CN108698407B - 液体排放头、液体排放单元以及排放液体的设备 - Google Patents

Abstract

第一构件是流路基板20，第二构件是保持基板50，流路基板20的接合表面20a通过粘合剂80被接合到保持基板50的接合表面50a，保持基板50的开口51的壁表面55是与保持基板50的接合表面50a相交的壁表面，保持基板50的接合表面50a被接合到流路基板20的接合表面20a，在保持基板50的开口51的壁表面55上提供凹凸部分56，并且将流路基板20的接合表面20a接合到保持基板50的接合表面50a的粘合剂80的部分被嵌入在壁表面55的凹凸部分56的至少一部分中。

Description

液体排放头、液体排放单元以及排放液体的设备

技术领域

本发明涉及液体排放头、液体排放单元以及排放液体的设备。

背景技术

液体排放头的示例被形成为使用粘合剂将保持基板接合到流路基板，该流路基板形成与喷嘴连通的单独液体腔，并且液体排放头的示例包括具有作为流路的开口的保持基板，该流路与公共液体腔以及流路基板侧上的单独液体腔连通。

[专利文献1]日本未审查专利申请公开第2014-124887号

[专利文献2]日本未审查专利申请公开第2014-198460号

发明内容

发明要解决的问题

当两个构件通过粘合剂被接合时，要求高粘合强度。

考虑到上述问题提供本发明。本发明的目的是提高粘合强度。

解决问题的方法

为了解决上述目的，本发明的液体排放头包括第一构件；以及通过粘合剂被接合到第一构件的第二构件，其中第二构件具有相对于第二构件和第一构件之间的接合表面相交的壁表面，其中凹凸部分被设置在第二构件的壁表面上，并且其中粘合剂的一部分粘着到在壁表面上的凹凸部分。

发明的效果

根据本发明的实施例，可以提高粘合强度。

附图说明

图1是用于解释的与本发明有关的液体排放头的示例的透视图。

图2是用于解释的沿着与喷嘴布置方向正交的方向的液体排放头的重要部分的剖视图。

图3是用于解释的图2中所示的液体排放头的重要部分的剖视图的放大图。

图4是用于解释的沿着喷嘴布置方向的液体排放头的重要部分的剖视图。

图5是用于解释的根据第一实施例的流路基板和保持基板的开口的部分的剖视图。

图6是用于解释的根据比较例的流路基板和保持基板的开口的部分的剖视图。

图7是用于解释功能的根据第一实施例的流路基板和保持基板的开口的部分的剖视图。

图8是用于解释的根据第二实施例的流路基板和保持基板的开口的部分的剖视图。

图9是用于解释的根据第三实施例的流路基板和保持基板的开口的部分的剖视图。

图10是用于解释的根据第四实施例的流路基板和保持基板的开口的部分的剖视图。

图11是用于解释凹凸在其深度方向上的尺寸与粘合剂的层厚度之间的关系的流路基板和保持基板的开口的部分的剖视图。

图12是流路基板和保持基板的开口的部分的SEM照片的示例。

图13是用于解释的根据第五实施例的流路基板和保持基板的开口的部分的剖视图。

图14是用于解释的根据第六实施例的流路基板和保持基板的开口的部分的剖视图。

图15是用于解释的根据第七实施例的流路基板和保持基板的开口的部分的剖视图。

图16是用于解释的根据第八实施例的流路基板和保持基板的开口的部分的剖视图。

图17是用于解释的实施例的排放液体的设备的示例的重要部分的平面图。

图18是用于解释的液体排放单元的重要部分的侧视图。

图19是用于解释的实施例的液体排放单元的另一示例的重要部分的平面图。

图20是用于解释的实施例的液体排放单元的另一示例的另一重要部分的前视图。

附图标记的解释

1：喷嘴板

2：流路板

3：振动板

4：喷嘴

6：单独液体腔

10：共同液体腔

11：压电元件

20：流路基板(第一构件)

50：保持基板(第二构件)

51：开口

55：墙表面

56：凹凸部分

70：共同液体腔构件

80：粘合剂

403：滑架

404：液体排放头

440：液体排放单元

具体实施方式

下面参考图1至图20，给出本发明的实施例的描述。参考图1至图4，描述根据本发明的液体排放头的示例。图1是用于解释的分解的液体排放头的透视图。图2是用于解释的沿着与喷嘴布置方向正交的方向的剖视图。图3是用于解释的图2的重要部分的放大剖视图。图4是用于解释的沿着喷嘴布置方向的液体排放头的重要部分的剖视图。

该液体排放头包括喷嘴板1、流路板2、振动板3、作为压力生成元件的压电元件11、保持基板50、布线构件60以及也作为框架构件的共同液体腔构件70。

在此，包括流路板2、振动板3和压电元件11的部分被称为流路基板(流路构件)20。然而，这并不意味着流路基板20被形成为独立构件，并且此后流路基板20被接合到喷嘴板1和保持基板50。

用于排放液体的多个喷嘴4被形成在喷嘴板1中。在此，该结构包括四个喷嘴阵列，其中布置有喷嘴4。

流路板2、喷嘴板1以及振动板3形成与喷嘴连通的单独液体腔6、与单独液体腔6连通的流体阻力部分7以及与流体阻力部分7连通的液体引入单元8。

该液体引入单元8通过振动板3的开口9和作为保持基板50的流路的开口51，与由共同液体腔构件70制成的共同液体腔10连通。

振动板3形成可变形的振荡区域30，作为单独液体腔6的壁表面的一部分。

在与振动板3的振动区域30的单独液体腔6相对的表面上，压电元件11与振荡区域30被一体地形成。压电致动器由振荡区域30和压电元件11构成。

通过依次地形成下电极13、压电层(压电体)11和上电极14而构成压电元件11。在压电元件11上形成绝缘膜21。

作为多个压电元件11的共同电极的下电极13通过共同布线15被连接到共同电极电源布线图案121。如在图4中所示，下电极13在喷嘴布置方向上桥接整个压电元件11。

作为压电元件11的单独电极的上电极14通过单独布线16与作为驱动电路单元的驱动IC(下文中，被称为“驱动器IC”)500耦接。

驱动器IC 500被安装在流路基板20中，以便通过诸如倒装芯片键合的制造方法来覆盖压电元件的行的行间隔的区域。

被安装在流路基板20中的驱动器IC 500被耦接到供应驱动波形(驱动信号)的单独电极电源布线图案。

使用粘合剂等将布线构件60的尖端固定到保持基板50。使用引线键合，通过流路基板20上的布线电极将布线构件60的尖端与驱动器IC 500电耦接。布线构件60的另一个尖端被耦接到装置的主体侧上的控制单元。

在流路基板20上设置保持基板50，保持基板50形成有作为共同液体腔10和单独液体腔室6之间的流路的开口51、容纳压电元件11的凹槽52、用于容纳驱动器IC 500的开口53等。

使用粘合剂将该保持基板50接合在流路基板20的振动板3侧上。

共同液体腔构件70形成共同液体腔10，用于向每个单独液体腔6供应液体。共同液体腔10分别设置四个喷嘴阵列。共同液体腔10对应于四个喷嘴阵列。所需颜色的液体通过被耦接到外部的液体供应口71(图1)被供应到共同液体腔10。

阻尼构件90被接合到共同液体腔构件70。阻尼构件90包括形成共同液体腔10的壁表面的一部分的阻尼器91和加强阻尼器91的阻尼板92。

共同液体腔构件70与喷嘴板1的外周接合。共同液体腔构件70容纳包括压电元件11的流路基板20和保持基板50，以便形成头部的框架。

设置盖构件45以覆盖喷嘴板1的周边和作为框架构件的共同液体腔构件70的外周表面的一部分。

在该液体排放头中，通过从驱动器IC 500在压电元件11的上电极14和下电极13之间施加电压，压电层12在电极层叠方向，即，电场方向上延伸，并且在与振荡区域30平行的方向上收缩。

此时，由于下电极13侧被束缚在振荡区域30中，因此在振荡区域30的下电极13侧生成拉伸应力，并且振荡区域30经受弯曲的单独液体腔6以对单独液体腔6内的液体加压。因此，液体从喷嘴排放。

参考图3和图4，在单独布线16上设置保护膜22(钝化膜)，以便保护布线材料免受由湿气、污染等引起的损坏。保护膜22的材料例如是氮化硅SiN。

接下来，参考图5描述本发明的第一实施例。图5是用于解释的根据第一实施例的流路基板和保持基板的开口的部分的剖视图。

在第一实施例内，第一构件是流路基板20，第二构件是保持基板50，并且保持基板50的接合表面50a被接合到流路基板20的接合表面20a。

保持基板50的开口51的壁表面55是与保持基板50的接合表面50a相交的壁表面，保持基板50的接合表面50a被接合到流路基板20的接合表面20a。

作为第二构件的保持基板50中的开口51的壁表面55被设置有形成为凹凸的凹凸部分56。在此，凹凸部分56具有三角形凹凸的横截面形状。参考图5，示出一凹凸部分56的宽度A和深度B。宽度A和深度均优选在0.1至1μm的范围中。

用于将流路基板20的接合表面20a接合到保持基板的接合表面50a的粘合剂80的一部分粘着到在壁表面55的至少一部分上的凹凸部分56，同时用粘合剂80填充凹凸部分56。

结果，其中流路基板20被接合到保持基板50的粘合剂80的粘合区域被加宽以提高粘合强度。

因为在保持基板50的开口51的壁表面55上设置了凹凸部分56，所以与如在图6中所示的比较示例中的壁表面55是平坦的情况相比，粘合区域被加宽，从而提高粘合强度。

如在图7中所示，因为在保持基板50的开口51的壁表面55上设置了凹凸部分56，所以如果液体300侵入保持基板50的开口51的壁表面55和粘合剂80之间，那么到接合表面50a的距离比在图6中所示的比较例中的更长。由此，粘合强度有效的持续时间保持长久，从而延长寿命并且提高可靠性。

接下来，参考图8描述本发明的第二实施例。图8是用于解释的根据第二实施例的流路基板和保持基板的开口的部分的剖视图。

在第二实施例内，作为第二构件的保持基板50中的开口51的壁表面55被设置有具有矩形凹凸的横截面形状的凹凸部分56。参考图8，示出一凹凸部分56的宽度A和深度B。宽度A和深度均优选在0.1至1μm的范围中。因此，可获得与第一实施例类似的功能和效果。

接下来，参考图9描述本发明的第三实施例。图9是用于解释的根据第三实施例的流路基板和保持基板的开口的部分的剖视图。

在第三实施例内，作为第二构件的保持基板50中的开口51的壁表面55被设置有具有大致半圆形凹凸的横截面形状的凹凸部分56。参考图9，示出一凹凸部分56的宽度A和深度B。宽度A和深度均优选在0.1至1μm的范围中。因此，可获得与第一实施例类似的功能和效果。

接下来，参考图10描述本发明的第四实施例。图10是用于解释的根据第四实施例的流路基板和保持基板的开口的部分的剖视图。

在第四实施例内，作为第二构件的保持基板50中的开口51的壁表面55被设置有具有大致平行四边形凹凸的横截面形状的凹凸部分56。参考图10，示出一凹凸部分56的宽度A和深度B。宽度A和深度均优选在0.1至1μm的范围中。

利用该形状，粘合剂80填充凹凸的平行四边形的内部，锚固效果变得更高，以便将强度提高到超过预期的面积比。

接下来，参考图11，描述凹凸部分的深度与粘合剂的厚度之间的关系。图11是用于解释的流路基板和保持基板的开口的部分的剖视图。

凹凸部分56的深度B优选地等于第一构件(流路基板20)和第二构件(保持基板50)的接合表面20a和50a之间的粘合剂的厚度(层厚度)α(B≤α)。

由此，在粘合时所供应的粘合剂80被确实地供应到壁表面55的凹凸部分56，以确保相对于粘合剂80的供应量的变化的粘合强度的余量。

此外，在为每个单独液体腔6提供保持基板50的开口51的情况下，多个开口51的壁表面55的凹凸部分56优选地是相同的。由此，减少被供应到凹凸部分56的量的变化，以便降低粘合强度的变化。

图12是流路基板和保持基板的开口的部分的SEM照片的示例。在保持基板50中的多个开口51的壁表面55上设置凹凸部分56。粘合剂80进入凹凸部分56。

接下来，参考图13描述本发明的第五实施例。图13是用于解释的根据第五实施例的流路基板和保持基板的开口的部分的剖视图。

在第五实施例内，壁表面55和保持基板50的开口51的接合表面50a被具有耐液性的表面处理膜57覆盖。此外，在开口51侧上流动并且被粘着到凹凸部分56的粘合剂80的表面被表面处理膜57覆盖。

因此，可以防止粘合剂80被由液体引起的腐蚀和溶解而损坏。此外，因为覆盖粘合剂表面的表面处理膜57和覆盖开口51的壁表面55的表面处理膜57是相同的，所以相容性变高，膜牢固地接合，界面强度变高，并且因此提高可靠性。

接下来，参考图14描述本发明的第六实施例。图14是用于解释的根据第六实施例的流路基板和保持基板的开口的部分的剖视图。

在第六实施例内，在保持基板50被接合到流路基板20之后，形成表面处理膜57。表面处理膜57不存在于凹凸部分56和粘合剂80之间。

利用该结构，可以防止粘合剂80受到由液体引起的腐蚀。

接下来，参考图15描述本发明的第七实施例。图15是用于解释的根据第七实施例的流路基板和保持基板的开口的部分的剖视图。

在第七实施例内，作为第二构件的保持基板50中的开口51的壁表面55被设置有具有大致三角形的横截面形状的凹凸部分56。

大致三角形的横截面形状的一侧大致平行于接合表面20a。“大致平行”的状态可以是或者可以不是完全地平行。大致三角形的横截面形状是连续且重复的波形，其中连续地重复三角形。

接下来，参考图16描述本发明的第六实施例。图16是用于解释的根据第八实施例的流路基板和保持基板的开口的部分的剖视图。

在第八实施例内，作为第二构件的保持基板50中的开口51的壁表面55被设置有具有大致半圆形的横截面形状的凹凸部分56。

大致半圆形的横截面形状是连续且重复的波形，其中连续地重复半圆形。

接下来，解释上述表面处理膜的示例。

表面处理膜57是含有Si的氧化膜。氧化膜包括通过Si和氧的结合形成钝化膜的诸如铝、铋、锑、钽、铌、钛、铪、锆、锌和钨的过渡金属。

在此，表面处理膜57是Si的复合氧化膜，其具有高耐液性并且被提供以提高与离子半径为68或更大(+三价或更多)的过渡金属物种和粘合剂80的接触。

因为上述过渡金属物种可以形成稳定的氧化物，所以可以在溶液内部保持稳定的状态，可以进行对液体的高耐久性。

含有Si的氧化膜与阴离子型硬化剂和硅烷偶联剂具有良好的相容性，以便提高与粘合剂80的接触。

如所描述的，因为表面处理膜被形成在流路的壁表面上，所以表面处理膜是含有Si的氧化膜，并且氧化膜包括通过Si和氧的结合形成钝化膜的过渡金属，所以提高表面处理膜和粘合剂之间的接触，并且同时提高耐液性。

换句话说，通过包括SiO₂，与构件的接触很高，并且通过使用胺型硬化剂或硅烷偶联剂，与粘合剂的接触足够高，以获得具有高耐水性的粘合力。

此外，因为通过形成钝化膜在表面处理膜的表面上形成稳定的耐腐蚀膜，所以即使表面处理膜接触液体，表面处理膜的表面也不会溶解，从而稳定很长时间。

此外，因为过渡金属在诸如d轨道和f轨道的内轨道中具有空位的轨道，所以可以获得多个氧化数。因此，因为表面处理膜包括过渡金属物种，所以增强与整个膜的氧化数的对应关系。因此，氧原子数过量和不足的耐受性变得更宽，并且可以防止由膜中氧原子数过量和不足引起的溶解度的改变。

在不包括过渡金属的情况下，由于氧原子的过量或不足，在表面处理膜中可能出现缺陷。因为缺陷的能量状态高，所以易于发生溶解。与此相反，当包括过渡金属时，表面处理膜的缺陷减少，氧化膜的稳定性增强，并且对液体的溶解性降低。

在这些过渡金属中，可以使用诸如形成钝化膜的阀金属的金属来进一步降低表面处理膜的溶解性。

形成钝化膜的金属是铝、铋、锑、钽、铌、钛、铪、锆、锌和钨。考虑到与氧化数的对应关系，钽、铌、钛、铪、锆、锌和钨是优选的。

因为铪、钽、锆、铌、铬和钌形成非常稳定的氧化膜而不管接触液体的pH(酸性或碱性)，所以优点是可以保持稳定的状态而不管液体的类型。

换句话说，表面处理膜优选地含有形成钝化膜的4族或5族过渡金属。通过将形成钝化膜的4族或5族过渡金属引入到SiO₂膜中，可获得具有与4族的Si类似的电子轨道并且通过O在Si和上述金属物质之间强结合的膜，以便提高膜的填充能力。

除了提高填充能力之外，通过使Si-O结合的牢固结合存在于表面处理膜内部，可以抑制在接触液体时发生的腐蚀反应。由此，形成对液体具有耐久性的氧化膜，确保足够的耐久性，并且可以提高头部的可靠性。

在该情况下，4族或5族过渡金属优选地包括Hf、Ta和Zr中的至少一种。

通过将Hf、Ta和Zr中的至少一种引入到SiO₂膜中，过渡金属物种与O非常牢固地结合以形成钝化膜。除了提高填充能力之外，通过使钝化膜的功能存在于表面处理膜内部，可以大幅度地抑制在接触具有酸性和碱性的液体时发生的腐蚀反应。

由此，可以形成对具有酸性或碱性的液体具有耐久性的氧化膜。

此外，优选表面处理膜的合金膜被完全地氧化。

由此，表面处理膜的晶体结构被改变为非晶形的，当被暴露于液体时易于引起腐蚀的晶体的晶界几乎不存在，并且因此可获得对液体的高耐久性。

此外，优选表面处理膜中含有多达17at％的Si。当表面处理膜中含有至少17at％的Si时，表面处理膜可以是完全透明的膜。优选地，含有至少20％的Si。

由此，可以形成具有很小的非晶态变化的膜，并且因此可以抑制由于晶体的部分存在而生成局部弱于液体的部分。在膜中Si的含量很少的情况下，其他金属物种凝结成晶体。因此，膜质量变得不均匀。当液体到来时，这样的不均匀性可能在Si和其他金属物质之间引起电池效应，并且然后可能发生腐蚀反应。

在此，通过判断膜是否透射可见光，可以确定形成表面处理膜的合金膜是否被完全地氧化，因为膜是非晶形的。例如，当衰减系数(k)在400至800nm的波长范围中至多为0.1，优选地至多为0.03时，可以使用多波长类型的椭圆偏振仪来判断氧化是否是完全的。

此外，优选表面处理膜中含有至少2at％的过渡金属。由此，确实地提高表面处理膜的密度，并且提高对液体的耐久性。更优选地，表面处理膜中含有至少3.5at％且至多13.5at％的过渡金属。由此，表面处理膜的结构具有较少的缺陷和较高的填充率，使得倾向于获得对液体的耐久性。作为检查膜的方法，椭圆偏振仪被用来检查折射率是否是恒定值。例如，关于单个膜的折射率，例如，SiO₂膜为1.4，并且Ta₂O₅膜为2.1。因此，被完全地氧化的表面处理膜的折射率在1.4和2.1之间。然而，在表面处理膜中的金属物质未被完全地氧化的情况下，透射因子和折射率都增加。因此，通过控制透射因子和折射率，可获得预定的膜质量。

在形成表面处理膜的金属氧化膜的折射率不同的情况下，可以使用折射率来控制合金中的比率。

由此，在大气中的非破坏性高速测量变得可能。在实际的批量生产过程中，可以容易地控制表面处理的条件。

接下来，描述形成凹凸部分的示例。

在保持基板50由硅构成的情况下，通过使用Bosch处理的ICP蚀刻方法来有效地形成凹凸部分56。因为提供保护并且在深度方向上重复地执行蚀刻，所以根据蚀刻循环次数可以在开口51的壁表面55上形成凹凸。取决于形成沉积膜的条件和蚀刻条件的变化，可以在某个范围内改变凹凸的尺寸。

在上述实施例内，第一构件是流路基板，第二构件是保持基板。然而，发明不限于此，并且可以被应用于包括具有与接合表面相交的壁表面的构件的接合构件。此外，壁表面不限于开口的壁表面，并且可以是外周表面的壁表面。

因此，例如，在上述头部结构中，本发明可应用于流路板2和喷嘴板1之间的接合、保持基板50和共同液体腔构件70之间的接合、共同液体腔构件70和阻尼构件之间的接合等。

参考图17至图18，接下来描述排放液体的设备的示例。图17是用于解释的该排放液体的设备的重要部分的平面图。图18是用于解释的该排放液体的设备的重要部分的侧视图。

该排放液体的设备是串行装置，其中通过主扫描移动机构493，滑架403在主扫描方向上进行往复运动。主扫描移动机构493包括引导构件401、主扫描电机405、同步带408等。引导构件401桥接左右侧板491A和491B并且保持滑架403以便可移动。通过在驱动皮带轮406和从动皮带轮407之间设置的同步带408，通过主扫描电机405，滑架403在主扫描方向上进行往复运动。

该滑架403包括液体排放单元440，该液体排放单元440通过将本发明的液体排放头404和头箱441一体化而形成。例如，液体排放单元440的液体排放头404排放分别具有黄色(Y)、青色(C)、品红色(M)和黑色(K)的颜色的液体。在液体排放头404中，包括多个喷嘴的喷嘴阵列沿着与主扫描方向正交的副扫描方向被布置。排放方向被设置为向下。

被存储在液体盒450中的液体通过供应机构494被供应到头箱441，该供应机构494用于将被存储在液体排放头404外部的液体供应到液体排放头404。

供应机构494由作为液体盒450被附接的填充单元的盒保持器451、管456、包括液体发送泵的液体发送单元452等构成。液体盒450可附接到盒保持器451并且可从盒保持器451拆卸。液体通过液体发送单元452从液体盒450通过管456被发送到头箱441。

该设备包括用于运送纸410的运送机构495。运送机构495包括作为运送手段的运送带412和用于驱动运送带412的副扫描电机416。

运送带412吸附纸410并且在与液体排放头404相对的位置传送。运送带412是环形带，并且在运送辊413和张力辊414之间桥接。吸附可以通过静电吸附、吸气等获得。

当副扫描电机416驱动以通过同步带417和同步带轮418旋转运送辊413时，运送带412被旋转，以在副扫描方向上移动。

在沿着滑架403的主扫描方向的一侧上的传送带412侧设置用于进行液体排放头404的维护和恢复的维护和恢复机构420。

例如，维护和恢复机构420由用于盖住液体排放头404的喷嘴面(形成喷嘴的面)的盖构件421、用于擦拭喷嘴面的擦拭器构件422等形成。

主扫描移动机构493、供应机构494、维护和恢复机构420以及运送机构495被附接到包括侧板491A和491B以及背板491C的壳体。

在如此构造的设备中，纸410被供应到运送带412上并且被吸附，并且当运送带412旋转以移动时，纸410在副扫描方向上被运送。

因此，当滑架403在主扫描方向上被移动时通过响应于图像信号来驱动液体排放头404，液体被排放到停止的纸410上以形成图像。

这样，在本发明的该设备中提供液体排放头，可以稳定地形成高质量的图像。

参考图19，接下来描述根据本发明的液体排放单元的另一示例。图19是用于解释的液体排放单元的重要部分的平面图。

从形成排放液体的设备的构件中，该液体排放单元被构造为具有由侧板491A和491B以及背板491C形成的壳体部分、主扫描移动机构493、滑架403以及液体排放头404。

例如，在液体排放单元中，维护和恢复机构420和供应机构494中的至少一个可以被进一步附接到侧板491B上，以形成另一液体排放单元。

参考图20，接下来描述根据本发明的液体排放单元的另一示例。图20是用于解释的液体排放单元的重要部分的平面图。

该液体排放单元包括液体排放头404，以及被耦接到流路部分444的管456，流路部分444被附接到该液体排放头404。

流路部分444被布置在盖442内部。代替流路部分444，可以包括头箱441。此外，在流路部分444的上部提供用于电耦接到液体排放头404的连接器443。

在本发明中被排放的液体没有特别地限制，并且足以具有能够从头部排放的粘度和表面张力。在常温常压或加热和冷却，粘度优选为至多30mPa·s。更具体地，液体是含有诸如水和有机溶剂的溶剂，诸如染料和颜料的着色剂，可聚合化合物，树脂，诸如表面活性剂的功能提供材料，诸如DNA、氨基酸、蛋白质和钙的生物材料，诸如天然颜料的可食用材料的溶液、悬浮液或乳胶。该液体可以被用作喷墨墨水、处理液、用于形成电子元件或发光元件的构成元件、用于形成电子电路抗蚀图案的液体、3D建模材料液等。

用于排放液体的能量生成源是压电致动器(层叠压电元件和薄膜型压电元件)、使用诸如加热电阻器的电热转换元件的热致动器、由振动板和对电极形成的静态致动器等。

“液体排放单元”通过将功能部分和机构统一到液体排放头中而形成，并且包括与液体排放有关的部分的集合体。例如，“液体排放单元”包括液体排放头与例如头箱、滑架、供应机构、维护和恢复机构以及主扫描移动机构中的至少一个的组合。

在此，一体化意味着使用诸如紧固、粘合和接合的相互固定，或者使用保持使得一个可相对于另一个移动，液体排放头与功能部分或机构有关。此外，液体排放头、功能部分和机构可以相互可附接和可拆卸地构造。

例如，液体排放单元是液体排放头和头箱的一体化。此外，通过使用管的相互连接来一体化液体排放头和头箱。在此，在这些液体排放单元中，可以在头箱和液体排放头之间添加包括过滤器的单元。

例如，液体排放单元是液体排放头和滑架的一体化。

此外，通过使液体排放头由形成扫描移动机构的部分的引导构件可移动地保持,液体排放单元是液体排放头和扫描移动机构的一体化。此外，液体排放头、滑架和主扫描移动机构是一体化的。

此外，滑架被提供有液体排放头，作为维护和恢复机构的部分的盖构件被固定到该液体排放头，并且液体排放单元是液体排放头、滑架以及维护和恢复机构的一体化。

此外，管被连接到头箱或被提供有流路部分的液体排放头，并且液体排放单元是液体排放头和供应机构的一体化。通过该管，在液体存储源中的液体被供应到液体排放头。

主扫描移动机构包括引导构件本身。供应机构包括管本身和装料部分本身。

“排放液体的设备”包括被提供有液体排放头或液体排放单元的设备，以驱动液体排放头以便使液体被排放。排放液体的设备不仅包括能够将液体排放到可以粘着液体的物体的设备，还包括将液体排放到气相或液相的物体中的设备。

该“排放液体的设备”包括供给、传送和喷射可以粘着液体的物体的手段、预处理设备、后处理设备等。

例如，“排放液体的设备”是通过喷射墨水在纸上形成图像的图像形成装置和将建模液体排放到被形成为层的粉末层以便制作实体模型(3D模型)的实体建模装置(3D建模装置)。

“排放液体的设备”不限于使用被排放的液体获得诸如字母和图形图的重要图像的可视化。例如，“排放液体的设备”可以形成没有意义的图案并且可以对3D图像进行建模。

“可以粘着液体的物体”意味着液体可以被临时地粘着、可以被粘着以被固定、以及可以被粘着和渗透的物体。例如，“可以粘着液体的物体”是诸如纸、记录纸、记载纸、膜和布的记录介质，诸如电子板和压电元件的电子部分，诸如粉末层、器官模型和检查单元的介质。“液体可以粘着的物体”包括液体粘着的所有物体，除非特别地限制。

如果液体可以被临时地粘着，则“可以粘着液体的物体”的材料就足够了。材料是纸、线、纤维、布、皮革、金属、塑料、玻璃、陶瓷等。

尽管“排放液体的设备”包括其中液体排放头和可以粘着液体的物体相对地移动的设备，但是“排放液体的设备”不限于此。作为具体的示例，提到使液体排放头移动的串行装置、使液体排放头不移动的线型装置等。

“排放液体的设备”也是处理液涂敷装置，其中，为了改造纸表面将处理液排放到纸表面上，喷射造粒装置，其中通过将原料分散到溶液中所获得的成分液通过喷嘴被喷射以执行原料的造粒等。

诸如图像形成、记录、打字、复印、打印、建模等的在本申请中的术语，可以是同义词。

尽管已经相对于具体的实施例描述了发明，但是所附权利要求不因此受到限制，而是被解释为体现所有修改和替代构造。

该申请是基于并且要求于2016年3月3日所提交的在先日本专利申请第2016-041344号的优先权的权益，其全部内容通过引用被结合在此处。

Claims (6)

1.一种液体排放头，其特征在于，包括

流路基板，所述流路基板包括与排放液体的喷嘴连通的单独液体腔；以及

保持基板，所述保持基板通过粘合剂被接合到所述流路基板，并且具有与所述单独液体腔连通的开口，其中

所述保持基板的所述开口具有相对于所述流路基板和所述保持基板之间的接合表面相交的壁表面，

在所述保持基板的所述开口的所述壁表面上设置凹凸部分，所述凹凸部分沿着与所述保持基板的所述接合表面平行的第一方向延伸，并且被布置在与所述第一方向垂直的第二方向上，以及

所述粘合剂的部分粘着到所述壁表面上的所述凹凸部分。

2.根据权利要求1所述的液体排放头，其特征在于，

其中，被形成在所述保持基板的所述壁表面上的所述凹凸部分在深度方向上的尺寸等于或小于所述流路基板和所述保持基板之间的接合表面之间的所述粘合剂的厚度。

3.根据权利要求1或2所述的液体排放头，其特征在于，

其中所述保持基板包括多个壁表面，以及

在所述多个壁表面中的每个壁表面上设置具有恒定形状的所述凹凸部分。

4.一种液体排放单元，其特征在于，包括：

根据权利要求1,2和3中任一项所述的液体排放头。

5.根据权利要求4所述的液体排放单元，其特征在于，

其中所述液体排放头与下面中的至少一个一体化：

头箱，所述头箱存储要被供应到所述液体排放头的所述液体；

滑架，所述液体排放头被安装在所述滑架中；

供应机构，所述供应机构被配置为将所述液体供应到所述液体排放头；

维护和恢复机构，所述维护和恢复机构被配置为进行维护和恢复；以及

主扫描移动机构，所述主扫描移动机构被配置为使所述液体排放头在主扫描方向上移动。

6.一种排放液体的设备，其特征在于，包括：

根据权利要求1,2和3中任一项所述的液体排放头，或

根据权利要求4或5所述的液体排放单元。

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