JPS6317401A - メタクリル系樹脂を基板材料とする光学式情報記録用デイスク - Google Patents

メタクリル系樹脂を基板材料とする光学式情報記録用デイスク

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JPS6317401A
JPS6317401A JP61160774A JP16077486A JPS6317401A JP S6317401 A JPS6317401 A JP S6317401A JP 61160774 A JP61160774 A JP 61160774A JP 16077486 A JP16077486 A JP 16077486A JP S6317401 A JPS6317401 A JP S6317401A
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JP
Japan
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resin
methyl methacrylate
methacrylate
substrate material
present
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JP61160774A
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English (en)
Inventor
Tomoisa Koseki
小関 知功
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Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はメタクリル系共重合体樹脂を基板材料とする光
学式情報記録用ディスクに関するものである。さらに詳
しくいえば、本発明は、優れた透明性、成形性、低複屈
折性、熱安定性を有する上に、低吸湿性及び耐熱性にも
優れた新規なメタクリル系樹脂を基板材料とする、光に
よって情報を記録し、又は光によって記録された情報を
読み取る光学式情報記録用ディスク(以下光ディスクと
いう)に関するものである。
従来の技術 現在、光ディスクとしては、読出専用型ディスク、追記
型ディスク、書き換え型ディスクなどの各種型式のディ
スクが実用に供されている。これらのディスクの基板材
料としては、透明性、成形性、低複屈折性、熱安定性、
低吸湿性、耐熱性などの緒特性が要求されているが、こ
れらのすべての特性を満足する樹脂はまだ見出されてお
らず、このため、光ディスクとしては多くの制約を受け
ているのが実情である。
読出専用型ディスクの1種であるビデオディスクにおい
ては、従来メタクリル酸メチル樹脂がその基板材料とし
て使用されている。しかしながら、メタクリル酸メチル
樹脂は吸湿性が大きくて、この樹脂を用いて基板を成形
し、片面に金属を蒸着し、保護膜をコートしたものは、
吸湿により、そり、変形を生じるため、2枚を貼り合わ
せることによって、そり、変形を防止し、実用に供せら
れている。
読出専用型ディスクの1種であるコンパクトディスク(
ディジタルオーディオディスク)においては、従来ポリ
カーボネート樹脂がその基板材料として使用されている
。このコンパクトディスクにおいては、ディスク基板2
枚を貼り合わせることが行われないために、ディスクと
して、吸湿により、そり、変形を生ずるメタクリル酸メ
チル樹脂は使用されず、また、メタクリル酸メチル樹脂
は耐熱性が低いため、夏の車内放置のような高温環境下
で変形の恐れが大きいことも使用されない理由の1つで
ある。一方、ポリカーボネート[脂は成形性が悪く、複
屈折が太きいが、コンパクトディスクは、光ディスクと
しては、比較的大きさが小さく、かつ高度な精度を要し
ないため実用に供せられている。
そこで、メタクリル酸メチル樹脂の特徴である、優れた
透明性、成形性、低複屈折性、熱安定性を有し、さらに
低吸湿性、耐熱性に優れた樹脂を基板材料として用いた
光ディスクが得られれば、読出専用型ディスク、追記型
ディスク、書き換え型ディスクなどの各種型式のディス
クとして使用することができる。
ところで、メタクリル酸メチル樹脂の吸湿性を改善する
ために、スチレンを共重合する技術が知られている(特
開昭57−33446号公報、同57−162135号
公報、同57−108012号公報)。しかしながら、
スチレンを共重合しても吸湿性の改善効果はあまり大き
くなく、また、該効果を大きくするために、スチレン単
位の含量を増加すると、複屈折が大きくなって、精度の
高い情報の記録や読み取りが困難になシ、光ディスクと
しての用途が著しく制限される。さらにスチレンを共重
合しても耐熱性は改善されないので、メタクリル酸メチ
ル樹脂の耐熱性より高い耐熱性を必要とする光ディスク
の用途には使用することができない。
一方、複屈折をあまり大きくしないでメタクリル酸メチ
ル樹脂の吸湿性を改善するために、メタクリル酸シクロ
ヘキシルを共重合する技術が知られている(特開昭57
−186241号公報、同58−127754号公報、
同59−1518号公報、同60−104110号公報
)。しかしながら、メタクリル酸シクロヘキシルを共重
合しても吸湿性の改善効果はあまり大きくなく、また、
該効果を大きく発揮させるために、メタクリル酸シクロ
ヘキシル単位の含有量を増加すると、耐熱性が著しく低
下し、かつ極めてもろくなるために、取扱い時の熱によ
って光ディスクにそりや変形が生じて、精度の高い情報
の記録や読み取りが困難になったり、取扱い時に光ディ
スクを破損したシして、光ディスクとしての用途が著し
く制限されるのを免れないという好ましくない事態を招
来する。
また、複屈折を大きくしないで、メタクリル酸メチル樹
脂の吸湿性を改善するためにメタクリル酸シクロヘキシ
ルの他に、アクリル酸4−イソプロピルシクロヘキシル
及びフマール酸ジシクロヘキシルを用いた例(特開昭5
7−186241号公報)や、メタクリル酸−3,3,
5−トリメチルシクロヘキシル及びメタクリル酸インボ
ルニルを用いた例(特開昭60−104110号公報)
が開示されている。
しかしながら、これらの例においては、メタクリル酸メ
チル樹脂の吸湿性を改善する効果がメタクリル酸シクロ
ヘキシルよシも優れた単量体には何があるかが明らかに
されておらず、しかも得られた樹脂の耐熱性はメタクリ
ル酸メチル樹脂の耐熱性よシも低いという問題がある。
さらに、メタクリル酸メチル樹脂の吸湿性と耐熱性を共
に改善するために、メタクリル酸インボルニルを共重合
する技術が知られている(特開昭59−227909号
公報、特開昭60−115605号公報)。
しかしながら、メタクリル酸イソボルニルを共重合して
も、吸湿性の改善効果はあまり大きくなく。
また該効果を大きく発揮させるために、メタクリル酸イ
ンボルニル単位の含有量を増加すると、著しくもろくな
るために、取扱い時に光ディスクを破損したシして、光
ディスクとしての用途の制限を免れない。
さらに、メタクリル酸イソボニルを、通常用いられてい
る重合条件下に共重合しても、得られた樹脂中に未反応
単量体がかなり残存し、このものを該樹脂から除去する
ことは著しく困難である。
樹脂中に未反応単量体が残存すると、該樹脂の耐熱性が
著しく低下するのみならず、熱安定性も著しく低下する
。したがって、大量の残存単量体を含有する樹脂から光
ディスクを得ようとしても、成形時に着色したり、発泡
したシして成形できなかったり、あるいは成形できても
、得られた光ディスクは着色していたシ、耐熱性が予期
したほど優れていなかったシして、光ディスクとしての
用途の制限を免れない。
さらに、メタクリル酸インボルニルを共重合して得られ
た樹脂は熱安定性が低く、特別な方法や条件によって残
存単量体を減少させた樹脂でも、光ディスクの射出成形
において高いビット再現性を得るために用いられる28
0℃のような高温溶融成形を行う場合、著しい着色と分
解発泡が同時に起こり、良好な光ディスクを得ることが
困難である。
また、メタクリル酸メチル樹脂の吸湿性と耐熱性を同時
に改善するために、メタクリル酸ボルニル、メタクリル
酸−3,5−ジメチルアダマンチル、メタクリル酸フェ
ンチルを共重合させた例が開示されている(特開昭59
−227909号公報)。しかしながら、この例におい
ては、メタクリル酸メチル樹脂の吸湿性を改善する効果
が、メタクリル酸インボルニルよシも優れた単量体に何
があるかが明らかにされておらず、また、一般に用いら
れる共重合条件下に共重合する場合、メタクリル酸イン
ボルニルを共重合した樹脂よりも、残存単量体の少ない
樹脂が得られる単量体に何があるかも明らかにされてお
らず、さらに、280℃のような高温で溶融成形する場
合に、著しい着色や分解発泡を起こさない単量体に何が
あるかも明らかにされていない。
発明が解決しようとする問題点 本発明はメタクリル酸メチル樹脂の特徴である優れた透
明性、成形性、低複屈折性、熱安定性を有する上に、吸
湿性が小さく、かつ耐熱性に優れた新規なメタクリル系
樹脂を基板材料とする光ディスクを提供することを目的
とするものである。
問題点を解決するための手段 本発明者ちは前記目的を達成するために鋭意研究を重ね
た結果、メタクリル酸メチルと少なくともメタクリル酸
p−tert−ブチルシクロヘキシルを共重合した樹脂
は、メタクリル酸メチル樹脂本来の優れた透明性、成形
性及び低複屈折性を、有し、しかも該メタクリル酸p−
tert−ブチルシクロヘキシルの炭素数がメタクリル
酸インボルニルの炭素数と同じであるにもかかわらず、
メタクリル酸インボルニルを共重合した樹脂と比較する
と、残存単量体の含有量が著しく少ない上に、吸湿性も
さらに小さく、かつメタクリル酸メチル樹脂に比べて耐
熱性が十分に高く、その上280℃のような高温で溶融
成形しても、著しい着色や分解発泡が起こらず、良好な
光デイスク基板を得ることができるなど、光デイスク基
板材料として優れた特徴t−有し、読出専用型ディスク
、追記型ディスク、書き換え型ディスクなどの各種型式
の光ディスクに好適に使用しうろことを見出し、この知
見に基づいて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、(A)メタクリル醒p−tert
−ブチルシクロヘキシル単位5〜95重量%及び(B)
メタクリル酸メチル単位95〜5重量係を含有して成る
メタクリル系共重合体又は(A)メタクリル酸p−te
rt−ブチルシクロヘキシル単位とい)メタクリル酸メ
チル単位とを、重量基準で5:95ないし95:5の割
合で含有し、かつ(C)前記単量体と共重合可能な他の
単量体単位30重量多以下を含むメタクリル系共重合体
を基板材料としたことを特徴とする光学式情報記録用デ
ィスクを提供するものである。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明に用いられるメタクリル系樹脂は、メタクリル酸
p−tert−ブチルシクロヘキシルとメタクリル酸メ
チルとを共重合させたもの、又はメタクリル酸p −t
ert−ブチルシクロヘキシルとメタクリル酸メチルと
これらと共重合可能な他の単量体とを共重合させたもの
である。
これらのメタクリル系樹脂において、メタクリル酸p−
tert−ブチルシクロヘキシル単位とメタクリル酸メ
チル単位との割合は、重量基準で5:95ないし95:
5の範囲である。メタクリル酸p−tert−ブチルシ
クロヘキシル単位の量が前記範囲より少ないと、本発明
の特徴である低吸湿性及び高耐熱性が十分に発揮されな
い。好ましい割合は、10:90ないし60:40.さ
らに好ましい割合は15:85ないし50:50の範囲
で選ばれる。
なお、メタクリル酸p−tθrt−ブチルシクロヘキシ
ルには、シス体及びトランス体が存在するが、本発明て
おいては、そのいずれも使用することができるし、また
いかなる割合の混合体も使用することができる。
本発明に係る樹脂において、所望により用いられる共重
合可能な単量体については、特に制限はないが、該樹脂
の特徴である優れた透明性、成形性、低複屈折性、熱安
定性、低吸湿性、高耐熱性などをあまシ大きく損わない
単量体が使用される。
このような単量体としては、例えばメタクリル酸及ヒそ
のアルキルエステルやフッ化アルキルエステル、アクリ
ル酸及びそのアルキルエステルやフッ化アルキルエステ
ル、イタコン酸及びそのアルキルエステルやフッ化アル
キルエステルなどの不飽和脂肪酸及びそのアルキルエス
テルやフッ化アルキルエステル、スチレ/、α−メチル
スチレン、p−メチルスチレンなどの芳香族ビニル化合
物、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのシア
ン化ビニル化合物、アクリルアミド、メタクリルアミド
、イタコン酸アミドなどの不飽和脂肪酸アミド、無水マ
レイン酸、シクロヘキシルマレイミドなどの不飽和二塩
基酸及びその誘導体などが挙げられるが、必ずしもこれ
らの単量体に限定されるものではなく、キャスト重合の
ように直接重合によって成形品を得る場合には、ウレタ
ンメタクリレートやウレタンアクリレート、多価アルコ
ールのメタクリル酸エステルやアクリル酸エステルのよ
うな架橋性多官能単量体も使用できる。これらの単量体
はそれぞれ単独で用いてもよいし、2種以上組み合わせ
て用いてもよい。
本発明に係る樹脂においては、これらの単量体単位の含
有量は30重重量板下であり、30重量置板超えると、
本発明の特徴が十分に発揮されなくなシ好ましくない。
最適な含有量は使用する単量体の種類や組合せによって
異なり、また光ディスクの使用目的によっても異なる。
本発明に係る樹脂において、所望により使用される共重
合可能な他の単量体の代表例としては、アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸
イソブチル、アクリル酸2−エチルヘキシルなどのアル
キル基の炭素数カl〜8のアクリル酸アルキルが挙げら
れる。この炭素数1〜8のアクリル酸アルキルを使用f
、BことKよって、熱安定性、成形時の流動性を改善す
ることができるが、あまシ多く使用すると耐熱性が低下
するので好ましくない、該アクリル酸アルキル単位の好
ましい含有量は20重重量板下、さらに好ましい含有量
は10を置板以下である。
本発明の光ディスクは、キャスト重合、塊状重合、懸濁
重合、溶液重合、乳化重合などの一般に行われている各
種重合方法によって、メタクリル系樹脂を得たのち、圧
縮成形や射出成形などの一般に行われている各種溶融成
形方法によって基板を得、次いでその基板に、メモリー
機能膜や、反射膜や保護層を設け、必要な場合はさらに
2枚を気体、固体の中間層を設けたシ、あるいは設けな
いで貼り合せるととKよって得られる。また基板を得る
方法としては、前記のように、メタクリル系樹脂を溶融
成形するほかに、キャスト重合や押出成形によって平板
を得たのち、さらにこの平板を圧縮成形することによっ
て得ることもでき、また、キャスト重合によって直接得
ることもできる。
本発明の光ディスクの基板材料である樹脂を重合する際
に用いられる開始剤としては、一般にラジカル重合にお
いて用いられる任意の開始剤も使用することができ、例
えばアゾビスイソブチロニトリルなどのアゾ化合物、ベ
ンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、
t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエートなど
の有機過酸化物が特に好ましく挙げられる。その使用量
は、一般に単量体総量の0.01〜lO重量倦の範囲で
選ばれる。
本発明の光ディスクの基板材料である樹脂を重合する際
に、必要に応じて用いられる分子量調節剤としては、一
般にラジカル重合において用いられる任意の分子量調節
剤を使用することができ、例えばブチルメルカプタン、
オクチルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、チオグ
リコール酸2−エチルヘキシルなどのメルカプタン化合
物が特に好ましく挙げられる。
本発明の光ディスクの基板材料である樹脂を重合する際
の温度については、特に制限はないが、通常0〜150
℃、好ましくは50〜120℃の範囲で選ばれる。最適
重合温度は重合方式、重合装置、重合開始剤、分子量調
節剤、得られる樹脂の特性などを考慮して決定される。
本発明の光ディスクの基板材料である樹脂の重量平均分
子量は特に限定されるものでなく、必要に応じて決定さ
れる。キャスト重合のように、直接重合によって成形品
を得る場合には、高い強度の樹脂全得るために、I×1
05以上のように、比較的高い重量平均分子量の樹脂が
好まれる場合が多いが、溶融成形が必要な成形材料を得
る場合には、通常I X 10’ −I X 10’の
範囲で決定され、良好な成形性を得るためには、I X
 10’−I X 10’の重量平均分子量の樹脂が好
ましく、特にlXl0’−5X 105の重量平均分子
量の樹脂が好適である。
なお1重量平均分子量は、標準ポリスチレンを標準資料
とシ、GPC(ケルパーミェーションクロマトグラフィ
ー)によって測定したものである。
本発明の光ディスクの基板材料である樹脂は、ランダム
共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体のいず
れの共重合体であってもよく、特に共重合の形態に限定
されるものではない。
本発明の光ディスクの基板材料である樹脂は、その特徴
である優れた透明性、成形性、低複屈折性、熱安定性、
低吸湿性、高耐熱性などの性質を示す範囲内で、メタク
リル酸メチル樹脂などの他の樹脂との混合体であっても
差支えなく、本発明の特許請求の範囲に記載されたメタ
クリル系樹脂をその組成の一部とじて含有するメタクリ
ル系樹脂組成物を基板材料とする光ディスクも本発明に
含まれる。
本発明の光ディスクの基板材料である樹脂が多量の残存
単量体を含有する場合には、本発明の樹脂の特徴の1つ
である高耐熱性の他、高熱安定性などが損われるので、
残存単量体の少ない樹脂であることが好ましく、好まし
い残存単量体の含量は5重量−以下であシ、さらに好ま
しくは2重量%以下であり、最も好ましくは1重量%以
下である。本発明の光ディスクの基板材料である樹脂は
、一般に用いられる重合条件下に重合することによって
、実用上充分に低い残存単量体にすることができるが、
さらに著しく低い残存単量体の樹脂を得るために、一般
に知られた残存単量体の除去法を適用することが好まし
い。一般に知られた残存単量体の除去法には、樹脂を気
流下に加熱する方法、減圧下に加熱する方法、ベント付
押出機により減圧下にベント押出する方法などがある。
本発明の光ディスクの基板材料である樹脂知ば、その優
れた特徴をあまり大きく損わない範囲内で、一般に知ら
れた添加剤を加えることによって、樹脂の各種性質を改
善することもできる。例えば、各種酸化防止剤、熱安定
剤、紫外線吸収剤、金属封鎖剤、滑剤、離型剤、可塑剤
、耐衝撃性改善剤、帯電防止剤、難燃化剤、防曇剤、染
顔料などを添加することもできる。
本発明の光ディスクは、光によって情報を記録し、また
は光によって記録された情報を読み取る光学式情報記録
用ディスクであシ、続出専用型ディスク、追記型ディス
ク、書き換え型ディスクなどの各種型式のディスクが本
発明の光ディスクに含まれる。またコンパクトディスク
のように、1枚の基板から成るディスク、及びビデオデ
ィスクのように、2枚の基板を貼り合わせたディスクの
いずれも本発明の光ディスクに含まれる。さらに基板の
表面に、信号である、あるいは信号となるべき微細な凹
凸のあるディスク、及び滑らかな基板の表面に金属や色
素などのメモリ一層を被覆したディスクのいずれも本発
明の光ディスクに含まれる。また、メモリ一層が磁性体
である光磁気ディスクも本発明の光ディスクに含まれる
発明の効果 本発明の光ディスクは、メタクリル酸メチル樹脂の特徴
である優れた透明性、成形性、低複屈折性、熱安定性を
有する上に、メタクリル酸メチル樹脂の欠点である吸湿
性及び耐熱性が大幅に改善された新規なメタクリル系樹
脂を基板材料とするものであって、従来メタクリル酸メ
チル樹脂が基板材料として使用されているビデオディス
クに本発明の光ディスクを使用した場合、樹脂の吸湿性
が小さく、耐熱性が大きいため、高湿、高温などの、よ
り苛酷な状況下でも使用できるようになる。
また、従来ポリカーボネート樹脂が基板材料として使用
されているコンパクトディスクに本発明の光ディスクを
使用した場合、樹脂の複屈折が小さく、成形性が良いた
め、よシ高精度なディスクが容易に得られる。
また、従来実用化が困難であった、コンパクトディスク
より大きく、かつコンパクトディスクと同様な1枚の基
板から成る、記録情報量の大きな光ディスクに、本発明
の光ディスクは好ましく用いられる。
さらに、ビデオディスクやコンパクトディスクより、高
精度が要求されたり、情報量が大きかったり、苛酷な状
況下で使用されたシする、追記型ディスクや、光磁気デ
ィスクを含む書き換え型ディスクとしては、従来必要な
特性をすべて充分に満たす光ディスクは得られていなか
ったが、本発明の光ディスクはこの用途にも好ましく用
いることができる。
実施例 次知実施例によって本発明をさらに詳細に説明するが、
本発明は、この実施例によってなんら限定されるもので
はない。
なお、第1表、第2表に記載した単量体略称の物質名は
下記のとおシである。
p−t−BCHMA −−−メタクリル酸p−tert
−ブチルシクロヘキシル MMA −−−メタクリル酸メチル よりA −−−アクリル酸イソブチル C!HMA −−メタクリル酸シクロヘキシルST −
−−スチレン よりOMA −m−メタクリル酸イソボルニルMA −
−−アクリル酸メチル EA −−−アクリル酸エチル また、物性は次に示す試験方法に従って測定した。
(1)残存単量体 n−ブタノールを内部標準物質として含育するアセトン
に試料を溶解し、昇温ガスクロマトグラフィー法により
定量した。単位は(重I%)である。
(2)MI ASTM−D 1238、条件1 (230℃、3,8
00 ? )に基づいて測定した。単位は[f/10分
]である。
(3)熱安定性 M工測定と同じ装置を用いて、280℃で押出棒のみの
負荷で、16分間樹脂を滞留させたのち、さらに負荷を
加えて押出し、押出されたストランドの外観により判定
した。
良:無色透明、無発泡のストランド 不良二着色発泡したストランド (4)引張強度 ASTM−D 638に基づいて測定した。試験片は9
6℃で2時間アニーリングを行ったのち、状態調節を行
って測定した。単位は[Ks+/d〕である。
(5)  HDT ASTM−D 648に基づいて測定した。試験片は9
6℃で2時間アニーリングを行ったのち測定した。
単位は〔℃〕である。
(6)  平衡吸水率 ASTM−D 570に基づいて23℃で測定した。単
位は〔重量%〕である。
(7)複屈折 直交した2枚の偏光板の間に、射出成形によって得られ
た平板を置き、透過光によシ撮影した。
少:ゲート近傍の多面積のみ白色 ウニ平板面積の強が白色 犬:平板の全面積が白色 (8)全光線透過率 ASTM−D 1003に基づいて測定した。単位は〔
チ〕である。
実施例1 内容量10tのガラス製セパラブルフラスコに、゛水5
1.ポリアクリル酸カリウム50F、リン酸水素二ナト
リウム1.52を加え、30−35℃でかきまぜて水相
を作った。一方、別のガラス製容器に、メタクリル酸p
−tert−ブチルシクロヘキシル4002、メタクリ
ル酸メチル1,5609、アクリル酸インブチル402
、アゾビスイノブチロニトリル39.n−オクチルメル
カプタン32を加え、かきまぜて単量体相を作った。こ
の単量体相を前記水相に加え、かきまぜて懸濁させ、さ
らにセパラブルフラスコ内の空気を窒素に置換したのち
、かきまぜながら75℃の温度に2時間保つことによっ
て重合を行った。さらに反応を完結させるために、95
℃に昇温し、2時間この温度に保った。次いで室温に冷
却し、内容物をろ過、洗浄、乾燥することによって、無
色のさらさらしたビーズ状重合体を得た。得られたビー
ズ状重合体を、スクリュー径30關φのベント型2軸押
出機を用いて、230℃でベント真空度730fllH
g以上でストランドに押出し、切断することによって、
顆粒状樹脂(ペレット)を得た。得られたベレソトヲ3
02のスクリュー型射出成形機を用いて、230℃で射
出成形することによって、試験片を得た。
得られたビーズ状重合体、ペレット、試験片の物性測定
結果を第1表に示す。
なお、280℃でも射出成形を行ったが、無色透明な良
好な成形片が得られた。
また、250℃で100mX 100mx 2wmの平
板を射出成形し、その片面にアルミニウムを蒸着し、湿
度80%、温度23℃の環境下に2日間放置したところ
、そり深さく平板を水平に置いた場合の平板の中心部と
辺の中点との高さの差)は0.22Uであった。
実施例2〜5 メタクリル酸p−tθrt−ブチルシクロヘキシル、メ
タクリル酸メチル、及びアクリル酸イソブチルの合計量
2.0009に対し、メタクリル酸p−tert−ブチ
ルシクロヘキシルとメタクリル酸メチルとの組成を変え
、かつn−オクチルメルカプタンの添加量を変えたこと
以外は、実施例1と同様にして、ビーズ状重合体、ペレ
ット、試験片を得物性を測定した。得られた結果を第1
表に示す。
比較例1 実施例1において、メタクリル酸p−tert−ブチル
シクロヘキシルをメタクリル酸メチルに換えたこと以外
は、実施例1と同様にして、ビーズ状重合体、ペレット
、試験片を得、物性を測定した。
得られた結果を第1表に示す。
また、250℃で100111 X 100 sn X
 2 mmの平板を射出成形し、その片面にアルミニウ
ムを蒸着し、湿度80チ、温度23℃の環境下に2日間
放置したところ、そり深さく平板を水平番で置いた場合
の平板の中心部と辺の中点との高さの差)は0.45鵡
であった。
比較例2〜4 実施例4において、メタクリル酸p−tert−ブチル
シクロヘキシルを、それぞれメタクリル酸シクロヘキシ
ル、スチレン及びメタクリル酸イソボルニルに置き換え
たこと以外は、実施例4と同様にして、ビーズ状重合体
、ペレット、試験片を得、物性を測定した。得られた結
果t−第1表に示す。
比較例5 比較例4と同様にして得られたビーズを、その4倍量の
メタノールに浸漬し、かきまぜながら50℃以下の温度
で2時間加熱し、次いでろ過することによって、残存単
量体を抽出除去する操作を3回繰返したのち、70℃で
48時間乾燥した。得られた乾燥ビーズを実施例1と同
様にしてペレット化し、試験片を得、物性を測定した。
得られた結果を第1表に示す。
実施例6〜10 メタクリル酸p−tert−ブチルシクロヘキシル、メ
タクリル酸メチル及びアクリル酸イソブチル合計量2,
00(lに対して、それぞれメタクリル酸メチルとアク
リル酸イソブチルとの組成を変える(実施例6)、アク
リル酸イソブチルの代りにアクリル酸メチル(実施例7
)又はアクリル酸エチル(実施例9)を用いる、アクリ
ル酸イソブチルの代りにアクリル酸メチル又はアクリル
酸エチルを用いると共に、メタクリル酸メチルとこれら
のアクリル酸アルキルの組成を変える(実施例8、実施
例10)こと以外は、実施例1と同様にして、ビーズ状
重合体、ペレット、試験片を得、物性全測定した。得ら
れた結果を第2表に示す。
実施例11 実施例4と同様にして得られたビーズ状重合体と比紋例
1と同様にして得られたビーズ状重合体の等1混合体を
、実施例1と同様にして押出し、ペレット’6得た。得
られたペレットを実施例1と同様にして射出成形し、試
験片を得た。得られたペレット、試験片の物性測定結果
を第2表に示す。
第2表

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1(A)メタクリル酸p−tert−ブチルシクロヘキ
    シル単位5〜95重量%及び(B)メタクリル酸メチル
    単位95〜5重量%から成るメタクリル系共重合体を基
    板材料としたことを特徴とする光学式情報記録用ディス
    ク。 2(A)メタクリル酸p−tert−ブチルシクロヘキ
    シル単位と(B)メタクリル酸メチル単位とを、重量基
    準で5:95ないし95:5の割合で含有し、かつ(C
    )前記単量体と共重合可能な他の単量体単位30重量%
    以下を含むメタクリル系共重合体を基板材料としたこと
    を特徴とする光学式情報記録用ディスク。
JP61160774A 1986-07-10 1986-07-10 メタクリル系樹脂を基板材料とする光学式情報記録用デイスク Pending JPS6317401A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013080642A1 (ja) * 2011-11-30 2013-06-06 学校法人慶應義塾 光学フィルム、光学フィルム用樹脂材料及び画像表示装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013080642A1 (ja) * 2011-11-30 2013-06-06 学校法人慶應義塾 光学フィルム、光学フィルム用樹脂材料及び画像表示装置
JP2013114198A (ja) * 2011-11-30 2013-06-10 Keio Gijuku 光学フィルム、光学フィルム用樹脂材料及び画像表示装置

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