながら、このメタクリル酸メチル樹脂は吸湿性が
大きぐ、吸湿によって寸法変化、そり、変形などが生じ
、また、耐熱性もあまり良好でないので、高温環境下に
おいては、機械的性質の低下、そり、変形などが生じる
という欠点を有しており、その用途に制限を受けている
のが実情である。
現在、光ディスクとしては、続出専用型ディスク、追記
型ディスク、書き換え型ディスクなどの各種型式のディ
スクが実用に供されている.これらのディスクの基盤材
料としては、透明性、成形性、低複屈折性、熱安定性、
低吸湿性、耐熱性などの諸特性が要求されているが、こ
れらのすべての特性を満足する樹脂はまだ見出されてお
らず、このため従来の樹脂を基盤材料とする光ディスク
は多くの制約を受けているのが実情である。例えば、続
出専用型ディスクの1種であるビデオディスクにおいて
は、従来メタクリル酸メチル樹脂がその基盤材料として
使用されている。しかしながら、メタクリル酸メチル樹
脂は吸湿性が大きくて、この樹脂を用いて基盤を成形し
、片面に金属を蒸着し、保護膜をコートしたものは吸湿
により、そり、変形を生じるため、2枚を貼り合わせる
ことによって、そり、変形を防止し、実用に供せられて
いるのが実情である。
続出専用型ディスクの1種であるコンパクトディスク(
ディジタルオーディオディスク)においては、従来ボリ
カーボネート樹脂がその基盤材料として使用されている
。このコンパクトディスクにおいては、ディスク基盤2
枚を貼り合わせることが行なわれないために、吸湿によ
り、そり、変形を生じ、且つ耐熱性が低くて夏の車内放
置のような高温環境下で変形のおそれが大きいメタクリ
ル酸メチル樹脂はディスク基盤材料としては使用されな
い.一方、ポリカーボネート樹脂は、成形性が悪く複屈
折も大きいが、コンパクトディスクは、光ディスクとし
ては比較的大きさが小さく且つ高度な精度を要しないた
め実用に供せられている。
そこで、メタクリル酸メチル樹脂の特徴である、優れた
透明性、成形性、低複屈折性、熱安定性を有し、さらに
低吸湿性、耐熱性に優れた樹脂を基盤材料として用いた
光ディスクが得られれば、続出専用型ディスク、追記型
ディスク、書き換え型ディスクなどのいずれの型式のデ
ィスクとしても有利に使用することができる。
メタクリル酸メチル樹脂の吸湿性を改善するために、メ
タクリル酸メチルをスチレンと共重合する技術が知られ
ている(特開昭57−33446号公報、同57−16
2135号公報)。しかしながら、望ましいレベルの低
吸湿性を発揮させるために、スチレン単位の含有量を増
加すると、複屈折が大きくなってメタクリル酸メチル樹
脂本来の優れた特徴が失われ、光学素子基体(例えば光
ディスク基盤)に使用できなくなるという問題が生じ、
さらに、スチレンを共重合しても耐熱性は改善されない
ので、メタクリル酸メチル樹脂の耐熱性より高い耐熱性
を必要とする用途には使用することができない。
一方、複屈折をあまり大きくしないでメタクリル酸メチ
ル樹脂の吸湿性を改善するために、メタクリル酸メチル
とメククリル酸シクロヘキシルを共重合する技術が知ら
れている(特開昭57−186241号公報、同58−
127754号公報、同58−154751号公報、同
59−1518号公報、同60−104110号公報)
しかしながら、望ましいレベルの低吸湿性を発揮させる
ために、メタクリル酸シクロヘキシル単位の含有量を増
加すると、耐熱性が著しく低下し、かつ極めてもろくな
るために、例えば取扱い時の熱によって光ディスクにそ
りや変形が生じて、精度の高い情報の記録や読み取りが
困難になったり、取扱い時に光ディスクが破損したりし
て、光ディスクとしての用途が著しく制限されるのを免
れないという好ましくない事態を招来する。
また、複屈折を大きくしないで、メタクリル酸メチル樹
脂の吸湿性を改善するためにメタクリル酸シクロヘキシ
ルの他に、アクリル酸4−イソプ口ピルシク口へキシル
及びフマール酸ジシクロヘキシルを共重合させた例(特
開昭57−186241号)や、メタクリル酸3,3.
5− }−リメチルシク口へキシル及びメタクリル酸イ
ソボルニルを共重合させた例(特開昭60−10411
0号公報)が開示されている。しかしながら、これらの
例においては、メタクリル酸メチル樹脂の吸冫品性を改
善するが、得られた樹脂は耐熱変形性が低く、又機械的
強度や熱安定性が不良であるという問題がある。
さらに、メタクリル酸メチル樹脂の吸湿性と耐熱性を共
に改善するために、メタクリル酸メチルをメタクリル酸
イソボルニルと共重合する技術が知られている(特開昭
59−227909号公報、特開昭60− 11560
5号公報)。しかしながら、望ましいレヘルの低吸湿性
を発揮させるためにメタクリル酸イソボルニル単位の含
有量を増加すると、著しくもろくなるために、例えば取
扱い時に光ディスクを破損したりして、光ディスク基盤
材料としての用途の制限を免れないという問題がある.
メタクリル酸イソポルニルを、前記公報に記載されてい
るところのラジカル重合の通常の重合条件下に共重合し
ても、得られた樹脂中に未反応単量体がかなり残存し、
このものを樹脂から除去することは著しく困難である。
樹脂中に未反応単量体が残存すると、樹脂の耐熱性が著
しく低下するのみならず、熱安定性も著しく低下する。
したがって、大量の残存単量体を含有する樹脂から成形
品を得ようとしても、成形時に着色したり、発泡したり
して成形できなかったり、あるいは成形できても、得ら
れた成形品は着色していたり、耐熱性が予期したほど優
れていなかったりして、用途の制限を免れない。しかも
、メタクリル酸イソボルニルを共重合して得られた樹脂
はもともと熱安定性が低く、例えば、得られた樹脂を溶
媒に溶かして再沈澱させる精製法により残存単量体を減
少させた樹脂でも、光ディスク基盤に成形する射出成形
において高いピット再現性を得るために用いられる28
0゜Cのような高温溶融成形を行なう場合、著しい着色
と分解発泡が同時に起こり、良好な成形品を得ることが
困難である。
また、メタクリル酸メチル樹脂の吸湿性と耐熱性を同時
に改善するために、メタクリル酸ボルニル、メタクリル
酸3,5−ジメチルアダマンヂル、メタクリル酸フエン
チルを共重合させた例が開示されている (特開昭59
−227909号公報)。しかしながら、この例におい
ては、メタクリル酸メチル樹脂の吸湿性を改善するが、
得られた樹脂の機械的強度が低い上に、熱安定性が不良
であって、280゛Cのような高温で溶融成形する場合
に、著しい着色や分解発泡を起こす問題がある。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明は、上記の問題点を解決し、無色性、透明性、熱
安定性を有し、耐熱性に優れ、十分の機械的強度を維持
しながら優れた低吸湿性を示し、さらに優れた成形性を
有する、それ故、光学素子基体及び光透過性押出板など
の成形品の素材に適した低吸湿性メタクリル系樹脂を提
供するものである。
この目的を達成するために、メタクリル酸メチルと少な
くともメタクリル酸LerL−ブチルシクロヘキシルと
を共重合して得,られる樹脂についての報告がある。 
(特開昭6347915号公報、特開昭63−1740
1号公報) しかしながらこの樹脂は、低吸湿性は充分であるものの
、高良動性を必要とする用途では流動性が不足すること
があり、改善を要望されていた。
しかし流動性を向上させる為に単純に分子量を下げると
この樹脂の一つの特徴である機械的強度が低下しやすい
という問題点があった。
本発明者らは、上記共重合体についてさらに鋭意研究を
重ねた結果、前記目的を充分に達成しうる新たな共重合
体を見出すに至った。
メタクリル酸ter t−ブチルシクロヘキシル、メタ
クリル酸メチル、及びメタクリル酸シクロヘキシルを共
重合させて得られる共重合体は、メタクリル酸tert
−ブチルシクロヘキシル及びメタクリル酸メチルからな
る共重合体の優れた透明性、耐熱性、低吸湿性、低複屈
折性及び機械的強度を保持しながら、成形時の流動性が
大幅に改良されることを見出し、本発明を完成するに至
った。
従来から光ディスク基盤材料の開発においては、吸湿反
り性を低くおさえることが重要であるが、吸湿反り性を
改良しようとすれば、成形加工性や複屈折性、それに機
械的強度を犠牲にせざるを得す、技術的ジレンマに悩ま
されてきたのが実情である.従って、このような技術的
ジレンマを解決し、しかも吸水性がメタクリル酸メチル
樹脂のそれに対して50%程度も低くおさえることを可
能にする本発明は画期的なことであり、光ディスク盤な
どの光学素子基体のみならず、従来反り変形が大きな問
題であった光透過性押出板などの他の諸製品の材料とし
てのその有用性が期待されるものである。本発明はこれ
らの知見に基づいてなされたものである. 〔課題を解決するための手段〕 即ち、本発明によれば、(A)メタクリル酸ter t
一プチルシクロヘキシル単位2〜30モル%、(B)メ
タクリル酸メチル60〜96モル%、(C)メタクリル
酸シクロヘキシル2〜20モル%、(D)共重合可能な
エチレン性不飽和化合物単位0〜10モル%からなり、
(A) +(B) +(C) +(D) =100モル
%である共重合体であって、かつ共重合体の重量平均分
子量が104〜104の範囲にあることを特徴とする低
吸湿性メタクリル系樹脂が提供される. 本発明のメタクリル系共重合体において、(A)成分で
あるメタクリル酸tert−ブチルシクロヘキシル単位
の含有量は(八) 、(B) 、(C)及び(D)成分
の合計モル量に対して2〜39mojl!%であり、(
A)成分の量が上記範囲より少ないと、本発明の特徴で
ある低吸湿性及び良好な成形性が十分に発揮されない。
上記範囲を超えた場合には低吸湿性や耐熱性は改善する
が、機械的強度が低下するので好ましくない.(A)成
分の好ましい含有量は4〜2011%である。
メタクリル酸ter t−ブチルシクロヘキシルにはオ
ルト、メタ、パラの異性体があり、更にその各々につい
て、シス体及びトランス体が存在する。
本発明においてはそのいずれも使用することができ、ま
たいかなる割合の混合体をも使用することができる。本
発明の共重合体中におけるこれらの含有量は、熱分解ガ
スクロマトグラフィー分析によって定量することが可能
である。
(B)成分としてのメタクリル酸メチル単位の含有量は
、(A) 、(B) 、(C)及び(D)成分の合計モ
ル量に対して60〜96IIIO1%である。この範囲
より少ないと、メタクリル酸メチル本来の優れた特性で
ある透明性、成形性及び低複屈折性が悪くなり、又、こ
の範囲を超えると本発明が意図する低吸湿性や耐熱性が
不十分となり好ましくない。
(B)成分の好ましい含有量は70〜93mo1%であ
る.(C)成分としてのメタクリル酸シクロヘキシル単
位の含有量は、(A) 、(B) 、(C)及び(D)
成分の合計モル量に対して2〜2On+oj!%である
.この範囲より少ないと、本発明の特徴である成形時の
流動性が悪くなり、又、この範囲を超えると耐熱性や熱
安定性が低下し好ましくない。(C)成分の好ましい含
有量は2〜15mo1%である。
本発明に係る共重合体において、所望により、(A)成
分、(B)成分及び(C)成分と共重合可能なエチレン
性不飽和化合物単位を(D)成分として含有することが
できる。
このような単量体の例としてはアクリル酸メチル、 (
メタ)アクリル酸エチル、 (メタ)アクリル酸ブチル
、 (メタ)アクリル酸イソブチル,(メタ)アクリル
酸2−エチルヘキシル等の(メタ)アクリル酸アルキル
エステル;アクリル酸トリフルオロメチル、アクリル酸
1,1.1−トリフルオ口エチルなどのアクリル酸フッ
化アルキルエステル;あるいはスチレン、α−メチルス
チレン、p−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物を
挙げることができる. (D)成分としてのエチレン性不飽和化合物単位を含有
させることにより、熱安定性や成形時の流動性、あるい
は吸湿性を改善することができるが、過度の使用によっ
ては耐熱性の低下を招くので好ましくない.(D)成分
の含有量は、(A) 、(I1)、(C)及び(D)成
分の合計モル量に対して0〜10mol%、好ましくは
1〜6mo1%である。
本発明の共重合体は、キャスト重合、塊状重合、懸濁重
合、溶液重合、乳化重合などの一般に行なわれている重
合方法よって製造することができる.溶液重合を行なう
場合には、メタクリル酸ter tブチルシクロへキシ
ル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸シクロヘキシル
及び所望により共重合可能なエチレン性不飽和化合物か
らなる単量体混合物をトルエン、エチルベンゼン等の芳
香族炭化水素の溶媒に溶解して調製した溶液を用いるこ
とができる。懸濁重合や乳化重合により重合させる場合
には、媒体として水を用いて行なうことができる。塊状
重合により重合させる場合には、通常の加熱により生ず
る遊離ラジカルやあるいは放射線照射により重合を開始
させることができる。
本発明樹脂を重合する際に用いられる開始剤としては、
一Cにラジカル重合において用いられる任意の開始剤を
使用することができ、例えばアゾビスイソブチロニトリ
ルなどのアブ化合物、ペンゾイルパーオキサイド、ラウ
ロイルバーオキサイド、ter t−プチルパーオキシ
−2−エチルヘキサノエートなどの有機過酸化物を特に
好ましく挙げられる。その使用量は、一般に単量体総量
の0.01〜toii量%の範囲である。本発明樹脂を
重合する際に、必要に応じて用いられる分子量調節剤と
しては、一般にラジカル重合において用いられる任意の
分子量調節剤を使用することができ、例えばプチルメル
カブタン、オクチルメル力ブタン、ドデシルメルカブタ
ン、チオグリコール酸2−エチルヘキシルなどのメルカ
プタン化合物が特に好ましく挙げられる。
本発明の共重合体を重合する際の温度については、特に
制限はないが、通常0〜150゜C、好ましくは50〜
120゜Cの範囲で選ばれる。最ia重合温度は重合方
式、重合装置、重合開始剤、分子量調節剤、得られる共
重合体樹脂の特性などを考慮して決定される。
本発明による共重合体の重量平均分子量は104〜10
?の範囲である。キャスト法のように直接重合によって
光透過性板のような成形品を得る場合には104〜10
7という比較的高い重量平均分子附を取ることができる
。光ディスク基盤のような射出成形品を対象とする場合
には、通常IXIO’〜2X104の範囲であり、好ま
しくは5X104〜1.5X104、更に好ましくは5
X104〜IXIOsである。この場合、重量平均分子
量が104未満では機械的強度が低下し、2X104を
超えると成形時の型転写精度が低下する。また光透過性
押出板のような押出成形品を対象とする場合には、重旧
平均分子量はiXto′〜3X104の範囲であり、更
に好ましい範囲はl.5X104〜2.5X104であ
る。
この場合、重量平均分子量がixio’未満では十分の
機械的強度や寸法安定性が得られず、3X104を超え
ると通常の押出成形条件では押出せず、高温にて押出し
をしようとすると熱分解や着色が起きる。
なおここにいう重量平均分子量は、標準ボリスチレンを
標準試料としてGPC(ゲルパーミエーションク口マト
グラフィー)によって測定したものである。
本発明の共重合体を構成するメタクリル酸tert−ブ
チルシクロヘキシル、メタクリル酸メチル、メタクリル
酸シクロヘキシル、あるいはこれらと共重合可能なエチ
レン性不飽和化合物単位の各々の含有率は熱分解ガスク
ロマトグラフィー及び” C − NMR法(核磁気共
鳴法)により測定することができる。” C − NM
R法においては共重合体を重水素化溶媒(CDC e 
3、らD6、CDiNOz、DMSO(dimethy
l sulfoxide)−dJに溶解させて室温、あ
るいは高温下で13C一核のスペクトル分析を行なって
定量することができる。
本発明による共重合体は単独で用いることができるが、
その特徴である優れた透明性、成形性、低複屈折性、熱
安定性、低吸湿性、高耐熱性などの性質を損わない範囲
内で、ポリメタクリル酸メチル、アクリ口ニトリルース
チレン共重合体、メタクリル酸メチルースチレン共重合
体ポリスチレン、などの他の樹脂とブレンドして用いる
こともできる。
本発明による共重合体が多量の残存単量体を含有する場
合には、本発明共重合体の特徴の1つである高耐熱性の
他、高熱安定性などが損なわれるので、残存単量体の少
ないことが好ましく、残存単量体の含量は5重量%以下
であり、好ましくは2重量%以下であり、更に好ましく
は1重量%以下である。本発明の共重合体は、前記した
通常の重合条件下で重合することによって、実用上充分
に低い残存単量体にすることができるが、さらに残存単
量体含量が著しく低い共重合体を得るために、通常の残
存単量体除去法を適用することが好ましい。残存単量体
の除去法には、得られた共重合体を気流下に加熱する方
法、減圧下に加熱する方法、ベント付押出機により減圧
下にベント押出する方法などがある。
本発明の共重合体樹脂には、その優れた特徴をあまり大
きく損なわない範囲内で、一般に知られた添加剤を加え
ることによって、樹脂の各種性質を改善することもでき
る。例えば、各種酸化防止剤、熱安定剤、紫外線吸収剤
、金属封鎖剤、滑剤、離型剤、可塑剤、耐衝撃性改善剤
、帯電防止剤、難燃化剤、防腐剤、染料、顔料などを添
加することができる。
本発明のメタクリル系共重合体樹脂は、プラスチック技
術の分野でよく知られた成形方法により本発明共重合体
の諸特性を生かした各種の有用な成形品を得ることがで
きる。
本発明の共重合体樹脂を押出成形に付すことにより光透
過性押出板を得ることができる。すなわち押出機にて溶
融された本発明の共重合体樹脂を適切に温度調節された
引き取りロール上に引き取ることによって平板に加工さ
れる。押し出し及び引き取りの際の温度条件は押し出し
板の特性或いは用途などによって選択されるが、一般に
200〜280゜Cの範囲にて押出成形を行なうことが
適当である。押出成形によって得られる光透過性押出板
は、例えば看板、ディスプレー、間仕切り、採光窓、テ
レビ前面板、液晶表示装置前面板などであり、低吸湿性
、耐熱性、透明性、熱安定性及び機械的強度等などに優
れているので高い性能を発揮する。
又、キャスト法によって高い重量平均分子量を有する強
度の高い本発明共重合体樹脂よりなる光透過性板を得る
ことができ、各種用途に有利に用いることができる。
本発明の共重合体樹脂は、射出成形や圧縮成形により各
種の光学素子基体を成形することができるが、生産性、
寸法精度等から考えて射出成形によるのが好ましい。前
述したように光学素子基体とは光学素子のボディー基体
を意味する。光学素子の具体例としては、例えば、光学
式情報記録用ディスク(以下光ディスクという)、光学
式情報記録用カード、光学式情報記録用シー1−、光学
式情報記録用フィルム、レンズ、ミラー、プリズムを挙
げることができる。その他、自動車のテールランプやメ
ーターカバー等も射出成形により有利に得ることができ
る。
光ディスクは、片面に微小な凹凸を付した盤状金型を用
いて、本発明のメタクリル系共重合体樹脂を射出成形す
ることによって基盤を得、次いでその基盤に、メモリー
機能膜や、反射膜や保護膜を設けることによって得られ
る。また基盤を得る方法としては、前記したように、メ
タクリル系樹脂を射出成形するほかに、キャスト重合や
押出成形によって平板を得た後、さらにこの平板を圧縮
成形することによって得ることもでき、また、キャスト
重合によって直接得ることもできる。
光ディスクは、光によって情報を記録し、または光によ
って記録された情報を読み取る光学式情報記録用ディス
クであり、続出専用型ディスク、追記型ディスク、書き
換え型ディスクなどの各種型式のディスクを包含する。
さらに基板の表面に、信号である、あるいは信号となる
べき微細な凹凸のある一般のディスクの他に、滑らかな
基板の表面に金属や色素などのメモリー層を被覆したデ
ィスクも包含するほかに、また、メモリー層が磁性体で
ある光磁気ディスクも包含するものである。
前述したように、本発明のメタクリレート系共重合体を
成形して得られる光ディスク基盤は、メタクリル酸メチ
ル樹脂の特徴である優れた透明性、成形性、低複屈折性
、熱安定性を有する上に、メタクリル酸メチル樹脂の欠
点である吸湿性が大幅に改善される。従来メタクリル酸
メチル樹脂が使用されているビデオディスク基盤に本発
明の共重合体樹脂からなる光ディスク基盤を使用した場
合、樹脂の吸湿性が小ざいため、高温状況下でも使用で
きるようになる。
また、従来ポリカーボフ一ト樹脂が使用されているコン
パクトディスク基盤に本発明の共重合体樹脂よりなる光
ディスク基盤を使用した場合、樹脂の複屈折が小さく、
成形性が良いため、より高精度なディスクが容易に得ら
れる。
また、従来実用化が困難であった、コンパクトディスク
より大きく、かつコンパクトディスクと同様な1枚の基
盤から成る記録情報量の大きな光ディスクに、本発明の
光ディスク基盤は好ましく用いられる。
さらに、ビデオディスクやコンパクトディスクより、畜
精度が要求されたり、情報量が大きかったり、苛酷な状
況下で使用されたりする追記型ディスクや、光磁気ディ
スクを含む書き換え型ディスクの基盤に必要な特性をす
べて充分に満たず光デづク、ク堪盤は従来得られていな
かったが、本発明の共重合体樹脂よりなる光ディスク基
盤はこの用途にも好ましく用いることができる。
〔実施例〕
本発明をより詳細に記述するために実施例により説明す
るが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
実施例における各物性は次の方法により測定したもので
ある。
(1)残存単量体 n−ブチルアルコールを内部標準物質として含有するア
セトンに試料を溶解し、昇温ガスクロマトグラフィー法
によって定量した。
(2)共重合体中の成分組成 (a)  核磁気共鳴吸収法(?JMI?)法共重合体
各成分の特定部位のl″C核のスペクトル分析を行ない
、組成比を決定した。測定条件は試料共重合体をDMS
O−d6に溶解させて温度70゜Cにて積算回数12,
000回、定量モードでの分析を行なった。
俣)熱分解ガスクロマトグラフィー法 炉l晶度4 5 0 ”Cにてボリマーを熱分解させ分
解ガスをガスクロマトグラフィー法により定量し、組成
比を決定した。
(3)重量平均物質(Mw) 重合によっ乙得られたビーズ状重合体をジクロ口メタン
に}容解させて、(50■/30ml )試料溶液を調
製し、Gei !’ermeation Chroma
tography(GI’C)測定を行なった,測定結
果から、標準ポリスチレンの分子ffi atl1定に
よって得られた検量線をポリメチルメタクリレ−1・に
換算したものを用いて、重量平均分子量を算出した。
(4)引張破断強さ ASTM−0638に基づいて測定を行なった。試験片
は96゜Cで2時間アニーリングを行なった後伏態調節
(23゜C、相対湿度52%で48時間)を行なって測
定した。
(5)加熱撓み温度(IIDT) ASTM−0648に基づいて測定を行なった。試験片
は96゜Cで2時間アニーリングを行なった後状態調節
(23”C、相対湿度52%で48時間)をjテなって
測定した。
(6)平衡吸水率 ASTM−D570に基づいて23゛Cで測定した。
(7)全光線透過率 ASTM−01003に基づいて23”Cで測定した。
(8)複屈折 片面に情報標識の入ったディスク盤について、中心から
50鵬の部分を偏光顕微鏡を用いて複屈折の測定を行な
った。
(9)吸湿反り性 (i)光ディスク基盤 温度50゛C、相対湿度90%の状態で10時間光ディ
スク基盤の反り変形試験を行なった。
反りの測定はディスク基盤の中心がディスク基盤の外周
上にある少なくとも2点を通る平面から隔たる距離を時
間ごとに測定して最大反り量を求めた。
(ii)押出板 押出板を2X300X300mmの大きさに切ったもの
を試験片として用い、その片面をサラン[有]フィルム
で覆い、温度50゜C0相対湿度90%の雰囲気下にお
いて48時間放置した。次いで、この試験片の反り変形
(平板を水平面に置いた際の中心部と辺の中点との高さ
の差)を測定した。
実施例1 内容量10lのガラス製セパラブルフラスコに水5l、
ポリアクリル酸カリウム50g1リン酸水素ナトリウム
1.5gを加え温度30〜35゛Cにてかき混ぜて水相
を調製した。一方、別のガラス,製容器にメタクリル酸
−4−tert−ブチルシクロヘキシル〔シス体/トラ
ンス体=23/77(一一)〕1 6 9 g (4m
o42%)、メタクリル酸メチル1735g(92n+
oj2%)、メタクリル酸シクロヘキシル63g(2m
offi%)及びアクリル酸メチル32g(2IIIO
l%)を加え、さらにこれらの単量体の合計重it20
00 g (100重量部)に対してアゾビスイソプチ
ロニトリル3 g (0.15重量部)、n−オクチル
メルカブタン4 g (0.20重量部)を加えて単量
体相を調製した。
二の単量体相を前記水相に加え、かき混ぜることによっ
て懸濁させ、さらにセパラブルフラスコ内の空気を窒素
に置換した後、かき混ぜなから75゜Cの温度に2時間
保つことによって重合を行なった.さらに重合反応を完
結させるために95゜Cに昇温したのちこの温度に1時
間保った。次いで、重合系を室温に冷却し内容物を濾過
、水で洗浄、乾燥することによって無色のビーズ状重合
体を得た。
得られたビーズ状重合体をスクリュー径30mmφのベ
ント型2軸押出機を用いて、230゜C1ヘント真空度
7 3 0 mmllg以上でストランド状に押し出し
、これをカッターで切断することによって顆粒状物(ベ
レット)を得た。
得られたペレットを3ozスクリュー型射出成形機を用
いて、2 3 0 ’Cで射出成形することによって試
験片を得た。この時、金型に完全充填する為に必要な最
低射出圧力(SSP)は670kg / cdlであっ
た。以上得られたビーズ状重合体及び試験片の分析結果
を第1表及び第2表に示す。
実施例2〜6 単量体の種類及び組成を第1表のように変更した以外は
実施例lと同様に重合、成形及び評価を行なった。これ
らの結果を第1表及び第2表に示す。
実施例7 メタクリル酸p−tert−ブチルシクロヘキシルの代
りにメタクリル酸o−tert−ブチルシクロヘキシル
〔シス体/トランス体−23/77(w/り]を用い、
各単量体の組成を第1表のように変更した以外は実施例
1と同様に重合、成形及び評価を行なった。これらの結
果を第1表及び第2表に示す。
実施例8 メタクリル酸p−tert−ブチルシクロヘキシルの代
りにメタクリル酸m−tert−ブチルシクロヘキシル
〔シス体/トランス体=2 3/7 7(w/w))を
用い、各単量体の組成を第1表のように変更した以外は
実施例1と同様に重合、成形及び評価を行なった。これ
らの結果を第1表及び第2表に示す. 実施例9(光ディスク基盤) 実施例1において得られたペレットを精密射出成形機(
名機製作所M−200/8000M)を用いて成形し、
片面に情報標識の入った3001mllφ、厚み1. 
2 mmの基盤を得た.射出成形温度は290゜C、射
出圧力、.射出スピードは高圧、高速で行なった。
この基盤を蒸着装置に固定し10 − ” mm H 
gの真空下にアルミニウム蒸着を行ない、さらに保護膜
としてUvコート (アクリル樹脂をコートして紫外線
照射により架橋したもの)を被覆して片面蒸着基盤を作
成した。この片面蒸着基盤について複屈折及び吸湿反り
性を測定した。結果を第3表に示す。
実施例10〜16(光ディスク基盤) それぞれ実施例2〜8において得られたペレットを用い
て光ディスク盤を実施例9と同様の方法で作製して複屈
折及び吸湿反り性の測定を行なった。結果第3表に示す
実施例17(押出板) 実施例1においてN−オクチルメル力ブタンの添加量を
0.16重量部に変更したこと以外は実施例1と同様に
して重合を行ない、ビーズ状重合体を得て更に押出機で
ペレットを得た。このペレットを用いて、270゜Cで
、せん断速度1 0 0sec−’の条件下の溶融粘度
を求めたところ11900poiseであった。次いで
、このペレットを平板用ダイスを装着したスクリュー径
30nunφのヘント型2軸押出機を用いて、230゜
C、ベント真空度730 mmllg以上の条件下に押
出し、さらに押し出された樹脂溶融物を120゜C以上
に加熱した引取りロール上に引き取ることによって無色
透明で良好な外観の押出板が得られた。この押出板につ
き、吸湿反り性を測定した。結果を第4表に示す。
実施例18〜20(押出仮) 単量体組成、分子量調節剤(n−オクチルメル力ブタン
)添加量を第4表に示すように変更した以外は実施例1
と同様にして重合を行ない、実施例17と同条件で、ベ
レットの溶融粘度及び押出板の吸湿反り性を測定した。
結果を第4表に示す。
比較例1 第5表に示すように、単量体としてメタクリル酸メチル
98Ilo1%及びアクリル酸メチル2 mo 1%を
用いた以外は、実施例1と同様に重合、成形を行ない、
諸特性の評価を行なった。結果を第6表に示す。
比較例2〜7 単量体組成を第5表に示すように変更した以外は実施例
lと同様に重合、成形を行ない、諸特性の評価を行なっ
た。結果を第6表に示す。
以下余白 第 表 第 表 第 表 特に光学式情報記録用ディスク(光ディスク)、光学式
情報記録用カード、光学式情報記録用シート、光学式情
報記録用フィルム、レンズ、ミラープリズム、光伝送繊
維などの光学用素子基体として、或いは看板、ディスプ
レー、間仕切り、採光窓、テレビ前面板、液晶表示装置
前面板などに用いる光透過性板としての用途に好適であ
る。
特許出願人  旭化成工業株式会社 〔発明の効果〕

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、(A)メタクリル酸tert−ブチルシクロヘキシ
    ル単位2〜30モル%、(B)メタクリル酸メチル60
    〜96モル%、(C)メタクリル酸シクロヘキシル2〜
    20モル%、(D)共重合可能なエチレン性不飽和化合
    物単位0〜10モル%からなり、(A)+(B)+(C
    )+(D)=100モル%である共重合体であって、か
    つ共重合体の重量平均分子量が10^4〜10^7の範
    囲にあることを特徴とする低吸湿性メタクリル系樹脂
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102492080A (zh) * 2011-11-11 2012-06-13 江苏三木化工股份有限公司 一种热塑性丙烯酸树脂
WO2013080642A1 (ja) * 2011-11-30 2013-06-06 学校法人慶應義塾 光学フィルム、光学フィルム用樹脂材料及び画像表示装置
EP3947485A4 (en) * 2019-04-04 2023-01-18 Trinseo Europe GmbH HYDROPHOBIC HIGH TEMPERATURE OPTICAL ACRYLIC COPOLYMERS
US11891466B2 (en) 2022-03-04 2024-02-06 Trinseo Europe Gmbh Heat resistant PMMA copolymers having high temperature and high humidity environmental stability for electronic component applications

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102492080A (zh) * 2011-11-11 2012-06-13 江苏三木化工股份有限公司 一种热塑性丙烯酸树脂
WO2013080642A1 (ja) * 2011-11-30 2013-06-06 学校法人慶應義塾 光学フィルム、光学フィルム用樹脂材料及び画像表示装置
JP2013114198A (ja) * 2011-11-30 2013-06-10 Keio Gijuku 光学フィルム、光学フィルム用樹脂材料及び画像表示装置
EP3947485A4 (en) * 2019-04-04 2023-01-18 Trinseo Europe GmbH HYDROPHOBIC HIGH TEMPERATURE OPTICAL ACRYLIC COPOLYMERS
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