CN110100192A - 光学膜及光学膜的制造方法 - Google Patents

光学膜及光学膜的制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN110100192A
CN110100192A CN201780079610.7A CN201780079610A CN110100192A CN 110100192 A CN110100192 A CN 110100192A CN 201780079610 A CN201780079610 A CN 201780079610A CN 110100192 A CN110100192 A CN 110100192A
Authority
CN
China
Prior art keywords
optical film
film
hard conating
substrate
manufacturing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201780079610.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN110100192B (zh
Inventor
松本彩子
伊吹俊太郎
增田千裕
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=62626067&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=CN110100192(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of CN110100192A publication Critical patent/CN110100192A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN110100192B publication Critical patent/CN110100192B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/023—Optical properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/046—Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/12—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by mechanical means
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C43/00—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor
    • B29C43/22—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor of articles of indefinite length
    • B29C43/24—Calendering
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C43/00—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor
    • B29C43/32—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
    • B29C43/52—Heating or cooling
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/18—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
    • B32B27/20—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives using fillers, pigments, thixotroping agents
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/022—Mechanical properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/0427—Coating with only one layer of a composition containing a polymer binder
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D135/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical, and containing at least another carboxyl radical in the molecule, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D135/02—Homopolymers or copolymers of esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/004—Reflecting paints; Signal paints
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/60—Additives non-macromolecular
    • C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B38/00—Ancillary operations in connection with laminating processes
    • B32B2038/0052—Other operations not otherwise provided for
    • B32B2038/0076—Curing, vulcanising, cross-linking
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/536—Hardness
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/538—Roughness
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2377/00—Characterised by the use of polyamides obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain; Derivatives of such polymers
    • C08J2377/10—Polyamides derived from aromatically bound amino and carboxyl groups of amino carboxylic acids or of polyamines and polycarboxylic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2433/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2433/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Abstract

本发明的光学膜具有基材和硬涂层，且铅笔硬度为2H以上，通过MIT试验机测定的抗折次数为1000次以上，将入射光从相对于光学膜的法线方向‑60°入射，成为射出光峰值强度的10％的角度的宽度在6°以内，且从法线方向起50°处的漫射光的强度为射出光峰值强度的1％以下。本发明的光学膜的制造方法具有在基材上涂布硬涂层形成用组合物来设置涂膜的工序以及一边使涂膜与平滑的1个金属辊接触一边进行固化的工序。

Description

光学膜及光学膜的制造方法
技术领域
本发明涉及一种光学膜及光学膜的制造方法。
背景技术
在如利用了阴极管(CRT)的显示装置、等离子体显示器(PDP)、电致发光显示器(ELD)、荧光显示器(VFD)、场发射显示器(FED)及液晶显示器(LCD)的图像显示装置中，为了防止对显示面的损伤，优选在基材上设置具有硬涂层的光学膜(硬涂层膜)。
例如，在专利文献1中，记载有在树脂基材上依次层叠有含有平均粒径不同的至少2种无机粒子的硬涂层及金属氧化物层的带有硬涂层的层叠体。并且，在专利文献1中，记载有优选通过在树脂基材上形成硬涂层后且形成金属氧化物层之前实施砑光处理来提高无机粒子的填充率的内容。
以往技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2010-000739号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
近年来，例如在智能手机中，柔性显示器的需求增加，伴随与此强烈要求即使反复折弯仍不易折断的(耐反复折弯性优异的)光学膜。此时，从挠性的观点来看，作为光学膜的基材，考虑使用树脂基材而不是玻璃基材，但若使用树脂基材，则与使用玻璃基材时相比，尤其关于反射特性，存在导致高级感下降(无法获得像玻璃一样的反射特性)的问题。关于在专利文献1中记载的具有树脂基材和硬涂层的光学膜，可知耐反复折弯性和像玻璃一样的反射特性均不充分。
本发明的课题在于，提供一种硬度高、耐反复折弯性优异且具有像玻璃一样的反射特性的光学膜及上述光学膜的制造方法。
用于解决技术课题的手段
本发明人等进行深入研究，发现通过下述方法能够解决上述课题。
<1>
一种光学膜，具有基材和硬涂层，所述光学膜中，
根据JIS K 5600-5-4：1999测定的铅笔硬度为2H以上，
根据JIS P 8115：2001通过MIT试验机测定的抗折次数为1000次以上，
将入射光从相对于光学膜的法线方向-60°入射，成为射出光峰值强度的10％的角度的宽度在6°以内，且从法线方向起50°处的射出光的强度为射出光峰值强度的1％以下。
<2>
根据<1>所记载的光学膜，其中，层叠有上述硬涂层的一侧的最表面的表面粗糙度为5nm以下。
<3>
根据<1>或<2>所记载的光学膜，其中，层叠有上述硬涂层的一侧的最表面的表面粗糙度为2nm以下。
<4>
根据<1>～<3>中任一项所记载的光学膜，其中，上述硬涂层包含无机粒子，上述无机粒子的粒径具有单一分布。
<5>
根据<4>所记载的光学膜，其中，上述硬涂层中的上述无机粒子的填充率为55体积％以下。
<6>
根据<1>～<5>中任一项所记载的光学膜，其中，在上述硬涂层的与上述基材相反的一侧还具有耐划伤层。
<7>
根据<1>～<6>中任一项所记载的光学膜，其中，根据JIS P 8115：2001通过MIT试验机测定的抗折次数为10000次以上。
<8>
根据<1>～<7>中任一项所记载的光学膜，其中，根据JIS K 5600-5-4：1999测定的铅笔硬度为4H以上。
<9>
一种光学膜的制造方法，其中，
上述光学膜具有基材和硬涂层，
根据JIS K 5600-5-4：1999测定的铅笔硬度为2H以上，
根据JIS P8115：2001通过MIT试验机测定的抗折次数为1000次以上，
将入射光从相对于光学膜的法线方向-60°入射，成为射出光峰值强度的10％的角度的宽度在6°以内，且从法线方向起50°处的射出光的强度为射出光峰值强度的1％以下，所述光学膜的制造方法具有以下工序：
(i-1)在上述基材上涂布硬涂层形成用组合物来设置涂膜的工序；以及
(iii-1)一边使上述涂膜与平滑的1个金属辊接触一边进行固化的工序。
<10>
根据<9>所记载的光学膜的制造方法，其中，上述工序(iii-1)开始跟前的上述涂膜的固化率为20％以下。
<11>
根据<9>或<10>所记载的光学膜的制造方法，其中，在上述工序(i-1)与工序(iii-1)之间包含(ii-1)使上述涂膜的表层固化，且将上述涂膜的表层的固化率设为50％以上的工序。
<12>
根据<9>～<11>中任一项所记载的光学膜的制造方法，其中，上述工序(iii-1)的上述金属辊的表面粗糙度为40nm以下。
<13>
一种光学膜的制造方法，其中，
上述光学膜具有基材和硬涂层，
根据JIS K 5600-5-4：1999测定的铅笔硬度为2H以上，
根据JIS P 8115：2001通过MIT试验机测定的抗折次数为1000次以上，
将入射光从相对于光学膜的法线方向-60°入射，成为射出光峰值强度的10％的角度的宽度在6°以内，且从法线方向起50°处的射出光的强度为射出光峰值强度的1％以下，所述光学膜的制造方法具有以下工序：
(i-2)在上述基材上涂布硬涂层形成用组合物来设置涂膜的工序；
(ii-2)使上述涂膜固化的工序；以及
(iii-2)进行砑光处理的工序。
<14>
根据<13>所记载的光学膜的制造方法，其中，上述工序(ii-2)为将上述涂膜的固化率设为10～80％的工序。
<15>
根据<13>或<14>所记载的光学膜的制造方法，其中，关于上述工序(iii-2)的砑光处理，使用2个辊进行，线速度为20m/分钟以上，至少1个辊的温度为80℃以上，夹持压力为100kg/cm以上，夹持次数为1次以上。
<16>
根据<13>～<15>中任一项所记载的光学膜的制造方法，其中，上述工序(iii-2)的上述砑光处理使用2个辊进行，上述2个辊中上述涂膜侧的辊为金属辊，上述金属辊的表面粗糙度为40nm以下。
发明效果
根据本发明，能够提供一种硬度高、耐反复折弯性优异且具有玻璃一样的反射特性的光学膜及上述光学膜的制造方法。
具体实施方式
以下，对用于实施本发明的方式进行详细说明，但本发明并不限定于此。另外，在本说明书中，当数值表示物性值、特性值等时，“(数值1)～(数值2)”的记载表示“(数值1)以上且(数值2)以下”的含义。并且，“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯中的至少一种，“(甲基)丙烯酰胺”表示丙烯酰胺及甲基丙烯酰胺的至少一种，“(甲基)丙烯酰基”表示丙烯酰基及甲基丙烯酰基的至少一种。
[光学膜]
本发明的光学膜为具有基材和硬涂层的光学膜，
根据JIS K 5600-5-4：1999测定的铅笔硬度为2H以上，
根据JIS P8115：2001通过MIT试验机测定的抗折次数为1000次以上，
将入射光从相对于光学膜的法线方向-60°入射，成为射出光峰值强度的10％的角度的宽度在6°以内，且从法线方向起50°处的射出光的强度为射出光峰值强度的1％以下。
<光学膜的物理性质>
首先，对本发明的光学膜的物理性质进行说明。
(铅笔硬度)
本发明的光学膜从膜强度的观点来看，根据JIS(Japanese Industrial Standards，日本工业标准)K 5600-5-4：1999测定的500g荷载的铅笔硬度为2H以上，优选为3H以上，更优选为4H以上，进一步优选为5H以上。
(抗折次数)
本发明的光学膜根据JIS P 8115：2001通过MIT试验机测定的抗折次数为1000次以上，优选为5000次以上，更优选为10000次以上。
(反射特性)
关于本发明的光学膜，将入射光从相对于光学膜的法线方向-60°入射，成为射出光峰值强度的10％的角度的宽度在6°以内，且从法线方向起50°处的射出光的强度为射出光峰值强度的1％以下。
本发明人等对使用了树脂基材的光学膜的反射特性进行研究发现，当满足上述特性时，可获得像玻璃一样的反射特性。
优选将入射光从相对于光学膜的法线方向-60°入射，成为射出光峰值强度的10％的角度的宽度为4°以内，且从法线方向起50°处的射出光的强度为射出光峰值强度的0.7％以下，更优选将入射光从相对于光学膜的法线方向-60°入射，成为射出光峰值强度的10％的角度的宽度为3°以内，且从法线方向起50°处的射出光的强度为射出光峰值强度的0.5％以下。
反射特性使用三维变角分光测色系统GCMS-3B(MURAKAMI COLOR R ESEARCHLABORATORY)进行了测定。具体而言，将入射光从相对于光学膜的法线方向(成为0°)-60°入射，在0°至80°的范围内测定了反射光。将成为射出光峰值强度的10％的角度的宽度设为θ，将50°中的射出光的强度除以射出光峰值强度的值再乘以100的值设为I(％)。
(表面粗糙度)
本发明的光学膜的层叠有硬涂层的一侧(硬涂层的与基材侧相反的一侧)的最表面的表面粗糙度(Ra)优选为5nm以下，更优选为2nm以下。通过将Ra设为5nm以下，能够将反射特性设在优选的范围内。
Ra能够以普通的光干涉仪进行测定，在本发明中，使用Vertscan2.0(RyokaSystems Inc.制)进行了测定。
<硬涂层>
对本发明的光学膜的硬涂层进行说明。
硬涂层优选含有树脂。
(树脂)
硬涂层中所含有的树脂优选为将固化性化合物通过电离射线的照射或加热而聚合的聚合物(固化物)。
-固化性化合物-
作为固化性化合物，优选具有聚合性官能团的化合物(优选电离射线固化性化合物)。作为具有聚合性官能团的化合物，能够使用各种单体、寡聚物或聚合物，作为聚合性官能团(聚合性基团)，优选光、电子束、放射线聚合性的聚合性官能团，其中优选光聚合性官能团。
作为光聚合性官能团，可举出(甲基)丙烯酰基、乙烯基、苯乙烯基、烯丙基等聚合性不饱和基团(碳碳不饱和双键基团)等，其中优选(甲基)丙烯酰基。
作为具有聚合性不饱和基团的化合物的具体例，能够举出新戊二醇丙烯酸酯、1，6-己二醇(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等亚烷基二醇的(甲基)丙烯酸二酯类；
三甘醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等聚氧亚烷基二醇的(甲基)丙烯酸二酯类；
季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯等多元醇的(甲基)丙烯酸二酯类；及
2，2-双{4-(丙烯酰氧基·二乙氧基)苯基}丙烷、2-2-双{4-(丙烯酰氧·聚丙氧基)苯基}丙烷等环氧乙烷或环氧丙烷加成物的(甲基)丙烯酸二酯类；等。
而且，环氧(甲基)丙烯酸酯类、聚氨酯(甲基)丙烯酸酯类、聚酯(甲基)丙烯酸酯类也作为光聚合性单体而优选地使用。
其中，优选多元醇和(甲基)丙烯酸的酯类。进一步优选含有至少一种在1分子中具有3个以上的(甲基)丙烯酰基的多官能单体。
例如，可举出季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO(环氧乙烷)改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、PO(环氧丙烷)改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO改性磷酸三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、二-三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1，2，3-环己烷四甲基丙烯酸酯、聚丙烯酸聚氨酯、聚酯聚丙烯酸酯、己内酯改性三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯等。
作为具有(甲基)丙烯酰基的多官能丙烯酸酯类化合物类的具体的化合物，能够举出Nippon Kayaku Co.，Ltd.制KAYARAD DPHA、KAYARAD DP HA-2C、KAYARAD PET-30、KAYARAD TMPTA、KAYARAD TPA-320、K AYARAD TPA-330、KAYARAD RP-1040、KAYARAD T-1420、KAYARAD D-310、KAYARAD DPCA-20、KAYARAD DPCA-30、KAYARAD DPCA-60、KAYARADGPO-303、Osaka Organic Chemical Industry Co.，Ltd.制V#3P A、V#400、V#36095D、V#1000、V#1080等多元醇和(甲基)丙烯酸的酯化物。并且，还能够优选使用紫光UV-1400B、紫光UV-1700B、紫光UV-6300B、紫光UV-7550B、紫光UV-7600B、紫光UV-7605B、紫光UV-7610B、紫光UV-7620EA、紫光UV-7630B、紫光UV-7640B、紫光UV-6630B、紫光UV-7000B、紫光UV-7510B、紫光UV-7461TE、紫光UV-3000B、紫光UV-3200B、紫光UV-3210EA、紫光UV-3310EA、紫光UV-3310B、紫光UV-3500BA、紫光UV-3520TL、紫光UV-3700B、紫光UV-6100B、紫光UV-6640B、紫光UV-2000B、紫光UV-2010B、紫光UV-2250EA、紫光UV-2750B(The Nip ponSynthetic Chemical Industry Co.，Ltd.制)、UL-503LN(Kyoeisha chemical Co.，Ltd.制造)、UNIDIC 17-806、UNIDIC 17-813、UNIDIC V-4030、UNIDI CV-4000BA(DIC Corporation制)、EB-1290K、EB-220、EB-5129、EB-1830，EB-4858(DAICEL-UCB LTD.制)、Haikopu AU-2010、Haikopu AU-2020(TOKUSHIKI Co.，Ltd.制)、Aronix M-1960(TOAGOSEI CO.，LTD.制)、A rt Resin UN-3320HA、UN-3320HC、UN-3320HS、UN-904、HDP-4T、U15HA(ShinNakamura Chemical Co.，Ltd.)等3官能以上的聚氨酯丙烯酸酯化合物、Aronix M-8100、M-8030、M-9050(TOAGOSEI CO.，LTD.制)、KRM-8307(DAICEL-ALLNEX LTD.制)等3官能以上的聚酯化合物等。尤其优选使用DPHA或PET-30。
而且，还可以举出具有3个以上的聚合性官能团的树脂，例如分子量比较低的聚酯树脂、聚醚树脂、丙烯酰胺树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂、醇酸树脂、螺缩醛树脂、聚丁二烯树脂、聚硫醇聚烯树脂、多元醇等多官能化合物等的寡聚物或预聚合物等。
并且，还能够使用日本特开2005-076005号公报、日本特开2005-036105号公报中记载的化合物、SIRIUS-501、SUBARU-501(Osaka Organic Chemical Industry Co.，Ltd.制)等树枝状聚合物(Dendrimer)或如在日本特开2005-060425号公报中记载的含有降冰片烯环的单体。
具有聚合性官能团的化合物可以同时使用两种以上。这些具有聚合性官能团的化合物的聚合能够在光自由基引发剂或热自由基引发剂的存在下通过电离射线的照射或加热来进行。
-无机粒子-
本发明的光学膜的硬涂层还优选含有无机粒子。
通过在硬涂层中添加无机粒子能够更加提高硬度。作为无机粒子，例如可举出二氧化硅粒子、二氧化钛粒子、氧化锆粒子、氧化铝粒子等。
可以通过包含有机链段的表面修饰剂对无机粒子的表面进行处理。表面修饰剂优选在同一分子内具有可与无机粒子形成键或吸附于无机粒子的官能团、及与有机成分具有高亲和性的官能团。作为具有可键合或吸附于无机粒子的官能团的表面修饰剂，优选硅烷、铝、钛、锆等金属醇盐表面修饰剂或具有磷酸基、硫酸基、磺酸基、羧酸基等阴离子基团的表面修饰剂。而且，作为与有机成分的亲和性高的官能团，可以是仅与有机成分亲疏水性相合的官能团，但优选可与有机成分化学键合的官能团，尤其优选烯属不饱和双键基团或开环聚合性基团。在本发明中优选的无机粒子表面修饰剂为在同一分子内具有金属醇盐或阴离子基团与烯属不饱和双键基团或开环聚合性基团的固化性树脂。
作为这些表面修饰剂的代表例，可举出以下含有不饱和双键的偶合剂或含有磷酸基的有机固化性树脂、含有硫酸基的有机固化性树脂及含有羧酸基的有机固化性树脂等。
S-1 H2C＝C(X)COOC3H6Si(OCH3)3
S-2 H2C＝C(X)COOC2H4OTi(OC2H5)3
S-3 H2C＝C(X)COOC2H4OCOC5H10OPO(OH)2
S-4(H2C＝C(X)COOC2H4OCOC5H10O)2POOH
S-5 H2C＝C(X)COOC2H4OSO3H
S-6 H2C＝C(X)COO(C5H10COO)2H
S-7 H2C＝C(X)COOC5H10COOH
S-8 CH2CH(O)CH2OC3H6Si(OCH3)3
(X表示氢原子或CH3)
这些无机粒子的表面修饰优选在溶液中完成。可以为在将无机粒子机械性微细分散时，一同存在表面修饰剂的方法，或在将无机粒子微细分散后添加表面修饰剂并进行搅拌的方法，又或者在将无机粒子微细分散之前进行表面修饰(根据需要在加温、干燥后进行加热或pH变更)，之后进行微细分散的方法。作为溶解表面修饰剂的溶液，优选极性大的有机溶剂。具体而言，可举出醇、酮、酯等公知的溶剂。
无机粒子的平均一次粒径优选为1～100nm，更优选为2～20nm，进一步优选为3～15nm。
无机粒子的平均一次粒径能够根据电子显微镜照片求出。
从50°中的射出光的强度降低的观点来看，无机粒子的粒径优选具有单一分布。在此，单一分布表示在无机粒子的粒径分布中，峰值为1个。
上述无机粒子可以仅使用1种也可以同时使用2种以上，但从50°中的射出光的强度降低的观点来看，优选仅为1种。
从光学膜的反射特性及平滑性的观点来看，硬涂层中的无机粒子的填充率优选为55体积％以下，更优选为40体积％以下，进一步优选为35体积％以下，尤其优选为30体积％以下。
以刮刀刮取样品表面，将硬涂层回收10g以上并测定了质量。将已回收的硬涂层在氮环境气体下在600℃中加热1小时，使树脂蒸发后回收无机粒子，并测定了质量。将树脂的比重设为1.2，且无机粒子的比重使用适当的值，以此求出了硬涂层中的无机粒子的体积填充率。
-其他添加剂-
硬涂层可以含有除上述以外的成分，例如可以含有分散剂、流平剂、防污剂等。
(膜厚)
硬涂层的膜厚没有特别的限定，优选为1～10μm，更优选为1.5～8μm，进一步优选为2～5μm。
<基材>
对本发明的光学膜的基材进行说明。
基材的可见光区域的透射率优选为70％以上，更优选为80％以上。
基材优选包含聚合物树脂。
(聚合物树脂)
作为聚合物树脂，优选光学透明性、机械强度、热稳定性等优异的聚合物。
例如，可举出聚碳酸酯类聚合物、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等聚酯类聚合物、聚苯乙烯、丙烯腈·苯乙烯共聚合物(AS树脂)等苯乙烯类聚合物等。并且，聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃、降冰片烯类树脂、乙烯·丙烯共聚物等聚烯烃类聚合物；氯乙烯类聚合物、尼龙或芳香族聚酰胺等酰胺类聚合物、亚酰胺类聚合物、砜类聚合物、聚醚砜类聚合物、聚醚醚酮类聚合物；聚苯硫醚类聚合物、偏二氯乙烯类聚合物、乙烯醇类聚合物、乙烯醇缩丁醛类聚合物、芳酯类聚合物、聚甲醛类聚合物、环氧类聚合物、以三乙酰纤维素为代表的纤维素类聚合物或上述聚合物彼此的共聚物或将上述聚合物彼此混合的聚合物也可以作为例子来举出。
尤其，芳香族聚酰胺等酰胺类聚合物及酰亚胺类聚合物根据JIS P 8115：2001通过MIT试验机测定的断裂折弯次数多，硬度也比较高，因此能够优选地用作基材。例如，能够优选地将如日本专利第5699454号公报的实施例1中的芳香族聚酰胺、日本特表2015-508345号公报及日本特表2016-521216号公报中所记载的聚酰亚胺用作基材。
并且，基材也能够作为丙烯酸类、聚氨酯类、丙烯酸聚氨酯类、环氧类、硅酮类等紫外线固化型、热固化型树脂的固化层而形成。
(柔软化材料)
基材可以含有将上述聚合物树脂进一步柔软化的材料。柔软化材料是指提高断裂折弯次数的化合物，作为柔软化材料，能够使用橡胶质弹性体、脆性改良剂、增塑剂、滑环(slide ring)聚合物等。
作为柔软化材料，具体而言能够优选地使用日本特开2016-167043号公报中的段落号<0051>～<0114>中记载的柔软化材料。
柔软化材料可以单独混合于聚合物树脂，也可以适当地同时使用多个来进行混合，并且，也可以不与树脂混合，而是仅将柔软化材料单独使用或同时使用多个来作为基材。
混合这些柔软化材料的量例如能够相对于聚合物树脂100质量份设为10质量份，没有特别的限定。即，基材只要具有充分的断裂折弯次数即可，可由聚合物树脂单独构成，也可以与柔软化材料混合，也可以将全部作为柔软化材料(100％)以具有充分的断裂折弯次数。
(其他添加剂)
能够在基材中根据用途添加各种添加剂(例如紫外线吸收剂、消光剂、抗氧化剂、剥离促进剂、延迟(光学各向异性)调节剂等)。这些可为固体也可为油状物。即，其融点或沸点没有特别的限定。并且，关于添加添加剂的时间，可以在制作基材的工序中的任何时间添加，也可以在材料制备工序中增加添加和制备添加剂的工序来进行。而且，各材料的添加量只要能够显现功能则没有特别的限定。
作为其他添加剂，能够优选地使用在日本特开2016-167043号公报中的段落号<0117>～<0122>中记载的添加剂。
以上添加剂可以单独使用1种，也可以组合2种以上来使用。
(紫外线吸收剂)
作为紫外线吸收剂，例如能够举出苯并三唑化合物、三嗪化合物、苯并恶嗪化合物。在此，苯并三唑化合物为具有苯并三唑环的化合物，作为具体例，例如能够举出在日本特开2013-111835号公报的0033段中记载的各种苯并三唑类紫外线吸收剂。三嗪化合物为具有三嗪环的化合物，作为具体例，例如能够举出在日本特开2013-111835号公报的0033段中记载的各种三嗪类紫外线吸收剂。作为苯并恶嗪化合物，例如能够使用在日本特开2014-209162号公报的0031段中记载的化合物。基材中的紫外线吸收剂的含量例如相对于基材中所含的树脂100质量份为0.1～10质量份左右，没有特别的限定。并且，关于紫外线吸收剂，还能够参考日本特开2013-111835号公报的0032段。另外，在本发明中，优选耐热性高且挥发性低的紫外线吸收剂。作为相关的紫外线吸收剂，例如可举出UVSORB 101(FUJIFILMWako Pure Chemical Corporation制)、TINUVIN 360、TINUVIN 460、TINUVIN 1577(BASF公司制)、LA-F70、LA-31、LA-46(ADEKA Corporation制)等。
基材从透明性的观点来看，优选使用于基材的柔软性材料及各种添加剂与聚合物树脂的折射率之差小。
(基材的厚度)
基材的厚度更优选为100μm以下，进一步优选为60μm以下，最优选为50μm以下。若基材的厚度变薄，则折弯时的表面与背面的曲率差变小，变得不易发生龟裂等，即使多次弯折，仍不易发生基材的断裂。另一方面，从使用基材的容易度的观点来看，优选基材的厚度为10μm以上，更优选为15μm以上。从安装有光学膜的图像显示装置的薄型化的观点来看，优选光学膜的总厚度为70μm以下，进一步优选为50μm以下。
(基材的制作方法)
关于基材，可以将热塑性的聚合物树脂热熔来制膜，也可以由将聚合物均匀溶解的溶液通过溶液制膜(溶剂浇铸法)来进行制膜。热熔制膜的情况下，能够在热熔时添加上述柔软化材料及各种添加剂。另一方面，当通过溶液制膜法制作基材时，能够在各制备工序中在聚合物溶液(以下称作浆液)中添加上述柔软化材料及各种添加剂。并且，关于其添加时间，可以在浆液制作工序中的任何时候添加，也可以在浆液制备工序的最后的制备工序中增加添加添加剂并进行制备的工序并进行。
<其他层>
本发明的光学膜可以具有除硬涂层以外的层。
例如，优选在光学膜的硬涂层的与基材相反的一侧的最表面进一步设置耐划伤层，由此能够提高耐划伤性。
(耐划伤层)
作为耐划伤层，优选为将1个分子中的交联基数量为3个以上的交联性化合物的固化物相对于耐划伤层的总质量含有80质量％以上的层。
1个分子中的交联基数量为3个以上的交联性化合物可以是交联性单体，也可以是交联性寡聚物，还可以是交联性聚合物。若交联性化合物的1个分子中的交联基数量为3个以上，则容易形成致密的三维交联结构，即使使用交联基当量(作为交联基而具有(甲基)丙烯酰基时通常称作丙烯酰胺当量)小的交联性化合物，也能够提高耐划伤层的压入硬度。耐划伤层的压入硬度优选为300MPa以上。
优选1个分子中的交联基数量为3个以上的交联性化合物的固化物的含有率相对于耐划伤层的总质量为80质量％以上，更优选为85质量％以上，进一步优选为90质量％以上。
作为交联基，优选(甲基)丙烯酰基、环氧基或氧杂环丁基，更优选(甲基)丙烯酰基或环氧基，最优选(甲基)丙烯酰基。
作为1个分子中的交联基数量为3个以上的交联性单体，可举出多元醇与(甲基)丙烯酸的酯。具体而言，可举出季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、二三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等，从高交联的观点来看优选季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯或二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯或它们的混合物。
耐划伤层的膜厚优选为350nm以下。
[光学膜的制造方法]
对本发明的光学膜的制造方法进行说明。
作为本发明的光学膜的制造方法，可优选地举出下述方式(A)及方式(B)。
方式(A)：
一种光学膜的制造方法，其中，
所述光学膜具有基材和硬涂层，
根据JIS K 5600-5-4：1999测定的铅笔硬度为2H以上，
根据JIS P 8115：2001通过MIT试验机测定的抗折次数为1000次以上，
将入射光从相对于光学膜的法线方向-60°入射，成为射出光峰值强度的10％的角度的宽度在6°以内，且从法线方向起50°处的漫射光的强度为射出光峰值强度的1％以下，所述光学膜的制造方法具有以下工序：
(i-1)在基材上涂布硬涂层形成用组合物来设置涂膜的工序；以及
(iii-1)一边使上述涂膜与平滑的1个金属辊接触一边进行固化的工序。
方式(B)：
一种光学膜的制造方法，其中，
所述光学膜具有基材和硬涂层，
根据JIS K 5600-5-4：1999测定的铅笔硬度为2H以上，
根据JIS P 8115：2001通过MIT试验机测定的抗折次数为1000次以上，
将入射光从相对于光学膜的法线方向-60°入射，成为射出光峰值强度的10％的角度的宽度在6°以内，且从法线方向起50°处的漫射光的强度为射出光峰值强度的1％以下，所述光学膜的制造方法具有以下工序：
(i-2)在基材上涂布硬涂层形成用组合物来设置涂膜的工序；
(ii-2)使上述涂膜固化的工序；以及
(iii-2)进行砑光处理的工序。
《方式(A)》
对本发明的光学膜的制造方法的方式(A)进行说明。
<工序(i-1)>
工序(i-1)为在基材上涂布硬涂层形成用组合物来设置涂膜的工序。
关于基材如前述。
硬涂层形成用组合物为用于形成前述硬涂层的组合物。
硬涂层形成用组合物通常呈现液体形态，优选含有用于形成前述硬涂层中所含的树脂的固化性化合物。并且，硬涂层形成用组合物优选将固化性化合物以及根据需要将各种添加剂及聚合引发剂溶解或分散于适当的溶剂中来制备。此时固体成分的浓度通常为10～90质量％左右，优选为20～80质量％，尤其优选为40～70质量％左右。
-聚合引发剂-
硬涂层形成用组合物可以含有聚合引发剂。
当固化性化合物为光聚合性化合物时，优选含有光聚合引发剂。
作为光聚合引发剂，可举出苯乙酮类、安息香类、二苯甲酮类、氧化膦类、缩酮类、蒽醌类、噻吨酮类、偶氮化合物、过氧化物类、2，3-二烷基二酮化合物类、二硫醚化合物类、氟胺化合物类、芳香族锍类、洛粉碱二聚物类、鎓盐类、硼酸盐类、活性酯类、活性卤类、无机络合物、香豆素类等。光聚合引发剂的具体例及优选方式、市售品等记载于日本特开2009-098658号公报的段落号<0133>～<0151>，在本发明中能够同样优选地使用。
“最新UV固化技术”{TECHNICAL INFORMATION INSTITUTE CO.，LTD}(1991年)、p.159及“紫外线固化系统”加藤清视著(1989年、综合技术中心发行)、p.65～148中也记载有各种例子，在本发明中是有用的。
硬涂层形成用组合物中的聚合引发剂的含量为用于使硬涂层形成用组合物中所含的能够聚合的化合物聚合的充分的量，且从设定成避免引发点过度增加的理由出发，优选相对于硬涂层形成用组合物中的总固体成分为0.5～8质量％，更优选为1～5质量％。
-溶剂-
作为溶剂没有特别的限定，优选为有机溶剂，例如能够举出常压下的沸点为200℃以下的溶剂。具体而言，可使用醇类、酮类、醚类、酯类、烃类、酰胺类，这些能够单独使用1种或组合2种以上来使用。其中，优选醇类、酮类、醚类、酯类。
在此，作为醇类，例如能够举出甲醇、乙醇、异丙醇、异丁醇、正丁醇、叔丁醇、乙氧基乙醇、丁氧基乙醇、二乙二醇单乙醚、苄醇、苯乙醇等。作为酮类，例如能够举出丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、环己酮等。作为醚类，例如能够举出二丁醚、丙二醇单乙醚乙酸酯等。作为酯类，例如能够举出乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯等。作为烃类，例如能够举出甲苯、二甲苯等。作为酰胺类，例如能够举出甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮等。其中，优选异丙醇、乙氧基乙醇、丁氧基乙醇、二乙二醇、甲乙酮、甲基异丁基酮、环己酮、丙二醇单乙醚乙酸酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯等。
作为硬涂层形成用组合物的涂布方法没有特别的限定，能够使用公知的方法。例如可举出浸涂法、气刀涂布法、帘涂法、辊涂法、绕线棒涂法、凹版涂布法、模涂法等。
<工序(iii-1)>
工序(iii-1)为一边使在工序(i-1)中获得的涂膜与平滑的1个金属辊接触一边进行固化的工序。
如此通过一边使涂膜与平滑的1个金属辊接触一边进行固化，能够形成具有平滑的表面的硬涂层。
作为平滑的金属辊，能够优选地使用对铬钼钢实施硬铬电镀并通过抛光进行镜面精加工的金属辊等。
作为平滑的金属辊的表面粗糙度(Ra)优选为40nm以下，更优选为10nm以下，进一步优选为5nm以下。通过将金属辊的表面粗糙度设为40nm以下，提高所获得的硬涂层的表面平滑性，可获得所期望的反射特性，因此优选。在本说明书中，当金属辊的表面粗糙度(Ra)具有目录值时，能够通过目录值求出，当没有目录值时，使用表面粗糙度测定机Surftest(Mitutoyo Corporation制)来求出。
使涂膜与金属辊接触时的金属辊的表面温度没有特别的限定，从促进硬涂层的固化的观点来看，有时优选预先使其高于常温(25℃)。
关于涂膜的固化，当涂膜中所含的固化性化合物为电离射线固化型的固化性化合物时，优选从基材侧照射电离射线来使其固化。
关于电离射线的种类没有特别的限定，可举出X射线、电子束、紫外线、可见光、红外线等，优选使用紫外线。例如若涂膜为紫外线固化性，则优选通过紫外线灯照射10mJ/cm2～1000mJ/cm2的照射量的紫外线来使固化性化合物固化。更优选为50mJ/cm2～1000mJ/cm2，进一步优选为100mJ/cm2～500mJ/cm2。作为紫外线灯的种类，可优选使用金属卤化物灯或高压水银灯等。
固化时的氧浓度优选为0～1.0体积％，进一步优选为0～0.1体积％，最优选为0～0.05体积％。通过使固化时的氧浓度小于1.0体积％，不易受到因氧而固化受阻的影响，成为牢固的膜。
作为工序(iii-1)中的处理速度，优选为2～40m/分钟，更优选为2～30m/分钟。通过设为2m/分钟以上，能够实现高生产率，通过设为40m/分钟以下，能够通过电离射线来充分地进行涂膜的固化。
工序(iii-1)开始跟前的涂膜的固化率优选为20％以下。即，工序(iii-1)优选为将固化率为20％以下的涂膜进行固化的工序。由此，通过工序(iii-1)，金属辊的平滑的表面形状容易转印到涂膜，容易获得平滑的硬涂层。工序(iii-1)开始跟前的涂膜的固化率更优选为10％以下，进一步优选为5％以下。
另外，固化率如下求出。
固化率：(1-固化后的残留聚合性官能团数/固化前的聚合性官能团数)×100％，且通过以下方法测定。
具体而言，使用Thermo electron corporation的NICOLET6700 FT-IR，通过透射的IR测定求出聚合性碳碳不饱和双键的峰值高度(808cm-1)。并且，光照射后也同样地求出峰值高度，通过求出光照射前后的峰值高度的变化率来计算固化率。
在工序(i-1)与工序(iii-1)之间，优选具有下述工序(ii-1)。
(ii-1)使涂膜的表层固化，且将涂膜的表层的固化率设为50％以上的工序。
涂膜的表层为从涂膜的与基材相反的一侧的表面起0.8μm的区域。表层的固化率通过该区域中的一次反射的IR测定求出，除此以外通过与前述相同的方法测定。
通过在工序(i-1)与工序(iii-1)之间具有固化涂膜的表层的工序，且将涂膜的表层的固化率设为50％以上，作为涂膜的硬涂层形成用组合物的一部分难以附着于金属辊，因此生产率提高。在工序(ii-1)中，更优选将涂膜的表层的固化率设为60％以上，进一步优选设为70％以上。
另外，此时工序(iii-1)开始跟前的涂膜整体的固化率也如前述优选为20％以下。
在工序(i-1)后且工序(iii-1)之前，优选具有使涂布了硬涂层形成用组合物的涂布面干燥的工序。此时，干燥优选通过如下进行，即将上述涂布面在50～130℃优选在60～125℃中加热5秒～5分钟优选加热30秒～5分钟。
涂膜的表层的固化能够通过电离射线的照射来进行。
通过电离射线的照射来进行固化时，能够优选地使用上述电离射线种类。电离射线优选从涂膜侧照射。为了使涂膜的表层固化，优选以氮或二氧化碳吹扫。
《方式(B)》
对本发明的光学膜的制造方法的方式(B)进行说明。
工序(i-2)与上述方式(A)中的工序(i-1)相同。
<工序(ii-2)>
工序(ii-2)为使在工序(i-2)中获得的涂膜固化的工序。
固化能够通过电离射线的照射来进行。
当通过电离射线的照射进行固化时，能够优选地使用在上述工序(iii-1)中记载的电离射线种类。
在工序(ii-2)中，优选将涂膜的固化率设为10～80％，更优选设为20～70％，进一步优选设为30～60％。
通过在工序(ii-2)中将涂膜的固化率设为10％以上，不易引起在工序(iii-2)中使用的砑光辊上的硬涂层形成用组合物的附着，因此能够提高生产率。
并且，通过在工序(ii-2)中将涂膜的固化率设为80％以下，从基于砑光处理的平滑化的观点来看优选。
固化率与前述同样地进行测定。
<工序(iii-2)>
工序(iii-2)为对具有基材和已固化的涂膜的层叠体进行砑光处理的工序。
砑光处理优选通过砑光装置来进行。作为砑光装置，使用超级砑光机、光泽砑光机、机械砑光机、软砑光机等。砑光处理优选使用2个辊(砑光辊、具有基材侧的辊和涂膜侧的辊的辊)来进行。
2个辊中，涂膜侧的辊优选为金属制的辊(金属辊)。作为金属辊，可举出向钢铁等辊表面喷镀镍、铬、陶瓷等来作为保护层的金属辊，优选以使表面具有镜面光泽的方式进行抛光。
以下，将涂膜侧的辊为金属辊的情况作为例子进行说明。
使经过了工序(i-2)及(ii-2)的层叠体通过金属辊和另一个辊(为基材侧的辊，也可以为金属制的辊)之间的夹持(间隙)，由此能够通过压力、剪切力及热量来提高硬涂层表面的平滑性。
也可以不对金属辊进行加热来进行处理，但通过加热而平滑性进一步提高，因此优选。金属辊的表面温度优选为80℃以上，更优选为90～120℃。
本发明所涉及的砑光处理时的金属辊与另一个辊之间的夹持的线压(夹持压力)优选为100kg/cm以上，更优选为200～400kg/cm。
作为砑光处理的处理速度(线速度)，优选为20m/分钟以上，更优选为40～80m/分钟。
夹持次数优选为1次以上，更优选为7次以下。
金属辊的表面粗糙度优选为40nm以下，更优选为10nm以下。进一步优选为5nm以下。
优选在工序(iii-2)之后使硬涂层(涂膜)进一步固化。
在上述方式(A)及(B)中，优选包含在硬涂层形成后设置耐划伤层的工序。
此时，优选在平滑化的硬涂层上设置耐划伤层。例如，优选在前述工序(iii-2)之后在硬涂层上涂布耐划伤层形成用组合物并使其固化，从而形成耐划伤层。
实施例
以下，通过实施例进一步具体地对本发明进行说明，本发明的范围不应被这些实施例限定地解释。另外，只要没有特别的说明，则“份”及“％”为质量基准。
(基材S-1的制作)
[芳香族聚酰胺的合成]
在具备有搅拌机的聚合槽中加入N-甲基-2-吡咯烷酮674.7kg、无水溴化锂10.6g(Sigma-Aldrich Japan制)、2，2’-二三氟甲基-4，4’-二羧基联苯(Toray Fine ChemicalsCo.，Ltd.制“TFMB”)33.3g、4，4’-二氨基二苯基砜(SEIKA GROUP制“44DDS”)2.9g，在氮环境气体下冷却至15℃，且一边进行搅拌一边经300分钟将对苯二甲酰二氯(Tokyo Chemical公司制)18.5g、4，4’-联苯二羰基氯(Toray Fine Chemicals Co.，Ltd.制“4BPAC”)6.4g分4次进行了添加。搅拌60分钟后，将在反应中产生的氯化氢以碳酸锂进行中和来获得了聚合物溶液。
将在上述中获得的聚合物溶液的一部分以最终膜厚成为40μm的方式使用T型模具在120℃的环状传送带上进行流延，干燥至聚合物浓度成为40质量％的样子并从环状传送带剥离。接着将包含有溶剂的薄膜在40℃的大气中向MD(Machine Direction，机器方向)方向拉伸1.1倍，并在50℃的水中清洗来去除了溶剂。进而在340℃的干燥炉中向TD(Transverse Direction，横向)方向拉伸1.2倍，获得了由芳香族聚酰胺构成的厚度40μm的基材S-1。
〔光学膜的制作〕
如下所示，制备硬涂层形成用组合物(涂布液)，使用各个硬涂层形成用组合物形成硬涂层，制作了光学膜试样。
(硬涂层形成用组合物的制备)
以下述表1中所记载的组成(质量份)将各成分投入到混合罐并进行搅拌，以孔径0.4μm的聚丙烯制过滤器进行过滤，制备了涂布液A～D。
[表1]
成分\硬涂层形成用组合物 涂布液A 涂布液B 涂布液C 涂布液D
DPCA-20 52.25 - 14.11 20.90
SIRIUS-501 - 52.25 - -
硅烷1 - - - 18.81
硅烷2 - - - 12.54
氧化锆 - - 38.14 -
甲苯 45.00 45.00 45.00 45.00
Irgacure184 2.75 2.75 2.75 2.75
各成分的含量的单位为质量份。
DPCA-20：Nippon Kayaku Co.，Ltd.制KAYARAD DPCA-20
SIRIUS-501：Osaka Organic Chemical Industry Co.，Ltd.制SIRIUS-501
硅烷1：平均一次粒径30nm的硅烷粒子
硅烷2：平均一次粒径7nm的硅烷粒子
氧化锆：平均一次粒径20nm的氧化锆粒子(CIK nanotek公司制)
溶剂：甲苯
聚合引发剂：Irgacure 184(BASF公司制)
(实施例1：光学膜a的制作)
在基材S-1上将涂布液A使用凹板涂布机进行涂布而获得了涂膜。在100℃下进行干燥后，以成为氧浓度为1.5体积％的环境气体的方式一边进行氮气吹扫一边使用20mW/cm2的气冷金属卤化物灯(EYE GRAPHICS Co.，Ltd.制制)将照射量20mJ/cm2的紫外线从涂膜侧进行照射来使其固化。此时的涂膜的固化率为54％。
之后，对基材与已固化的涂膜的层叠体进行了砑光处理。将砑光处理的条件示于以下。
辊的种类：硬铬电镀铬钼钢
线速度：50m/分钟
辊温度：90℃
夹持压力：300kg/cm
夹持次数：1次
辊的表面粗糙度：3nm
砑光处理之后，再次照射了紫外线。紫外线照射的条件设为氧浓度100ppm以下、照度160mW/cm2、照射量300mJ/cm2。涂膜的固化率为84％。
如此制作了光学膜a。硬涂层的膜厚为5μm。
(实施例2：光学膜b的制作)
代替涂布液A而使用了涂布液C，除此以外以与实施例1的光学膜a相同的方式制作了光学膜b。硬涂层的膜厚为5μm。
(实施例3：光学膜c的制作)
在实施例1中制作的砑光处理后的薄膜上，将耐划伤层形成用组合物(涂布液E)使用凹板涂布机以干膜的厚度成为0.1μm的方式进行涂布，并在100℃下进行了干燥。之后，以成为氧浓度为100ppm以下的环境气体的方式一边进行氮气吹扫一边使用160mW/cm2的气冷金属卤化物灯(EYE GRAPHICS Co.，Ltd.制)将照射量300mJ/cm2的紫外线从涂膜侧进行照射来使其固化，由此制作了光学膜c。另外，涂布液E的组成示于下述表2。
[表2]
成分\耐划伤层形成用组合物 涂布液E
KAYARAD DPHA 8.90
RS-90(DIC Corporation制) 8.28
甲乙酮 82.55
Irgacure127 0.28
各成分的含量的单位为质量份。
KAYARAD DPHA：Nippon Kayaku Co.，Ltd.制
Irgacure 127：聚合引发剂(BASF公司制)
(实施例4：光学膜d的制作)
代替涂布液A而使用了涂布液B，除此以外以与实施例1的光学膜a相同的方式制作了光学膜d。硬涂层的膜厚为5μm。
(实施例5：光学膜e的制作)
在基材S-1上将涂布液A使用凹板涂布机进行涂布而获得了涂膜。在100℃下进行干燥后，以成为氧浓度为100ppm以下的环境气体的方式一边进行氮气吹扫一边使用10mW/cm2的气冷金属卤化物灯(EYE GRAPHICS Co.，Ltd.制)将照射量5mJ/cm2的紫外线从涂膜侧进行照射来使涂膜固化。此时的涂膜的固化率为8％，涂膜的表层的固化率为60％。
之后，一边使涂膜与平滑的1个金属辊(25℃)接触一边进行固化。固化通过以成为氧浓度为100ppm以下的环境气体的方式一边进行氮气吹扫一边使用160mW/cm2的气冷金属卤化物灯(EYE GRAPHICS Co.，Ltd.制)将照射量1,000mJ/cm2的紫外线从基材侧照射来进行。
将涂膜与平滑的1个金属辊接触时的条件示于以下。
平滑的金属辊的种类：硬铬电镀铬钼钢
平滑的金属辊的表面粗糙度(Ra)：8nm
如此制作了光学膜e。硬涂层的膜厚为5μm。
(实施例6：光学膜f的制作)
代替基材S-1而使用了聚对苯二甲酸乙二酯(PET)基材，除此以外以与实施例5的光学膜e相同的方式制作了光学膜f。PET基材以在日本特开2014-209162号公报的段落号<0148>～<0160>中记载的方法制作了厚度40μm的聚对苯二甲酸乙二酯基材。硬涂层的膜厚为5μm。
(基材S-3的制作)
[聚酰亚胺粉末的制造]
在安装有搅拌器、氮气注入装置、滴加漏斗、温度调节器及制冷器的1L的反应器内，在氮气流下加入N，N-二甲基乙酰胺(DMAc)832g后，将反应器的温度设为25℃。在此，添加并溶解双三氟甲基联苯胺(TFDB)64.046g(0.2mol)而获得了溶液。一边将所获得的溶液维持在25℃，一边投入2，2-双(3，4-二羧基苯基)六氟丙烷二酐(6FDA)31.09g(0.07mol)和联苯四羧酸二酐(BPDA)8.83g(0.03mol)，搅拌一定时间来使其反应。之后，添加氯化对苯二甲酰(TPC)20.302g(0.1mol)，获得了固体成分浓度13质量％的聚酰胺酸溶液。接着，在该聚酰胺酸溶液中投入吡啶25.6g、乙酸酐33.1g并搅拌30分钟，进一步在70℃下搅拌1小时后，在常温中进行了冷却。对其加入甲醇20L，将沉淀的固体成分过滤并进行了粉碎。之后，在100℃下，在真空中干燥6小时，获得了111g的固体成分粉末的聚酰亚胺。
[基材S-3的制作]
将100g的固体成分粉末的聚酰亚胺溶解于670g的N，N-二甲基乙酰胺(DMAc)中，获得了13质量％的溶液。将所获得的溶液在不锈钢板上进行流延，以130℃的热风干燥了30分钟。之后将薄膜从不锈钢板剥离，用卡子固定在框架上，将固定有薄膜的框架放入真空烘箱中，一边使加热温度从100℃逐渐上升至300℃一边加热2小时，之后，逐渐进行了冷却。将冷却后的薄膜从框架分离后，作为最终热处理工序，进一步在300℃下进行30分钟热处理，获得了由聚酰亚胺构成的厚度30μm的基材S-3(未拉伸)。
(基材S-4的制作)
将100g的固体成分粉末的聚酰亚胺溶解于670g的N，N-二甲基乙酰胺(DMAc)中，获得了13质量％的溶液。将所获得的溶液在不锈钢板上进行流延，以130℃的热风干燥了30分钟。之后将薄膜从不锈钢板剥离，一边施以200℃的热量，一边向长边方向拉伸了1.2倍，且向宽度方向拉伸了1.2倍。之后将薄膜用卡子固定在框架上并放入到真空烘箱，一边使加热温度从100℃逐渐上升至300℃一边加热2小时，之后，逐渐进行了冷却。将冷却后的薄膜从框架分离后，作为最终热处理工序，进一步在300℃下进行30分钟热处理，获得了由聚酰亚胺构成的厚度30μm的基材S-4。
(基材S-5的制作)
将聚酰亚胺的溶液在不锈钢板上流延的量进行了调整，除此以外以与基材S-4的形成方法相同的方式获得了由聚酰亚胺构成的厚度50μm的基材S-5。
(基材S-6的制作)
将94g的固体成分粉末的聚酰亚胺和6g的LA-F70(ADEKA CORPORATION制)溶解于670g的N，N-二甲基乙酰胺(DMAc)，获得了13质量％的溶液。将所获得的溶液在不锈钢板上进行流延，以130℃的热风干燥了30分钟。之后将薄膜从不锈钢板剥离，用卡子固定在框架上，将固定有薄膜的框架放入真空烘箱中，一边使加热温度从100℃逐渐上升至300℃一边加热2小时，之后，逐渐进行了冷却。将冷却后的薄膜从框架分离后，作为最终热处理工序，进一步在300℃下进行30分钟热处理，获得了由聚酰亚胺构成的厚度30μm的基材S-6(未拉伸)。
(实施例7：光学膜g的制作)
代替基材S-1而使用了基材S-3，除此以外以与实施例1的光学膜a相同的方式制作了光学膜g。硬涂层的膜厚为5μm。
(实施例8：光学膜h的制作)
代替基材S-1而使用了基材S-4，除此以外以与实施例1的光学膜a相同的方式制作了光学膜h。硬涂层的膜厚为5μm。
(实施例9：光学膜i的制作)
代替基材S-1而使用了基材S-4，除此以外以与实施例2的光学膜b相同的方式制作了光学膜i。硬涂层的膜厚为5μm。
(实施例10：光学膜j的制作)
代替基材S-1而使用了基材S-4，除此以外以与实施例3的光学膜c相同的方式制作了光学膜j。
(实施例11：光学膜k的制作)
代替基材S-1而使用了基材S-4，除此以外以与实施例4的光学膜d相同的方式制作了光学膜k。硬涂层的膜厚为5μm。
(实施例12：光学膜1的制作)
代替基材S-1而使用了基材S-4，除此以外以与实施例5的光学膜e相同的方式制作了光学膜1。硬涂层的膜厚为5μm。
(实施例13：光学膜m的制作)
代替基材S-1而使用了基材S-5，除此以外以与实施例1的光学膜a相同的方式制作了光学膜m。硬涂层的膜厚为5μm。
(实施例14：光学膜n的制作)
代替基材S-1而使用了基材S-5，除此以外以与实施例5的光学膜e相同的方式制作了光学膜n。硬涂层的膜厚为5μm。
(实施例15：光学膜o的制作)
代替基材S-1而使用了基材S-6，除此以外以与实施例1的光学膜a相同的方式制作了光学膜o。硬涂层的膜厚为5μm。
(比较例1：光学膜r1的制作)
在基材S-1上将涂布液A利用凹板涂布机进行涂布而获得了涂膜。在100℃下进行干燥后，以成为氧浓度为100ppm以下的环境气体的方式一边进行氮气吹扫一边使用160mW/cm2的气冷金属卤化物灯(EYE GRAPHICS Co.，Ltd.制)将照射量300mJ/cm2的紫外线从涂膜侧进行照射来使涂膜固化。如此制作了光学膜r1。硬涂层的膜厚为5μm。
(比较例2：光学膜r2的制作)
代替涂布液A而使用了涂布液D，除此以外以与实施例1的光学膜a相同的方式制作了光学膜r2。硬涂层的膜厚为5μm。
(比较例3：光学膜r3的制作)
代替基材S-1而使用了已进行平滑化处理的芳纶基材S-2，除此以外以与比较例1的光学膜r1相同的方式制作了光学膜r3。硬涂层的膜厚为5μm。
已进行平滑化处理的芳纶基材S-2如下制作。
在使用热板加热至120℃的通过浮标法(float glass process)制作的Ra为1nm的玻璃板上，将在基材S-1的制作中获得的聚合物溶液的一部分以最终的薄膜厚度成为如40μm的方式利用T型模具进行了流延。接着，以聚合物浓度成为60质量％的方式进行干燥并从玻璃板剥离。接着将包含溶剂的薄膜在40℃的大气中向MD(Machine Direction)方向拉伸1.1倍，且以50℃的水进行清洗来去除了溶剂。进一步在340℃的干燥炉中向TD(TransverseDirection)方向拉伸1.2倍，获得了由芳香族聚酰胺构成的厚度40μm的基材S-2。
(比较例4：光学膜r4的制作)
代替基材S-1而使用了聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)基材，除此以外以与实施例1的光学膜a相同的方式制作了光学膜r4。硬涂层的膜厚为5μm。
另外，作为PMMA基材，使用了厚度40μm的在日本特开2016-071264号公报中记载的光学膜No.1。
[光学膜的评价]
(耐反复折弯性)
准备在25℃且相对湿度65％的状态下搁置1小时以上的宽度15mm、长度80mm的试样薄膜，利用抗折度试验机(TESTER SANGYO CO，.LTD.制、MIT、BE-201型、折弯半径0.4mm)在荷载500g的条件下，进行了遵照JIS P 8115：2001的测定。根据断裂为止的次数来评价了耐反复折弯性。
A：10000次以上
B：1000次以上且少于10000次
C：少于1000次
(反射特性)
反射特性使用三维变角分光测色系统GCMS-3B(MURAKAMI COLOR RESEARCHLABORATORY)进行了测定。具体而言，将入射光从相对于光学膜的法线方向(设为0°)-60°入射，在0°至80°的范围内测定了反射光。将成为射出光峰值强度的10％的角度的宽度设为θ，将50°中的射出光的强度除以射出光峰值强度的值再乘以100的值设为I(％)。
(铅笔硬度)
遵照JIS K 5600-5-4：1999进行了测定。
(平滑性)
关于光学膜表面，使用Vertscan2.0(Mitsubishi Chemical Systems，inc.制)，以透镜倍率×2.5、镜筒倍率×0.5、波浪模式测定了视野大小3724μm×4965μm内的表面粗糙度Ra。
(耐划伤性)
将光学膜的表面使用摩擦试验机在以下条件下进行摩擦试验，并用作耐划伤性的指标。
评价环境条件：25℃、相对湿度60％
摩擦材料：钢丝棉(Nippon Steel Wool Co.，Ltd.制、Grade No.0000)
卷绕在与试样接触的试验机的摩擦前端部(1cm×1cm)，并用带固定
移动距离(单程)：13cm
摩擦速度：13cm/秒
荷载：1000g/cm2
前端部接触面积：1cm×1cm
摩擦次数：来回反复1000次
在摩擦结束的试样的里侧涂布油性黑墨水，通过反射光进行肉眼观察，对摩擦部分的划伤进行了评价。
A：即使非常仔细地观察也完全看不到划伤
B：若仔细观察可见轻微划伤，但不成问题
C：存在一眼可见的划伤，非常明显
从表3及表4所示的结果可知，本发明的实施例的光学膜的铅笔硬度高，耐反复折弯性优异，且反射特性优异(具有玻璃一样的反射特性)。

Claims (16)

1.一种光学膜，具有基材和硬涂层，
根据JIS K 5600-5-4:1999测定的铅笔硬度为2H以上，
根据JIS P 8115:2001通过MIT试验机测定的抗折次数为1000次以上，
将入射光从相对于光学膜的法线方向-60°入射，成为射出光峰值强度的10％的角度的宽度在6°以内，且从法线方向起50°处的射出光的强度为射出光峰值强度的1％以下。
2.根据权利要求1所述的光学膜，其中，
层叠有所述硬涂层的一侧的最表面的表面粗糙度为5nm以下。
3.根据权利要求1或2所述的光学膜，其中，
层叠有所述硬涂层的一侧的最表面的表面粗糙度为2nm以下。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的光学膜，其中，
所述硬涂层包含无机粒子，所述无机粒子的粒径具有单一分布。
5.根据权利要求4所述的光学膜，其中，
所述硬涂层中的所述无机粒子的填充率为55体积％以下。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的光学膜，其中，
在所述硬涂层的与所述基材相反的一侧还具有耐划伤层。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的光学膜，其中，
根据JIS P 8115:2001通过MIT试验机测定的抗折次数为10000次以上。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的光学膜，其中，
根据JIS K 5600-5-4:1999测定的铅笔硬度为4H以上。
9.一种光学膜的制造方法，其中，
所述光学膜具有基材和硬涂层，
根据JIS K 5600-5-4:1999测定的铅笔硬度为2H以上，
根据JIS P 8115:2001通过MIT试验机测定的抗折次数为1000次以上，
将入射光从相对于光学膜的法线方向-60°入射，成为射出光峰值强度的10％的角度的宽度在6°以内，且从法线方向起50°处的射出光的强度为射出光峰值强度的1％以下，
所述光学膜的制造方法具有以下工序：
(i-1)在所述基材上涂布硬涂层形成用组合物来设置涂膜的工序；以及
(iii-1)一边使所述涂膜与平滑的1个金属辊接触一边进行固化的工序。
10.根据权利要求9所述的光学膜的制造方法，其中，
所述工序(iii-1)开始跟前的所述涂膜的固化率为20％以下。
11.根据权利要求9或10所述的光学膜的制造方法，其中，
在所述工序(i-1)与工序(iii-1)之间包含(ii-1)使所述涂膜的表层固化，且使所述涂膜的表层的固化率为50％以上的工序。
12.根据权利要求9～11中任一项所述的光学膜的制造方法，其中，
所述工序(iii-1)的所述金属辊的表面粗糙度为40nm以下。
13.一种光学膜的制造方法，其中，
所述光学膜具有基材和硬涂层，
根据JIS K 5600-5-4:1999测定的铅笔硬度为2H以上，
根据JIS P 8115:2001通过MIT试验机测定的抗折次数为1000次以上，
将入射光从相对于光学膜的法线方向-60°入射，成为射出光峰值强度的10％的角度的宽度在6°以内，且从法线方向起50°处的射出光的强度为射出光峰值强度的1％以下，
所述光学膜的制造方法具有以下工序：
(i-2)在所述基材上涂布硬涂层形成用组合物来设置涂膜的工序；
(ii-2)使所述涂膜固化的工序；以及
(iii-2)进行砑光处理的工序。
14.根据权利要求13所述的光学膜的制造方法，其中，
所述工序(ii-2)为使所述涂膜的固化率为10～80％的工序。
15.根据权利要求13或14所述的光学膜的制造方法，其中，
关于所述工序(iii-2)的砑光处理，使用2个辊进行，线速度为20m/分钟以上，至少1个辊的温度为80℃以上，夹持压力为100kg/cm以上，夹持次数为1次以上。
16.根据权利要求13～15中任一项所述的光学膜的制造方法，其中，
所述工序(iii-2)的所述砑光处理使用2个辊进行，所述2个辊中所述涂膜侧的辊为金属辊，所述金属辊的表面粗糙度为40nm以下。
CN201780079610.7A 2016-12-22 2017-10-16 光学膜及光学膜的制造方法 Active CN110100192B (zh)

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016250146 2016-12-22
JP2016-250146 2016-12-22
JP2017-022603 2017-02-09
JP2017022603 2017-02-09
JP2017101153 2017-05-22
JP2017-101153 2017-05-22
PCT/JP2017/037352 WO2018116598A1 (ja) 2016-12-22 2017-10-16 光学フィルム及び光学フィルムの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN110100192A true CN110100192A (zh) 2019-08-06
CN110100192B CN110100192B (zh) 2021-02-09

Family

ID=62626067

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201780079610.7A Active CN110100192B (zh) 2016-12-22 2017-10-16 光学膜及光学膜的制造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US11306188B2 (zh)
JP (2) JP7027337B2 (zh)
KR (2) KR102342126B1 (zh)
CN (1) CN110100192B (zh)
WO (1) WO2018116598A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI795142B (zh) * 2020-12-31 2023-03-01 南韓商可隆股份有限公司 具有改良光學性質的光學膜、包括其之顯示裝置以及其製造方法

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020029486A (ja) * 2018-08-20 2020-02-27 河村産業株式会社 ポリイミド粉体、ポリイミドワニス、ポリイミドフィルムおよびポリイミド多孔質膜
KR102316432B1 (ko) * 2018-10-26 2021-10-21 주식회사 엘지화학 플렉서블 디스플레이 장치의 커버 윈도우 및 디스플레이 장치
KR102602546B1 (ko) * 2019-02-27 2023-11-16 후지필름 가부시키가이샤 적층체, 적층체를 구비한 물품, 및 화상 표시 장치
US11230497B2 (en) 2019-04-10 2022-01-25 Saudi Arabian Oil Company Cement additives
CN113678029B (zh) * 2019-04-12 2023-08-08 富士胶片株式会社 硬涂膜及其制造方法、具备硬涂膜的物品及图像显示装置
KR102591029B1 (ko) * 2020-12-31 2023-10-17 코오롱인더스트리 주식회사 낮은 광투과도 변화율을 갖는 광학 필름 및 이를 포함하는 표시장치
US11858039B2 (en) 2022-01-13 2024-01-02 Saudi Arabian Oil Company Direct ink printing of multi-material composite structures

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010000739A (ja) * 2008-06-23 2010-01-07 Konica Minolta Holdings Inc ハードコート層付積層体
JP2012072235A (ja) * 2010-09-28 2012-04-12 Sumitomo Chemical Co Ltd ハードコートフィルムの製造方法、偏光板および画像表示装置
JP5267925B2 (ja) * 2008-09-08 2013-08-21 住友化学株式会社 ハードコートフィルムおよびその製造方法、ならびに偏光板
CN104428699A (zh) * 2012-07-13 2015-03-18 柯尼卡美能达株式会社 红外屏蔽膜
JP2015069058A (ja) * 2013-09-30 2015-04-13 凸版印刷株式会社 ハードコート組成物およびそれを塗工してなるハードコートフィルム、反射防止フィルム
WO2015146655A1 (ja) * 2014-03-26 2015-10-01 コニカミノルタ株式会社 光反射フィルム

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4870522B2 (ja) * 2005-11-22 2012-02-08 富士フイルム株式会社 熱可塑性樹脂フィルムの製造方法
JP2007156132A (ja) * 2005-12-06 2007-06-21 Sumitomo Chemical Co Ltd 防眩フィルム及び画像表示装置
EP1962110A1 (en) * 2007-02-14 2008-08-27 Sony Corporation Anti-glare film, method for manufacturing the same, and display device using the same
JP5012745B2 (ja) * 2008-09-18 2012-08-29 コニカミノルタホールディングス株式会社 ハードコート層付積層体
US8422135B2 (en) * 2008-10-21 2013-04-16 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical sheet
JP5609406B2 (ja) * 2010-08-09 2014-10-22 デクセリアルズ株式会社 光学素子およびその製造方法ならびに照明装置、窓材および建具
CN108490512B (zh) * 2011-09-06 2020-05-29 天空燃料有限公司 具有耐磨损性的耐候性太阳能反射镜
US10295706B2 (en) * 2012-05-09 2019-05-21 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical film, polarizing plate, liquid crystal panel, and image display apparatus
WO2014094845A1 (de) * 2012-12-19 2014-06-26 Schott Ag Schutzverglasung mit transparenter keramik
CN105008888A (zh) * 2013-02-19 2015-10-28 旭硝子株式会社 评价透明基体的光学特性的方法
JP6199605B2 (ja) 2013-05-27 2017-09-20 日東電工株式会社 ハードコートフィルム及びハードコートフィルム巻回体
DE102013112378B4 (de) * 2013-11-11 2021-04-22 Thyssenkrupp Rasselstein Gmbh Reflektor für solarthermische Systeme und Verfahren zur Herstellung eines solchen Reflektors
CN105899623B (zh) 2014-01-15 2018-08-10 3M创新有限公司 包含烷氧基化的多(甲基)丙烯酸酯单体和经表面处理的纳米粒子的硬质涂膜
US11267973B2 (en) 2014-05-12 2022-03-08 Corning Incorporated Durable anti-reflective articles
JP6276211B2 (ja) * 2014-05-30 2018-02-07 リケンテクノス株式会社 透明樹脂積層体
JP6156342B2 (ja) * 2014-12-02 2017-07-05 マツダ株式会社 積層塗膜及び塗装物
JP2016179603A (ja) * 2015-03-24 2016-10-13 東レフィルム加工株式会社 ハードコートフィルムおよび透明導電性フィルム
WO2016152871A1 (ja) 2015-03-25 2016-09-29 日本ゼオン株式会社 光学フィルム
JP6680036B2 (ja) 2015-03-31 2020-04-15 三菱ケミカル株式会社 積層体
WO2016163554A1 (ja) * 2015-04-10 2016-10-13 富士フイルム株式会社 透明フィルム、偏光板、及び画像表示装置
US10401539B2 (en) * 2016-04-21 2019-09-03 Corning Incorporated Coated articles with light-altering features and methods for the production thereof
WO2018061217A1 (ja) * 2016-09-30 2018-04-05 マツダ株式会社 積層塗膜及び塗装物

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010000739A (ja) * 2008-06-23 2010-01-07 Konica Minolta Holdings Inc ハードコート層付積層体
JP5267925B2 (ja) * 2008-09-08 2013-08-21 住友化学株式会社 ハードコートフィルムおよびその製造方法、ならびに偏光板
JP2012072235A (ja) * 2010-09-28 2012-04-12 Sumitomo Chemical Co Ltd ハードコートフィルムの製造方法、偏光板および画像表示装置
CN104428699A (zh) * 2012-07-13 2015-03-18 柯尼卡美能达株式会社 红外屏蔽膜
JP2015069058A (ja) * 2013-09-30 2015-04-13 凸版印刷株式会社 ハードコート組成物およびそれを塗工してなるハードコートフィルム、反射防止フィルム
WO2015146655A1 (ja) * 2014-03-26 2015-10-01 コニカミノルタ株式会社 光反射フィルム

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI795142B (zh) * 2020-12-31 2023-03-01 南韓商可隆股份有限公司 具有改良光學性質的光學膜、包括其之顯示裝置以及其製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP7027337B2 (ja) 2022-03-01
KR20190087504A (ko) 2019-07-24
JPWO2018116598A1 (ja) 2019-10-24
CN110100192B (zh) 2021-02-09
KR102269381B1 (ko) 2021-06-28
US11306188B2 (en) 2022-04-19
KR20210080589A (ko) 2021-06-30
US20190310396A1 (en) 2019-10-10
WO2018116598A1 (ja) 2018-06-28
JP2022031672A (ja) 2022-02-22
KR102342126B1 (ko) 2021-12-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110100192A (zh) 光学膜及光学膜的制造方法
JP6935463B2 (ja) 偏光板用保護フィルム及びそれを用いた偏光板
JP5009690B2 (ja) 偏光板、画像表示装置および偏光板の製造方法
CN102576094B (zh) 光学层积体及光学层积体的制造方法
TWI531600B (zh) Optical continuum
TWI341933B (en) Polarizing plate and image display including the same
TWI652298B (zh) 光學膜、防眩性膜及偏光板
JP6186294B2 (ja) 反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置、及び反射防止フィルムの製造方法
TWI704178B (zh) （甲基）丙烯酸系樹脂組成物及使用了該組成物的（甲基）丙烯酸系樹脂膜
KR20180112074A (ko) 광학 적층체
JP6235287B2 (ja) 光学積層体
KR101740072B1 (ko) 아크릴계 수지 필름 및 그 제조 방법, 그리고 그것을 사용하여 이루어지는 편광판
KR102533901B1 (ko) 성형용 가식 필름과 그 제조 방법, 성형물, 및 성형 방법
JP6054019B2 (ja) 光学積層体
JP2009185282A (ja) ハードコートフィルム、ハードコートフィルムの製造方法、光学素子および画像表示装置
JP6931709B2 (ja) ディスプレイ表面用保護フィルム、偏光板、及び画像表示装置
JP2006231845A (ja) ハードコートフィルム
JP7456389B2 (ja) 粘着フィルム、及び、粘着フィルムの製造方法
WO2019097889A1 (ja) 積層体、偏光板、及び画像表示装置、および積層体の製造方法
WO2022163492A1 (ja) 偏光板および表示装置
JP2016069595A (ja) 光硬化性樹脂成形体およびその製造方法
JP2018051894A (ja) 積層フィルム及び偏光板

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant