JP2001049234A - 近赤外線吸収剤、それを含有する組成物及び樹脂板 - Google Patents
近赤外線吸収剤、それを含有する組成物及び樹脂板Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 吸水性や反応性が低く臭いもない近赤外線吸
収剤を提供する。 【解決手段】 下記一般式（１）で表される近赤外線吸
収剤。 【化１】 （Ｒ1〜Ｒ4は、それぞれ水酸基、アルキル基、アリ−ル
基、アラルキル基、アルケニル基、ポリオキシアルキル
基、（メタ）アクリロイルオキシアルキル基及び（メ
タ）アクリロイルポリオキシアルキル基のなかのひとつ
を表す。）
収剤を提供する。 【解決手段】 下記一般式（１）で表される近赤外線吸
収剤。 【化１】 （Ｒ1〜Ｒ4は、それぞれ水酸基、アルキル基、アリ−ル
基、アラルキル基、アルケニル基、ポリオキシアルキル
基、（メタ）アクリロイルオキシアルキル基及び（メ
タ）アクリロイルポリオキシアルキル基のなかのひとつ
を表す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル（以下「ＰＤＰ」という）用前面フィルタ
ー、光学フィルター、グレージング材及び各種装飾用途
などに利用可能な近赤外線吸収剤および近赤外線吸収剤
を含有する組成物に関する。
レイパネル（以下「ＰＤＰ」という）用前面フィルタ
ー、光学フィルター、グレージング材及び各種装飾用途
などに利用可能な近赤外線吸収剤および近赤外線吸収剤
を含有する組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＰＤＰでは、画面から可視光線のみなら
ず、波長８００ｎｍ〜１１００ｎｍの近赤外線領域の光
も同時に発光している。そのため、ＰＤＰを設置した場
合に、近赤外線領域の光を利用したリモ−トコントロ−
ルシステムを有する機器に動作不良が発生することがあ
る。そこでＰＤＰ画面上に設置可能で、可視光線を透過
し、かつ近赤外線領域の光を吸収する光学フィルタ−が
必要とされている。
ず、波長８００ｎｍ〜１１００ｎｍの近赤外線領域の光
も同時に発光している。そのため、ＰＤＰを設置した場
合に、近赤外線領域の光を利用したリモ−トコントロ−
ルシステムを有する機器に動作不良が発生することがあ
る。そこでＰＤＰ画面上に設置可能で、可視光線を透過
し、かつ近赤外線領域の光を吸収する光学フィルタ−が
必要とされている。
【０００３】それに対し、特開昭５５−１４２０４５号
公報、特開昭５６−１２９２４３号公報、特開平６−１
１８２２８号公報、特開平６−３４５８７７号公報、特
開平１０−４５９９５号公報、特開平１０−１１４８４
８号公報、特開平１０−１５２５９８号公報などで銅化
合物と酸性リン酸エステルとを併用することによって近
赤外線吸収樹脂組成物や近赤外線吸収特性を有する樹脂
板が開示されている。
公報、特開昭５６−１２９２４３号公報、特開平６−１
１８２２８号公報、特開平６−３４５８７７号公報、特
開平１０−４５９９５号公報、特開平１０−１１４８４
８号公報、特開平１０−１５２５９８号公報などで銅化
合物と酸性リン酸エステルとを併用することによって近
赤外線吸収樹脂組成物や近赤外線吸収特性を有する樹脂
板が開示されている。
【０００４】しかしながら、これらの樹脂組成物や樹脂
板の吸収波長は可視光領域にも及んでいるので、吸収ピ
−クが可視光領域よりも長波長側にシフトすることが望
まれている。
板の吸収波長は可視光領域にも及んでいるので、吸収ピ
−クが可視光領域よりも長波長側にシフトすることが望
まれている。
【０００５】特開平１１−５２１２７号公報には、銅イ
オンとリン酸基含有化合物からなる近赤外線吸収剤が開
示されている。その公報では液状高分子材料や液状共重
合性単量体等の液中での近赤外線吸収剤の安定性を高く
し、沈殿や液のにごりの発生を防止するため、近赤外線
吸収剤のアキシアル位の配位子に脂肪族３級アミンまた
はラジカル重合性の３級アミンを用いることが提案され
ている。
オンとリン酸基含有化合物からなる近赤外線吸収剤が開
示されている。その公報では液状高分子材料や液状共重
合性単量体等の液中での近赤外線吸収剤の安定性を高く
し、沈殿や液のにごりの発生を防止するため、近赤外線
吸収剤のアキシアル位の配位子に脂肪族３級アミンまた
はラジカル重合性の３級アミンを用いることが提案され
ている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、３級ア
ミンが配位された近赤外線吸収剤は、吸水性や反応性が
高いため、近赤外線吸収剤を含有する組成物の含水分率
が高くなったり、架橋反応が進む等の問題があり、また
得られた成形品の耐熱性が低下したり、外観が悪化する
ことがあった。更に近赤外線吸収剤自身の臭いが強く取
り扱い上、問題があった。
ミンが配位された近赤外線吸収剤は、吸水性や反応性が
高いため、近赤外線吸収剤を含有する組成物の含水分率
が高くなったり、架橋反応が進む等の問題があり、また
得られた成形品の耐熱性が低下したり、外観が悪化する
ことがあった。更に近赤外線吸収剤自身の臭いが強く取
り扱い上、問題があった。
【０００７】本発明の目的は、吸水性や反応性が低く臭
いもない近赤外線吸収剤、それを含有する組成物および
その組成物からなる樹脂板を提供することにある
いもない近赤外線吸収剤、それを含有する組成物および
その組成物からなる樹脂板を提供することにある
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、下記一
般式（１）で表される近赤外線吸収剤にある。
般式（１）で表される近赤外線吸収剤にある。
【化２】 （Ｒ1〜Ｒ4は、それぞれ水酸基、アルキル基、アリ−ル
基、アラルキル基、アルケニル基、ポリオキシアルキル
基、（メタ）アクリロイルオキシアルキル基及び（メ
タ）アクリロイルポリオキシアルキル基のなかのひとつ
を表す。）また、本発明の要旨は、この近赤外線吸収剤
を含む組成物にある。
基、アラルキル基、アルケニル基、ポリオキシアルキル
基、（メタ）アクリロイルオキシアルキル基及び（メ
タ）アクリロイルポリオキシアルキル基のなかのひとつ
を表す。）また、本発明の要旨は、この近赤外線吸収剤
を含む組成物にある。
【０００９】さらに本発明の要旨は、この組成物からな
る樹脂板にある。
る樹脂板にある。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明を具体的に詳述す
る。
る。
【００１１】以下の説明において、「（メタ）アクリル
酸」はアクリル酸またはメタクリル酸を意味し、「（メ
タ）アクリレート」はアクリレートまたはメタクリレー
トを意味する。
酸」はアクリル酸またはメタクリル酸を意味し、「（メ
タ）アクリレート」はアクリレートまたはメタクリレー
トを意味する。
【００１２】本発明の近赤外線吸収剤は、一般式（１）
で表される構造で、銅イオンにリン酸基含有化合物が２
モル配位して平面構造をなし、かつアキシアル位に水が
２モル配位してなるものである。
で表される構造で、銅イオンにリン酸基含有化合物が２
モル配位して平面構造をなし、かつアキシアル位に水が
２モル配位してなるものである。
【００１３】銅イオンに配位するリン酸基含有化合物
は、不飽和型の酸性リン酸エステルおよび飽和型の酸性
リン酸エステルの少なくとも１種以上であることが好ま
しい。
は、不飽和型の酸性リン酸エステルおよび飽和型の酸性
リン酸エステルの少なくとも１種以上であることが好ま
しい。
【００１４】銅イオンに配位する不飽和型の酸性リン酸
エステルとしては下記一般式（２）及び下記一般式
（３）で表されるもの、並びにそれらの誘導体が挙げら
れる。誘導体とは化合物中の水素原子がハロゲン基、フ
ェノキシエチル基等で置換されたものや、化合物自身が
分岐構造物であるものを意味する。
エステルとしては下記一般式（２）及び下記一般式
（３）で表されるもの、並びにそれらの誘導体が挙げら
れる。誘導体とは化合物中の水素原子がハロゲン基、フ
ェノキシエチル基等で置換されたものや、化合物自身が
分岐構造物であるものを意味する。
【００１５】
【化３】
【００１６】
【化４】 （Ｒ5及びＲ6は下記一般式（４）または下記一般式
（５）で表されるものである。）
（５）で表されるものである。）
【００１７】
【化５】
【００１８】
【化６】 （Ｘ及びＹはそれぞれ水素原子またはメチル基である。
ｍ及びｎはそれぞれ１〜６の整数である。なお、ｎは３
〜６の整数であることが好ましい。） 不飽和型の酸性リン酸エステルの具体例としてはメタク
リロイルオキシエチルホスフェート、ビス（２−メタク
リロイルオキシエチル）ホスフェート、アクリロイルオ
キシエチルホスフェート、ビス（２−アクリロイルオキ
シエチル）ホスフェート、メタクリロイルオキシプロピ
ルホスフェート、ビス（メタクリロイルオキシプロピ
ル）ホスフェート、アクリロイルオキシプロピルホスフ
ェート、ビス（アクリロイルオキシプロピル）ホスフェ
ート、メタクリロイルオキシブチルホスフェート、ビス
（メタクリロイルオキシブチル）ホスフェート、アクリ
ロイルオキシブチルホスフェート、ビス（アクリロイル
オキシブチル）ホスフェート、メタクリロイルオキシヘ
キシルホスフェート、ビス（メタクリロイルオキシヘキ
シル）ホスフェート、アクリロイルオキシヘキシルホス
フェート、ビス（アクリロイルオキシヘキシル）ホスフ
ェート、アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリ
コールモノメタクリレート、アシッドホスホオキシポリ
オキシプロピレングリコールモノメタクリレート、メタ
クロイルオキシエチルアシッドホスフェートジメチルア
ミノエチルメタクリレート、３−クロロ２−アシッドホ
スホオキシプロピルメタクリレート等が挙げられる。
ｍ及びｎはそれぞれ１〜６の整数である。なお、ｎは３
〜６の整数であることが好ましい。） 不飽和型の酸性リン酸エステルの具体例としてはメタク
リロイルオキシエチルホスフェート、ビス（２−メタク
リロイルオキシエチル）ホスフェート、アクリロイルオ
キシエチルホスフェート、ビス（２−アクリロイルオキ
シエチル）ホスフェート、メタクリロイルオキシプロピ
ルホスフェート、ビス（メタクリロイルオキシプロピ
ル）ホスフェート、アクリロイルオキシプロピルホスフ
ェート、ビス（アクリロイルオキシプロピル）ホスフェ
ート、メタクリロイルオキシブチルホスフェート、ビス
（メタクリロイルオキシブチル）ホスフェート、アクリ
ロイルオキシブチルホスフェート、ビス（アクリロイル
オキシブチル）ホスフェート、メタクリロイルオキシヘ
キシルホスフェート、ビス（メタクリロイルオキシヘキ
シル）ホスフェート、アクリロイルオキシヘキシルホス
フェート、ビス（アクリロイルオキシヘキシル）ホスフ
ェート、アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリ
コールモノメタクリレート、アシッドホスホオキシポリ
オキシプロピレングリコールモノメタクリレート、メタ
クロイルオキシエチルアシッドホスフェートジメチルア
ミノエチルメタクリレート、３−クロロ２−アシッドホ
スホオキシプロピルメタクリレート等が挙げられる。
【００１９】これらの中でも、メタクリロイルオキシエ
チルホスフェート、ビス（２−メタクリロイルオキシエ
チル）ホスフェート、メタクリロイルオキシプロピルホ
スフェート、ビス（メタクリロイルオキシプロピル）ホ
スフェートが好ましい。
チルホスフェート、ビス（２−メタクリロイルオキシエ
チル）ホスフェート、メタクリロイルオキシプロピルホ
スフェート、ビス（メタクリロイルオキシプロピル）ホ
スフェートが好ましい。
【００２０】銅イオンに配位する飽和型の酸性リン酸エ
ステルとは分子内に二重結合を有しない酸性リン酸エス
テルを意味する。具体例としてはモノまたはジエチルホ
スフェート、モノまたはジブチルホスフェート、モノま
たはジヘキシルホスフェート、モノまたはジヘプチルホ
スフェート、モノまたはジオクチルホスフェート、モノ
またはジ２−エチルヘキシルホスフェート、モノまたは
ジラウリルホスフェート、モノまたはジステアリルホス
フェート、モノまたはジオレイルホスフェート、モノま
たはジフェニルホスフェート、ノニルフェニルホスフェ
ート、２−クロロエチルホスフェート、ビス（２−クロ
ロエチル）ホスフェート、２，３−ジクロロプロピルホ
スフェート、ビス（２，３−ジクロロプロピル）ホスフ
ェート、ポリオキシエチレングリコールノニルフェニル
エーテルホスフェート、ビス（ポリオキシエチレングリ
コールノニルフェニルエーテル）ホスフェート等が挙げ
られる。これらのなかでもジブチルホスフェート、ジ２
−エチルヘキシルホスフェート等のジエステルが好まし
い。
ステルとは分子内に二重結合を有しない酸性リン酸エス
テルを意味する。具体例としてはモノまたはジエチルホ
スフェート、モノまたはジブチルホスフェート、モノま
たはジヘキシルホスフェート、モノまたはジヘプチルホ
スフェート、モノまたはジオクチルホスフェート、モノ
またはジ２−エチルヘキシルホスフェート、モノまたは
ジラウリルホスフェート、モノまたはジステアリルホス
フェート、モノまたはジオレイルホスフェート、モノま
たはジフェニルホスフェート、ノニルフェニルホスフェ
ート、２−クロロエチルホスフェート、ビス（２−クロ
ロエチル）ホスフェート、２，３−ジクロロプロピルホ
スフェート、ビス（２，３−ジクロロプロピル）ホスフ
ェート、ポリオキシエチレングリコールノニルフェニル
エーテルホスフェート、ビス（ポリオキシエチレングリ
コールノニルフェニルエーテル）ホスフェート等が挙げ
られる。これらのなかでもジブチルホスフェート、ジ２
−エチルヘキシルホスフェート等のジエステルが好まし
い。
【００２１】不飽和型及び飽和型の酸性リン酸エステル
は分子構造中にリン酸基を有している。これらの酸性リ
ン酸エステルが銅イオンに配位されると、リン酸基が銅
イオンを保持する形の化合物となり、このような化合物
は近赤外線領域の光吸収特性を有するものとなる。
は分子構造中にリン酸基を有している。これらの酸性リ
ン酸エステルが銅イオンに配位されると、リン酸基が銅
イオンを保持する形の化合物となり、このような化合物
は近赤外線領域の光吸収特性を有するものとなる。
【００２２】さらに、従来知られている３級アミンに換
えて、水がアキシアル位に配位されて一般式（１）の構
造をなすことにより、水が配位していない構造の時より
も近赤外線の吸収ピ−クが長波長側にシフトして可視光
域の吸収が少なくなるために、光学特性が改善される。
えて、水がアキシアル位に配位されて一般式（１）の構
造をなすことにより、水が配位していない構造の時より
も近赤外線の吸収ピ−クが長波長側にシフトして可視光
域の吸収が少なくなるために、光学特性が改善される。
【００２３】本発明の近赤外線吸収剤は、２価の銅化合
物１モル、酸性リン酸エステル２モル及び水２モルを溶
媒に溶解して合成することができる。溶媒としては、公
知の溶剤、液状高分子材料や液状共重合性単量体などが
挙げられる。近赤外線吸収剤を構成する酸性リン酸エス
テルは複数種使用することができる。また、近赤外線吸
収剤形成時にアキシアル位に水を配位させることで、近
赤外線吸収剤を含む溶液は長期間透明な外観を維持でき
る。
物１モル、酸性リン酸エステル２モル及び水２モルを溶
媒に溶解して合成することができる。溶媒としては、公
知の溶剤、液状高分子材料や液状共重合性単量体などが
挙げられる。近赤外線吸収剤を構成する酸性リン酸エス
テルは複数種使用することができる。また、近赤外線吸
収剤形成時にアキシアル位に水を配位させることで、近
赤外線吸収剤を含む溶液は長期間透明な外観を維持でき
る。
【００２４】ここで、２価の銅化合物としては、酢酸
銅、塩化銅、ギ酸銅、ステアリン酸銅、安息香酸銅、ピ
ロリン酸銅、ナフテン酸銅、クエン酸銅などのカルボン
酸銅、これらの無水物、水和物等、水酸化銅、塩基性炭
酸銅などが挙げられる。中でも、反応時に酸成分が遊離
しないため酸成分の抽出除去が必要ないこと、及び反応
時に遊離した水のアキシアル位への配位しやすさから、
水酸化銅または塩基性炭酸銅の使用が好ましい。
銅、塩化銅、ギ酸銅、ステアリン酸銅、安息香酸銅、ピ
ロリン酸銅、ナフテン酸銅、クエン酸銅などのカルボン
酸銅、これらの無水物、水和物等、水酸化銅、塩基性炭
酸銅などが挙げられる。中でも、反応時に酸成分が遊離
しないため酸成分の抽出除去が必要ないこと、及び反応
時に遊離した水のアキシアル位への配位しやすさから、
水酸化銅または塩基性炭酸銅の使用が好ましい。
【００２５】本発明の近赤外線吸収剤を含有する組成物
は、公知の溶媒や樹脂等に、本発明の近赤外線吸収剤を
含有させたものである。本発明における「近赤外線吸収
剤を含有」とは、溶媒などの液中において近赤外線吸収
剤が分散している状態や、樹脂等の固体の表面や内部に
おいて近赤外線吸収剤が分散しているものや樹脂と共重
合している状態のことをいう。
は、公知の溶媒や樹脂等に、本発明の近赤外線吸収剤を
含有させたものである。本発明における「近赤外線吸収
剤を含有」とは、溶媒などの液中において近赤外線吸収
剤が分散している状態や、樹脂等の固体の表面や内部に
おいて近赤外線吸収剤が分散しているものや樹脂と共重
合している状態のことをいう。
【００２６】溶媒中に近赤外線吸収剤を含有させる方法
としては、あらかじめ合成した近赤外線吸収剤を目的の
溶媒に添加攪拌する方法や、溶媒中で直接近赤外線吸収
剤を合成させる方法などがある。溶媒は、組成物の用途
や使用目的に応じて選択できる。
としては、あらかじめ合成した近赤外線吸収剤を目的の
溶媒に添加攪拌する方法や、溶媒中で直接近赤外線吸収
剤を合成させる方法などがある。溶媒は、組成物の用途
や使用目的に応じて選択できる。
【００２７】組成物を、塗料、表面硬化剤及び表面ハ−
ドコ−ト剤などに用いるときは、溶媒として、アセトン
等の各種溶剤、アクリル系単量体等の重合性単量体、こ
の重合性単量体の（共）重合体と重合性単量体との混合
物、熱硬化性のシリコン系を主成分とするもの等の公知
のハ−ドコ−ト剤等に近赤外線吸収剤を含有させる方法
が挙げられる。
ドコ−ト剤などに用いるときは、溶媒として、アセトン
等の各種溶剤、アクリル系単量体等の重合性単量体、こ
の重合性単量体の（共）重合体と重合性単量体との混合
物、熱硬化性のシリコン系を主成分とするもの等の公知
のハ−ドコ−ト剤等に近赤外線吸収剤を含有させる方法
が挙げられる。
【００２８】溶剤を用いた組成物は、そのまま塗布乾燥
し、近赤外線吸収塗料や近赤外線吸収不可視インク等と
して使用できる。
し、近赤外線吸収塗料や近赤外線吸収不可視インク等と
して使用できる。
【００２９】また、近赤外線吸収剤を含有する重合性単
量体等からなる組成物を表面硬化剤や表面ハ−ドコ−ト
剤などに用いる場合は、公知の光重合開始剤等を添加し
重合硬化することで、近赤外線吸収能力を有する表面硬
化物や表面ハ−ドコ−ト物が得られる。さらに、近赤外
線吸収剤を含有する重合性単量体等からなる組成物は、
板状またはレンズ状などの形状に重合硬化させることが
できる。
量体等からなる組成物を表面硬化剤や表面ハ−ドコ−ト
剤などに用いる場合は、公知の光重合開始剤等を添加し
重合硬化することで、近赤外線吸収能力を有する表面硬
化物や表面ハ−ドコ−ト物が得られる。さらに、近赤外
線吸収剤を含有する重合性単量体等からなる組成物は、
板状またはレンズ状などの形状に重合硬化させることが
できる。
【００３０】重合性単量体としては（メタ）アクリル酸
メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル
酸ブチル、（メタ）アクリル酸ステアリル、（メタ）ア
クリル酸２−エチルヘキシル、エチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）
アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アク
リレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレ
ート、（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸
２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸グリシジ
ル、トリシクロ〔５．２．１．０2,6〕デカニル（メ
タ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート
等の（メタ）アクリル酸とアルコールとのエステル、
（メタ）アクリルアミドとその誘導体、スチレンとその
誘導体、Ｎ−置換マレイミド、無水マレイン酸および酢
酸ビニル等が挙げられる。単量体を含む混合液は、その
単量体を重合させた（共）重合体を０．５〜３５％程度
含むものであってもよい。
メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル
酸ブチル、（メタ）アクリル酸ステアリル、（メタ）ア
クリル酸２−エチルヘキシル、エチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）
アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アク
リレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレ
ート、（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸
２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸グリシジ
ル、トリシクロ〔５．２．１．０2,6〕デカニル（メ
タ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート
等の（メタ）アクリル酸とアルコールとのエステル、
（メタ）アクリルアミドとその誘導体、スチレンとその
誘導体、Ｎ−置換マレイミド、無水マレイン酸および酢
酸ビニル等が挙げられる。単量体を含む混合液は、その
単量体を重合させた（共）重合体を０．５〜３５％程度
含むものであってもよい。
【００３１】組成物中の重合性単量体の重合方法として
は公知のラジカル重合開始剤の存在下で重合する方法が
挙げられ、懸濁重合、乳化重合、溶液重合、塊状重合等
が採用できる。無機ガラス、プラスチック、あるいは金
属等で構成された鋳込み重合用セルのなかで板状あるい
はレンズ状に塊状重合する方法が好ましい。またラジカ
ル重合開始剤と促進剤からなるレドックス系開始剤等を
用いることもできる。
は公知のラジカル重合開始剤の存在下で重合する方法が
挙げられ、懸濁重合、乳化重合、溶液重合、塊状重合等
が採用できる。無機ガラス、プラスチック、あるいは金
属等で構成された鋳込み重合用セルのなかで板状あるい
はレンズ状に塊状重合する方法が好ましい。またラジカ
ル重合開始剤と促進剤からなるレドックス系開始剤等を
用いることもできる。
【００３２】樹脂に近赤外線吸収剤を含有させる方法と
しては、押出機等を用いて熱可塑性樹脂に近赤外線吸収
剤を混合した後、押出成形や射出成形等で成形する方法
が挙げられる。例えば、組成物を板状に成形してフィル
タ−として用いる場合は、メタクリル樹脂やポリカ−ボ
ネ−ト樹脂等の透明熱可塑性樹脂を用いて、板状に成形
することができる。
しては、押出機等を用いて熱可塑性樹脂に近赤外線吸収
剤を混合した後、押出成形や射出成形等で成形する方法
が挙げられる。例えば、組成物を板状に成形してフィル
タ−として用いる場合は、メタクリル樹脂やポリカ−ボ
ネ−ト樹脂等の透明熱可塑性樹脂を用いて、板状に成形
することができる。
【００３３】本発明の組成物には必要に応じて、各種の
離型剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、光安定剤や染料、顔
料等を添加することができる。
離型剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、光安定剤や染料、顔
料等を添加することができる。
【００３４】本発明の樹脂組成物は、板状に成形し、樹
脂板として使用することができる。その樹脂板には、公
知の電磁波遮断層を積層することができる。樹脂板また
は積層板の表面には、公知のハードコート層、反射防止
層及び汚染防止層のうち少なくとも一層を積層すること
ができる。本発明の樹脂板や積層板は、ＰＤＰ用前面板
に利用可能である。
脂板として使用することができる。その樹脂板には、公
知の電磁波遮断層を積層することができる。樹脂板また
は積層板の表面には、公知のハードコート層、反射防止
層及び汚染防止層のうち少なくとも一層を積層すること
ができる。本発明の樹脂板や積層板は、ＰＤＰ用前面板
に利用可能である。
【００３５】本発明の近赤外線吸収剤、およびこれを含
有する組成物は、ＰＤＰ用前面板以外にも、ハードコー
ト層；カメラの測光用フィルタ−、ビデオカメラ等の撮
像系視感度補正用フィルタ−等の光学フィルター；各種
グレージング材；各種装飾用途や、近赤外線吸収性の塗
料・インク材料として隠しバ−コ−ド、隠しマ−クの印
刷などにも利用できる。
有する組成物は、ＰＤＰ用前面板以外にも、ハードコー
ト層；カメラの測光用フィルタ−、ビデオカメラ等の撮
像系視感度補正用フィルタ−等の光学フィルター；各種
グレージング材；各種装飾用途や、近赤外線吸収性の塗
料・インク材料として隠しバ−コ−ド、隠しマ−クの印
刷などにも利用できる。
【００３６】
【実施例】以下実施例により具体的に説明する。なお、
実施例、比較例中の各測定は以下の条件で行った。
実施例、比較例中の各測定は以下の条件で行った。
【００３７】１）吸収スペクトル測定 使用機器：島津製作所（株）製 Ｓｈｉｍａｄｚｕ Ｕ
Ｖ−３１００ 測定条件：試料の光路長 １ｍｍ Ｓｃａｎ範囲 １９０〜１０００ｎｍ 分解能 ０．１ｎｍ ＳＬＩＴ ２ ２）分光光線透過率の測定 使用機器：日立製作所（株）製 ＵＶ−４０００ 測定条件：試料の光路長 ３ｍｍ Ｓｃａｎ範囲 ３００〜１１００ｎｍ 分解能 １ｎｍ ＳＬＩＴ ２ ３）電子スピン共鳴（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｉｎ Ｒ
ｅｓｏｎａｎｃｅ）測定（以下「ＥＳＲ測定」という） 使用機器：日本電子（株）製 ＸバンドＥＳＲスペクト
ロメ−タ−ＴＥ２０００ 測定試料：液体試料、固体試料とも石英ガラス管に封入
した。
Ｖ−３１００ 測定条件：試料の光路長 １ｍｍ Ｓｃａｎ範囲 １９０〜１０００ｎｍ 分解能 ０．１ｎｍ ＳＬＩＴ ２ ２）分光光線透過率の測定 使用機器：日立製作所（株）製 ＵＶ−４０００ 測定条件：試料の光路長 ３ｍｍ Ｓｃａｎ範囲 ３００〜１１００ｎｍ 分解能 １ｎｍ ＳＬＩＴ ２ ３）電子スピン共鳴（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｉｎ Ｒ
ｅｓｏｎａｎｃｅ）測定（以下「ＥＳＲ測定」という） 使用機器：日本電子（株）製 ＸバンドＥＳＲスペクト
ロメ−タ−ＴＥ２０００ 測定試料：液体試料、固体試料とも石英ガラス管に封入
した。
【００３８】 測定条件：温度 ：室温 測定磁場範囲 ：３３５±２５０ｍＴ マイクロ波発信周波数 ：９．１３１〜９．１３５ＧＨｚ マイクロ波出力（電力）：１．００ｍＷ 磁場変調強度 ：０．２ｍＴ（１００ＫＨｚ） 〔実施例１〕アセトン８８．３重量部、ジブチルホスフ
ェート（城北化学製、以下「ＤＢＰ」という）９．５重
量部を混合溶解した後、さらに水酸化銅２．２重量部を
混合した。液は徐々に青緑色を呈した。攪拌途中で随時
溶液を濾紙で濾過してから銅錯体形成反応の終点を分光
スペクトルで観察した結果、約４時間で透過スペクトル
は一定になった。アセトン溶液中のアセトンを完全に蒸
発させて、乾燥させた銅錯体を得た。銅錯体の収率か
ら、銅錯体には、水が配位してないことがわかった。
ェート（城北化学製、以下「ＤＢＰ」という）９．５重
量部を混合溶解した後、さらに水酸化銅２．２重量部を
混合した。液は徐々に青緑色を呈した。攪拌途中で随時
溶液を濾紙で濾過してから銅錯体形成反応の終点を分光
スペクトルで観察した結果、約４時間で透過スペクトル
は一定になった。アセトン溶液中のアセトンを完全に蒸
発させて、乾燥させた銅錯体を得た。銅錯体の収率か
ら、銅錯体には、水が配位してないことがわかった。
【００３９】この銅錯体１０．８重量部と水１．０重量
部をメチルメタクリレ−ト（以下「ＭＭＡ」という）８
９．２重量部に混合溶解した後、吸収スペクトルを測定
した。この結果を図１に示す（光路長は１ｍｍ）。この
溶液は透明で、吸収ピ−クは８３０ｎｍであった。
部をメチルメタクリレ−ト（以下「ＭＭＡ」という）８
９．２重量部に混合溶解した後、吸収スペクトルを測定
した。この結果を図１に示す（光路長は１ｍｍ）。この
溶液は透明で、吸収ピ−クは８３０ｎｍであった。
【００４０】次に、このＭＭＡ溶液１００重量部に、重
合開始剤としてターシャリーヘキシルパーオキシピバレ
ート（日本油脂製、以下「パーヘキシルＰＶ」という）
を０．３２重量部添加し混合した。液を吸引瓶にて脱泡
した後重合用セルに注入した。重合用セルとしては３０
ｃｍ角の強化無機ガラス２枚と、塩化ビニル製のガスケ
ットでシールされたセルを用いた。混合液を注入したセ
ルを水浴４５℃にて１６時間、さらに水浴６０℃にて８
時間、続けて空気炉９０℃にて３時間熱処理することに
より重合を行い、重合硬化後に強化ガラスセルから取り
出して、透明で青みのある厚み１ｍｍの板を得た。この
板から小片をニッパ−で切り出し、ＥＳＲ測定を行った
結果、銅イオンの二核体はほとんど存在せず、銅イオン
が孤立状態で存在していることが観察され、近赤外線吸
収剤の構造が６配位８面体構造であることがわかった。
従って、水を添加した銅錯体の構造が、銅イオンにジブ
チルフタレ−ト２モルが配位してアキシアル位に水が２
モル配位した一般式（６）で示される構造になったこと
が確認できた。また近赤外線吸収剤の臭いも感じられな
かった。
合開始剤としてターシャリーヘキシルパーオキシピバレ
ート（日本油脂製、以下「パーヘキシルＰＶ」という）
を０．３２重量部添加し混合した。液を吸引瓶にて脱泡
した後重合用セルに注入した。重合用セルとしては３０
ｃｍ角の強化無機ガラス２枚と、塩化ビニル製のガスケ
ットでシールされたセルを用いた。混合液を注入したセ
ルを水浴４５℃にて１６時間、さらに水浴６０℃にて８
時間、続けて空気炉９０℃にて３時間熱処理することに
より重合を行い、重合硬化後に強化ガラスセルから取り
出して、透明で青みのある厚み１ｍｍの板を得た。この
板から小片をニッパ−で切り出し、ＥＳＲ測定を行った
結果、銅イオンの二核体はほとんど存在せず、銅イオン
が孤立状態で存在していることが観察され、近赤外線吸
収剤の構造が６配位８面体構造であることがわかった。
従って、水を添加した銅錯体の構造が、銅イオンにジブ
チルフタレ−ト２モルが配位してアキシアル位に水が２
モル配位した一般式（６）で示される構造になったこと
が確認できた。また近赤外線吸収剤の臭いも感じられな
かった。
【００４１】
【化７】 〔実施例２〕アセトン８５．２重量部、ＪＰＡ−５１４
（城北化学製、メタクリロイルオキシエチルホスフェー
ト約３３重量％とビス（メタクリロイルオキシエチル）
ホスフェート約３８重量％の混合物）６．９重量部、Ｄ
ＢＰ５．４重量部を混合溶解した後、さらに水酸化銅
２．５重量部を混合して４時間撹拌溶解した。液は徐々
に青緑色を呈した。アセトン溶液中のアセトンを完全に
蒸発させて、乾燥させた銅錯体を得た。銅錯体の収率か
ら、銅錯体には、水が配位してないことがわかった。
（城北化学製、メタクリロイルオキシエチルホスフェー
ト約３３重量％とビス（メタクリロイルオキシエチル）
ホスフェート約３８重量％の混合物）６．９重量部、Ｄ
ＢＰ５．４重量部を混合溶解した後、さらに水酸化銅
２．５重量部を混合して４時間撹拌溶解した。液は徐々
に青緑色を呈した。アセトン溶液中のアセトンを完全に
蒸発させて、乾燥させた銅錯体を得た。銅錯体の収率か
ら、銅錯体には、水が配位してないことがわかった。
【００４２】この銅錯体１４．８重量部とＭＭＡ溶液８
５．２重量部に水１．０重量部を添加撹拌した。得られ
た溶液は透明であった。さらに、重合開始剤としてパー
ヘキシルＰＶを０．３２重量部添加し混合した。液を吸
引瓶にて脱泡した後重合用セルに注入した。重合用セル
としては表面に撥水処理を施した３０ｃｍ角の強化無機
ガラス２枚と、塩化ビニル製のガスケットでシールされ
たセルを用いた。混合液を注入したセルを水浴４５℃に
て１６時間、さらに水浴７０℃にて３時間、続けて空気
炉１１０℃にて３時間熱処理することにより重合を行
い、重合硬化後に強化ガラスセルから取り出して、透明
で青みのある厚み３ｍｍの板を得た。ＪＩＳ Ｋ ７１
０５に準じて測定したヘイズは０．４％であった。。こ
の板の分光光線透過率を測定した結果を表１と図２に示
す。吸収ピ−クは８００ｎｍ〜８５０ｎｍ付近にあり、
可視光線域の透過率が高く、近赤外線領域の光をよく吸
収していた。また近赤外線吸収剤の臭いも感じられなか
った。
５．２重量部に水１．０重量部を添加撹拌した。得られ
た溶液は透明であった。さらに、重合開始剤としてパー
ヘキシルＰＶを０．３２重量部添加し混合した。液を吸
引瓶にて脱泡した後重合用セルに注入した。重合用セル
としては表面に撥水処理を施した３０ｃｍ角の強化無機
ガラス２枚と、塩化ビニル製のガスケットでシールされ
たセルを用いた。混合液を注入したセルを水浴４５℃に
て１６時間、さらに水浴７０℃にて３時間、続けて空気
炉１１０℃にて３時間熱処理することにより重合を行
い、重合硬化後に強化ガラスセルから取り出して、透明
で青みのある厚み３ｍｍの板を得た。ＪＩＳ Ｋ ７１
０５に準じて測定したヘイズは０．４％であった。。こ
の板の分光光線透過率を測定した結果を表１と図２に示
す。吸収ピ−クは８００ｎｍ〜８５０ｎｍ付近にあり、
可視光線域の透過率が高く、近赤外線領域の光をよく吸
収していた。また近赤外線吸収剤の臭いも感じられなか
った。
【００４３】
【表１】 〔比較例１〕水を加えないこと以外は実施例１と同様に
して、銅錯体のＭＭＡ溶液を製造した。この溶液の吸収
スペクトルを図１に重ねて示す。この比較例１のＭＭＡ
溶液には濁りがあり、吸収ピ−クは７６０ｎｍであっ
た。
して、銅錯体のＭＭＡ溶液を製造した。この溶液の吸収
スペクトルを図１に重ねて示す。この比較例１のＭＭＡ
溶液には濁りがあり、吸収ピ−クは７６０ｎｍであっ
た。
【００４４】水を添加してない比較例１のＭＭＡ溶液
は、水を添加した実施例１のＭＭＡ溶液と比較して、濁
りがあり、吸収ピ−クが短波長側にシフトしていた。
は、水を添加した実施例１のＭＭＡ溶液と比較して、濁
りがあり、吸収ピ−クが短波長側にシフトしていた。
【００４５】
【発明の効果】本発明の近赤外線吸収剤は、吸水性や反
応性が低いため、本発明の近赤外線吸収剤を含有する組
成物の含水分率が高くなったり、架橋反応が進むことも
なく、得られた成形品の耐熱性、外観及び近赤外線吸収
性能に優れている。また近赤外線吸収剤自身の臭いもな
く作業性に優れている。
応性が低いため、本発明の近赤外線吸収剤を含有する組
成物の含水分率が高くなったり、架橋反応が進むことも
なく、得られた成形品の耐熱性、外観及び近赤外線吸収
性能に優れている。また近赤外線吸収剤自身の臭いもな
く作業性に優れている。
【００４６】本発明の近赤外線吸収剤、およびこれを含
有する組成物は、樹脂板や積層板やハ−ドコ−ト層に利
用でき、ＰＤＰ用前面板；カメラの測光用フィルタ−、
ビデオカメラ等の撮像系視感度補正用フィルタ−等の光
学フィルター；各種グレージング材；各種装飾用途など
の他に、近赤外線吸収性の塗料・インク材料として隠し
バ−コ−ド、隠しマ−クの印刷などにも利用できる。
有する組成物は、樹脂板や積層板やハ−ドコ−ト層に利
用でき、ＰＤＰ用前面板；カメラの測光用フィルタ−、
ビデオカメラ等の撮像系視感度補正用フィルタ−等の光
学フィルター；各種グレージング材；各種装飾用途など
の他に、近赤外線吸収性の塗料・インク材料として隠し
バ−コ−ド、隠しマ−クの印刷などにも利用できる。
【００４７】
【図１】実施例１、比較例１で得られたＭＭＡ溶液の吸
収スペクトルである。
収スペクトルである。
【図２】実施例２で得られた板状重合物の分光光線透過
率のスペクトルである。
率のスペクトルである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｊ 7/04 ＣＥＹ Ｃ０８Ｊ 7/04 ＣＥＹＺ ４Ｊ００２ ＣＥＹＫ ４Ｊ０１１ ＣＦＤ ＣＦＤＺ ＣＦＤＫ Ｃ０８Ｋ 5/527 Ｃ０８Ｋ 5/527 5/5357 5/5357 Ｃ０８Ｌ 101/00 Ｃ０８Ｌ 101/00 Ｇ０２Ｂ 1/11 Ｇ０２Ｂ 5/22 1/10 1/10 Ａ 5/22 Ｚ Ｆターム(参考） 2H048 CA05 CA12 CA24 2K009 AA02 AA15 BB14 BB24 CC42 EE03 EE05 4F006 AA22 AA36 AB42 AB68 BA02 BA03 BA11 BA14 CA05 4F071 AA33 AA50 AC15 AE22 AF29 AH19 BB05 BB06 BB12 BC03 4F100 AH08A AH08H AK01A AK25 AR00B AR00D AR00E AT00A BA01 BA02 BA03 BA04 BA05 BA07 BA10A BA10B BA10C BA10D BA10E CA30 CA30A CC00C EH46C GB41 JB20 JC00 JD08B JD10 JD14 JD15 JJ03 JK12C JL06E JN06D 4J002 BG061 CG001 EW086 EW116 GP00 GP01 4J011 GA05 GB07
Claims (6)
- 【請求項１】 下記一般式（１）で表される近赤外線吸
収剤。 【化１】 （Ｒ1〜Ｒ4は、それぞれ水酸基、アルキル基、アリ−ル
基、アラルキル基、アルケニル基、ポリオキシアルキル
基、（メタ）アクリロイルオキシアルキル基及び（メ
タ）アクリロイルポリオキシアルキル基のなかのひとつ
を表す。） - 【請求項２】 請求項１に記載の近赤外線吸収剤を含有
する組成物。 - 【請求項３】 請求項２に記載の組成物からなる樹脂
板。 - 【請求項４】 請求項３に記載の樹脂板に、電磁波遮断
層を積層してなる積層板。 - 【請求項５】 請求項３または請求項４に記載の板の表
面に、ハードコート層、反射防止層及び汚染防止層のう
ち少なくとも一層が積層されたことを特徴とする積層
板。 - 【請求項６】 請求項３〜請求項５のいずれかに記載の
板からなるプラズマディスプレイ用前面板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11227653A JP2001049234A (ja) | 1999-08-11 | 1999-08-11 | 近赤外線吸収剤、それを含有する組成物及び樹脂板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11227653A JP2001049234A (ja) | 1999-08-11 | 1999-08-11 | 近赤外線吸収剤、それを含有する組成物及び樹脂板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001049234A true JP2001049234A (ja) | 2001-02-20 |
Family
ID=16864244
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11227653A Pending JP2001049234A (ja) | 1999-08-11 | 1999-08-11 | 近赤外線吸収剤、それを含有する組成物及び樹脂板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001049234A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005097848A1 (ja) * | 2004-04-07 | 2005-10-20 | Kureha Corporation | 重合性組成物、重合体及び積層体 |
| US10927131B2 (en) * | 2018-07-26 | 2021-02-23 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Near-infrared absorbing composition, optical structure, and camera module and electronic device comprising the same |
-
1999
- 1999-08-11 JP JP11227653A patent/JP2001049234A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005097848A1 (ja) * | 2004-04-07 | 2005-10-20 | Kureha Corporation | 重合性組成物、重合体及び積層体 |
| US10927131B2 (en) * | 2018-07-26 | 2021-02-23 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Near-infrared absorbing composition, optical structure, and camera module and electronic device comprising the same |
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