CN108375872A - 极紫外光光罩容器 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种光罩容器，用于容设极紫外光光罩。光罩容器包括外盒总成及内盒总成，外盒总成用以容置内盒总成。内盒总成包括基座以及上盖。基座具有上表面及周缘，上表面设有多个定位件以界定出光罩承载位置。周缘连接并且围绕上表面。上表面包括承载面、沟槽及第一接面。光罩设置于光罩承载位置，以承载在承载面上。沟槽具连续环状结构，底部低于承载面。承载面、沟槽及第一接面依序由上表面内侧朝周缘配置。上盖具有凹腔及第二接面。凹腔用于容纳光罩，第二接面与第一接面配合以形成密封状态。基座上利用连续环状结构的沟槽来捕获或容置微粒，降低微粒移动到承载面与光罩间的机会，减缓光罩被微粒污染的问题。

Description

极紫外光光罩容器
【技术领域】
本发明涉及一种光罩容器，尤其是一种具双重容纳结构的极紫外光光罩容器。
【背景技术】
近年来半导体制程科技的进步突飞猛进，其中光学微影技术扮演着重要的角色。光学微影技术是将设计好的线路制作成具有特定形状可透光的光罩，再将光罩上的图案通过光源投影至晶圆上，在晶圆上曝光显影出特定的图案。
在光学微影过程中，任何附着在光罩的微粒，例如尘埃、粉尘或有机物等等，都会造成投影成像质量劣化。尤其是近年来的产业趋势是朝向更小、更高逻辑密度的芯片发展，微影设备使用的光波长已经推进到极紫外光(Extreme Ultraviolet Light,EUV)范围，对于光罩上的微粒数量、粒径，以致于容置光罩的光罩容器内的洁净度，都有着更为严苛的要求。
一般而言，半导体制程皆利用抗污染的光罩容器来存放及运输光罩，以保持光罩的洁净度，通常会要求存放光罩或其他半导体组件的容器，其洁净度符合机械标准界面(Standard Mechanical Interface,SMIF)的洁净度要求。然而目前已知的光罩容器，即便是在受控制环境中，会因为空气压力变化，或因容器移动使内部空气发生扰动，导致微粒移动到容器与光罩间，甚至是移动附着至光罩上，无法有效为光罩提供微粒及污染保护
因此，针对上述技术问题，有必要设计一种改良的光罩容器，以克服上述缺陷。
【发明内容】
为了解决前述问题，本发明提供一种极紫外光光罩容器，利用连续环状的沟槽起到捕获或容置微粒的作用，可以降低微粒移动到光罩及承载面间，或者微粒移动到光罩上的机会，降低微粒的污染。
本发明的极紫外光光罩容器，用于容设极紫外光光罩。极紫外光光罩容器包括外盒总成及内盒总成，外盒总成包括相互配合的上部分及下部分，从而界定出容置空间，用于容置内盒总成。内盒总成包括基座及上盖。基座具有上表面及周缘，上表面设有凸出的多个定位件，界定出光罩承载位置。周缘连接且围绕上表面。上表面包括承载面、沟槽及第一接面。极紫外光光罩用于设置于光罩承载位置，从而被承载在承载面上。沟槽具连续环状结构，沟槽的底部低于承载面。承载面、沟槽及第一接面依序由上表面的内侧朝周缘配置。上盖用于与基座对接，并且具有凹腔及第二接面。凹腔用于容纳光罩，第二接面与第一接面相配合，用于形成密封状态。
本发明的具有以下有益的效果：
极紫外光光罩容器的基座上具有连续环状的沟槽，用来捕获或容置微粒，降低微粒污染的问题。
【附图说明】
图1为依照本发明一实施例的极紫外光光罩容器的分解立体图。
图2为第1图中基座的立体图。
图3为第1图中内盒总成及极紫外光光罩的部分侧视剖面图。
图4为第3图中基座上具有阻隔件时的侧视剖面图。
图5为第2图中基座的侧视剖面图。
图6为第1图中上盖的立体图。
图7为第1图中上盖的另一视角的立体图。
图8为依照本发明一实施例的承载面、沟槽及第一接面的示意图。
图9为依照本发明另一实施例的承载面、沟槽及第一接面的示意图。
附图标号说明
极紫外光光罩 1 外盒总成 10
容器
上部分 11 下部分 12
容置空间 13 内盒总成 20
基座 21 上盖 22
光罩承载位置 23 基座 31
上表面 210,310 承载面 211,311
沟槽 212,312 第一接面 213,313
定位件 214,314 周缘 215,315
容槽 216 阻隔件 217
凹腔 221 降级面 222
第二接面 223 导位块 224
弹性件 225 进气口 226
极紫外光光罩 R 剖面线 A-A’
【具体实施方式】
以下配合附图和本发明的具体实施例，进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段。本领域的技术人员可以理解到的是，本发明的具体实施例所提供的方向用语，诸如上、下、左、右、前或后等，仅用于参照随附图式的方向以利说明而非用于限制本发明。除此以外，在未背离本发明的精神和范围之下，本发明所属技术领域中具有通常知识者可实行为数众多的变更及修改，如此衍生出的实作范例也会落入本发明范畴中。
本发明实施例的极紫外光光罩容器，包括基座及上盖，基座上具有连续环状的沟槽，用于捕获或容置微粒，避免微粒离开沟槽接触并污染到设置在内的极紫外光光罩。有助于降低极紫外光光罩被微粒污染的机会。另外，本发明实施例的图式，并没有依照实际尺寸比例来绘制，其中已省略或简化部分组件，以清楚显示本发明的特点。
请参照图1，其绘示依照本发明一实施例的极紫外光光罩容器的分解立体图。极紫外光光罩容器1是用来容设极紫外光光罩R，极紫外光光罩容器1包括外盒总成10及内盒总成20，外盒总成10包括相互配合的上部分11及下部分12，从而界定出容置空间13，用以容置内盒总成20。
本实施例的外盒总成10，上部分11与下部分12大致上为矩形，并且两者对接时可以形成气密状态，用以区别外盒总成10外部与容置空间13。上部分11及下部分12可以包括一个或多个气阀(未显示在图式中)，并且对应在气阀处设置有如滤纸等过滤材料，用以供气体进入或离开容置空间13时保持气体的洁净。上部分11可以包括多个导位件(未显示在图式中)，用以于上部分11及下部分12对接时导正两者的相对位置，或者导正内盒总成20的位置。下部分12可以包括多个支撑件(未显示在图式中)，用以固持内盒总成20。前述的组件及其结构可以视需求配置，本发明并不多加以限制。
请同时参照图1及图2，图2绘示图1中基座的立体图。本实施例的内盒总成20包括基座21以及上盖22。基座21具有上表面210及周缘215，周缘215是基座21的侧壁，连接并且围绕于上表面210。上表面210是基座21面朝上盖22的表面，设有凸出的多个定位件214。
定位件214与基座21由不同材质制成，例如基座21由铝或其他金属或合金制成，定位件214由例如耐磨塑料等低微粒产生材料所制成。定位件214可以例如是以锁固的方式固定在基座21上，并且突出于上表面210。另外，定位件214可以对应于矩形的极紫外光光罩R的四个角落配置，且各定位件214可具有导引斜面，用来导正极紫外光光罩R的位置。经由定位件214的配置，可以在基座21上定义出用来放置极紫外光光罩R的光罩承载位置23。然而，定位件214的结构、数量、固定方式以及配置方式并不以图2所显示者为限；只要是可以在基座21上定义出光罩承载位置23者，均属于本发明可应用的定位件214。
基座21的上表面210包括承载面211、沟槽212及第一接面213；依据本发明的实施例，承载面211、沟槽212及第一接面213依序由上表面210的内侧朝周缘215配置。也就是说，由上表面210的中心朝外依序配置为承载面211、沟槽212及第一接面213。极紫外光光罩R是用来设置在光罩承载位置23，藉以被承载在承载面211上。沟槽212具连续环状结构，且沟槽212的底部低于承载面211。本实施例中，承载面211大致上为平整的水平面，沟槽212完整连续地围绕于承载面211，形成一个全周式的沟槽212，而如图2所示，第一接面213完整连续地围绕于沟槽212外。
请同时参照图2及图3，图3绘示图1的内盒总成及极紫外光光罩的部分侧视剖面图。图3所示为部分的内盒总成20以及容置于其内的极紫外光光罩R，图3的左侧为靠近承载面211中央的位置，而图3的右侧则为内盒总成20的边缘(也就是靠近周缘215的位置)。上表面210由中心而外(图3左方至右方)依序配置为承载面211、沟槽212及第一接面213。第一接面213低于承载面211，沟槽212的底部又低于第一接面213。沟槽212为下凹结构，对于沟槽212的底部而言，沟槽212连接于承载面211的侧墙高度，高于沟槽212连接于第一接面213的侧墙高度。另外，沟槽212的两边侧壁与底部间均为尖角，非为R角(圆角)的设计，实际应用上R角(圆角)极小。
沟槽212的设计可用来捕获或容置微粒；更进一步来说，当位于沟槽212内的微粒被气流扬起时，会受到沟槽212连接承载面211的侧墙所阻挡，不容易移动到承载面211上，避免微粒移动到承载面211与极紫外光光罩R间，可以降低承载面211上的微粒污染。另一个好处是，考虑到实际在制造上第一接面213及第二接面223的气密效果有可能因为生产问题(如表面处理失误)导致其平整面气密性不足够。因此，纵使前述的情况发生了，基于本实施例沟槽212的两边侧壁具有高低落差的特性，如第一接面213及第二接面223未能达到符合要求的气密程度，第一接面213及第二接面223会间接形成极微小的导引通道，将微粒主动引导至沟槽212内容置，避免进入承载面211与极紫外光光罩R间的区域。
请参照图4，其绘示图3的基座上具有阻隔件时的侧视剖面图。本实施例的基座21可以包括阻隔件217，设置于沟槽212内；更精确地来说，阻隔件217是设置于沟槽212的底部上。由阻隔件217的底部至阻隔件217的顶端，其高度至少要约略高于沟槽212连接于第一接面213的侧墙高度，使得上盖22与基座21对接时，阻隔件217的顶端紧密接触于第二接面223。如此可有效阻挡微粒进入承载面211与极紫外光光罩R间的区域。于一实施例中，阻隔件217为连续环状结构，以连续地设置于沟槽212内。
请同时参照图2及图5，图5绘示图2的基座的侧视剖面图。更详尽地来说，图5是图2的基座21沿剖面线A-A’的剖面示意。本实施例中，基座21的上表面210更包括至少容槽216，与沟槽212相连通。容槽216的底部低于沟槽212的底部，且在平行于承载面211的方向上，容槽216的宽度大于沟槽212的宽度。也就是说，容槽216为更进一步的下凹结构，且具有较为宽广的面积，可以用来捕获或容置微粒。微粒除了会被留置在沟槽212内，更可以进一步移动至与沟槽212连通的容槽216内。
接下来对于本实施例内盒总成20的上盖22进行说明，请同时参照图6及图7，图6绘示图1的上盖的立体图，图7绘示图1的上盖的另一视角的立体图。上盖22用以与基座21对接，并且具有凹腔221及第二接面223。凹腔221用以容纳极紫外光光罩R，第二接面223与第一接面213相配合，用以形成密封状态，如图3所示。本实施例中，第二接面223及第一接面213可具有平整度，用以使基座21与上盖22对接时可以达到气密。
本实施例中，上盖22更具有降级面222，位于凹腔221与第二接面223间，且降级面222与第二接面223位于不同水平面上，用以与基座21的上表面210间形成间隙；更精确来说，所述降级面222与第二接面223位于不同水平面上指位于互相平行的两个水平面之上。如图3所示，降级面222与承载面211间形成间隙，让基座21的沟槽212不会完全被第二接面223覆盖。当基座21与上盖22对接时，由于沟槽212未被完全封闭，位于凹腔221内的微粒可以通过沈降、流动或被气流带动移动进入沟槽212或容槽216内，使其被捕获或容置于沟槽212或容槽216内。
请继续参照图6及图7，本实施例的上盖22包括多个导位块224，此些导位块224是以特定的方式设置于上盖22，使得上盖22与基座21对接时，导位块224可以朝基座21延伸。朝向基座21延伸的导位块224用以弹性接触于基座21的周缘215(如图3所示)。当基座21及上盖22进行对接时，导位块224可以协助导正基座21与上盖22的相对位置，让两者可以正确对接。本实施例中导位块224是以分布于上盖22的四个角落为例；然而本发明并不以此配置方式及数量为限制，只要是当上盖22与基座21对接时朝基座21延伸，并弹性接触于周缘215者，均可视为本发明的导位块224。
本实施例的上盖22设有多个弹性件225，对应于定位件214的位置而配置。当上盖22与基座21对接时，以及内盒总成20容置于外盒总成10的容置空间13内时，弹性件225用以接触并施以压力于极紫外光光罩R，藉以在垂直方向上固定极紫外光光罩R，避免发生位移与产生微粒等问题。实际应用上，可以在外盒总成10的上部分11内侧，对应于前述弹性件225的位置，设置有多个顶压件(图式中未绘示)，用以在内盒总成20容置于容置空间13内时，顶压弹性件225的一端，藉以让弹性件225的另一端可以接触并施压于极紫外光光罩R。关于顶压件的设计及配置，本发明并不多加限制。
本实施例的上盖22设有进气口226，并且对应在进气口226设置有过滤材料。进气口226用以供气体进入凹腔221内，当气体喷流进入凹腔221时，可以带动微粒朝向位于承载面211外围的沟槽212移动，以让微粒被捕获或容置于沟槽212或容槽216内。
请参照图8，其绘示依照本发明一实施例的承载面、沟槽及第一接面的示意图。依照本发明前述实施例的极紫外光光罩容器1，基座21的上表面210的承载面211、沟槽212及第一接面213，依序由上表面210的内侧朝周缘215配置，且沟槽212完整连续地围绕承载面211，第一接面213完整连续地围绕沟槽212，形成一个全周式的沟槽212。然而本发明并不以此为限制。
请参照图9，其绘示依照本发明另一实施例的承载面、沟槽及第一接面的示意图。依据图9实施例的极紫外光光罩容器的基座31，其上表面310的承载面311、沟槽312及第一接面313，依序由上表面310的内侧朝周缘315配置。上表面310包括多个沟槽312，各自为连续环状结构。沟槽312位于承载面311与第一接面313之间，且每个沟槽312个别围绕定位件314。本实施例的沟槽312的底部低于第一接面211以及承载面311，形成下凹结构。各自连续环状的沟槽312，因为围绕定位件314配置，可以捕获或容置对应该处产生的微粒。此外，当位于沟槽312内的微粒被气流扬起时，会受到沟槽312的侧墙所阻挡，不容易移动到承载面311上，可以减缓承载面311上的微粒污染，降低极紫外光光罩R受到微粒污染的机会。
根据本发明前述实施例的极紫外光光罩容器，用以容设极紫外光光罩。极紫外光光罩容器包括外盒总成及内盒总成，外盒总成包括相互配合的上部分及下部分，藉以界定出容置空间，用以容置内盒总成。内盒总成包括基座以及上盖。基座具有上表面及周缘，上表面设有凸出的多个定位件，用以界定出光罩承载位置。周缘连接且围绕上表面。上表面包括承载面、沟槽及第一接面。极紫外光光罩用以设置于光罩承载位置，藉以被承载在承载面上。沟槽具连续环状结构，其底部低于承载面。承载面、沟槽及第一接面依序由上表面的内侧朝周缘配置。上盖用以与基座对接，并且具有凹腔及第二接面。凹腔用以容纳光罩，第二接面与第一接面相配合，用于形成密封状态。沟槽可以捕获或容置微粒，减缓极紫外光光罩收到微粒的污染的问题。
以上所述仅是本发明的优选实施例而已，并非对本发明做任何形式上的限制，虽然本发明已将优选实施例披露如上，然而并非用以限定本发明，任何本领域的技术人员，在不脱离本发明技术方案的范围内，应当可以利用上述揭示的技术内容作出些许改变或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的实质核心技术对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (10)

1.一种极紫外光光罩容器，其特征在于，包括：外盒总成及内盒总成，所述外盒总成包括相互配合的上部分及下部分，从而界定出容置空间，用于容置所述内盒总成，所述内盒总成包括：
基座，具有上表面及周缘，所述上表面设有凸出的多个定位件，界定出光罩承载位置，所述周缘连接且围绕所述上表面，所述上表面包括：
承载面，极紫外光光罩用以设置于所述光罩承载位置，从而被承载在所述承载面上；
沟槽，具连续环状结构，所述沟槽的底部低于所述承载面；及
第一接面，所述承载面、所述沟槽及所述第一接面依序由所述上表面的内侧朝所述周缘配置；以及
上盖，用以与所述基座对接，并且具有凹腔及第二接面，所述凹腔用以容纳所述极紫外光光罩，所述第二接面与所述第一接面相配合，用于形成密封状态。
2.如权利要求1所述的极紫外光光罩容器，其特征在于：所述沟槽完整连续地围绕所述承载面，所述第一接面完整连续地围绕所述沟槽。
3.如权利要求1所述的极紫外光光罩容器，其特征在于：所述上表面包括多个所述沟槽，各自为连续环状结构，所述沟槽位于所述承载面与所述第一接面间，且每个所述沟槽个别围绕所述定位件。
4.如权利要求1所述的极紫外光光罩容器，其特征在于：所述第一接面低于所述承载面，所述沟槽的底部又低于所述第一接面。
5.如权利要求1所述的极紫外光光罩容器，其特征在于：所述上表面更包括容槽，与所述沟槽相连通，所述容槽的底部低于所述沟槽的底部。
6.如权利要求5所述的极紫外光光罩容器，其特征在于：在平行于所述承载面的方向上，所述容槽的宽度大于所述沟槽的宽度。
7.如权利要求1所述的极紫外光光罩容器，其特征在于：所述上盖更具有降级面，位于所述凹腔与所述第二接面间，所述降级面与所述第二接面位于不同水平面上，并且与所述基座的所述上表面间形成间隙。
8.如权利要求1所述的极紫外光光罩容器，其特征在于：所述上盖设有多个弹性件，对应于所述定位件的位置而配置，用以于所述上盖与所述基座对接时，以及所述内盒总成容置于所述容置空间内时，接触并施压力于所述极紫外光光罩。
9.如权利要求1所述的极紫外光光罩容器，其特征在于：所述上盖包括多个导位块，是以当所述上盖与所述基座对接时朝所述基座延伸的方式设置在所述上盖，并且用于弹性接触于所述基座的所述周缘。
10.如权利要求1所述的极紫外光光罩容器，其特征在于：所述基座包括阻隔件，设置于所述沟槽内，当所述上盖与所述基座对接时，所述阻隔件的顶端紧密接触于所述第二接面。
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