CN109649974B - 搬运系统 - Google Patents

搬运系统 Download PDF

Info

Publication number
CN109649974B
CN109649974B CN201811189697.6A CN201811189697A CN109649974B CN 109649974 B CN109649974 B CN 109649974B CN 201811189697 A CN201811189697 A CN 201811189697A CN 109649974 B CN109649974 B CN 109649974B
Authority
CN
China
Prior art keywords
work
specific
congestion
specific vehicle
point
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201811189697.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN109649974A (zh
Inventor
小川大介
矢嶋翼
高原正裕
西川智晶
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daifuku Co Ltd
Original Assignee
Daifuku Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daifuku Co Ltd filed Critical Daifuku Co Ltd
Publication of CN109649974A publication Critical patent/CN109649974A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN109649974B publication Critical patent/CN109649974B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G35/00—Mechanical conveyors not otherwise provided for
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
    • H01L21/67265—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection of substrates stored in a container, a magazine, a carrier, a boat or the like
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/6773—Conveying cassettes, containers or carriers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G1/00—Storing articles, individually or in orderly arrangement, in warehouses or magazines
    • B65G1/02—Storage devices
    • B65G1/04—Storage devices mechanical
    • B65G1/0492—Storage devices mechanical with cars adapted to travel in storage aisles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G1/00—Storing articles, individually or in orderly arrangement, in warehouses or magazines
    • B65G1/02—Storage devices
    • B65G1/04—Storage devices mechanical
    • B65G1/137—Storage devices mechanical with arrangements or automatic control means for selecting which articles are to be removed
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G1/00—Storing articles, individually or in orderly arrangement, in warehouses or magazines
    • B65G1/02—Storage devices
    • B65G1/04—Storage devices mechanical
    • B65G1/137—Storage devices mechanical with arrangements or automatic control means for selecting which articles are to be removed
    • B65G1/1373—Storage devices mechanical with arrangements or automatic control means for selecting which articles are to be removed for fulfilling orders in warehouses
    • G—PHYSICS
    • G08—SIGNALLING
    • G08G—TRAFFIC CONTROL SYSTEMS
    • G08G1/00—Traffic control systems for road vehicles
    • G08G1/01—Detecting movement of traffic to be counted or controlled
    • G08G1/0104—Measuring and analyzing of parameters relative to traffic conditions
    • G08G1/0137—Measuring and analyzing of parameters relative to traffic conditions for specific applications
    • G08G1/0145—Measuring and analyzing of parameters relative to traffic conditions for specific applications for active traffic flow control
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67046—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly scrubbing means, e.g. brushes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67051—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67276—Production flow monitoring, e.g. for increasing throughput
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67724—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations by means of a cart or a vehicule
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67733—Overhead conveying

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Control Of Position, Course, Altitude, Or Attitude Of Moving Bodies (AREA)
  • Control Of Conveyors (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Liquid Crystal Substances (AREA)

Abstract

本发明在具备多个搬运物品的搬运车的搬运系统中，实现能够缓和由于进行特定的作业的特定车的行进速度比搬运车低而产生的拥堵的技术。本发明的搬运系统具备多个在搬运路径上行进来搬运物品的搬运车，还具备特定车和拥堵判定部，前述特定车在搬运路径上以比搬运车低的速度行进，同时进行特定的作业，前述拥堵判定部判定特定车的后方有无拥堵。在拥堵判定部判定成存在拥堵的情况下，特定车中断作业，并且执行从进行作业的作业地点避让的避让行进。

Description

搬运系统
技术领域
本发明涉及具备多个在搬运路径上行进来搬运物品的搬运车的搬运系统。
背景技术
例如在日本特开2013-000605号公报公开了具备多个在搬运路径上行进来搬运物品的搬运车的搬运系统(以下，在背景技术中在括号内标注的附图标记是参考文献的附图标记。)。在该搬运系统中，借助能够在行进引导部(L)行进的多个搬运用台车(2)搬运物品(7)。此外，该搬运系统除了上述搬运用台车(2)之外，还具备能够在行进引导部(L)行进的清扫用台车(W)，借助该清扫用台车(W)将附着于行进引导部(L)的灰尘除去等，进行该行进引导部(L)的清扫。这样，在该搬运系统中，构成为，进行物品(7)的搬运以外的特定作业(这里是指行进引导部(L)的清扫)的特定车在与搬运用台车(2)行进的路径相同的路径上行进。
但是，清扫用台车(W)的行进速度为了适当地进行行进引导部(L)的清扫而大多设定成比搬运用台车(2)低。此外，不限于清扫作业，在进行搬运以外的特定作业的情况下，有进行该特定作业的特定车的行进速度设定成比搬运台车(2)低的情况。并且，这样的特定车以比搬运用台车(2)低的速度行进的情况下，有在特定车的后方发生由于多个搬运用台车(2)产生的拥堵的情况。但是，记载于上述文献的技术中，关于对于这样的拥堵的对策没有特别考虑。
发明内容
因此，在具备多个搬运物品的搬运车的搬运系统中，希望实现能够缓和由于进行特定的作业的特定车的行进速度比搬运车低而产生的拥堵的技术。
鉴于上述情况的具备多个在搬运路径上行进来搬运物品的搬运车的搬运系统的特征在于，还具备特定车和拥堵判定部，前述特定车在前述搬运路径上以比前述搬运车低的速度行进的同时进行特定的作业，前述拥堵判定部判定是否存在在前述特定车的后方的拥堵，前述拥堵判定部判定成存在拥堵的情况下，前述特定车中断前述作业，并且执行从进行前述作业的作业地点避让的避让行进。
根据本方案，特定车以比搬运车低的速度行进的同时进行特定的作业，所以容易将作业精度较高地维持。并且，在特定车的后方发生拥堵的情况下，特定车中断作业来执行避让行进，所以在特定车的后方行进的搬运车能够比较快的恢复成能够以通常的行进速度行进的状态，能够缓和拥堵。
根据参照附图记述的以下的例示性且非限定性的实施方式的说明，更加明确本发明的技术的进一步的特征和优点。
附图说明
图1是表示搬运系统的配置的一例的俯视示意图。
图2是特定车及搬运车的侧视示意图。
图3是搬运系统的控制框图。
图4是表示拥堵判定基准的一例的说明图。
图5是表示避让行进后的作业开始地点的一例的说明图。
图6是表示控制流程的流程图。
图7是第2实施方式的搬运系统的控制框图。
图8是表示第2实施方式的避让行进后的作业开始地点的一例的说明图。
图9是表示执行优先地点判定处理时的处理流程的一例的流程图。
图10是表示第2实施方式的控制流程的流程图。
具体实施方式
1.第1实施方式
参照附图，对搬运系统的第1实施方式进行说明。
1-1.搬运系统的机械结构
如图1所示，搬运系统1具备多个在搬运路径99上行进来搬运物品9(参照图2)的搬运车2。搬运车2将物品9向各处搬运。例如，作为搬运对象的物品9是容纳半导体晶片的容器(前开式统集盒，Front Opening Unified Pod；FOUP)等。该情况下，搬运车2将物品9向用于处理半导体基板的处理装置、用于暂时保管半成品的保管库等搬运物品9。以下，以搬运系统1应用于半导体制造设备的情况为例进行说明。
搬运路径99由沿顶棚设置的行进轨道R设定，搬运车2构成为通过在该行进轨道R行进来在搬运路径99上行进。
如图2所示，搬运车2具备行进部21、主体部23、连结行进部21和主体部23连结部22。行进部21配置于行进轨道R的上侧。主体部23借助连结部22连结于行进部21，配置于行进轨道R的下侧。
行进部21具有在行进轨道R上滚动的多个车轮21A。在本例中，多个车轮21A设置于行进部21的左右及前后，行进部21合计有四个车轮21A。多个车轮21A中的至少一个被未图示的行进马达驱动而在行进轨道R上滚动。
在主体部23具备用于移载物品9的移载装置24。移载装置24在搬运车2和搬运对象场所(处理装置、保管库等)之间移载物品9。省略详细的说明，但移载装置24例如具有用于把持物品9的把持部、用于在与配置于行进轨道R的下方的搬运对象场所之间使物品9升降的升降部、此外根据需要用于将物品9的姿势改变成与搬运对象场所对应的适当的姿势的旋转部等。但是，移载装置24具备用于在与搬运对象场所之间移载物品9所必要的结构即可，不限于如上所述的结构。
如图3所示，搬运车2具备位置信息读取部2F，前述位置信息读取部2F用于从设置于搬运路径99或其附近的各地点的位置信息储存部F读取该各地点的位置信息。由此，搬运车2能够把握本车的当前位置。另外，位置信息储存部F例如可以由条形码构成，也可以由无线标签构成。在位置信息储存部F由条形码构成的情况下，位置信息读取部2F构成为条形码读取器，在位置信息储存部F构成为无线标签的情况下，位置信息读取部2F可以构成为标签读取器。
如图1所示，搬运系统1具备特定车3，前述特定车3在搬运路径99上以比搬运车2低的速度行进，同时进行特定的作业。在本实施方式中，在搬运路径99中设定有多个作业区域WA，特定车3在各作业区域WA进行特定的作业。另外，作业区域WA能够设定于任意的范围，不限于图示的例子。此外，在搬运路径99上行进的特定车3的台数能够设定成任意的台数，但至少设定成比搬运车2的台数少的台数较好。在图示的例子中，搬运系统1相对于多个搬运车2具备一台特定车3。
这里，在本说明书中，“特定的作业”是用于搬运物品9的作业以外的作业，例如包括用于清扫行进轨道R的清扫作业、用于制作搬运路径99的地图或者用于将设备内的需要维护部位特定的摄像作业等。在本实施方式中，特定的作业是用于清扫行进轨道R的清扫作业，特定车3构成为进行清扫作业的清扫车。特定车3进行用于除去附着于行进轨道R的灰尘等的清扫作业。以下，有时将作为特定的作业的清扫作业简称作“特定作业”来说明的情况。
如图2所示，特定车3具备行进部31、主体部33、连结行进部31和主体部33的连结部32。行进部31配置于行进轨道R的上侧。主体部33借助连结部32与行进部31连结，配置于行进轨道R的下侧。
行进部31具有在行进轨道R上滚动的多个车轮31A。在本例中，多个车轮31A设置于行进部31的左右及前后，行进部31具有合计四个车轮31A。多个车轮31A的至少一个被未图示的行进马达驱动而在行进轨道R上滚动。
如图3所示，特定车3具备位置信息读取部3F，清扫位置信息读取部3F用于从设置于搬运路径99或其附近的各地点的位置信息储存部F读取该各地点的位置信息。由此，特定车3能够把握本车的当前位置。如上所述，特定车3的基本结构与搬运车2大致相同。
这里，特定车3还具备扫除机单元34。并且，特定车3构成为能够借助扫除机单元34清扫行进轨道R。
如图2所示，扫除机单元34具有抽吸行进轨道R上的灰尘等的喷嘴部34A、在该喷嘴部34A产生抽吸力的抽吸力产生部34B。在图示的例子中，喷嘴部34A设置于行进部31，借助软管部34C与抽吸力产生部34B连接。此外，在图示的例子中，抽吸力产生部34B设置于主体部33。但是，不限于这样的结构，抽吸力产生部34B也可以设置于行进部31。抽吸力产生部34B例如具备马达和被该马达驱动的泵。
在本实施方式中，扫除机单元34还具有用于使附着于行进轨道R的灰尘等从该行进轨道R剥离的刷子部34D。在图示的例子中，刷子部34D设置于行进部31，相对于喷嘴部34A与特定车3的行进方向的前侧相邻地配置。由此，能够在基于喷嘴部34A的抽吸前，使附着于行进轨道R的灰尘等从该行进轨道R剥离而呈容易抽吸的状态。
1-2.搬运系统的控制结构
如图3所示，搬运系统1具备控制系统整体的总括控制装置4H、控制搬运车2的动作的搬运车控制装置2H、控制特定车3的动作的特定车控制装置3H。搬运车控制装置2H装备于多个搬运车2的每一个。特定车控制装置3H装备于特定车3。这些控制装置例如具备微型计算机等处理器、存储器等周边回路等。并且，通过这些硬件和在计算机等处理器上执行的程序的协同工作来实现各功能。
总括控制装置4H构成为能够与搬运车控制装置2H及特定车控制装置3H的每一个通信。总括控制装置4H具备用于向搬运车控制装置2H(搬运车2)及特定车控制装置3H(特定车3)进行各种指令的指令部41。例如，总括控制装置4H相对于搬运车控制装置2H(搬运车2)进行用于搬运物品9的搬运指令，相对于特定车控制装置3H(特定车3)进行用于进行特定作业的作业指令。
总括控制装置4H具备储存各种的信息的储存部42。储存部42例如针对多个作业区域WA储存进行特定作业的日期和时间。此外，在本实施方式中，储存部42至少储存后述的拥堵判定基准、判定开始阈值Tt、中断阈值Nt。
总括控制装置4H具备从搬运车控制装置2H(搬运车2)及特定车控制装置3H(特定车3)取得对应的搬运车2及特定车3的当前位置的位置信息取得部4F。由此，能够把握存在于搬运路径99的搬运车2及特定车3的当前位置。
总括控制装置4H具备用于判定开始特定作业的开始地点SP的开始地点判定部44。在本例中，基于搬运车2及特定车3的行进方向定义上游及下游的情况下，多个作业区域WA的各最上游地点中的某个被判定成开始地点SP。在本实施方式中，开始地点判定部44基于在储存部42针对多个作业区域WA储存着的进行特定作业的日期和时间，针对多个作业区域WA计算从该日期和时间至当前的经过期间。并且，将多个作业区域WA中的从进行上次的特定作业时(日期和时间)至当前的经过期间较长的作业区域WA设为开始区域SA，将该开始区域SA的最上游地点判定成开始地点SP(参照图1)。具体地，开始地点判定部44基于预先储存于储存部42的基准期间PE(例如1周)，抽出从进行上次的特定作业至当前的经过期间为基准期间PE以上的作业区域WA。由此抽出一个作业区域WA的情况下，该作业区域WA为开始区域SA。另一方面，抽出多个作业区域WA的情况下，开始地点判定部44将被抽出的多个作业区域WA中的从进行上次的特定作业时至当前的经过期间最长的作业区域WA设为开始区域SA。总括控制装置4H以在开始地点SP开始特定作业的方式对于特定车控制装置3H(特定车3)进行作业指令。由此，能够作为系统整体高效地进行特定作业。
该搬运系统1具备判定是否存在特定车3的后方的拥堵的拥堵判定部45。在本例中，总括控制装置4H具备拥堵判定部45。在本实施方式中，拥堵判定部45基于拥堵判定基准，判定是否存在特定车3的后方的拥堵(以下简称作拥堵)。
这里，总括控制装置4H具有用于设定拥堵判定基准的判定基准设定部43，拥堵判定基准根据各种参数设定。如图4所示，在本实施方式中，将在设定于特定车3的后方的设定范围SR存在设定台数SN以上的搬运车2设为拥堵判定基准。在图4中例示设定台数SN设定为5台的情况。在满足拥堵判定基准的情况下，在本例中，在设定范围SR存在5台以上的搬运车2的情况下，拥堵判定部45判定成存在拥堵。总括控制装置4H构成为如上所述地能够把握存在于搬运路径99的搬运车2的当前位置，所以基于各搬运车2的当前位置把握设定范围SR内的搬运车2的台数。另外，设定范围SR及设定台数SN可以根据设备的特性(搬运车2的通常速度等)适当设定。
此外，拥堵判定基准优选地能够根据各种状况可变地设定。例如，考虑限定的区域内的情况下，存在于该区域内的搬运车2的台数越多，越容易发生多个搬运车2相关的较大的拥堵。在本实施方式中，拥堵判定基准被可变地设定，使得与在特定车3进行特定作业的作业区域WA内存在的搬运车2的台数对应，在该台数较多的情况下，与该台数较少的情况相比，拥堵判定部45容易判定成存在拥堵。例如，设定台数SN在设定最初的状态下，能够以设定范围SR变宽的方式将拥堵判定基准可变地设定。或者，设定范围SR在设定最初的状态下，能够以设定台数SN变少的方式将拥堵判定基准可变地设定。由此，能够在未发生较大的拥堵时较早地判定有无拥堵，能够迅速地进行用于缓和拥堵的对应。
该搬运系统1中，在拥堵判定部45判定成存在拥堵的情况下，特定车3中断特定作业并且执行从进行特定作业的作业地点WP避让的避让行进。在本实施方式中，特定车3在从总括控制装置4H接受用于使特定作业中断的作业中断指令来中断该特定作业后，通过接受避让行进指令来执行避让行进。在避让行进指令中，总括控制装置4H相对于特定车3例如指示成在与该特定车3的后方行进的搬运车2的行进路径不同的路径上行进。由此，能够使特定车3从搬运车2的前方避让，能够使该搬运车2以通常速度(或比通常速度快的速度)行进。结果，能够缓和拥堵。这里，在搬运系统1中，在设置有除了搬运路径99之外的避让用路径的情况下，特定车3也可以通过避让行进的执行在该避让用路径上行进。另外，在拥堵判定部45未判定成存在拥堵的情况(判定成无拥堵的情况)下，特定车3继续特定作业。
在本实施方式中，避让行进中的特定车3的行进速度设定成比特定作业中特定车3的行进速度快的速度。由此，在特定车3开始避让行进的阶段，能够使在该特定车3的后方行进的搬运车2的行进速度变快，能够更早地实现拥堵的缓和。
这里，避让行进中的特定车3的行进速度的上限优选为，扫除机单元34的喷嘴部34A、刷子部34D没有与行进轨道R猛烈地接触而破损的可能性的范围。例如，避让行进中的特定车3的行进速度的上限优选地设定成与搬运车2的通常速度(例如正在搬运物品9的速度)相同的程度。即使是这样的设定，也能够使在特定车3的后方行进的搬运车2以通常速度行进。
此外，例如，构成为扫除机单元34的喷嘴部34A、刷子部34D突出退回自如，扫除机单元34也优选地构成为自由地切换成作业状态(喷嘴部34A、刷子部34D向接近行进轨道R侧突出的状态)和非作业状态(喷嘴部34A、刷子部34D向从行进轨道R离开的一侧退回的状态)。该情况下，扫除机单元34可以构成为特定车3在避让行进中的状态下呈非作业状态。根据该方案，能够抑制由与行进轨道R的接触引起的喷嘴部34A、刷子部34D的破损等，并且能够使避让行进中的特定车3的行进速度更高。
如图5所示，在本实施方式中，特定车3在避让行进的执行后，返回中断特定作业的作业地点WP(中断地点CP)再次开始特定作业。在本例中，开始地点判定部44在存在基于特定车3的避让行进的情况下，将中断特定作业的作业地点WP(中断地点CP)判定成再次开始特定作业的再次开始地点RP。
以上对进行基于拥堵判定部45的有无拥堵的判定处理的情况进行了说明。但是，在本实施方式中，拥堵判定部45构成为，特定作业的继续时间T超过预先设定的判定开始阈值Tt为止都不进行有无拥堵的判定处理。如上所述，判定开始阈值Tt储存于总括控制装置4H具备的储存部42。并且，如图3所示，在本例中，总括控制装置4H具备作业时间计量部46，前述作业时间计量部46用于计量从特定车3的特定作业开始后的该特定作业的继续时间T。这里，作业时间计量部46计量的特定作业的继续时间T是在一个作业区域WA内连续进行的特定作业的继续时间。拥堵判定部45构成为，对照储存于储存部42的判定开始阈值Tt和由作业时间计量部46计量的特定作业的继续时间T，在继续时间T超过判定开始阈值Tt为止都不进行有无拥堵的判定处理。并且，拥堵判定部45在继续时间T超过判定开始阈值Tt的情况下，进行有无拥堵的判定处理。另外，判定开始阈值Tt是表示时间的值，可以适当地设定成合适的值。作为一例，判定开始阈值Tt也可以设定成30~60秒。
此外，以上对由拥堵判定部45判定成存在拥堵的情况下特定车3中断特定作业并且执行避让行进的情况进行了说明。但是，在本实施方式中，构成为一个作业区域WA内的特定作业的中断次数N达到预先设定的中断阈值Nt的情况下，即使是拥堵判定部45判定成存在拥堵的情况下，特定车3也继续该特定作业至该作业区域WA的特定作业完成。如上所述，中断阈值Nt储存于总括控制装置4H具备的储存部42。并且，如图3所示，在本例中，总括控制装置4H具备中断次数计量部47，前述中断次数计量部47用于计量一个作业区域WA内的特定作业的中断次数N。在本例中，中断次数计量部47构成为，在其他作业区域WA不进行特定作业，而在一个作业区域WA连续发生特定作业的中断的情况下，合计该作业区域WA内的特定作业的中断次数N。换言之，在某作业区域WA产生特定作业的中断后，在其他作业区域WA设定成优先作业区域PA而在该优先作业区域PA开始特定作业的情况下，发生特定作业的中断的上述作业区域WA的特定作业的中断次数N重置为初始值(零)。但是，不限于这样的结构，中断次数计量部47也可以构成为，即使在一个作业区域WA不连续地发生特定作业的中断的情况下，也随时将中断次数N合计。另外，上述任意结构都在一个作业区域WA完成特定作业的情况下，将该作业区域WA的中断次数N重置为初始值(零)。
总括控制装置4H构成为，即使在对照储存于储存部42的中断阈值Nt和由中断次数计量部47计量的一个作业区域WA内的特定作业的中断次数N而在中断次数N达到中断阈值Nt的情况下由拥堵判定部45判定成存在拥堵的情况下，相对于特定车3也不进行作业中断指令。总括控制装置4H在中断次数N未达到中断阈值Nt的情况下由拥堵判定部45判定成存在拥堵的情况下，相对于特定车进行作业中断指令及避让行进指令。另外，中断阈值Nt是表示次数(自然数)的值，可以适当地设定成合适的值。作为一例，中断阈值Nt可以设定成5~10次。
接着，参照图6的流程图，对在搬运系统1进行的控制流程进行说明。
总括控制装置4H相对于特定车3进行使其进行特定作业的作业指令(＃10)。如上所述，作为进行特定作业的作业区域WA，选择多个作业区域WA中的从进行上次的特定作业时(日期和时间)至当前的经过期间较长的作业区域WA作为开始区域SA。总括控制装置4H进行作业指令后，进行拥堵判定基准的设定(＃11)。在本例中，基于选择的作业区域WA内存在的搬运车2的台数，设定特定车3的后方的设定范围SR及设定范围SR内的搬运车2的设定台数SN。另外，相对于特定车3的作业指令和拥堵判定基准的设定的实施的顺序也可以相反。
总括控制装置4H在设定拥堵判定基准后，判定特定作业的继续时间T是否超过判定开始阈值Tt(＃12)。至特定作业的继续时间T超过判定开始阈值Tt为止，都不进行有无拥堵的判定，继续特定作业(＃12；否)。在判定成特定作业的继续时间T超过判定开始阈值Tt的情况下(＃12；是)，总括控制装置4H判定有无特定车3的后方的拥堵(＃13)。有无拥堵的判定基于拥堵判定基准由拥堵判定部45进行。判定成没有拥堵的情况下(＃13；否)，继续特定作业并且周期地重复有无拥堵的判定。
在判定成存在拥堵的情况下(＃13；是)，总括控制装置4H判定进行特定作业的作业区域WA的当前的特定作业的中断次数N是否达到中断阈值Nt(＃14)。在判定成中断次数N达到中断阈值Nt的情况下(＃14；是)，继续特定作业。
在判定成存在拥堵的情况下(＃13；是)，在判定成中断次数N未达到中断阈值Nt的情况下(＃14；否)，总括控制装置4H相对于特定车3进行使特定作业中断的作业中断指令(＃15)，并且进行使特定车3从作业地点WP(中断地点CP)避让的避让行进指令(＃16)。
作业中断指令及避让行进指令进行后(＃15、＃16)，总括控制装置4H进行如下内容的指令：将特定作业中断的作业地点WP(中断地点CP)设为再次开始特定作业的再次开始地点RP，在该再次开始地点RP(中断地点CP)进行特定作业(＃17)。
2.第2实施方式
接着，对搬运系统1的第2实施方式进行说明。在本实施方式中，与上述第1实施方式相比控制结构不同。以下，主要对与上述第1实施方式不同的方面进行说明。关于未特别说明的方面与上述第1实施方式相同。
如图7所示，在在本实施方式中，总括控制装置4H具备优先地点判定部48，前述优先地点判定部48用于判定应优先进行特定作业的地点即优先地点PP。在本例中，优先地点判定部48在特定车3执行避让行进后，判定是否有应比中断特定作业的作业地点WP(中断地点CP)在先进行的特定作业的地点即优先地点PP。并且，优先地点判定部48在判定有应比中断地点CP优先的优先地点PP的情况下，如图8所示，特定车3在避让行进的执行后，向该优先地点PP移动来开始特定作业。由此，能够作为系统整体使特定车3进行的特定作业的作业效率提高。
优先地点判定部48通过执行优先地点判定处理，判定优先地点PP的有无。在图9中示出表示执行优先地点判定处理时的处理流程的一例的流程图。
在本实施方式的优先地点判定处理中，如图9所示，首先，优先地点判定部48针对每个作业区域WA计算经过期间指标X，前述经过期间指标X为与从进行上次的特定作业时至当前的经过期间对应的指标(＃100)。经过期间指标X以从进行上次的特定作业至当前的经过期间越长则值越高的方式计算。即，经过期间指标X的值越高(经过期间越长)，应进行特定作业的优先顺位越变高。例如，能够设定成，距上次特定作业的经过天数为每“1天”经过期间指标X的值增加“1”。
此外，优先地点判定部48针对每个作业区域WA计算与作业区域WA内的搬运车2的密度对应的指标即台车密度指标Y(＃200)。这里，搬运车2的密度能够由各作业区域WA的每单位路径长度的搬运车2的台数表示。并且，台车密度指标Y以搬运车2的密度越小值越高的方式被计算。即，台车密度指标Y的值越高 (台车密度越小)，应进行特定作业的优先顺位越变高。例如，能够设定成每路径长度“10〔m〕”的搬运车2的台数的倒数为台车密度指标Y。
并且，在本实施方式中，优先地点判定部48对经过期间指标X和台车密度指标Y的和乘以中断地点优先系数α来计算优先度Z (＃300)。优先度Z针对每个作业区域WA计算。这里，中断地点优先系数α为，关于过去进行特定作业的中断且该作业区域WA内的特定作业未完成的作业区域WA设为“比1大的值(实数)”，关于过去未进行特定作业的中断的作业区域WA或即使过去进行特定作业的中断的情况下之后已完成特定作业的作业区域WA设为“1”。由此，过去中断特定作业且在作业区域WA的整体未完成特定作业的作业区域WA容易被选择成优先地点PP。
针对每个作业区域WA计算优先度Z后，优先地点判定部48在即将进行优先地点判定处理之前在特定作业中断的中断地点CP属于的作业区域WA和其他作业区域WA比较优先度Z (＃400)。由此，判定有无优先地点PP(＃500)。具体地，在即将进行优先地点判定处理之前存在具有比特定作业中断的中断地点CP属于的作业区域WA的优先度Z高的优先度Z的作业区域WA的情况下，该具有较高优先度Z的作业区域WA设为优先作业区域PA (参照图8)。另外，存在多个具有比中断地点CP属于的作业区域WA的优先度Z高的优先度Z的作业区域WA的情况下，其中优先度Z最高的作业区域WA设为优先作业区域PA。
并且，中断地点CP属于的作业区域WA的优先度Z最高的情况下，将中断地点CP设为再次开始特定作业的再次开始地点RP。中断地点CP属于的作业区域WA以外的作业区域WA被判定成优先作业区域PA的情况下，如下所述地确定再次开始地点RP。即，在优先作业区域PA，在过去未进行特定作业的中断、或过去即使进行特定作业的中断的情况下之后完成特定作业的情况下，该优先作业区域PA的最上游地点被判定成优先地点PP，该优先地点PP被确定成再次开始地点RP。另一方面，虽省略图示，但在优先作业区域PA，过去进行特定作业的中断且该优先作业区域PA的特定作业未完成的情况下，过去中断特定作业的中断地点CP被判定成优先地点PP，该优先地点PP被确定成再次开始地点RP。另外，在图8中，省略在作业区域WA内行进的搬运车2。
接着，参照图10的流程图，说明在本实施方式中进行的控制流程。另外，图10所示的本实施方式的步骤＃20~步骤＃26与图6所示的第1实施方式的步骤＃10~步骤＃16相同，所以省略说明。以下对本实施方式的步骤＃26之后进行的控制流程进行说明。
总括控制装置4H如图10所示，在进行避让行进指令后(＃26)，进行用于判定应比中断地点CP优先的优先地点PP的有无的优先地点判定处理(＃27)。总括控制装置4H在通过执行优先地点判定处理判定成没有优先地点PP的情况下(＃28；否)，相对于特定车3进行将中断地点CP作为再次开始地点RP来进行特定作业的内容的作业指令 (＃29)。总括控制装置4H在通过优先地点判定处理的执行判定成有优先地点PP的情况下(＃28；是)，相对于特定车3进行将优先地点PP作为再次开始地点RP来进行特定作业的内容的作业指令 (＃30)。
3.其他实施方式
接着，对搬运系统1的其他实施方式进行说明。
(1)在上述各实施方式中，对避让行进中的特定车3的行进速度被设定成比特定作业中的特定车3的行进速度快的速度的例子进行了说明。但是，不限于这样的例子，避让行进中的特定车3的行进速度也可以设定成与特定作业中的特定车3的行进速度相同程度的速度。
(2)在上述各实施方式中，对设定作为基于特定作业的继续时间T是否进行有无拥堵的判定处理的基准的判定开始阈值Tt的例子进行了说明。但是，不限于这样的例子，也可以不设定判定开始阈值Tt。该情况下，在满足拥堵判定基准的情况下，拥堵判定部45与特定作业的继续时间T无关地判定有无拥堵。
(3)在上述各实施方式中，对设定作为基于一个作业区域WA内的特定作业的中断次数N是否进行特定作业的中断的判断的基准的中断阈值Nt的例子进行了说明。但是，不限于这样的例子，也可以不设定中断阈值Nt。该情况下，在借助拥堵判定部45判定成存在拥堵的情况下，特定车3与该作业区域WA内的特定作业的中断次数N无关地中断特定作业来执行避让行进。
(4)在上述各实施方式中，对与特定车3进行特定作业的作业区域WA内存在的搬运车2的台数对应地可变地设定拥堵判定基准的例子进行了说明。但是，不限于这样的例子，拥堵判定基准也可以固定为预先设定的基准。或者，也可以是构成为，拥堵判定基准与存在于作业区域WA内的搬运车2的台数以外的条件对应地可变地设定。例如，也可以构成为，拥堵判定基准被可变地设定成，基于各作业区域WA的从进行上次的特定作业的日期和时间至当前的经过期间，在该经过期间较长的情况下，与该经过期间较短的情况相比判定成存在拥堵。
(5)在上述第1实施方式中，对将多个作业区域WA中的从进行上次特定作业时(日期和时间)至当前的经过期间较长的作业区域WA设为开始区域SA、将该开始区域SA的最上游地点判定成开始地点SP的例子进行了说明。但是，不限于这样的例子，也可以是，在多个作业区域WA中的某个在上次的特定作业的实施期间中由于特定作业中断而存在特定作业还未完成的作业区域WA的情况下，将该作业区域WA设为开始区域SA，将上次的特定作业中断的中断地点CP判定成开始地点SP。
(6)在上述各实施方式中，对特定车3构成为清扫车的例子进行了说明。但是，不限于这样的例子，特定车3也可以具有物品9的搬运及行进轨道R的清扫这二者的功能。换言之，也可以是，多个搬运车2中的某个构成为具有行进轨道R的清扫功能的特定车3。此外，如上所述，特定车3进行的特定作业不限于清扫作业，也可以是沿行进轨道R进行摄像作业、用于发现异物、异常的检查作业等其他作业。
(7)在上述各实施方式中，对构成为搬运车2及特定车3在沿顶棚设置的行进轨道R行进的例子进行了说明。但是，不限于这样的例子，搬运车2及特定车3例如也可以是在地面行进的无人搬运车等。
(8)另外，上述各实施方式所公开的结构只要不产生矛盾，就也能够与其他实施方式中公开的结构组合来应用。关于其他结构，在本说明书中公开的实施方式在所有的方面也都不过是例示。因此，能够在不脱离本发明的宗旨的范围内，适当地进行各种改变。
4.上述实施方式的概要
以下，对上述说明的搬运系统的概要进行说明。
一种搬运系统，前述搬运系统具备多个在搬运路径上行进来搬运物品的搬运车，还具备特定车和拥堵判定部，前述特定车在前述搬运路径上以比前述搬运车低的速度行进，同时进行特定的作业，前述拥堵判定部判定前述特定车的后方有无拥堵，在前述拥堵判定部判定成存在拥堵的情况下，前述特定车中断前述作业，并且执行从进行前述作业的作业地点避让的避让行进。
根据本方案，特定车以比搬运车低的速度行进的同时进行特定的作业，所以容易将作业精度维持成较高。并且，在特定车的后方发生拥堵的情况下，特定车中断作业来执行避让行进，所以在特定车的后方行进的搬运车能够比较快地恢复能够以通常的行进速度行进的状态，能够缓和拥堵。
这里，优选的是，前述特定车在前述避让行进的执行后，返回中断前述作业的前述作业地点，再次开始前述作业。
根据本方案，通过避让行进的执行缓和拥堵后，能够从中断的作业地点再次进行作业。由此，能够缓和拥堵，并且能够较早地完成当初预定的作业区域的作业。
此外，优选的是，还具备优先地点判定部，前述优先地点判定部判定有无应比中断前述作业的前述作业地点先进行前述作业的地点即优先地点，在前述优先地点判定部判定成有优先地点的情况下，前述特定车在前述避让行进的执行后向前述优先地点移动来开始前述作业。
根据本方案，能够利用用于缓和拥堵的避让行进进行向优先地点的移动。由此，作为系统整体，能够使特定车进行的特定作业的作业效率提高。
此外，优选的是，前述避让行进中的前述特定车的行进速度设定成比前述作业中的前述特定车的行进速度快的速度。
根据本方案，在特定车开始避让行进的阶段，能够使在该特定车的后方行进的搬运车的行进速度变快。由此，能够更早地实现拥堵的缓和。
此外，优选的是，前述拥堵判定部在前述作业的继续时间超过预先设定的判定开始阈值为止都不进行有无拥堵的判定处理。
根据本方案，能够限制在特定车的作业刚开始后该作业被中断。因此，能够避免特定车的作业几乎不进行地仅重复特定车的避让行进这样的情况的发生。
此外，优选的是，多个作业区域设定于前述搬运路径中，在一个前述作业区域内的前述作业的中断次数达到预先设定的中断阈值的情况下，即使在前述拥堵判定部判定成存在拥堵的情况下，前述特定车也继续前述作业直至该作业区域的前述作业完成。
根据本方案，能够限制一个作业区域内的特定车的作业重复相当于中断阈值的次数以上而中断。因此，能够缓和由于特定车产生的拥堵，并且也能够避免产生各作业区域的作业经过多久都不能完成那样的情况发生。
此外，优选的是，多个作业区域设定于前述搬运路径中，拥堵判定基准被可变地设定成，与在前述特定车进行前述作业的前述作业区域内存在的前述搬运车的台数对应，在该台数较多的情况下与该台数较少的情况下相比，前述拥堵判定部容易判定成存在拥堵。
在存在于作业区域内的搬运车的台数较多的情况下，与该台数较少的情况相比，容易发生关于多个搬运车的较大的拥堵。根据本方案，在存在于作业区域内的搬运车的台数较多的情况下容易判定成存在拥堵，所以能够趁未发生较大的拥堵较早地执行避让行进。因此，能够更有效地实施用于缓和拥堵的控制。
附图标记说明
1 ：搬运系统
2 ：搬运车
3 ：特定车
9 ：物品
44 ：优先地点判定部
45 ：拥堵判定部
99 ：搬运路径
WA ：作业区域
WP ：作业地点
CP ：中断地点
PP ：优先地点
T ：继续时间
Tt ：判定开始阈值
N ：中断次数
Nt ：中断阈值。

Claims (8)

1.一种搬运系统，前述搬运系统具备多个在搬运路径上行进来搬运物品的搬运车，其特征在于，
还具备如下特定车和拥堵判定部，前述特定车在前述搬运路径上以比前述搬运车低的速度行进，同时进行特定的作业，前述拥堵判定部判定前述特定车的后方有无拥堵，
在前述拥堵判定部判定成存在拥堵的情况下，前述特定车中断前述作业，并且执行从进行前述作业的作业地点避让的避让行进。
2.如权利要求1所述的搬运系统，其特征在于，
前述特定车在执行前述避让行进后，返回至中断前述作业的前述作业地点，再次开始前述作业。
3.如权利要求1所述的搬运系统，其特征在于，
还具备优先地点判定部，前述优先地点判定部判定有无应比中断前述作业的前述作业地点先进行前述作业的地点即优先地点，
在前述优先地点判定部判定成有优先地点的情况下，前述特定车在执行前述避让行进后向前述优先地点移动来开始前述作业。
4.如权利要求2所述的搬运系统，其特征在于，
还具备优先地点判定部，前述优先地点判定部判定有无应比中断前述作业的前述作业地点先进行前述作业的地点即优先地点，
在前述优先地点判定部判定成有优先地点的情况下，前述特定车在执行前述避让行进后向前述优先地点移动来开始前述作业。
5.如权利要求1至4中任一项所述的搬运系统，其特征在于，
前述避让行进中的前述特定车的行进速度设定成比前述作业中的前述特定车的行进速度快的速度。
6.如权利要求1至4中任一项所述的搬运系统，其特征在于，
前述拥堵判定部在前述作业的继续时间超过预先设定的判定开始阈值为止都不进行有无拥堵的判定处理。
7.如权利要求1至4中任一项所述的搬运系统，其特征在于，
多个作业区域设定于前述搬运路径中，
在一个前述作业区域内的前述作业的中断次数达到预先设定的中断阈值的情况下，即使在前述拥堵判定部判定成存在拥堵的情况下，前述特定车也继续前述作业直至该作业区域的前述作业完成。
8.如权利要求1至4中任一项所述的搬运系统，其特征在于，
多个作业区域设定于前述搬运路径中，
拥堵判定基准被可变地设定成，与在前述特定车进行前述作业的前述作业区域内存在的前述搬运车的台数对应，在该台数较多的情况下与该台数较少的情况下相比，前述拥堵判定部容易判定成存在拥堵。
CN201811189697.6A 2017-10-12 2018-10-12 搬运系统 Active CN109649974B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017-198770 2017-10-12
JP2017198770A JP6825532B2 (ja) 2017-10-12 2017-10-12 搬送システム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN109649974A CN109649974A (zh) 2019-04-19
CN109649974B true CN109649974B (zh) 2021-10-29

Family

ID=66096563

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201811189697.6A Active CN109649974B (zh) 2017-10-12 2018-10-12 搬运系统

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10699925B2 (zh)
JP (1) JP6825532B2 (zh)
KR (1) KR102501289B1 (zh)
CN (1) CN109649974B (zh)
TW (1) TWI772532B (zh)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102303109B1 (ko) * 2019-07-05 2021-09-15 세메스 주식회사 반송체 제어 장치 및 이를 구비하는 반송체 제어 시스템
CN111599169A (zh) * 2020-04-01 2020-08-28 广东中科臻恒信息技术有限公司 路侧单元巡检方法、设备、计算机可读存储介质
JP7400666B2 (ja) 2020-08-31 2023-12-19 株式会社ダイフク 清掃システム
KR102664132B1 (ko) * 2020-11-06 2024-05-10 세메스 주식회사 대상물 이송 방법
CN113401677B (zh) * 2021-06-29 2023-04-07 上海华力微电子有限公司 自动物料传输系统及自动化物料传输方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102039902A (zh) * 2009-10-15 2011-05-04 中西金属工业株式会社 台车搬送装置
WO2013108501A1 (ja) * 2012-01-17 2013-07-25 村田機械株式会社 走行車システム
JP5344366B2 (ja) * 2008-09-05 2013-11-20 村田機械株式会社 搬送システム
US9541922B2 (en) * 2013-04-19 2017-01-10 Daifuku Co., Ltd. Vehicle control system and vehicle control method
CN106647734A (zh) * 2016-10-12 2017-05-10 北京京东尚科信息技术有限公司 自动导引车、路径规划方法与装置

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3374668B2 (ja) * 1996-09-09 2003-02-10 株式会社豊田自動織機 移動体の通信方法及び通信システム
JP3733656B2 (ja) * 1996-09-11 2006-01-11 株式会社豊田自動織機 有軌道台車の運行制御システム
US6308818B1 (en) * 1999-08-02 2001-10-30 Asyst Technologies, Inc. Transport system with integrated transport carrier and directors
JP4182874B2 (ja) * 2003-12-09 2008-11-19 アシスト テクノロジーズ ジャパン株式会社 台車制御装置及び制御方法
JP2007257154A (ja) * 2006-03-22 2007-10-04 Asyst Shinko Inc 搬送車管理装置、搬送車管理システム、搬送車管理方法及び搬送車管理プログラム
CN101443247B (zh) * 2006-05-12 2011-06-15 村田机械株式会社 搬送系统和搬送方法
JP2010079407A (ja) * 2008-09-24 2010-04-08 Toyota Motor Corp 無人搬送車の走行制御方法
JP5495070B2 (ja) 2011-06-10 2014-05-21 株式会社ダイフク 天井搬送設備の清掃装置
US9691640B2 (en) * 2013-09-11 2017-06-27 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd Mechanisms for cleaning load ports of semiconductor process tools
US9845192B2 (en) * 2014-06-04 2017-12-19 Murata Machinery, Ltd. Transport vehicle system and transport method
JP6340976B2 (ja) * 2014-07-17 2018-06-13 村田機械株式会社 自動倉庫
WO2017010183A1 (ja) * 2015-07-15 2017-01-19 村田機械株式会社 搬送制御装置及び搬送制御システム
CN108290684B (zh) * 2015-11-27 2020-06-23 村田机械株式会社 输送系统以及输送方法
JP6613941B2 (ja) * 2016-02-10 2019-12-04 株式会社ダイフク 物品搬送設備

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5344366B2 (ja) * 2008-09-05 2013-11-20 村田機械株式会社 搬送システム
CN102039902A (zh) * 2009-10-15 2011-05-04 中西金属工业株式会社 台车搬送装置
WO2013108501A1 (ja) * 2012-01-17 2013-07-25 村田機械株式会社 走行車システム
US9541922B2 (en) * 2013-04-19 2017-01-10 Daifuku Co., Ltd. Vehicle control system and vehicle control method
CN106647734A (zh) * 2016-10-12 2017-05-10 北京京东尚科信息技术有限公司 自动导引车、路径规划方法与装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20190115234A1 (en) 2019-04-18
KR102501289B1 (ko) 2023-02-16
US10699925B2 (en) 2020-06-30
JP6825532B2 (ja) 2021-02-03
JP2019073349A (ja) 2019-05-16
TW201922598A (zh) 2019-06-16
TWI772532B (zh) 2022-08-01
KR20190041417A (ko) 2019-04-22
CN109649974A (zh) 2019-04-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109649974B (zh) 搬运系统
JP5592497B2 (ja) 品目を荷卸するシステム及び方法
CN108352348B (zh) 输送系统和输送方法
JP5773200B2 (ja) 処理設備
CN111186682A (zh) 用于使用可移动机器人来搬运物品的系统和方法
JP2004038921A (ja) 無人搬送システムの制御方法
TW200806551A (en) Transport system and transport method
CN111186671A (zh) 移动仓储机器人和物品拣选方法
JP7276595B2 (ja) 自動倉庫システム、及び、自動倉庫システムの制御方法
CN115971066A (zh) 拣选系统及拣选控制方法
US11278997B2 (en) Machine system performing workpiece transport control
JP6447747B2 (ja) 搬送システム
TW201708997A (zh) 搬運控制裝置及搬運控制系統
TWI706902B (zh) 物品搬送設備
CN219078244U (zh) 一种搬运机器人
TW202317836A (zh) 清掃系統
CN216937121U (zh) 拣选系统
JPS63282004A (ja) 物品搬送保管設備
JP2023500283A (ja) 仕分け制御方法、装置、プラットフォームおよびシステム、ならびに無人仕分けデバイス
JP6819617B2 (ja) 物品搬送設備
CN109733825A (zh) 一种空中agv片料输送方法及系统
JP2023008386A (ja) 無人搬送車管理システム、及び、無人搬送車の制御方法
WO2023047829A1 (ja) 搬送システム
TW202319012A (zh) 清掃系統
CN117622740A (zh) 一种仓储系统

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant