CN106715476B - 活性能量射线固化性组合物及防静电薄膜 - Google Patents

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Abstract

本发明的课题在于提供一种固化后的防静电性、耐擦伤性及透明性均变得良好的活性能量射线固化性组合物及使用该组合物的防静电薄膜。本发明的活性能量射线固化性组合物为含有以下述式(I)表示的光聚合引发剂A、防静电性聚合物B及含有烯属不饱和基团的聚合性化合物C的活性能量射线固化性组合物。其中,式(I)中,V1、V2、V3及V4分别独立地表示氢原子或取代基,n表示1~5的整数。

Description

活性能量射线固化性组合物及防静电薄膜
技术领域
本发明涉及一种活性能量射线固化性组合物及防静电薄膜。
背景技术
通常,树脂材料的电绝缘性优异,因此在绝缘体等需要电绝缘性的用途中 极其有用,但相反地易在表面携带静电,易产生粉尘的吸附及静电引起的故 障。
已知为了解决这种问题,使用各种防静电剂(尤其,阳离子型防静电 剂)。
例如,专利文献1中,记载有“一种防静电用涂料组合物,其特征在于, 包含:分子中具有季铵盐基的防静电性共聚物(A);具有3个以上的烯属不 饱和基团的化合物(B);包含对于水的溶解性为0.2g/L以下的光聚合引发剂 (c-1)及对于水的溶解性为1g/L以上的光聚合引发剂(c-2)的光聚合引发 剂(C);以及包含醇类溶剂(d-1)的溶剂(D)。”([权利要求1]),并 且,作为光聚合引发剂(C),记载有“选自包含1-羟基-环己基-苯基-酮、2- 甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉基-1-丙酮、双(2,4,6-三甲基苯甲酰 基)苯基氧化膦、2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基-丙酰基)-苄基]-苯 基}-2-甲基-丙烷-1-酮、2,4,6‐三甲基苯甲酰基-二苯基-氧化膦、寡{2-羟 基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙酮}、寡{2-羟基-2-甲基-1-[4- (1-甲基乙烯基)苯基]丙酮}及2,4,6-三甲基二苯甲酮的组中的至少一种” ([权利要求4])。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2011-225797号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
本发明人等对专利文献1中记载的防静电用涂料组合物进行了研究,其结 果得知根据所使用的共聚物及光聚合引发剂的种类和组合,存在防静电性降低 的情况,并且存在耐擦伤性及透明性也降低的情况。
因此,本发明的课题在于提供一种固化后的防静电性、耐擦伤性及透明性 均变得良好的活性能量射线固化性组合物及使用该组合物的防静电薄膜。
用于解决技术课题的手段
本发明人等为了实现上述课题而进行了深入研究,其结果发现含有具有特 定结构的光聚合引发剂与具有防静电性的聚合物及聚合性化合物的组合物的固 化后的防静电性、耐擦伤性及透明性均变得良好,从而完成了本发明。
即,发现通过以下结构,能够实现上述课题。
[1]一种活性能量射线固化性组合物,其含有以后述的式(I)表示的光 聚合引发剂A、防静电性聚合物B及含有烯属不饱和基团的聚合性化合物C。
[2]根据[1]所述的活性能量射线固化性组合物,其中,防静电性聚合物B 为具有选自包含以后述的式(1)~(5)表示的重复单元的组中的至少1个重 复单元的聚合物。
[3]根据[2]所述的活性能量射线固化性组合物,其中,防静电性聚合物B 为具有以后述的式(1)表示的重复单元的阳离子性聚合物。
[4]根据[2]或[3]所述的活性能量射线固化性组合物,其中,以后述的式 (1)表示的重复单元为以后述的式(6)表示的铵盐。
[5]根据[2]至[4]中任一个所述的活性能量射线固化性组合物,其中,防 静电性聚合物B包含选自包含以后述的式(1)~(5)表示的重复单元的组中 的至少1个重复单元及以后述的式(7)表示的重复单元。
[6]根据[2]至[5]中任一个所述的活性能量射线固化性组合物,其中,防 静电性聚合物B包含以后述的式(1)表示的重复单元及以后述的式(3)或 (4)表示的重复单元。
[7]根据[6]所述的活性能量射线固化性组合物,其中,以后述的式(3) 表示的重复单元为以后述的式(8)表示的重复单元。
[8]根据[2]至[7]中任一个所述的活性能量射线固化性组合物,其中,防 静电性聚合物B包含选自包含以后述的式(1)至(5)表示的重复单元的组中 的至少1个重复单元及来自CLogP值为0.3~5的单体的重复单元。
[9]根据[2]至[8]中任一个所述的活性能量射线固化性组合物,其中,防 静电性聚合物B为含有40~80质量%的以后述的式(1)至(5)表示的重复单 元的共聚物。
[10]根据[9]所述的活性能量射线固化性组合物,其中,防静电性聚合物B 包含40~80质量%的以后述的式(1)至(5)表示的重复单元,并包含20~60 质量%的以后述的式(7)表示的重复单元。
[11]根据[9]或[10]所述的活性能量射线固化性组合物,其中,防静电性 聚合物B包含39.5~70质量%的以后述的式(1)表示的重复单元,包含20~6 0质量%的以后述的式(7)表示的重复单元,并包含0.5~10质量%的以后述的 式(3)或(4)表示的重复单元。
[12]根据[1]至[11]中任一个所述的活性能量射线固化性组合物,其中, 聚合性化合物C为甲基丙烯酸类或丙烯酸类化合物。
[13]根据[1]至[12]中任一个所述的活性能量射线固化性组合物,其中, 聚合性化合物C的分子量为90~5000。
[14]根据[1]至[13]中任一个所述的活性能量射线固化性组合物,其中, 光聚合引发剂A的含量相对于聚合性化合物C100质量份为0.5~10质量份。
[15]根据[1]至[14]中任一个所述的活性能量射线固化性组合物,其中, 聚合物B的含量相对于聚合性化合物C100质量份为1~40质量份。
[16]根据[1]至[15]中任一个所述的活性能量射线固化性组合物,其中, 光聚合引发剂A是后述的式(I)中的n为1的光聚合引发剂。
[17]根据[1]至[16]中任一个所述的活性能量射线固化性组合物,其用于 防静电剂。
[18]一种防静电薄膜,其具有在基材上赋予[1]至[17]中任一个所述的活 性能量射线固化性组合物并通过活性能量射线使其固化而成的防静电层。
发明效果
根据本发明,能够提供一种固化后的防静电性、耐擦伤性及透明性均变得 良好的活性能量射线固化性组合物及使用该组合物的防静电薄膜。
具体实施方式
以下,对本发明进行详细说明。
关于以下所记载的构成要件的说明,有时会根据本发明的代表性实施方式 进行说明,但本发明并不限定于那种实施方式。
另外,本说明书中,使用“~”来表示的数值范围表示将记载于“~”前 后的数值作为下限值及上限值包含的范围。
[活性能量射线固化性组合物]
本发明的活性能量射线固化性组合物(以下,还称为“本发明的组合 物”。)为含有以后述的式(I)表示的光聚合引发剂A、防静电性聚合物B及 含有烯属不饱和基团的聚合性化合物C的活性能量射线固化性组合物。
本发明的组合物通过含有光聚合引发剂A、防静电性聚合物B及聚合性化 合物C,固化后的防静电性、耐擦伤性及透明性均变得良好。
像这样,防静电性、耐擦伤性及透明性均变得良好的理由,虽然详细内容 并不明确,但大致推测如下。
首先,认为在以下述式(I)表示的光聚合引发剂A的结构中存在以规定 的重复单元数n表示的氧化乙烯结构(以下,还称为“EO链”。),由此光聚 合引发剂A及防静电性聚合物B的相溶性提高。
并且,认为防静电性聚合物B与聚合性化合物C的相溶性也较高,换言 之,聚合性化合物C作为防静电性聚合物B的溶剂发挥功能。
因此,认为含有光聚合引发剂A、防静电性聚合物B及聚合性化合物C的 体系中,通过防静电性聚合物B的存在,光聚合引发剂A均匀地分散于聚合性 化合物C中。
并且,认为通过活性能量射线产生活性种之后,来自光聚合引发剂A的EO 链的一部分与聚合性化合物C的聚合物的末端连结,由此显现表面活性能,其 结果,能够使防静电性聚合物B及聚合性化合物C的聚合物偏在于表面,因此 防静电性及耐擦伤性变得良好。
并且,认为光聚合引发剂A及防静电性聚合物B的相溶性变高的结果,不 仅能够使防静电性聚合物B或聚合性化合物C的聚合物偏在于表面,还能够使 其均匀地分散于固化物中,因此透明性变得良好。
[化学式1]
并且,发现本发明的组合物通过含有光聚合引发剂A、防静电性聚合物B 及聚合性化合物C,在低湿度环境下的防静电性也出乎意料地变得良好,热循 环试验后,防静电性也未出现变化(劣化)。
认为这是由于包含来自上述的光聚合引发剂A的EO链的残渣不仅具有表 面活性能,还有助于保湿性,因此即使在低湿度环境下,防静电性也变得良 好。
并且认为,如上所述,光聚合引发剂A及聚合物B的相溶性提高,其结 果,能够使光聚合引发剂A均匀地分散于固化物中,并能够抑制未反应的聚合 性化合物的凝聚,因此即使在热循环试验后,防静电性也未出现劣化。
以下,对本发明的组合物所含有的光聚合引发剂A、防静电性聚合物B及 聚合性化合物C等进行详细说明。
〔光聚合引发剂A〕
本发明的组合物所含有的光聚合引发剂A为以下述式(I)表示的光聚合 引发剂。
[化学式2]
式(I)中,V1、V2、V3及V4分别独立地表示氢原子或取代基,n表示1~5 的整数。
本发明中,上述式(I)中的n为1~5的整数,由此显现基于上述EO链 的功能,固化后的防静电性、耐擦伤性及透明性变得良好。
从这些效果更加提高的理由考虑,上述式(I)中的n优选为1~3的整 数,更优选为1~2的整数,进一步优选为1。
V1~V4中,作为取代基,例如可举出卤素原子、烷基、烷氧基、羟基、烷 硫基、巯基、酰基、氨基。
V1~V4中,作为卤素原子,优选为氟原子、氯原子、溴原子、碘原子,更 优选为氯原子、溴原子,尤其优选为氯原子。
V1~V4中,作为烷基的碳原子数,优选为碳原子数1~6,更优选为碳原子 数1~3。
并且,V1~V4中,烷基可以是直链烷基,也可以是具有支链的烷基。并 且,烷基可具有脂环结构。
作为V1~V4中的烷基,可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲 丁基、叔丁基、正戊基、正己基、环己基,优选为甲基、乙基、正丙基、异丙 基。
V1~V4中,作为烷氧基的碳原子数,优选为碳原子数1~6,更优选为碳原 子数1~3。
并且,V1~V4中,烷氧基可以是直链的烷氧基,也可以是具有支链的烷氧 基。并且,烷氧基可具有脂环结构。
作为V1~V4中的烷氧基,可举出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、 正丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、正戊氧基、正己氧基、环己氧基,优选为甲 氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基。
V1~V4中,作为烷硫基的碳原子数,优选为碳原子数1~6,更优选为碳原 子数1~4。
并且,V1~V4中,烷硫基可以是直链的烷硫基,也可以是具有支链的烷硫 基。并且,烷硫基可具有脂环结构。
作为V1~V4中的烷硫基,可举出甲硫基、乙硫基、正丙硫基、异丙硫基、 正丁硫基、仲丁硫基、叔丁硫基、正戊硫基、正己硫基、环己硫基,优选为甲 硫基、乙硫基、正丙硫基、异丙硫基。
V1~V4中,作为酰基的碳原子数,优选为碳原子数1~6,更优选为碳原子 数1~3。
并且,V1~V4中,酰基可以是直链的酰基,也可以是具有支链的酰基。
作为V1~V4中的酰基,可举出甲酰基、乙酰基、乙基酰基、正丙基酰基、 异丙基酰基,优选为甲酰基、乙酰基、乙基酰基。
作为V1~V4,优选为氢原子、卤素原子、烷基、烷氧基、烷硫基,更优选 为氢原子、烷氧基、烷硫基,最优选为氢原子。
并且,作为以上述式(I)表示的化合物的进一步优选的形态,可举出V 1~V4中的两个以上(优选为3个以上,最优选为4个)为氢原子的形态。
以下,示出以上述式(I)表示的化合物的具体例(例示化合物),但以 上述式(I)表示的化合物并不限定于这些。
[表1]
以上述式(I)表示的化合物(聚合引发剂)例如可依据日本特开2000-18 6242号公报的0067~0071段及0112~0115段中记载的方法合成。
本发明中,从固化性、低湿度环境下的保湿性、未反应的聚合性化合物C 的分散性等观点考虑,上述光聚合引发剂A的含量相对于后述的聚合性化合物 C100质量份,优选为0.5~10质量份,更优选为1~8质量份。
并且,本发明中,除了上述光聚合引发剂A以外,可并用其他引发剂。
作为其他引发剂,例如可举出光自由基聚合引发剂,具体而言,还能够适 当使用羟基苯乙酮化合物、氨基苯乙酮化合物及酰基膦化合物。
更具体而言,例如还能够使用日本特开平10-291969号公报中记载的氨基 苯乙酮类引发剂、日本专利第4225898号公报中记载的酰基氧化膦类引发剂。
作为羟基苯乙酮类引发剂,能够使用作为市售品的IRGACURE-184、DAROCU R-1173、IRGACURE-500、IRGACURE-2959、IRGACURE-127(商品名:均为BASF 公司制)。作为氨基苯乙酮类引发剂,能够使用作为市售品的IRGACURE-907、 IRGACURE-369及IRGACURE-379(商品名:均为BASF公司制)。作为氨基苯乙 酮类引发剂,还能够使用吸收波长匹配于365nm或405nm等长波光源的日本特 开2009-191179号公报中记载的化合物。并且,作为酰基膦类引发剂,能够使 用作为市售品的IRGACURE-819和DAROCUR-TPO(商品名:均为BASF公司制)。
〔防静电性聚合物B〕
本发明的组合物所含有的防静电性聚合物B并无特别限定,能够使用具有 防静电性的以往公知的聚合物。
本发明中,从固化后的防静电性变得更加良好、与上述光聚合引发剂A的 反应性变得良好的理由考虑,防静电性聚合物B优选为具有选自包含以下述式 (1)~(5)表示的重复单元的组中的至少1个重复单元的聚合物。
[化学式3]
式(1)~式(5)中,R1分别独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、1价 的烃基、-COO-C2或经由烃的-COO-C2,C2表示氢原子或可具有取代基的烃基。
式(1)~式(5)中,Z分别独立地表示-COO-、-CONH-、-OCO-、-CH2OCO -、-CH2COO-、-O-、-SO2-、-CO-、-CONHCOO-、-CONHCONH-、-CONHSO2-、-CON (P3)-、-SO2N(G)-、-C6H4-或碳原子数1~30的亚烷基,,G表示氢原子或烃 基。
式(1)~式(5)中,A分别独立地表示单键或2价以上的连接基团,j 分别独立地表示0~30的整数。
式(1)中,Y+表示阳离子性基团,X-表示阴离子性基团,u表示1~3的 整数,r表示1~4的整数。
式(2)中,R2表示可具有取代基的碳原子数为2~5的亚烷基,R3表示氢 原子或可具有取代基的碳原子数为1~5的烷基,m表示2~200的整数。
式(3)中,Q+表示铵阳离子、锍阳离子、碘鎓阳离子、鏻阳离子或吡啶 鎓阳离子,L1表示单键或2价以上的连接基团,T-表示COO-、SO3 -或OPO(O-) (ORp),Rp表示烷基。p表示1~3的整数。
式(4)中,L2表示单键或2价以上的连接基团,U+表示可具有取代基的铵 或鏻阳离子,q表示1~3的整数。
式(5)中,J-表示COO-、OPO(OH)O-或SO3 -,V+表示阳离子性基团,w表 示1~3的整数。
其中,上述式(1)~式(5)中的R1优选为氢原子或1价的烃基,作为1 价的烃基,例如,可举出碳原子数1~10的烷基,其中优选为甲基。
并且,上述式(1)~式(5)中的Z优选为-COO-、-CONH-或碳原子数1~ 30的亚烷基,作为碳原子数1~30的亚烷基,例如可举出亚甲基、亚乙基、亚 丙基等,其中优选为亚甲基。
并且,上述式(1)~式(5)中的A优选为单键或2价的连接基团,作为 2价的连接基团,例如可举出碳原子数1~10的亚烷基,其中优选为亚乙基或 亚丙基。
并且,上述式(1)中的Y+(阳离子性基团)优选为铵阳离子,作为X- (阴离子性基团),例如可举出Cl-、Br-、I-、SO3 -、NCS-、ROSO3 -、ROSO2 -、RSO 3 -、R-C6H4-SO3 -、(RO)2PO2 -、R4B-(其中,R表示可具有取代基的烷基、脂环烷 基、芳香族基。)、(CF3SO2)2N-、(SO2C2F5)2N-等。
并且,上述式(2)中的R2优选为亚乙基,R3优选为氢原子或碳原子数为 1~3的烷基,m优选为2~30的整数。
并且,上述式(3)中的Q+优选为铵阳离子。并且,L1优选为单键或2价 的连接基团,作为2价的连接基团,例如可举出碳原子数1~10的亚烷基,其 中优选为亚甲基、亚乙基、亚丙基或亚丁基。并且,T-优选为COO-或SO3 -
并且,上述式(4)中的L2优选为单键或2价的连接基团,作为2价的连 接基团,例如可举出碳原子数1~10的亚烷基,其中优选为亚甲基、亚乙基、 亚丙基或亚丁基。并且,U+优选为铵阳离子。
并且,上述式(5)中的J-优选为SO3 -,作为V+的阳离子性基团,例如可 举出Na+、K+、季铵阳离子、吡啶鎓阳离子等。
本发明中,从固化后的防静电性变得更加良好、与上述光聚合引发剂A的 相溶性变得良好的理由考虑,具有以上述式(1)~(5)表示的重复单元的聚 合物中,优选上述防静电性聚合物B为具有以上述式(1)表示的重复单元的 阳离子性聚合物,并且以上述式(1)表示的重复单元优选为以下述式(6)表 示的铵盐。
[化学式4]
式(6)中,R1及A的含义分别与上述式(1)中的R1及A相同。
并且,Z表示-COO-、-CONH-或-CH2-,j表示0~10的整数。
并且,L3、L4及L5分别独立地表示可具有取代基的碳原子数1~20的烷 基、烯基、炔基、芳基或杂环基,L3、L4及L5的至少两个可相互键合而形成 环。
作为生成具有以上述式(1)及(6)表示的重复单元的聚合物的单体,具 体而言,例如可举出以下示出的(B)-a1-1~(B)-a1-11。
[化学式5]
作为生成具有以上述式(2)表示的重复单元的聚合物的单体,具体而言, 例如可举出以下示出的(B)-a2-1~(B)-a2-3。
[化学式6]
作为生成具有以上述式(3)表示的重复单元的聚合物的单体,具体而言, 例如可举出以下示出的(B)-a3-1~(B)-a3-7。
[化学式7]
作为生成具有以上述式(4)表示的重复单元的聚合物的单体,具体而言, 例如可举出以下示出的(B)-a4-1~(B)-a4-2。
[化学式8]
作为生成具有以上述式(5)表示的重复单元的聚合物的单体,具体而 言,例如可举出以下示出的(B)-a5-1。
[化学式9]
<共聚物B1>
本发明中,从与上述光聚合引发剂A的相溶性变得良好的理由考虑,上述 防静电性聚合物B优选为包含选自包含以上述式(1)~(5)表示的重复单元 的组中的至少1个重复单元及以下述式(7)表示的重复单元的共聚物(以 下,还称为“共聚物B1”。)。
[化学式10]
上述式(7)中,R4表示氢原子或CH3,R5表示氢原子或可具有取代基的碳 原子数6~25的烃基,A表示可具有取代基的碳原子数为2~5的亚烷基,n表 示3~50的整数。
作为生成以上述式(7)表示的重复单元的单体,具体而言,例如可举出 以下示出的(B)-b-1~(B)-b-5。
[化学式11]
<共聚物B2>
本发明中,从与光聚合引发剂A的相溶性较高、防静电性变得进一步良 好、即使在热循环试验后防静电性也不易劣化的理由考虑,上述防静电性聚合 物B优选为包含以上述式(1)表示的重复单元及以上述式(3)或(4)表示 的重复单元的共聚物(以下,还称为“共聚物B2”。)。
上述防静电性聚合物B为共聚物B2时,从固化后的防静电性变得更加良 好、与上述光聚合引发剂A的相溶性变得良好的理由考虑,优选以上述式 (3)表示的重复单元为以下述式(8)表示的重复单元。
[化学式12]
式(8)中,R6表示氢原子或CH3,R7表示碳原子数1~6的亚烷基,R8及R9分别独立地表示碳原子数1~4的烷基,R10表示碳原子数1~4的亚烷基。
<共聚物B3>
本发明中,从与上述光聚合引发剂A的相溶性变得良好的理由考虑,上述 防静电性聚合物B优选为包含选自包含以上述式(1)~(5)表示的重复单元 的组中的至少1个重复单元及来自CLogP值为0.3~5的单体的重复单元的共 聚物(以下,还称为“共聚物B3”。)。
其中,“CLogP值”是通过计算求出的对于1-辛醇与水的分配系数P的常 用对数logP的值。ClogP值的计算中,使用了Daylight Chemical Informati on Systems公司的系统:组装于PCModels的CLOGP程序。
作为CLogP值为0.3~5的单体,例如,可举出(甲基)丙烯酸类单体、 (甲基)丙烯酰胺单体等,具体而言,例如可举出以下示出的(B)-d-1~ (B)-d-10。
其中,“(甲基)丙烯酸”是包含甲基丙烯酸或丙烯酸的概念的标记。
[化学式13]
本发明中,上述防静电性聚合物B为上述的共聚物B1~B3时,从与光聚 合引发剂A的相溶性较高、防静电性变得更加良好的理由考虑,优选为含有4 0~80质量%的以上述式(1)~(5)表示的重复单元的共聚物。
具体而言,优选为包含40~80质量%的以上述式(1)~(5)表示的重复 单元且包含20~60质量%的以上述式(7)表示的重复单元的共聚物,更优选 为包含45~75质量%的以上述式(1)~(5)表示的重复单元且包含55~25 质量%的以上述式(7)表示的重复单元的共聚物。
尤其,优选为包含39.5~70质量%的以上述式(1)表示的重复单元、包 含20~60质量%的以上述式(7)表示的重复单元、包含0.5~10质量%的以上 述式(3)或(4)表示的重复单元的共聚物。
本发明中,上述防静电性聚合物B的制备方法并无特别限定,能够通过利 用以往公知的聚合引发剂(尤其是自由基引发剂)使上述的聚合性化合物聚合 来制备。
作为自由基引发剂,具体而言,例如可举出:过氧化苯甲酰、过氧化苯甲 酰卤、过氧化月桂酰、过氧化乙酰、过氧化二丁酯、过氧化氢异丙苯、丁基过 氧化氢等有机过氧化物;过氧化氢、过硫酸铵、过硫酸钾等无机过氧化物;2, 2’-偶氮二(异丁腈)、2,2’-偶氮二(丙腈)、1,1’-偶氮二(环己烷腈) 等偶氮化合物;重氮氨基苯、对硝基苯重氮等重氮化合物;等。
本发明中,上述防静电性聚合物B的重均分子量优选超过5000,更优选为 7000~500000。
其中,重均分子量通过凝胶渗透色谱(GPC)法测定,以标准聚苯乙烯换 算来求出。
本发明中,从固化后的防静电性及耐擦伤性变得更加良好的理由考虑,上 述防静电性聚合物B的含量相对于后述的聚合性化合物C100质量份,优选为 1~40质量份,更优选为5~30质量份。
〔聚合性化合物C〕
含有本发明的组合物所含有的烯属不饱和基团的聚合性化合物C并无特别 限定。
其中,作为烯属不饱和基团,具体而言,例如可举出(甲基)丙烯酰基、 乙烯基、苯乙烯基、烯丙基等聚合性官能团。
本发明中,从固化后的防静电性及耐擦伤性变得更加良好的理由考虑,上 述聚合性化合物C的分子量优选为90~5000,更优选为100~4000。
并且,本发明中,从与光聚合引发剂A的相溶性提高的理由考虑,上述聚 合性化合物C优选为作为烯属不饱和基团而含有甲基丙烯酰基或丙烯酰基的甲 基丙烯酸类或丙烯酸类化合物(以下,简称为“(甲基)丙烯酸类化合 物”。)。
作为上述(甲基)丙烯酸类化合物,例如可举出多官能(甲基)丙烯酸 酯、多官能(甲基)丙烯酰胺、单官能(甲基)丙烯酸酯、单官能(甲基)丙 烯酰胺,这些可单独使用1种,也可并用两种以上。
<多官能(甲基)丙烯酸酯、多官能(甲基)丙烯酰胺>
作为多官能(甲基)丙烯酸酯,具体而言,例如可举出三羟甲基丙烷三 (甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯 酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯〔以 下,将二季戊四醇六丙烯酸酯还简称为“DPHA”。〕、二季戊四醇五(甲基) 丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、 二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲 基)丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、二四乙二醇二(甲基) 丙烯酸酯等,这些可单独使用1种,也可并用两种以上。
作为多官能(甲基)丙烯酰胺,具体而言,例如可举出N,N’-亚甲基双 (甲基)丙烯酰胺、1,2-双〔(甲基)丙烯酰胺〕乙烷、1,3-双〔(甲基)丙 烯酰胺〕丙烷、1,6-双〔(甲基)丙烯酰胺〕己烷、日本公开技报2013-50265 4的[0031]段中记载的聚合性化合物1~12等,这些可单独使用1种,也可并 用两种以上。
另外,能够并用多官能(甲基)丙烯酸酯及多官能(甲基)丙烯酰胺。
<单官能(甲基)丙烯酸酯、单官能(甲基)丙烯酰胺>
作为单官能(甲基)丙烯酸酯,具体而言,例如可举出:丙烯酸甲酯、丙 烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸异丁酯、丙烯酸戊酯、丙烯酸己 酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸-2-氯乙酯、丙烯 酸缩水甘油酯、丙烯酸3,4-环氧基环己基甲酯、丙烯酸乙烯酯、丙烯酸2-苯 基乙烯酯、丙烯酸1-丙烯酯、丙烯酸烯丙酯、丙烯酸2-烯丙氧基乙酯、丙烯 酸炔丙酯等烷基丙烯酸酯;甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙 酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸月桂酯〔以下,还简称 为“LMA”。〕、甲基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸2-乙基己 酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸-2-氯乙酯、甲基丙烯 酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸3,4-环氧基环己基甲酯、甲基丙烯酸乙烯酯、甲基 丙烯酸2-苯基乙烯酯、甲基丙烯酸1-丙烯酯、甲基丙烯酸烯丙酯、甲基丙烯 酸2-烯丙氧基乙酯、甲基丙烯酸丙炔酯等甲基丙烯酸烷基酯等,这些可单独使 用1种,也可并用两种以上。
作为单官能(甲基)丙烯酰胺,具体而言,例如可举出丙烯酰胺、甲基丙 烯酰胺、N-羟甲基丙烯酰胺、N-乙基丙烯酰胺、N-己基甲基丙烯酰胺、N-环己 基丙烯酰胺、N-羟基乙基丙烯酰胺、N-苯基丙烯酰胺、N-硝基苯基丙烯酰胺、 N-乙基-N-苯基丙烯酰胺、乙烯基丙烯酰胺、乙烯基甲基丙烯酰胺、N,N-二烯 丙基丙烯酰胺、N,N-二烯丙基甲基丙烯酰胺、烯丙基丙烯酰胺、烯丙基甲基丙 烯酰胺、N-(2-乙酰胺乙基)-N-(2-羟基乙基)丙烯酰胺等,这些可单独使 用1种,也可并用两种以上。
另外,能够并用单官能(甲基)丙烯酸酯及单官能(甲基)丙烯酰胺。
并且,作为上述中例示的上述(甲基)丙烯酸类化合物以外的上述聚合性 化合物C,从与光聚合引发剂A的相溶性较高、防静电性变得更良好的理由考 虑,优选为具有亲水基团的聚合性化合物。
其中,作为亲水基团,例如可举出羟基、甜菜碱性基、羧基等,其中,优 选为羟基、甜菜碱性基,更优选为羟基。
作为具有羟基的聚合性化合物,优选为以下述式(9)表示的化合物。
CH2=C(R11)COO(BO)nH (9)
其中,式(9)中,R11表示氢原子或CH3,B表示碳原子数2~3的可分支的 亚烷基,n表示1~10的整数。
作为以上述式(9)表示的化合物,具体而言,例如可举出丙烯酸2-羟乙 酯、甲基丙烯酸2-羟乙酯〔以下,还简称为“HEMA”。〕、丙烯酸2-羟丙 酯、丙烯酸3-羟丙酯、丙烯酸4-羟丁酯、甲基丙烯酸2-羟乙酯、甲基丙烯酸 2-羟丙酯、甲基丙烯酸3-羟丙酯、甲基丙烯酸4-羟丁酯等,这些可单独使用1 种,也可并用两种以上。
本发明中,含有上述聚合性化合物C时的含量相对于组合物中包含的总固 体成分100质量份,优选以0.3~9质量份的比例含有上述光聚合引发剂A、以 1~30质量份的比例含有上述防静电性聚合物B及以69.7~90质量份的比例含 有上述聚合性化合物C,更优选以0.35~7质量份的比例含有上述光聚合引发 剂A、以3.5~22.5质量份的比例含有上述防静电性聚合物B及以77.15~89. 5质量份的比例含有上述聚合性化合物C。
本发明的组合物可根据需要而含有溶剂。
作为所使用的溶剂,例如可举出水、有机溶剂或它们的混合溶剂。
作为有机溶剂,具体而言,例如可举出:甲醇、异丙醇等醇类;丙酮等酮 类;甲酰胺等酰胺类;二甲基亚砜等亚砜类;乙酸乙酯等酯类;醚类;等。
并且,本发明的组合物可根据所使用的用途,并用颜料、染料、表面活性 剂、防粘连剂、粘合剂、交联剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂等其他任意成分。
[防静电薄膜]
本发明的防静电薄膜为具有在基材上赋予本发明的组合物并通过活性能量 射线来使其固化而成的防静电层的防静电薄膜。
〔基材〕
本发明的防静电薄膜所具有的基材优选为包含透明性良好的材料的基材, 作为该材料,具体而言,例如可举出聚对苯二甲酸乙二酯、聚对苯二甲酸丁二 酯、聚乙烯、聚丙烯、尼龙6、尼龙66、二乙酰纤维素、三乙酰纤维素、乙酰 丁酸纤维素、赛璐酚、聚苯乙烯、聚芳酯、聚碳酸酯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙 烯、聚甲基萜、聚醚砜、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯醇、聚酰亚胺、聚环烯烃 等。
〔防静电层〕
在上述基材上赋予本发明的组合物的方法并无特别限定,例如可举出利用 凹板涂布机、逗点涂布机(comma coater)、棒涂布机、刮刀涂布机、模涂布 机、辊涂机等的涂布方法。
并且,可在赋予基材上来形成涂膜之后且实施后述的固化处理之前,根据 需要实施干燥处理。通过实施干燥处理,能够去除涂膜中包含的挥发成分(溶 剂等)。干燥处理的方法并无特别限制,可举出以不会进行聚合性化合物的聚 合的程度的温度(例如,60~100℃)实施加热处理的方法或实施风干处理的 方法等。
在上述基材上赋予本发明的组合物,形成涂膜之后通过活性能量射线来使 其固化的方法并无特别限定。
其中,活性能量射线是指能够分解产生活性种的化合物(光聚合引发剂 A)来产生活性种的能量射线。作为这种活性能量射线,可举出:远紫外线、 紫外线、近紫外线、红外线等光线;X射线、γ射线等电磁波;电子束、质子 束、中子束等,从固化速度、照射装置的易获得性、价格等方面考虑,优选为 紫外线。
紫外线照射中能够使用发出150~450nm波长区域的光的高压汞灯、超高 压汞灯、碳弧灯、金属卤化物灯、氙气灯、化学灯、无电极放电灯、紫外线LE D等。
并且,对涂膜实施的光照射的照度并无特别限制,但从所获得的防静电薄 膜的特性及生产率的平衡的角度考虑,优选为0.1~1000mW/cm2,更优选为1~ 800mW/cm2
光照射时的曝光量并无特别限制,但从所获得的防静电薄膜的特性及生产 率的平衡的角度考虑,优选为2000mJ/cm2以下,更优选为1750mJ/cm2以下,进 一步优选为1500mJ/cm2以下。下限并无特别限制,从防静电薄膜的特性的角度 考虑,优选为500mJ/cm2以上。
光照射时的气氛并无特别限制,可以是大气下也可以是惰性气氛下。
利用本发明的组合物形成的防静电层的厚度优选为0.01~100μm,更优选 为0.05~50μm。
并且,铅笔硬度试验中,防静电层的硬度优选为HB以上,更优选为H以 上。
并且,防静电层的表面电阻率SR(Ω/sq)的常用对数值(LogSR)优选为 13以下,更优选为12以下。
其中,表面电阻率表示在25℃、相对湿度60%下测定的值。
实施例
以下,根据实施例对本发明进行更详细的说明。以下的实施例所示的材 料、使用量、比例、处理内容、处理步骤等能够在不脱离本发明的宗旨的范围 内适当进行变更。因此,本发明的范围不应被以下所示的实施例限定性解释。
〔聚合引发剂的合成〕
<中间体(2)-1的合成>
向加热至90℃的170.0g的苯基二甘醇(PhDG、Nippon Nyukazai Co.,Ltd. 制)(0.93mol),滴加乙酸酐97.2g(0.95mol),在120℃下加热搅拌6小 时。之后,通过减压进行浓缩,从而获得了204.4g的中间体(2)-1(收率9 8%)。另外,利用核磁共振装置(使用溶剂:CDCl3)对所获得的中间体(2)- 1的结构进行了测定,由此确认到是下述式(2)-1的化合物。将1H-NMR测定 数据示于下述。
[化学式14]
1H-NMR(CDCl3)
δ:2.10(3H,s),3.78(2H,m),3.87(2H,m),4.15(2H,m), 4.26(2H,m),6.90-6.98(3H,m),7.25-7.32(2H,m)
<中间体(3)-1的合成>
向270mL的邻二氯苯(2.39mol)添加120.0g的氯化铝(III)(0.90mo l),并冷却至0℃。对此滴加44.26mL的2-溴异丁酰溴(0.36mol),并搅拌 15分钟。之后,将反应液的温度保持在0℃的同时经30分钟滴加了67.28g的 中间体(2)-1(0.30mol)。将滴加之后的反应液恢复至室温(22℃),并搅 拌2小时。之后,向冷却至5℃的水300mL,分数次添加了反应液。用水300ml 对有机相进行两次清洗之后,进一步用碳酸氢钠水溶液135mL、饱和食盐水13 5mL进行清洗,向有机相添加水300mL,通过减压进行共沸浓缩,由此获得了1 10.8g的中间体(3)-1(收率95%)。另外,利用核磁共振装置(使用溶剂: CDCl3)对所获得的中间体(3)-1的结构进行了测定,由此确认到是下述式 (3)-1的化合物。将1H-NMR的测定数据示于下述。
[化学式15]
1H-NMR(CDCl3)
δ:2.04(6H,s),2.08(3H,s),3.79(2H,m),3.85(2H,m), 4.21(2H,m),4.26(2H,m),6.94(2H,d),8.21(2H,d)
<光聚合引发剂A:化合物(I)-1的合成>
将100.0g的化合物(3)-1(0.27mol)溶解于异丙醇200mL,滴加214g 的25质量%氢氧化钠水溶液,并搅拌了2小时。之后,停止搅拌,用饱和食盐 水对有机相进行两次清洗之后,用盐酸进行了中和。通过减压对有机相进行浓 缩之后,添加甲基乙基酮72mL,并过滤了所析出的盐。对滤液进行减压浓缩之 后,添加水72mL,并进行基于减压的共沸浓缩,由此获得了56.8g的化合物 (I)-1(收率87%)。
[化学式16]
1H-NMR(CDCl3)
δ:1.64(6H,s),3.69(2H,m),3.78(2H,m),3.91(2H,m), 4.22(2H,m),4.26(1H,s),6.97(2H,d),8.06(2H,d)
〔其他光聚合引发剂的合成〕
作为以式(I)表示的化合物,参考上述步骤合成了以下述式(I)-2表示 的化合物、以下述式(I)-4表示的化合物、以式(IB)表示的化合物。
并且,如后述的表1所示,作为比较例中使用的化合物,使用了作为市售 品的“Irgacure 2959”(Irg2959)(商品名,BASF公司制)。另外,如下述 式所示,Irg2959相当于式(I)中n=0的化合物。
[化学式17]
〔防静电性聚合物B的合成〕
<合成例1~49>
向具备搅拌翼、回流冷凝器、气体导入口的烧瓶,以下述表2~表6所示 的配合量(质量份)混合下述表2~表6所示的单体、聚合引发剂(偶氮二异 丁腈(AIBN))及溶剂(异丙醇(IPA))之后,在氮气氛下,在70℃下使其 反应8小时,从而合成了聚合物B。
[表3]
[表4]
[表5]
[表6]
<实施例1~58、比较例1~5>
(活性能量射线固化性组合物的制备)
以下述表7~表13所示的配合量(质量份)混合下述表7~表13所示的 成分,并进行搅拌,由此获得了组合物。
另外,下述表10中,作为化合物C1~C3,分别使用了以下所示的聚合性 化合物。
■化合物1:2官能聚氨酯丙烯酸酯低聚物(Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.制:UA-4400、重均分子量:约1300~1400)
■化合物2:2官能聚氨酯丙烯酸酯低聚物(KYOEISHA CHEMICAL CO.,LTD 制:UF-8001G、重均分子量:约4500)
■化合物3:以下述式表示的化合物
[化学式18]
<防静电薄膜的制作>
利用棒涂布机将所制备的各组合物涂布于聚对苯二甲酸乙二酯薄膜(TOYO BOCO.,LTD.制:Cosmoshine A4100)上,通过热风烘箱去除溶剂之后,用功 率80w/cm的高压汞灯照射10秒钟的紫外线,使涂布层(厚度:5μm)固化, 从而制作了防静电薄膜。
制作用刀具将所制作的防静电薄膜剪切成纵100×横100mm的样品,通过 以下的评价方法进行了评价。将这些结果示于下述表7~表13。
(防静电性)
将剪切后的样品在25℃、相对湿度40%气氛下放置24小时之后,利用表 面电阻测定器(DKK-TOA CORPORATION制SME-8310),在25℃、相对湿度40% 的条件下,加以外加电压100V来测定了1分钟后的表面电阻率(Ω/□),由 此评价了防静电性。
并且,在25℃、相对湿度15%气氛下放置24小时之后,通过与上述相同 的方法测定了表面电阻率(Ω/□),由此评价了低湿度下的防静电性。
评价基准如下进行,以6阶段评价了防静电性。D以上能够在实际使用中 正常使用。
A:更优异(表面电阻值小于109Ω/面积)
B:优异(表面电阻值为109Ω/面积以上且小于1010Ω/面积)
C:较佳(表面电阻值为1010Ω/面积以上且小于1011Ω/面积)
D:普通(表面电阻值为1011Ω/面积以上且小于1012Ω/面积)
E:稍差(表面电阻值为1012Ω/面积以上且小于1013Ω/面积)
F:较差(表面电阻值为1013Ω/面积以上)
(热循环之后的防静电性变化率)
进行以温度变化(相对湿度45%气氛下20℃50小时→相对湿度20%气氛下 -20℃50小时→相对湿度85%气氛下50℃50小时)作为1循环的20循环的热 循环试验之后,通过与上述相同的方法测定了表面电阻率(Ω/□)。根据热 循环试验前后的表面电阻率的值,通过下述式计算出了变化率。
变化率=(试验后的表面电阻值)/(试验前的表面电阻值)
(耐擦伤性)
利用#0000的钢丝棉加以200g/cm2的荷载的同时,使其在具有防静电膜的 层上的整面进行10往返,由此评价了表面有无瑕疵的产生。
A:即使非常仔细观察,也完全看不到瑕疵。
B:若非常仔细观察,则可观察到些许轻微的瑕疵。
C:在一部分样品中可观察到轻微的瑕疵。
D:在涂布膜整面确认到条状的瑕疵。
E:产生涂布膜的剥离。
(透明性)
通过雾度(%)评价了透明性。关于雾度,将在实施例及比较例中获得的 各防静电薄膜在-20℃的条件下保管3星期之后,利用NIPPON DENSHOKU INDUS TRIES Co.,LTD制浊度计“NDH5000”进行了测定。另外,对不具备防静电膜的 聚对苯二甲酸乙二酯薄膜,进行相同的测定来作为坯件。
A:小于0.5%
B:0.5%以上
[表8]
[表10]
[表11]
[表12]
[表13]
从表13所示的结果得知,作为光聚合引发剂使用市售品(Irg2959、BASF 公司制)时,即使改变配合量或并用的聚合物,防静电性及耐擦伤性也较差 (比较例1、2及5)。
并且得知,作为光聚合引发剂,使用上述式(I)中的n相当于9的引发 剂时,虽然防静电性得到了改善,但耐擦伤性较差(比较例3及4)。
相对于此,如表7~表12所示,得知若配合光聚合引发剂A、防静电性聚 合物B及聚合性化合物C,则固化后的防静电性、耐擦伤性及透明性均变得良 好(实施例1~58)。
并且,从表7~表12所示的结果的对比得知,若防静电性聚合物B为以上 述式(1)表示的阳离子性聚合物,则具有防静电性及耐擦伤性变得更加良好 的倾向。
而且,从实施例1、46及47的对比得知,若作为光聚合引发剂A使用上 述式(I)中的n为1的光聚合引发剂,则具有防静电性及耐擦伤性变得更加 良好的倾向。
而且,从实施例1~7的对比、实施例24及25的对比等得知,若防静电 性聚合物B具有以上述式(1)表示的重复单元及以上述式(7)表示的重复单 元,则防静电性尤其热循环试验后的防静电性变得更加良好,其中,得知若具 有以上述式(1)表示的重复单元、以上述式(7)表示的重复单元及以上述式 (3)表示的重复单元,则防静电性尤其低湿度下的防静电性变得更加良好。
而且,从实施例7与实施例38~40的对比等得知,若防静电性聚合物B 具有以上述式(1)表示的重复单元及来自CLogP值为0.3~5的单体的重复单 元,则防静电性尤其热循环试验后的防静电性变得更加良好。

Claims (16)

1.一种活性能量射线固化性组合物,其含有以下述式(I)表示的光聚合引发剂A、防静电性聚合物B、及含有烯属不饱和基团的聚合性化合物C,
其中,式(I)中,V1、V2、V3及V4分别独立地表示氢原子或取代基,n表示1~5的整数,
所述防静电性聚合物B为包含选自由以下述式(1)~(5)表示的重复单元构成的组中的至少1个重复单元及以下述式(7)表示的重复单元的聚合物,其重均分子量超过5000且为500000以下,
其中,式(1)~式(5)中,R1分别独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、1价的烃基、-COO-C2、或经由烃的-COO-C2,C2表示氢原子或可具有取代基的烃基;
式(1)~式(5)中,Z分别独立地表示-COO-、-CONH-、-OCO-、-CH2OCO-、-CH2COO-、-O-、-SO2-、-CO-、-CONHCOO-、-CONHCONH-、-CONHSO2-、-CON(P3)-、-SO2N(G)-、-C6H4-、或碳原子数为1~30的亚烷基,G表示氢原子或烃基;
式(1)~式(5)中,A分别独立地表示单键或2价以上的连接基团,j分别独立地表示0~30的整数;
式(1)中,Y+表示阳离子性基团,X-表示阴离子性基团,u表示1~3的整数,r表示1~4的整数;
式(2)中,R2表示可具有取代基的碳原子数为2~5的亚烷基,R3表示氢原子或可具有取代基的碳原子数为1~5的烷基,m表示2~200的整数;
式(3)中,Q+表示铵阳离子、锍阳离子、碘鎓阳离子、鏻阳离子或吡啶鎓阳离子,L1表示单键或2价以上的连接基团,T-表示COO-、SO3 -或OPO(O-)(ORp),Rp表示烷基;p表示1~3的整数;
式(4)中,L2表示单键或2价以上的连接基团,U+表示可具有取代基的铵阳离子或鏻阳离子,q表示1~3的整数;
式(5)中,J-表示COO-、OPO(OH)O-或SO3 -,V+表示阳离子性基团,w表示1~3的整数,
其中,式(7)中,R4表示氢原子或CH3,R5表示氢原子或可具有取代基的碳原子数为6~25的烃基,A表示可具有取代基的碳原子数为2~5的亚烷基,n表示3~50的整数。
2.根据权利要求1所述的活性能量射线固化性组合物,其中,
所述防静电性聚合物B为具有以所述式(1)表示的重复单元的阳离子性聚合物。
3.根据权利要求1或2所述的活性能量射线固化性组合物,其中,
以所述式(1)表示的重复单元为以下述式(6)表示的铵盐,
其中,式(6)中,R1表示氢原子、卤素原子、氰基、1价的烃基、-COO-C2、或经由烃的-COO-C2,C2表示氢原子或可具有取代基的烃基;
并且,Z表示-COO-、-CONH-或-CH2-,A表示单键或2价以上的连接基团,j表示0~10的整数;
并且,L3、L4及L5分别独立地表示可具有取代基的碳原子数为1~20的烷基、烯基、炔基、芳基或杂环基,L3、L4及L5中的至少两个可相互键合而形成环。
4.根据权利要求1或2所述的活性能量射线固化性组合物,其中,
所述防静电性聚合物B包含以所述式(1)表示的重复单元、和以所述式(3)或(4)表示的重复单元。
5.根据权利要求4所述的活性能量射线固化性组合物,其中,
以所述式(3)表示的重复单元为以下述式(8)表示的重复单元,
其中,式(8)中,R6表示氢原子或CH3,R7表示碳原子数为1~6的亚烷基,R8及R9分别独立地表示碳原子数为1~4的烷基,R10表示碳原子数为1~4的亚烷基。
6.根据权利要求1或2所述的活性能量射线固化性组合物,其中,
所述防静电性聚合物B还包含来自CLogP值为0.3~5的单体的重复单元。
7.根据权利要求1或2所述的活性能量射线固化性组合物,其中,
所述防静电性聚合物B为含有40~80质量%的以所述式(1)~(5)表示的重复单元的共聚物。
8.根据权利要求7所述的活性能量射线固化性组合物,其中,
所述防静电性聚合物B包含40~80质量%的以所述式(1)~(5)表示的重复单元,并包含20~60质量%的以所述式(7)表示的重复单元。
9.根据权利要求7所述的活性能量射线固化性组合物,其中,
所述防静电性聚合物B包含39.5~70质量%的以所述式(1)表示的重复单元,包含20~60质量%的以所述式(7)表示的重复单元,并包含0.5~10质量%的以所述式(3)或(4)表示的重复单元。
10.根据权利要求1或2所述的活性能量射线固化性组合物,其中,
所述聚合性化合物C为甲基丙烯酸类或丙烯酸类化合物。
11.根据权利要求1或2所述的活性能量射线固化性组合物,其中,
所述聚合性化合物C的分子量为90~5000。
12.根据权利要求1或2所述的活性能量射线固化性组合物,其中,
所述光聚合引发剂A的含量相对于所述聚合性化合物C 100质量份为0.5~10质量份。
13.根据权利要求1或2所述的活性能量射线固化性组合物,其中,
所述聚合物B的含量相对于所述聚合性化合物C 100质量份为1~40质量份。
14.根据权利要求1或2所述的活性能量射线固化性组合物,其中,
所述光聚合引发剂A是所述式(I)中的n为1的光聚合引发剂。
15.根据权利要求1或2所述的活性能量射线固化性组合物,其用于防静电剂。
16.一种防静电薄膜,其具有在基材上赋予权利要求1至15中任一项所述的活性能量射线固化性组合物并通过活性能量射线来使其固化而成的防静电层。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3330295B1 (en) * 2015-07-28 2019-08-21 FUJIFILM Corporation Photopolymerization initiator composition, active energy ray-curable composition, and cured product
TWI737949B (zh) * 2017-12-22 2021-09-01 日商荒川化學工業股份有限公司 活性能量線硬化性樹脂組成物用抗靜電劑、活性能量線硬化性樹脂組成物、硬化物及薄膜

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1975214A1 (en) * 2007-03-29 2008-10-01 Konica Minolta Holdings, Inc. Ink-jet ink and ink-jet recording method
WO2014148290A1 (ja) * 2013-03-22 2014-09-25 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクセット、及び画像形成方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0673305A (ja) * 1991-03-26 1994-03-15 Mitsubishi Rayon Co Ltd 耐擦傷性及び帯電防止性に優れた合成樹脂成形品用被覆剤組成物
JP4038600B2 (ja) * 1997-06-02 2008-01-30 日油株式会社 ヒドロキシアルキルフェノン誘導体及びその用途
JP2000186243A (ja) * 1998-10-16 2000-07-04 Canon Inc インク、高分子化合物膜の形成方法及び画像形成方法
JP2006342213A (ja) * 2005-06-07 2006-12-21 Mitsubishi Rayon Co Ltd 光硬化性樹脂組成物、樹脂積層体および樹脂積層体の製造方法
JP2007137964A (ja) * 2005-11-16 2007-06-07 Konica Minolta Holdings Inc インクジェット用インク
JP5294594B2 (ja) * 2007-08-27 2013-09-18 株式会社Dnpファインケミカル カラーフィルタ保護膜用樹脂組成物、及びカラーフィルタ
JP2010116505A (ja) * 2008-11-14 2010-05-27 Toyo Ink Mfg Co Ltd 帯電防止剤およびその用途
JP5669373B2 (ja) 2009-06-05 2015-02-12 Kjケミカルズ株式会社 4級カチオン性帯電防止剤及びそれを含有した帯電防止組成物と成形品
JP4600606B1 (ja) 2010-04-01 2010-12-15 東洋インキ製造株式会社 帯電防止コーティング用組成物
JP5993815B2 (ja) * 2013-07-26 2016-09-14 富士フイルム株式会社 インクジェット用インク組成物、インクセット、及び画像形成方法
WO2016052141A1 (ja) * 2014-09-29 2016-04-07 富士フイルム株式会社 活性エネルギー線硬化性組成物および帯電防止フィルム

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1975214A1 (en) * 2007-03-29 2008-10-01 Konica Minolta Holdings, Inc. Ink-jet ink and ink-jet recording method
WO2014148290A1 (ja) * 2013-03-22 2014-09-25 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクセット、及び画像形成方法

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