WO2019097889A1 - 積層体、偏光板、及び画像表示装置、および積層体の製造方法 - Google Patents

積層体、偏光板、及び画像表示装置、および積層体の製造方法 Download PDF

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WO2019097889A1
WO2019097889A1 PCT/JP2018/037306 JP2018037306W WO2019097889A1 WO 2019097889 A1 WO2019097889 A1 WO 2019097889A1 JP 2018037306 W JP2018037306 W JP 2018037306W WO 2019097889 A1 WO2019097889 A1 WO 2019097889A1
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WO
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layer
group
laminate
absorbing layer
film
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PCT/JP2018/037306
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Inventor
真 内村
啓吾 植木
福重　裕一
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富士フイルム株式会社
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
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    • G—PHYSICS
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    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/02—Details
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
    • H05B33/14—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of the electroluminescent material, or by the simultaneous addition of the electroluminescent material in or onto the light source

Definitions

  • the present invention relates to a laminate, a polarizing plate, an image display device, and a method of manufacturing the laminate.
  • Image display apparatus such as a display device using a cathode ray tube (CRT), plasma display (PDP), electroluminescence display (ELD), fluorescent display (VFD), field emission display (FED), and liquid crystal display (LCD)
  • a functional layer for example, a hard coat film having a hard coat layer
  • a support base material
  • Patent Documents 1 and 2 disclose a hardcoat film having a hardcoat layer on one side of a substrate and having a urethane resin layer on the other side.
  • Patent Documents 1 and 2 describe the improvement of impact resistance and scratch resistance for hard coat films, but according to the study of the present inventors, the hard coat layer was rubbed in contact with other objects.
  • the shape of the object is transferred to the hard coat layer.
  • a load from the outside may cause transfer of a keyboard mark to the display surface, or display foreign matter on the display surface.
  • the display surface may be dented or scratched (hereinafter also referred to as "keyboard reflection") by being sandwiched between the keyboard and the keyboard.
  • keyboard reflection hereinafter also referred to as "keyboard reflection"
  • the inner shape of the case may be transferred to the display surface by applying a load to the case.
  • the present invention has been made in view of the above problems, and is a laminate having a functional layer such as a hard coat layer, which can suppress the transfer of the shape of another object to the functional layer, and the laminate It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a polarizing plate, an image display device, and a laminate having
  • the present inventors have found that the above problem can be solved by a laminate having an impact absorbing layer in which the maximum value of tan ⁇ in a specific frequency range is equal to or less than a specific value. That is, the above-mentioned subject was solved by the following means.
  • ⁇ 1> It has a shock absorbing layer, a support and a functional layer,
  • the film thickness of the shock absorbing layer is 1 ⁇ m or more
  • the shock absorbing layer is a laminate having a maximum of tan ⁇ of at most 2.0 at a frequency of 10 to 10 5 Hz at 25 ° C. Is the ratio of loss modulus to storage modulus.
  • ⁇ 2> The layered product according to ⁇ 1>, wherein the shock absorbing layer has a maximum value of storage elastic modulus in a frequency range of 10 to 10 5 Hz at 25 ° C. of 4000 MPa or less.
  • ⁇ 3> The laminated structure according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein the shock absorbing layer has a maximum value of tan ⁇ at 25 ° C. in a frequency range of 10 5 to 10 13 Hz or in a frequency range of 10 ⁇ 4 to 10 2 Hz. body.
  • ⁇ 4> The laminate according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3>, wherein the rigidity of the support is 5 N ⁇ mm or more.
  • ⁇ 5> The laminate according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein the maximum indentation depth is 5.0 ⁇ m or less when the laminate is indented at 500 mN with a microhardness tester.
  • ⁇ 6> The laminate according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>, wherein the impact absorption layer comprises a block copolymer of methyl methacrylate and n-butyl acrylate.
  • the impact absorption layer contains an isoprene-based elastomer.
  • the impact absorbing layer comprises a block copolymer of styrene and isoprene.
  • the thickness of the impact absorbing layer is 1 to 100 ⁇ m.
  • ⁇ 10> The laminate according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 9>, wherein the shock absorbing layer contains particles having a recovery rate of 30% or more at the time of indentation measurement.
  • the functional layer is a hard coat layer containing a cured product of a polymerizable compound.
  • the functional layer is an inorganic oxide layer.
  • ⁇ 13> The laminate according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 12>, including the shock absorbing layer, the support, and the functional layer in this order.
  • ⁇ 14> The polarizing plate in which the laminated body of any one of ⁇ 1>- ⁇ 13> has a polarizer.
  • An image display device having the laminate according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 13> or the polarizing plate according to ⁇ 12>.
  • ⁇ 17> The manufacturing method of the laminated body of any one of ⁇ 1>- ⁇ 13> including the process of forming the said impact-absorbing layer on a peeling film, and the process of transcribe
  • a numerical range represented using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as the lower limit value and the upper limit value.
  • (meth) acrylate is used to mean either or both of acrylate and methacrylate.
  • (meth) acryloyl group” is used in the meaning of one or both of an acryloyl group and a methacryloyl group.
  • (Meth) acrylic is used in the meaning of one or both of acrylic and methacrylic.
  • the weight average molecular weight (Mw) can be measured by gel permeation chromatography (GPC) as a molecular weight in terms of polystyrene unless otherwise specified.
  • GPC gel permeation chromatography
  • the GPC apparatus is HLC-8220 (manufactured by Tosoh Corp.)
  • the column is G3000HXL + G2000HXL
  • the flow rate is 1 mL / min at 23 ° C.
  • the refractive index (RI) is detected.
  • the eluent can be selected from THF (tetrahydrofuran), chloroform, NMP (N-methyl-2-pyrrolidone), m-cresol / chloroform (manufactured by Shonan Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) Use THF.
  • THF tetrahydrofuran
  • NMP N-methyl-2-pyrrolidone
  • m-cresol / chloroform manufactured by Shonan Wako Pure Chemical Industries, Ltd.
  • a laminate having a functional layer which is capable of suppressing transfer of the shape of another object to the functional layer, and a polarizing plate, an image display device, and a laminate having the same
  • the laminate of the present invention is The shock absorbing layer has a thickness of 1 ⁇ m or more, and the shock absorbing layer has a maximum tan ⁇ value of 2 at a frequency of 10 to 10 5 Hz at 25 ° C. .0 or less.
  • tan ⁇ loss tangent
  • tan ⁇ loss tangent
  • FIG. 1 An example of a preferred embodiment of the laminate of the present invention is shown in FIG.
  • a laminate 4A shown in FIG. 1 includes a support 2A and a functional layer (for example, a hard coat layer, hereinafter also referred to as "HC layer") 1A disposed on one side of the support 2A, and the functional layer 1A.
  • HC layer hard coat layer
  • the laminate of the present invention can sufficiently suppress the transfer of the shape of another object to the functional layer.
  • keyboard reflection is considered to be generated by an impact when the keyboard and the display come in contact and rubbing of the keyboard by the keyboard after the contact.
  • the frequency of vibration generated by transportation or the like is usually considered to be in the range of 1 to 10 3 Hz (see JIS Z0232 and ASTM D 4169 etc.).
  • the laminate of the present invention has an impact absorbing layer having a maximum value of tan ⁇ of 2.0 or less at a frequency of 10 to 10 5 Hz at 25 ° C.
  • the above-mentioned impact and abrasion can be mitigated by sandwiching the support and having an impact absorbing layer on the opposite side of the functional layer) to the functional layer (preferably a hard coat layer). It is presumed that the transfer of the shape of another object (e.g., keyboard reflection) can be suppressed.
  • another object e.g., keyboard reflection
  • Example preparation method A coating solution obtained by dissolving or melting the material for forming an impact absorption layer in a solvent is applied to the release-treated surface of the release sheet subjected to release treatment so that the thickness after drying is 10 to 50 ⁇ m, and dried Then, the shock absorbing layer was peeled off from the release sheet to prepare a test piece of the shock absorbing layer.
  • the maximum value of tan ⁇ in the frequency range of 10 to 10 5 Hz may be 2.0 or less, preferably 1.5 or less, and 1.2 or less More preferable. Among them, the maximum value of tan ⁇ in the frequency range of 10 2 to 10 5 Hz is preferably 1.2 or less, and the maximum value of tan ⁇ in the frequency range of 10 3 to 10 4 Hz is 0.8 or less Is more preferred.
  • the impact absorbing layer preferably has at least one maximum value of tan ⁇ at 25 ° C. in the frequency range of 10 5 to 10 13 Hz or in the frequency range of 10 ⁇ 2 to 10 2 Hz.
  • two or more local maximum values of tan ⁇ may be provided in the frequency range of 10 5 to 10 13 Hz, or in the frequency range of 10 -2 to 10 2 Hz. If the maximum value of tan ⁇ in the frequency range of 10 to 10 5 Hz is 2.0 or less, the maximum of tan ⁇ is further within the frequency range of 10 5 to 10 13 Hz or in the frequency range of 10 -2 to 10 2 Hz. It may have a value, and its maximum value may be the maximum value.
  • the shock absorbing layer preferably has at least one maximum value of tan ⁇ at 25 ° C. in the frequency range of 10 5 to 10 13 Hz or in the frequency range of 10 -2 to 10 2 Hz, and the frequency of 10 6 to 10 12 It is more preferable to have at least one maximum value of tan ⁇ in the range of Hz or in the range of 5 ⁇ 10 ⁇ 2 to 50 Hz, and in the range of 10 7 to 10 11 Hz or in the range of 10 ⁇ 1 to 50 Hz More preferably, it has at least one maximum value of tan ⁇ .
  • the maximum value of tan ⁇ at 25 ° C. of the impact absorbing layer is preferably 0.1 or more, and more preferably 0.2 or more from the viewpoint of impact absorption. Further, from the viewpoint of hardness, the maximum value of tan ⁇ at 25 ° C. of the impact absorbing layer is preferably 3.0 or less.
  • the maximum value of the storage elastic modulus in the frequency range of 10 to 10 5 Hz at 25 ° C. of the impact absorbing layer is preferably 4000 MPa or less.
  • the maximum value of the storage elastic modulus in the range of 10 to 10 5 Hz is preferably 3500 MPa or less, more preferably 2500 MPa or less.
  • the impact absorbing layer included in the laminate of the present invention has transparency such that the visibility of the display content can be secured when the laminate is used as a protective film, a polarizing plate or a front plate of an image display device.
  • the maximum value of tan ⁇ can be given, and breakage of the functional layer laminated on the surface of the image display device due to pressing or collision with a protective film, polarizing plate or front plate can be prevented.
  • it may be comprised from resin, and may be comprised from an elastomer (an oil extended rubber is included).
  • the resin examples include 1,2-polybutadiene resin, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA, usually containing 3% by mass or more of vinyl acetate units), polyolefin resin such as polyethylene, polyvinyl chloride resin, polystyrene resin, Polyacrylic resin ((meth) acrylate resin etc.), vinyl ester resin (except EVA), saturated polyester resin, polyamide resin, fluorine resin (polyvinylidene fluoride etc.), polycarbonate resin, polyacetal resin, epoxy resin, (meth) acrylic resin Examples thereof include resins, urethane-modified polyester resins, unsaturated polyester resins and silicon resins. Among these resins, (meth) acrylic resins and the like are preferable.
  • EVA ethylene-vinyl acetate copolymer
  • polyolefin resin such as polyethylene, polyvinyl chloride resin, polystyrene resin, Polyacrylic resin ((meth) acrylate resin etc.),
  • polymers or block copolymers of conjugated dienes acrylic polymers or block copolymers, styrenic polymers or block copolymers, block copolymers of aromatic vinyl compounds and conjugated dienes, conjugated Hydrogenated product of diene polymer or block copolymer, hydrogenated product of block copolymer of aromatic vinyl compound and conjugated diene, ethylene / ⁇ -olefin copolymer, polar group modified olefin copolymer
  • An elastomer comprising a polar group-modified olefin copolymer and a metal ion and / or a metal compound, a nitrile rubber such as achlornitrile-butadiene rubber, butyl rubber, isoprene rubber, acrylic rubber, thermoplastic polyolefin elastomer (TPO ), Thermoplastic polyester elastomer (TPEE), Li amide elastomer (TPAE), thermoplastic
  • acrylic polymers or block copolymers, styrenic polymers or block copolymers, silicone elastomers, isoprene elastomers are preferred, and acrylic block copolymers, styrenic block copolymers, Isoprene elastomers are particularly preferred.
  • acrylic block copolymer include block copolymers of methyl methacrylate and n-butyl acrylate (also referred to as "PMMA-PnBA copolymers").
  • styrenic block copolymers include block copolymers of styrene and isoprene, or butene.
  • isoprene-based elastomers include polymers partially having polymerizable functional groups.
  • the resin or elastomer which can be contained in the impact absorbing layer may be synthesized by a known method, or a commercially available product may be used.
  • commercially available products include Clarity LA 2140 e, Clarity LA 2250, Clarity LA 4285, HYBRAR 5127 (trade name of Kuraray Co., Ltd.), Byron UR 2300 (trade name of Toyobo Co., Ltd., trade name of UC203 M (Kuraray Co., Ltd.) And the like.
  • the weight average molecular weight of the resin or elastomer is preferably 10 4 to 10 6, more preferably 5 ⁇ 10 4 to 5 ⁇ 10 5 , from the viewpoint of the balance between solubility in a solvent and hardness.
  • the content of the resin or elastomer in the impact absorbing layer is preferably 50 to 100% by mass with respect to the total mass of the impact absorbing layer.
  • the impact absorbing layer may be composed of only the above-mentioned resin or elastomer, but may further contain an additive.
  • Additives include adhesion improvers, softeners, plasticizers, lubricants, crosslinking agents, crosslinking aids, photosensitizers, antioxidants, anti-aging agents, heat stabilizers, flame retardants, fungicides or fungicides Agents, weathering agents, ultraviolet light absorbers, tackifiers, nucleating agents, pigments, dyes, organic fillers, inorganic fillers, silane coupling agents, titanium coupling agents and the like. Moreover, you may contain polymers other than the above-mentioned resin or elastomer.
  • the adhesion improver to be added to the impact absorbing layer is not particularly limited, and, for example, rosin ester resin, hydrogenated rosin ester resin, petrochemical resin, hydrogenated petrochemical resin, terpene resin, terpene phenol resin, aromatic modified terpene Resin, hydrogenated terpene resin, alkylphenol resin and the like can be used, and these can be used alone or in combination of two or more.
  • Superester L As a commercial item, for example, Superester L, Superester A-18, Superester A-75, Superester A-100, Superester A-115, Superester A-125 (Arakawa Chemical Co., Ltd., trade name) And YS polystar N125, YS polystar N125, YS polystar G150, and YS polystar TH130 (trade name of Yasuhara Chemical Co., Ltd.).
  • content of additives other than the said resin or elastomer in an impact absorption layer is 50 mass% or less with respect to the total mass of an impact absorption layer.
  • the impact absorbing layer preferably contains particles (recoverable particles) having recoverability.
  • the recoverable particles By including the recoverable particles, tan ⁇ can be lowered without increasing the storage elastic modulus of the impact absorbing layer.
  • particles having a recovery rate of 30% or more at the time of indentation measurement are referred to as recoverable particles. The recovery rate is measured by the following measurement method.
  • the recovery rate of particles is the maximum indentation depth ( ⁇ m) when particles placed on a glass plate are pressed under the following conditions using a particle ultra-microhardness tester (Shimadzu Corporation, DUH-201) And the depth after unloading ( ⁇ m) using the following formula.
  • the shape of the recoverable particles may be either spherical or amorphous. Also, two or more different recoverable particles may be used in combination.
  • the refractive index (refractive index at a wavelength of 550 nm) of the recoverable particles is preferably 1.35 to 1.60 from the viewpoint of visibility, more preferably 1.40 to 1.60, and 1.45 to 1. 60 is more preferred.
  • the recoverable particles preferably include elastomer particles such as silicone rubber particles, urethane rubber particles, butadiene rubber particles, styrene butadiene rubber particles, crosslinked (meth) acrylate rubber particles, and polyrotaxane particles.
  • elastomer particles such as silicone rubber particles, urethane rubber particles, butadiene rubber particles, styrene butadiene rubber particles, crosslinked (meth) acrylate rubber particles, and polyrotaxane particles.
  • crosslinked (meth) acrylic acid ester rubber particles and polyrotaxane particles are particularly preferable.
  • elastomer particles are KMP-597, KMP-598, X-52-875, KM-9729, X-52-1133, KMP-600, KMP-601, KMP-602, KMP-, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 605, X-52-7030, Dainichi beads UCN-8070 CM clear, Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.
  • polyrotaxane In polyrotaxanes, openings of cyclic molecules are skewered by linear molecules, and both ends (both ends of linear molecules) of pseudo-polyrotaxane in which a plurality of cyclic molecules include the linear molecules, A blocking group is disposed so that cyclic molecules are not released.
  • the weight average molecular weight of the polyrotaxane used as the recoverable particles contained in the impact absorbing layer of the present invention is preferably 1,000,000 or less from the viewpoint of enhancing impact absorption, and more preferably 600,000 or less, It is particularly preferable that it is 600,000 to 180,000.
  • the linear molecule contained in polyrotaxane is a molecule or substance that can be included in a cyclic molecule and can be integrated noncovalently, and is not particularly limited as long as it is linear.
  • the “linear molecule” refers to a molecule including a polymer, and all other substances satisfying the above requirements.
  • “straight chain” of “straight chain molecule” means substantially “straight chain”. That is, the linear molecule may have a branched chain as long as the cyclic molecule as the rotor is rotatable, or the cyclic molecule can slide or move on the linear molecule.
  • the length of the “linear” is not particularly limited as long as the cyclic molecule can slide or move on the linear molecule.
  • hydrophilic polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, poly (meth) acrylic acid, cellulose resins (carboxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose etc.), polyacrylamide, polyethylene oxide, polyethylene glycol , Polyvinyl acetal resins, polyvinyl methyl ethers, polyamines, polyethylene imines, casein, gelatin, starches and the like and / or copolymers thereof, etc .; hydrophobic polymers such as polyethylene, polypropylene, and co-polymers with other olefin monomers Polyolefin resin such as polymerized resin, polyester resin, polyvinyl chloride resin, polystyrene, acrylonitrile-styrene copolymer resin, etc.
  • Polystyrene resins polymethyl methacrylate and (meth) acrylic acid ester copolymers, acrylic resins such as acrylonitrile-methyl acrylate copolymer resins, polycarbonate resins, polyurethane resins, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resins, polyvinyl butyral resins, etc. And derivatives or modified products thereof.
  • hydrophilic polymers are preferable. It is possible to impart hygroscopicity to the impact absorbing layer, and to reduce curling due to the difference in hygroscopic expansion between the impact absorbing layer and the support, particularly when the support is a cellulose acylate film.
  • hydrophilic polymers polyethylene glycol, polypropylene glycol, copolymers of polyethylene glycol and polypropylene glycol, polyisoprene, polyisobutylene, polybutadiene, polytetrahydrofuran, polydimethylsiloxane, polyethylene, and polypropylene are preferable.
  • Polyethylene glycol, polyethylene glycol and copolymers of polyethylene glycol and polypropylene glycol are more preferred, with polyethylene glycol being particularly preferred.
  • the linear molecule of the polyrotaxane has a molecular weight of 1,000 or more, for example 1,000 to 1,000,000, preferably 5,000 or more, for example 5,000 to 1,000,000 or 5,000 to 500. And preferably 10,000 or more, for example, 10,000 to 1,000,000, 10,000 to 500,000, or 10,000 to 300,000.
  • the linear molecule of polyrotaxane preferably has reactive groups at both ends. By having this reactive group, it can be easily reacted with the blocking group.
  • the reactive group depends on the block group to be used, and examples thereof include a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group and a thiol group.
  • the cyclic molecule of the polyrotaxane may be any cyclic molecule as long as it can be clathrated with the above-mentioned linear molecule.
  • cyclic molecule refers to various cyclic substances including cyclic molecules.
  • cyclic molecule refers to a molecule or substance that is substantially cyclic. That is, “substantially cyclic” is meant to include ones that are not completely closed as in the letter “C", and one end and the other end of the letter “C” are combined. It is also meant to include those with overlapping helical structures.
  • the ring for the "bicyclo molecule” described later can be defined in the same manner as “substantially cyclic” of the “cyclic molecule”. That is, one or both rings of the “bicyclo molecule” may not be completely ring-closed as in the letter “C", and one end and the other end of the letter “C” are bonded It may have a spiral structure overlapping each other.
  • cyclic molecules of polyrotaxane examples include various cyclodextrins (eg, ⁇ -cyclodextrin, ⁇ -cyclodextrin, ⁇ -cyclodextrin, dimethyl cyclodextrin, glucosyl cyclodextrin, derivatives or modified products thereof, etc.), crown ethers, Mention may be made of benzo crowns, dibenzo crowns, and dicyclohexano crowns, and derivatives or modified products thereof.
  • cyclodextrins eg, ⁇ -cyclodextrin, ⁇ -cyclodextrin, ⁇ -cyclodextrin, dimethyl cyclodextrin, glucosyl cyclodextrin, derivatives or modified products thereof, etc.
  • crown ethers Mention may be made of benzo crowns, dibenzo crowns, and dicyclohexano crowns, and derivatives or modified products thereof.
  • cyclodextrins, crown ethers and the like differ in the size of the opening of the cyclic molecule depending on their types. Therefore, if the type of linear molecule to be used, specifically, if the linear molecule to be used is regarded as cylindrical, the cyclic molecule to be used depending on the diameter of the cross section of the cylinder, the hydrophobicity or hydrophilicity of the linear molecule, etc Can be selected. In addition, when a cyclic molecule having a relatively large opening and a cylindrical linear molecule having a relatively small diameter are used, two or more linear molecules can be included in the opening of the cyclic molecule. .
  • ⁇ -cyclodextrin As the cyclic molecule.
  • the number (inclusion amount) of cyclic molecules to be included in a linear molecule is preferably 0.05 to 0.60, where the maximum inclusion amount is 1, when the cyclic molecule is cyclodextrin. 10 to 0.50 is more preferable, and 0.20 to 0.40 is more preferable. If it is less than 0.05, the pulley effect may not be exhibited, and if it exceeds 0.60, cyclodextrin, which is a cyclic molecule, may be disposed too densely to lower the mobility of cyclodextrin, and cyclodextrin itself The solubility of the polyrotaxane in the organic solvent may be enhanced, and the solubility of the resulting polyrotaxane in the organic solvent may also be reduced.
  • the cyclic molecule of polyrotaxane preferably has a reactive group outside of its ring.
  • the reaction can be easily performed using this reactive group.
  • the reactive group also depends on the crosslinking agent to be used, and examples thereof include a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a thiol group and an aldehyde group. Further, it is preferable to use a group which does not react with the blocking group in the above-mentioned blocking reaction.
  • any group may be used as long as the cyclic molecule retains a skewed form by a linear molecule.
  • a group having "bulk” and / or a group having "ionic” can be mentioned.
  • group means various groups including molecular groups and polymer groups.
  • the “ionic property” of the group having “ionic property” and the “ionic property” of the cyclic molecule influence each other, for example, by repelling each other, the cyclic molecule is skewed by the linear molecule. It is possible to keep the form that has gone.
  • the block group of the polyrotaxane may be a main chain or a side chain of a polymer, as long as it maintains a skewed form.
  • dinitrophenyl groups such as 2,4-dinitrophenyl group, 3,5-dinitrophenyl group, cyclodextrins, adamantane groups, trityl groups, fluoresceins and pyrene as a block group of a molecular group And derivatives or modified products thereof. More specifically, even when ⁇ -cyclodextrin is used as a cyclic molecule and polyethylene glycol is used as a linear molecule, cyclodextrins, 2,4-dinitrophenyl group, 3,5-dinitrophenyl group, etc. And adamantane groups, trityl groups, fluoresceins and pyrenes, and derivatives or modified products thereof.
  • modified polyrotaxanes that can be preferably used in the present invention will be described.
  • a polyrotaxane in which a plurality of modifications described below are used in combination can be preferably used.
  • Crosslinked polyrotaxane refers to a compound in which two or more polyrotaxanes are chemically bonded to each other, and the two cyclic molecules may be the same or different.
  • the chemical bond may be a simple bond or a bond via various atoms or molecules.
  • a molecule having a bridged ring structure that is, a "bicyclo molecule" having a first and a second ring can be used as the cyclic molecule.
  • a “bicyclo molecule” and a linear molecule are mixed, and the linear molecule is included in a skewed manner in the first ring and the second ring of the “bicyclo molecule” to obtain a crosslinked polyrotaxane.
  • This cross-linked polyrotaxane has viscoelasticity because the cyclic molecule penetrated like a skewer in the linear molecule can move along the linear (pulley effect), and even if tension is applied, the pulley By the effect, this tension can be dispersed uniformly and the internal stress can be relieved.
  • hydrophobized modified polyrotaxane When the cyclic molecule of polyrotaxane is cyclodextrins such as ⁇ -cyclodextrin, in the present invention, a hydrophobized modified polyrotaxane in which at least one of hydroxyl groups of cyclodextrin is substituted by another organic group (hydrophobic group) is a shock absorbing layer It is more preferably used because it improves the solubility in the solvent contained in the forming composition.
  • hydrophobic group examples include, for example, alkyl group, benzyl group, benzene derivative-containing group, acyl group, silyl group, trityl group, nitrate group, tosyl group, alkyl-substituted ethylenically unsaturated group as a light curing site, heat curing site Examples thereof include, but are not limited to, an alkyl-substituted epoxy group and the like.
  • the degree of modification with the hydrophobic modifying group is preferably 0.02 or more (1 or less), more preferably 0.04 or more, where the maximum number of hydroxyl groups of cyclodextrin that can be modified is 1. More preferably, it is 0.06 or more. If it is less than 0.02, the solubility in organic solvents will not be sufficient, and insoluble spots (protrusions derived from foreign matter adhesion etc.) may be formed.
  • the maximum number of hydroxyl groups of cyclodextrin that can be modified is, in other words, the number of all hydroxyl groups that cyclodextrin had before modification.
  • the degree of modification is, in other words, the ratio of the number of modified hydroxyl groups to the total number of hydroxyl groups.
  • the hydrophobic modifying group may be at least one, but in that case, it is preferable to have one hydrophobic modifying group for one cyclodextrin ring.
  • a hydrophobic modifying group having a functional group it becomes possible to improve the reactivity with other polymers.
  • the content of the recoverable particles is preferably 30% by mass or less based on the total solid content of the impact absorption layer.
  • the impact absorbing layer containing the recoverable particles may contain a particle aging inhibitor.
  • the antiaging agent is not particularly limited.
  • amine antiaging substances amine-ketone antiaging substances, phenolic antiaging substances, imidazole antiaging substances, sulfur antiaging substances, phosphorus antiaging substances Etc.
  • those described on pages 436 to 443 of “The Rubber Industry Handbook ⁇ Fourth Edition>” edited by The Japan Rubber Association, the reaction product of aniline and acetone (TMDQ), synthetic wax (paraffin (paraffin) Wax etc.), vegetable wax etc. may be mentioned.
  • the method of forming the impact absorbing layer is not particularly limited, and examples thereof include a coating method, a casting method (solventless casting method and solvent casting method), a pressing method, an extrusion method, an injection molding method, a casting method, an inflation method, and the like.
  • a liquid obtained by dissolving or dispersing the constituent material of the impact absorbing layer in a solvent, or a melt of the constituent material of the impact absorbing layer is prepared, and then the liquid or the melt is used as a support described later.
  • a laminate having an impact-absorbing layer laminated can be produced by applying it on one side (the side opposite to the surface on which the functional layer is formed) and then removing the solvent if necessary.
  • the liquid or melt is applied to the release treated surface of the release sheet subjected to release treatment, and dried to form a sheet including an impact absorption layer, and the impact absorption layer of this sheet is bonded to a support. It is also possible to produce a laminate in which an impact absorbing layer is laminated.
  • the shock absorbing layer When the shock absorbing layer is made of the above-mentioned resin, the shock absorbing layer may be made of a non-crosslinked resin or may be made of a resin at least a part of which is cross-linked.
  • the method of crosslinking the resin There is no particular limitation on the method of crosslinking the resin, and examples thereof include a method selected from electron beam irradiation, ultraviolet irradiation, and a method using a crosslinking agent (for example, organic peroxide etc.).
  • crosslinking of the resin When crosslinking of the resin is performed by electron beam irradiation, crosslinking can be formed by irradiating the obtained impact absorbing layer (before crosslinking) with an electron beam using an electron beam irradiation apparatus.
  • the obtained impact absorbing layer (before crosslinking) is irradiated with ultraviolet light using an ultraviolet irradiation device to form crosslinks by the effect of the photosensitizer blended as necessary. be able to.
  • the obtained shock absorbing layer (before crosslinking) is usually an organic peroxide etc. blended as necessary by heating in an atmosphere without air such as a nitrogen atmosphere. Crosslinking can be formed by the effect of the crosslinker, and further the coagent.
  • the film thickness of the impact absorbing layer included in the laminate of the present invention is 1 ⁇ m or more, preferably 3 ⁇ m or more, and more preferably 5 ⁇ m or more, from the viewpoint of suppressing transfer of the shape of the other object to the functional layer. And 10 ⁇ m or more is more preferable. Further, from the viewpoint of film hardness, the thickness is preferably 200 ⁇ m or less, and more preferably 100 ⁇ m or less.
  • the material of the support (hereinafter also referred to as a resin film) used in the present invention is not particularly limited.
  • the support is preferably transparent.
  • transparent means that the transmittance of visible light is 80% or more, preferably 90% or more.
  • the resin film is, for example, an acrylic resin film, a polycarbonate (PC) resin film, a cellulose ester resin film such as a triacetyl cellulose (TAC) resin film, a polyethylene terephthalate (PET) resin film, a polyolefin resin film And polyester-based resin films, polyimide-based resin films, and acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer films.
  • Acrylic-based resin films, cellulose ester-based resin films, polyethylene terephthalate-based resin films, polyimide-based resin films And films selected from polycarbonate resin films are preferred. From the viewpoint of moisture permeability, a cellulose ester resin film is more preferable. Moreover, it is also preferable that it is a polyimide-type resin film from an impact-absorbing point of view.
  • the acrylic resin film refers to a resin film of a polymer or copolymer formed from one or more compounds selected from the group consisting of acrylic acid esters and methacrylic acid esters. As an example of an acrylic resin film, polymethyl methacrylate resin (PMMA) film is mentioned.
  • the tensile modulus of elasticity of the resin film is preferably 3 GPa or more, and more preferably 3.5 GPa or more.
  • the weight average molecular weight of the resin is preferably 10,000 to 1,000,000, and more preferably 100,000 to 1,000,000.
  • the configuration of the resin film is also not limited, and may be a single layer or a laminated film composed of two or more layers.
  • the number of laminated layers of the laminated film is preferably 2 to 10 layers, more preferably 2 to 5 layers, and still more preferably 2 or 3 layers.
  • the laminated film may be formed by casting at the same time, or resin films may be bonded to each other through an adhesive layer.
  • an adhesive having any suitable property, form and adhesion mechanism can be used.
  • the adhesive for example, a water soluble adhesive, an ultraviolet curing adhesive, an emulsion adhesive, a latex adhesive, a mastic adhesive, a multilayer adhesive, a paste adhesive, a foam adhesive Supported film adhesive, Thermoplastic adhesive, Hot melt adhesive, Thermal setting adhesive, Thermal activated adhesive, Heat seal adhesive, Thermosetting adhesive, Contact adhesive, Pressure sensitive Adhesives (i.e., pressure-sensitive adhesives), polymerization-type adhesives, solvent-type adhesives, solvent-active adhesives and the like can be mentioned.
  • the thickness of the adhesive layer is preferably 5 nm or more from the viewpoint of adhesiveness.
  • 100 ⁇ m or less is preferable, and 50 ⁇ m or less is more preferable.
  • the materials of the resin film may be the same or different.
  • the resin film may contain an additive in addition to the above-mentioned resin.
  • the additive include inorganic particles, matte particles, an ultraviolet absorber, a fluorine-containing compound, a surface control agent, a leveling agent and the like described in the description of the hard coat layer described later.
  • the thickness of the support is preferably 40 ⁇ m or more, more preferably 60 ⁇ m or more, and particularly preferably 80 ⁇ m or more, from the viewpoint of impact absorption and ball falling resistance. In addition, from the viewpoint of brittleness, 300 ⁇ m or less is preferable, and 200 ⁇ m or less is more preferable.
  • the rigidity of the support is preferably 5.0 N ⁇ mm or more, more preferably 10.0 N ⁇ mm or more, and more preferably 20 N ⁇ mm or more, from the viewpoint of suppressing the occurrence of a keyboard copy due to a load, particularly the transcription and depression of keyboard marks. Is more preferred.
  • the upper limit is not particularly limited, but 70 N ⁇ mm or less is preferable, and 20 N ⁇ mm or less is more preferable.
  • the rigidity of the support was calculated from the following equation using the resin film thickness d S1 and the resin film elastic modulus ⁇ S1 .
  • the rigidity of the support is determined by the resin film 1 thickness d S1 , resin film 1 elastic modulus ⁇ S1 , resin film 2 thickness d S2 , resin film 2 elastic modulus ⁇ S2 was calculated from the following equation.
  • the elastic modulus measurement sample was prepared by the following method. (Sample for measuring elastic modulus) Method of measuring elastic modulus of each layer Resin film: A resin film was fixed on a glass plate with an adhesive and used as a measurement sample.
  • the resin film may be formed by any known method, and examples thereof include a melt film forming method and a solution film forming method.
  • the laminate of the present invention has a functional layer. It does not specifically limit as a functional layer, For example, a hard-coat layer (HC layer), a low refractive index layer, a high refractive index layer, a rubbing resistant layer, a low reflectance layer, an antifouling layer, an inorganic oxide layer (AR layer), a barrier layer, a combination thereof, and the like.
  • a functional layer for example, a hard-coat layer (HC layer), a low refractive index layer, a high refractive index layer, a rubbing resistant layer, a low reflectance layer, an antifouling layer, an inorganic oxide layer (AR layer), a barrier layer, a combination thereof, and the like.
  • the functional layer is an HC layer
  • the HC layer used in the present invention can be obtained by curing the curable composition for HC layer formation by irradiating an active energy ray.
  • active energy ray refers to ionizing radiation, and includes X-rays, ultraviolet rays, visible light, infrared rays, electron beams, alpha rays, beta rays, gamma rays and the like.
  • the curable composition for HC layer formation used for formation of HC layer contains at least 1 type of component (It also describes as an "active energy ray curable component” hereafter) which has the property hardened
  • the active energy ray-curable component is preferably at least one polymerizable compound selected from the group consisting of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound.
  • a "polymerizable compound” is a compound containing one or more polymerizable groups in one molecule.
  • the polymerizable group is a group capable of participating in the polymerization reaction.
  • the HC layer in the laminate of the present invention preferably contains a cured product of a polymerizable compound.
  • a polymerizable compound having two or more ethylenic unsaturated groups in one molecule is preferable.
  • An ethylenically unsaturated group refers to a functional group containing an ethylenically unsaturated double bond.
  • an ester of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate Butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, 1,4-cyclohexanediacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, Trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pe Taeryth
  • the polymerizable compound may be a compound having a cationically polymerizable group.
  • a cationically polymerizable group Preferably, an oxygen-containing heterocyclic group and vinyl ether group can be mentioned.
  • the cationically polymerizable compound may contain one or more oxygen-containing heterocyclic groups and one or more vinyl ether groups in one molecule.
  • the oxygen-containing heterocyclic ring may be a single ring or a condensed ring. Further, those having a bicyclo skeleton are also preferable.
  • the oxygen-containing heterocyclic ring may be a non-aromatic ring or an aromatic ring, and is preferably a non-aromatic ring.
  • An epoxy ring, a tetrahydrofuran ring, an oxetane ring can be mentioned as a specific example of a single ring.
  • an oxabicyclo ring can be mentioned as what has a bicyclo skeleton.
  • a cationically polymerizable group containing an oxygen-containing heterocyclic ring is included in the cationically polymerizable compound as a monovalent substituent or a divalent or higher polyvalent substituent.
  • the above-mentioned fused ring is one in which one or more of the oxygen-containing heterocyclic rings are condensed with one or more of ring structures other than the oxygen-containing heterocyclic ring. It may be.
  • ring structures other than the above-mentioned oxygen-containing heterocyclic ring include, but are not limited to, cycloalkane rings such as cyclohexane ring.
  • the polymerizable compound may be a compound having both a cationically polymerizable group and a radically polymerizable group (preferably, an ethylenically unsaturated group).
  • cationically polymerizable compound containing an oxygen-containing heterocyclic ring as a cationically polymerizable group include, for example, 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate (commercially available product such as Cyclomer M100 manufactured by Daicel Corporation), 3,4-epoxy Cyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate (for example, commercial products such as UVR6105, UVR6110 manufactured by Union Carbide and CELLOXIDE 2021 manufactured by Daicel Chemical Co., Ltd.), bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate (eg manufactured by Union Carbide) UVR 6128), vinylcyclohexene monoepoxide (for example, CELLOXIDE 2000 manufactured by Daicel Chemical Industries), ⁇ -caprolactone modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl 3 ', 4'-epo Cyclocyclohex
  • the content of the polymerizable compound is preferably 15 to 99% by mass, and more preferably 30 to 99% by mass, with respect to the total solid content in the curable composition for forming an HC layer.
  • solid content represents components other than a solvent.
  • the HC layer used in the present invention may have a single layer structure or a laminated structure of two or more layers as described below.
  • the curable composition for forming an HC layer having a one-layer structure as a first embodiment, at least one polymerizable compound having two or more ethylenic unsaturated groups in one molecule
  • the curable composition for HC layer formation containing can be mentioned.
  • An ethylenically unsaturated group refers to a functional group containing an ethylenically unsaturated double bond.
  • the curable composition for HC layer formation containing at least 1 type of radically polymerizable compound and at least 1 type of cationically polymerizable compound can be mentioned as a 2nd aspect.
  • an ester of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid For example, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, 1,4-cyclohexanediacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, penta Erythritol tri (meth) acrylate, trimethylol propane tri (meth) acrylate, trimethylol ethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythri
  • the polymerization of the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group can be carried out by irradiation with active energy rays in the presence of a radical photopolymerization initiator.
  • a radical photoinitiator the radical photoinitiator mentioned later is preferably applied.
  • the content ratio of the radical photopolymerization initiator to the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group in the curable composition for forming an HC layer, the content of the radical photopolymerization initiator to the radically polymerizable compound described later The statements of quantitative ratios apply preferably.
  • the curable composition for forming an HC layer according to the second aspect includes at least one radically polymerizable compound and at least one cationically polymerizable compound.
  • the curable composition for HC layer formation more preferably contains a radical photopolymerization initiator and a cationic photopolymerization initiator.
  • a radical photopolymerization initiator and a cationic photopolymerization initiator.
  • the curable composition for HC layer formation which contains these.
  • the above-mentioned radically polymerizable compound contains one or more urethane bonds in one molecule together with two or more radically polymerizable groups in one molecule.
  • this aspect is described as the second aspect (2).
  • the HC layer obtained by curing the curable composition for forming an HC layer according to the second aspect (2) preferably has a structure derived from the above a) at 15 to 100% by mass of the total solid content of the HC layer. 70% by mass, 25 to 80% by mass of the structure derived from the above b), 0.1 to 10% by mass of the above c), 0.1 to 10% by mass of the above d) can be contained.
  • the curable composition for forming an HC layer according to the second aspect (2) has the above-mentioned a) when the total solid content of the curable composition for forming an HC layer is 100% by mass. It is preferable to contain 15 to 70% by mass.
  • the "alicyclic epoxy group” refers to a monovalent functional group having a cyclic structure in which an epoxy ring and a saturated hydrocarbon ring are condensed.
  • the curable composition for forming an HC layer according to the second aspect includes at least one radically polymerizable compound and at least one cationically polymerizable compound.
  • the radically polymerizable compound in the second embodiment (1) contains two or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of an acryloyl group and a methacryloyl group in one molecule.
  • the above-mentioned radically polymerizable compound can preferably contain, for example, 2 to 10, more preferably 2 to 6, radically polymerizable groups selected from the group consisting of acryloyl group and methacryloyl group in one molecule. Can.
  • a radically polymerizable compound having a molecular weight of 200 or more and less than 1,000 is preferable.
  • “molecular weight” refers to, for a multimer, a weight average molecular weight measured in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC). The following measurement conditions can be mentioned as an example of the specific measurement conditions of a weight average molecular weight.
  • GPC apparatus HLC-8120 (made by Tosoh Corporation) Column: TSK gel Multipore HXL-M (Tosoh Corp., inner diameter 7.8 mm ⁇ column length 30.0 cm)
  • Eluent Tetrahydrofuran
  • the said radically polymerizable compound contains one or more urethane bond in 1 molecule as mentioned above.
  • the number of urethane bonds contained in one molecule of the radically polymerizable compound is preferably one or more, more preferably two or more, and more preferably two to five, for example two. be able to.
  • the radically polymerizable group selected from the group consisting of acryloyl group and methacryloyl group is bonded directly or via a linking group to only one urethane bond. And may be bonded to two urethane bonds directly or via a linking group.
  • the radically polymerizable group selected from the group consisting of urethane bond and acryloyl group and methacryloyl group may be directly bonded, and from the group consisting of urethane bond and acryloyl group and methacryloyl group
  • a linking group may be present between the selected radical polymerizable group.
  • the linking group is not particularly limited, and examples thereof include a linear or branched saturated or unsaturated hydrocarbon group, a cyclic group, and a group consisting of a combination of two or more of these, and the like.
  • the carbon number of the above hydrocarbon group is, for example, about 2 to 20, but is not particularly limited.
  • a cyclic structure contained in a cyclic group an aliphatic ring (a cyclohexane ring etc.), an aromatic ring (a benzene ring, a naphthalene ring etc.) etc. are mentioned as an example.
  • the above groups may be unsubstituted or have a substituent.
  • the groups described may have a substituent or may be unsubstituted.
  • examples of the substituent include an alkyl group (for example, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms), a hydroxyl group, an alkoxy group (for example, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms), and a halogen atom (for example, a fluorine atom) And chlorine atom, bromine atom), cyano group, amino group, nitro group, acyl group, carboxy group and the like.
  • the radically polymerizable compound described above can be synthesized by a known method. Moreover, it is also possible to obtain as a commercial item.
  • a urethane compound obtained by reacting an isocyanate with a hydroxyl group-containing compound such as an alcohol, a polyol, and / or a hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid or, if necessary, Mention may be made of the method of esterification with (meth) acrylic acid.
  • (meth) acrylic acid shall mean one or both of acrylic acid and methacrylic acid.
  • UV-1700B UV-6300B, UV-7550B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7610B, UV-7620EA, UV-7630B, UV-7640B, UV-6 30B, UV-7000B, UV-7510B, UV-7461TE, UV-3000B, UV-3200B, UV-3210EA, UV-3310EA, UV-3310B, UV-3500BA, UV- Examples include 3520TL, UV-3700B, UV-6100B, UV-6640B, UV-2000B, UV-2010B, and UV-2250EA.
  • Nippon Kagaku Chemical Industry Co., Ltd. made Shipuruka UV-2750B, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • the radically polymerizable compound containing one or more urethane bonds in one molecule has been described above, the radically polymerizable compound including two or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of acryloyl group and methacryloyl group in one molecule.
  • the compound may not have a urethane bond.
  • the curable composition for HC layer formation of the second embodiment (1) is added to the radically polymerizable compound containing two or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of acryloyl group and methacryloyl group in one molecule.
  • one or more radically polymerizable compounds other than such radically polymerizable compounds may be contained.
  • a radically polymerizable compound containing two or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of acryloyl group and methacryloyl group in one molecule and one or more urethane bonds in one molecule is referred to as a first radical.
  • Radical polymerization which does not apply to the first radically polymerizable compound regardless of whether or not two or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of acryloyl group and methacryloyl group are described in one molecule, which is described as a polymerizable compound
  • Compounds are described as "second radically polymerizable compounds".
  • the second radically polymerizable compound may or may not have at least one urethane bond in one molecule.
  • the mass ratio of the first radically polymerizable compound / the second radically polymerizable compound is 3/1 to 1/30. Is preferable, 2/1 to 1/20 is more preferable, and 1/1 to 1/10 is even more preferable.
  • Radically polymerizable compound containing two or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of acryloyl group and methacryloyl group in the curable composition for HC layer formation of the second aspect (1) (presence or absence of urethane bond
  • the content of (a) is preferably 30% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, and still more preferably 70% by mass or more based on 100% by mass of the total amount of the composition.
  • a radically polymerizable compound containing two or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of acryloyl group and methacryloyl group in the curable composition for HC layer formation of the second embodiment (1) (urethane bond
  • the content of either or not is preferably 98% by mass or less, more preferably 95% by mass or less, still more preferably 90% by mass or less, based on 100% by mass of the total amount of the composition.
  • the content of the first radically polymerizable compound of the curable composition for forming an HC layer according to the second aspect (1) is preferably 30% by mass or more based on 100% by mass of the total amount of the composition. More preferably, it is 50 mass% or more, More preferably, it is 70 mass% or more.
  • the content of the first radically polymerizable compound is preferably 98% by mass or less, more preferably 95% by mass or less, and more preferably 90% by mass or less based on 100% by mass of the total amount of the composition. It is further preferred that
  • the second radically polymerizable compound is, in one aspect, preferably a radically polymerizable compound containing two or more radically polymerizable groups in one molecule and having no urethane bond.
  • the radically polymerizable group contained in the second radically polymerizable compound is preferably an ethylenically unsaturated group, and in one aspect, a vinyl group is preferred.
  • the ethylenically unsaturated group is preferably a radically polymerizable group selected from the group consisting of an acryloyl group and a methacryloyl group.
  • the second radically polymerizable compound has one or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of acryloyl and methacryloyl groups in one molecule and does not have a urethane bond.
  • the second radically polymerizable compound one or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of an acryloyl group and a methacryloyl group in one molecule as radically polymerizable compounds, and radically polymerizable groups other than these are also possible. And one or more of them can also be included.
  • the number of radically polymerizable groups contained in one molecule of the second radically polymerizable compound is preferably at least 2, more preferably 3 or more, and still more preferably 4 or more. In one aspect, the number of radically polymerizable groups contained in one molecule of the second radically polymerizable compound is, for example, 10 or less, but may be more than 10. Further, as the second radically polymerizable compound, a radically polymerizable compound having a molecular weight of 200 or more and less than 1,000 is preferable.
  • PO Molded di (meth) acrylate (commercially available as, for example, BP-023-PE, etc. manufactured by Toho Chemical Industries, Ltd.), bisphenol F EO addition type di (meth) acrylate (as commercially available, eg, Aloniax M-208 manufactured by Toagosei) 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, and epichlorohydrin modified product thereof, neopentyl glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate hydroxypivalate, and caprolactone modified product thereof 1,4- Butanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate monoste
  • the second radically polymerizable compound may be used in combination of two or more.
  • a mixture "DPHA” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate can preferably be used.
  • polyester (meth) acrylate with a weight average molecular weight of 200 or more and less than 1000, and an epoxy (meth) acrylate are also preferable.
  • polyester (meth) acrylate include Beam Set 700 series manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., for example, Beam Set 700 (six functions), Beam set 710 (four functions), Beam set 720 (three functions), etc.
  • epoxy (meth) acrylate trade name SP series made by Showa Highpolymer, such as SP-1506, 500, SP-1507, 480, VR series, such as VR-77, trade name EA-made by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. And 1010 / ECA, EA-11020, EA-1025, EA-6310 / ECA and the like.
  • the curable composition for forming an HC layer according to the second aspect (2) which is a preferred aspect of the second aspect, comprises: b) a radically polymerizable compound containing three or more ethylenically unsaturated groups in one molecule Including.
  • b) A compound containing three or more ethylenically unsaturated groups in one molecule is hereinafter also referred to as "b) component".
  • the component b) include esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid, vinyl benzene and derivatives thereof, vinyl sulfone, (meth) acrylamide and the like.
  • a radically polymerizable compound containing three or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of an acryloyl group and a methacryloyl group in one molecule is preferable.
  • it is ester of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid,
  • a resin containing three or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of acryloyl group and methacryloyl group in one molecule is also preferable.
  • a resin containing three or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of acryloyl group and methacryloyl group in one molecule for example, polyester resin, polyether resin, acrylic resin, epoxy resin, urethane resin Polymers such as alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, and polyfunctional compounds such as polyhydric alcohols are also included.
  • the radically polymerizable compound which contains 3 or more of radically polymerizable groups chosen from the group which consists of an acryloyl group and a methacryloyl group in 1 molecule
  • the exemplified compound shown by Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-2568444 stage 0096 Etc. can be mentioned.
  • the radically polymerizable compound containing three or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of an acryloyl group and a methacryloyl group in one molecule there are provided Nippon Kayaku KAYARAD DPHA, DPHA-2C, and PET.
  • UV-1400B UV-1700B, UV-6300B, UV-7550B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7610B, UV-7620EA, UV-7630B, UV-7640B , UV-6630B, UV-7000B, UV-7510B, UV-7461TE, UV-3000B, UV-3200B, UV-3210EA, UV-3310EA, UV-3310B, UV-3500BA , UV-3520TL, UV-3700B, UV-6100B, UV-6640B, UV-2000B, UV-2010B, UV-2250EA, UV-2750B (Nippon Gosei Chemical Co., Ltd.), UL-503LN (Manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Unidic 17-806, 17- 13, V-4030, V-4000BA (Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), EB-1290 K, EB-220, EB-5129, EB-1830, EB-4358 (manufact
  • An acrylate compound, a trifunctional or higher polyester compound of ALONIX M-8100, M-8030, M-9050 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), and KBM-8307 (manufactured by Daicel-Cytec Co., Ltd.) can also be suitably used.
  • b) component only 1 type may be used and 2 or more types from which a structure differs may be used together.
  • the HC layer obtained by curing the curable composition for forming an HC layer according to the second aspect (2) is preferably derived from the above a) when the total solid content of the HC layer is 100% by mass.
  • the structure may contain 15 to 70% by mass, the structure derived from the above b) 25 to 80% by mass, the above c) 0.1 to 10% by mass, and the above d) 0.1 to 10% by mass.
  • the structure derived from b) is preferably contained at 40 to 75% by mass, more preferably 60 to 75% by mass, based on 100% by mass of the total solid content of the HC layer.
  • the curable composition for HC layer formation of the second aspect (2) when the total solid content of the curable composition for HC layer formation is 100% by mass, 40 to 75 mass of the component b) is used. % Is preferable, and 60 to 75% by mass is more preferable.
  • the curable composition for HC layer formation of the second aspect preferably contains at least one radically polymerizable compound and at least one cationically polymerizable compound.
  • a cationically polymerizable compound as long as it has a cationically polymerizable polymerizable group (cationic polymerizable group), it can be used without any limitation. Further, the number of cationically polymerizable groups contained in one molecule is at least one.
  • the cationically polymerizable compound may be a monofunctional compound containing one cationically polymerizable group in one molecule, or a polyfunctional compound containing two or more.
  • the number of cationically polymerizable groups contained in the polyfunctional compound is not particularly limited, and is, for example, 2 to 6 in one molecule.
  • two or more cationically polymerizable groups contained in one molecule of the polyfunctional compound may be the same, or two or more different in structure.
  • the cationically polymerizable compound preferably has one or more radically polymerizable groups in one molecule together with the cationically polymerizable group.
  • the radically polymerizable group which such a cationically polymerizable compound has the above description of the radically polymerizable compound can be referred to.
  • the number of radically polymerizable groups in one molecule of the cationically polymerizable compound having a radically polymerizable group is at least one, preferably 1 to 3, and more preferably one.
  • a cationically polymerizable group Preferably, an oxygen-containing heterocyclic group and vinyl ether group can be mentioned.
  • the cationically polymerizable compound may contain one or more oxygen-containing heterocyclic groups and one or more vinyl ether groups in one molecule.
  • the oxygen-containing heterocyclic ring may be a single ring or a condensed ring. Further, those having a bicyclo skeleton are also preferable.
  • the oxygen-containing heterocyclic ring may be a non-aromatic ring or an aromatic ring, and is preferably a non-aromatic ring.
  • An epoxy ring, a tetrahydrofuran ring, an oxetane ring can be mentioned as a specific example of a single ring.
  • an oxabicyclo ring can be mentioned as what has a bicyclo skeleton.
  • a cationically polymerizable group containing an oxygen-containing heterocyclic ring is included in the cationically polymerizable compound as a monovalent substituent or a divalent or higher polyvalent substituent.
  • the above-mentioned fused ring is one in which one or more of the oxygen-containing heterocyclic rings are condensed with one or more of ring structures other than the oxygen-containing heterocyclic ring. It may be.
  • ring structures other than the above-mentioned oxygen-containing heterocyclic ring include, but are not limited to, cycloalkane rings such as cyclohexane ring.
  • the cationically polymerizable compound may contain a partial structure other than the cationically polymerizable group.
  • a partial structure is not particularly limited, and may be a linear structure, a branched structure or a cyclic structure. These partial structures may contain one or more hetero atoms such as oxygen atom and nitrogen atom.
  • the compound (cyclic structure containing compound) containing cyclic structure can be mentioned as a cationically polymerizable group, or as partial structures other than a cationically polymerizable group.
  • the cyclic structure contained in the cyclic structure-containing compound is, for example, one in one molecule, and may be two or more.
  • the number of cyclic structures contained in the cyclic structure-containing compound is, for example, 1 to 5 in one molecule, but is not particularly limited.
  • the compound containing two or more cyclic structures in one molecule may contain the same cyclic structure, and may contain two or more kinds of cyclic structures having different structures.
  • An oxygen-containing heterocyclic ring can be mentioned as an example of the cyclic structure contained in the said cyclic structure containing compound. The details are as described above.
  • Cationic polymerization property determined by dividing molecular weight (hereinafter, described as "B") by the number of cation polymerizable groups (hereinafter, described as "C") contained in one molecule of the cationically polymerizable compound
  • the cationically polymerizable group equivalent is 50 or more.
  • the cationically polymerizable group contained in the cationically polymerizable compound for which the cationically polymerizable group equivalent is to be determined can be an epoxy group (epoxy ring). That is, in one aspect, the cationically polymerizable compound is an epoxy ring-containing compound.
  • the epoxy ring-containing compound is obtained by dividing the molecular weight by the number of epoxy rings contained in one molecule, from the viewpoint of improving the adhesion between the resin layer and the HC layer obtained by curing the curable composition for forming an HC layer.
  • the epoxy group equivalent is preferably less than 150.
  • the epoxy group equivalent of an epoxy ring containing compound is 50 or more, for example.
  • the molecular weight of the cationically polymerizable compound is preferably 500 or less, and more preferably 300 or less.
  • the cationically polymerizable compound having a molecular weight in the above range tends to penetrate into the resin film and can contribute to the improvement of the adhesion between the resin layer and the HC layer obtained by curing the curable composition for forming an HC layer. I guess.
  • the curable composition for forming an HC layer according to the second aspect (2) comprises a) an alicyclic epoxy group and an ethylenically unsaturated group, and the number of the alicyclic epoxy group contained in one molecule is one. And a cationically polymerizable compound having one ethylenically unsaturated group contained in one molecule and a molecular weight of 300 or less. Below, said a) is described as "a) component.”
  • the number of alicyclic epoxy groups and ethylenically unsaturated groups in one molecule is preferably one.
  • the molecular weight of the component a) is 300 or less, preferably 210 or less, and more preferably 200 or less.
  • R represents a monocyclic hydrocarbon or a bridged hydrocarbon
  • L represents a single bond or a divalent linking group
  • Q represents an ethylenically unsaturated group.
  • R in the general formula (1) is a monocyclic hydrocarbon
  • the monocyclic hydrocarbon is preferably an alicyclic hydrocarbon, and more preferably an alicyclic group having 4 to 10 carbon atoms.
  • An alicyclic group having 5 to 7 carbon atoms is more preferable, and an alicyclic group having 6 carbon atoms is particularly preferable.
  • Preferred examples include cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and cycloheptyl group, with cyclohexyl group being more preferred.
  • R in the general formula (1) is a bridged hydrocarbon
  • the bridged hydrocarbon is preferably a two-ring bridged hydrocarbon (bicyclo ring) or a three-ring bridged hydrocarbon (tricyclo ring).
  • Specific examples thereof include bridged hydrocarbons having 5 to 20 carbon atoms, and examples thereof include norbornyl group, bornyl group, isobornyl group, tricyclodecyl group, dicyclopentenyl group, dicyclopentanyl group and tricyclopentenyl group.
  • the divalent linking group is preferably a divalent aliphatic hydrocarbon group.
  • the carbon number of the divalent aliphatic hydrocarbon group is preferably in the range of 1 to 6, more preferably in the range of 1 to 3, and still more preferably 1.
  • a bivalent aliphatic hydrocarbon group a linear, branched or cyclic alkylene group is preferable, a linear or branched alkylene group is more preferable, and a linear alkylene group is more preferable.
  • component a) examples include various compounds exemplified in paragraph 0015 of JP-A No. 10-17614, a compound represented by the following general formula (1A) or (1B), 1,2-epoxy-4- Vinyl cyclohexane etc. can be mentioned. Among them, compounds represented by the following general formula (1A) or (1B) are more preferable. In addition, the compound represented by following General formula (1A) is also preferable the isomer.
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • L 2 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
  • the carbon number of the divalent aliphatic hydrocarbon group represented by L 2 in the general formulas (1A) and (1B) is in the range of 1 to 6, and more preferably in the range of 1 to 3, More preferably, it has 1 carbon atom.
  • a bivalent aliphatic hydrocarbon group a linear, branched or cyclic alkylene group is preferable, a linear or branched alkylene group is more preferable, and a linear alkylene group is more preferable.
  • the HC layer obtained by curing the curable composition for forming an HC layer according to the second aspect (2) preferably has a structure derived from the above a) at 15 to 100% by mass of the total solid content of the HC layer. It is preferable to contain 70% by mass, more preferably to contain 18 to 50% by mass, and still more preferably to contain 22 to 40% by mass.
  • the component a) is 15 to 70 mass, when the total solid content of the curable composition for HC layer formation is 100 mass%.
  • % Is preferably contained, more preferably 18 to 50% by mass, and still more preferably 22 to 40% by mass.
  • a nitrogen-containing heterocyclic ring can be mentioned as another example of the cyclic structure contained in the said cyclic structure containing compound.
  • the nitrogen-containing heterocycle-containing compound is a preferable cationically polymerizable compound from the viewpoint of improving the adhesion between the resin layer and the HC layer obtained by curing the curable composition for forming an HC layer.
  • the nitrogen-containing heterocyclic ring-containing compound is preferably a compound having one or more nitrogen-containing heterocyclic rings selected from the group consisting of an isocyanurate ring and a glycoluril ring in one molecule.
  • a compound containing an isocyanurate ring is a more preferable cationically polymerizable compound from the viewpoint of improving the adhesion between the HC layer obtained by curing the curable composition for HC layer formation and the resin film.
  • the present inventors speculate that this is because the isocyanurate ring is excellent in affinity with the resin constituting the resin film.
  • a resin film containing an acrylic resin film is more preferable, and it is further preferable that the surface in direct contact with the HC layer obtained by curing the curable composition for forming an HC layer is the acrylic resin film surface.
  • an alicyclic structure can be mentioned.
  • a cyclo ring, a dicyclo ring, a tricyclo ring structure can be mentioned, for example, A dicyclopentanyl ring, a cyclohexane ring etc. can be mentioned as a specific example.
  • the cationically polymerizable compound described above can be synthesized by a known method. Moreover, it is also possible to obtain as a commercial item.
  • cationically polymerizable compound containing an oxygen-containing heterocyclic ring as a cationically polymerizable group include, for example, 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate (commercially available product such as Cyclomer M100 manufactured by Daicel Corporation), 3,4-epoxy Cyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate (for example, commercial products such as UVR6105, UVR6110 manufactured by Union Carbide and CELLOXIDE 2021 manufactured by Daicel Chemical Co., Ltd.), bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate (eg manufactured by Union Carbide) UVR 6128), vinylcyclohexene monoepoxide (for example, CELLOXIDE 2000 manufactured by Daicel Chemical Industries), ⁇ -caprolactone modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl 3 ', 4'-epo Cyclocyclohex
  • cationically polymerizable compound containing a vinyl ether group examples include 1,4-butanediol divinyl ether, 1,6-hexanediol divinyl ether, nonanediol divinyl ether, cyclohexanediol divinyl ether, cyclohexane Examples include dimethanol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether and the like.
  • a cationically polymerizable compound containing a vinyl ether group one having an alicyclic structure is also preferable.
  • JP-A-8-143806, JP-A-8-283320, JP-A-2000-186079, JP-A-2000-327672, JP-A-2004-315778, and the like can be used.
  • the compounds exemplified in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-29632 can also be used.
  • the following embodiments can be mentioned as preferable embodiments of the curable composition for HC layer formation. It is more preferable to satisfy one or more of the following embodiments, it is more preferable to satisfy two or more, more preferable to satisfy three or more, and even more preferable to satisfy all. It is also preferable that one cationically polymerizable compound satisfy a plurality of embodiments. For example, it can be illustrated as a preferred embodiment that the nitrogen-containing heterocyclic ring-containing compound has a cationically polymerizable group equivalent weight of less than 150.
  • a nitrogen-containing heterocyclic containing compound is included as a cationically polymerizable compound.
  • the nitrogen-containing heterocycle contained in the nitrogen-containing heterocycle-containing compound is selected from the group consisting of an isocyanurate ring and a glycoluril ring.
  • the nitrogen-containing heterocycle-containing compound is more preferably an isocyanurate ring-containing compound.
  • the isocyanurate ring-containing compound is an epoxy ring-containing compound containing one or more epoxy rings in one molecule.
  • the cationically polymerizable compound includes a cationically polymerizable compound having a cationically polymerizable group equivalent of less than 150.
  • the oxetane ring containing compound which contains one or more oxetane rings in 1 molecule is included with another cationically polymerizable compound.
  • the oxetane ring-containing compound is a compound not containing a nitrogen-containing heterocycle.
  • the content of the cationically polymerizable compound in the curable composition for forming an HC layer is preferably 10 parts by mass or more based on 100 parts by mass of the total content of the radically polymerizable compound and the cationically polymerizable compound.
  • the amount is preferably 15 parts by mass or more, more preferably 20 parts by mass or more.
  • the content of the cationically polymerizable compound in the curable composition for forming an HC layer is 50 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the total content of the radically polymerizable compound and the cationically polymerizable compound. preferable.
  • the content of the cationically polymerizable compound in the curable composition for forming an HC layer is preferably based on 100 parts by mass of the total content of the content of the first radically polymerizable compound and the cationically polymerizable compound. It is 0.05 mass part or more, More preferably, it is 0.1 mass part or more, More preferably, it is 1 mass part or more.
  • the content of the cationically polymerizable compound is preferably 50 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the total content of the first radically polymerizable compound and the cationically polymerizable compound, It is more preferable that it is less than 1 part.
  • a compound having both a cationically polymerizable group and a radically polymerizable group is classified as a cationically polymerizable compound, and the content in the curable composition for forming an HC layer is specified.
  • the curable composition for HC layer formation preferably contains a polymerization initiator, and more preferably contains a photopolymerization initiator. It is preferable that the curable composition for HC layer formation containing a radically polymerizable compound contains a radical photoinitiator, and the curable composition for HC layer formation containing a cationically polymerizable compound contains a cationic photoinitiator Is preferred.
  • the radical photopolymerization initiator or the cationic polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more different in structure.
  • the content of the polymerization initiator of the curable composition for forming an HC layer may be appropriately adjusted as long as the polymerization reaction of the polymerizable compound is favorably advanced, and is not particularly limited.
  • the amount is, for example, in the range of 0.1 to 20 parts by mass, preferably 0.5 to 10 parts by mass, and more preferably 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound contained in the curable composition for forming an HC layer. It is in the range of 10 parts by mass.
  • the curable composition for forming an HC layer contains at least one component having the property of being cured by irradiation with active energy rays, and can optionally contain at least one polymerization initiator, and preferably contains it. The details of them are as described above. Next, various components which may be optionally contained in the curable composition for HC layer formation will be described.
  • the curable composition for HC layer formation can contain inorganic particles having an average primary particle size of less than 2 ⁇ m.
  • the average primary particle size of the inorganic particles is preferably in the range of 10 nm to 1 ⁇ m, more preferably in the range of 10 nm to 100 nm, and still more preferably in the range of 10 nm to 50 nm.
  • the particles are observed with a transmission electron microscope (magnification: 500,000 to 2,000,000 times) to observe 100 randomly selected particles (primary particles).
  • the average primary particle size is defined as the average value of those particle sizes.
  • the inorganic particles include silica particles, titanium dioxide particles, zirconium oxide particles, and aluminum oxide particles. Among them, silica particles are preferred. When inorganic particles such as silica particles are used, they function as a low refractive index layer, and when zirconium oxide or the like is used, they function as a high refractive index layer.
  • the said inorganic particle may be processed by the surface modifier containing the organic segment in order to raise affinity with the organic component contained in the curable composition for HC layer formation.
  • the surface modifying agent one having a functional group capable of forming a bond with inorganic particles or capable of being adsorbed to the inorganic particles and a functional group having high affinity with an organic component in the same molecule is preferable.
  • surface modifiers having functional groups capable of binding to or adsorbing to inorganic particles include silane surface modifiers, metal alkoxide surface modifiers such as aluminum, titanium and zirconium, phosphoric acid groups, sulfuric acid groups, sulfonic acid groups, and carbonic acids. Surface modifiers having an anionic group such as an acid group are preferred.
  • Examples of the functional group having high affinity to the organic component include a functional group having the same hydrophobicity as that of the organic component, and a functional group capable of chemically bonding to the organic component.
  • functional groups that can be chemically bonded to organic components are preferable, and an ethylenically unsaturated group or a ring-opening polymerizable group is more preferable.
  • Preferred inorganic particle surface modifiers are metal alkoxide surface modifiers or polymerizable compounds having an anionic group and an ethylenically unsaturated group or ring-opening polymerizable group in the same molecule.
  • the crosslink density of the HC layer can be increased by chemically bonding the inorganic particles and the organic component with these surface modifiers, and as a result, the hardness of the front plate (further, the hardness of the liquid crystal panel including this front plate) Can be improved.
  • S-1 H 2 C C (X) COOC 3 H 6 Si (OCH 3) 3
  • S-2 H 2 C C (X) COOC 2 H 4 OTi (OC 2 H 5) 3
  • S-5 H 2 C C (X) COOC 2 H 4 OSO 3 H
  • Surface modification of inorganic particles with a surface modifier is preferably performed in solution.
  • a surface modifier is present together, or the inorganic particles are mechanically dispersed and then added with a surface modifier and stirred, or the inorganic particles are mechanically dispersed.
  • Surface modification may be carried out (if necessary, heating, drying and then heating, or pH (power of hydrogen) change) followed by dispersion.
  • a solvent for dissolving the surface modifier a highly polar organic solvent is preferable. Specifically, known solvents such as alcohol, ketone, ester and the like can be mentioned.
  • the content of the inorganic particles is preferably 5 to 40% by mass, and more preferably 10 to 30% by mass, when the total solid content of the curable composition for forming an HC layer is 100% by mass.
  • the shape of the primary particles of the inorganic particles may be either spherical or non-spherical, but it is preferable that the primary particles of the inorganic particles are spherical, and the spherical particles in the HC layer obtained by curing the curable composition for HC layer formation It is more preferable from the viewpoint of a further improvement in hardness that it exists as a non-spherical secondary particle or higher-order particle in which ten inorganic particles (primary particles) are connected.
  • the inorganic particles include ELCOM V-8802 (spherical silica particles having an average primary particle diameter of 15 nm manufactured by JGC Catalysts Chemical Co., Ltd.), ELCOM V-8803 (modified silica particles manufactured by JGC Catalyst Chemical Co., Ltd.), MiBK-SD ( Spherical silica particles having an average primary particle diameter of 10 to 20 nm, manufactured by Nissan Chemical Industries, MEK-AC-2140Z (spherical silica particles having an average primary particle diameter of 10 to 20 nm, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), MEK-AC-4130 (Nissan Chemical Industries, Ltd.) Spherical silica particles with an average primary particle size of 45 nm), MiBK-SD-L (spherical silica particles with an average primary particle size of 40 to 50 nm manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), MEK-AC-5140Z (average primary resin manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) Spherical silica
  • the curable composition for forming an HC layer can also contain matte particles.
  • matte particles By using matte particles, it can function as a low reflective layer having antiglare properties.
  • the matte particles refer to particles having an average primary particle size of 2 ⁇ m or more, and may be inorganic particles or organic particles, or particles of an inorganic and organic composite material.
  • the shape of the matting particles may be spherical or non-spherical.
  • the average primary particle diameter of the matting particles is preferably in the range of 2 to 20 ⁇ m, more preferably in the range of 4 to 14 ⁇ m, and still more preferably in the range of 6 to 10 ⁇ m.
  • the matted particles include, for example, inorganic particles such as silica particles and TiO 2 particles, crosslinked acrylic particles, crosslinked acrylic-styrene particles, crosslinked styrene particles, organic particles such as melamine resin particles and benzoguanamine resin particles.
  • matt particles are preferably organic particles, and more preferably crosslinked acrylic particles, crosslinked acrylic-styrene particles, or crosslinked styrene particles.
  • the content of the matting particles per unit volume in the HC layer obtained by curing the curable composition for forming an HC layer is preferably 0.10 g / cm 3 or more, and 0.10 g / cm 3 to 0.40 g / cm. It is more preferably cm 3 and more preferably 0.10 g / cm 3 to 0.30 g / cm 3 .
  • the curable composition for HC layer formation preferably also contains a UV absorber.
  • a benzotriazole compound and a triazine compound can be mentioned, for example.
  • the benzotriazole compound is a compound having a benzotriazole ring, and specific examples thereof include various benzotriazole-based ultraviolet absorbers described in paragraph 0033 of JP-A-2013-111835.
  • the triazine compound is a compound having a triazine ring, and specific examples thereof include various triazine-based ultraviolet absorbers described in paragraph 0033 of JP-A-2013-111835.
  • the content of the ultraviolet light absorber in the HC layer is, for example, about 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin contained in the HC layer, but is not particularly limited. Further, with regard to the ultraviolet absorber, reference can be made to paragraph 0032 of JP-A-2013-111835. In the present invention and in the present specification, ultraviolet light refers to light having an emission center wavelength in a wavelength band of 200 to 380 nm.
  • the curable composition for HC layer formation preferably also contains a fluorine-containing compound such as a leveling agent and an antifouling agent. It functions as an antifouling layer by using an appropriate fluorine-containing compound.
  • a fluorine-containing polymer is preferably used as the leveling agent.
  • fluoroaliphatic group-containing polymers described in Patent No. 5175 831 can be mentioned.
  • a fluoroaliphatic group-containing polymer having a content of the fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the general formula (1), which constitutes the fluoroaliphatic group-containing polymer, is 50% by mass or less of all the polymerized units is used as a leveling agent It can also be done.
  • the HC layer contains an antifouling agent, adhesion of fingerprints and stains can be reduced, and wiping off of the attached stains can be facilitated.
  • the antifouling agent preferably contains a fluorine-containing compound.
  • the fluorine-containing compound preferably has a perfluoropolyether group and a polymerizable group (preferably, a radically polymerizable group), has a perfluoropolyether group and a polymerizable group, and has a polymerizable group in one molecule. It is more preferable to have more than one. With such a configuration, the effect of improving the abrasion resistance can be exhibited more effectively. In the present specification, even when the antifouling agent has a polymerizable group, it is treated as not applicable to the above-mentioned polymerizable compounds 1 to 3 and the above-mentioned other polymerizable compounds.
  • the fluorine-containing compound may be any of a monomer, an oligomer and a polymer, but is preferably an oligomer (fluorine-containing oligomer).
  • the leveling agent and antifouling agent which are described in the below-mentioned (vi) other components can also be contained in addition to the above.
  • the materials described in paragraphs 0012 to 0101 of JP 2012-088699 A can be used, and the contents of this publication are incorporated into the present specification.
  • the antifouling agent described above one synthesized by a known method may be used, or a commercial product may be used.
  • RS-90, RS-78 or the like manufactured by DIC can preferably be used.
  • the content of the solid content of the curable composition for HC layer formation is preferably 0.01 to 10% by mass, preferably 0.05 to 5%. % Is more preferable, and 0.1 to 2% by mass is more preferable.
  • the curable composition for HC layer formation may contain only 1 type of antifouling agent, and may contain 2 or more types. When 2 or more types are contained, it is preferable that the total amount becomes the said range.
  • the curable composition for HC layer formation can also be set as the structure which does not contain an antifouling agent substantially.
  • the curable composition for HC layer formation also preferably contains a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, and 1 type, or 2 or more types of an organic solvent can be mixed and used in arbitrary ratios.
  • the organic solvent include, for example, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, n-butanol and i-butanol; ketones such as acetone, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone; cellosolves such as ethyl cellosolve; And aromatics such as xylene; glycol ethers such as propylene glycol monomethyl ether; acetates such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate; and diacetone alcohol.
  • cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and methyl acetate are preferable, and it is more preferable to use cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and methyl acetate mixed in an arbitrary ratio. With such a configuration, an antireflective laminate excellent in abrasion resistance, punchability and adhesion is obtained.
  • the amount of the solvent in the curable composition for HC layer formation can be suitably adjusted in the range which can ensure the coating aptitude of the above-mentioned composition.
  • the solvent may be 50 to 500 parts by mass, preferably 80 to 200 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the total amount of the polymerizable compound and the photopolymerization initiator.
  • the solid content of the curable composition for HC formation is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 50 to 80% by mass, and particularly preferably 65 to 75% by mass.
  • the curable composition for HC layer formation may contain one or more of known additives in any amount in addition to the above components.
  • a surface control agent, a leveling agent, a polymerization inhibitor, polyrotaxane etc. can be mentioned.
  • a leveling agent, a polymerization inhibitor, polyrotaxane etc. can be mentioned.
  • paragraphs 0032 to 0034 in JP 2012-229412 A can be referred to.
  • It may also contain commercially available antifouling agents or antifouling agents that can be prepared by known methods.
  • the additive is not limited to these, and various additives which can be generally added to the curable composition for HC layer formation can be used.
  • the curable composition for HC layer formation can be prepared by mixing the various components described above simultaneously or sequentially in any order.
  • the preparation method is not particularly limited, and a known stirrer or the like can be used for the preparation.
  • the HC layer 1A in FIG. 1 has at least a first HC layer and a second HC layer from the resin film 2A side in order is also preferable.
  • the first HC layer may be located on the surface of the resin film 2A, or may have another layer in between.
  • the second HC layer may be located on the surface of the first HC layer, or may have another layer in between.
  • the second HC layer is positioned on the surface of the first HC layer, that is, both layers are formed on at least a part of the film surface. It is preferable to touch.
  • Each of the first HC layer and the second HC layer may be a single layer or two or more layers, but a single layer is preferable. Furthermore, as described later in detail, when the antireflective laminate of the present invention is used in a touch panel, it is preferable to dispose the antireflective laminate so that the second HC layer is on the front side of the image display device. In order to make the scratch resistance and punchability of the surface of the antireflective laminate excellent, it is preferable that the second HC layer be disposed on the surface side of the antireflective laminate, in particular, on the outermost surface.
  • the first HC layer used in the present invention is formed of the first curable composition for HC layer formation.
  • the first curable composition for forming an HC layer has a cationically polymerizable group and a radically polymerizable group in the same molecule as the polymerizable compound 1 having a radically polymerizable group, and is different from the polymerizable compound 1
  • the content of the polymerizable compound 2 in the polymerizable compound containing the polymerizable compound 2 and contained in the first curable composition for HC layer formation is 51% by mass or more.
  • the description of the above-mentioned radically polymerizable compound is preferably applied as the polymerizable compound 1, and the description of the component a) in the above-mentioned cationically polymerizable compound is preferably applied as the polymerizable compound 2.
  • the first curable composition for HC layer formation may have another polymerizable compound different from the polymerizable compound 1 and the polymerizable compound 2.
  • the other polymerizable compound is preferably a polymerizable compound having a cationic polymerizable group.
  • cationically polymerizable group it is synonymous with the cationically polymerizable group described by the polymeric compound 2a component, and its preferable range is also the same.
  • a nitrogen-containing heterocycle-containing compound containing a cationically polymerizable group is preferable as another polymerizable compound.
  • the nitrogen-containing heterocyclic ring is exemplified by a nitrogen-containing heterocyclic ring selected from the group consisting of an isocyanurate ring and a glycoluril ring, and an isocyanurate ring is more preferable.
  • the number of cationic groups contained in the other polymerizable compound is preferably 1 to 10, and more preferably 2 to 5.
  • the resin film is preferably a resin film containing an acrylic resin film.
  • the adhesion between the resin film and the first HC layer tends to be further improved.
  • Specific examples of the other polymerizable compound include the above-described exemplified compounds, but the present invention is not limited to the above-described specific examples.
  • the descriptions of the above-mentioned polymerization initiator, inorganic particles, matte particles, UV absorber, fluorine-containing compound, solvent and other components can be preferably applied.
  • the first curable composition for HC layer formation preferably contains a solvent
  • the second curable composition for HC layer formation preferably contains an antifouling agent.
  • the thickness of the functional layer is preferably 3 ⁇ m or more, more preferably 5 ⁇ m or more, from the viewpoint of reducing keyboard reflection by suppressing the deformation of the film.
  • the thickness is preferably 40 ⁇ m or less, more preferably 30 ⁇ m or less, from the viewpoint of suppressing curling caused by volume contraction when forming a functional layer (for example, HC layer).
  • the HC layer can be formed by applying the curable composition for forming an HC layer directly on the resin film or through another layer such as an easy adhesion layer and irradiating the active energy ray.
  • the coating can be performed by a known coating method such as dip coating method, air knife coating method, curtain coating method, roller coating method, die coating method, wire bar coating method, gravure coating method and the like.
  • the HC layer can also be formed as an HC layer having a laminated structure of two or more layers (for example, about two to five layers) by simultaneously or sequentially applying compositions of two or more different compositions.
  • An HC layer can be formed by performing active energy ray irradiation on the applied curable composition for HC layer formation.
  • the curable composition for HC layer formation contains a radically polymerizable compound, a cationically polymerizable compound, a radical photopolymerization initiator and a cationic photopolymerization initiator
  • the polymerization reaction of the radically polymerizable compound and the cationically polymerizable compound is Each can be initiated and advanced by the action of a radical photopolymerization initiator and a cationic photopolymerization initiator.
  • the wavelength of the light to be irradiated may be determined according to the type of the polymerizable compound and the polymerization initiator to be used.
  • a high pressure mercury lamp As a light source for light irradiation, a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a chemical lamp, an electrodeless discharge lamp, an LED (Light Emitting Diode) that emits light in the 150 to 450 nm wavelength band Etc.
  • the light irradiation amount is generally in the range of 30 ⁇ 3000mJ / cm 2, preferably in the range of 100 ⁇ 1500mJ / cm 2.
  • a drying treatment may be performed as needed before and / or after light irradiation. The drying process can be performed by blowing warm air, disposing in a heating furnace, transporting in a heating furnace, or the like.
  • the heating temperature may be set to a temperature at which the solvent can be removed by drying, and is not particularly limited.
  • the heating temperature refers to the temperature of the warm air or the ambient temperature in the heating furnace.
  • the functional layer may further include an inorganic oxide layer (AR layer), and may be used by being laminated with other functional layers.
  • AR layer an inorganic oxide layer
  • the aspect which has an inorganic oxide layer (AR layer) in the surface on the opposite side to the surface which has a support body of HC layer is mentioned.
  • an AR layer 5A, a functional layer (HC layer) 1A, a support 2A, and an impact absorption layer 3A are laminated in this order.
  • the laminated body 4B is mentioned.
  • the AR layer in the laminate of the present invention is a layer having a function as an antireflective layer, and for example, dry coating such as sputtering method, reactive sputtering method, vapor deposition method, ion plating method, chemical vapor deposition (CVD) method It can be formed by the method. It is preferable to use a sputtering method, which is excellent in visibility, dense, and capable of forming a thin film excellent in mechanical properties such as scratch resistance because the film thickness uniformity is high and there are few defects such as pinholes. .
  • the dual magnetron sputtering (DMS) method in which film formation is performed by applying a voltage in a medium frequency region, is most suitable because high productivity can be achieved by higher film formation speed and high discharge stability.
  • the pressure at the time of laminating the AR layer is preferably 0.1 to 0.6 Pa. The reason is that sufficient sputtering rate and film density can be obtained.
  • the AR layer may be either a high refractive index layer or a low refractive index layer, and may be a single layer or a multilayer.
  • the AR layer is preferably a layer in which high refractive index layers and low refractive index layers are alternately stacked, and the outermost layer of the AR layer (that is, the opposite to the HC layer)
  • the layer to be disposed is preferably a low refractive index layer.
  • the AR layer is a laminate of four or more layers in which high refractive index layers and low refractive index layers are alternately stacked, and the outermost layer of the AR layer is preferably a low refractive index layer, and AR layer More preferably, the innermost layer (ie, the layer disposed closest to the HC layer) is a high refractive index layer.
  • Materials constituting the high refractive index layer include metals such as indium, tin, titanium, zinc, zirconium, niobium, magnesium, cerium, tantalum, aluminum, germanium, potassium, antimony, neodymium, lanthanum, thorium and hafnium, etc. And alloys of two or more of these metals, and oxides, fluorides, sulfides and nitrides of these metals. Specifically, titanium oxide, niobium oxide, zirconium oxide, tantalum oxide, zinc oxide, indium oxide, cerium oxide and the like can be mentioned, but the invention is not limited thereto.
  • niobium oxide is suitable because of the small number of pinholes of the produced thin film.
  • Materials constituting the low refractive index layer include, but are not limited to, materials such as silicon oxide, magnesium fluoride, barium fluoride, calcium fluoride, hafnium fluoride and lanthanum fluoride. Further, in the case of stacking a plurality of layers, it is not necessary to select the same material, and it may be appropriately selected according to the purpose.
  • silicon oxide is the most suitable material in terms of optical properties, mechanical strength, cost and film formation suitability.
  • silicon oxide (SiO x ) mainly refers to silicon dioxide (SiO 2 ). However, as oxygen is depleted and / or increased, x of SiO x changes in the range of 1.8 to 2.2.
  • the total film thickness of the AR layer is preferably 100 to 300 nm. From the viewpoint of obtaining sufficient reflection performance, the above lower limit value is preferable, and from the viewpoint of productivity, the above upper limit value is preferable.
  • the laminate of the present invention may have an antifouling layer on the outermost layer of the AR layer.
  • the antifouling layer is preferably a layer containing a fluorine compound formed into a film by vacuum evaporation, and is a layer formed using a fluorine-containing silicon compound having two or more silicon atoms bonded to a reactive functional group.
  • the reactive functional group means a group capable of reacting with and binding to the outermost layer of the AR layer.
  • the film formation method of the antifouling layer is not particularly limited, but a film formation method by vacuum evaporation is preferable. According to this method, even when the film is continuously formed, the film can be formed with a uniform film thickness.
  • a water droplet contact angle is at least 100 degrees or more.
  • the dirt removal property of the surface can be improved.
  • the coefficient of friction is also reduced, the scratch resistance can be further improved.
  • the antifouling layer is made of steel wool # 0000, with a load of 1.5 kg / cm 2 , a temperature of 25 ° C., an environment of 55% relative humidity, scratch resistance even after 10 cycles of rubbing. Particularly preferred from the point of
  • the laminate of the present invention may have an adhesive layer between the functional layer and the support.
  • the pressure sensitive adhesive used when bonding a resin film together and setting it as a support body can be used preferably.
  • the thickness of the adhesive layer is preferably 5 nm or more and 50 ⁇ m or less.
  • the laminate according to the present invention has a maximum indentation depth of 5 ⁇ m or less during indentation measurement measured by the following method, from the viewpoint of suppressing the occurrence of keyboard reflection, particularly keyboard marks, and dents caused by load. Is preferably 4 ⁇ m or less, more preferably 3.5 ⁇ m or less.
  • Indentation depth measurement is the maximum indentation depth ( ⁇ m) when a film placed on a glass plate is indented under the following conditions using a particle ultra-microhardness tester (Shimadzu Corporation, DUH-201) The value of was used.
  • Articles including the laminate of the present invention include suppression of the transfer of the shape of other objects to the functional layer in various industries such as the home appliance industry, the electric and electronics industry, the automobile industry, the housing industry, etc.
  • various articles for which suppression of Specific examples thereof include a notebook PC, a touch sensor, a touch panel, an image display device such as a liquid crystal display device, a window glass of a car, a window glass of a residence, and the like.
  • the laminate of the present invention is preferably used as a protective film for an image display device, a laminate used for a polarizing plate or a front plate, and more preferably used for a protective film of a display of a notebook PC, a polarizing plate or a front plate Used as a laminated body.
  • the notebook PC which can use the laminate of the present invention is not particularly limited, and can be appropriately selected according to the purpose.
  • the image display apparatus having the laminate of the present invention is an image display apparatus having a protective film, a polarizing plate or a front plate having the laminate of the present invention, and an image display element.
  • the image display device can be used for an image display device such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel, an electroluminescence display, a cathode ray tube display and a touch panel.
  • the image display device As liquid crystal display devices, TN (Twisted Nematic) type, STN (Super-Twisted Nematic) type, TSTN (Triple Super Twisted Nematic) type, multi-domain type, VA (Vertical Alignment) type, IPS (In Plane Switching) type An OCB (Optically Compensated Bend) type etc. are mentioned. It is preferable that the image display device has improved brittleness and excellent handling, does not impair surface smoothness and display quality due to wrinkles, and can reduce light leakage during a wet heat test. That is, in the image display device having the laminate of the present invention, the image display element is preferably a liquid crystal display element. Examples of the image display device having a liquid crystal display element include EXPERIOR P, manufactured by Sony Ericsson.
  • the laminate of the present invention is configured to have a polarizer.
  • a polarizer is provided on the side of the impact absorbing layer opposite to the side having the support.
  • the laminate of the present invention may have a shock absorbing layer, a support and a functional layer in this order, and may have a polarizer on the side of the shock absorbing layer opposite to the side having the support.
  • the impact absorbing layer, the support and the functional layer may be provided in this order, and the polarizer may be provided on the side of the functional layer opposite to the side having the support.
  • the laminate of the present invention can be used as one or both of protective films of a polarizing plate comprising a polarizer and protective films disposed on both sides thereof.
  • a polarizing plate in which keyboard reflection accompanying a load is sufficiently suppressed.
  • a reflection preventing function can also be provided.
  • the laminate of the present invention may be used as one of the protective films, and a normal cellulose acetate film may be used as the other protective film.
  • a normal cellulose acetate film may be used as the other protective film.
  • films other than the laminated body of this invention are an optical compensation film which has an optical compensation layer which comprises an optically anisotropic layer among two protective films of a polarizer.
  • the optical compensation film (retardation film) can improve the viewing angle characteristics of the liquid crystal display screen.
  • known ones can be used, but from the viewpoint of widening the viewing angle, the optical compensation film described in JP 2001-100042 A is preferable.
  • the polarizer there are an iodine-based polarizer, a dye-based polarizer using a dichroic dye, and a polyene-based polarizer.
  • the iodine based polarizer and the dye based polarizer are generally produced using a polyvinyl alcohol based film.
  • the polarizer a known polarizer or a polarizer cut out from a long polarizer whose absorption axis is neither parallel nor perpendicular to the longitudinal direction may be used.
  • a long polarizer in which the absorption axis of the polarizer is neither parallel nor perpendicular to the longitudinal direction is produced by the following method.
  • the difference between the film traveling direction at the exit of the step of holding the film ends and the substantial stretching direction of the film is inclined at 20 to 70 ° within the longitudinal direction traveling speed difference of the holding device at both film ends
  • the film transport direction can be manufactured by a stretching method in which the film is bent in a state in which both ends of the film are held.
  • a stretching method in which the angle between the film transport direction at the exit of the film and the substantial stretching direction of the film at the outlet of the step of holding the film is inclined 45 ° is preferably used from the viewpoint of productivity.
  • the compounds used are shown below.
  • the weight average molecular weight of the phthalic acid ester oligomer (A-1) having the following structure is 750.
  • silica particles having an average primary particle size of 20 nm (Nippon Aerosil Co., Ltd., trade name: AEROSIL R972): 2 parts by mass Methylene chloride (first solvent): 76 parts by mass Methanol (second solvent): 11 parts by mass Core layer cellulose acylate Doping solution: 1 part by mass
  • the thickness unevenness of the entire casting band was 0.5% or less.
  • the initial casting film was formed by applying the rapid drying air having a wind velocity of 8 m / s, a gas concentration of 16% and a temperature of 60 ° C. to the casting film surface. Thereafter, drying air at 140 ° C. was blown from the upstream side of the upper portion of the casting band. From the downstream side, the drying air at 120 ° C. and the drying air at 60 ° C. were blown. The residual solvent was adjusted to about 33% by mass and stripped from the band. Next, both ends in the width direction of the obtained film were fixed with a tenter clip, and the film having a residual amount of 3 to 15% by mass was dried while being stretched 1.06 times in the transverse direction.
  • DPHA A mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: KAYARAD DPHA)
  • Light ester 2EG diethylene glycol dimethacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trade name)
  • UV 1700 B Multifunctional Urethane Acrylate (manufactured by Japan Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name)
  • Cyclomer M100 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate (product name of Daicel)
  • ⁇ Polymerization initiator> Irg 184: 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (radical photopolymerization initiator based on ⁇ -hydroxyalkylphenone, manufactured by BASF, trade name: IRGACURE 184)
  • CPI-100P Triarylsulfonium salt photocationic polymerization initiator (San-Apro Co., Ltd., trade name)
  • RS 90 Fluorinated oligomer having a radically polymerizable group (manufactured by DIC)
  • SH2400B-0501 Polyrotaxane particles, Micro Ball SH2400B-0501 manufactured by Advanced Soft Materials Corporation
  • KMP-600 Elastomer particles, Shin-Etsu KMP-600
  • the recovery rate of SH2400B-0501 measured by the above-mentioned method was 38%, and the recovery rate of KMP-600 measured by the above-mentioned method was 36%. Further, the refractive index of the 550 nm wavelength of SH2400B-0501 was 1.58, and the refractive index of the 550 nm wavelength of KMP-600 was 1.42.
  • Example 1 Preparation of laminate> ⁇ 4-1.
  • the coating and curing methods were as follows. A curable composition for HC layer formation is applied at a transfer speed of 30 m / min by a die coating method using the slot die described in Example 1 of JP-A-2006-122889, and dried at an atmosphere temperature of 60 ° C. for 150 seconds. did.
  • the composition C-1 for forming an impact absorbing layer was applied to the surface of the support on which the HC layer was formed opposite to the HC layer, and dried to form an impact absorbing layer.
  • the coating and drying methods were as follows. In the die coating method using the slot die described in Example 1 of JP-A-2006-122889, the composition for forming an impact absorbing layer is applied at a transfer speed of 30 m / min so that the film thickness after drying becomes 50 ⁇ m. Then, the laminate was dried at an ambient temperature of 120 ° C. for 120 seconds to prepare a laminate of Example 1.
  • the method of producing this shock absorbing layer is referred to as method A.
  • Example 2 to 6 Laminates of Examples 2 to 5 were produced in the same manner as Example 1, except that the impact absorbing layer forming compositions C-2 to 5 were used instead of the impact absorbing layer forming composition C-1.
  • Example 6 after forming an impact absorption layer in the same manner as in Example 1 except that the composition C-6 for forming an impact absorption layer was used instead of the composition C-1 for forming an impact absorption layer, Furthermore, under a nitrogen purge, using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics) with an oxygen concentration of about 0.1% by volume and 160 W / cm, it is irradiated with ultraviolet light with an illuminance of 300 mW / cm 2 and an irradiation amount of 1200 mJ / cm 2 , A shock absorbing layer was created.
  • an air-cooled metal halide lamp manufactured by Eye Graphics
  • Laminates of Examples 7 to 10 were produced in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of the impact absorbing layer was changed to 1 ⁇ m, 10 ⁇ m, 25 ⁇ m, and 100 ⁇ m, respectively.
  • Examples 11 to 13, 19 to 21 A TAC film with a thickness of 40 ⁇ m, a TAC film with a thickness of 80 ⁇ m, a TAC film with a thickness of 200 ⁇ m, a PI film with a thickness of 50 ⁇ m, a PI film with a thickness of 50 ⁇ m, a PET film with a thickness of 100 ⁇ m (A4300)
  • the laminates of Examples 11 to 13 and 19 to 21 were prepared in the same manner as in Example 1 except that the above were used.
  • Example 14 to 17 Laminates of Examples 14 to 17 in the same manner as in Example 1 except that curable compositions B-2 to B-5 for HC layer formation were used in place of curable composition B-1 for HC layer formation. Was produced.
  • Example 18 A laminate of Example 18 was made in the same manner as Example 1 except that the thickness of the HC layer was changed to 5 ⁇ m.
  • Examples 22 to 24 A laminate of Examples 22, 23, 24 was produced in the same manner as in Examples 1, 15, 16 except that an inorganic oxide layer (AR layer) was formed on the HC layer of the resin film with HC layer. did. Specifically, the AR layer is formed by sputtering, under an arbitrary film forming pressure, from the HC layer side to Nb 2 O 5 / SiO 2 / Nb 2 O 5 / SiO 2 , the film thickness of each layer The film formation was carried out so that each had 15 nm / 25 nm / 105 nm / 85 nm.
  • AR layer inorganic oxide layer
  • Example 25 The composition C-1 for forming an impact absorption layer is applied to the release treated surface of the release sheet subjected to release treatment so that the film thickness after drying becomes 50 ⁇ m, and dried for 120 seconds at an ambient temperature of 120 ° C. Formed a sheet.
  • the shock absorbing layer-forming composition C-1 of Example 1 was bonded to a support to prepare a laminate having a shock absorbing layer laminated thereon.
  • the method for producing this shock absorbing layer is referred to as method B.
  • Example 27 A laminate was made in the same manner as Example 26, except that the thickness of the adhesive layer was 5 ⁇ m.
  • Example 28 An adhesive having a thickness of 5 ⁇ m (trade name: NCF-D692 (manufactured by Lintec Corporation) on the resin film side opposite to the HC layer formation side of the resin film with HC layer prepared in the same manner as Example 1 ), A TAC film having a thickness of 80 ⁇ m was bonded by a roll machine under a pressure of 3 MPa and a speed of 900 rpm, to form a laminate in which two resin films were bonded. An impact absorbing layer was formed on the above-mentioned laminate in the same manner as in Example 1 to prepare a laminate of Example 28.
  • NCF-D692 manufactured by Lintec Corporation
  • Examples 29, 30 The same procedure as in Example 28 was followed except that the adhesive used was changed to a 5 ⁇ m thick adhesive (Panak Corporation, trade name: PDS1-5T8A75) and a thickness of 25 ⁇ m (Shonken Chemical Co., trade name: SK-2057). Laminates of Examples 29 and 30 were produced.
  • Example 26 was carried out in the same manner as Example 26 except that the thickness of the resin film (transparent support 1) forming the HC layer or the type or thickness of the resin film (transparent support 2) to be attached was changed as shown in Table 4 below. Thus, laminates of Examples 31 to 33 were produced.
  • Examples 34 and 35 A laminate of Examples 34 and 35 was produced in the same manner as in Example 1 except that the impact absorbing layer forming compositions C-8 and C-9 were used instead of the impact absorbing layer forming composition C-1. did.
  • Comparative Example 1 A laminate of Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that no impact absorbing layer was provided.
  • a 50 ⁇ m thick TAC film and an adhesive layer are laminated by a roll machine under a pressure of 3 MPa and a speed of 900 rpm, dried at an atmosphere temperature of 70 ° C. for 10 minutes or more, and a 50 ⁇ m thick TAC is used instead of the shock absorbing layer.
  • stacked was produced.
  • the comparative example 2 is a thing which does not have an impact absorption layer, in the following Table 3, the 50-micrometer-thick TAC film was described in the column of the impact absorption layer for convenience.
  • Comparative Example 3 A laminate of Comparative Example 3 was produced in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of the impact absorbing layer was changed to 0.5 ⁇ m.
  • Comparative Example 4 A laminate of Comparative Example 4 was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition C-7 for forming an impact absorption layer was used instead of the composition C-1 for forming an impact absorption layer.
  • Comparative Example 5 A comparative example 5 is prepared in the same manner as in Example 1 except that a pressure-sensitive adhesive having a thickness of 25 ⁇ m (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., trade name: SK-2057) is laminated in place of composition C-1 for forming shock absorbing layer. A laminate was created.
  • a pressure-sensitive adhesive having a thickness of 25 ⁇ m manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., trade name: SK-2057
  • a 25 ⁇ m thick adhesive product name: SK-, made by Soken Chemical Co., Ltd.
  • the glass plate bonded with the above laminate is fixed with a tape or the like so that the glass plate is in contact with the display of a notebook personal computer (notebook PC) (Macbook manufactured by Apple Co., Ltd.).
  • IMV m060 type
  • a weight of 10 kg on the notebook PC
  • random vibration test level 1 condition according to JIS Z0232
  • the vibration was made for 180 minutes in the Z-axis direction.
  • the XY direction refers to the in-plane direction of the laminate
  • the Z-axis direction refers to the direction orthogonal to the in-plane direction of the laminate.
  • the sample was taken out and scratched by the keyboard, and the degree of dent was evaluated according to the following index.
  • AA No dents or flaws are visible at all visually, and no dents or flaws are visible at all when observed with an optical microscope.
  • the polarizing plate can sufficiently suppress the transfer of the shape of another object to the hard coat layer (keyboard reflection).

Landscapes

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Abstract

ハードコート層などの機能層を有する積層体であって、機能層への他の物体の形状の転写を抑制することができる積層体、並びにこれを有する偏光板、画像表示装置、及び積層体の製造方法を提供する。積層体は、衝撃吸収層と支持体と機能層とを有し、衝撃吸収層の膜厚は１μｍ以上であり、衝撃吸収層は、２５℃において、周波数１０～１０５Ｈｚの範囲のｔａｎδの最大値が２．０以下である。偏光板、および、画像表示装置は積層体を有し、積層体の製造方法は、支持体上に衝撃吸収層を形成する工程を含む。

Description

積層体、偏光板、及び画像表示装置、および積層体の製造方法
　本発明は、積層体、偏光板、画像表示装置、及び積層体の製造方法に関する。
　陰極管（ＣＲＴ）を利用した表示装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、蛍光表示ディスプレイ（ＶＦＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、及び液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のような画像表示装置では、表示面への傷付き等を防止するために、支持体（基材）上に機能層（たとえば、ハードコート層を有するハードコートフィルム）を設けることが好適である。
　たとえば、特許文献１及び２には、基材の一方の面にハードコート層を有し、他方の面にウレタン樹脂層を有するハードコートフィルムが開示されている。
国際公開第２０１４／１４１８６６号 特開２０１６－６０１１７号公報
　特許文献１及び２では、ハードコートフィルムについて耐衝撃性及び耐擦傷性の向上について記載されているが、本発明者らの検討により、ハードコート層が他の物体と接触した状態で擦られた場合に、その物体の形状がハードコート層に転写されるという新たな問題があることを見出した。
　たとえば、ディスプレイ表面にハードコートフィルムを備えたノートパソコン（ノートＰＣ）を折りたたんだ状態で運搬する際に、外側から荷重がかかることによりディスプレイ表面にキーボードの跡が転写されてしまったり、異物をディスプレイとキーボード間に挟み込んでしまうことによりディスプレイ表面に凹みが発生したり、傷がついてしまったりする問題（以下、「キーボード写り」とも呼ぶ。）が生じることがある。また、たとえば、ディスプレイ表面にハードコートフィルムを備えたスマートフォンをケースに入れて運搬する際に、ケースに荷重がかかることによりケースの内側の形状がディスプレイ表面に転写されることがある。
　本発明は上記問題に鑑みなされたものであり、ハードコート層などの機能層を有する積層体であって、機能層への他の物体の形状の転写を抑制することができる積層体、並びにこれを有する偏光板、画像表示装置、及び積層体の製造方法を提供することを課題とする。
　本発明者らは鋭意検討を進めた結果、特定の周波数域のｔａｎδの最大値が特定の値以下である衝撃吸収層を有する積層体により、上記課題を解決できることを見出した。
　すなわち、上記の課題は以下の手段により解決された。
＜１＞
　衝撃吸収層と支持体と機能層とを有し、
　上記衝撃吸収層の膜厚は１μｍ以上であり、
　上記衝撃吸収層は、２５℃において、周波数１０～１０５Ｈｚの範囲のｔａｎδの最大値が２．０以下である積層体。
　ただし、上記ｔａｎδは貯蔵弾性率に対する損失弾性率の比である。
＜２＞
　上記衝撃吸収層が、２５℃において、周波数１０～１０５Ｈｚの範囲の貯蔵弾性率の最大値が４０００ＭＰａ以下である＜１＞に記載の積層体。
＜３＞
　上記衝撃吸収層が、２５℃において、周波数１０５～１０１３Ｈｚの範囲、または周波数１０－４～１０２Ｈｚの範囲に、ｔａｎδの極大値を有する＜１＞又は＜２＞に記載の積層体。
＜４＞
　上記支持体の剛性が５Ｎ・ｍｍ以上である＜１＞～＜３＞のいずれか１項に記載の積層体。
＜５＞
　上記積層体を微小硬度試験機にて５００ｍＮで押し込みした際の、最大押し込み深さが５．０μｍ以下である＜１＞～＜４＞のいずれか１項に記載の積層体。
＜６＞
　上記衝撃吸収層が、メタクリル酸メチルとｎ－ブチルアクリレートのブロック共重合体を含む＜１＞～＜５＞のいずれか１項に記載の積層体。
＜７＞
　上記衝撃吸収層が、イソプレン系エラストマーを含む＜１＞～＜６＞のいずれか１項に記載の積層体。
＜８＞
　上記衝撃吸収層が、スチレンとイソプレンのブロック共重合体を含む＜１＞～＜７＞のいずれか１項に記載の積層体。
＜９＞
　上記衝撃吸収層の厚みが１～１００μｍである＜１＞～＜８＞のいずれか１項に記載の積層体。
＜１０＞
　上記衝撃吸収層が、押し込み測定時における回復率が３０％以上の粒子を含む＜１＞～＜９＞のいずれか１項に記載の積層体。
＜１１＞
　上記機能層が、重合性化合物の硬化物を含むハードコート層である＜１＞～＜１０＞のいずれか１項に記載の積層体。
＜１２＞
　上記機能層が、無機酸化物層である＜１＞～＜１１＞のいずれか１項に記載の積層体。
＜１３＞
　上記衝撃吸収層と上記支持体と上記機能層とをこの順で有する＜１＞～＜１２＞のいずれか１項に記載の積層体。
＜１４＞
　＜１＞～＜１３＞のいずれか１項に記載の積層体が、偏光子を有する偏光板。
＜１５＞
　＜１＞～＜１３＞のいずれか１項に記載の積層体又は＜１２＞に記載の偏光板を有する画像表示装置。
＜１６＞
　衝撃吸収層形成用組成物を上記支持体上に塗布して上記衝撃吸収層を形成する工程を含む、＜１＞～＜１３＞のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
＜１７＞
　上記衝撃吸収層を剥離フィルム上に形成する工程と、上記衝撃吸収層を上記支持体に転写する工程とを含む、＜１＞～＜１３＞のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
　本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
　本明細書において、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレートとメタクリレートの一方または両方の意味で用いられる。また、「（メタ）アクリロイル基」は、アクリロイル基とメタクリロイル基の一方または両方の意味で用いられる。「（メタ）アクリル」は、アクリルとメタクリルの一方または両方の意味で用いられる。
　本明細書において、重量平均分子量（Ｍｗ）は、特段の断りがない限り、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によってポリスチレン換算の分子量として計測することができる。このとき、ＧＰＣ装置はＨＬＣ－８２２０（東ソー（株）製）を用い、カラムはＧ３０００ＨＸＬ＋Ｇ２０００ＨＸＬを用い、２３℃で流量は１ｍＬ／ｍｉｎで、屈折率（ＲＩ）で検出することとする。溶離液としては、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、クロロホルム、ＮＭＰ（Ｎ－メチル－２－ピロリドン）、ｍ－クレゾール／クロロホルム（湘南和光純薬（株）製）から選定することができ、溶解するものであればＴＨＦを用いることとする。
　本発明によれば、機能層を有する積層体であって、機能層への他の物体の形状の転写を抑制することができる積層体、並びにこれを有する偏光板、画像表示装置、及び積層体の製造方法を提供することができる。
本発明の積層体の構成の一実施形態を示す断面模式図である。 無機酸化物層を有する本発明の積層体の構成の一実施形態を示す断面模式図である。 衝撃吸収層の２５℃における周波数とｔａｎδの関係を示した図である。
　以下、本発明について詳細に説明する。
［積層体］
　本発明の積層体は、
　機能層と支持体と衝撃吸収層とを有し、衝撃吸収層の膜厚は１μｍ以上であり、衝撃吸収層は、２５℃において、周波数１０～１０５Ｈｚの範囲のｔａｎδの最大値が２．０以下である積層体である。
　ただし、ｔａｎδ（損失正接）は貯蔵弾性率に対する損失弾性率の比である。
　本発明の積層体の好ましい実施形態の一例を図１に示す。図１に示す積層体４Ａは、支持体２Ａと、この支持体２Ａの片面に配された機能層（たとえば、ハードコート層。以下、「ＨＣ層」とも称す。）１Ａと、この機能層１Ａが形成された面とは反対面に配された衝撃吸収層３Ａとを有する積層体である。本発明の積層体の他の好ましい実施形態としては、衝撃吸収層と、この衝撃吸収層の片側に配された支持体と、この支持体が配された面とは反対側に配された機能層とを有する積層体である。
　本発明の積層体は上記構成を有することにより、機能層への他の物体の形状の転写を十分に抑制することができる。
　機能層への他の物体の形状の転写の例として、たとえばキーボード写りは、キーボードとディスプレイの接触時の衝撃、及び、接触後のキーボードによるディスプレイ表面への擦りによって発生するものと考えられる。輸送等によって発生する振動の周波数は、通常は、１～１０３Ｈｚの範囲であると考えられる（ＪＩＳ　Ｚ０２３２、及びＡＳＴＭ　Ｄ　４１６９等参照）。本発明の積層体は、２５℃において周波数１０～１０５Ｈｚの範囲でのｔａｎδの最大値が２．０以下の衝撃吸収層を有する（より好ましくは、衝撃吸収層と支持体と機能層とをこの順で有し、支持体を挟んで機能層の反対側に衝撃吸収層を有する）ことにより、上述の衝撃及び擦りを緩和することができ、機能層（好ましくはハードコート層）への他の物体の形状の転写（たとえばキーボード写り）を抑制できるものと推定される。
　本発明では、衝撃吸収層の２５℃における周波数とｔａｎδの関係について、下記の方法で周波数－ｔａｎδのグラフを作成し、ｔａｎδの周波数依存性を調べた。
　（試料作成方法）
　衝撃吸収層形成用材料を溶剤に溶解、または溶融させて得られた塗布液を、剥離処理が施された剥離シートの剥離処理面に、乾燥後の厚みが１０～５０μｍになるよう塗布、乾燥させた後、剥離シートから衝撃吸収層を剥離し衝撃吸収層の試験片を作成した。
　（測定方法）
　動的粘弾性測定装置（（株）アイティー・エス・ジャパン会社製ＤＶＡ－２２５）を用いて、あらかじめ温度２５℃、相対湿度６０％雰囲気下で２時間以上調湿した上記試験片について、「ステップ昇温・周波数分散」モードにおいて下記条件において測定を行った後、「マスターカーブ」編集にて２５℃における周波数に対するｔａｎδ、貯蔵弾性率Ｅ’および損失弾性率Ｅ’’のマスターカーブを得た。得られたマスターカーブからｔａｎδの極大値及び極大値を示す周波数を求めた。
　なお、ｔａｎδ＝（損失弾性率Ｅ’’）／（貯蔵弾性率Ｅ’）である。
　試料：５ｍｍ×３０ｍｍ
　つかみ間距離：２０ｍｍ
　設定歪み：０．１０％
　測定温度：－４０℃～４０℃
　昇温条件：２℃／ｍｉｎ
　衝撃吸収層は、２５℃において、周波数１０～１０５Ｈｚの範囲のｔａｎδの最大値が２．０以下であればよく、１．５以下であることが好ましく、１．２以下であるのがより好ましい。なかでも、周波数１０２～１０５Ｈｚの範囲のｔａｎδの最大値が１．２以下であることが好ましく、周波数１０３～１０４Ｈｚの範囲のｔａｎδの最大値が０．８以下であることがより好ましい。
　衝撃吸収層は、２５℃において、周波数１０５～１０１３Ｈｚの範囲、または周波数１０－２～１０２Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を少なくとも１つ有していることが好ましい。この場合、周波数１０５～１０１３Ｈｚの範囲、または周波数１０－２～１０２Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を２つ以上有していてもよい。
　また、周波数１０～１０５Ｈｚの範囲のｔａｎδの最大値が２．０以下であれば、周波数１０５～１０１３Ｈｚの範囲、または周波数１０－２～１０２Ｈｚの範囲に更にｔａｎδの極大値を有していてもよく、その極大値が最大値であってもよい。
　衝撃吸収層は、２５℃において、周波数１０５～１０１３Ｈｚの範囲、または周波数１０－２～１０２Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を少なくとも１つ有することが好ましく、周波数１０６～１０１２Ｈｚの範囲、または周波数５×１０－２～５０Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を少なくとも１つ有することがより好ましく、周波数１０７～１０１１Ｈｚの範囲、または周波数１０－１～５０Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を少なくとも１つ有することが更に好ましい。
　衝撃吸収層の２５℃におけるｔａｎδの極大値は、衝撃吸収の観点から、０．１以上であることが好ましく、０．２以上であることがより好ましい。また、硬度の観点から、衝撃吸収層の２５℃におけるｔａｎδの極大値は、３．０以下であることが好ましい。
　衝撃吸収層の２５℃における、周波数１０～１０５Ｈｚの範囲での貯蔵弾性率の最大値は４０００ＭＰａ以下であることが好ましい。衝撃吸収層の貯蔵弾性率が４０００ＭＰａ以下であることで、キーボードとの擦れを緩和することができ、ディスプレイ表面の破損が起こりにくくなる。１０～１０５Ｈｚの範囲での貯蔵弾性率の最大値は３５００ＭＰａ以下であることが好ましく、２５００ＭＰａ以下であることがより好ましい。
　以下、本発明の積層体を構成する各層の成分及び調製について、詳細を説明する。
（１）衝撃吸収層
（衝撃吸収層の材質）
　本発明の積層体が備える衝撃吸収層は、積層体を画像表示装置の保護フィルム、偏光板又は前面板等として用いた際に、表示内容の視認性を確保できる透明性を有し、上述の周波数域にｔａｎδの最大値を与え、かつ、保護フィルム、偏光板又は前面板等への押さえ付け又は衝突等に由来する画像表示装置表面に積層された機能層の破損を防ぐことができるものであれば、樹脂から構成されてもよいし、エラストマー（油展ゴムを含む）から構成されてもよい。
　上記樹脂としては、１，２－ポリブタジエン樹脂、エチレン－酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ、通常３質量％以上の酢酸ビニル単位を含有する）及びポリエチレン等のポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアクリル樹脂（（メタ）アクリレート樹脂等）、ビニルエステル樹脂（ＥＶＡを除く）、飽和ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、フッ素樹脂（ポリフッ化ビニリデン等）、ポリカーボネート樹脂、ポリアセタール樹脂、エポキシ樹脂、（メタ）アクリル樹脂、ウレタン変性ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂及びケイ素樹脂等が挙げられる。
　これらの樹脂のうち、（メタ）アクリル樹脂等が好ましい。
　エラストマーとしては、共役ジエンの重合体若しくはブロック共重合体、アクリル系重合体若しくはブロック共重合体、スチレン系重合体若しくはブロック共重合体、芳香族ビニル化合物と共役ジエンとのブロック共重合体、共役ジエンの重合体若しくはブロック共重合体の水素添加物、芳香族ビニル化合物と共役ジエンとのブロック共重合体の水素添加物、エチレン・α－オレフィン系共重合体、極性基変性オレフィン系共重合体、極性基変性オレフィン系共重合体と金属イオン及び／又は金属化合物とよりなるエラストマー、アクロルニトリル－ブタジエン系ゴム等のニトリル系ゴム、ブチルゴム、イソプレンゴム、アクリル系ゴム、熱可塑性ポリオレフィンエラストマー（ＴＰＯ）、熱可塑性ポリエステルエラストマー（ＴＰＥＥ）、ポリアミドエラストマー（ＴＰＡＥ）、ジエン系エラストマー（１，２－ポリブタジエン等）などの熱可塑性エラストマー、シリコーン系エラストマー、フッ素系エラストマーなどを挙げることができる。
　これらのエラストマーのうち、アクリル系重合体若しくはブロック共重合体、スチレン系重合体若しくはブロック共重合体、シリコーン系エラストマー、イソプレン系エラストマーが好ましく、アクリル系ブロック共重合体、スチレン系ブロック共重合体、イソプレン系エラストマーが特に好ましい。アクリル系ブロック共重合体としては、メタクリル酸メチルとｎ－ブチルアクリレートのブロック共重合体（「ＰＭＭＡ－ＰｎＢＡ共重合体」とも呼ぶ）等が挙げられる。スチレン系ブロック共重合体としては、スチレンとイソプレン、またはブテンのブロック共重合体等が挙げられる。イソプレン系エラストマーとしては、部分的に重合性官能基を有している重合体が挙げられる。衝撃吸収層が含み得る樹脂又はエラストマーは公知の方法で合成してもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、たとえば、クラリティＬＡ２１４０ｅ、クラリティＬＡ２２５０、クラリティＬＡ４２８５、ＨＹＢＲＡＲ５１２７（（株）クラレ製、商品名）、バイロンＵＲ２３００（（株東洋紡製、商品名）、ＵＣ２０３Ｍ（（株）クラレ製、商品名）などが挙げられる。
　樹脂又はエラストマーの重量平均分子量は、溶剤への溶解性と硬度のバランスの観点から、１０４～１０６が好ましく、５×１０４～５×１０５がより好ましい。
　衝撃吸収層中の樹脂又はエラストマーの含有量は、衝撃吸収層の全質量に対して、５０～１００質量％であることが好ましい。
（添加剤）
　衝撃吸収層は、上述の樹脂又はエラストマーのみを構成材料とすることもできるが、その他に更に添加剤を含有してもよい。添加剤としては、密着性改良剤、軟化剤、可塑剤、滑剤、架橋剤、架橋助剤、光増感剤、酸化防止剤、老化防止剤、熱安定剤、難燃剤、防菌又は防かび剤、耐候剤、紫外線吸収剤、粘着付与剤、造核剤、顔料、染料、有機フィラー、無機フィラー、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等が挙げられる。また、上述の樹脂又はエラストマー以外の重合体を含有してもよい。
　衝撃吸収層に添加される密着性改良剤は、特に限定されないが、例えばロジンエステル樹脂、水添ロジンエステル樹脂、石油化学樹脂、水添石油化学樹脂、テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、芳香族変性テルペン樹脂、水添テルペン樹脂、アルキルフェノール樹脂等を使用することができ、これらは、１種または２種以上を併用することができる。市販品としては、たとえば、スーパーエステルＬ、スーパーエステルＡ-１８、スーパーエステルＡ-７５、スーパーエステルＡ-１００、スーパーエステルＡ-１１５、スーパーエステルＡ-１２５（（株）荒川化学製、商品名）、ＹＳポリスターＮ１２５、ＹＳポリスターＮ１２５、ＹＳポリスターＧ１５０、ＹＳポリスターＴＨ１３０（（株）ヤスハラケミカル、商品名）などが挙げられる。
　衝撃吸収層中の上記樹脂又はエラストマー以外の添加剤の含有量は、衝撃吸収層の全質量に対して、５０質量％以下であることが好ましい。
（回復性粒子）
　本発明の積層体は、衝撃吸収層が回復性を有する粒子（回復性粒子）を含有することが好ましい。回復性粒子を含有させることで、衝撃吸収層の貯蔵弾性率を上げることなく、ｔａｎδを下げることができる。
　本発明では、押し込み測定時における回復率が３０％以上の粒子を回復性粒子と呼ぶ。回復率は以下の測定方法により測定される。
＜回復率測定方法＞
　粒子の回復率は、粒子超微小硬度計（（株）島津製作所、ＤＵＨ－２０１）を用いて、ガラス板上に設置した粒子を下記条件にて押し込んだ際の、最大押込み深さ（μｍ）と除荷後深さ（μｍ）の値から下記式を用いて算出した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
　最大押込み深さ（μｍ）：　最大荷重値（１０ｍＮ）での押込み深さ
　除荷後深さ（μｍ）：下記測定条件でテストした際の、試験開始時から１４．８秒後の深さ
（測定条件）
　・使用圧子：円錐台圧子　５０Ｍ
　・測定モード：負荷－除荷試験
　・最大荷重：１０ｍＮ
　・保持時間：０
　・負荷定数：１　
　・負荷（除荷）速度：　１．４２１９６（ｍＮ／ｓｅｃ）
　回復性粒子の形状は、真球及び不定形のいずれも使用できる。また、異なる２種以上の回復性粒子を併用して用いてもよい。
　上記回復性粒子の屈折率（波長５５０ｎｍの屈折率）は１．３５～１．６０であることが視認性の点で好ましく、１．４０～１．６０がより好ましく、１．４５～１．６０がさらに好ましい。
　上記回復性粒子の具体例としては、例えばシリコーンゴム粒子、ウレタンゴム粒子、ブタジエンゴム粒子、スチレンブタジエンゴム粒子、架橋（メタ）アクリル酸エステルゴム粒子等のエラストマー粒子やポリロタキサン粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋（メタ）アクリル酸エステルゴム粒子、ポリロタキサン粒子が特に好ましい。
　エラストマー粒子の市販品としては、信越化学社製ＫＭＰ－５９７、ＫＭＰ－５９８、Ｘ－５２－８７５、ＫＭ－９７２９、Ｘ－５２－１１３３、ＫＭＰ－６００、ＫＭＰ－６０１、ＫＭＰ－６０２、ＫＭＰ－６０５、Ｘ－５２－７０３０、大日精化工業社製ダイミックビーズＵＣＮ－８０７０ＣＭクリアー、同ＵＣＮ－８１５０ＣＭクリアー、テクポリマーＢＭ３０Ｘ－５、同ＢＭ３０Ｘ－８、同ＢＭ３０Ｘ－１２、同ＡＢＸ－８、同ＡＢＸ－２０、同ＡＲＸ－１５、同ＡＲＸ－３０、同ＡＦＸ－８、同ＡＦＸ－１５、同ＡＦＸ－３０、三菱ケミカル社製メタブレンＳ－２００１、同Ｓ－２００６、同Ｓ－２５０１、同Ｓ－２０３０、同Ｓ－２１００、同Ｓ－２２００、同ＳＲＫ２００Ａ、同ＳＸ－００５、同ＳＸ－００６、同Ｗ－３００Ａ、同Ｗ－４５０Ａ、同Ｗ－６００Ａ、同Ｗ－３７７、同Ｃ－２２３Ａ、同Ｃ－２１５Ａ、同Ｃ－２０１Ａ、同Ｃ－１４０Ａ、同Ｅ－８６０Ａ、同Ｅ－８７０Ａ、同Ｅ－８７５Ａを挙げることができる。
　ポリロタキサン粒子の市販品としては、アドバンスト・ソフトマテリアル社製マイクロボールＳＨ２４００Ｂ－０５０１、同ＳＨ２４００Ｂ－２００１を挙げることができる。
［ポリロタキサン］
　ポリロタキサンは、環状分子の開口部が直鎖状分子によって串刺し状に貫かれ、複数の環状分子が直鎖状分子を包接してなる擬ポリロタキサンの両末端（直鎖状分子の両末端）に、環状分子が遊離しないようにブロック基を配置してなる。
　本発明の衝撃吸収層に含有される回復性粒子として用いられるポリロタキサンの重量平均分子量が１０００，０００以下であることが衝撃吸収性を高める観点から好ましく、６００，０００以下であることがより好ましく、６００，０００～１８０，０００であることが特に好ましい。
＜直鎖状分子＞
　ポリロタキサンに含まれる直鎖状分子は、環状分子に包接され、非共有結合的に一体化することができる分子又は物質であって、直鎖状のものであれば、特に限定されない。なお、本発明において、「直鎖状分子」とは、高分子を含めた分子、及びその他上記の要件を満たす全ての物質をいう。
　また、本発明において、「直鎖状分子」の「直鎖」は、実質的に「直鎖」であることを意味する。即ち、回転子である環状分子が回転可能、もしくは直鎖状分子上で環状分子が摺動又は移動可能であれば、直鎖状分子は分岐鎖を有していてもよい。また、「直鎖」の長さは、直鎖状分子上で環状分子が摺動又は移動可能であれば、その長さに特に制限はない。
　ポリロタキサンの直鎖状分子として、親水性ポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリ（メタ）アクリル酸、セルロース系樹脂（カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等）、ポリアクリルアミド、ポリエチレンオキサイド、ポリエチレングリコール、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルメチルエーテル、ポリアミン、ポリエチレンイミン、カゼイン、ゼラチン、でんぷん等及び／またはこれらの共重合体など；疎水性ポリマー、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、およびその他オレフィン系単量体との共重合樹脂などのポリオレフィン系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレンやアクリロニトリル－スチレン共重合樹脂等のポリスチレン系樹脂、ポリメチルメタクリレートや（メタ）アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル－メチルアクリレート共重合樹脂などのアクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル－酢酸ビニル共重合樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等；及びこれらの誘導体又は変性体を挙げることができる。
　これらのうち、親水性ポリマーであることが好ましい。衝撃吸収層に吸湿性を付与し、特に支持体がセルロースアシレートフィルムの場合、衝撃吸収層と支持体の吸湿膨張性の差に起因するカールを低減することができる。
　親水性のポリマーの中でも、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールの共重合体、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、ポリブタジエン、ポリテトラヒドロフラン、ポリジメチルシロキサン、ポリエチレン、及びポリプロピレンが好ましい。ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコール及ポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールの共重合体がより好ましく、ポリエチレングリコールが特に好ましい。
　ポリロタキサンの直鎖状分子は、その分子量が１，０００以上、例えば１，０００～１，０００，０００、好ましくは５，０００以上、例えば５，０００～１，０００，０００又は５，０００～５００，０００、より好ましくは１０，０００以上、例えば１０，０００～１，０００，０００、１０，０００～５００，０００又は１０，０００～３００，０００であるのがよい。
　ポリロタキサンの直鎖状分子は、その両末端に反応基を有するのが好ましい。この反応基を有することにより、ブロック基と容易に反応することができる。反応基は、用いるブロック基に依存するが、例えば水酸基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基などを挙げることができる。
＜環状分子＞
　ポリロタキサンの環状分子は、上記直鎖状分子と包接可能な環状分子であれば、いずれの環状分子であっても用いることができる。
　なお、本発明において、「環状分子」とは、環状分子を含めた種々の環状物質をいう。また、本発明において、「環状分子」とは、実質的に環状である分子又は物質をいう。即ち、「実質的に環状である」とは、英字の「Ｃ」のように、完全に閉環ではないものを含む意であり、英字の「Ｃ」の一端と他端とが結合しておらず重なった螺旋構造を有するものも含む意である。さらに、後述する「ビシクロ分子」についての環についても、「環状分子」の「実質的に環状である」と同様に定義することができる。即ち、「ビシクロ分子」の一方の環又は双方の環は、英字の「Ｃ」のように、完全に閉環ではないものであってもよく、英字の「Ｃ」の一端と他端とが結合しておらず重なった螺旋構造を有するものであってもよい。
　ポリロタキサンの環状分子として例えば、種々のシクロデキストリン類（例えばα－シクロデキストリン、β－シクロデキストリン、γ－シクロデキストリン、ジメチルシクロデキストリン及びグルコシルシクロデキストリン、これらの誘導体又は変性体など）、クラウンエーテル類、ベンゾクラウン類、ジベンゾクラウン類、及びジシクロヘキサノクラウン類、並びにこれらの誘導体又は変性体を挙げることができる。
　上述のシクロデキストリン類及びクラウンエーテル類などは、その種類により環状分子の開口部の大きさが異なる。したがって、用いる直鎖状分子の種類、具体的には用いる直鎖状分子を円柱状と見立てた場合、その円柱の断面の直径、直鎖状分子の疎水性又は親水性などにより、用いる環状分子を選択することができる。また、開口部が相対的に大きな環状分子と、相対的に直径が小さな円柱状の直鎖状分子を用いた場合、環状分子の開口部に２以上の直鎖状分子を包接することもできる。
　環状分子としてα－シクロデキストリンを用いるのが好ましい。
　直鎖状分子に包接される環状分子の個数（包接量）は、環状分子がシクロデキストリンの場合、その最大包接量を１とすると、０．０５～０．６０が好ましく、０．１０～０．５０が更に好ましく、０．２０～０．４０が更に好ましい。０．０５未満では滑車効果が発現しないことがあり、０．６０を超えると、環状分子であるシクロデキストリンが密に配置され過ぎてシクロデキストリンの可動性が低下することがあり、またシクロデキストリン自体の有機溶剤に対する非溶解性が強化されてしまい、得られるポリロタキサンの有機溶剤への溶解性も低下することがある。
　ポリロタキサンの環状分子は、その環の外側に反応基を有するのが好ましい。環状分子同士を結合又は架橋する際、この反応基を用いて容易に反応を行うことができる。反応基は、用いる架橋剤などにも依存するが、例えば水酸基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基、アルデヒド基などを挙げることができる。また、上述のブロック化反応の際にブロック基と反応しない基を用いるのがよい。
＜ブロック基＞
　ポリロタキサンのブロック基は、環状分子が直鎖状分子により串刺し状になった形態を保持する基であれば、いかなる基を用いてもよい。このような基として、例えば「嵩高さ」を有する基及び／又は「イオン性」を有する基などを挙げることができる。ここで、「基」というのは、分子基及び高分子基を含めた種々の基を意味する。また、「イオン性」を有する基の「イオン性」と、環状分子の有する「イオン性」とが影響しあうことにより、例えば反発しあうことにより、環状分子が直鎖状分子により串刺し状になった形態を保持することができる。
　また、ポリロタキサンのブロック基は、上述のように、串刺し状になった形態を保持するものであれば、高分子の主鎖であっても側鎖であってもよい。
　具体的には、分子基のブロック基として、２，４－ジニトロフェニル基、３，５－ジニトロフェニル基などのジニトロフェニル基類、シクロデキストリン類、アダマンタン基類、トリチル基類、フルオレセイン類及びピレン類、並びにこれらの誘導体又は変性体を挙げることができる。より具体的には、環状分子としてα－シクロデキストリン、及び直鎖状分子としてポリエチレングリコールを用いる場合であっても、シクロデキストリン類、２，４－ジニトロフェニル基、３，５－ジニトロフェニル基などのジニトロフェニル基類、アダマンタン基類、トリチル基類、フルオレセイン類及びピレン類、並びにこれらの誘導体又は変性体を挙げることができる。
　次に本発明に好ましく用いることのできる変性ポリロタキサンについて説明する。本発明では以下に説明する変性を複数併用したポリロタキサンを好ましく用いることができる。
＜架橋ポリロタキサン＞
　架橋ポリロタキサンは、２つ以上のポリロタキサンがその環状分子同士が化学結合されている化合物をいい、この２つの環状分子は同じでも異なっていてもよい。この際、化学結合は、単なる結合であっても、種々の原子又は分子を介する結合であってもよい。
　また、環状分子が架橋環構造を有する分子、即ち第１の及び第２の環を有する「ビシクロ分子」を用いることができる。この場合、例えば「ビシクロ分子」と直鎖状分子とを混合し、「ビシクロ分子」の第１環及び第２環に直鎖状分子を串刺し状に包接して架橋ポリロタキサンを得ることができる。
　この架橋ポリロタキサンは直鎖状分子に串刺し状に貫通されている環状分子がこの直鎖状に沿って移動可能なために（滑車効果）、粘弾性を有し、張力が加わっても、この滑車効果によってこの張力を均一に分散させ、内部応力を緩和できる。
＜疎水化修飾ポリロタキサン＞
　ポリロタキサンの環状分子がα－シクロデキストリンなどのシクロデキストリン類である場合、本発明ではシクロデキストリンの水酸基の少なくとも一つが他の有機基（疎水基）によって置換された疎水化修飾ポリロタキサンは、衝撃吸収層形成組成物に含まれる溶剤への溶解性が向上するため、さらに好ましく用いられる。
　疎水基の具体例として、例えばアルキル基、ベンジル基、ベンゼン誘導体含有基、アシル基、シリル基、トリチル基、硝酸エステル基、トシル基、光硬化部位としてアルキル置換エチレン性不飽和基、熱硬化部位としてアルキル置換エポキシ基などを挙げることができるが、これに限定されるものではない。また、上記の疎水性修飾ポリロタキサンにおいては、上述の疎水基の１種を単独で又は２種以上を組み合わせて有していてもよい。
　上記疎水性修飾基による修飾度は、シクロデキストリンの水酸基が修飾され得る最大数を１とすると、０．０２以上（１以下）であることが好ましく、０．０４以上であることがより好ましく、０．０６以上であることが更に好ましい。
　０．０２未満であると、有機溶剤への溶解性が十分なものとならず、不溶性ブツ（異物付着などに由来する突起部）が生成することがある。
　ここで、シクロデキストリンの水酸基が修飾され得る最大数とは、換言すれば、修飾する前にシクロデキストリンが有していた全水酸基数のことである。修飾度とは、換言すれば、修飾された水酸基数の全水酸基数に対する比のことである。
　なお、疎水性修飾基は少なくとも１つでよいが、その場合、シクロデキストリン環１つに対して１つの疎水性修飾基を有するのが好ましい。
　また、官能基を有している疎水性修飾基を導入することにより、他のポリマーとの反応性を向上させることが可能になる。
　本発明の積層体が衝撃吸収層に回復性粒子を含む場合、回復性粒子の含有量は、衝撃吸収層の全固形分に対して３０質量％以下であることが好ましい。
　回復性粒子を含有する衝撃吸収層には、粒子の老化抑制剤が含有されていても良い。老化抑制剤としては、特に限定されず、例えば、アミン系老化防止物質、アミン－ケトン系老化防止物質、フェノール系老化防止物質、イミダゾール系老化防止物質、硫黄系老化防止物質、リン系老化防止物質などが挙げられる。具体的には、日本ゴム協会編「ゴム工業便覧＜第四版＞」の第４３６頁～第４４３頁に記載されているもの、アニリンとアセトンとの反応生成物（ＴＭＤＱ）、合成ワックス（パラフィンワックス等）、植物性ワックス等が挙げられる。
（衝撃吸収層の形成方法）
　衝撃吸収層の形成方法には特に限定はなく、たとえば、コーティング法、キャスト法（無溶剤キャスト法及び溶剤キャスト法）、プレス法、押出法、射出成形法、注型法又はインフレーション法等が挙げられる。詳細には、たとえば、衝撃吸収層の構成材料を溶媒に溶解又は分散させた液状物、又は衝撃吸収層の構成材料の溶融液を調製し、次いで、この液状物又は溶融液を後述の支持体の片方の面（機能層形成面とは反対の面）に塗布し、その後、必要により溶媒の除去等をすることにより、衝撃吸収層が積層された積層体を作製することができる。
　また、剥離処理が施された剥離シートの剥離処理面に上記液状物又は溶融液を塗布、乾燥し、衝撃吸収層を含むシートを形成し、このシートの衝撃吸収層を支持体と貼り合せることで、衝撃吸収層が積層された積層体を作製することもできる。
　衝撃吸収層が上述の樹脂で構成されている場合、衝撃吸収層は、架橋されていない樹脂により構成されていてもよいし、少なくとも一部が架橋された樹脂により構成されていてもよい。樹脂を架橋する方法については特に限定はなく、例えば、電子線照射、紫外線照射、及び架橋剤（例えば、有機過酸化物等）を用いる方法から選ばれる手段が挙げられる。樹脂の架橋を電子線照射により行う場合は、得られた衝撃吸収層（架橋前）に対し、電子線照射装置にて電子線を照射することにより、架橋を形成することができる。また、紫外線照射の場合は、得られた衝撃吸収層（架橋前）について、紫外線照射装置にて紫外線を照射することにより、必要に応じて配合された光増感剤の効果によって架橋を形成することができる。更に、架橋剤を用いる場合は、得られた衝撃吸収層（架橋前）について、通常、窒素雰囲気等、空気の存在しない雰囲気で加熱することにより、必要に応じて配合された有機過酸化物等の架橋剤、更には架橋助剤の効果によって架橋を形成することができる。
（膜厚）
　本発明の積層体が備える衝撃吸収層の膜厚は、機能層への他の物体の形状の転写の抑制の観点から、１μｍ以上であり、３μｍ以上であることが好ましく、５μｍ以上がより好ましく、１０μｍ以上が更に好ましい。また、膜硬度の観点から、２００μｍ以下であることが好ましく、１００μｍ以下であることがより好ましい。
（２）支持体
（支持体の材質）
　本発明に用いられる支持体（以下、樹脂フィルムともいう）の材質は、特に限定されない。
　支持体は透明であることが好ましい。なお、本明細書で透明であるとは、可視光の透過率が８０％以上であることをいい、好ましくは９０％以上である。
　樹脂フィルムは、例えば、アクリル系樹脂フィルム、ポリカーボネート（ＰＣ）系樹脂フィルム、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）系樹脂フィルム等のセルロースエステル系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）系樹脂フィルム、ポリオレフィン系樹脂フィルム、ポリエステル系樹脂フィルム、ポリイミド系樹脂フィルム、および、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体フィルムを挙げることができ、アクリル系樹脂フィルム、セルロースエステル系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタラート系樹脂フィルム、ポリイミド系樹脂フィルムおよびポリカーボネート系樹脂フィルムから選択されるフィルムが好ましい。
　透湿性の点から、セルロースエステル系樹脂フィルムがより好ましい。また、衝撃吸収性の観点から、ポリイミド系樹脂フィルムであることも好ましい。
　尚、アクリル系樹脂フィルムとは、アクリル酸エステルおよびメタクリル酸エステルからなる群から選択される１種以上の化合物から形成される重合体または共重合体の樹脂フィルムをいう。アクリル系樹脂フィルムの例としては、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）フィルムが挙げられる。
　キーボード写りを低減する観点から樹脂フィルムの引っ張り弾性率は３ＧＰａ以上が好ましく、３．５ＧＰａ以上がさらに好ましい。また、引っ張り強度を上げる観点から、樹脂の重量平均分子量は、１０，０００～１０００，０００が好ましく、１００，０００～１０００，０００がより好ましい。
（樹脂フィルムの構成）
　また、樹脂フィルムの構成も限定されず、単層でも、２層以上からなる積層フィルムであってもよい。２層以上の積層フィルムである場合、積層フィルムの積層数は、２～１０層が好ましく、２～５層がより好ましく、２層または３層がさらに好ましい。
　積層フィルムを作成する方法としては、同時に流延して作成してもよく、接着層を介して樹脂フィルム同士を貼り合わせてもよい。接着層としては、任意の適切な性質、形態および接着機構を有する接着剤を用いることができる。具体的には、接着剤として、例えば、水溶性接着剤、紫外線硬化型接着剤、エマルジョン型接着剤、ラテックス型接着剤、マスチック接着剤、複層接着剤、ペースト状接着剤、発泡型接着剤、サポーテッドフィルム接着剤、熱可塑型接着剤、熱溶融型（ホットメルト）接着剤、熱固化接着剤、熱活性接着剤、ヒートシール接着剤、熱硬化型接着剤、コンタクト型接着剤、感圧性接着剤（すなわち、粘着剤）、重合型接着剤、溶剤型接着剤、溶剤活性接着剤等が挙げられる。
　接着層を使用する場合、接着層の厚みは接着性の観点から５ｎｍ以上が好ましい。また、キーボード写り低減の観点から、１００μｍ以下が好ましく、５０μｍ以下がさらに好ましい。
　接着層を介して積層フィルムを作成する場合、樹脂フィルムの素材は同一でも互いに異なっていてもよい。
（添加剤）
　樹脂フィルムは、上述の樹脂の他に添加剤を含有してもよい。添加剤としては、後述のハードコート層の説明で記載する、無機粒子、マット粒子、紫外線吸収剤、含フッ素化合物、表面調整剤、レベリング剤等が挙げられる。
（支持体の厚み）
　支持体の膜厚としては、衝撃吸収性、落球耐性の観点から、４０μｍ以上であることが好ましく、６０μｍ以上であることがより好ましく、８０μｍ以上であることが特に好ましい。また、脆性の観点から、３００μｍ以下が好ましく、２００μｍ以下がさらに好ましい。
（支持体の剛性）
　支持体の剛性は、荷重に伴うキーボード写り、特にキーボード跡の転写及び凹みの発生を抑制する点から、５．０Ｎ・ｍｍ以上が好ましく、１０．０Ｎ・ｍｍ以上がより好ましく、２０Ｎ・ｍｍ以上がさらに好ましい。上限に特に制限はないが、７０Ｎ・ｍｍ以下が好ましく、２０Ｎ・ｍｍ以下がより好ましい。
（剛性の算出方法）
　支持体の剛性は、樹脂フィルム厚みｄＳ１、樹脂フィルム弾性率σＳ１を用い、下記式から算出した。
　　弾性率σ＝σＳ１×ｄＳ１／ｄＳ１
　　剛性＝σ×（ｄＳ１）３
　また、支持体が２層以上からなる積層体の場合、たとえば、２層からなる積層体の場合は、支持体の剛性は、樹脂フィルム１厚みｄＳ１、樹脂フィルム１弾性率σＳ１、樹脂フィルム２厚みｄＳ２、樹脂フィルム２弾性率σＳ２を用い、下記式から算出した。
　　合成弾性率σｓｙｎ＝（σＳ１ｄＳ１＋σＳ２ｄＳ２）／（ｄＳ１＋ｄＳ２）
　　剛性＝σｓｙｎ×（ｄＳ１＋ｄＳ２）３
　なお、各弾性率σＳ１、σＳ２は下記方法によって算出した。
（弾性率）
　超微小硬さ試験システム：ピコテンダー（フィッシャー社製）を用い、三角錐型ダイヤモンド圧子としてベルコビッチ型圧子（先端稜角１４２．３°）を用い、２５℃の条件下で、圧子を試料表面に直角に当て、徐々に荷重を印加し、最大荷重到達後に荷重を０にまで徐々に戻した。この時の最大荷重Ｐを圧子接触部の投影面積Ａで除した値Ｐ／Ａをナノインデンテーション硬度Ｈとして算出した。２５℃におけるナノインデンテーション弾性率σは、除荷曲線の傾きＳとしたとき、下記式を用いて算出した。下記式において、πは円周率を表す。
　　σ＝（Ｓ×√π）／（２√Ａ）
　原理の詳細は、Ｈａｎｄｂｏｏｋ　ｏｆ　Ｍｉｃｒｏ／ＮａｎｏＴｒｉｂｏｌｏｇｙ（ＢｈａｒａｔＢｈｕｓｈａｎ編ＣＲＣ）に記載されている。
　上記弾性率測定用試料は、以下の方法により作製した。
（弾性率測定用の試料）
各層の弾性率測定方法
　樹脂フィルム：ガラス板上に樹脂フィルムを接着剤にて固定し、測定用試料として用いた。
（樹脂フィルムの製膜方法）
　樹脂フィルムは、いずれの公知の方法で製膜してもよく、例えば溶融製膜法および溶液製膜法が挙げられる。
（３）機能層
　本発明の積層体は、機能層を有する。
　機能層としては、特に限定されるものではなく、たとえば、ハードコート層（ＨＣ層）、低屈折率層、高屈折率層、耐擦層、低反射率層、防汚層、無機酸化物層（ＡＲ層）、バリア層及びこれらの組み合わせなどが挙げられる。
機能層がＨＣ層である場合、本発明に用いられるＨＣ層は、ＨＣ層形成用硬化性組成物に活性エネルギー線を照射することにより硬化することで得ることができる。なお本明細書において、「活性エネルギー線」とは、電離放射線をいい、Ｘ線、紫外線、可視光、赤外線、電子線、α線、β線、γ線等が包含される。
　ＨＣ層の形成に用いられるＨＣ層形成用硬化性組成物は、活性エネルギー線の照射により硬化する性質を有する少なくとも一種の成分（以下、「活性エネルギー線硬化性成分」とも記載する。）を含む。活性エネルギー線硬化性成分としては、ラジカル重合性化合物およびカチオン重合性化合物からなる群から選択される少なくとも一種の重合性化合物が好ましい。なお本明細書において、「重合性化合物」とは、１分子中に１個以上の重合性基を含む化合物である。重合性基とは、重合反応に関与し得る基である。また、重合反応としては、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合等の各種重合反応を挙げることができる。
　本発明の積層体中のＨＣ層は、重合性化合物の硬化物を含むことが好ましい。
　重合性化合物としては、１分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物が好ましい。エチレン性不飽和基とは、エチレン性不飽和二重結合を含有する官能基をいう。１分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル〔例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４－シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３－シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート〕、上記のエステルのエチレンオキサイド変性体、ポリエチレンオキサイド変性体、カプロラクトン変性体、ビニルベンゼンおよびその誘導体〔例、１，４－ジビニルベンゼン、４－ビニル安息香酸－２－アクリロイルエチルエステル、１，４－ジビニルシクロヘキサノン〕、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。
　また、重合性化合物としては、カチオン重合性基を有する化合物であってもよい。カチオン重合性基としては、好ましくは、含酸素複素環基およびビニルエーテル基を挙げることができる。なおカチオン重合性化合物は、１分子中に、１個以上の含酸素複素環基と１個以上のビニルエーテル基を含んでいてもよい。
　含酸素複素環としては、単環であってもよく、縮合環であってもよい。また、ビシクロ骨格を有するものも好ましい。含酸素複素環は、非芳香族環であっても芳香族環であってもよく、非芳香族環であることが好ましい。単環の具体例としては、エポキシ環、テトラヒドロフラン環、オキセタン環を挙げることができる。また、ビシクロ骨格を有するものとしては、オキサビシクロ環を挙げることができる。なお含酸素複素環を含むカチオン重合性基は、１価の置換基として、または２価以上の多価置換基として、カチオン重合性化合物に含まれる。また、上記縮合環は、含酸素複素環の２個以上が縮合したものであっても、含酸素複素環の１個以上と含酸素複素環以外の環構造の１個以上が縮合したものであってもよい。上記の含酸素複素環以外の環構造としては、これらに限定されるものではないが、シクロヘキサン環等のシクロアルカン環を挙げることができる。
　重合性化合物としては、カチオン重合性基とラジカル重合性基（好ましくはエチレン性不飽和基）とを両方有する化合物であってもよい。
　カチオン重合性基として含酸素複素環を含むカチオン重合性化合物の具体例としては、例えば、３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート（株式会社ダイセル製サイクロマーＭ１００等の市販品）、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３’，４’－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（例えば、ユニオンカーバイド製ＵＶＲ６１０５、ＵＶＲ６１１０およびダイセル化学製ＣＥＬＬＯＸＩＤＥ２０２１等の市販品）、ビス（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート（例えば、ユニオンカーバイド製ＵＶＲ６１２８）、ビニルシクロヘキセンモノエポキサイド（例えば、ダイセル化学製ＣＥＬＬＯＸＩＤＥ２０００）、ε－カプロラクトン変性３，４－エポキシシクロヘキシルメチル３’，４’－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（例えば、ダイセル化学製ＣＥＬＬＯＸＩＤＥ２０８１）、１－メチル－４－（２－メチルオキシラニル）－７－オキサビシクロ［４，１，０］ヘプタン（例えば、ダイセル化学製ＣＥＬＬＯＸＩＤＥ３０００）、７，７’‐ジオキサ‐３，３’‐ビス［ビシクロ［４．１．０］ヘプタン］（例えば、ダイセル化学製ＣＥＬＬＯＸＩＤＥ８０００）、３－エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン、１，４ビス｛［（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシ］メチル｝ベンゼン、３－エチル－３－（フェノキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－（２－エチルヘキシロキシメチル）オキセタンおよびジ［１－エチル（３－オキセタニル）］メチルエーテル等を挙げることができる。
　ＨＣ層形成用硬化性組成物中の全固形分に対して、重合性化合物の含有量は、１５～９９質量％であることが好ましく、３０～９９質量％であることがより好ましい。なお、固形分とは溶媒以外の成分を表す。
　本発明に用いられるＨＣ層は、下記のように、１層構造でも２層以上の積層構造であってもよい。
１）１層構造
　１層構造のＨＣ層形成用硬化性組成物の好ましい態様としては、第一の態様として、１分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物を少なくとも一種含むＨＣ層形成用硬化性組成物を挙げることができる。エチレン性不飽和基とは、エチレン性不飽和二重結合を含有する官能基をいう。また、第二の態様として、少なくとも一種のラジカル重合性化合物と少なくとも一種のカチオン重合性化合物を含むＨＣ層形成用硬化性組成物を挙げることができる。
　以下、第一の態様のＨＣ層形成用硬化性組成物について説明する。
　第一の態様のＨＣ層形成用硬化性組成物に含まれる１分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル〔例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４－シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３－シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート〕、上記のエステルのエチレンオキサイド変性体、ポリエチレンオキサイド変性体やカプロラクトン変性体、ビニルベンゼンおよびその誘導体〔例、１，４－ジビニルベンゼン、４－ビニル安息香酸－２－アクリロイルエチルエステル、１，４－ジビニルシクロヘキサノン〕、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。
　エチレン性不飽和基を有する重合性化合物の重合は、ラジカル光重合開始剤の存在下、活性エネルギー線の照射により行うことができる。ラジカル光重合開始剤としては、後述するラジカル光重合開始剤が好ましく適用される。また、ＨＣ層形成用硬化性組成物中の、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物に対するラジカル光重合開始剤の含有量比については、後述するラジカル重合性化合物に対するラジカル光重合開始剤の含有量比の記載が好ましく適用される。
　次に、第二の態様のＨＣ層形成用硬化性組成物について説明する。
　第二の態様のＨＣ層形成用硬化性組成物は、少なくとも一種のラジカル重合性化合物と少なくとも一種のカチオン重合性化合物を含む。好ましい態様としては、
　アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含むラジカル重合性化合物と；
　カチオン重合性化合物と；
を含むＨＣ層形成用硬化性組成物を挙げることができる。
　上記ＨＣ層形成用硬化性組成物は、ラジカル光重合開始剤とカチオン光重合開始剤とを含むことがより好ましい。第二の態様の好ましい一態様としては、
　アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含むラジカル重合性化合物と；
　カチオン重合性化合物と；
　ラジカル光重合開始剤と；
　カチオン光重合開始剤と；
を含むＨＣ層形成用硬化性組成物を挙げることができる。以下において、本態様を、第二の態様（１）と記載する。
　第二の態様（１）において、上記のラジカル重合性化合物は、１分子中に２個以上のラジカル重合性基とともに、１分子中に１個以上のウレタン結合を含むことが好ましい。
　第二の態様の他の好ましい一態様では、
ａ）脂環式エポキシ基およびエチレン性不飽和基を含み、１分子中に含まれる脂環式エポキシ基の数が１個であり、かつ１分子中に含まれるエチレン性不飽和基の数が１個であり、分子量が３００以下であるカチオン重合性化合物と；
ｂ）１分子中に３個以上のエチレン性不飽和基を含むラジカル重合性化合物と；
ｃ）ラジカル重合開始剤と；
ｄ）カチオン重合開始剤と；
を含むＨＣ層形成用硬化性組成物を挙げることができる。以下において、本態様を、第二の態様（２）と記載する。第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層は、好ましくは、ＨＣ層の全固形分を１００質量％とした場合に、上記ａ）由来の構造を１５～７０質量％、上記ｂ）由来の構造を２５～８０質量％、上記ｃ）を０．１～１０質量％、上記ｄ）を０．１～１０質量％含むことができる。また、一態様では、第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物は、このＨＣ層形成用硬化性組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、上記ａ）を１５～７０質量％含むことが好ましい。なお、「脂環式エポキシ基」とは、エポキシ環と飽和炭化水素環とが縮合した環状構造を有する１価の官能基をいうものとする。
　以下、第二の態様、好ましくは第二の態様（１）または第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物に含まれ得る各種成分について、更に詳細に説明する。
－ラジカル重合性化合物－
　第二の態様のＨＣ層形成用硬化性組成物は、少なくとも一種のラジカル重合性化合物と少なくとも一種のカチオン重合性化合物を含む。第二の態様（１）におけるラジカル重合性化合物は、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含む。上記ラジカル重合性化合物は、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を、１分子中に、好ましくは例えば２～１０個含むことができ、より好ましくは２～６個含むことができる。
　上記ラジカル重合性化合物としては、分子量が２００以上１０００未満のラジカル重合性化合物が好ましい。なお本発明および本明細書において「分子量」とは、多量体については、ゲル浸透クロマトグラフィー（Ｇｅｌ　Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ　Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ；ＧＰＣ）によりポリスチレン換算で測定される重量平均分子量をいうものとする。重量平均分子量の具体的な測定条件の一例としては、以下の測定条件を挙げることができる。
ＧＰＣ装置：ＨＬＣ－８１２０（東ソー社製）
カラム：ＴＳＫ　ｇｅｌ　Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ　ＨＸＬ－Ｍ（東ソー社製、内径７．８ｍｍ×カラム長３０．０ｃｍ）
溶離液：テトラヒドロフラン
　上記ラジカル重合性化合物は、前述の通り、１分子中に１個以上のウレタン結合を含むことが好ましい。上記ラジカル重合性化合物の１分子中に含まれるウレタン結合の数は、好ましくは１個以上であり、より好ましくは２個以上であり、より好ましくは２～５個であり、例えば２個であることができる。なお１分子中にウレタン結合を２個含むラジカル重合性化合物において、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基は、一方のウレタン結合のみに直接または連結基を介して結合していてもよく、２個のウレタン結合にそれぞれ直接または連結基を介して結合していてもよい。一態様では、連結基を介して結合している２個のウレタン結合に、それぞれアクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基が１個以上結合していることが、好ましい。
　より詳しくは、上記ラジカル重合性化合物において、ウレタン結合とアクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基は直接結合していてもよく、ウレタン結合とアクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基との間に連結基が存在していてもよい。連結基としては、特に限定されるものではなく、直鎖または分岐の飽和または不飽和の炭化水素基、環状基、およびこれらの２つ以上の組み合わせからなる基、等を挙げることができる。上記炭化水素基の炭素数は、例えば２～２０程度であるが、特に限定されるものではなない。また、環状基に含まれる環状構造としては、一例として、脂肪族環（シクロヘキサン環など）、芳香族環（ベンゼン環、ナフタレン環など）、などが挙げられる。上記の基は、無置換であっても置換基を有していてもよい。なお、本発明および本明細書において、特記しない限り、記載されている基は置換基を有してもよく無置換であってもよい。ある基が置換基を有する場合、置換基としては、アルキル基（例えば炭素数１～６のアルキル基）、水酸基、アルコキシ基（例えば炭素数１～６のアルコキシ基）、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子）、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、アシル基、カルボキシ基等を挙げることができる。
　以上説明したラジカル重合性化合物は、公知の方法で合成することができる。また、市販品として入手することも可能である。例えば、合成方法の一例としては、アルコール、ポリオール、および／または水酸基含有（メタ）アクリル酸等の水酸基含有化合物とイソシアネートを反応させ、または必要に応じて、上記反応によって得られたウレタン化合物を（メタ）アクリル酸でエステル化する方法を挙げることができる。なお「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸とメタクリル酸の一方または両方を意味するものとする。
　上記の１分子中に１個以上のウレタン結合を含むラジカル重合性化合物の市販品としては、下記のものに限定されるものではないが、例えば、共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－５１０Ｈ、ＵＦ－８００１Ｇ、ＵＡ－１０１Ｉ、ＵＡ－１０１Ｔ、ＡＴ－６００、ＡＨ－６００、ＡＩ－６００、ＢＰＺＡ－６６、ＢＰＺＡ－１００、新中村化学社製Ｕ－４ＨＡ、Ｕ－６ＨＡ、Ｕ－６ＬＰＡ、ＵＡ－３２Ｐ、Ｕ－１５ＨＡ、ＵＡ－１１００Ｈ、日本合成化学工業社製紫光ＵＶ－１４００Ｂ、同ＵＶ－１７００Ｂ、同ＵＶ－６３００Ｂ、同ＵＶ－７５５０Ｂ、同ＵＶ－７６００Ｂ、同ＵＶ－７６０５Ｂ、同ＵＶ－７６１０Ｂ、同ＵＶ－７６２０ＥＡ、同ＵＶ－７６３０Ｂ、同ＵＶ－７６４０Ｂ、同ＵＶ－６６３０Ｂ、同ＵＶ－７０００Ｂ、同ＵＶ－７５１０Ｂ、同ＵＶ－７４６１ＴＥ、同ＵＶ－３０００Ｂ、同ＵＶ－３２００Ｂ、同ＵＶ－３２１０ＥＡ、同ＵＶ－３３１０ＥＡ、同ＵＶ－３３１０Ｂ、同ＵＶ－３５００ＢＡ、同ＵＶ－３５２０ＴＬ、同ＵＶ－３７００Ｂ、同ＵＶ－６１００Ｂ、同ＵＶ－６６４０Ｂ、同ＵＶ－２０００Ｂ、同ＵＶ－２０１０Ｂ、同ＵＶ－２２５０ＥＡを挙げることができる。また、日本合成化学工業社製紫光ＵＶ－２７５０Ｂ、共栄社化学社製ＵＬ－５０３ＬＮ、大日本インキ化学工業社製ユニディック１７－８０６、同１７－８１３、同Ｖ－４０３０、同Ｖ－４０００ＢＡ、ダイセルＵＣＢ社製ＥＢ－１２９０Ｋ、トクシキ製ハイコープＡＵ－２０１０、同ＡＵ－２０２０等も挙げられる。
　以下に、上記の１分子中に１個以上のウレタン結合を含むラジカル重合性化合物の具体例を以下に示すが、本発明は下記具体例に限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　以上、１分子中に１個以上のウレタン結合を含むラジカル重合性化合物について説明したが、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含むラジカル重合性化合物は、ウレタン結合を有さないものであってもよい。また、第二の態様（１）のＨＣ層形成用硬化性組成物は、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含むラジカル重合性化合物に加えて、かかるラジカル重合性化合物以外のラジカル重合性化合物の一種以上を含んでいてもよい。
　以下において、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含み、かつウレタン結合を１分子中に１個以上含むラジカル重合性化合物を、第一のラジカル重合性化合物と記載し、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含むか否かに関わらず、第一のラジカル重合性化合物に当てはまらないラジカル重合性化合物を「第二のラジカル重合性化合物」と記載する。第二のラジカル重合性化合物は、ウレタン結合を１分子中に１個以上有していてもよく、有さなくてもよい。第一のラジカル重合性化合物と第二のラジカル重合性化合物とを併用する場合、それらの質量比は、第一のラジカル重合性化合物／第二のラジカル重合性化合物＝３／１～１／３０であることが好ましく、２／１～１／２０であることがより好ましく、１／１～１／１０であることが更に好ましい。
　第二の態様（１）のＨＣ層形成用硬化性組成物のアクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含むラジカル重合性化合物（ウレタン結合の有無を問わない）の含有量は、組成物全量１００質量％に対して、好ましくは３０質量％以上であり、より好ましくは５０質量％以上であり、更に好ましくは７０質量％以上である。また、第二の態様（１）のＨＣ層形成用硬化性組成物のアクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含むラジカル重合性化合物（ウレタン結合の有無を問わない）の含有量は、組成物全量１００質量％に対して、好ましくは９８質量％以下であり、より好ましくは９５質量％以下であり、更に好ましくは９０質量％以下である。
　また、第二の態様（１）のＨＣ層形成用硬化性組成物の第一のラジカル重合性化合物の含有量は、組成物全量１００質量％に対して、好ましくは３０質量％以上であり、より好ましくは５０質量％以上であり、更に好ましくは７０質量％以上である。一方、第一のラジカル重合性化合物の含有量は、組成物全量１００質量％に対して、９８質量％以下であることが好ましく、９５質量％以下であることがより好ましく、９０質量％以下であることが更に好ましい。
　第二のラジカル重合性化合物は、一態様では、好ましくは、ラジカル重合性基を１分子中に２個以上含み、ウレタン結合を持たないラジカル重合性化合物である。第二のラジカル重合性化合物に含まれるラジカル重合性基は、好ましくはエチレン性不飽和基であり、一態様では、ビニル基が好ましい。他の一態様では、エチレン性不飽和基は、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基であることが好ましい。即ち、第二のラジカル重合性化合物は、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に１個以上有し、かつウレタン結合を持たないことも好ましい。また、第二のラジカル重合性化合物は、ラジカル重合性化合物として、一分子中に、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基の１個以上と、これら以外のラジカル重合性基の１個以上と、含むこともできる。
　第二のラジカル重合性化合物の１分子中に含まれるラジカル重合性基の数は、好ましくは、少なくとも２個であり、より好ましくは３個以上であり、更に好ましくは４個以上である。また、第二のラジカル重合性化合物の１分子中に含まれるラジカル重合性基の数は、一態様では、例えば１０個以下であるが、１０個超であってもよい。また、第二のラジカル重合性化合物としては、分子量が２００以上１０００未満のラジカル重合性化合物が好ましい。
　第二のラジカル重合性化合物としては、例えば以下のものを例示できる。ただし本発明は、下記例示化合物に限定されるものではない。
　例えば、ポリエチレングリコール２００ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール３００ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール４００ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール６００ジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性エチレングリコールジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば長瀬産業製デナコールＤＡ－８１１等）、ポリプロピレングリコール２００ジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール４００ジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール７００ジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド（ＥＯ；Ｅｔｈｙｌｅｎｅ　Ｏｘｉｄｅ）・プロピレンオキシド（ＰＯ；Ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ　Ｏｘｉｄｅ）ブロックポリエーテルジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば日本油脂製ブレンマーＰＥＴシリーズ等）、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ　ＥＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東亜合成製Ｍ－２１０、新中村化学工業製ＮＫエステルＡ－ＢＰＥ－２０等）、水添ビスフェノールＡ　ＥＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（新中村化学工業製ＮＫエステルＡ－ＨＰＥ－４等）、ビスフェノールＡ　ＰＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば共栄社化学製ライトアクリレートＢＰ－４ＰＡ等）、ビスフェノールＡ　エピクロルヒドリン付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えばダイセルＵＣＢ製エベクリル１５０等）、ビスフェノールＡ　ＥＯ・ＰＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東邦化学工業製ＢＰ－０２３－ＰＥ等）、ビスフェノールＦ　ＥＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東亜合成製アロニックスＭ－２０８等）、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、およびそのエピクロルヒドリン変性品、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、およびそのカプロラクトン変性品、１，４－　ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート、トリメチロールプロパンアクリル酸・安息香酸エステル、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東亜合成製アロニックスＭ－２１５等）等の２官能（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
　また、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東亜合成製アロニックスＭ－３１５等）、トリス（メタ）アクリロイルオキシエチルフォスフェート、フタル酸水素－（２，２，２－トリ－（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチル、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品等の３官能（メタ）アクリレート化合物；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の４官能（メタ）アクリレート化合物；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル変性品等の５官能（メタ）アクリレート化合物；ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル変性品、ソルビトールヘキサ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル変性品等の６官能（メタ）アクリレートが挙げられる。
　第二のラジカル重合性化合物は２種以上併用してもよい。この場合、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物“ＤＰＨＡ”（日本化薬製）などを好ましく用いることができる。
　また、第二のラジカル重合性化合物として、重量平均分子量が２００以上１０００未満のポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレートも好ましい。市販品では、ポリエステル（メタ）アクリレートとして、荒川化学工業製の商品名ビームセット７００シリーズ、例えばビームセット７００（６官能）、ビームセット７１０（４官能）、ビームセット７２０（３官能）等が挙げられる。また、エポキシ（メタ）アクリレートとしては、昭和高分子製の商品名ＳＰシリーズ、例えばＳＰ－１５０６、５００、ＳＰ－１５０７、４８０、ＶＲシリーズ、例えばＶＲ－７７、新中村化学工業製商品名ＥＡ－１０１０／ＥＣＡ、ＥＡ－１１０２０、ＥＡ－１０２５、ＥＡ－６３１０／ＥＣＡ等が挙げられる。
　また、第二のラジカル重合性化合物の具体例としては、下記化合物を挙げることもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　第二の態様の好ましい一態様である第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物は、ｂ）１分子中に３個以上のエチレン性不飽和基を含むラジカル重合性化合物を含む。ｂ）１分子中に３個以上のエチレン性不飽和基を含む化合物を、以下において「ｂ）成分」とも記載する。
　ｂ）成分としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル、ビニルベンゼンおよびその誘導体、ビニルスルホン、（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。中でも、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に３個以上含むラジカル重合性化合物が好ましい。具体例としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステルであって、１分子中に３個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物を挙げることができる。より詳しくは、例えば、（ジ）ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３－シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレート、１，２，４－シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、等が挙げられる。なお上記の「（ジ）ペンタエリスリトール」とは、ペンタエリスリトールとジペンタエリスリトールの一方または両方の意味で用いられる。
　更に、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に３個以上含む樹脂も好ましい。
　アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に３個以上含む樹脂としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、スピロアセタール系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ポリチオールポリエン系樹脂、多価アルコール等の多官能化合物等の重合体等も挙げられる。
　アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に３個以上含むラジカル重合性化合物の具体例としては、特開２００７－２５６８４４号公報段落００９６に示されている例示化合物等を挙げることができる。
　更に、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に３個以上含むラジカル重合性化合物の具体例としては、日本化薬製ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ、同ＤＰＨＡ－２Ｃ、同ＰＥＴ－３０、同ＴＭＰＴＡ、同ＴＰＡ－３２０、同ＴＰＡ－３３０、同ＲＰ－１０４０、同Ｔ－１４２０、同Ｄ－３１０、同ＤＰＣＡ－２０、同ＤＰＣＡ－３０、同ＤＰＣＡ－６０、同ＧＰＯ－３０３、大阪有機化学工業製Ｖ＃４００、Ｖ＃３６０９５Ｄ等のポリオールと（メタ）アクリル酸のエステル化物を挙げることができる。また紫光ＵＶ－１４００Ｂ、同ＵＶ－１７００Ｂ、同ＵＶ－６３００Ｂ、同ＵＶ－７５５０Ｂ、同ＵＶ－７６００Ｂ、同ＵＶ－７６０５Ｂ、同ＵＶ－７６１０Ｂ、同ＵＶ－７６２０ＥＡ、同ＵＶ－７６３０Ｂ、同ＵＶ－７６４０Ｂ、同ＵＶ－６６３０Ｂ、同ＵＶ－７０００Ｂ、同ＵＶ－７５１０Ｂ、同ＵＶ－７４６１ＴＥ、同ＵＶ－３０００Ｂ、同ＵＶ－３２００Ｂ、同ＵＶ－３２１０ＥＡ、同ＵＶ－３３１０ＥＡ、同ＵＶ－３３１０Ｂ、同ＵＶ－３５００ＢＡ、同ＵＶ－３５２０ＴＬ、同ＵＶ－３７００Ｂ、同ＵＶ－６１００Ｂ、同ＵＶ－６６４０Ｂ、同ＵＶ－２０００Ｂ、同ＵＶ－２０１０Ｂ、同ＵＶ－２２５０ＥＡ、同ＵＶ－２７５０Ｂ（日本合成化学製）、ＵＬ－５０３ＬＮ（共栄社化学製）、ユニディック１７－８０６、同１７－８１３、同Ｖ－４０３０、同Ｖ－４０００ＢＡ（大日本インキ化学工業製）、ＥＢ－１２９０Ｋ、ＥＢ－２２０、ＥＢ－５１２９、ＥＢ－１８３０，ＥＢ－４３５８（ダイセルＵＣＢ製）、ハイコープＡＵ－２０１０、同ＡＵ－２０２０（（株）トクシキ製）、アロニックスＭ－１９６０（東亜合成製）、アートレジンＵＮ－３３２０ＨＡ、ＵＮ－３３２０ＨＣ、ＵＮ－３３２０ＨＳ、ＵＮ－９０４、ＨＤＰ－４Ｔ等の３官能以上のウレタンアクリレート化合物、アロニックスＭ－８１００、Ｍ－８０３０、Ｍ－９０５０（東亜合成製）、ＫＢＭ－８３０７（ダイセルサイテック製）の３官能以上のポリエステル化合物なども好適に使用することができる。
　また、ｂ）成分としては、一種のみ用いてもよく、構造の異なる二種以上を併用してもよい。
　前述の通り、第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層は、好ましくは、ＨＣ層の全固形分を１００質量％とした場合に、上記ａ）由来の構造を１５～７０質量％、上記ｂ）由来の構造を２５～８０質量％、上記ｃ）を０．１～１０質量％、上記ｄ）を０．１～１０質量％含むことができる。ｂ）由来の構造は、ＨＣ層の全固形分を１００質量％とした場合に、４０～７５質量％含有されることが好ましく、６０～７５質量％含有されることがより好ましい。また、第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物は、このＨＣ層形成用硬化性組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、ｂ）成分を４０～７５質量％含むことが好ましく、６０～７５質量％含むことがより好ましい。
－カチオン重合性化合物－
　第二の態様のＨＣ層形成用硬化性組成物は、少なくとも一種のラジカル重合性化合物と少なくとも一種のカチオン重合性化合物を含むことが好ましい。カチオン重合性化合物としては、カチオン重合可能な重合性基（カチオン重合性基）を有するものであれば、何ら制限なく用いることができる。また、１分子中に含まれるカチオン重合性基の数は、少なくとも１個である。カチオン重合性化合物は、カチオン重合性基を１分子中に１個含む単官能化合物であっても、２個以上含む多官能化合物であってもよい。多官能化合物に含まれるカチオン重合性基の数は、特に限定されるものではないが、例えば１分子中に２～６個である。また、多官能化合物の１分子中に２個以上含まれるカチオン重合性基は、同一であってもよく、構造が異なる二種以上であってもよい。
　また、カチオン重合性化合物は、一態様では、カチオン重合性基とともに、１分子中に１個以上のラジカル重合性基を有することも好ましい。そのようなカチオン重合性化合物が有するラジカル重合性基については、ラジカル重合性化合物についての上述の記載を参照できる。好ましくは、エチレン性不飽和基であり、エチレン性不飽和基は、より好ましくは、ビニル基、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基である。ラジカル重合性基を有するカチオン重合性化合物の１分子中のラジカル重合性基の数は、少なくとも１個であり、１～３個であることが好ましく、１個であることがより好ましい。
　カチオン重合性基としては、好ましくは、含酸素複素環基およびビニルエーテル基を挙げることができる。なおカチオン重合性化合物は、１分子中に、１個以上の含酸素複素環基と１個以上のビニルエーテル基を含んでいてもよい。
　含酸素複素環としては、単環であってもよく、縮合環であってもよい。また、ビシクロ骨格を有するものも好ましい。含酸素複素環は、非芳香族環であっても芳香族環であってもよく、非芳香族環であることが好ましい。単環の具体例としては、エポキシ環、テトラヒドロフラン環、オキセタン環を挙げることができる。また、ビシクロ骨格を有するものとしては、オキサビシクロ環を挙げることができる。なお含酸素複素環を含むカチオン重合性基は、１価の置換基として、または２価以上の多価置換基として、カチオン重合性化合物に含まれる。また、上記縮合環は、含酸素複素環の２個以上が縮合したものであっても、含酸素複素環の１個以上と含酸素複素環以外の環構造の１個以上が縮合したものであってもよい。上記の含酸素複素環以外の環構造としては、これらに限定されるものではないが、シクロヘキサン環等のシクロアルカン環を挙げることができる。
　以下に、含酸素複素環の具体例を示す。ただし、本発明は、下記具体例に限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　カチオン重合性化合物には、カチオン重合性基以外の部分構造が含まれていてもよい。そのような部分構造は、特に限定されるものではなく、直鎖構造であっても、分岐構造であっても、環状構造であってもよい。これら部分構造には、酸素原子、窒素原子等のヘテロ原子が１個以上含まれていてもよい。
　カチオン重合性化合物の好ましい一態様としては、カチオン重合性基として、またはカチオン重合性基以外の部分構造として、環状構造を含む化合物（環状構造含有化合物）を挙げることができる。環状構造含有化合物に含まれる環状構造は、１分子中に、例えば１個であり、２個以上であってもよい。環状構造含有化合物に含まれる環状構造の数は、１分子中に、例えば１～５個であるが、特に限定されるものではない。１分子中に２個以上の環状構造を含む化合物は、同一の環状構造を含んでいてもよく、構造の異なる二種以上の環状構造を含んでいてもよい。
　上記環状構造含有化合物に含まれる環状構造の一例としては、含酸素複素環を挙げることができる。その詳細は、先に記載した通りである。
　カチオン重合性化合物の１分子中に含まれるカチオン重合性基の数（以下、「Ｃ」と記載する。）によって分子量（以下、「Ｂ」と記載する。）を除して求められるカチオン重合性基当量（＝Ｂ／Ｃ）は、例えば３００以下であり、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層と樹脂フィルムとの密着性向上の観点からは、１５０未満であることが好ましい。一方、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層の吸湿性の観点からは、カチオン重合性基当量は、５０以上であることが好ましい。また、一態様では、カチオン重合性基当量を求めるカチオン重合性化合物に含まれるカチオン重合性基は、エポキシ基（エポキシ環）であることができる。即ち、一態様では、カチオン重合性化合物は、エポキシ環含有化合物である。エポキシ環含有化合物は、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層と樹脂フィルムとの密着性向上の観点からは、１分子中に含まれるエポキシ環の数によって分子量を除して求められるエポキシ基当量が、１５０未満であることが好ましい。また、エポキシ環含有化合物のエポキシ基当量は、例えば５０以上である。
　また、カチオン重合性化合物の分子量は５００以下であることが好ましく、３００以下であることが更に好ましい。上記範囲の分子量を有するカチオン重合性化合物は、樹脂フィルムへ浸透しやすい傾向があり、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層と樹脂フィルムとの密着性向上に寄与することができると推察している。
　第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物は、ａ）脂環式エポキシ基およびエチレン性不飽和基を含み、１分子中に含まれる脂環式エポキシ基の数が１個であり、かつ１分子中に含まれるエチレン性不飽和基の数が１個であり、分子量が３００以下であるカチオン重合性化合物を含む。以下において、上記ａ）を、「ａ）成分」と記載する。
　エチレン性不飽和基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等を含むラジカル重合性基が挙げられ、中でも、アクリロイル基、メタクリロイル基およびＣ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２が好ましく、アクリロイル基およびメタクリロイル基がより好ましい。１分子中の脂環式エポキシ基とエチレン性不飽和基の数は、それぞれ１個であることが好ましい。
　ａ）成分の分子量は、３００以下であり、２１０以下であることが好ましく、２００以下であることがより好ましい。
　ａ）成分の好ましい一態様としては、下記一般式（１）で表される化合物を挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　一般式（１）中、Ｒは単環式炭化水素または架橋炭化水素を表し、Ｌは単結合または２価の連結基を表し、Ｑはエチレン性不飽和基を表す。
　一般式（１）中のＲが単環式炭化水素の場合、単環式炭化水素は脂環式炭化水素であることが好ましく、中でも炭素数４～１０の脂環基であることがより好ましく、炭素数５～７個の脂環基であることが更に好ましく、炭素数６個の脂環基であることが特に好ましい。好ましい具体例としては、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基を挙げることができ、シクロヘキシル基がより好ましい。
　一般式（１）中のＲが架橋炭化水素の場合、架橋炭化水素は、２環系架橋炭化水素（ビシクロ環）、３環系架橋炭化水素（トリシクロ環）が好ましい。具体例としては、炭素数５～２０個の架橋炭化水素が挙げられ、例えば、ノルボルニル基、ボルニル基、イソボルニル基、トリシクロデシル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンタニル基、トリシクロペンテニル基、トリシクロペンタニル基、アダマンチル基、低級（例えば炭素数１～６）アルキル基置換アダマンチル基等が挙げられる。
　Ｌが２価の連結基を表す場合、２価の連結基は、２価の脂肪族炭化水素基が好ましい。２価の脂肪族炭化水素基の炭素数は、１～６の範囲であることが好ましく、１～３の範囲であることがより好ましく、１であることが更に好ましい。２価の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基が好ましく、直鎖状または分岐状のアルキレン基がより好ましく、直鎖状のアルキレン基が更に好ましい。
　Ｑとしては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等を含むエチレン性不飽和基が挙げられ、中でも、アクリロイル基、メタクリロイル基およびＣ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２が好ましく、アクリロイル基およびメタクリロイル基がより好ましい。
　ａ）成分の具体例としては、特開平１０－１７６１４号公報段落００１５に例示されている各種化合物、下記一般式（１Ａ）または（１Ｂ）で表される化合物、１，２－エポキシ－４－ビニルシクロヘキサン等を挙げることができる。中でも、下記一般式（１Ａ）または（１Ｂ）で表される化合物がより好ましい。なお、下記一般式（１Ａ）で表される化合物は、その異性体も好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　一般式（１Ａ）、（１Ｂ）中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表し、Ｌ２は炭素数１～６の２価の脂肪族炭化水素基を表す。
　一般式（１Ａ）および（１Ｂ）中のＬ２で表される２価の脂肪族炭化水素基の炭素数は、１～６の範囲であり、１～３の範囲であることがより好ましく、炭素数１であることが更に好ましい。２価の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基が好ましく、直鎖状または分岐状のアルキレン基がより好ましく、直鎖状のアルキレン基が更に好ましい。
　第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層は、好ましくは、ＨＣ層の全固形分を１００質量％とした場合に、上記ａ）由来の構造を１５～７０質量％含むことが好ましく、１８～５０質量％含むことがより好ましく、２２～４０質量％含むことが更に好ましい。また、第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物は、ａ）成分を、ＨＣ層形成用硬化性組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、１５～７０質量％含むことが好ましく、１８～５０質量％含むことがより好ましく、２２～４０質量％含むことが更に好ましい。
　上記環状構造含有化合物に含まれる環状構造の他の一例としては、含窒素複素環を挙げることができる。含窒素複素環含有化合物は、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層と樹脂フィルムとの密着性向上の観点から好ましいカチオン重合性化合物である。含窒素複素環含有化合物としては、イソシアヌレート環およびグリコールウリル環からなる群から選ばれる含窒素複素環を１分子中に１個以上有する化合物が好ましい。中でも、イソシアヌレート環を含む化合物（イソシアヌレート環含有化合物）は、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層と樹脂フィルムとの密着性向上の観点から、より好ましいカチオン重合性化合物である。これは、イソシアヌレート環が樹脂フィルムを構成する樹脂との親和性に優れるためと、本発明者らは推察している。この点からは、アクリル系樹脂フィルムを含む樹脂フィルムがより好ましく、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層と直接接する表面がアクリル系樹脂フィルム表面であることが更に好ましい。
　また、上記環状構造含有化合物に含まれる環状構造の他の一例としては、脂環構造を挙げることができる。脂環構造としては、例えば、シクロ環、ジシクロ環、トリシクロ環構造を挙げることができ、具体例としては、ジシクロペンタニル環、シクロヘキサン環等を挙げることができる。
　以上説明したカチオン重合性化合物は、公知の方法で合成することができる。また、市販品として入手することも可能である。
　カチオン重合性基として含酸素複素環を含むカチオン重合性化合物の具体例としては、例えば、３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート（株式会社ダイセル製サイクロマーＭ１００等の市販品）、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３’，４’－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（例えば、ユニオンカーバイド製ＵＶＲ６１０５、ＵＶＲ６１１０およびダイセル化学製ＣＥＬＬＯＸＩＤＥ２０２１等の市販品）、ビス（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート（例えば、ユニオンカーバイド製ＵＶＲ６１２８）、ビニルシクロヘキセンモノエポキサイド（例えば、ダイセル化学製ＣＥＬＬＯＸＩＤＥ２０００）、ε－カプロラクトン変性３，４－エポキシシクロヘキシルメチル３’，４’－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（例えば、ダイセル化学製ＣＥＬＬＯＸＩＤＥ２０８１）、１－メチル－４－（２－メチルオキシラニル）－７－オキサビシクロ［４，１，０］ヘプタン（例えば、ダイセル化学製ＣＥＬＬＯＸＩＤＥ３０００）、７，７’‐ジオキサ‐３，３’‐ビス［ビシクロ［４．１．０］ヘプタン］（例えば、ダイセル化学製ＣＥＬＬＯＸＩＤＥ８０００）、３－エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン、１，４ビス｛［（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシ］メチル｝ベンゼン、３－エチル－３－（フェノキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－（２－エチルヘキシロキシメチル）オキセタンおよびジ［１－エチル（３－オキセタニル）］メチルエーテル等を挙げることができる。
　また、カチオン重合性基としてビニルエーテル基を含むカチオン重合性化合物の具体例としては、１，４－ブタンジオールジビニルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジビニルエーテル、ノナンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル等が挙げられる。ビニルエーテル基を含むカチオン重合性化合物としては、脂環構造を有するものも好ましい。
　更に、カチオン重合性化合物としては、特開平８－１４３８０６号公報、特開平８－２８３３２０号公報、特開２０００－１８６０７９号公報、特開２０００－３２７６７２号公報、特開２００４－３１５７７８号公報、特開２００５－２９６３２号公報等に例示されている化合物を用いることもできる。
　以下に、カチオン重合性化合物の具体例として以下に例示化合物を示すが、本発明は下記具体例に限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　また、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層と樹脂フィルムとの密着性向上の観点からは、ＨＣ層形成用硬化性組成物の好ましい態様としては、下記態様を挙げることができる。下記態様の１つ以上を満たすことがより好ましく、２つ以上を満たすことが更に好ましく、３つ以上を満たすことがいっそう好ましく、すべて満たすことがよりいっそう好ましい。なお１つのカチオン重合性化合物が、複数の態様を満たすことも好ましい。例えば、含窒素複素環含有化合物が、カチオン重合性基当量１５０未満であること等を、好ましい態様として例示できる。
（１）カチオン重合性化合物として、含窒素複素環含有化合物を含む。好ましくは、含窒素複素環含有化合物が有する含窒素複素環は、イソシアヌレート環およびグリコールウリル環からなる群から選択される。含窒素複素環含有化合物は、より好ましくは、イソシアヌレート環含有化合物である。更に好ましくは、イソシアヌレート環含有化合物は、１分子中に１つ以上のエポキシ環を含むエポキシ環含有化合物である。
（２）カチオン重合性化合物として、カチオン重合性基当量が１５０未満のカチオン重合性化合物を含む。好ましくは、エポキシ基当量が１５０未満のエポキシ基含有化合物を含む。
（３）カチオン重合性化合物が、エチレン性不飽和基を含む。
（４）カチオン重合性化合物として、１分子中に１個以上のオキセタン環を含むオキセタン環含有化合物を、他のカチオン重合性化合物とともに含む。好ましくは、オキセタン環含有化合物は、含窒素複素環を含まない化合物である。
　上記ＨＣ層形成用硬化性組成物のカチオン重合性化合物の含有量は、ラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物との合計含有量１００質量部に対して、好ましくは１０質量部以上であり、より好ましくは１５質量部以上であり、更に好ましくは２０質量部以上である。また、上記ＨＣ層形成用硬化性組成物のカチオン重合性化合物の含有量は、ラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物との合計含有量１００質量部に対して、５０質量部以下であることが好ましい。
　また、上記ＨＣ層形成用硬化性組成物のカチオン重合性化合物の含有量は、第一のラジカル重合性化合物の含有量とカチオン重合性化合物との合計含有量１００質量部に対して、好ましくは０．０５質量部以上であり、より好ましくは０．１質量部以上であり、更に好ましくは１質量部以上である。一方、カチオン重合性化合物の含有量は、第一のラジカル重合性化合物の含有量とカチオン重合性化合物との合計含有量１００質量部に対して、５０質量部以下であることが好ましく、４０質量部以下であることがより好ましい。
　なお本発明および本明細書において、カチオン重合性基とラジカル重合性基をともに有する化合物は、カチオン重合性化合物に分類し、ＨＣ層形成用硬化性組成物における含有量を規定するものとする。
－重合開始剤－
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は重合開始剤を含むことが好ましく、光重合開始剤を含むことがより好ましい。ラジカル重合性化合物を含むＨＣ層形成用硬化性組成物は、ラジカル光重合開始剤を含むことが好ましく、カチオン重合性化合物を含むＨＣ層形成用硬化性組成物は、カチオン光重合開始剤を含むことが好ましい。ラジカル光重合開始剤又はカチオン重合開始剤は一種のみ用いてもよく、構造の異なる二種以上を併用してもよい。
　上記ＨＣ層形成用硬化性組成物の重合開始剤の含有量は、重合性化合物の重合反応を良好に進行させる範囲で適宜調整すればよく、特に限定されるものではない。上記ＨＣ層形成用硬化性組成物に含まれる重合性化合物１００質量部に対して、例えば０．１～２０質量部の範囲であり、好ましくは０．５～１０質量部、より好ましくは１～１０質量部の範囲である。
－ＨＣ層形成用硬化性組成物に任意に含まれ得る成分－
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、活性エネルギー線の照射により硬化する性質を有する少なくとも一種の成分を含み、任意に少なくとも一種の重合開始剤を含むことができ、含むことが好ましい。それらの詳細は、先に記載した通りである。
　次に、ＨＣ層形成用硬化性組成物に任意に含まれ得る各種成分について説明する。
（ｉ）無機粒子
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、平均一次粒径が２μｍ未満の無機粒子を含むことができる。無機粒子の平均一次粒径は、１０ｎｍ～１μｍの範囲であることが好ましく、１０ｎｍ～１００ｎｍの範囲であることがより好ましく、１０ｎｍ～５０ｎｍの範囲であることが更に好ましい。
　無機粒子および後述のマット粒子の平均一次粒径については、透過型電子顕微鏡（倍率５０万～２００万倍）で粒子の観察を行い、無作為に選択した粒子（一次粒子）１００個を観察し、それらの粒径の平均値をもって平均一次粒径とする。
　上記無機粒子としては、シリカ粒子、二酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子などが挙げられる。中でもシリカ粒子が好ましい。無機粒子して、シリカ粒子などを使用すると低屈折率層として機能し、酸化ジルコニウムなどを使用すると高屈折率層として機能する。
　上記無機粒子は、ＨＣ層形成用硬化性組成物に含まれる有機成分との親和性を高めるために、その表面が有機セグメントを含む表面修飾剤で処理されていてもよい。表面修飾剤としては、無機粒子と結合を形成するか無機粒子に吸着し得る官能基と、有機成分と高い親和性を有する官能基を同一分子内に有するものが好ましい。無機粒子に結合または吸着し得る官能基を有する表面修飾剤としては、シラン系表面修飾剤、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム等の金属アルコキシド表面修飾剤や、リン酸基、硫酸基、スルホン酸基、カルボン酸基等のアニオン性基を有する表面修飾剤が好ましい。有機成分との親和性の高い官能基としては、有機成分と同様の親疎水性を有する官能基、有機成分と化学的に結合し得る官能基等が挙げられる。中でも、有機成分と化学的に結合し得る官能基等が好ましく、エチレン性不飽和基または開環重合性基がより好ましい。
　好ましい無機粒子表面修飾剤は、金属アルコキシド表面修飾剤またはアニオン性基とエチレン性不飽和基もしくは開環重合性基を同一分子内に有する重合性化合物である。これら表面修飾剤によって無機粒子と有機成分とを化学的に結合させることによりＨＣ層の架橋密度を高めることができ、その結果、前面板の硬度（更にはこの前面板を含む液晶パネルの硬度）を向上させることができる。
　上記表面修飾剤の具体例としては、以下の例示化合物Ｓ－１～Ｓ－８が挙げられる。
　Ｓ－１　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
　Ｓ－２　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＴｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
　Ｓ－３　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０ＯＰＯ（ＯＨ）２
　Ｓ－４　（Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０Ｏ）２ＰＯＯＨ
　Ｓ－５　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＳＯ３Ｈ
　Ｓ－６　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯ（Ｃ５Ｈ１０ＣＯＯ）２Ｈ
　Ｓ－７　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ５Ｈ１０ＣＯＯＨ
　Ｓ－８　ＣＨ２ＣＨ（Ｏ）ＣＨ２ＯＣ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
　（Ｘは、水素原子またはメチル基を表す）
　表面修飾剤による無機粒子の表面修飾は、溶液中で行うことが好ましい。無機粒子を機械的に分散する際に、一緒に表面修飾剤を存在させるか、無機粒子を機械的に分散した後に表面修飾剤を添加して攪拌するか、または、無機粒子を機械的に分散する前に表面修飾を行って（必要により、加温、乾燥した後に加熱、またはｐＨ（ｐｏｗｅｒ　ｏｆ　ｈｙｄｒｏｇｅｎ）変更を行う）、その後に分散を行ってもよい。表面修飾剤を溶解する溶媒としては、極性の大きな有機溶媒が好ましい。具体的には、アルコール、ケトン、エステル等の公知の溶媒が挙げられる。
　無機粒子の含有量は、ＨＣ層形成用硬化性組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、５～４０質量％が好ましく、１０～３０質量％がより好ましい。無機粒子の一次粒子の形状は、球形、非球形を問わないが、無機粒子の一次粒子は球形であることが好ましく、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層中において球形の２～１０個の無機粒子（一次粒子）が連結した非球形の２次粒子以上の高次粒子として存在することが更なる硬度向上の観点からより好ましい。
　無機粒子の具体的な例としては、ＥＬＣＯＭ　Ｖ－８８０２（日揮触媒化成製の平均一次粒径１５ｎｍの球形シリカ粒子）、ＥＬＣＯＭ　Ｖ－８８０３（日揮触媒化成製の異形シリカ粒子）、ＭｉＢＫ－ＳＤ（日産化学工業製平均一次粒径１０～２０ｎｍの球形シリカ粒子）、ＭＥＫ－ＡＣ－２１４０Ｚ（日産化学工業製の平均一次粒径１０～２０ｎｍの球形シリカ粒子）、ＭＥＫ－ＡＣ－４１３０（日産化学工業製の平均一次粒径４５ｎｍの球形シリカ粒子）、ＭｉＢＫ－ＳＤ－Ｌ（日産化学工業製の平均一次粒径４０～５０ｎｍの球形シリカ粒子）、ＭＥＫ－ＡＣ－５１４０Ｚ（日産化学工業製の平均一次粒径８５ｎｍの球形シリカ粒子）等を挙げることができる。中でも、日揮触媒化成製ＥＬＣＯＭ　Ｖ－８８０２が、更なる硬度向上の観点から好ましい。
（ｉｉ）マット粒子
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、マット粒子を含むこともできる。マット粒子を使用することで防眩性を有した低反射層として機能することができる。マット粒子とは、平均一次粒径が２μｍ以上の粒子をいうものとし、無機粒子であっても有機粒子であってもよく、または無機及び有機の複合材料の粒子であってもよい。マット粒子の形状は、球形、非球形を問わない。マット粒子の平均一次粒径は、２～２０μｍの範囲であることが好ましく、４～１４μｍの範囲であることがより好ましく、６～１０μｍの範囲であることが更に好ましい。
　マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ２粒子等の無機粒子、架橋アクリル粒子、架橋アクリル－スチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の有機粒子を挙げることができる。中でも、マット粒子が有機粒子であることが好ましく、架橋アクリル粒子、架橋アクリル－スチレン粒子、架橋スチレン粒子であることがより好ましい。
　マット粒子は、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層における単位体積あたりの含有量として、０．１０ｇ／ｃｍ３以上であることが好ましく、０．１０ｇ／ｃｍ３～０．４０ｇ／ｃｍ３であることがより好ましく、０．１０ｇ／ｃｍ３～０．３０ｇ／ｃｍ３であることがより好ましい。
（ｉｉｉ）紫外線吸収剤
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、紫外線吸収剤を含有することも好ましい。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール化合物、トリアジン化合物を挙げることができる。ここでベンゾトリアゾール化合物とは、ベンゾトリアゾール環を有する化合物であり、具体例としては、例えば特開２０１３－１１１８３５号公報段落００３３に記載されている各種ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を挙げることができる。トリアジン化合物とは、トリアジン環を有する化合物であり、具体例としては、例えば特開２０１３－１１１８３５号公報段落００３３に記載されている各種トリアジン系紫外線吸収剤を挙げることができる。ＨＣ層中の紫外線吸収剤の含有量は、例えばＨＣ層に含まれる樹脂１００質量部に対して０．１～１０質量部程度であるが、特に限定されるものではない。また、紫外線吸収剤については、特開２０１３－１１１８３５号公報段落００３２も参照できる。なお本発明および本明細書における紫外線とは２００～３８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する光をいうものとする。
（ｉｖ）含フッ素化合物
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、レベリング剤および防汚剤等の含フッ素化合物を含有することも好ましい。適切な含フッ素化合物を使用することで、防汚層として機能する。
　レベリング剤としては、含フッ素ポリマーが好ましく用いられる。例えば、特許５１７５８３１号に記載されているフルオロ脂肪族基含有ポリマーが挙げられる。またフルオロ脂肪族基含有ポリマーを構成する、一般式（１）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの含有量が全重合単位の５０質量％以下のフルオロ脂肪族基含有ポリマーをレベリング剤として用いることもできる。
　ＨＣ層が防汚剤を含むと、指紋や汚れの付着を低減し、また、付着した汚れの拭き取りを容易にすることができる。また、表面のすべり性を向上させる事により耐擦性をより向上させることも可能になる。
　防汚剤は、含フッ素化合物を含有することが好ましい。含フッ素化合物は、パーフルオロポリエーテル基および重合性基（好ましくは、ラジカル重合性基）を有することが好ましく、パーフルオロポリエーテル基および重合性基を有し、かつ重合性基を一分子中に複数有することがさらに好ましい。このような構成とすることにより、耐擦性改良という効果をより効果的に発揮させることができる。
　尚、本明細書では、防汚剤が、重合性基を有する場合であっても、上記重合性化合物１～３および上記他の重合性化合物には当てはまらないものとして扱う。
　上記含フッ素化合物は、モノマー、オリゴマーおよびポリマーのいずれであってもよいが、オリゴマー（含フッ素オリゴマー）であることが好ましい。
　なお、後述の（ｖｉ）その他の成分に記載するリベリング剤および防汚剤も、上記に加えて含有することができる。
　本発明で用いることができる防汚剤については、上記の他、特開２０１２－０８８６９９号公報の段落００１２～０１０１に記載の材料を用いることができ、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
　以上説明した防汚剤としては、公知の方法で合成したものを用いてもよく、市販品を用いてもよい。市販品としては、ＤＩＣ社製のＲＳ－９０、ＲＳ－７８などを好ましく用いることができる。
　ＨＣ層形成用硬化性組成物が、含フッ素化合物を含有する場合の含有量は、ＨＣ層形成用硬化性組成物の固形分の０．０１～１０質量％が好ましく、０．０５～５質量％がより好ましく、０．１～２質量％がさらに好ましい。
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、防汚剤を、１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。２種以上含まれている場合、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
　また、ＨＣ層形成用硬化性組成物は、防汚剤を実質的に含まない構成とすることもできる。
（ｖ）溶媒
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、溶媒を含むことも好ましい。溶媒としては、有機溶媒が好ましく、有機溶媒の１種または２種以上を任意の割合で混合して用いることができる。有機溶媒の具体例としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ｎ－ブタノール、ｉ－ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；エチルセロソルブ等のセロソルブ類；トルエン、キシレン等の芳香族類；プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類；ジアセトンアルコール等が挙げられる。これらの中でも、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンおよび酢酸メチルが好ましく、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンおよび酢酸メチルを任意の割合で混合して用いることがより好ましい。このような構成とすることにより、耐擦性、打抜き性および密着性により優れた反射防止積層体が得られる。
　ＨＣ層形成用硬化性組成物中の溶媒量は、上記組成物の塗布適性を確保できる範囲で適宜調整することができる。例えば、重合性化合物および光重合開始剤の合計量１００質量部に対して、溶媒を５０～５００質量部とすることができ、好ましくは８０～２００質量部とすることができる。
　また、ＨＣ形成用硬化性組成物の固形分は、１０～９０質量％であることが好ましく、５０～８０質量％であることがより好ましく、６５～７５質量％であることが特に好ましい。
（ｖｉ）その他の成分
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、上記成分に加えて、公知の添加剤の一種以上を任意の量で含むことができる。添加剤としては、表面調整剤、レベリング剤、重合禁止剤、ポリロタキサン等を挙げることができる。それらの詳細については、例えば特開２０１２－２２９４１２号公報の段落００３２～００３４を参照できる。また、市販の防汚剤または公知の方法で調製可能な防汚剤を含むこともできる。ただし添加剤はこれらに限らず、ＨＣ層形成用硬化性組成物に一般に添加され得る各種添加剤を用いることができる。
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、以上記載した各種成分を同時に、または任意の順序で順次混合することにより調製することができる。調製方法は特に限定されるものではなく、調製には公知の攪拌機等を用いることができる。
２）２層以上の積層構造
　本発明の反射防止積層体は、図１におけるＨＣ層１Ａが、少なくとも、第１のＨＣ層、および第２のＨＣ層を樹脂フィルム２Ａ側から順に有する態様も好ましい。
　樹脂フィルム２Ａの表面に、第１のＨＣ層が位置していても、間に他の層を有していてもよい。同様に、第１のＨＣ層の表面に、第２のＨＣ層が位置していても、間に他の層を有していてもよい。第１のＨＣ層と第２のＨＣ層の密着性を高める観点からは、第１のＨＣ層の表面に第２のＨＣ層が位置する、すなわち、両層は、膜面の少なくとも一部において接している方が好ましい。
　また、第１のＨＣ層および第２のＨＣ層は、それぞれ、１層であっても、２層以上であってもよいが、１層が好ましい。
　さらに、詳細を後述するとおり、本発明の反射防止積層体をタッチパネルに用いる場合、上記第２のＨＣ層が画像表示素子の前面側となるように反射防止積層体を配置することが好ましいが、反射防止積層体表面の耐擦性、打抜き性を優れたものにするためには、上記第２のＨＣ層が反射防止積層体の表面側、特に、最表面に配置されることが好ましい。
＜第１のＨＣ層、第１のＨＣ層形成用硬化性組成物＞
　本発明に用いられる第１のＨＣ層は、第１のＨＣ層形成用硬化性組成物から形成される。
　第１のＨＣ層形成用硬化性組成物は、ラジカル重合性基を有する重合性化合物１と、同一分子内にカチオン重合性基とラジカル重合性基を有し、かつ重合性化合物１とは異なる重合性化合物２とを含有し、第１のＨＣ層形成用硬化性組成物に含まれる重合性化合物中、重合性化合物２の含有量が５１質量％以上である。
（重合性化合物）
　重合性化合物１としては、前述のラジカル重合性化合物の記載が好ましく適用され、重合性化合物２としては、前述のカチオン重合性化合物におけるａ）成分の記載が好ましく適用される。
　また、第１のＨＣ層形成用硬化性組成物は、重合性化合物１とも重合性化合物２とも異なる他の重合性化合物を有していてもよい。
　上記他の重合性化合物は、カチオン重合性基を有する重合性化合物であることが好ましい。上記カチオン重合性基としては、重合性化合物２ａ）成分で述べたカチオン重合性基と同義であり、好ましい範囲も同様である。特に、本発明では、他の重合性化合物として、カチオン重合性基を含む、含窒素複素環含有化合物が好ましい。このような化合物を用いることにより、樹脂フィルムと第１のＨＣ層の密着性をより効果的に向上させることができる。含窒素複素環としては、イソシアヌレート環およびグリコールウリル環からなる群から選ばれる含窒素複素環が例示され、イソシアヌレート環がより好ましい。他の重合性化合物が有するカチオン性基の数は、１～１０が好ましく、２～５がより好ましい。また、他の重合性化合物として、カチオン重合性基と含窒素複素環構造を有する重合性化合物を用いる場合、樹脂フィルムは、アクリル系樹脂フィルムを含む樹脂フィルムが好ましい。このような構成とすることにより、樹脂フィルムと第１のＨＣ層の密着性がより向上する傾向にある。
　他の重合性化合物の具体例としては、前述の例示化合物が挙げられるが、本発明は前述の具体例に限定されるものではない。
（その他）
　その他、前述の、重合開始剤、無機粒子、マット粒子、紫外線吸収剤、含フッ素化合物、溶媒およびその他の成分の記載を好ましく適用することができる。
　特に第１のＨＣ層形成用硬化性組成物は、溶媒を含むことが好ましく、第２のＨＣ層形成用硬化性組成物は、防汚剤を含むことが好ましい。
（機能層の厚み）
　機能層の厚みは、膜の変形を抑制することでキーボード写りを低減する観点からは３μｍ以上が好ましく、５μｍ以上がより好ましい。また、機能層（たとえば、ＨＣ層）形成時の体積収縮によって発生するカールを抑制する観点から４０μｍ以下が好ましく、３０μｍ以下がさらに好ましい。
－ＨＣ層の形成方法－
　ＨＣ層形成用硬化性組成物を、樹脂フィルム上に直接、または易接着層等の他の層を介して、塗布し、活性エネルギー線を照射することにより、ＨＣ層を形成することができる。塗布は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ダイコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法等の公知の塗布方法により行うことができる。なおＨＣ層は、二種以上の異なる組成の組成物を同時または逐次塗布することにより二層以上（例えば二層～五層程度）の積層構造のＨＣ層として形成することもできる。
　塗布されたＨＣ層形成用硬化性組成物に対して活性エネルギー線照射を行うことにより、ＨＣ層を形成できる。例えば、ＨＣ層形成用硬化性組成物がラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物、ラジカル光重合開始剤およびカチオン光重合開始剤を含む場合、ラジカル重合性化合物およびカチオン重合性化合物の重合反応を、それぞれラジカル光重合開始剤、カチオン光重合開始剤の作用により開始させ進行させることができる。照射する光の波長は、用いる重合性化合物および重合開始剤の種類に応じて決定すればよい。光照射のための光源としては、１５０～４５０ｎｍ波長帯域の光を発する高圧水銀ランプ、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、無電極放電ランプ、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅ）等を挙げることができる。また、光照射量は、通常、３０～３０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲であり、好ましくは１００～１５００ｍＪ／ｃｍ２の範囲である。光照射の前および後の一方または両方において、必要に応じて乾燥処理を行ってもよい。乾燥処理は、温風の吹き付け、加熱炉内への配置、加熱炉内での搬送等により行うことができる。ＨＣ層形成用硬化性組成物が溶媒を含む場合、加熱温度は、溶媒を乾燥除去できる温度に設定すればよく、特に限定されるものではない。ここで加熱温度とは、温風の温度または加熱炉内の雰囲気温度をいうものとする。
（４）無機酸化物層（ＡＲ層）
　機能層は無機酸化物層（ＡＲ層）をさらに含んでもよく、他の機能層と積層して用いられても良い。たとえばＨＣ層の支持体を有する側の面とは反対側の面に、無機酸化物層（ＡＲ層）を有する態様が挙げられる。
　ＡＲ層を有する積層体の一態様として、図２に示すように、ＡＲ層５Ａ、機能層（ＨＣ層）１Ａ、支持体２Ａ、衝撃吸収層３Ａがこの順に積層された構成を有する本発明の積層体４Ｂが挙げられる。
　本発明の積層体におけるＡＲ層は、反射防止層としての機能を有する層であり、例えば、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、蒸着法、イオンプレーティング法、化学蒸着（ＣＶＤ）法などのドライコーティング方法で形成できる。膜厚均一性が高く、ピンホール等の欠陥が少ないため、視認性に優れ、緻密であり、耐擦傷性などの機械特性に優れた薄膜の形成が可能である、スパッタリング法を用いることが好ましい。中でも、より高い成膜速度と高い放電安定性により高生産性を可能とすることから、中周波領域の電圧印加により成膜を行うデュアル・マグネトロン・スパッタリング（ＤＭＳ）法が最適である。
　なお、スパッタリング法を採用した場合、ＡＲ層の積層時の圧力は、０．１～０．６Ｐａであることが好ましい。その理由は、十分なスパッタリング率および膜密度を得ることができることによる。
　ＡＲ層は、高屈折率層及び低屈折率層のいずれであってもよく、また、単層であっても、複層であってもよい。
　ＡＲ層が複層の場合、ＡＲ層は高屈折率層及び低屈折率層が交互に積層された層であることが好ましく、ＡＲ層の最外層（すなわち、ＨＣ層に対して最も反対側に配される層）は低屈折率層であることが好ましい。なかでも、ＡＲ層は、高屈折率層及び低屈折率層が交互に積層された４層以上の積層体であって、ＡＲ層の最外層が低屈折率層であることが好ましく、ＡＲ層の最内層（すなわち、ＨＣ層に対して最も近い側に配される層）は高屈折率層であることがより好ましい。
　高屈折率層を構成する材料としては、インジウム、錫、チタン、亜鉛、ジルコニウム、ニオブ、マグネシウム、ビスマス、セリウム、タンタル、アルミニウム、ゲルマニウム、カリウム、アンチモン、ネオジウム、ランタン、トリウム及びハフニウム等の金属、及び、これら金属の２種類以上からなる合金、並びに、これらの酸化物、弗化物、硫化物及び窒化物などが挙げられる。具体的には、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム及び酸化セリウム等が挙げられるがこれに限られるものではない。また、複数積層する場合、必ずしも同じ材料を選択する必要はなく、目的にあわせて、適宜選択すればよい。中でも、スパッタリング法を用いる場合は、作製した薄膜のピンホールの少なさから、酸化ニオブが適している。
　低屈折率層を構成する材料としては、酸化珪素、弗化マグネシウム、弗化バリウム、弗化カルシウム、弗化ハフニウム及び弗化ランタン等の材料が挙げられるが、これらに限定されるものでない。また、複数積層する場合、必ずしも同じ材料を選択する必要なく、目的にあわせて、適宜選択すればよい。特に、光学特性、機械強度、コスト及び成膜適性の面などから、酸化珪素が最適な材料である。なお、ここでいう酸化珪素（ＳｉＯｘ）とは、主に二酸化珪素（ＳｉＯ２）を示すものである。ただし、酸素が欠乏及び／又は増加することにより、ＳｉＯｘのｘは１．８～２．２の範囲で推移するものである。
　ＡＲ層の総膜厚は、１００～３００ｎｍが好ましい。十分な反射性能を得る点から上記下限値以上であることが好ましく、生産性の点から上記上限値以下が好ましい。
（４）その他の層
　本発明の積層体は、上記の樹脂フィルム、衝撃吸収層、機能層以外に、必要に応じて、ＡＲ層用の防汚層や粘着層等、その他の層を設けてもよい。
（ＡＲ層用防汚層）
　本発明の積層体は、ＡＲ層の最外層に、防汚層を有してもよい。防汚層は、真空蒸着法により成膜したフッ素化合物を含む層であることが好ましく、反応性官能基と結合している珪素原子を２つ以上有するフッ素含有珪素化合物を用いて構成された層であることがより好ましい。ここで、反応性官能基とは、ＡＲ層の最外層と反応し、結合しうる基を意味する。また、反応性官能基を有するフッ素含有珪素化合物を用い、この反応性官能基同士が反応することにより防汚層が形成されることも好ましい。
　防汚層を設けることにより、表面に汚れが付きにくくなり、更に、汚れが付いた場合の拭き取り性能を向上することができる。ここで、防汚層の成膜方法は特に限定されないが、真空蒸着法による成膜方法が好ましい。この方法によれば、連続的に成膜した場合にも、膜厚の均一性良く、成膜することが可能である。
　この際、十分な防汚性能を有するためには、少なくとも、水滴接触角が１００°以上であることが好ましい。これにより、表面の汚れのふき取り性を向上させることができる。更に、摩擦係数も下がるため、より耐擦傷性能も向上させることもできる。また、防汚層は、スチールウール＃００００を使用し、荷重１．５ｋｇ／ｃｍ２で、温度２５℃、相対湿度５５％の環境下で、１０往復擦っても傷が付かないことが耐傷性の点から特に好ましい。
（粘着層）
　本発明の積層体は、機能層と支持体の間に粘着層を有していてもよい。粘着層を構成する素材としては、樹脂フィルムを貼り合わせて支持体とする際に用いた感圧性接着剤を好ましく用いることができる。粘着層の厚みは５ｎｍ以上、５０μｍ以下が好ましい。
（積層体の最大押し込み深さ）
　本発明の積層体は、荷重に伴うキーボード写り、特にキーボード跡の転写及び凹みの発生を抑制する点から、下記の方法によって測定される押し込み測定時.の最大押し込み深さが５μｍ以下であることが好ましく、４μｍ以下がより好ましく、３.５μｍ以下がより好ましい。
（押し込み深さ測定）
押し込み深さ測定は粒子超微小硬度計（（株）島津製作所、ＤＵＨ－２０１）を用いて、ガラス板上に設置したフィルムを下記条件にて押し込んだ際の、最大押込み深さ（μｍ）の値を用いた。
　最大押込み深さ（μｍ）：　最大荷重値（５００ｍＮ）での押込み深さ
（測定条件）
　・使用圧子：円錐台圧子　５０Ｍ
　・測定モード：負荷－除荷試験
　・最大荷重：１０ｍＮ
　・保持時間：０
　・負荷定数：１　
　・負荷（除荷）速度：　１．４２１９６（ｍＮ／ｓｅｃ）
［積層体を含む物品］
　本発明の積層体を含む物品としては、家電業界、電気電子業界、自動車業界、住宅業界をはじめとする様々な産業界において、機能層への他の物体の形状の転写の抑制（たとえばキーボード写りの抑制）が求められる各種物品を挙げることができる。具体例としては、ノートＰＣ、タッチセンサ、タッチパネル、液晶表示装置等の画像表示装置、自動車の窓ガラス、住居の窓ガラス等を挙げることができる。これら物品に、本発明の積層体を設けることにより、機能層（たとえば、ハードコート層）への他の物体の形状の転写（たとえばキーボード写り）が十分に抑制された物品を提供することが可能となる。また、ＡＲ層を有する積層体を用いた場合においては、反射防止機能も付与できる。本発明の積層体は、画像表示装置用の保護フィルム、偏光板又は前面板に用いられる積層体として好ましく用いられ、より好ましくはノートＰＣの画像表示素子の保護フィルム、偏光板又は前面板に用いられる積層体として用いられる。
　本発明の積層体を用いることができるノートＰＣは特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
＜＜画像表示装置＞＞
　本発明の積層体を有する画像表示装置は、本発明の積層体を有する保護フィルム、偏光板又は前面板と、画像表示素子とを有する画像表示装置である。
　画像表示装置としては、液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌ　Ｄｉｓｐｌａｙ；ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、陰極管表示装置およびタッチパネルのような画像表示装置に用いることができる。
　液晶表示装置としては、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ－Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＴＳＴＮ（Ｔｒｉｐｌｅ　Ｓｕｐｅｒ　Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）型、マルチドメイン型、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、ＩＰＳ（Ｉｎ　Ｐｌａｎｅ　Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ　ＣｏｍｐｅｎｓａｔｅｄＢｅｎｄ）型等が挙げられる。
　画像表示装置は、脆性が改良されハンドリング性に優れ、表面平滑性やシワによる表示品位を損なう事が無く、湿熱試験時の光漏れを低減できることが好ましい。
　すなわち、本発明の積層体を有する画像表示装置は、画像表示素子が液晶表示素子であることが好ましい。液晶表示素子を有する画像表示装置としては、ソニーエリクソン社製、エクスペリアＰなどを挙げることができる。
＜＜偏光板＞＞
　本発明の偏光板は、本発明の積層体が偏光子を有して構成される。本発明の積層体において、衝撃吸収層の支持体を有する側とは反対側の面に、偏光子を有する。本発明の積層体において、衝撃吸収層と支持体と機能層をこの順で有し、衝撃吸収層の支持体を有する側とは反対側の面に、偏光子を有してもよいし、衝撃吸収層と支持体と機能層をこの順で有し、機能層の支持体を有する側とは反対側の面に、偏光子を有してもよい。
　より具体的には、偏光子とその両側に配置された保護フィルムとからなる偏光板の、その保護フィルムの一方又は両方として、本発明の積層体を用いることができる。本発明の積層体を用いることにより、荷重に伴うキーボード写りが十分に抑制された偏光板を提供可能になる。また、ＡＲ層を有する積層体を用いた場合においては、反射防止機能も付与できる。
　一方の保護フィルムとして本発明の積層体を用い、他方の保護フィルムには、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよい。この場合、その他方の保護フィルムには、溶液製膜法で製造され、かつ１０～１００％の延伸倍率でロールフィルム形態における幅方向に延伸したセルロースアセテートフィルムを用いることが好ましい。
　また、偏光子の２枚の保護フィルムのうち、本発明の積層体以外のフィルムが、光学異方性層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい態様である。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１－１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
　偏光子には、ヨウ素系偏光子、２色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子がある。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
　また偏光子としては、公知の偏光子や、偏光子の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光子から切り出された偏光子を用いてもよい。偏光子の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光子は以下の方法により作製される。
　すなわち、連続的に供給されるポリビニルアルコール系フィルムなどのポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸して、少なくともフィルム幅方向に１．１～２０．０倍に延伸する。その後、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が３％以内で、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルム搬送方向とフィルムの実質延伸方向とのなす角が２０～７０°傾斜するように、フィルム搬送方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特にフィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルム搬送方向とフィルムの実質延伸方向とのなす角を４５°傾斜させてなる延伸方法が、生産性の観点から好ましく用いられる。
　ポリマーフィルムの延伸方法については、特開２００２－８６５５４号公報の段落００２０～００３０の記載を適用することができる。
＜＜衝撃吸収層が設けられる位置＞＞
　本発明の積層体を有する画像表示装置において、衝撃吸収層が設けられる位置は特に限定されず、例えば、下記の態様が挙がられる。
　機能層／支持体／衝撃吸収層
　機能層／粘着層／支持体／衝撃吸収層
　機能層／支持体／衝撃吸収層／保護フィルム
　機能層／支持体／衝撃吸収層／保護フィルム／偏光子／保護フィルム
　機能層／支持体／衝撃吸収層／偏光子／保護フィルム
　機能層／支持体／偏光子／衝撃吸収層／保護フィルム
　機能層／支持体／偏光子／保護フィルム／衝撃吸収層
　機能層／支持体／衝撃吸収層／粘着剤／保護フィルム／偏光子／保護フィルム
　機能層／支持体／偏光子／保護フィルム／粘着剤／衝撃吸収層
　機能層／支持体／位相差フィルム／衝撃吸収層
　機能層／支持体／位相差フィルム／粘着剤／衝撃吸収層
　機能層／支持体／位相差フィルム／衝撃吸収層／保護フィルム
　機能層／支持体／位相差フィルム／衝撃吸収層／保護フィルム／偏光子／保護フィルム
　機能層／支持体／位相差フィルム／粘着剤／保護フィルム／衝撃吸収層／偏光子／保護フィルム
　機能層／支持体／位相差フィルム／粘着剤／保護フィルム／衝撃吸収層／粘着剤／偏光子／保護フィルム
　以下に、実施例に基づき本発明についてさらに詳細に説明する。なお、本発明がこれにより限定して解釈されるものではない。以下の実施例において組成を表す「部」及び「％」は、特に断らない限り質量基準である。
＜１－１．樹脂フィルム（厚み１００μｍのＴＡＣフィルム）の作製＞
　外層／コア層／外層の３層のセルロースアシレートの積層フィルムを、以下の方法により作製した。
（１）コア層セルロースアシレートドープ液の調製
　下記の組成物をミキシングタンクに投入して撹拌し、コア層セルロースアシレートドープ溶液を調製した。
（コア層セルロースアシレートドープ液）
　・アセチル置換度２．８８、重量平均分子量２６０，０００のセルロースアセテート：１００質量部
　・下記式（Ａ－１）で表されるフタル酸エステルオリゴマー：１０質量部
　・下記式（Ａ－２）で表される化合物：４質量部
　・下記式（Ａ－３）で表される紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ社製）：２．７質量部
　・光安定剤（ＢＡＳＦ社製、商品名：ＴＩＮＵＶＩＮ１２３）：０．１８質量部
　・Ｎ－アルケニルプロピレンジアミン３酢酸（ナガセケムテックス社製、商品名：テークランＤＯ）：０．０２質量部
　・メチレンクロライド（第１溶媒）：４３０質量部
　・メタノール（第２溶媒）：６４質量部
　使用した化合物を以下に示す。
　下記構造のフタル酸エステルオリゴマー（Ａ－１）の重量平均分子量は７５０である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
（２）外層セルロースアシレートドープ液の調製
　上記のコア層セルロースアシレートドープ液９０質量部に下記の無機粒子含有組成物を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープ液を調製した。
（無機粒子含有組成物）
　平均一次粒径２０ｎｍのシリカ粒子（日本アエロジル社製、商品名：ＡＥＲＯＳＩＬ　Ｒ９７２）：２質量部
　メチレンクロライド（第１溶媒）：７６質量部
　メタノール（第２溶媒）：１１質量部
　コア層セルロースアシレートドープ液：１質量部
（３）樹脂フィルムの作製
　外層セルロースアシレートドープ液がコア層セルロースアシレートドープ液の両側に配されるように、外層セルロースアシレートドープ液、コア層セルロースアシレートドープ液、および外層セルロースアシレートドープ液の３種を、流延口から表面温度２０℃の流延バンド上に同時に流延した。
　流延バンドとして幅２．１ｍで長さが７０ｍのステンレス製のエンドレスバンドを利用した。流延バンドは、厚みが１．５ｍｍ、表面粗さが０．０５μｍ以下になるように研磨した。その材質はＳＵＳ３１６製であり、十分な耐腐食性と強度を有する流延バンドを用いた。流延バンドの全体の厚みムラは０．５％以下であった。
　得られた流延膜に、風速が８ｍ／ｓ、ガス濃度が１６％、温度が６０℃の急速乾燥風を流延膜表面に当てて初期膜を形成した。その後、流延バンド上部の上流側からは１４０℃の乾燥風を送風した。また下流側からは１２０℃の乾燥風および６０℃の乾燥風を送風した。
　残留溶媒量を約３３質量％にした後、バンドから剥ぎ取った。次いで、得られたフィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、溶媒残留量が３～１５質量％のフィルムを、横方向に１．０６倍延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、厚さが１００μｍ（外層／コア層／外層＝３μｍ／９４μｍ／３μｍ）であるＴＡＣフィルムを作製した。
（４）樹脂フィルム（厚みの異なるＴＡＣフィルム）の作製
　上記と同様の方法で、但し、それぞれ厚みが８０μｍ（外層／コア層／外層＝３μｍ／７４μｍ／３μｍ）、４０μｍ（外層／コア層／外層＝３μｍ／３４μｍ／３μｍ）、２００μｍ（外層／コア層／外層＝３μｍ／１９４μｍ／３μｍ）となるように調整し、厚みの異なるＴＡＣフィルムを作製した。
＜１－２．樹脂フィルム（厚み５０μｍのＰＩフィルム）の作製＞
（１）ポリイミド粉末の製造
　攪拌器、窒素注入装置、滴下漏斗、温度調節器及び冷却器を取り付けた１Ｌの反応器に、窒素気流下、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）８３２ｇを加えた後、反応器の温度を２５℃にした。ここに、ビストリフルオロメチルベンジジン（ＴＦＤＢ）６４．０４６ｇ（０．２ｍｏｌ）を加えて溶解し、溶液を得た。得られた溶液を２５℃に維持しながら、２，２－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物（６ＦＤＡ）３１．０９ｇ（０．０７ｍｏｌ）とビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）８．８３ｇ（０．０３ｍｏｌ）を投入し、一定時間撹拌して反応させた。その後、塩化テレフタロイル（ＴＰＣ）２０．３０２ｇ（０．１ｍｏｌ）を添加して、固形分濃度１３質量％のポリアミック酸溶液を得た。次いで、このポリアミック酸溶液にピリジン２５．６ｇ、無水酢酸３３．１ｇを投入して３０分撹拌し、さらに７０℃で１時間撹拌した後、常温に冷却した。ここにメタノール２０Ｌを加え、沈澱した固形分を濾過して粉砕した。その後、１００℃下、真空で６時間乾燥させて、１１１ｇの固形分粉末のポリイミドを得た。
（２）樹脂フィルムの作成
　１００ｇの固形分粉末のポリイミドを６７０ｇのＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）に溶かして１３質量％の溶液を得た。得られた溶液をステンレス板に加熱後の厚さが５０μｍになるように流延し、１３０℃の熱風で３０分乾燥させた。その後フィルムをステンレス板から剥離して、フレームにピンで固定し、フィルムが固定されたフレームを真空オーブンに入れ、１００℃から３００℃まで加熱温度を徐々に上げながら２時間加熱し、その後、徐々に冷却した。冷却後のフィルムをフレームから分離した後、最終熱処理工程として、さらに３００℃で３０分間熱処理して、厚み５０μｍのポリイミドフィルムを作製した。
（３）樹脂フィルム（厚みの異なるＰＩフィルム）の作製
　上記と同様の方法で厚さ８０μｍのポリイミドフィルムを作製した。
＜２－１．ハードコート層（ＨＣ層）形成用硬化性組成物の調製＞
　下記表１に示す配合で各成分を混合し、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、ＨＣ層形成用硬化性組成物Ｂ－１～Ｂ－５を調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
　上記表１中において、配合比は質量部で記載する。また、「－」はその成分を含有しないことを示す。
　表１に記載した各化合物の詳細を以下に示す。
＜ラジカル重合性化合物＞
　ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（日本化薬社製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ）
　ライトエステル２ＥＧ：ジエチレングリコールジメタクリレート（共栄社化学社製、商品名）
　ＵＶ１７００Ｂ：多官能ウレタンアクリレート（日本合成化学工業社製、商品名）
＜カチオン重合性化合物＞
　サイクロマーＭ１００：３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート（ダイセル社製、商品名）
＜シリカ粒子＞
　ＭＥＫ－ＡＣ－２１４０Ｚ：（日産化学工業（株）製、平均一次粒径１０～２０ｎｍの球形シリカ粒子、商品名）
＜重合開始剤＞
　Ｉｒｇ１８４：１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン（α－ヒドロキシアルキルフェノン系のラジカル光重合開始剤、ＢＡＳＦ社製、商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４）
　ＣＰＩ－１００Ｐ：トリアリールスルホニウム塩系の光カチオン重合開始剤（サンアプロ社製、商品名）
＜含フッ素化合物＞
　ＲＳ９０：ラジカル重合性基を有する含フッ素オリゴマー（ＤＩＣ社製）
＜溶媒＞
　ＭＥＫ：メチルエチルケトン
　ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン
＜３－１．衝撃吸収層形成用塗布液Ｃ－１～Ｃ－９の調製＞
　下記表２に示す組成で各成分を混合し、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、衝撃吸収層形成用組成物Ｃ－１～Ｃ－９を調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000016
　上記表２中において、「－」はその成分を含有しないことを示す。
　表２に記載した化合物の詳細を以下に示す。
＜エラストマー＞
　クラリティＬＡ２１４０ｅ、クラリティＬＡ２２５０、クラリティＬＡ４２８５：ＰＭＭＡ－ＰｎＢＡ共重合体エラストマー（（株）クラレ製、商品名）
　ハイブラー５１２７、ハイブラー７３１１Ｆ: ポリスチレンと、ポリイソプレンの共重合体エラストマー（（株）クラレ製、商品名）
　バイロンＵＲ２３００：ウレタン変性ポリエステル（東洋紡（株）製、商品名）
　ＵＣ２０３Ｍ：反応性基含有イソプレンポリマー（（株）クラレ製、商品名）
＜回復性粒子＞
　ＳＨ２４００Ｂ－０５０１：ポリロタキサン粒子、アドバンスト・ソフトマテリアル社製マイクロボールＳＨ２４００Ｂ－０５０１
　ＫＭＰ－６００：エラストマー粒子、信越化学社製ＫＭＰ－６００
　なお、ＳＨ２４００Ｂ－０５０１の前述の方法で測定した回復率は３８％であり、ＫＭＰ－６００の前述の方法で測定した回復率は３６％であった。
　また、ＳＨ２４００Ｂ－０５０１の波長５５０ｎｍの屈折率は１．５８であり、ＫＭＰ－６００の波長５５０ｎｍの屈折率は１．４２であった。
［実施例１］
＜４．積層体の作製＞
＜４－１．ハードコート層（ＨＣ層）の形成＞
　上記で作製した厚み１００μｍのＴＡＣフィルムの一方の表面上に、ＨＣ層形成用硬化性組成物Ｂ－１を塗布し、硬化させて厚み１０μｍのＨＣ層を形成し、ＨＣ層付き樹脂フィルムを作製した。
　塗布および硬化の方法は、具体的には、次の通りとした。特開２００６－１２２８８９号公報の実施例１記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件でＨＣ層形成用硬化性組成物を塗布し、雰囲気温度６０℃で１５０秒間乾燥した。その後、更に窒素パージ下、酸素濃度約０．１体積％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、塗布したＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化させてＨＣ層を形成した後、巻き取りを行った。
＜４－２．衝撃吸収層の形成＞
　ＨＣ層を形成した支持体のＨＣ層と反対面に、衝撃吸収層形成用組成物Ｃ－１を塗布し、乾燥させて衝撃吸収層を形成した。
　塗布および乾燥の方法は、具体的には、次の通りとした。特開２００６－１２２８８９号公報の実施例１記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件で衝撃吸収層形成用組成物を乾燥後の膜厚が５０μｍになるように塗布し、雰囲気温度１２０℃で１２０秒間乾燥させ、実施例１の積層体を作製した。
　この衝撃吸収層の作成方法を方法Ａとする。
［実施例２～６］
　衝撃吸収層形成用組成物Ｃ－１に代えて衝撃吸収層形成用組成物Ｃ－２～５を使用した以外は実施例１と同様にして、実施例２～５の積層体を作製した。
　実施例６については、衝撃吸収層形成用組成物Ｃ－１に代えて衝撃吸収層形成用組成物Ｃ－６を使用した以外は実施例１と同様にして衝撃吸収層を形成したのちに、更に窒素パージ下、酸素濃度約０．１体積％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１２００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、衝撃吸収層を作成した。
［実施例７～１０］
　衝撃吸収層の膜厚をそれぞれ１μｍ、１０μｍ、２５μｍ、１００μｍとした以外は実施例１と同様にして、実施例７～１０の積層体を作製した。
［実施例１１～１３、１９～２１］
　厚み１００μｍのＴＡＣフィルムに代えて、それぞれ厚み４０μｍのＴＡＣフィルム、８０μｍのＴＡＣフィルム、２００μｍのＴＡＣフィルム、厚み５０μｍのＰＩフィルム、８０μｍのＰＩフィルム、厚み１００μｍのＰＥＴフィルム（（株）東洋紡、Ａ４３００）を使用した以外は実施例１と同様にして、実施例１１～１３、１９～２１の積層体を作成した。
［実施例１４～１７］
　ＨＣ層形成用硬化性組成物Ｂ－１に代えてＨＣ層形成用硬化性組成物Ｂ－２～Ｂ－５を使用した以外は実施例１と同様にして、実施例１４～１７の積層体を作製した。
［実施例１８］
　ＨＣ層の厚みを５μｍに変更した以外は実施例１と同様にして、実施例１８の積層体を作製した。
［実施例２２～２４］
　ＨＣ層付き樹脂フィルムのＨＣ層上に、無機酸化物層（ＡＲ層）を形成した以外は、それぞれ実施例１、１５、１６と同様にして、実施例２２、２３、２４の積層体を作製した。
　ＡＲ層の形成は具体的には、スパッタリング法にて、任意の成膜圧力条件下、層構成をＨＣ層側からＮｂ２Ｏ５／ＳｉＯ２／Ｎｂ２Ｏ５／ＳｉＯ２、各層の膜厚がそれぞれ１５ｎｍ／２５ｎｍ／１０５ｎｍ／８５ｎｍとなるように成膜を実施した。
［実施例２５］
　剥離処理が施された剥離シートの剥離処理面に衝撃吸収層形成用組成物Ｃ－１を乾燥後の膜厚が５０μｍになるように塗布し、雰囲気温度１２０℃で１２０秒間乾燥させ衝撃吸収層を含むシートを形成した。実施例１の衝撃吸収層形成用組成物Ｃ－１に代えて、このシートの衝撃吸収層を支持体と貼り合せることで、衝撃吸収層が積層された積層体を作製した。
　この衝撃吸収層の作成方法を方法Ｂとする。
［実施例２６］
　＜接着層形成用液の調製＞
　ＰＶＡ－１１７Ｈ：クラレポバールＰＶＡ－１１７Ｈ（商品名、クラレ社製）、５質量部を純水９５質量部に溶解させた後、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、接着層形成用液を調製した。
　＜フィルムの貼合＞
　実施例１と同様にして作成したＨＣ層付き樹脂フィルムの、ＨＣ層形成面とは反対側の樹脂フィルム（透明支持体１）面に、上記の接着層形成用液を、接着層の乾燥厚みが１μｍとなるように塗布して、接着層形成用液の塗布膜付き樹脂フィルムを作製した。次いで、得られた塗布膜付き樹脂フィルムの塗布膜と厚み８０μｍのＴＡＣフィルム（透明支持体２）とを対向させつつ、ロール機で圧力３ＭＰａ、速度９００ｒｐｍの条件で貼り合わせ、雰囲気温度７０℃で１０分以上乾燥して、２枚の樹脂フィルムを貼り合わせた積層体を作成した。
　上記の積層体に、実施例１と同様にして衝撃吸収層を形成し、実施例２６の積層体を作成した。なお衝撃吸収層は、透明支持体２のＨＣ層とは反対側の表面に形成した。
［実施例２７］
　接着層の厚みを５μｍとなるようにした以外では、実施例２６と同様にして積層体を作成した。
［実施例２８］
　実施例１と同様にして作成したＨＣ層付き樹脂フィルムの、ＨＣ層形成面とは反対側の樹脂フィルム面側に、厚み５μｍの粘着剤（リンテック株式会社製、商品名:ＮＣＦ－Ｄ６９２（５））を介して、厚み８０μｍのＴＡＣフィルムを、ロール機で圧力３ＭＰａ、速度９００ｒｐｍの条件で貼り合わせ、２枚の樹脂フィルムを貼り合わせた積層体を作成した。上記の積層体に、実施例１と同様にして衝撃吸収層を形成し、実施例２８の積層体を作成した。
［実施例２９、３０］
　使用する粘着剤を厚み５μｍの粘着剤（パナック株式会社、商品名：ＰＤＳ１－５Ｔ８Ａ７５）、厚み２５μｍ（綜研化学社製、商品名：ＳＫ－２０５７）に変更した以外は実施例２８と同様にして実施例２９、３０の積層体を作成した。
［実施例３１～３３］
　ＨＣ層を形成する樹脂フィルム（透明支持体１）の厚み、又は貼り合わせる樹脂フィルム（透明支持体２）の種類若しくは厚みを下記表４に示したように変更した以外は実施例２６と同様にして、実施例３１～３３の積層体を作成した。
［実施例３４及び３５］
　衝撃吸収層形成用組成物Ｃ－１に代えて衝撃吸収層形成用組成物Ｃ－８、Ｃ－９を使用した以外は実施例１と同様にして、実施例３４及び３５の積層体を作製した。
［比較例１］
　衝撃吸収層を設けなかったこと以外は実施例１と同様にして、比較例１の積層体を作製した。
［比較例２］
　＜接着用樹脂＞
　ＰＶＡ－１１７Ｈ：クラレポバールＰＶＡ－１１７Ｈ（商品名、クラレ社製）、５質量部を純水９５質量部に溶解させた後、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、接着層形成用液を調製した。
　＜フィルムの貼合＞
　実施例１の衝撃吸収層形成用組成物Ｃ－１に代えて、上記の接着用樹脂を厚みが１μｍとなるように塗布した。次いで、厚み５０μｍのＴＡＣフィルムと接着層とを、ロール機で圧力３ＭＰａ、速度９００ｒｐｍの条件で貼り合わせ、雰囲気温度７０℃で１０分以上乾燥して、衝撃吸収層のかわりに厚み５０μｍのＴＡＣを積層した比較例２の積層体を作製した。
　なお、比較例２は衝撃吸収層を有しないものであるが、下記表３には、便宜的に、衝撃吸収層の欄に厚み５０μｍのＴＡＣフィルムを記載した。
［比較例３］
　衝撃吸収層の膜厚を０．５μｍにした以外は実施例１と同様にして、比較例３の積層体を作製した。
［比較例４］
　衝撃吸収層形成用組成物Ｃ－１に代えて衝撃吸収層形成用組成物Ｃ－７を使用した以外は実施例１と同様にして、比較例４の積層体を作製した。
［比較例５］
　衝撃吸収層形成用組成物Ｃ－１に代えて厚み２５μｍの粘着剤（綜研化学社製、商品名：ＳＫ－２０５７）を２枚積層した以外は実施例１と同様にして、比較例５の積層体を作成した。
（貯蔵弾性率、ｔａｎδの測定）
　衝撃吸収層の２５℃における貯蔵弾性率、損失弾性率、ｔａｎδの周波数依存性は、上述の方法により測定、導出した。
　なお、得られた各試料の２５℃における周波数に対するｔａｎδの依存性につきグラフ化したものを図３に示す。
＜試験＞
　上記で作製した積層体について、以下の試験を行った。試験結果を下記表３～５にまとめて記載する。
（ハードコート層への他の物体の形状の転写（キーボード写り））
　作成した光学フィルム（積層体）の衝撃吸収層側とガラス板（横２８０ｍｍ×縦１８０ｍｍ×厚み０．５ｍｍ）が向い合うようにして厚み２５μｍの粘着剤（綜研化学社製、商品名：ＳＫ－２０５７）を介して、ゴムローラーで２ｋｇの荷重を掛けながら貼り合わせた。
　上記の積層体を貼り合わせたガラス板を、ガラス板がノート型パーソナルコンピューター（ノートＰＣ）（（株）Ａｐｐｌｅ製　Ｍａｃｂｏｏｋ）のディスプレイに接するようにテープ等で固定し、振動試験機（（株）ＩＭＶ、ｍ０６０型）にノートＰＣを閉じた状態で載せ、ノートＰＣ上に重り１０ｋｇを載せ、ノートＰＣがＸ－Ｙ方向に移動しないように固定した後、ＪＩＳ　Ｚ０２３２記載のランダム振動試験レベル１条件にてＺ軸方向に１８０分振動させた。なお、Ｘ－Ｙ方向とは積層体の面内方向を指し、Ｚ軸方向とは積層体の面内方向に直交する方向を指す。
　振動終了後、サンプルを取り出しキーボードによる傷付き、凹み程度を下記指標に従って評価した。
　ＡＡ：目視で凹み又は傷がまったく視認できないし、かつ光学顕微鏡で観察しても凹み又は傷がまったく視認できない。
　Ａ：目視で凹み又は傷がまったく視認できない。
　Ｂ：目視で凹み又は傷がわずかに視認されるが使用上問題ない。
　Ｃ：目視で凹み又は傷が一部視認される使用上問題ない。
　Ｄ：目視で視認できる凹み又は傷が一部に使用上問題がある。
　Ｅ：目視で視認できる凹み又は傷が全面に発生し使用上問題がある。
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　表３～５に記載するように、実施例の本発明の積層体は、機能層（ハードコート層）への他の物体の形状の転写（キーボード写り）が十分に抑制されていた。
　衝撃吸収層を有しない比較例１の積層体は、機能層（ハードコート層）への他の物体の形状の転写（キーボード写り）が劣った。また、１０～１０５Ｈｚ範囲でのｔａｎδ最大値が２．０を超える比較例４、５も、機能層（ハードコート層）への他の物体の形状の転写（キーボード写り）を抑制できなかった。
　本発明の積層体を、偏光板に用いた際には、上記偏光板はハードコート層への他の物体の形状の転写（キーボード写り）を十分に抑制することができると考えられる。
　１Ａ：機能層
　２Ａ：支持体
　３Ａ：衝撃吸収層
　４Ａ、４Ｂ：積層体
　５Ａ：無機酸化物層（ＡＲ層）

Claims (17)

  1. 　衝撃吸収層と支持体と機能層とを有し、
    　前記衝撃吸収層の膜厚は１μｍ以上であり、
    　前記衝撃吸収層は、２５℃において、周波数１０～１０５Ｈｚの範囲のｔａｎδの最大値が２．０以下である積層体。
    　ただし、前記ｔａｎδは貯蔵弾性率に対する損失弾性率の比である。
  2. 　前記衝撃吸収層が、２５℃において、周波数１０～１０５Ｈｚの範囲の貯蔵弾性率の最大値が４０００ＭＰａ以下である請求項１に記載の積層体。
  3. 　前記衝撃吸収層が、２５℃において、周波数１０５～１０１３Ｈｚの範囲、または周波数１０－２～１０２Ｈｚの範囲に、ｔａｎδの極大値を有する請求項１又は２に記載の積層体。
  4. 　前記支持体の剛性が５Ｎ・ｍｍ以上である請求項１～３のいずれか１項に記載の積層体。
  5. 　前記積層体を微小硬度試験機にて５００ｍＮで押し込みした際の、最大押し込み深さが５．０μｍ以下である請求項１～４のいずれか１項に記載の積層体。
  6. 　前記衝撃吸収層が、メタクリル酸メチルとｎ－ブチルアクリレートのブロック共重合体を含む請求項１～５のいずれか１項に記載の積層体。
  7. 　前記衝撃吸収層が、イソプレン系エラストマーを含む請求項１～６のいずれか１項に記載の積層体。
  8. 　前記衝撃吸収層が、スチレンとイソプレンのブロック共重合体を含む請求項１～７のいずれか１項に記載の積層体。
  9. 　前記衝撃吸収層の厚みが１～１００μｍである請求項１～８のいずれか１項に記載の積層体。
  10. 　前記衝撃吸収層が、押し込み測定時における回復率が３０％以上の粒子を含む請求項１～９のいずれか１項に記載の積層体。
  11. 　前記機能層が、重合性化合物の硬化物を含むハードコート層である請求項１～１０のいずれか１項に記載の積層体。
  12. 　前記機能層が、無機酸化物層である請求項１～１１のいずれか１項に記載の積層体。
  13. 　前記衝撃吸収層と前記支持体と前記機能層とをこの順で有する請求項１～１２のいずれか１項に記載の積層体。
  14. 　請求項１～１３のいずれか１項に記載の積層体が偏光子を有する偏光板。
  15. 　請求項１～１３のいずれか１項に記載の積層体又は請求項１３に記載の偏光板を有する画像表示装置。
  16. 　衝撃吸収層形成用組成物を前記支持体上に塗布して前記衝撃吸収層を形成する工程を含む、請求項１～１３のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
  17. 　前記衝撃吸収層を剥離フィルム上に形成する工程と、前記衝撃吸収層を前記支持体に転写する工程とを含む、請求項１～１３のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
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