JPWO2016052140A1 - 活性エネルギー線硬化性組成物および帯電防止フィルム - Google Patents
活性エネルギー線硬化性組成物および帯電防止フィルム Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2016052140A1 JPWO2016052140A1 JP2016551887A JP2016551887A JPWO2016052140A1 JP WO2016052140 A1 JPWO2016052140 A1 JP WO2016052140A1 JP 2016551887 A JP2016551887 A JP 2016551887A JP 2016551887 A JP2016551887 A JP 2016551887A JP WO2016052140 A1 JPWO2016052140 A1 JP WO2016052140A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- formula
- energy ray
- active energy
- curable composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 65
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 71
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 57
- LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N protoneodioscin Natural products O(C[C@@H](CC[C@]1(O)[C@H](C)[C@@H]2[C@]3(C)[C@H]([C@H]4[C@@H]([C@]5(C)C(=CC4)C[C@@H](O[C@@H]4[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@@H](O)[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@H](CO)O4)CC5)CC3)C[C@@H]2O1)C)[C@H]1[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N 0.000 claims abstract description 34
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 27
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 14
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 32
- -1 sulfonium cation Chemical class 0.000 claims description 32
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 18
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 16
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 14
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 9
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 5
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 claims description 4
- 229920006317 cationic polymer Polymers 0.000 claims description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 4
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 3
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 3
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 33
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 10
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 9
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 7
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-phenylethanone Chemical class NCC(=O)C1=CC=CC=C1 HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 4
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 4
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-[4-[[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenyl]methyl]phenyl]-2-methylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(O)C)=CC=C1CC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 2
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 2
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N diacetyl peroxide Chemical compound CC(=O)OOC(C)=O ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004705 ethylthio group Chemical group C(C)S* 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N glycine betaine Chemical group C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 2
- 125000004706 n-propylthio group Chemical group C(CC)S* 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAOHAQSLJSMLAT-UHFFFAOYSA-N 1-butylperoxybutane Chemical compound CCCCOOCCCC PAOHAQSLJSMLAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKUNSTOMHUXJOZ-UHFFFAOYSA-N 1-hydroperoxybutane Chemical compound CCCCOO AKUNSTOMHUXJOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- ZUAURMBNZUCEAF-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenoxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCCOC1=CC=CC=C1 ZUAURMBNZUCEAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOCIJWAHRAJQFT-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-2-methylpropanoyl bromide Chemical compound CC(C)(Br)C(Br)=O YOCIJWAHRAJQFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPOGMJLHWQHEGF-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCl GPOGMJLHWQHEGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl prop-2-enoate Chemical compound ClCCOC(=O)C=C WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWVHTXAYIKBMEE-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyacetophenone Chemical class OCC(=O)C1=CC=CC=C1 ZWVHTXAYIKBMEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-2-ol Chemical compound CC(C)(O)CC1=CC=CC=C1 RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGJDNBZIDQOMEU-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n,n-bis(prop-2-enyl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)N(CC=C)CC=C HGJDNBZIDQOMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBIPWOJKRZBTQK-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenebut-3-enamide Chemical compound NC(=O)C(=C)C=C XBIPWOJKRZBTQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYWGFACZNUMJKR-UHFFFAOYSA-N 2-methylpenta-2,4-dienamide Chemical compound NC(=O)C(C)=CC=C LYWGFACZNUMJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LUDSLRVDTMIOHA-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC=CC1=CC=CC=C1 LUDSLRVDTMIOHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYIYBNDJKVCBR-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCC=C ZCYIYBNDJKVCBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCO GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXFPEBPIARQUIG-UHFFFAOYSA-N 4'-hydroxyacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 TXFPEBPIARQUIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUPJJZVGSOUSFH-UHFFFAOYSA-N 4-(2-cyanoethyl)-4-nitroheptanedinitrile Chemical compound N#CCCC([N+](=O)[O-])(CCC#N)CCC#N MUPJJZVGSOUSFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCO YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICMFHHGKLRTCBM-UHFFFAOYSA-N 4-nitrobenzenediazonium Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C([N+]#N)C=C1 ICMFHHGKLRTCBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYIUODUDSPAJQ-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C(COC(=O)C(=C)C)CCC2OC21 FYYIUODUDSPAJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPTGFYXXFXSRIR-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C1C(COC(=O)C=C)CCC2OC21 DPTGFYXXFXSRIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N AIBN Substances N#CC(C)(C)\N=N\C(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Natural products CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVZXOLOFWKSDSR-UHFFFAOYSA-N Cc1cc(C)c([C]=O)c(C)c1 Chemical group Cc1cc(C)c([C]=O)c(C)c1 XVZXOLOFWKSDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- 102100026735 Coagulation factor VIII Human genes 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000911390 Homo sapiens Coagulation factor VIII Proteins 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000780363 Urile Species 0.000 description 1
- SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N [(2R,3S,4S,5R,6R)-5-acetyloxy-3,4,6-trihydroxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound CC(=O)OC[C@@H]1[C@H]([C@@H]([C@H]([C@@H](O1)O)OC(=O)C)O)O SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N abcn Chemical compound C1CCCCC1(C#N)N=NC1(C#N)CCCCC1 KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 229940081735 acetylcellulose Drugs 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium peroxydisulfate Substances [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)OOS([O-])=O VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 1
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002933 cyclohexyloxy group Chemical group C1(CCCCC1)O* 0.000 description 1
- 229920005994 diacetyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 1
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- FFYWKOUKJFCBAM-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC=C FFYWKOUKJFCBAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLCTWBJQROOONQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl prop-2-enoate Chemical compound C=COC(=O)C=C BLCTWBJQROOONQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C(C)=C LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N hexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C=C LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003707 hexyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- BLYOHBPLFYXHQA-UHFFFAOYSA-N n,n-bis(prop-2-enyl)prop-2-enamide Chemical compound C=CCN(CC=C)C(=O)C=C BLYOHBPLFYXHQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyethyl)prop-2-enamide Chemical compound OCCNC(=O)C=C UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N n-[2-(2-hydroxyethylamino)ethyl]-2-[[1-[2-(2-hydroxyethylamino)ethylamino]-2-methyl-1-oxopropan-2-yl]diazenyl]-2-methylpropanamide Chemical compound OCCNCCNC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)NCCNCCO QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004708 n-butylthio group Chemical group C(CCC)S* 0.000 description 1
- PMJFVKWBSWWAKT-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1CCCCC1 PMJFVKWBSWWAKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNTUIAFSOCHRHV-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-phenylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)N(CC)C1=CC=CC=C1 BNTUIAFSOCHRHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWPMNMYLORDLJE-UHFFFAOYSA-N n-ethylprop-2-enamide Chemical compound CCNC(=O)C=C SWPMNMYLORDLJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- FYCBGURDLIKBDA-UHFFFAOYSA-N n-hexyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CCCCCCNC(=O)C(C)=C FYCBGURDLIKBDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004718 n-hexylthio group Chemical group C(CCCCC)S* 0.000 description 1
- NXURUGRQBBVNNM-UHFFFAOYSA-N n-nitro-2-phenylprop-2-enamide Chemical compound [O-][N+](=O)NC(=O)C(=C)C1=CC=CC=C1 NXURUGRQBBVNNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004712 n-pentylthio group Chemical group C(CCCC)S* 0.000 description 1
- ALIFPGGMJDWMJH-UHFFFAOYSA-N n-phenyldiazenylaniline Chemical compound C=1C=CC=CC=1NN=NC1=CC=CC=C1 ALIFPGGMJDWMJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N n-phenylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1=CC=CC=C1 BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNPHCSFIDKZQAK-UHFFFAOYSA-N n-prop-2-enylprop-2-enamide Chemical compound C=CCNC(=O)C=C CNPHCSFIDKZQAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N octahydro-1h-4,7-methanoindene-1,5-diyldimethanol Chemical compound C1C2C3C(CO)CCC3C1C(CO)C2 OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940065472 octyl acrylate Drugs 0.000 description 1
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYDSPAVLTMAXHT-UHFFFAOYSA-N pentyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C(C)=C GYDSPAVLTMAXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N pentyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C=C ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920003050 poly-cycloolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- UHDJLJWVPNZJJO-UHFFFAOYSA-N prop-1-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC=COC(=O)C(C)=C UHDJLJWVPNZJJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJEZSMGEGJNRNV-UHFFFAOYSA-N prop-1-enyl prop-2-enoate Chemical compound CC=COC(=O)C=C UJEZSMGEGJNRNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl prop-2-enoate Chemical compound C=CCOC(=O)C=C QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPBNLDNIZUGLJL-UHFFFAOYSA-N prop-2-ynyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC#C WPBNLDNIZUGLJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000005920 sec-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical class O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 1
- 125000004213 tert-butoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(O*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/046—Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/06—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
- C07C45/63—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by introduction of halogen; by substitution of halogen atoms by other halogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/08—Preparation of carboxylic acid esters by reacting carboxylic acids or symmetrical anhydrides with the hydroxy or O-metal group of organic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/28—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the hydroxylic moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
- C07C67/293—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the hydroxylic moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/002—Scale prevention in a polymerisation reactor or its auxiliary parts
- C08F2/005—Scale prevention in a polymerisation reactor or its auxiliary parts by addition of a scale inhibitor to the polymerisation medium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
- C08F220/28—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety
- C08F220/285—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety and containing a polyether chain in the alcohol moiety
- C08F220/286—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety and containing a polyether chain in the alcohol moiety and containing polyethylene oxide in the alcohol moiety, e.g. methoxy polyethylene glycol (meth)acrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/34—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F226/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a single or double bond to nitrogen or by a heterocyclic ring containing nitrogen
- C08F226/02—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a single or double bond to nitrogen or by a heterocyclic ring containing nitrogen by a single or double bond to nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F230/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
- C08F230/02—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing phosphorus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F265/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00
- C08F265/04—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00 on to polymers of esters
- C08F265/06—Polymerisation of acrylate or methacrylate esters on to polymers thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F293/00—Macromolecular compounds obtained by polymerisation on to a macromolecule having groups capable of inducing the formation of new polymer chains bound exclusively at one or both ends of the starting macromolecule
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J3/00—Processes of treating or compounding macromolecular substances
- C08J3/28—Treatment by wave energy or particle radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/0427—Coating with only one layer of a composition containing a polymer binder
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/044—Forming conductive coatings; Forming coatings having anti-static properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D153/00—Coating compositions based on block copolymers containing at least one sequence of a polymer obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Coating compositions based on derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
- C09D4/06—Organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond in combination with a macromolecular compound other than an unsaturated polymer of groups C09D159/00 - C09D187/00
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/24—Electrically-conducting paints
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
- C08F220/28—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety
- C08F220/285—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety and containing a polyether chain in the alcohol moiety
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/34—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate
- C08F220/343—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate in the form of urethane links
- C08F220/346—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate in the form of urethane links and further oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/34—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate
- C08F220/36—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate containing oxygen in addition to the carboxy oxygen, e.g. 2-N-morpholinoethyl (meth)acrylate or 2-isocyanatoethyl (meth)acrylate
- C08F220/365—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate containing oxygen in addition to the carboxy oxygen, e.g. 2-N-morpholinoethyl (meth)acrylate or 2-isocyanatoethyl (meth)acrylate containing further carboxylic moieties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
- C08F222/10—Esters
- C08F222/12—Esters of phenols or saturated alcohols
- C08F222/22—Esters containing nitrogen
- C08F222/225—Esters containing nitrogen the ester chains containing seven or more carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2335/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical, and containing at least one other carboxyl radical in the molecule, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
- C08J2335/02—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2367/00—Characterised by the use of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Derivatives of such polymers
- C08J2367/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2453/00—Characterised by the use of block copolymers containing at least one sequence of a polymer obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/07—Aldehydes; Ketones
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/32—Radiation-absorbing paints
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
Description
このような問題を解決するために、種々の帯電防止剤(特に、カチオン系の帯電防止剤)を用いることが知られている。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。
[2] 帯電防止性重合体Bが、後述する式(1)〜(5)で表される繰り返し単位からなる群から選択される少なくとも1つの繰り返し単位を有する重合体である、[1]に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
[3] 帯電防止性重合体Bが、後述する式(1)で表される繰り返し単位を有するカチオン性重合体である、[2]に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
[4] 後述する式(1)で表される繰り返し単位が、後述する式(6)で表されるアンモニウム塩である、[2]または[3]に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
[5] 帯電防止性重合体Bが、後述する式(1)〜(5)で表される繰り返し単位からなる群から選択される少なくとも1つの繰り返し単位と、後述する式(7)で表される繰り返し単位とを含む、[2]〜[4]のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
[6] 帯電防止性重合体Bが、後述する式(1)で表される繰り返し単位と、後述する式(3)または(4)で表される繰り返し単位とを含む、[2]〜[5]のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
[7] 後述する式(3)で表される繰り返し単位が、後述する式(8)で表される繰り返し単位である、[6]に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
[8] 帯電防止性重合体Bが、後述する式(1)〜(5)で表される繰り返し単位からなる群から選択される少なくとも1つの繰り返し単位と、CLogP値が0.3〜5であるモノマー由来の繰り返し単位とを含む、[2]〜[7]のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
[9] 帯電防止性重合体Bが、後述する式(1)〜(5)で表される繰り返し単位を40〜80質量%含有する共重合体である、[2]〜[8]のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
[10] 帯電防止性重合体Bが、後述する式(1)〜(5)で表される繰り返し単位を40〜80質量%含み、後述する式(7)で表される繰り返し単位を20〜60質量%含む、[9]に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
[11] 帯電防止性重合体Bが、後述する式(1)で表される繰り返し単位を39.5〜70質量%含み、後述する式(7)で表される繰り返し単位を20〜60質量%含み、後述する式(3)または(4)で表される繰り返し単位を0.5〜10質量%含む、[9]または[10]に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
[12] 重合性化合物Cが、メタクリル系またはアクリル系化合物である、[1]〜[11]のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
[13] 重合性化合物Cの分子量が、90〜5000である、[1]〜[12]のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
[14] 光重合開始剤Aの含有量が、重合性化合物C100質量部に対して0.5〜10質量部である、[1]〜[13]のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
[15] 重合体Bの含有量が、重合性化合物C100質量部に対して1〜40質量部である、[1]〜[14]のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
[16] 光重合開始剤Aが、後述する式(I)におけるnが1である、[1]〜[15]のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
[17] 帯電防止剤に用いる[1]〜[16]のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
[18] 基材上に、[1]〜[17]のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化性組成物を付与し、活性エネルギー線により硬化させた帯電防止層を有する、帯電防止フィルム。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物(以下、「本発明の組成物」ともいう。)は、後述する式(I)で表される光重合開始剤Aと、帯電防止性重合体Bと、エチレン性不飽和基を含有する重合性化合物Cと、を含有する活性エネルギー線硬化性組成物である。
このように帯電防止性、耐擦傷性および透明性がいずれも良好となる理由は、詳細には明らかではないが、およそ以下のとおりと推測される。
まず、下記式(I)で表される光重合開始剤Aの構造中、所定の繰り返し単位数nで表されるエチレンオキシド構造(以下、「EO鎖」ともいう。)が存在していることにより、光重合開始剤Aおよび帯電防止性重合体Bの相溶性が高くなると考えられる。
また、帯電防止性重合体Bは、重合性化合物Cとの相溶性も高い、言い換えると、重合性化合物Cは、帯電防止性重合体Bの溶媒として機能していると考えられる。
そのため、光重合開始剤A、帯電防止性重合体Bおよび重合性化合物Cを含有する系においては、光重合開始剤Aが、帯電防止性重合体Bの存在によって重合性化合物C中に均一に分散していると考えられる。
そして、活性エネルギー線によって活性種を発生させた後においては、光重合開始剤Aに由来するEO鎖の一部が重合性化合物Cの重合体の末端に連結することによって界面活性能が発現し、その結果、帯電防止性重合体Bおよび重合性化合物Cの重合体を表面に偏在させることができるため、帯電防止性および耐擦傷性が良好になったと考えられる。
また、光重合開始剤Aおよび帯電防止性重合体Bの相溶性が高くなる結果、帯電防止性重合体Bまたは重合性化合物Cの重合体を表面に偏在させるだけでなく、硬化物中に均一に分散させることもできるため、透明性が良好になったと考えられる。
これは、上述した光重合開始剤Aに由来するEO鎖を含む残渣が、界面活性能を有しているだけでなく、保湿性に寄与しているため、低湿度環境下においても帯電防止性が良好になったと考えられる。
また、上述したように、光重合開始剤Aおよび重合体Bの相溶性が高くなり、その結果、光重合開始剤Aを硬化物中に均一に分散でき、未反応の重合性化合物の凝集が抑制できたため、サーモサイクル試験後においても帯電防止性に劣化が見られないと考えられる。
本発明の組成物が含有する光重合開始剤Aは、下記式(I)で表される光重合開始剤である。
これらの効果がより向上する理由から、上記式(I)中のnは、1〜3の整数であることが好ましく、1〜2の整数であることがより好ましく、1であることがさらに好ましい。
また、V1〜V4において、アルキル基は、直鎖のアルキル基であってもよいし、分岐鎖を有するアルキル基であってもよい。また、アルキル基は、脂環構造を有していてもよい。
V1〜V4におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基が挙げられ、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基が好ましい。
また、V1〜V4において、アルコキシ基は、直鎖のアルコキシ基であってもよいし、分岐鎖を有するアルコキシ基であってもよい。また、アルコキシ基は、脂環構造を有していてもよい。
V1〜V4におけるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基が挙げられ、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基が好ましい。
また、V1〜V4において、アルキルチオ基は、直鎖のアルキルチオ基であってもよいし、分岐鎖を有するアルキルチオ基であってもよい。また、アルキルチオ基は、脂環構造を有していてもよい。
V1〜V4におけるアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、n−ブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、tert−ブチルチオ基、n−ペンチルチオ基、n−ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基が挙げられ、メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基が好ましい。
また、V1〜V4において、アシル基は、直鎖のアシル基であってもよいし、分岐鎖を有するアシル基であってもよい。
V1〜V4におけるアシル基としては、ホルミル基、アセチル基、エチルアシル基、n−プロピルアシル基、イソプロピルアシル基が挙げられ、ホルミル基、アセチル基、エチルアシル基が好ましい。
他の開始剤としては、例えば、光ラジカル重合開始剤が挙げられ、具体的には、ヒドロキシアセトフェノン化合物、アミノアセトフェノン化合物、及び、アシルホスフィン化合物も好適に用いることができる。
より具体的には、例えば、特開平10−291969号公報に記載のアミノアセトフェノン系開始剤、特許第4225898号公報に記載のアシルホスフィンオキシド系開始剤も用いることができる。
ヒドロキシアセトフェノン系開始剤としては、市販品であるIRGACURE−184、DAROCUR−1173、IRGACURE−500、IRGACURE−2959、IRGACURE−127(商品名:いずれもBASF社製)を用いることができる。アミノアセトフェノン系開始剤としては、市販品であるIRGACURE−907、IRGACURE−369、及び、IRGACURE−379(商品名:いずれもBASF社製)を用いることができる。アミノアセトフェノン系開始剤として、365nmまたは405nm等の長波光源に吸収波長がマッチングされた特開2009−191179号公報に記載の化合物も用いることができる。また、アシルホスフィン系開始剤としては市販品であるIRGACURE−819やDAROCUR−TPO(商品名:いずれもBASF社製)を用いることができる。
本発明の組成物が含有する帯電防止性重合体Bは特に限定されず、帯電防止性を有する従来公知の重合体を用いることができる。
本発明においては、帯電防止性重合体Bは、硬化後の帯電防止性がより良好となり、上記光重合開始剤Aとの反応性が良好となる理由から、下記式(1)〜(5)で表される繰り返し単位からなる群から選択される少なくとも1つの繰り返し単位を有する重合体であるのが好ましい。
式(1)〜式(5)中、Zは、それぞれ独立に、−COO−、−CONH−、−OCO−、−CH2OCO−、−CH2COO−、−O−、−SO2−、−CO−、−CONHCOO−、−CONHCONH−、−CONHSO2−、−CON(P3)−、−SO2N(G)−、−C6H4−、または、炭素数1〜30のアルキレン基を表し、Gは、水素原子または炭化水素基を表す。
式(1)〜式(5)中、Aは、それぞれ独立に、単結合または2価以上の連結基を表し、jは、それぞれ独立に、0〜30の整数を表す。
式(1)中、Y+は、カチオン性基を表し、X−は、アニオン性基を表し、uは、1〜3の整数を表し、rは、1〜4の整数を表す。
式(2)中、R2は、置換基を有していてもよい炭素数が2〜5のアルキレン基を表し、R3は、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数が1〜5のアルキル基を表し、mは、2〜200の整数を表す。
式(3)中、Q+は、アンモニウムカチオン、スルホニウムカチオン、ヨードニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、または、ピリジニウムカチオンを表し、L1は、単結合または2価以上の連結基を表し、T−は、COO−、SO3 −またはOPO(O−)(ORp)を表し、Rpは、アルキル基を表す。pは、1〜3の整数を表す。
式(4)中、L2は、単結合または2価以上の連結基を表し、U+は、置換基を有していてもよいアンモニウムまたはホスホニウムカチオンを表し、qは、1〜3の整数を表す。
式(5)中、J−は、COO−、OPO(OH)O−またはSO3 −を表し、V+は、カチオン性基を表し、wは、1〜3の整数を表す。
また、上記式(1)〜式(5)中のZは、−COO−、−CONH−、または、炭素数1〜30のアルキレン基であるのが好ましく、炭素数1〜30のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等が挙げられ、中でもメチレン基であるのが好ましい。
また、上記式(1)〜式(5)中のAは、単結合または2価の連結基であるのが好ましく、2価の連結基としては、例えば、炭素数1〜10のアルキレン基が挙げられ、中でもエチレン基またはプロピレン基であるのが好ましい。
また、上記式(1)中のY+(カチオン性基)は、アンモニウムカチオンであるのが好ましく、X−(アニオン性基)としては、例えば、Cl−、Br−、I−、SO3 −、NCS−、ROSO3 −、ROSO2 −、RSO3 −、R−C6H4−SO3 −、(RO)2PO2 −、R4B−(ここで、Rは置換基を有していてもよいアルキル基、脂環アルキル基、芳香族基を示す。)、(CF3SO2)2N−、(SO2C2F5)2N−等が挙げられる。
また、上記式(2)中のR2は、エチレン基であるのが好ましく、R3は、水素原子または炭素数が1〜3のアルキル基であるのが好ましく、mは、2〜30の整数であるのが好ましい。
また、上記式(3)中のQ+はアンモニウムカチオンであるのが好ましい。また、L1は、単結合または2価の連結基であるのが好ましく、2価の連結基としては、例えば、炭素数1〜10のアルキレン基が挙げられ、中でもメチレン基、エチレン基、プロピレン基またはブチレン基であるのが好ましい。また、T−は、COO−またはSO3 −であるのが好ましい。
また、上記式(4)中のL2は、単結合または2価の連結基であるのが好ましく、2価の連結基としては、例えば、炭素数1〜10のアルキレン基が挙げられ、中でもメチレン基、エチレン基、プロピレン基またはブチレン基であるのが好ましい。また、U+は、アンモニウムカチオンであるのが好ましい。
また、上記式(5)中のJ−は、SO3 −であるのが好ましく、V+のカチオン性基としては、例えば、Na+、K+、4級アンモニウムカチオン、ピリジニウムカチオン等が挙げられる。
また、Zは、−COO−、−CONH−、または、−CH2−を表し、jは、0〜10の整数を表す。
また、L3、L4およびL5は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい、炭素数1〜20のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表し、L3、L4およびL5の少なくとも2つが互いに結合して環を形成してもよい。
本発明においては、上記帯電防止性重合体Bは、上記光重合開始剤Aと相溶性が良好となる理由から、上記式(1)〜(5)で表される繰り返し単位からなる群から選択される少なくとも1つの繰り返し単位と、下記式(7)で表される繰り返し単位とを含む共重合体(以下、「共重合体B1」ともいう。)であるのが好ましい。
本発明においては、上記帯電防止性重合体Bは、光重合開始剤Aとの相溶性が高く、帯電防止性が更に良好となり、サーモサイクル試験後においても帯電防止性に劣化しにくくなる理由から、上記式(1)で表される繰り返し単位と、上記式(3)または(4)で表される繰り返し単位とを含む共重合体(以下、「共重合体B2」ともいう。)であるのが好ましい。
本発明においては、上記帯電防止性重合体Bは、上記光重合開始剤Aと相溶性が良好となる理由から、上記式(1)〜(5)で表される繰り返し単位からなる群から選択される少なくとも1つの繰り返し単位と、CLogP値が0.3〜5であるモノマー由来の繰り返し単位とを含む共重合体(以下、「共重合体B3」ともいう。)であるのが好ましい。
ここで、「CLogP値」とは、1−オクタノールと水への分配係数Pの常用対数logPを計算によって求めた値である。ClogP値の計算には、Daylight Chemical Information Systems社のシステム:PCModelsに組み込まれたCLOGPプログラムを用いた。
ここで、「(メタ)アクリル」とは、メタクリルまたはアクリルを含む概念の表記である。
具体的には、上記式(1)〜(5)で表される繰り返し単位を40〜80質量%含み、かつ、上記式(7)で表される繰り返し単位を20〜60質量%含む共重合体であるのが好ましく、上記式(1)〜(5)で表される繰り返し単位を45〜75質量%含み、かつ、上記式(7)で表される繰り返し単位を55〜25質量%含む共重合体であるのがより好ましい。
特に、上記式(1)で表される繰り返し単位を39.5〜70質量%含み、上記式(7)で表される繰り返し単位を20〜60質量%含み、上記式(3)または(4)で表される繰り返し単位を0.5〜10質量%含む共重合体であるのが好ましい。
ラジカル開始剤としては、具体的には、例えば、過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシドなどの有機過酸化物;過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウムなどの無機過酸化物;2,2´−アゾビス(イソブチロニトリル)、2,2´−アゾビス(プロピオニトリル)、1,1´−アゾビス(シクロヘキサンカルボニトリル)などのアゾ化合物;ジアゾアミノベンゼン、p−ニトロベンゼンジアゾニウムなどのジアゾ化合物;等が挙げられる。
ここで、重量平均分子量は、ゲル透過クロマトグラフ法(GPC)法にて測定され、標準ポリスチレンで換算して求められる。
本発明の組成物が含有するエチレン性不飽和基を含有する重合性化合物Cは特に限定されない。
ここで、エチレン性不飽和基としては、具体的には、例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基が挙げられる。
多官能(メタ)アクリレートとしては、具体的には、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスルトールヘキサ(メタ)アクリレート〔以下、ジペンタエリスルトールヘキサアクリレートのことを「DPHA」とも略す。〕、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、1、6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ジテトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等が挙げられ、これらを1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
多官能(メタ)アクリルアミドとしては、具体的には、例えば、N,N’−メチレンビス(メタ)アクリルアミド、1,2−ビス〔(メタ)アクリルアミド〕エタン、1,3−ビス〔(メタ)アクリルアミド〕プロパン、1,6−ビス〔(メタ)アクリルアミド〕ヘキサン、公開技報2013−502654の[0031]段落に記載された重合性化合物1〜12等が挙げられ、これらを1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
なお、多官能(メタ)アクリレートおよび多官能(メタ)アクリルアミドは、併用することができる。
単官能(メタ)アクリレートとしては、具体的には、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート、ビニルアクリレート、2−フェニルビニルアクリレート、1−プロペニルアクリレート、アリルアクリレート、2−アリロキシエチルアクリレート、プロパルギルアクリレート等のアルキルアクリレート;メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ラウリル〔以下、「LMA」とも略す。〕、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート、ビニルメタクリレート、2−フェニルビニルメタクリレート、1−プロペニルメタクリレート、アリルメタクリレート、2−アリロキシエチルメタクリレート、プロパルギルメタクリレート等のアルキルメタクリレート等が挙げられ、これらを1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
単官能(メタ)アクリルアミドとしては、具体的には、例えば、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド、ビニルアクリルアミド、ビニルメタクリルアミド、N,N−ジアリルアクリルアミド、N,N−ジアリルメタクリルアミド、アリルアクリルアミド、アリルメタクリルアミド、N−(2−アセトアミドエチル)−N−(2−ヒドロキシエチル)アクリルアミド等が挙げられ、これらを1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
なお、単官能(メタ)アクリレートおよび単官能(メタ)アクリルアミドは、併用することができる。
ここで、親水性基としては、例えば、ヒドロキシ基、ベタイン性基、カルボキシル基等が挙げられ、中でも、ヒドロキシ基、ベタイン性基であるのが好ましく、ヒドロキシ基であるのがより好ましい。
CH2=C(R11)COO(BO)nH (9)
ここで、式(9)中、R11は、水素原子またはCH3を表し、Bは、炭素数2〜3の分岐していてもよいアルキレン基を表し、nは、1〜10の整数を表す。
使用される溶媒としては、例えば、水、有機溶媒またはこれらの混合溶媒を挙げることができる。
有機溶媒としては、具体的には、例えば、例えば、メタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類;アセトン等のケトン類;ホルムアミド等のアミド類;ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類;酢酸エチル等のエステル類;エーテル類;等が挙げられる。
本発明の帯電防止フィルムは、基材上に、本発明の組成物を付与し、活性エネルギー線により硬化させた帯電防止層を有する帯電防止フィルムである。
本発明の帯電防止フィルムが有する基材は、透明性が良好な材料からなる基材であるのが好ましく、その材料としては、具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン6、ナイロン66、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、セロファン、ポリスチレン、ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリメチルテルペン、ポリエーテルスルフォン、ポリメタクリル酸メチル、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリシクロオレフィン等が挙げられる。
上記基材上に本発明の組成物を付与する方法は特に限定されず、例えば、グラビアコーター、コンマコーター、バーコーター、ナイフコーター、ダイコーター、ロールコーターなどによる塗布方法が挙げられる。
また、基材上に付与し、塗膜を形成した後、後述する硬化処理を施す前に、必要に応じて、乾燥処理を実施してもよい。乾燥処理を実施することにより、塗膜中に含まれる揮発成分(溶媒など)を除去することができる。乾燥処理の方法は特に制限されないが、重合性化合物の重合が進行しない程度の温度(例えば、60〜100℃)にて加熱処理を施す方法や、風乾処理を実施する方法などが挙げられる。
ここで、活性エネルギー線とは、活性種を発生する化合物(光重合開始剤A)を分解して活性種を発生させることのできるエネルギー線のことをいう。このような活性エネルギー線としては、遠紫外線、紫外線、近紫外線、赤外線等の光線;X線、γ線等の電磁波;電子線、プロトン線、中性子線等が挙げられ、硬化速度、照射装置の入手のし易さ、価格等から紫外線が好ましい。
紫外線照射には、150〜450nm波長域の光を発する高圧水銀ランプ、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、無電極放電ランプ、紫外線LED等を用いることができる。
また、塗膜に対して施される光照射の照度は特に制限されないが、得られる帯電防止フィルムの特性および生産性のバランスの点から、0.1〜1000mW/cm2が好ましく、1〜800mW/cm2がより好ましい。
光照射の際の露光量は特に制限されないが、得られる帯電防止フィルムの特性および生産性のバランスの点から、2000mJ/cm2以下が好ましく、1750mJ/cm2以下がより好ましく、1500mJ/cm2以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、帯電防止フィルムの特性の点から、500mJ/cm2以上が好ましい。
光照射の際の雰囲気は特に制限されず、大気下でも、不活性ガス雰囲気下でもよい。
また、帯電防止層の硬度は、鉛筆硬度試験でHB以上が好ましく、H以上がより好ましい。
また、帯電防止層の表面抵抗率SR(Ω/sq)の常用対数値(LogSR)が13以下であるのが好ましく、12以下であるのがより好ましい。
ここで表面抵抗率は、25℃、相対湿度60%で測定した値を表す。
<中間体(2)−1の合成>
90℃に加熱した170.0gのフェニルジグリコール(PhDG、日本乳化剤製)(0.93mol)に、無水酢酸97.2g(0.95mol)を滴下し、120℃で6時間加熱攪拌した。その後、減圧により濃縮し、中間体(2)−1を204.4g得た(収率98%)。なお、得られた中間体(2)−1の構造は、核磁気共鳴装置(使用溶媒:CDCl3)を用いて測定することで、下記式(2)−1の化合物であることが確認できた。1H−NMRの測定データを下記に示す。
δ:2.10(3H,s),3.78(2H,m),3.87(2H,m),4.15(2H,m),4.26(2H,m),6.90−6.98(3H,m),7.25−7.32(2H,m)
270mLのo−ジクロロベンゼン(2.39mol)に120.0gの塩化アルミニウム(III)(0.90mol)を加えて0℃まで冷却した。これに、44.26mLの2−ブロモイソ酪酸ブロミド(0.36mol)を滴下し、15分攪拌した。その後、反応液の温度を0℃に保ちながら、67.28gの中間体(2)−1(0.30mol)を30分間かけて滴下した。滴下後の反応液を室温(22℃)に戻し、2時間攪拌した。その後、5℃に冷却した水300mLに反応液を数回に分けて添加した。有機相を水300mlで2回洗浄した後、さらに重曹水135mL、飽和食塩水135mLで洗浄し、有機相に水300mLを添加し、減圧により共沸濃縮することで中間体(3)−1を110.8g得た(収率95%)。なお、得られた中間体(3)−1の構造は、核磁気共鳴装置(使用溶媒:CDCl3)を用いて測定することで、下記式(3)−1の化合物であることが確認できた。1H−NMRの測定データを下記に示す。
δ:2.04(6H,s),2.08(3H,s),3.79(2H,m),3.85(2H,m),4.21(2H,m),4.26(2H,m),6.94(2H,d),8.21(2H,d)
100.0gの化合物(3)−1(0.27mol)をイソプロピルアルコール200mLに溶解させ、214gの25質量%水酸化ナトリウム水溶液を滴下し、2時間攪拌した。その後、攪拌を停止し、有機相を飽和食塩水で2回洗浄した後、塩酸で中和した。有機相を減圧により濃縮した後、メチルエチルケトン72mLを添加し、析出した塩をろ過した。ろ液を減圧濃縮した後、水72mLを添加し、減圧による共沸濃縮を行うことで、化合物(I)−1を56.8g得た(収率87%)。
δ:1.64(6H,s),3.69(2H,m),3.78(2H,m),3.91(2H,m),4.22(2H,m),4.26(1H,s),6.97(2H,d),8.06(2H,d)
式(I)で表される化合物として、上記手順を参考にして下記式(I)−2で表される化合物、下記式(I)−4で表される化合物、式(IB)で表される化合物を合成した。
また、後述する表1に示すように、比較例で使用する化合物として、市販品である「Irgacure 2959」(Irg2959)(商品名、BASF社製)を用いた。なお、Irg2959は、下記式に示す通り、式(I)においてn=0の化合物に該当する。
<合成例1〜49>
撹拌翼、還流冷却器、ガス導入口を備えたフラスコに、下記表2〜表6に示すモノマー、重合開始剤(アゾビスイソブチロニトリル(AIBN))および溶媒(イソプロピルアルコール(IPA))を、下記表2〜表6に示す配合量(質量部)で混合した後に、窒素雰囲気下、70℃で8時間反応させ、重合体Bを合成した。
(活性エネルギー線硬化性組成物の調製)
下記表7〜表13に示す成分を、下記表7〜表13に示す配合量(質量部)で混合し、撹拌することで組成物を得た。
なお、下記表10中、化合物C1〜C3としては、それぞれ、以下に示す重合性化合物を用いた。
・化合物1:2官能ウレタンアクリレートオリゴマー(新中村化学工業社製:UA−4400、重量平均分子量:約1300〜1400)
・化合物2:2官能ウレタンアクリレートオリゴマー(共栄社化学社製:UF−8001G、重量平均分子量:約4500)
・化合物3:下記式で表される化合物
調製した各組成物をポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡製:コスモシャインA4100)上にバーコーターを用いて塗布し、熱風オーブンで溶剤を除去した後、出力80w/cmの高圧水銀ランプで紫外線を10秒間照射し、塗布層(厚み:5μm)を硬化させ、帯電防止フィルムを作製した。
作製した帯電防止フィルムを縦100×横100mmにカッターで切断したサンプルを作成し、次の評価方法により評価を行った。これらの結果を下記表7〜表13に示す。
帯電防止性は、切断後のサンプルを25℃、相対湿度40%雰囲気下で24時間放置した後、表面抵抗測定器(東亜電波工業(株)製 SME−8310)を用い、25℃、相対湿度40%の条件で、印加電圧100Vをかけて1分後の表面抵抗率(Ω/□)を測定し、評価した。
また、低湿度下の帯電防止性は、25℃、相対湿度15%雰囲気下で24時間放置した後、上記と同様の方法で表面抵抗率(Ω/□)を測定し、評価した。
評価基準は以下のように行い、帯電防止性を6段階で評価した。D以上は、実用上問題なく使用できる。
A:より優れている(表面抵抗値は109Ω/面積未満)
B:優れている(表面抵抗値は109Ω/面積以上であるが、1010Ω/面積未満)
C:良い(表面抵抗値は1010Ω/面積以上であるが、1011Ω/面積未満)
D:普通(表面抵抗値は1011Ω/面積以上であるが、1012Ω/面積未満)
E:やや悪い(表面抵抗値は1012Ω以上であるが、1013Ω/面積未満)
F:悪い(表面抵抗値は1013Ω/面積以上)
温度変化(相対湿度45%雰囲気下20℃50時間→相対湿度20%雰囲気下−20℃50時間→相対湿度85%雰囲気下50℃50時間)を1サイクルとする20サイクルのサーモサイクル試験を行った後に、上記と同様の方法で表面抵抗率(Ω/□)を測定した。サーモサイクル試験前後の表面抵抗率の値から、下記式により、変化率を算出した。
変化率=(試験後の表面抵抗値)/(試験前の表面抵抗値)
スチールウールを#0000のスチールウールを用いて、200g/cm2の荷重をかけながら、帯電防止膜を有する層上の全面を10往復させ、表面の傷の発生の有無を評価した。
A:非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
B:非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。
C:サンプルの一部に弱い傷が見える。
D:塗布膜全面に筋状の傷が認められる。
E:塗布膜の剥離が生じる。
透明性はヘイズ(%)により評価した。ヘイズの測定は、実施例および比較例で得られた各帯電防止フィルムを−20℃の条件で3週間保管した後、日本電色工業(株)製濁度計「NDH5000」を用いて行った。なお、帯電防止膜を備えていないポリエチレンテレフタレートフィルムに対して、同様の測定を行なってブランクとした。
A:0.5%未満
B:0.5%以上
また、光重合開始剤として、上記式(I)中のnが9に相当する開始剤を用いた場合は、帯電防止性は改善したものの、耐擦傷性に劣ることが分かった(比較例3および4)。
これに対し、表7〜表12に示す通り、光重合開始剤A、帯電防止性重合体Bおよび重合性化合物Cを配合すると、硬化後の帯電防止性、耐擦傷性および透明性がいずれも良好となることが分かった(実施例1〜58)。
また、表7〜表12に示す結果の対比から、帯電防止性重合体Bが、上記式(1)で表されるカチオン性重合体であると、帯電防止性および耐擦傷性がより良好となる傾向があることが分かった。
さらに、実施例1、46および47の対比から、光重合開始剤Aとして、上記式(I)中のnが1である光重合開始剤を用いると、帯電防止性および耐擦傷性がより良好となる傾向があることが分かった。
さらに、実施例1〜7の対比、実施例24および25の対比などから、帯電防止性重合体Bが、上記式(1)で表される繰り返し単位とともに、上記式(7)で表される繰り返し単位を有していると、帯電防止性、特に、サーモサイクル試験後における帯電防止性がより良好となることが分かり、なかでも、上記式(1)で表される繰り返し単位とともに、上記式(7)で表される繰り返し単位および上記式(3)で表される繰り返し単位を有していると、帯電防止性、特に、低湿度下の帯電防止性がより良好となることが分かった。
さらに、実施例7と実施例38〜40との対比などから、帯電防止性重合体Bが、上記式(1)で表される繰り返し単位とともに、CLogP値が0.3〜5であるモノマー由来の繰り返し単位を有していると、帯電防止性、特に、サーモサイクル試験後における帯電防止性がより良好となることが分かった。
Claims (18)
- 下記式(I)で表される光重合開始剤Aと、帯電防止性重合体Bと、エチレン性不飽和基を含有する重合性化合物Cと、を含有する活性エネルギー線硬化性組成物。
- 前記帯電防止性重合体Bが、下記式(1)〜(5)で表される繰り返し単位からなる群から選択される少なくとも1つの繰り返し単位を有する重合体である、請求項1に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
式(1)〜式(5)中、Zは、それぞれ独立に、−COO−、−CONH−、−OCO−、−CH2OCO−、−CH2COO−、−O−、−SO2−、−CO−、−CONHCOO−、−CONHCONH−、−CONHSO2−、−CON(P3)−、−SO2N(G)−、−C6H4−、または、炭素数1〜30のアルキレン基を表し、Gは、水素原子または炭化水素基を表す。
式(1)〜式(5)中、Aは、それぞれ独立に、単結合または2価以上の連結基を表し、jは、それぞれ独立に、0〜30の整数を表す。
式(1)中、Y+は、カチオン性基を表し、X−は、アニオン性基を表し、uは、1〜3の整数を表し、rは、1〜4の整数を表す。
式(2)中、R2は、置換基を有していてもよい炭素数が2〜5のアルキレン基を表し、R3は、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数が1〜5のアルキル基を表し、mは、2〜200の整数を表す。
式(3)中、Q+は、アンモニウムカチオン、スルホニウムカチオン、ヨードニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、または、ピリジニウムカチオンを表し、L1は、単結合または2価以上の連結基を表し、T−は、COO−、SO3 −またはOPO(O−)(ORp)を表し、Rpは、アルキル基を表す。pは、1〜3の整数を表す。
式(4)中、L2は、単結合または2価以上の連結基を表し、U+は、置換基を有していてもよいアンモニウムまたはホスホニウムカチオンを表し、qは、1〜3の整数を表す。
式(5)中、J−は、COO−、OPO(OH)O−またはSO3 −を表し、V+は、カチオン性基を表し、wは、1〜3の整数を表す。 - 前記帯電防止性重合体Bが、前記式(1)で表される繰り返し単位を有するカチオン性重合体である、請求項2に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
- 前記式(1)で表される繰り返し単位が、下記式(6)で表されるアンモニウム塩である、請求項2または3に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
また、Zは、−COO−、−CONH−、または、−CH2−を表し、Aは、単結合または2価以上の連結基を表し、jは、0〜10の整数を表す。
また、L3、L4およびL5は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい、炭素数1〜20のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表し、L3、L4およびL5の少なくとも2つが互いに結合して環を形成してもよい。 - 前記帯電防止性重合体Bが、前記式(1)〜(5)で表される繰り返し単位からなる群から選択される少なくとも1つの繰り返し単位と、下記式(7)で表される繰り返し単位とを含む、請求項2〜4のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
- 前記帯電防止性重合体Bが、前記式(1)で表される繰り返し単位と、前記式(3)または(4)で表される繰り返し単位とを含む、請求項2〜5のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
- 前記式(3)で表される繰り返し単位が、下記式(8)で表される繰り返し単位である、請求項6に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
- 前記帯電防止性重合体Bが、前記式(1)〜(5)で表される繰り返し単位からなる群から選択される少なくとも1つの繰り返し単位と、CLogP値が0.3〜5であるモノマー由来の繰り返し単位とを含む、請求項2〜7のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
- 前記帯電防止性重合体Bが、前記式(1)〜(5)で表される繰り返し単位を40〜80質量%含有する共重合体である、請求項2〜8のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
- 前記帯電防止性重合体Bが、前記式(1)〜(5)で表される繰り返し単位を40〜80質量%含み、前記式(7)で表される繰り返し単位を20〜60質量%含む、請求項9に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
- 前記帯電防止性重合体Bが、前記式(1)で表される繰り返し単位を39.5〜70質量%含み、前記式(7)で表される繰り返し単位を20〜60質量%含み、前記式(3)または(4)で表される繰り返し単位を0.5〜10質量%含む、請求項9または10に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
- 前記重合性化合物Cが、メタクリル系またはアクリル系化合物である、請求項1〜11のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
- 前記重合性化合物Cの分子量が、90〜5000である、請求項1〜12のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
- 前記光重合開始剤Aの含有量が、前記重合性化合物C100質量部に対して0.5〜10質量部である、請求項1〜13のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
- 前記重合体Bの含有量が、前記重合性化合物C100質量部に対して1〜40質量部である、請求項1〜14のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
- 前記光重合開始剤Aが、前記式(I)におけるnが1である、請求項1〜15のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
- 帯電防止剤に用いる請求項1〜16のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
- 基材上に、請求項1〜17のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物を付与し、活性エネルギー線により硬化させた帯電防止層を有する、帯電防止フィルム。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014199083 | 2014-09-29 | ||
JP2014199083 | 2014-09-29 | ||
PCT/JP2015/075826 WO2016052140A1 (ja) | 2014-09-29 | 2015-09-11 | 活性エネルギー線硬化性組成物および帯電防止フィルム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2016052140A1 true JPWO2016052140A1 (ja) | 2017-04-27 |
JP6400112B2 JP6400112B2 (ja) | 2018-10-03 |
Family
ID=55630183
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016551887A Active JP6400112B2 (ja) | 2014-09-29 | 2015-09-11 | 活性エネルギー線硬化性組成物および帯電防止フィルム |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10570240B2 (ja) |
JP (1) | JP6400112B2 (ja) |
KR (1) | KR101871129B1 (ja) |
CN (1) | CN106715476B (ja) |
WO (1) | WO2016052140A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3330295B1 (en) * | 2015-07-28 | 2019-08-21 | FUJIFILM Corporation | Photopolymerization initiator composition, active energy ray-curable composition, and cured product |
TWI737949B (zh) * | 2017-12-22 | 2021-09-01 | 日商荒川化學工業股份有限公司 | 活性能量線硬化性樹脂組成物用抗靜電劑、活性能量線硬化性樹脂組成物、硬化物及薄膜 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0673305A (ja) * | 1991-03-26 | 1994-03-15 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 耐擦傷性及び帯電防止性に優れた合成樹脂成形品用被覆剤組成物 |
JPH10330317A (ja) * | 1997-06-02 | 1998-12-15 | Nof Corp | ヒドロキシアルキルフェノン誘導体及びその用途 |
JP2000186243A (ja) * | 1998-10-16 | 2000-07-04 | Canon Inc | インク、高分子化合物膜の形成方法及び画像形成方法 |
JP2006342213A (ja) * | 2005-06-07 | 2006-12-21 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物、樹脂積層体および樹脂積層体の製造方法 |
JP2007137964A (ja) * | 2005-11-16 | 2007-06-07 | Konica Minolta Holdings Inc | インクジェット用インク |
JP2008247939A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Konica Minolta Holdings Inc | インクジェットインク、及びインクジェット記録方法 |
JP2009053445A (ja) * | 2007-08-27 | 2009-03-12 | The Inctec Inc | カラーフィルタ保護膜用樹脂組成物、及びカラーフィルタ |
JP2010116505A (ja) * | 2008-11-14 | 2010-05-27 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 帯電防止剤およびその用途 |
JP2015025076A (ja) * | 2013-07-26 | 2015-02-05 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット用インク組成物、インクセット、及び画像形成方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5669373B2 (ja) | 2009-06-05 | 2015-02-12 | Kjケミカルズ株式会社 | 4級カチオン性帯電防止剤及びそれを含有した帯電防止組成物と成形品 |
JP4600606B1 (ja) | 2010-04-01 | 2010-12-15 | 東洋インキ製造株式会社 | 帯電防止コーティング用組成物 |
JP6009652B2 (ja) * | 2013-03-22 | 2016-10-19 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクセット、及び画像形成方法 |
JP6312845B2 (ja) * | 2014-09-29 | 2018-04-18 | 富士フイルム株式会社 | 活性エネルギー線硬化性組成物および帯電防止フィルム |
-
2015
- 2015-09-11 WO PCT/JP2015/075826 patent/WO2016052140A1/ja active Application Filing
- 2015-09-11 CN CN201580051384.2A patent/CN106715476B/zh active Active
- 2015-09-11 KR KR1020177007104A patent/KR101871129B1/ko active IP Right Grant
- 2015-09-11 JP JP2016551887A patent/JP6400112B2/ja active Active
-
2017
- 2017-03-21 US US15/464,567 patent/US10570240B2/en active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0673305A (ja) * | 1991-03-26 | 1994-03-15 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 耐擦傷性及び帯電防止性に優れた合成樹脂成形品用被覆剤組成物 |
JPH10330317A (ja) * | 1997-06-02 | 1998-12-15 | Nof Corp | ヒドロキシアルキルフェノン誘導体及びその用途 |
JP2000186243A (ja) * | 1998-10-16 | 2000-07-04 | Canon Inc | インク、高分子化合物膜の形成方法及び画像形成方法 |
JP2006342213A (ja) * | 2005-06-07 | 2006-12-21 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物、樹脂積層体および樹脂積層体の製造方法 |
JP2007137964A (ja) * | 2005-11-16 | 2007-06-07 | Konica Minolta Holdings Inc | インクジェット用インク |
JP2008247939A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Konica Minolta Holdings Inc | インクジェットインク、及びインクジェット記録方法 |
JP2009053445A (ja) * | 2007-08-27 | 2009-03-12 | The Inctec Inc | カラーフィルタ保護膜用樹脂組成物、及びカラーフィルタ |
JP2010116505A (ja) * | 2008-11-14 | 2010-05-27 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 帯電防止剤およびその用途 |
JP2015025076A (ja) * | 2013-07-26 | 2015-02-05 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット用インク組成物、インクセット、及び画像形成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN106715476A (zh) | 2017-05-24 |
KR20170042708A (ko) | 2017-04-19 |
CN106715476B (zh) | 2019-11-19 |
KR101871129B1 (ko) | 2018-06-25 |
US20170190825A1 (en) | 2017-07-06 |
WO2016052140A1 (ja) | 2016-04-07 |
JP6400112B2 (ja) | 2018-10-03 |
US10570240B2 (en) | 2020-02-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11084891B2 (en) | Photocurable resin composition, ink and coating material | |
JP6368240B2 (ja) | 金属酸化物分散体、金属酸化物分散体含有重合性組成物、およびその重合物 | |
JP6224639B2 (ja) | 光重合性ハードコーティング組成物、ハードコートフィルム、ハードコートフィルムの製造方法、およびハードコートフィルムを含む物品 | |
JP4600606B1 (ja) | 帯電防止コーティング用組成物 | |
JP6400112B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化性組成物および帯電防止フィルム | |
JP6312845B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化性組成物および帯電防止フィルム | |
WO2019065075A1 (ja) | 光重合性組成物、ハードコートフィルム、ハードコートフィルムの製造方法、及びハードコートフィルムを備えた物品 | |
JP6455065B2 (ja) | 吸水性ポリマーシート | |
KR20190089003A (ko) | 광학 필름용 경화형 수지 조성물, 광학 필름 및 그 제조 방법 | |
JP6368790B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物、粘着シート、タッチパネル用積層体および静電容量式タッチパネル | |
JP6511917B2 (ja) | 光硬化性樹脂組成物、及びその硬化物、並びに光学フィルム | |
WO2016059973A1 (ja) | 吸水性ポリマーシートの製造方法 | |
JP2008189706A (ja) | 活性エネルギー線自己硬化型水性樹脂組成物 | |
JP2017057350A (ja) | 硬化性組成物、硬化物 | |
JP5821103B2 (ja) | 4級カチオン性ビニルモノマーからなる帯電防止剤及び帯電防止組成物 | |
JP6820216B2 (ja) | 偏光フィルム用硬化型樹脂組成物、偏光フィルムおよびその製造方法 | |
JPWO2020027103A1 (ja) | 硬化性樹脂組成物、並びに、重合体、(メタ)アクリル系エラストマー及びシート | |
JP2020134911A (ja) | 偏光フィルムの製造方法、易接着層付偏光子、偏光フィルム、光学フィルム、および画像表示装置 | |
JP2003213159A (ja) | 活性エネルギー線硬化型被覆用組成物 | |
JPH0632997A (ja) | 紫外線硬化型被覆組成物 | |
KR102103615B1 (ko) | 접착제 조성물, 및 이를 이용하여 형성된 접착제층을 포함하는 편광판 | |
KR20210028583A (ko) | 편광 필름의 제조 방법 | |
JP2021039269A (ja) | 偏光フィルムの製造方法 | |
JP2021155681A (ja) | 含水ゲル | |
JP2020160408A (ja) | 偏光フィルムの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170123 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180327 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180509 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180828 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180904 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6400112 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |