JPH01132603A - 光学材料 - Google Patents
光学材料Info
- Publication number
- JPH01132603A JPH01132603A JP62291624A JP29162487A JPH01132603A JP H01132603 A JPH01132603 A JP H01132603A JP 62291624 A JP62291624 A JP 62291624A JP 29162487 A JP29162487 A JP 29162487A JP H01132603 A JPH01132603 A JP H01132603A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer
- optical material
- aromatic hydrocarbon
- methacrylate
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 55
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 35
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 58
- -1 fatty acid ester Chemical class 0.000 claims abstract description 47
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 11
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims abstract description 9
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 claims abstract description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 6
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 150000004670 unsaturated fatty acids Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 19
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims 3
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 claims 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 abstract description 42
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 40
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 13
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 abstract description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 abstract description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 abstract description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 abstract description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 abstract description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 abstract description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 abstract description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 abstract 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 11
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 5
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical compound S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 3
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002815 homogeneous catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 150000002506 iron compounds Chemical class 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N n-methylmaleimide Chemical compound CN1C(=O)C=CC1=O SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 229920002776 polycyclohexyl methacrylate Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CJCGDEYGAIPAEN-UHFFFAOYSA-N (1-methylcyclohexyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1(C)CCCCC1 CJCGDEYGAIPAEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCHFQMCWQLPAS-UHFFFAOYSA-N (1-tert-butylcyclohexyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1(C(C)(C)C)CCCCC1 RWCHFQMCWQLPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPEMPJFPRCHICU-UHFFFAOYSA-N (1-tert-butylcyclohexyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1(C(C)(C)C)CCCCC1 XPEMPJFPRCHICU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKZMWXJHPKWFLS-UHFFFAOYSA-N (2-chlorophenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1Cl YKZMWXJHPKWFLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOUZWCLULXUQSR-UHFFFAOYSA-N (2-chlorophenyl) prop-2-enoate Chemical group ClC1=CC=CC=C1OC(=O)C=C GOUZWCLULXUQSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 2-ethylhexaneperoxoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OOOC(C)(C)C FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAXXETNIOYFMLW-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C(=C)C)CC1C2(C)C IAXXETNIOYFMLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZVABYGYVXBZDP-UHFFFAOYSA-N 1-adamantyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C(C2)CC3CC2CC1(OC(=O)C(=C)C)C3 MZVABYGYVXBZDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHPRWKJDGHSJMI-UHFFFAOYSA-N 1-adamantyl prop-2-enoate Chemical compound C1C(C2)CC3CC2CC1(OC(=O)C=C)C3 PHPRWKJDGHSJMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNPCNDJVEUEFBO-UHFFFAOYSA-N 1-butylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCCN1C(=O)C=CC1=O JNPCNDJVEUEFBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDNSZPNSUQRUMS-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexyl-4-ethenylbenzene Chemical compound C1=CC(C=C)=CC=C1C1CCCCC1 VDNSZPNSUQRUMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C=C)=C1 JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCOLXFOZKYRROA-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-3-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1N(OC)C(=O)C=C1C1=CC=CC=C1 QCOLXFOZKYRROA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYBPIDAYDPNCTP-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-3-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1N(C)C(=O)C=C1C1=CC=CC=C1 IYBPIDAYDPNCTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCHRVFZBKRIKIX-UHFFFAOYSA-N 1-nitro-3-(3-nitrophenyl)benzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC(C=2C=C(C=CC=2)[N+]([O-])=O)=C1 CCHRVFZBKRIKIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCJNYCWJKAWZKZ-UHFFFAOYSA-N 1-prop-1-en-2-ylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C(=C)C)=CC=CC2=C1 LCJNYCWJKAWZKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DABFKTHTXOELJF-UHFFFAOYSA-N 1-propylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCN1C(=O)C=CC1=O DABFKTHTXOELJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEDJMOONZLUIMC-UHFFFAOYSA-N 1-tert-butyl-4-ethenylbenzene Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C=C)C=C1 QEDJMOONZLUIMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OITMBHSFQBJCFN-UHFFFAOYSA-N 2,5,5-trimethylcyclohexan-1-one Chemical compound CC1CCC(C)(C)CC1=O OITMBHSFQBJCFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAXBZQUSTLNLPU-UHFFFAOYSA-N 2,5-dioxo-3-phenylpyrrole-1-carboxylic acid Chemical compound O=C1N(C(=O)O)C(=O)C=C1C1=CC=CC=C1 WAXBZQUSTLNLPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMFMTNROJASFBW-UHFFFAOYSA-N 2-(furan-2-ylmethylsulfinyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CS(=O)CC1=CC=CO1 BMFMTNROJASFBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOUSBQVEVZBMNI-UHFFFAOYSA-N 2-bromoethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCBr AOUSBQVEVZBMNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDZAAIHWZYWBSS-UHFFFAOYSA-N 2-bromoethyl prop-2-enoate Chemical compound BrCCOC(=O)C=C CDZAAIHWZYWBSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPOGMJLHWQHEGF-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCl GPOGMJLHWQHEGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl prop-2-enoate Chemical compound ClCCOC(=O)C=C WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethenylbenzene Chemical compound COC=CC1=CC=CC=C1 CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-1-enylbenzene Chemical compound CC(C)=CC1=CC=CC=C1 BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQWBJUXAIXBZTC-UHFFFAOYSA-J 2-methylprop-2-enoate;tin(4+) Chemical compound [Sn+4].CC(=C)C([O-])=O.CC(=C)C([O-])=O.CC(=C)C([O-])=O.CC(=C)C([O-])=O KQWBJUXAIXBZTC-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Chemical class OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMFHUEMLVAIBFI-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenyl acetate Chemical class CC(=O)OC=CC1=CC=CC=C1 FMFHUEMLVAIBFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANCUXNXTHQXICN-UHFFFAOYSA-N 2-prop-1-en-2-ylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C(=C)C)=CC=C21 ANCUXNXTHQXICN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKEHOXWJQXIQAG-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 IKEHOXWJQXIQAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXYAVSFOJVUIHT-UHFFFAOYSA-N 2-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C=C)=CC=C21 KXYAVSFOJVUIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJTRCPVECIHPBG-UHFFFAOYSA-N 3-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1NC(=O)C(C2CCCCC2)=C1 UJTRCPVECIHPBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWKNLRXFUTWSOY-UHFFFAOYSA-N 3-phenylprop-2-enenitrile Chemical class N#CC=CC1=CC=CC=C1 ZWKNLRXFUTWSOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYMZEPRSPLASMS-UHFFFAOYSA-N 3-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1NC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1 IYMZEPRSPLASMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYEKUDPFXBLGHH-UHFFFAOYSA-N 3-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1 CYEKUDPFXBLGHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PSGCQDPCAWOCSH-OPQQBVKSSA-N [(1s,3r,4s)-4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl] prop-2-enoate Chemical compound C1C[C@]2(C)[C@H](OC(=O)C=C)C[C@H]1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-OPQQBVKSSA-N 0.000 description 1
- IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N [(1s,3s,4s)-4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C[C@]2(C)[C@@H](OC(=O)C(=C)C)C[C@H]1C2(C)C IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N 0.000 description 1
- UAWJHCGABXDYRE-UHFFFAOYSA-N [bromo(phenyl)methyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(Br)C1=CC=CC=C1 UAWJHCGABXDYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXFPHNDKVMTINC-UHFFFAOYSA-N [bromo(phenyl)methyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(Br)C1=CC=CC=C1 FXFPHNDKVMTINC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QORKUXJCVRDNFL-UHFFFAOYSA-N [fluoro(phenyl)methyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(F)C1=CC=CC=C1 QORKUXJCVRDNFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical class CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005234 alkyl aluminium group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010210 aluminium Nutrition 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004103 aminoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium peroxydisulfate Substances [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)OOS([O-])=O VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L barium(2+);oxomethanediolate Chemical compound [Ba+2].[O-][14C]([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N benzene Substances C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical group C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N bis(2-methylpropyl)aluminum Chemical compound CC(C)C[Al]CC(C)C SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- OAKHANKSRIPFCE-UHFFFAOYSA-L calcium;2-methylprop-2-enoate Chemical compound [Ca+2].CC(=C)C([O-])=O.CC(=C)C([O-])=O OAKHANKSRIPFCE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- TXTCTCUXLQYGLA-UHFFFAOYSA-L calcium;prop-2-enoate Chemical compound [Ca+2].[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C TXTCTCUXLQYGLA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 1
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 1
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000012718 coordination polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003963 dichloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M diethylaluminium chloride Chemical compound CC[Al](Cl)CC YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CIKJANOSDPPCAU-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl cyclohexane-1,4-dicarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1CCC(C(=O)OOC(C)(C)C)CC1 CIKJANOSDPPCAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L ethylaluminum(2+);dichloride Chemical compound CC[Al](Cl)Cl UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- CHPAZJVPFDXOAQ-UHFFFAOYSA-N fluoromethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCF CHPAZJVPFDXOAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWYUJGXEYOXHRJ-UHFFFAOYSA-N fluoromethyl prop-2-enoate Chemical compound FCOC(=O)C=C FWYUJGXEYOXHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002638 heterogeneous catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000009904 heterogeneous catalytic hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012690 ionic polymerization Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940119545 isobornyl methacrylate Drugs 0.000 description 1
- BSLBENVVENBYIW-UHFFFAOYSA-L lead(2+);prop-2-enoate Chemical compound [Pb+2].[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C BSLBENVVENBYIW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 150000002642 lithium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000006078 metal deactivator Substances 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- CCRCUPLGCSFEDV-UHFFFAOYSA-N methyl cinnamate Chemical class COC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 CCRCUPLGCSFEDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- OSFCMRGOZNQUSW-UHFFFAOYSA-N n-[4-[2-(6,7-dimethoxy-3,4-dihydro-1h-isoquinolin-2-yl)ethyl]phenyl]-5-methoxy-9-oxo-10h-acridine-4-carboxamide Chemical compound N1C2=C(OC)C=CC=C2C(=O)C2=C1C(C(=O)NC1=CC=C(C=C1)CCN1CCC=3C=C(C(=CC=3C1)OC)OC)=CC=C2 OSFCMRGOZNQUSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVYCQBKSRWZZGX-UHFFFAOYSA-N naphthalen-1-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC=C2C(OC(=O)C(=C)C)=CC=CC2=C1 HVYCQBKSRWZZGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005609 naphthenate group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002370 organoaluminium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002900 organolithium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical group C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N phosphite(3-) Chemical class [O-]P([O-])[O-] AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XDJFUWIQZPRDDG-UHFFFAOYSA-J prop-2-enoate;tin(4+) Chemical compound [Sn+4].[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C XDJFUWIQZPRDDG-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 150000003626 triacylglycerols Chemical class 0.000 description 1
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N triisobutylaluminium Chemical compound CC(C)C[Al](CC(C)C)CC(C)C MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- XKMZOFXGLBYJLS-UHFFFAOYSA-L zinc;prop-2-enoate Chemical compound [Zn+2].[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C XKMZOFXGLBYJLS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
- C08F8/04—Reduction, e.g. hydrogenation
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、透明性、低分散性、低吸湿性、耐熱性に優れ
た光学材料に関する。
た光学材料に関する。
[従来の技術]
近年において、透明性樹脂は、自動車部品、照明機器、
電気部品、雑貨などにおける透明性が要求される成形材
料としての分野の他に、光学的性質を重要視する光学材
料としての応用が研究されている。この種の光学材料に
おいては高い透明性に加え、従来の透明樹脂では満足さ
れない高度な性能が要求されている。
電気部品、雑貨などにおける透明性が要求される成形材
料としての分野の他に、光学的性質を重要視する光学材
料としての応用が研究されている。この種の光学材料に
おいては高い透明性に加え、従来の透明樹脂では満足さ
れない高度な性能が要求されている。
従来、例えば光学レンズ、光デイスク基板等の光学材料
としては、ポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリ
レート樹脂、ポリシクロへキシルメタクリレート樹脂、
アルキルメタクリレートとメチルメタクリレート、スチ
レンまたは他の単量体との共重合体樹脂、かさ高いアル
キルを有するメタクリル酸エステルを含む重合体樹脂、
その他が知られている。
としては、ポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリ
レート樹脂、ポリシクロへキシルメタクリレート樹脂、
アルキルメタクリレートとメチルメタクリレート、スチ
レンまたは他の単量体との共重合体樹脂、かさ高いアル
キルを有するメタクリル酸エステルを含む重合体樹脂、
その他が知られている。
[発明が解決しようとする問題点]
しかしながら、上述の光学材料は、光学レンズとして、
また特に光デイスク基板材料として要求される低複屈折
性、低分散性、低吸湿性、耐熱性および機械強度の全て
を満足するものではない。
また特に光デイスク基板材料として要求される低複屈折
性、低分散性、低吸湿性、耐熱性および機械強度の全て
を満足するものではない。
例えば、上述の光学材料を光デイスク基板材料として用
いた場合、ポリスチレン樹脂やポリカーボネート樹脂は
、その複屈折率が大きいため、レーザー光による情報再
生時にエラーが多くなる。
いた場合、ポリスチレン樹脂やポリカーボネート樹脂は
、その複屈折率が大きいため、レーザー光による情報再
生時にエラーが多くなる。
また、ポリメチルメタクリレート樹脂は吸湿性が大きい
ため、吸湿による寸法形状の変化に伴うディスク表面の
そりが生じ、そのために情報再生時にエラーが多くなる
と共に、吸湿による記録膜の変質が生じる恐れが大きい
。また、ポリシクロへキシルメタクリレート樹脂は吸湿
性はともかくとしても、ガラス転移温度が低いため耐熱
性に劣るという問題点があり、シクロへキシルメタクリ
レートとメチルメタクリレートまたはスチレンとの共重
合体は耐熱性は若干向上するものの、例えばメチルメタ
クリレートとの共重合は吸湿性が大きく、一方スチレン
との共重合は複屈折性が増大して光学的性質が劣った物
となる。また、ポリ4−メチルペンテン−1樹脂は低吸
水性は優れているものの、ガラス転移温度が低く、耐熱
性に劣るという欠点を持っている。
ため、吸湿による寸法形状の変化に伴うディスク表面の
そりが生じ、そのために情報再生時にエラーが多くなる
と共に、吸湿による記録膜の変質が生じる恐れが大きい
。また、ポリシクロへキシルメタクリレート樹脂は吸湿
性はともかくとしても、ガラス転移温度が低いため耐熱
性に劣るという問題点があり、シクロへキシルメタクリ
レートとメチルメタクリレートまたはスチレンとの共重
合体は耐熱性は若干向上するものの、例えばメチルメタ
クリレートとの共重合は吸湿性が大きく、一方スチレン
との共重合は複屈折性が増大して光学的性質が劣った物
となる。また、ポリ4−メチルペンテン−1樹脂は低吸
水性は優れているものの、ガラス転移温度が低く、耐熱
性に劣るという欠点を持っている。
また、光学レンズとして上述の光学材料を用いた場合も
、それらは耐熱性、吸湿性、分散性などで、要求性能を
完全に満たすものではない。
、それらは耐熱性、吸湿性、分散性などで、要求性能を
完全に満たすものではない。
以上のように、従来、十分な光学的性質、低吸湿性、耐
熱性および機械的強度を有する光学材料としては、好適
なものは殆ど得られていないのが現状である。
熱性および機械的強度を有する光学材料としては、好適
なものは殆ど得られていないのが現状である。
[問題を解決するための手段]
そこで本発明者らは、かかる問題の解決された光学材料
、特に光学式記録ディスク基板用、および光学レンズ用
として優れた光学材料樹脂の開発のため鋭意研究を重ね
た結果、ビニル芳香族炭化水素化合物、またはそれと共
重合可能な単量体を(共)重合し、得られた重合体を水
素添加(以下、水添という)して得られる重合体が低い
複屈折率と高い透明性および優れた成形性を有し、光学
式記録ディスク基板、および光学レンズを初めとする一
般の光学材料として極めて有用であること、更に芳香族
炭化水素基の水添により重合体のガラス転移温度が水添
前に比べ大幅に上昇することにより、耐熱性の面でも従
来にない有用な光学材料であることを見いだして本発明
に到達した。
、特に光学式記録ディスク基板用、および光学レンズ用
として優れた光学材料樹脂の開発のため鋭意研究を重ね
た結果、ビニル芳香族炭化水素化合物、またはそれと共
重合可能な単量体を(共)重合し、得られた重合体を水
素添加(以下、水添という)して得られる重合体が低い
複屈折率と高い透明性および優れた成形性を有し、光学
式記録ディスク基板、および光学レンズを初めとする一
般の光学材料として極めて有用であること、更に芳香族
炭化水素基の水添により重合体のガラス転移温度が水添
前に比べ大幅に上昇することにより、耐熱性の面でも従
来にない有用な光学材料であることを見いだして本発明
に到達した。
本発明は、ビニル芳香族炭化水素化合物、またはそれと
共重合可能な単量体を(共)重合し、得られた(共)重
合体中の芳香族炭化水素環の少なくとも30%を水添し
て得られる重合体を構成成分とすることを特徴とする光
学材料に関するものである。
共重合可能な単量体を(共)重合し、得られた(共)重
合体中の芳香族炭化水素環の少なくとも30%を水添し
て得られる重合体を構成成分とすることを特徴とする光
学材料に関するものである。
本発明に係るビニル芳香族炭化水素化合物としては、ス
チレン、α−メチルスチレン、α−ビニルナフタレン、
β−ビニルナフタレン、α−イソプロペニルナフタレン
、β−イソプロペニルナフタレン、およびこれらの置換
体が挙げられるが、特にスチレン、α−メチルスチレン
が好適に使用される。ビニル芳香族炭化水素化合物は単
独または2種以上を混合使用することが出来、例えばス
チレンとα−メチルスチレンの組合せは好適である。ま
た、置換ビニル芳香族炭化水素化合物も本発明に係るビ
ニル芳香族炭化水素化合物に含まれ、その例としては、
例えばスチレンについて例を挙げるならば、0−メチル
スチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、
p−シクロへキシルスチレン、p−t−ブチルスチレン
、ジメチルスチレン等の(シクロ)アルキルスチレン、
メトキシスチレン等アルコキシスチレン、ヒドロキシス
チレン類、カルボメトキシスチレン類、アセトキシスチ
レン類、シアノスチレン類等官能基を有するスチレン類
が挙げられる。なお置換基は、同一または違ったものが
2個以上あってもよい。
チレン、α−メチルスチレン、α−ビニルナフタレン、
β−ビニルナフタレン、α−イソプロペニルナフタレン
、β−イソプロペニルナフタレン、およびこれらの置換
体が挙げられるが、特にスチレン、α−メチルスチレン
が好適に使用される。ビニル芳香族炭化水素化合物は単
独または2種以上を混合使用することが出来、例えばス
チレンとα−メチルスチレンの組合せは好適である。ま
た、置換ビニル芳香族炭化水素化合物も本発明に係るビ
ニル芳香族炭化水素化合物に含まれ、その例としては、
例えばスチレンについて例を挙げるならば、0−メチル
スチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、
p−シクロへキシルスチレン、p−t−ブチルスチレン
、ジメチルスチレン等の(シクロ)アルキルスチレン、
メトキシスチレン等アルコキシスチレン、ヒドロキシス
チレン類、カルボメトキシスチレン類、アセトキシスチ
レン類、シアノスチレン類等官能基を有するスチレン類
が挙げられる。なお置換基は、同一または違ったものが
2個以上あってもよい。
本発明においては、ビニル芳香族炭化水素化合物だけか
らなる重合体を水添して得られた重合体を光学材料とす
ることも可能だが、光学素子としたときの表面の接着性
を要求される用途を目的とした光学材料を得るときは、
ビニル芳香族炭化水素化合物、およびそれと共重合可能
な他の単量体を共重合した共重合体を水添した重合体を
光学材料とするのが好ましい。本発明に係るビニル芳香
族炭化水素化合物と共重合可能な重合体としては、不飽
和脂肪酸エステル、シアノビニル化合物、不飽和2塩基
酸またはその誘導体、不飽和脂肪酸またはその誘導体で
ある。不飽和脂肪酸エステルの例としては、アクリル酸
メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アク
リル酸ブ≠ル、アクリル酸2−エチルヘキシル等のアク
リル酸アルキルエステル、アクリル酸シクロヘキシル、
アクリル酸メチルシクロヘキシル、アクリル酸t−ブチ
ルシクロヘキシル、アクリル酸ボルニル、アクリル酸イ
ソボルニル、アクリル酸アダマンチル、アクリル酸−2
−[5,2,1,O”6] )リシクロデシル等のア
クリル酸シクロアルキルエステル、アクリル酸フェニル
、アクリル酸ベンジル、アクリル酸ナフチル等のアクリ
ル酸芳香族エステル、アクリル酸フルオロベンジル、ア
クリル酸クロロフェニル、アクリル酸ブロモベンジル等
のアクリル酸置換芳香族エステル、アクリル酸フルオロ
メチル、アクリル酸フルオロエチル、アクリル酸クロロ
エチル、アクリル酸ブロモエチル等のアクリル酸ハロゲ
ン化アルキルエステル、アクリル酸ヒドロキシアルキル
エステル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸アミノア
ルキルエステル、メタクリル酸シアノアルキルエステル
等のアクリル酸エステル、メタクリル酸メチル、メタク
リル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブ
チル、メタクリル酸2−エチルヘキシル等のメタクリル
酸アルキルエステル、メタクリル酸シクロヘキシル、メ
タクリル酸メチルシクロヘキシル、メタクリル酸t−ブ
チルシクロヘキシル、メタクリル酸ボルニル、メタクリ
ル酸イソボルニル、メタクリル酸アダマンチル、メタク
リル酸−2−[5,2,1,02゛6 ] トリシク
ロデシル等のメタクリル酸シクロアルキルエステル、メ
タクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリ
ル酸ナフチル等のメタクリル酸芳香族エステル、メタク
リル酸フルオロベンジル、メタクリル酸クロロフェニル
、メタクリル酸ブロモベンジル等のメタクリル酸置換芳
香族エステル、メタクリル酸フルオロメチル、メタクリ
ル酸フルオロエチル、メタクリル酸クロロエチル、メタ
クリル酸ブロモエチル等のメタクリル酸ハロゲン化アル
キルエステル、メタクリル酸ヒドロキシアルキルエステ
ル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸アミノアル
キルエステル、メタクリル酸シアノアルキルエステル等
のメタクリル酸エステルを挙げることが出来る。シアノ
ビニル化合物の例としては、アクリロニトリル、メタシ
クロニトリル等を挙げることが出来る。不飽和2塩基酸
またはその誘導体としては、N−メチルマレイミド、N
−エチルマレイミド、N−プロピルマレイミド、N−ブ
チルマレイミド、N−シクロへキシルマレイミド、N−
フェニルマレイミド、N−メチルフェニルマレイミド、
N−メトキシフェニルマレイミド、N−カルボキシフェ
ニルマレイミドなどのN−置換マレイミド、マレイン酸
、フマル酸等を挙げることが出来る。不飽和脂肪酸また
はその誘導体としては前述の不飽和脂肪酸エステルの外
、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−ジメチルア
クリルアミド、N−ジエチルアクリルアミド、N−ジメ
チルメタクリルアミド、N−ジエチルメタクリルアミド
などのアクリル酸アミドもしくはメタクリル酸アミド類
、アクリル酸カルシウム、メタクリル酸カルシウム、ア
クリル酸バリウム、メタクリル酸バリウム、アクリル酸
鉛、メタクリル酸鉛、アクリル酸スズ、メタクリル酸ス
ズ、アクリル酸亜鉛、メタクリル酸亜鉛等のアクリル酸
もしくはメタクリル酸の金属塩、アクリル酸、メタクリ
ル酸などを挙げることが出来る。これらは1種を単独で
、または2種以上同時にビニル芳香族庚化水素化合物と
の共重合に用いることが出来る。
らなる重合体を水添して得られた重合体を光学材料とす
ることも可能だが、光学素子としたときの表面の接着性
を要求される用途を目的とした光学材料を得るときは、
ビニル芳香族炭化水素化合物、およびそれと共重合可能
な他の単量体を共重合した共重合体を水添した重合体を
光学材料とするのが好ましい。本発明に係るビニル芳香
族炭化水素化合物と共重合可能な重合体としては、不飽
和脂肪酸エステル、シアノビニル化合物、不飽和2塩基
酸またはその誘導体、不飽和脂肪酸またはその誘導体で
ある。不飽和脂肪酸エステルの例としては、アクリル酸
メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アク
リル酸ブ≠ル、アクリル酸2−エチルヘキシル等のアク
リル酸アルキルエステル、アクリル酸シクロヘキシル、
アクリル酸メチルシクロヘキシル、アクリル酸t−ブチ
ルシクロヘキシル、アクリル酸ボルニル、アクリル酸イ
ソボルニル、アクリル酸アダマンチル、アクリル酸−2
−[5,2,1,O”6] )リシクロデシル等のア
クリル酸シクロアルキルエステル、アクリル酸フェニル
、アクリル酸ベンジル、アクリル酸ナフチル等のアクリ
ル酸芳香族エステル、アクリル酸フルオロベンジル、ア
クリル酸クロロフェニル、アクリル酸ブロモベンジル等
のアクリル酸置換芳香族エステル、アクリル酸フルオロ
メチル、アクリル酸フルオロエチル、アクリル酸クロロ
エチル、アクリル酸ブロモエチル等のアクリル酸ハロゲ
ン化アルキルエステル、アクリル酸ヒドロキシアルキル
エステル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸アミノア
ルキルエステル、メタクリル酸シアノアルキルエステル
等のアクリル酸エステル、メタクリル酸メチル、メタク
リル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブ
チル、メタクリル酸2−エチルヘキシル等のメタクリル
酸アルキルエステル、メタクリル酸シクロヘキシル、メ
タクリル酸メチルシクロヘキシル、メタクリル酸t−ブ
チルシクロヘキシル、メタクリル酸ボルニル、メタクリ
ル酸イソボルニル、メタクリル酸アダマンチル、メタク
リル酸−2−[5,2,1,02゛6 ] トリシク
ロデシル等のメタクリル酸シクロアルキルエステル、メ
タクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリ
ル酸ナフチル等のメタクリル酸芳香族エステル、メタク
リル酸フルオロベンジル、メタクリル酸クロロフェニル
、メタクリル酸ブロモベンジル等のメタクリル酸置換芳
香族エステル、メタクリル酸フルオロメチル、メタクリ
ル酸フルオロエチル、メタクリル酸クロロエチル、メタ
クリル酸ブロモエチル等のメタクリル酸ハロゲン化アル
キルエステル、メタクリル酸ヒドロキシアルキルエステ
ル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸アミノアル
キルエステル、メタクリル酸シアノアルキルエステル等
のメタクリル酸エステルを挙げることが出来る。シアノ
ビニル化合物の例としては、アクリロニトリル、メタシ
クロニトリル等を挙げることが出来る。不飽和2塩基酸
またはその誘導体としては、N−メチルマレイミド、N
−エチルマレイミド、N−プロピルマレイミド、N−ブ
チルマレイミド、N−シクロへキシルマレイミド、N−
フェニルマレイミド、N−メチルフェニルマレイミド、
N−メトキシフェニルマレイミド、N−カルボキシフェ
ニルマレイミドなどのN−置換マレイミド、マレイン酸
、フマル酸等を挙げることが出来る。不飽和脂肪酸また
はその誘導体としては前述の不飽和脂肪酸エステルの外
、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−ジメチルア
クリルアミド、N−ジエチルアクリルアミド、N−ジメ
チルメタクリルアミド、N−ジエチルメタクリルアミド
などのアクリル酸アミドもしくはメタクリル酸アミド類
、アクリル酸カルシウム、メタクリル酸カルシウム、ア
クリル酸バリウム、メタクリル酸バリウム、アクリル酸
鉛、メタクリル酸鉛、アクリル酸スズ、メタクリル酸ス
ズ、アクリル酸亜鉛、メタクリル酸亜鉛等のアクリル酸
もしくはメタクリル酸の金属塩、アクリル酸、メタクリ
ル酸などを挙げることが出来る。これらは1種を単独で
、または2種以上同時にビニル芳香族庚化水素化合物と
の共重合に用いることが出来る。
これら共重合可能な他の単量体のうち、アクリル酸エス
テル、メタクリル酸エステル、N−置換マレイミドが好
ましく、特にメチルメタクリレート、メチルアクリレー
ト、N−フェニルマレイミド、N−シクロへキシルマレ
イミドが好ましい。
テル、メタクリル酸エステル、N−置換マレイミドが好
ましく、特にメチルメタクリレート、メチルアクリレー
ト、N−フェニルマレイミド、N−シクロへキシルマレ
イミドが好ましい。
ビニル芳香族化合物と、それと共重合可能な他の単量体
との比率は、5〜100/95〜0であることが好まし
く、特に好ましくは10〜100790〜0であり、更
に好ましくは20〜100/80〜0である。
との比率は、5〜100/95〜0であることが好まし
く、特に好ましくは10〜100790〜0であり、更
に好ましくは20〜100/80〜0である。
ビニル芳香族炭化水素化合物の重合体を製造する方法と
しては、ラジカル重合法、イオン重合法、配位重合法等
の公知の方法が適用出来る。例えばラジカル重合では開
始剤の存在下、通常0℃〜200℃、好ましくは20℃
〜150℃で塊状重合、溶液重合、懸濁重合、乳化重合
等の方法で製造できるが、特に樹脂中の不純物等の混入
等を考慮する必要のある場合は塊状重合または懸濁重合
が好ましい。ラジカル重合開始剤としては、例えば過酸
化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、ジ−t−ブチル−パ
ーオキシへキサヒドロテレフタレート、t−ブチル−パ
ーオキシ−2−エチルヘキサノエート、1,1−ジ−t
−ブチルパーオキシ−3゜3.5−トリメチルシクロヘ
キサノン等の有機過酸化物、アゾイソブチロニトリル、
アゾイソビス−4−メチキシ−2,4−ジメチルバレロ
ニトリル、アゾビスシクロへキサノン−1−カルボニト
リル、アゾジベンゾイル等のアゾ化合物、過硫酸カリウ
ム、過硫酸アンモニウムに代表される水溶性触媒および
過酸化物あるいは過硫酸塩と還元剤の組合せによるレド
ックス触媒など通常のラジカル重合に使用出来るものは
いずれも使用可能である。またアニオン重合では開始剤
の存在下、通常−80℃〜200℃、好ましくは20℃
〜150℃で塊状重合、溶液重合、スラリー重合等の方
法で製造できるが、特に樹脂中の不純物等の混入等、ま
た反応熱の除去を考慮する必要のある場合はヘキサン、
シクロヘキサン等の不活性溶媒を用いる溶液重合が好ま
しい。アニオン重合開始剤とじては通常、有機リチウム
化合物が使用されるが、特にn−ブチルリチウム、5e
c−ブチルリチウムを好適に用いることが出来る。また
この場合、通常よく知られているように、エーテル類、
第3級アミンを添加してもよい。
しては、ラジカル重合法、イオン重合法、配位重合法等
の公知の方法が適用出来る。例えばラジカル重合では開
始剤の存在下、通常0℃〜200℃、好ましくは20℃
〜150℃で塊状重合、溶液重合、懸濁重合、乳化重合
等の方法で製造できるが、特に樹脂中の不純物等の混入
等を考慮する必要のある場合は塊状重合または懸濁重合
が好ましい。ラジカル重合開始剤としては、例えば過酸
化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、ジ−t−ブチル−パ
ーオキシへキサヒドロテレフタレート、t−ブチル−パ
ーオキシ−2−エチルヘキサノエート、1,1−ジ−t
−ブチルパーオキシ−3゜3.5−トリメチルシクロヘ
キサノン等の有機過酸化物、アゾイソブチロニトリル、
アゾイソビス−4−メチキシ−2,4−ジメチルバレロ
ニトリル、アゾビスシクロへキサノン−1−カルボニト
リル、アゾジベンゾイル等のアゾ化合物、過硫酸カリウ
ム、過硫酸アンモニウムに代表される水溶性触媒および
過酸化物あるいは過硫酸塩と還元剤の組合せによるレド
ックス触媒など通常のラジカル重合に使用出来るものは
いずれも使用可能である。またアニオン重合では開始剤
の存在下、通常−80℃〜200℃、好ましくは20℃
〜150℃で塊状重合、溶液重合、スラリー重合等の方
法で製造できるが、特に樹脂中の不純物等の混入等、ま
た反応熱の除去を考慮する必要のある場合はヘキサン、
シクロヘキサン等の不活性溶媒を用いる溶液重合が好ま
しい。アニオン重合開始剤とじては通常、有機リチウム
化合物が使用されるが、特にn−ブチルリチウム、5e
c−ブチルリチウムを好適に用いることが出来る。また
この場合、通常よく知られているように、エーテル類、
第3級アミンを添加してもよい。
重合体は、例えばスチームストリッピング法、直脱法、
アルコール凝固法等公知の方法で回収出来る。また本発
明においては重合時、水添反応に不活性な溶媒を用いた
場合は、重合溶液から重合体を回収せず、そのまま水添
工程に供することが出来る。
アルコール凝固法等公知の方法で回収出来る。また本発
明においては重合時、水添反応に不活性な溶媒を用いた
場合は、重合溶液から重合体を回収せず、そのまま水添
工程に供することが出来る。
本発明に係る重合体は、その分子量が特に制限されるも
のではないが、優れた耐熱性および機械的強度を得るた
めには重量平均分子量(ポリスチレン換算)が、好まし
くは30,000〜1.Ooo、ooo、特に好ましく
は50,000〜8oo、ooo、更に好ましくは60
,000〜6oo、oooの範囲がよく、この範囲であ
れば特に成形材料として使用する場合、良好な成形性を
得ることが出来る。
のではないが、優れた耐熱性および機械的強度を得るた
めには重量平均分子量(ポリスチレン換算)が、好まし
くは30,000〜1.Ooo、ooo、特に好ましく
は50,000〜8oo、ooo、更に好ましくは60
,000〜6oo、oooの範囲がよく、この範囲であ
れば特に成形材料として使用する場合、良好な成形性を
得ることが出来る。
ビニル芳香族炭化水素化合物の重合体、またはビニル芳
香族炭化水素化合物と、それと共重合可能な単量体との
共重合の水素添加は公知の水添触媒の存在下、液相で均
一または不均一相で行われる。水添反応時の溶媒は、水
添反応に不活性な溶媒はであれば特に限定はされないが
、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、シ
クロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環族炭化水
素類、アルコール類、エステル類等が好適に使用される
。水添反応時の溶液中の重合体の濃度は、1〜50%、
好ましくは3〜40%、より好ましくは5〜30%であ
る。重合体濃度が高くなり過ぎると水添速度が遅くなり
、逆に重合4濃度が低過ぎると水添反応器を過度に大き
くする必要があるなど経済的に不利となる。
香族炭化水素化合物と、それと共重合可能な単量体との
共重合の水素添加は公知の水添触媒の存在下、液相で均
一または不均一相で行われる。水添反応時の溶媒は、水
添反応に不活性な溶媒はであれば特に限定はされないが
、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、シ
クロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環族炭化水
素類、アルコール類、エステル類等が好適に使用される
。水添反応時の溶液中の重合体の濃度は、1〜50%、
好ましくは3〜40%、より好ましくは5〜30%であ
る。重合体濃度が高くなり過ぎると水添速度が遅くなり
、逆に重合4濃度が低過ぎると水添反応器を過度に大き
くする必要があるなど経済的に不利となる。
水添反応は、温度10℃〜250℃、好ましくは50℃
〜200℃、より好ましくは80°C〜180℃で、水
素圧力は1 kg/crl〜300 kg/cJ、好ま
しくは10 kg/ CI#〜250 kg/ (IJ
、より好ましくは20 kg/ cI#〜200 kg
/ (Jで行う。反応温度が低いと反応速度が遅く、反
応温度が高過ぎると、重合体の分解が生じ好ましくない
。水素圧力が低い場合は反応速度が遅く、逆に水素圧力
を高めるためには高耐圧の反応器を必要とし経済的では
ない。
〜200℃、より好ましくは80°C〜180℃で、水
素圧力は1 kg/crl〜300 kg/cJ、好ま
しくは10 kg/ CI#〜250 kg/ (IJ
、より好ましくは20 kg/ cI#〜200 kg
/ (Jで行う。反応温度が低いと反応速度が遅く、反
応温度が高過ぎると、重合体の分解が生じ好ましくない
。水素圧力が低い場合は反応速度が遅く、逆に水素圧力
を高めるためには高耐圧の反応器を必要とし経済的では
ない。
水添触媒としては、ニッケル、コバルト、鉄、チタン、
ロジウム、パラジウム、白金、ルテニウム、レニウムの
金属または化合物を単独または2種以上組合せて用いる
)(、特にロジウム、パラジウム、白金、ルテニウム、
レニウムの金属または化合物が穏やかな反応条件で水素
添加反応を出来るので好ましい。不均一系触媒は金属、
または金属化合物のまま、または適当な担体に担持して
用いることが出来る。担体としては、活性炭、シリカ、
アルミナ、シリカ・アルミナ、ケイソウ土、炭酸バリウ
ム、炭酸カルシウム、チタニア、マグネシア、ジルコニ
ア、炭化珪素等−船釣な担体が使用される。この場合、
担体上の上記金属の担持量は、通常0.01〜50重量
96の範囲であり、好ましくは0.05〜20重量%で
ある。不均一系水添反応は、固定床、懸濁床または循環
方式等一般に用いられている方法でよい。均一系触媒と
しては、ニッケル、コバルト、チタンまたは鉄化合物と
有機金属化合物、例えば有機アルミ、有機リチウム化合
物とを組合わせた触媒またはロジウム、パラジウム、白
金、ルテニウム、レニウム等の有機金属錯体を用いるこ
とが出来る。均一系触媒に用いられるニッケル、コバル
ト、チタンまたは鉄化合物としては、例えば各金属のア
セチルアセトン塩、ナフテン酸塩、シクロペンタジェニ
ル化合物、シクロペンタジェニルジクロロ化合物等が用
いられる。有機アルミニウムとしては、トリエチルアル
ミニウム、トリイソブチルアルミニウム等のアルキルア
ルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、エチルア
ルミニウムジクロリド等のハロゲン化アルキルアルミニ
ウム、ジイソブチルアルミニウムハイドライドの様な水
素化アルキルアルミニウム等が好適に用いられる。有機
金属錯体の例としては、上記各金属のγ−ジクロローπ
−ベンゼン錯体、ジクロロ−トリス(トリフェニルホス
フィン)錯体、ヒトリッド−クロロ−トリス(トリフェ
ニルホスフィン)錯体等の金属錯体が使用される。
ロジウム、パラジウム、白金、ルテニウム、レニウムの
金属または化合物を単独または2種以上組合せて用いる
)(、特にロジウム、パラジウム、白金、ルテニウム、
レニウムの金属または化合物が穏やかな反応条件で水素
添加反応を出来るので好ましい。不均一系触媒は金属、
または金属化合物のまま、または適当な担体に担持して
用いることが出来る。担体としては、活性炭、シリカ、
アルミナ、シリカ・アルミナ、ケイソウ土、炭酸バリウ
ム、炭酸カルシウム、チタニア、マグネシア、ジルコニ
ア、炭化珪素等−船釣な担体が使用される。この場合、
担体上の上記金属の担持量は、通常0.01〜50重量
96の範囲であり、好ましくは0.05〜20重量%で
ある。不均一系水添反応は、固定床、懸濁床または循環
方式等一般に用いられている方法でよい。均一系触媒と
しては、ニッケル、コバルト、チタンまたは鉄化合物と
有機金属化合物、例えば有機アルミ、有機リチウム化合
物とを組合わせた触媒またはロジウム、パラジウム、白
金、ルテニウム、レニウム等の有機金属錯体を用いるこ
とが出来る。均一系触媒に用いられるニッケル、コバル
ト、チタンまたは鉄化合物としては、例えば各金属のア
セチルアセトン塩、ナフテン酸塩、シクロペンタジェニ
ル化合物、シクロペンタジェニルジクロロ化合物等が用
いられる。有機アルミニウムとしては、トリエチルアル
ミニウム、トリイソブチルアルミニウム等のアルキルア
ルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、エチルア
ルミニウムジクロリド等のハロゲン化アルキルアルミニ
ウム、ジイソブチルアルミニウムハイドライドの様な水
素化アルキルアルミニウム等が好適に用いられる。有機
金属錯体の例としては、上記各金属のγ−ジクロローπ
−ベンゼン錯体、ジクロロ−トリス(トリフェニルホス
フィン)錯体、ヒトリッド−クロロ−トリス(トリフェ
ニルホスフィン)錯体等の金属錯体が使用される。
本発明において重合体の水添率は重要である。
即ち、本発明における光学材料は、その重合体中の芳香
族炭化水素環の少なくとも30%は水添されている必要
がある。重合体中の芳香族炭化水素環の水添率が30%
より低いと分散性、複屈折等光学性能が悪くなり、光学
材料としては使えなくなり、より好ましくは50%以上
が、更に好ましくは80%が水添されているのが好まし
い。また水添率は一般には高い方が好ましいが、ビニル
芳香族炭化水素だけからなる重合体を水添して光学材料
を得る場合などにおいて、表面接着性、着色性などの点
、また光デイスク用基板として用いたときの記録層との
接着性などの点から水添率を100%よりも下げて、芳
香族基をのこしてもよい。
族炭化水素環の少なくとも30%は水添されている必要
がある。重合体中の芳香族炭化水素環の水添率が30%
より低いと分散性、複屈折等光学性能が悪くなり、光学
材料としては使えなくなり、より好ましくは50%以上
が、更に好ましくは80%が水添されているのが好まし
い。また水添率は一般には高い方が好ましいが、ビニル
芳香族炭化水素だけからなる重合体を水添して光学材料
を得る場合などにおいて、表面接着性、着色性などの点
、また光デイスク用基板として用いたときの記録層との
接着性などの点から水添率を100%よりも下げて、芳
香族基をのこしてもよい。
本発明におけろ水添工程により、重合体のガラス転移温
度は一般に上昇する。また本発明に係る水添重合体のガ
ラス転移温度は、通常60℃〜250℃が好ましく、特
に好ましくは80℃〜200℃である。ガラス転移温度
が低いと耐熱性が悪くなるため′光学材料として不適当
となり、逆にガラス転移温度が高過ぎると成形時、重合
体の劣化が起こり光学材料としては不適当である。
度は一般に上昇する。また本発明に係る水添重合体のガ
ラス転移温度は、通常60℃〜250℃が好ましく、特
に好ましくは80℃〜200℃である。ガラス転移温度
が低いと耐熱性が悪くなるため′光学材料として不適当
となり、逆にガラス転移温度が高過ぎると成形時、重合
体の劣化が起こり光学材料としては不適当である。
本発明に係る重合体は、その使用に際して、老化防止、
熱安定化、成形性の向上を目的として、フェノール系、
フォスファイト系、チオエーテル系等の酸化防止剤、脂
肪族アルコール、脂肪族エステル、フタル酸エステル、
トリグリセライド類、フッ素系界面活性剤、高級脂肪酸
金属塩等の離型剤、その他滑材、可塑剤、帯電防止剤、
紫外線吸収剤、重金属不活性化材などの添加剤を添加す
ることが出来る。
熱安定化、成形性の向上を目的として、フェノール系、
フォスファイト系、チオエーテル系等の酸化防止剤、脂
肪族アルコール、脂肪族エステル、フタル酸エステル、
トリグリセライド類、フッ素系界面活性剤、高級脂肪酸
金属塩等の離型剤、その他滑材、可塑剤、帯電防止剤、
紫外線吸収剤、重金属不活性化材などの添加剤を添加す
ることが出来る。
本発明の光学材料は、種々の公知の成形手段を適用して
光学製品とすることが出来る。即ち、射出成形法、圧縮
成形法、押し出し成形法などを利用することが出来る。
光学製品とすることが出来る。即ち、射出成形法、圧縮
成形法、押し出し成形法などを利用することが出来る。
本発明の光学材料の用途は特に制限されるものではなく
、広い範囲にわたって使用することが出来、例えば、一
般カメラ用レンズ、ビデオカメラ用レンズ、望遠鏡用レ
ンズ、レーザービーム用レンズ等の光学レンズ、光学式
ビデオディスク、オーディオディスク、文書ファイルデ
ィスク、メモリーディスク等に好適に使用できる。
、広い範囲にわたって使用することが出来、例えば、一
般カメラ用レンズ、ビデオカメラ用レンズ、望遠鏡用レ
ンズ、レーザービーム用レンズ等の光学レンズ、光学式
ビデオディスク、オーディオディスク、文書ファイルデ
ィスク、メモリーディスク等に好適に使用できる。
本発明による光学材料を用いた光学素子は、その表面に
熱硬化法、紫外線硬化法、真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンブレーティング法等の方法により、無機化合
物、シランカップリング剤等の有機シリコン化合物、ア
クリル系モノマー、ビニルモノマー、メラミン樹脂、エ
ポキシ樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン樹脂などをハー
ドコートすることにより、耐熱性、光学特性、耐薬品性
、耐摩耗性、透湿性等を向上させることが出来る。
熱硬化法、紫外線硬化法、真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンブレーティング法等の方法により、無機化合
物、シランカップリング剤等の有機シリコン化合物、ア
クリル系モノマー、ビニルモノマー、メラミン樹脂、エ
ポキシ樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン樹脂などをハー
ドコートすることにより、耐熱性、光学特性、耐薬品性
、耐摩耗性、透湿性等を向上させることが出来る。
[効 果]
本発明の光学材料は、ビニル芳香族炭化水素化合物、ま
たはそれと共重合可能な他の単量体の(共)重合体を水
添して得られる重合体から成るため、従来から知られて
いる未水添重合体にくらべ優れた光学特性、即ち高い透
明性と低光学分散性を有すると共に優れた耐熱性および
低い吸湿性を有し、しかも大きな機械的強度と良好な成
形性を有する。
たはそれと共重合可能な他の単量体の(共)重合体を水
添して得られる重合体から成るため、従来から知られて
いる未水添重合体にくらべ優れた光学特性、即ち高い透
明性と低光学分散性を有すると共に優れた耐熱性および
低い吸湿性を有し、しかも大きな機械的強度と良好な成
形性を有する。
[実 施 例]
以下、本発明の実施例について述べるが、本発明はこれ
に限定されるものではない。
に限定されるものではない。
なお、分子量はGPCによりPS換算で重量平均分子量
として求めた。水添率は試料を二硫化炭素に溶解し、9
00 cm−1付近のピークの吸収で測定した。
として求めた。水添率は試料を二硫化炭素に溶解し、9
00 cm−1付近のピークの吸収で測定した。
曲げ試験はASTM−D−790に基づき、また鉛筆硬
度はJIS−に〜5401に準じて測定した。
度はJIS−に〜5401に準じて測定した。
全光線透過率はJ I S−に−6717に準じて、屈
折率およびアツベ数はアツベ屈折計で、複屈折値はエリ
プソメーターで測定した。
折率およびアツベ数はアツベ屈折計で、複屈折値はエリ
プソメーターで測定した。
飽和吸水率は、試料を水中に浸し、平衡状態に達した後
、吸水した試料の重量を測定した。この試料は乾燥窒素
気流下で200℃に加熱し、放出された水分量をカール
フィッシャーで定量した。
、吸水した試料の重量を測定した。この試料は乾燥窒素
気流下で200℃に加熱し、放出された水分量をカール
フィッシャーで定量した。
飽和吸水率は次式より求められる。
飽和吸水率=100X水分合/(吸水した試料の重量−
水分量)(%) 実施例1 スチレン100重世部、トルエン100重量部、アゾイ
ソブチロニトリル0.01重量部を還流冷却器、および
撹拌機を備えた容量300m1のセパラブルフラスコ内
に入れ、撹拌しながら温度80℃に加熱して8時間反応
した。得られた重合体の溶液は、2,2;−メチレンビ
ス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)2
重量部を含有する多量のメタノールに加えて重合体を析
出させて、ろ別し、乾燥して98部のポリスチレンを得
た。得られたポリスチレンの平均分子量は80゜000
であった。
水分量)(%) 実施例1 スチレン100重世部、トルエン100重量部、アゾイ
ソブチロニトリル0.01重量部を還流冷却器、および
撹拌機を備えた容量300m1のセパラブルフラスコ内
に入れ、撹拌しながら温度80℃に加熱して8時間反応
した。得られた重合体の溶液は、2,2;−メチレンビ
ス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)2
重量部を含有する多量のメタノールに加えて重合体を析
出させて、ろ別し、乾燥して98部のポリスチレンを得
た。得られたポリスチレンの平均分子量は80゜000
であった。
このポリスチレン100重量部をテトラヒドロフラン1
,000重量部に溶解し、5%ロジウム/カーボン触媒
(日本エンゲルハルト製)20重量部を加え、オートク
レーブを用いて水素圧100 kg / cm、温度1
40℃で4時間反応した。
,000重量部に溶解し、5%ロジウム/カーボン触媒
(日本エンゲルハルト製)20重量部を加え、オートク
レーブを用いて水素圧100 kg / cm、温度1
40℃で4時間反応した。
重合体を含む反応溶液をシクロヘキサンで希釈したのち
ろ過その後、2.2’ −メチレンビス(4−メチル−
5−tert−ブチルフェノール)1重量部を含有する
多量のメタノールに加えて重合体を析出させて、ろ別し
、乾燥して101部の水添ポリスチレンを得た。得られ
た重合体の平均分子量は80.000で水添前と変化が
なく、また芳香族炭化水素環の水添率は100%であっ
た。
ろ過その後、2.2’ −メチレンビス(4−メチル−
5−tert−ブチルフェノール)1重量部を含有する
多量のメタノールに加えて重合体を析出させて、ろ別し
、乾燥して101部の水添ポリスチレンを得た。得られ
た重合体の平均分子量は80.000で水添前と変化が
なく、また芳香族炭化水素環の水添率は100%であっ
た。
この重合体を、射出成形してその物性を測定した。
測定値を第1表に示す。
実施例2〜6
実施例1において、それぞれ重合温度、溶媒使用量を変
えることによりスチレンの重合度を変え、また水添時の
水素圧力、水添反応時間を変えることにより水添率を変
えて水添重合体を作り、実施例1と同様に物性を測定し
た。測定値を第1表に示す。
えることによりスチレンの重合度を変え、また水添時の
水素圧力、水添反応時間を変えることにより水添率を変
えて水添重合体を作り、実施例1と同様に物性を測定し
た。測定値を第1表に示す。
比較例1
実施例1において水添反応をする前の重合体の物性を測
定した。結果を第1表に示した。
定した。結果を第1表に示した。
実施例7
洗浄、乾燥したかくはん機、ジャケット付きのオートク
レーブに窒素雰囲気下で、テトラヒドロフラン500正
伝部、スチレン80重全部、α−メチルスチレン20重
量部を仕込んだ後、内温を=50℃にした。
レーブに窒素雰囲気下で、テトラヒドロフラン500正
伝部、スチレン80重全部、α−メチルスチレン20重
量部を仕込んだ後、内温を=50℃にした。
次に5ec−ブチルリチウム0.07重量部を含むヘキ
サン溶液を添加し、60分重合した。なお、重合中は温
度−50°Cを保った。重合終了後、重合体溶液に少量
のメタノールを添加して重合反応を停止し、共重合溶液
を得た。
サン溶液を添加し、60分重合した。なお、重合中は温
度−50°Cを保った。重合終了後、重合体溶液に少量
のメタノールを添加して重合反応を停止し、共重合溶液
を得た。
この共重合溶液を、触媒を5%ルテニウム/カーボン触
媒(日本エンゲルハルト製)に代えた以外は、実施例1
と同様の方法で水添して、水添後97%の水添重合体を
得た。重合体の物性測定を実施例1と同様に行い、結果
を第2表に示した。
媒(日本エンゲルハルト製)に代えた以外は、実施例1
と同様の方法で水添して、水添後97%の水添重合体を
得た。重合体の物性測定を実施例1と同様に行い、結果
を第2表に示した。
実施例8
実施例1においてメチシン100重全部に代えて、メチ
シン80重曾部、メチルメタクリレート20重全部を用
いた以外は、実施例1と同様にして重合をした。得られ
た重合体を、触媒を5%ルテニウム/カーボン触媒(日
本エンゲルハルト製)に代えた以外は、実施例1と同様
の方法で水添して、水添率98%の水添重合体を得た。
シン80重曾部、メチルメタクリレート20重全部を用
いた以外は、実施例1と同様にして重合をした。得られ
た重合体を、触媒を5%ルテニウム/カーボン触媒(日
本エンゲルハルト製)に代えた以外は、実施例1と同様
の方法で水添して、水添率98%の水添重合体を得た。
重合体の物性測定を実施例1と同様に行い、結果を第2
表に示した。
表に示した。
実施例9
実施例1においてスチレン100重量部に代えて、スチ
レン60重量部、メチルメタクリレート40重量部を用
いた以外は、実施例1と同様にして重合をした。得られ
た重合体を、触媒を5%パラジウム/カーボン触媒(日
本エンゲルハルト製)に、また水素圧力を140kg/
cJに上げた以外は、実施例1と同様の方法で水添して
、水添率98%の水添重合体を得た。重合体の物性測定
を実施例1と同様に行い、結果を第2表に示した。
レン60重量部、メチルメタクリレート40重量部を用
いた以外は、実施例1と同様にして重合をした。得られ
た重合体を、触媒を5%パラジウム/カーボン触媒(日
本エンゲルハルト製)に、また水素圧力を140kg/
cJに上げた以外は、実施例1と同様の方法で水添して
、水添率98%の水添重合体を得た。重合体の物性測定
を実施例1と同様に行い、結果を第2表に示した。
比較例2
実施例8において水添反応をする前の重合体の物性を測
定した。結果を第2表に示した。
定した。結果を第2表に示した。
実施例10
実施例1においてスチレン100重量部に代えて、スチ
レン85重量部、無水マレイン酸15重量部を用いた以
外は、実施例1と同様にして重合、水添反応をして、水
添率97%の水添重合体を得た。重合体の物性測定を実
施例1と同様に行い、結果を第2表に示した。
レン85重量部、無水マレイン酸15重量部を用いた以
外は、実施例1と同様にして重合、水添反応をして、水
添率97%の水添重合体を得た。重合体の物性測定を実
施例1と同様に行い、結果を第2表に示した。
実施例11
実施例1においてスチレン100重量部に代えて、スチ
レン80重量廊、メチルメタクリレート10重量部、無
水マレイン酸10重量部を用いた以外は、実施例1と同
様にして重合、水添反応をして、水添率90%の水添重
合体を得た。重合体の物性測定を実施例1と同様に行い
、結果を第2表に示した。
レン80重量廊、メチルメタクリレート10重量部、無
水マレイン酸10重量部を用いた以外は、実施例1と同
様にして重合、水添反応をして、水添率90%の水添重
合体を得た。重合体の物性測定を実施例1と同様に行い
、結果を第2表に示した。
実施例12
実施例1においてメチシン100重全部に代えて、スチ
レン80重量部、メチルメタクリレート10重量部、N
−フェニルマレイミド10重回部を用いた以外は、実施
例1と同様にして重合、水添反応をして、水添率40%
の水添重合体を得た。
レン80重量部、メチルメタクリレート10重量部、N
−フェニルマレイミド10重回部を用いた以外は、実施
例1と同様にして重合、水添反応をして、水添率40%
の水添重合体を得た。
重合体の物性測定を実施例1と同様に行い、結果を第2
表に示した。
表に示した。
実施例13
実施例1においてスチレン100重量部に代えて、スチ
レン70重量部、メチルメタクリレート10重量部、N
−シクロへキシルマレイミド20重合部を用いた以外は
、実施例1と同様にして重合、水添反応をして、水添率
98%の水添重合体を得た。重合体の物性測定を実施例
1と同様に行い、結果を第2表に示した。
レン70重量部、メチルメタクリレート10重量部、N
−シクロへキシルマレイミド20重合部を用いた以外は
、実施例1と同様にして重合、水添反応をして、水添率
98%の水添重合体を得た。重合体の物性測定を実施例
1と同様に行い、結果を第2表に示した。
Claims (6)
- (1)ビニル芳香族炭化水素化合物、またはそれと共重
合可能な単量体を(共)重合し、得られた重合体中の芳
香族炭化水素環の少なくとも30%を水素添加して得ら
れる重合体を構成成分とすることを特徴とする光学材料
。 - (2)重合体中の芳香族炭化水素環の少なくとも50%
を水素添加して得られる重合体を構成成分とすることを
特徴とする特許請求範囲第1項記載の光学材料。 - (3)重合体中の芳香族炭化水素環の少なくとも80%
を水素添加して得られる重合体を構成成分とすることを
特徴とする特許請求範囲第1項記載の光学材料。 - (4)共重合可能な単量体が不飽和脂肪酸エステル、シ
アノビニル化合物、不飽和2塩基酸またはその誘導体、
不飽和脂肪酸またはその誘導体である特許請求範囲第1
項記載の光学材料。 - (5)水素添加された共重合体のガラス転移温度が60
℃〜250℃である特許請求範囲第1項記載の光学材料
。 - (6)水素添加された共重合体の分子量が30,000
〜1,000,000である特許請求範囲第1項記載の
光学材料。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62291624A JPH0794496B2 (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 光学材料 |
KR1019880012226A KR890008184A (ko) | 1987-11-18 | 1988-09-22 | 광학재료 |
EP19880310772 EP0317263A3 (en) | 1987-11-18 | 1988-11-15 | Optical material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62291624A JPH0794496B2 (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 光学材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01132603A true JPH01132603A (ja) | 1989-05-25 |
JPH0794496B2 JPH0794496B2 (ja) | 1995-10-11 |
Family
ID=17771365
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62291624A Expired - Fee Related JPH0794496B2 (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 光学材料 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0317263A3 (ja) |
JP (1) | JPH0794496B2 (ja) |
KR (1) | KR890008184A (ja) |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998055886A1 (fr) * | 1997-06-06 | 1998-12-10 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Matiere a mouler pour lentilles plastiques |
WO1999005210A1 (fr) * | 1997-07-28 | 1999-02-04 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Composition de resine contenant un polymere vinylique d'hydrocarbure cyclique et son procede de moulage |
JP2001215296A (ja) * | 1999-11-22 | 2001-08-10 | Mitsui Chemicals Inc | 透明ボードおよび中性子遮蔽材 |
WO2005116090A1 (ja) * | 2004-05-31 | 2005-12-08 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 熱可塑性透明樹脂 |
JP2006089713A (ja) * | 2004-05-31 | 2006-04-06 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 熱可塑性透明樹脂 |
JP2006291184A (ja) * | 2005-03-14 | 2006-10-26 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 水素化されたポリマーの製造方法 |
JP2007138044A (ja) * | 2005-11-18 | 2007-06-07 | Konica Minolta Opto Inc | 光学素子用樹脂組成物、光学素子、集光装置及び光ピックアップ装置 |
JP2007254733A (ja) * | 2006-02-27 | 2007-10-04 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 水素化ポリマーの製造方法 |
JP2008115314A (ja) * | 2006-11-07 | 2008-05-22 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 延伸フィルム |
WO2009020096A1 (ja) * | 2007-08-06 | 2009-02-12 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 核水素化された芳香族ビニル化合物/(メタ)アクリレート系共重合体の製造方法 |
JP2009051902A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-12 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 芳香族ポリマー水素化触媒 |
WO2011138953A1 (ja) * | 2010-05-07 | 2011-11-10 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 熱可塑性透明樹脂組成物 |
JP2013220590A (ja) * | 2012-04-17 | 2013-10-28 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 加飾用フィルム |
JP2020132664A (ja) * | 2019-02-13 | 2020-08-31 | 旭化成株式会社 | メタクリル系樹脂の製造方法 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19756368A1 (de) * | 1997-12-18 | 1999-07-01 | Bayer Ag | Vinylcyclohexan basierende Polymere |
DE19906983A1 (de) | 1999-02-19 | 2000-08-31 | Bayer Ag | Mischung aus Vinylcyclohexan basierenden Polymer/Copolymer und Stabilisatorsystem |
DE19921941A1 (de) | 1999-05-12 | 2000-11-16 | Bayer Ag | Vinylcyclohexan basierende Polymere |
JP4224655B2 (ja) * | 1999-08-12 | 2009-02-18 | 日本ゼオン株式会社 | 脂環式炭化水素系共重合体 |
WO2001082298A1 (fr) * | 2000-04-26 | 2001-11-01 | Teijin Limited | Support d'enregistrement optique et substrat utilise dans ce support |
US6806322B2 (en) * | 2001-01-17 | 2004-10-19 | Teijin Limited | Hydrogenated styrene polymer, process for producing the same, and molded object obtained therefrom |
EP1702934B1 (en) * | 2005-03-14 | 2015-05-06 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Method of producing hydrogenated polymers |
TWI396701B (zh) | 2006-02-27 | 2013-05-21 | Mitsubishi Gas Chemical Co | 氫化聚合物之製法 |
US7575844B2 (en) | 2007-04-27 | 2009-08-18 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Color forming composites capable of multi-colored imaging and associated systems and methods |
TWI439478B (zh) * | 2009-08-28 | 2014-06-01 | Tsrc Corp | 部份氫化聚合物及其方法 |
US9321860B2 (en) | 2012-04-17 | 2016-04-26 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Thermoplastic resin |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6343910A (ja) * | 1986-08-11 | 1988-02-25 | Mitsubishi Monsanto Chem Co | 光デイスク基板 |
JPS641706A (en) * | 1987-06-24 | 1989-01-06 | New Japan Chem Co Ltd | Optical part molding material |
JPS6462307A (en) * | 1987-09-01 | 1989-03-08 | New Japan Chem Co Ltd | Production of hydrogenated styrene based polymer |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL274062A (ja) * | 1961-01-28 | 1900-01-01 | ||
NL7313150A (ja) * | 1972-09-28 | 1974-04-01 | ||
JPS518932A (en) * | 1974-07-11 | 1976-01-24 | Minolta Camera Kk | 4 gun 4 maino shashinrenzu |
-
1987
- 1987-11-18 JP JP62291624A patent/JPH0794496B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1988
- 1988-09-22 KR KR1019880012226A patent/KR890008184A/ko not_active Application Discontinuation
- 1988-11-15 EP EP19880310772 patent/EP0317263A3/en not_active Withdrawn
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6343910A (ja) * | 1986-08-11 | 1988-02-25 | Mitsubishi Monsanto Chem Co | 光デイスク基板 |
JPS641706A (en) * | 1987-06-24 | 1989-01-06 | New Japan Chem Co Ltd | Optical part molding material |
JPS6462307A (en) * | 1987-09-01 | 1989-03-08 | New Japan Chem Co Ltd | Production of hydrogenated styrene based polymer |
Cited By (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6486262B1 (en) | 1997-06-06 | 2002-11-26 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Molding material for plastic lens |
WO1998055886A1 (fr) * | 1997-06-06 | 1998-12-10 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Matiere a mouler pour lentilles plastiques |
WO1999005210A1 (fr) * | 1997-07-28 | 1999-02-04 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Composition de resine contenant un polymere vinylique d'hydrocarbure cyclique et son procede de moulage |
US6365660B1 (en) | 1997-07-28 | 2002-04-02 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Resin composition and molded or formed product comprising vinyl cyclic hydrocarbon polymer |
US6498215B2 (en) | 1997-07-28 | 2002-12-24 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Resin composition comprising vinyl cyclic hydrocarbon polymer and a compound having an alcoholic hydroxy group and an ester linkage |
US6500899B2 (en) | 1997-07-28 | 2002-12-31 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Resin composition comprising vinyl cyclic hydrocarbon polymer |
JP2001215296A (ja) * | 1999-11-22 | 2001-08-10 | Mitsui Chemicals Inc | 透明ボードおよび中性子遮蔽材 |
US9085647B2 (en) | 2004-05-31 | 2015-07-21 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Thermoplastic transparent resin |
WO2005116090A1 (ja) * | 2004-05-31 | 2005-12-08 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 熱可塑性透明樹脂 |
JP2006089713A (ja) * | 2004-05-31 | 2006-04-06 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 熱可塑性透明樹脂 |
JP2006291184A (ja) * | 2005-03-14 | 2006-10-26 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 水素化されたポリマーの製造方法 |
JP2007138044A (ja) * | 2005-11-18 | 2007-06-07 | Konica Minolta Opto Inc | 光学素子用樹脂組成物、光学素子、集光装置及び光ピックアップ装置 |
JP2007254733A (ja) * | 2006-02-27 | 2007-10-04 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 水素化ポリマーの製造方法 |
JP2008115314A (ja) * | 2006-11-07 | 2008-05-22 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 延伸フィルム |
WO2009020096A1 (ja) * | 2007-08-06 | 2009-02-12 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 核水素化された芳香族ビニル化合物/(メタ)アクリレート系共重合体の製造方法 |
US8575277B2 (en) | 2007-08-06 | 2013-11-05 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Process for production of nucleus-hydrogenated aromatic vinyl/(meth)acrylate copolymers |
JP5540703B2 (ja) * | 2007-08-06 | 2014-07-02 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 核水素化された芳香族ビニル化合物/(メタ)アクリレート系共重合体の製造方法 |
KR101475101B1 (ko) * | 2007-08-06 | 2014-12-22 | 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 | 핵수소화된 방향족 비닐 화합물/(메타)아크릴레이트계 공중합체의 제조 방법 |
JP2009051902A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-12 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 芳香族ポリマー水素化触媒 |
WO2011138953A1 (ja) * | 2010-05-07 | 2011-11-10 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 熱可塑性透明樹脂組成物 |
US9657168B2 (en) | 2010-05-07 | 2017-05-23 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Thermoplastic transparent resin composition |
JP2013220590A (ja) * | 2012-04-17 | 2013-10-28 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 加飾用フィルム |
JP2020132664A (ja) * | 2019-02-13 | 2020-08-31 | 旭化成株式会社 | メタクリル系樹脂の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR890008184A (ko) | 1989-07-10 |
EP0317263A2 (en) | 1989-05-24 |
JPH0794496B2 (ja) | 1995-10-11 |
EP0317263A3 (en) | 1990-10-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH01132603A (ja) | 光学材料 | |
JPH07114030B2 (ja) | 光デイスク基板 | |
WO1998004601A1 (fr) | Procede pour la preparation d'une resine optique non birefringente et d'elements optiques obtenus au moyen de cette resine | |
JPS591518A (ja) | 低吸湿性メタクリル系樹脂板の製造方法 | |
JPS6013335A (ja) | メタクリル系樹脂からなる情報記録体 | |
WO2003064526A1 (fr) | Composition de resine diffusant la lumiere | |
JPH0615579B2 (ja) | 重合体からなる光学機器 | |
JPH0578570B2 (ja) | ||
JPH056161B2 (ja) | ||
JPS60115605A (ja) | 低吸湿性メタクリル樹脂 | |
JP3657113B2 (ja) | 低複屈折共重合体、その製法およびピックアップレンズ | |
JPH0442410B2 (ja) | ||
JPS61151212A (ja) | メタクリル系共重合体の製造法 | |
JPS61152708A (ja) | 光学素子用樹脂の製造方法 | |
JPH02233710A (ja) | 低吸湿性メタクリル系樹脂 | |
JP2001064319A (ja) | 非複屈折性光学材料 | |
JPS60258219A (ja) | デイスク用基板およびその製造方法 | |
JPH10338720A (ja) | 低複屈折重合体、その製法、板状体及び光ピックアップレンズ | |
JPS6136307A (ja) | 低吸湿性メタクリル系樹脂 | |
JP2004035853A (ja) | 疑似架橋型樹脂組成物、当該擬似架橋型樹脂組成物から成形された成形品、光学用部品及び擬似架橋型樹脂組成物の製造方法 | |
JPH0616327B2 (ja) | メタクリル系樹脂製の光学情報記録用基板 | |
JPS63243114A (ja) | 光学材料 | |
JPS62246914A (ja) | メタアクリル系樹脂 | |
JPS6241210A (ja) | 耐熱性メタクリル酸メチル系樹脂 | |
JPS63213506A (ja) | 光学用材料 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |