CN1148726C - 旋转磁头鼓 - Google Patents

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CN1148726C CNB981208606A CN98120860A CN1148726C CN 1148726 C CN1148726 C CN 1148726C CN B981208606 A CNB981208606 A CN B981208606A CN 98120860 A CN98120860 A CN 98120860A CN 1148726 C CN1148726 C CN 1148726C
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Abstract

用下述方法降低磁带运行负荷:在磁带31的缠绕范围内,从下鼓11的磁带通路圆柱表面向内侧31设置上鼓12的磁带通路圆柱表面;或者在磁带31的缠绕范围内,从上鼓或下鼓的磁带通路圆柱表面向外侧设置内鼓13的磁带通路圆柱表面。

Description

旋转磁头鼓
本发明涉及一种内旋转磁头鼓系统的旋转磁头鼓。
近来,使用旋转磁头鼓的盒式磁记录与再现设备,在改进其性能与质量的同时,显著减小其尺寸,这就要求它的机械装置和旋转磁头鼓在尺寸上也减小,因此内旋转磁头鼓系统的旋转磁头鼓被更广泛地使用。
下面参照附图,描述常规旋转磁头鼓的一个实例。图10(a),(b)是现有技术中旋转磁头鼓的侧视图。图12(a),(b)是磁记录和再现设备中磁带通路的示意图,图12(a)是俯视图,和图12(b)是侧视图。
如图12(a),(b)所示,在磁带通路中,在处于指定前导角旋转磁头鼓1的周围按指定角螺旋地缠绕一个绕在盘201上的磁带31,并且通过一个压轮71和一个主动轮72的协作以恒定速度传送磁带31。此中,为了把磁带31螺旋地绕在旋转磁头鼓1周围,从盒2的口203引出多个负荷杆70。此外,还在旋转磁头鼓1的磁带31上施加一个指定的拉力。
此中,尤其在例如带有内装式摄象机的磁带录象机(VTR)之类的便携式装置的情况下,为了使整个装置保持小的尺寸,需要把旋转磁头鼓1深深地放入盒2的口203中,然而盒2装有一个粉尘罩202,这个罩202与旋转磁头鼓1的上部冲突。为了防止这种冲突,通常使旋转磁头鼓1移向下侧,以便它在口203内离开罩202,然而由于旋转磁头鼓1从盒的下侧伸出较多,故该装置的厚度增加。因此,为了抑制装置的厚度,就通过倾斜地切掉旋转磁头鼓1的上部,形成一个切去部分111,如图12(b)所示。
为了倾斜地切掉旋转磁头鼓1的上部,如图10所示,在一个下鼓11上同轴地安置一个上鼓12,并且在这两个鼓之间同轴地安置一个其下端装有一个磁头21的内鼓13(这就是所谓的内鼓旋转结构)。由一个轴和一个轴承(未示出)旋转地支承内鼓13。内鼓13的厚度约为磁带31的一半,其旋转方向是向右,如图10所示。
下鼓11装有一个引导磁带通路的引导器14,磁带31在以其下端接触引导器14时运行。上鼓12具有切去部分111,其外周经车床精加工处理。
按常规,如图11(a),(b)所示,下鼓11、上鼓12和内鼓13中外周的圆柱表面(磁带通路导向处)的直径d1、d2和d3被设置成全部相同,或者具有d2>d3>d1的关系。
通过这样的结构,有可能抑制磁带通路的表面面积和厚度,但另一方面也引起下述问题。
即,如图11(a),(b)中浮动状态断面图所示,当磁带31缠绕在旋转磁头鼓1周围时,随着内鼓13的转动,由于空气粘性阻力,在磁带31与内鼓13之间卷入空气,并且浮动高度在内鼓13上达到最大,然后在下鼓11和上鼓12上顺序地下降。浮动高度在上鼓上几乎为零微米,在内鼓上大于10微米,和在下鼓上为几个微米。这样,当上鼓12的直径等于或大于内鼓13的直径时,磁带31总是接触上鼓12。
在上述状态下,磁带31与上鼓12之间的摩擦力是大的,并且在安装旋转磁头鼓以后的磁带拉力增量也是大的,从而磁带运行负荷增加,因此而导致磁带损坏,或在主动轮72产生滑动,或增加马达电流。
磁带31常在其两侧上涂以润滑剂之类的表面处理剂,以改善运行性能,但当处于运行状态的磁带31接触上鼓12时,因为在上鼓12的外周上形成一个垂直于轴心方向上的机械加工刀具路径,故可能沿着这个机械加工刀具路径收集在磁带表面侧上的表面处理剂,在装置中的亚微米粉尘颗粒或在磁带上的沉积物,使它们沉积于上鼓12上。结果,可能增加磁带的运行阻力,或者在最坏的情况下,可能在磁带31与上鼓12或内鼓13之间发生粘附,并且可能使磁带不能运行,或者可能使磁层从磁带的基膜剥落。
了解决上述的问题,本发明包括一个下鼓,它具有一个第一磁带通路圆柱表面,用于以引导角α螺旋地引导一个磁带型的记录媒体;一个上鼓,它具有一个第二磁带通路圆柱表面相对地并且几乎同轴地固定在下鼓上;和一个内鼓,它具有一个直径与下鼓第一磁带通路圆柱表面几乎相同的第三磁带通路圆柱表面,在上鼓与下鼓之间被几乎同轴地旋转支承,并且具有一个旋转磁头;其中,在上鼓上的磁带型记录媒体的缠绕范围内,上鼓的第二磁带通路圆柱表面处在下鼓的第一磁带通路圆柱表面的内侧。
本发明还包括一个下鼓,它具有一个第一磁带通路圆柱表面,用于以引导角α螺旋地引导一个磁带型的记录媒体;一个上鼓,它具有一个与下鼓第一磁带通路圆柱表面几乎相同的直径的第二磁带通路圆柱表面,相对地并且几乎同轴地固定在下鼓上;和一个内鼓,它具有一个第三磁带通路圆柱表面,在上鼓与下鼓之间被几乎同轴地旋转支承,并且具有一个旋转磁头;其中,在磁带型记录媒体的缠绕范围内,内鼓的第三磁带通路圆柱表面处在第一和第二磁带通路圆柱表面的外侧。
这样,根据本发明的旋转磁头鼓,因为上鼓上磁带的接触受限制,故磁带运行负荷被减少,从而有可能防止磁带损坏,在主动轮上滑动,和增加马达电流。
在权利要求1中陈述的本发明是一个旋转磁头鼓,包括一个下鼓,它具有一个第一磁带通路圆柱表面,用于以引导角α螺旋地引导一个磁带型记录媒体;一个上鼓,它具有一个第二磁带通路圆柱表面,并且相对地和几乎同轴地固定在下鼓上;和一个内鼓,它具有一个直径几乎与下鼓第一磁带通路圆柱表面相同的第三磁带通路圆柱表面,在上鼓与下鼓之间被几乎同轴地旋转支承,并且具有一个旋转磁头;其中,在上鼓上磁带型记录媒体的缠绕范围内,上鼓的第二磁带通路圆柱表面处于下鼓的第一磁带通路圆柱表面的内侧,因此,在上述的结构中,由于磁带在上鼓上的接触受限制而使磁带运行负荷小,从而防止磁带损坏、在主动轮上滑动、和增加马达电流。
图1(a)是本发明第一实施例中旋转磁头鼓的侧视图。
图1(b)是说明本发明第一实施例中旋转磁头鼓中每个鼓直径的侧视图。
图2(a)是本发明第二实施例中旋转磁头鼓的侧视图。
图2(b)是说明本发明第二实施例中旋转磁头鼓中每个鼓直径的侧视图。
图3(a)是本发明第三实施例中旋转磁头鼓的侧视图。
图3(b)是说明本发明第三实施例中旋转磁头鼓中每个鼓直径的侧视图。
图4(a)是本发明第一实施例中的上、内和下鼓的磁带浮动状态的说明图。
图4(b)是本发明第二实施例中的上、内和下鼓的磁带浮动状态的说明图。
图4(c)是本发明第三实施例中的上、内和下鼓的磁带浮动状态的说明图。
图5(a)是说明本发明第一实施例中的上、内和下鼓的偏心结构的平面图。
图5(b)是本发明第二实施例中的上、内和下鼓的偏心结构的平面图。
图5(c)是说明本发明第三实施例中的上、内和下鼓的偏心结构的平面图
图6(a)是本发明第四实施例中的旋转磁头鼓的侧视图。
图6(b)是本发明第四实施例中的机械加工实例中的上鼓的基本部分的断面图。
图6(c)是本发明第四实施例中机械加工另一实例中的上鼓的基本部分的断面图。
图7是说明本发明第五实施例中磁带浮动高度的局部断面图。
图8是本发明第五实施例中旋转磁头鼓的正视图,其中在磁头窗口区开一槽。
图9是一个曲线图,说明本发明第五实施例中再现输出的平直度变化与槽宽和磁带负荷电流的关系。
图10(a)是现有技术中旋转磁头鼓的侧视图。
图10(b)是说明现有技术中旋转磁头鼓中每个鼓直径的侧视图。
图11(a)是现有技术中的上、内和下鼓的磁带浮动状态的说明图。
图11(b)是另一现有技术中的上、内和下鼓的磁带浮动状态的说明图。
图12(a)是说明磁带通路轮廓的平面图。
图12(b)是说明磁带通路轮廓的侧视图。
下面参照附图描述本发明的第一实施例。
图1是这个实施例中旋转磁头鼓的侧视图。互相同轴地安置一个上鼓12,一个内鼓13和一个下鼓11。内鼓13的磁带通路圆柱部分具有1/4至3/4的磁带31的宽度。此中,如图1(b)所示,上鼓12的直径d2被设置成,比下鼓11和内鼓13的直径d1,d3小几个微米。
在上述结构的实施例中,其操作描述如下:图4(a)示出,当通过在此实施例中的旋转磁头鼓1的周围螺旋地缠绕磁带31而转动内鼓13时,磁带31的浮动高度。如图所示,磁带31的浮动高度在内鼓13上最高。此中,浮动高度超过10微米。
在下鼓11上,象现有技术一样,磁带31也上浮几个微米。而在上鼓12上,与现有技术不同,磁带31上浮约零至几个微米。只有当拉力在模式转换或类似情况下暂时升高时,上鼓12上的浮动高度才是零微米(磁带31接触上鼓12)。
这样,在这个实施例中,因为上鼓12的直径d2小于下鼓11和内鼓13的直径d1,d3,故磁带31通常也在上鼓12上浮动,不发生上鼓12与磁带31的摩擦滑动,且不会增加磁带31的运行摩擦阻力。如果在模式转换或类似情况下暂进异常地增加拉力,从而使上鼓接触磁带31,则上鼓12上磁带31的表面压力是小的,从而运行摩擦阻力也是小的。
顺便说一下,当旋转磁头鼓1的直径处于10mm至80mm范围内时,就下鼓11与内鼓13的直径d1,d3和上鼓12的直径d2的直径差为约10微米或10微米以上来说,上鼓12甚至在模式转换或类似情况引起的高拉力状态下,也不接触磁带31。
然而,如果下鼓11与内鼓13的直径d1,d3和上鼓12的直径d2的直径差太大,则当把磁带31装到磁带通路上时,在不适当的设置负荷路线的情况下,磁带31可能骑在上鼓12上,引起错位。在上述状态下,磁带31被缠住,不能从走带机构中取出盒2。为了防止上述不便,下鼓11与内鼓13的直径d1,d3和上鼓12的直径d2的直径差应当设置成不大于30微米,因此,如果磁带31要骑在上鼓12上,则通过磁带31和上鼓12之间的摩擦力可防止它完全的骑上。
如果其直径差在20微米范围内,则几乎能够完全忽略那些对要由磁头21记录的磁道的线性的不利影响。
在这个实施例中,下鼓11、上鼓12和内鼓13互相同轴地安置,并且在直径上互相不同,因此,上鼓12的磁带通路圆柱表面在直径方向上小于下鼓11的磁带通路圆柱表面,然而如图5(a)所示,上鼓12可以偏心于下鼓11和内鼓13,并且下鼓11、上鼓12和内鼓13可以在直径上相同。在这种情况下,可借助负荷杆70在旋转磁头鼓1上按180度缠绕磁带31,并且内鼓13的厚度约为磁带宽度的1/2。因此,上鼓12的偏心方向是在相对的方向上(图中135度处)偏离上鼓12上磁带31的缠绕中心。
在上述结构中,可获得与上述实施例相同的效果。此外,因为下鼓11、上鼓12和内鼓13都作成直径相同,故尺寸测量标准是一致的,且简化过程的控制。
参照附图,描述第二实施例。图2(a)是本实施例中旋转磁头鼓的侧视图。上鼓12、内鼓13和下鼓11都互相同轴地安置。内鼓13的磁带通路圆柱部分具有的厚度是磁带31宽度的1/4至3/4。此中,如图2(b)所示,内鼓13的直径d3被设置成比下鼓11和上鼓12的直径d1,d2大几个微米。
在上述结构的实施例中,其操作描述如下。图4(b)示出,当通过在本实施例的旋转磁头鼓1的周围螺旋地缠绕磁带31而转动内鼓13时,磁带31的浮动高度。如图所示,磁带31的浮动度度是在内鼓13上最高。此中,浮动高度超过10微米。在下鼓11上,其浮动高度大于现有技术中相应高度。而在上鼓12上,其浮动高度约为零至几个微米。只有当处于模式转换或类似情况下拉力暂时升高时,上鼓12上的浮动高度才是零微米(磁带31接触上鼓12)。
这样,在这个实施例中,因为内鼓13的直径d3大于下鼓11和上鼓12的直径d1,d2,所以一般说来,磁带31还在上鼓12上浮动,并且不发生上鼓12和磁带31的摩擦滑动,也不增加磁带31的运行摩擦阻力。如果在模式转换或类似情况下暂时异常地增加拉力,使上鼓12接触磁带31,则上鼓12上磁带31的表面压力是小的,使运行摩擦阻力也小。
顺便说一下,当旋转磁头鼓1的直径处于10mm至80mm的范围时,就下鼓11与上鼓12的直径d1,d2和内鼓13的直径d3的直径差约为10微米或10微米以上的情况来说,甚至在模式转换或类似情况的高拉力状态下,上鼓12也不接触磁带31。
然而,如果下鼓11与上鼓12的直径d1,d2和内鼓13的直径d3的直径差太大,则当把磁带31装到磁带通路上时,在不适当地设置负荷路线的情况下,磁带31可能骑在上鼓12上,导致错位。在上述状态下,磁带31被缠住,不能从走带机构中取出盒2。为了防止上述不便,下鼓11与上鼓12的直径d1,d2和内鼓13的直径d3的直径差应当设置成在40微米范围内,因此,如果磁带31要骑在上鼓12上,则通过磁带31与上鼓12之间的摩擦力,可防止其完全的骑上。
如果其直径差在20微米的范围内,则几乎能够完全忽略那些对要由磁头21记录的磁道的线性的不利影响。
在这个实施例中,下鼓11、上鼓12和内鼓13被互相同轴地安置,且在直径上互相不同,因此,内鼓13的磁带通路圆柱表面在直径上大于下鼓11与上鼓12的磁带通路圆柱表面,然而在使磁带31在旋转磁头鼓1周围缠绕约90度的磁带通路的情况下,如图5(b)所示,内鼓13可以偏心于下鼓11于上鼓12,并且下鼓11、上鼓12和内鼓13可以在直径上相同。在这种情况下,内鼓13的偏心方向偏离于磁带31的缠绕中心方向。
在上述结构中,可获得与上述实施例相同的效果。此外,因为下鼓11、上鼓12和内鼓13都作成直径相同,故尺寸测量标准是一致的,且简化过程的控制。
参照附图,描述本发明的第三实施例。图3(a)是本实施例中旋转磁头鼓的侧视力。上鼓12、内鼓13和下鼓11互相同轴地安置。内鼓13的磁带通路圆柱部分具有的厚度是磁带31宽度的1/4至3/4。此中,如图3(b)所示,下鼓11的直径d1、上鼓12的直径d2和内鼓13的直径d3是按d3>d1>d2的关系设置的,其直径差各为几个微米。即,内鼓13具有最大的直径,而上鼓12具有最小的直径。
在上述结构的实施例中,其操作描述如下。图4(c)示出,当通过在本实施例的旋转磁头鼓1的周围螺旋地缠绕磁带31而转动内鼓13时,磁带31的浮动高度。如图所示,磁带31的浮动高度是在内鼓13上最高。此中,浮动高度超过10微米。在下鼓11上,其浮动高度大于现有技术中相应高度。而在上鼓12上,其浮动高度为几个微米。在本实施例的情况下,因为甚至在上鼓12上磁带也充分地浮动,故甚至当拉力在模式转换或类似情况下暂时升高时,上鼓12也不接触磁带31。
这样,在这个实施例中,因为内鼓13的直径d3大于下鼓11和上鼓12的直径d1,d2,所以一般说来,磁带31还在上鼓12上浮动,并且不发生上鼓12和磁带31的摩擦滑动,也不增加磁带31的运行摩擦阻力。如果在模式转换或类似情况下暂时异常地增加拉力,则上鼓12不接触磁带31,从而防止增加运行摩擦阻力。
顺便说一下,当旋转磁头鼓1的直径处于10mm至80mm范围时,就上鼓12的直径d2和内鼓13的直径d3的直径差约为10微米或10微米以上的情况来说,甚至在模式转换或类似情况的高拉力状态下,上鼓12也不接触磁带31。
然而,如果上鼓12的直径d2和内鼓13的直径d3的直径差太大,则当把磁带31装到磁带通路上时,在不适当地设置负荷路线的情况下,磁带31可能骑在上鼓12上,引起错位。在上述状态下,磁带31被缠住,不能从走带机构中取出盒2。为了防止上述不便,上鼓12的直径d2和内鼓13的直径d3的直径差应当设置成在40微米范围内,因此,如果磁带31要骑在上鼓12上,则通过磁带31与上鼓12之间的摩擦力,可防止其安全的骑上。
如果其直径差在20微米的范围内,则几乎能够完全忽略那些对要由磁头12的磁道的线性的不利影响。
在这个实施例中,下鼓11、上鼓12和内鼓13互相同轴地安置,并且在直径上互相不同,因此,是内鼓13的磁通路圆柱表面在直径方向上较大,而不是下鼓11的磁带通路圆柱表面较大,并且是上鼓12的磁带通路圆柱表面在直径方向上较小,而不是下鼓11的磁带通路圆柱表面较小,然而在使磁带31在旋转磁头鼓1周围缠绕约90度的磁带通路情况下,如图5(c)所示,内鼓13和上鼓12可以偏心于下鼓11,并且下鼓11、上鼓12和内鼓13可以在直径上相同,在这种情况下,内鼓13的偏心方向偏离于磁带31的绕中心方向。上鼓12的偏心方向处于与内鼓13相对的方向。
在上述结构中,可获得与上述实施例相同的效果。此外,因为下鼓11、上鼓12和内鼓13都作成直径相同,故尺寸测量标准是一致的,且简化过程的控制。
参照图6,描述本发明的第四实施例。如图6(a)所示,在旋转磁头鼓1中,磁带31在运行,它沿着下鼓11中提供的引导器14以α度引导角缠绕。内鼓13的厚度约为磁带31宽度的一半。此中,下鼓11、上鼓12和内鼓13的直径被设置成与第一发明或第二发明中所述的相同。
此外,在上鼓12上,在磁带31的缠绕范围β内,以与引导角α几乎相同的角度提供一个机械加工刀具路径112。
此中,如图6(b),(c)所示,机械加工刀具路径112是一个波纹,其加工间距P≥30微米,且波纹高度H≥1微米。在图6(b)中,机械加工刀具的末端头部形状是钝角,而在图6(c)中,机械加工刀具的末端头部形状是弧形。
在这样构成的实施例中,其操作描述如下。磁带31通常在其两个面涂以润滑剂之类的表面处理剂,以改善其运行性能。此中,如果磁带31在接触上鼓12时运行,则在现有技术中,因为在上鼓12的外圆周上存在一个垂直于轴心的方向中的机械加工刀具路径,故在磁带31通过引导角α部位而倾斜地运行到这个机械加工刀具路径上时,这个机械加工刀具路径会收集磁表面侧上的表面处理剂、其它粉尘和磁粉,好象用一个刮刀在刮一样,并且它们沉积于上鼓12上。
此外,在表面处理剂和粉尘收集于上鼓12上的情况下,当磁带31在旋转磁头鼓1周围缠绕一段长时期时,磁带31和上鼓12互相粘结在一起,发生磁带损坏。
在本发明的诸实施例中,如果拉力变大,则上鼓12和磁带31很小互相接触,但当装上皱折或损坏的磁带时,则内鼓13上的空气膜破裂,并且浮动高度减小;在上述极端运行状态下,磁带31可能接触上鼓12,并且表面处理剂或粉尘可能沉积于上鼓12上,而如果持续一段长时间,则磁带31和上鼓12可能互相粘结在一起。
另一方面,根据本实施例,因为机械加工刀具路径112平行于磁带31的运行方向,并且以P≥30微米的加工间距和H≥1微米的波纹高度呈波纹状,所以如果上鼓12和磁带31接触,则不会收集表面处理剂或粉尘而沉淀于上鼓12上。从而不会发生粘结。
同时,因为磁带31只接触机械加工刀具路径112的尖端区,故实际接触面积是小的,并且机械加工刀具路径112的方向几乎平行于磁带31的运行方向,表面处理剂或类似物质也不会被收集。然而,如果波纹高度H太小或加工间距P太小,则实际接触面积开始增加。结果,如果机械加工刀具路径112平行于磁带31的运行方向,则磁带31上的表面处理剂经粘着而被收集,并且沉积于上鼓12上,引起粘结。因此,机械加工表面要有一定的粗糙度。由于针对各种磁带确定限制值,故确认在P≥30微米的加工间距和H≥1微米的波纹高度的情况下不会发生沉积。
如果加工间距太大,则机械加工刀具振动增加,从而加工尺寸精度下降。在10至80mm直径铝棒机械加工的情况下,以p≤120微米的加工间距确保旋转磁头鼓具有微米量级的所需机械加工精度。
如果波纹高度H太大,则刀具寿命缩短,且机械加工刀具路径112条纹被转变。虽然可随磁带而变,但在H≤6微米情况下不会发生上述不便。
因此,根据本实施例,如果装上损坏的磁带31,也有可能防止由于磁带31上沉积表面处理剂或粉尘而引起的粘结。
现在描述本发明的第五实施例。如图4所示,在以高速旋转的内鼓的外周上形成一个空气膜。空气膜浮起磁带,使负荷降低,但如果浮起过量,则磁头与磁带之间接触不定,可能使记录与再现不准确。在图7中,通过在磁头安装表面附近形成本发明的一个V形槽13a,可降低磁头21附近的浮动高度,且改善磁头21与磁带31之间的接触。图8是本实施例的旋转磁头鼓的侧视图。
顺便说一下,因为槽断面形状是V形的,故由所用刀具尖端角度和槽宽度确定其形状。
图9是一个曲线图,说明槽宽随再现输出和鼓上磁带负荷电流的变化,示出用于确定槽宽最佳范围的实验结果。从图9可知,尽管直径和转速皆有大的变化,但通过把槽宽设置在0.06至0.2mm范围内,就能在减小磁带负荷的同时,实现可靠的磁头接触。
这样,根据本发明的旋转磁头鼓,在上鼓上的磁带型记录媒体的缠绕范围内,从下鼓的磁带通路圆柱表面向内侧设置上鼓的磁带通路圆柱表面,因此,磁带不接触上鼓,在磁带与上鼓之间的摩擦阻力的增加受到限制,并且磁带运行负荷受到抑制;借此防止出现磁带损坏,在主动轮上出现滑动。和增加马达电流。
根据本发明的旋转磁头鼓,在磁带型记录媒体的绕缠范围内,因为内鼓的磁带通路圆柱表面是从上鼓和下鼓的磁带通路表面向外侧设置的,故磁带不接触上鼓,在磁带与上鼓之间的摩擦阻力的增加受到限制,并且磁带运行负荷受到抑制;借此防止出现磁带损坏,在主动轮上出现滑动,和增加马达电流。

Claims (5)

1.一种旋转磁头鼓组件,包括:
一个下鼓,具有一个第一磁带通路圆柱表面,用于以一引导角螺旋地引导一个磁带型记录媒体;
一个上鼓,具有一个第二磁带通路圆柱表面,所述上鼓相对于所述下鼓被相对地固定;
一个内鼓,具有一个用于磁带型记录媒体的第三磁带通路圆柱表面,所述内鼓被同轴地旋转支承在所述上鼓和所述下鼓之间,其中所述内鼓的所述第三磁带通路圆柱表面在轴向的厚度是磁带宽度的1/4至3/4;以及
一个旋转磁头,安装在所述内鼓上,其中所述内鼓的所述第三磁带通路圆柱表面相对于所述第一和第二磁带通路圆柱表面径向地向外定位,
其中所述上鼓的所述第二磁带通路圆柱表面定位于所述下鼓的所述第一磁带通路圆柱表面的内侧,并且
其中所述下鼓,所述上鼓,和所述内鼓被同轴地排列,
其中第二磁带通路和第三磁带通路之间的距离是在5微米和10微米之间。
2.根据权利要求1的旋转磁头鼓组件,其中所述上鼓提供有波纹表面。
3.根据权利要求1的旋转磁头鼓组件,其中所述上鼓提供有多个槽,沿与磁带型记录媒体的运行方向平行的方向延伸。
4.根据权利要求1的旋转磁头鼓组件,其中所述上鼓提供有至少一个V形槽。
5.根据权利要求1的旋转磁头鼓组件,其中所述上鼓提供有至少一个弧形槽。
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