CN106433450B - 增光穿透涂料组合物及由其所形成之涂层 - Google Patents
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Abstract
本发明系关于一种涂料组合物，其包含：(A)聚硅氧烷树脂，其包含衍生自硅氧烷单体、硅氧烷寡聚物或其组合之单元；(B)无机粒子，其包含第一SiO2粒子，其具有在15nm至100nm范围内之粒径，及第二SiO2粒子，其具有在3nm至<15nm范围内之粒径。本发明亦关于一种由该涂料组合物所形成之增光穿透涂层。本发明利用添加至少二种具特定粒径之无机粒子，以几何形式堆栈，增加许多孔隙的空间，可增加孔隙率，藉此降低涂层的光折射率，达到增进光穿透率之效果。
Description
技术领域
本发明系关于一种增光穿透涂料组合物，尤其是一种包含两种不同粒径之无机粒子之增光穿透涂料组合物及由其所形成之涂层。
背景技术
由于能源短缺、温室效应等环保问题日益严重，目前各国已积极研发各种可能替代能源，尤其以太阳能发电最受各界重视。当太阳光自空气中由透明前板进入太阳能电池组件后，会在太阳能电池单元进行光电转换，将光能转变成电能后输出。然而，目前已知之太阳能电池组件之发电效率并不理想。以应用最广泛之单晶与多晶硅太阳能电池组件而言，其发电效率约15％左右，换言之，其仅能将15％之太阳光转换成可用电能，其余85％之太阳光都将浪费或成为无用之热能。如何提高太阳能电池组件的发电效率一直是目前业界研究的重点之一。
光的反射现象发生于二种具有不同折射率(refractive index)之介质的界面处。例如，当光由空气(折射率为1)垂直入射进入一基材(假设折射率为1.8)时，利用光穿透率＝(4n1n2)/(n1+n2)2，其中n1及n2分别为空气及基材之折射率，可知此时光穿透率约为91.84％，其余则为反射所造成之光损耗。一般而言，基材与空气接口所生反射光大约占4％至8.5％。在光学组件，如照相机镜头、显示器等成像系统中，光反射不仅会减少成像强度，还会在像平面造成杂散光，使影像的对比度及分辨率下降。在太阳能电池系统中，光反射则会降低太阳能的利用率。因此，如何减少太阳能电池系统中之光反射现象系开发具有高效率太阳能电池之研究方向之一。
入射光进入太阳能电池组件的比例系影响太阳能电池组件之光电转换效率的重要因素之一。目前大多使用具有高透光率及经涂覆抗反射膜层之玻璃基材作为太阳能电池组件的前侧以保护组件，透过调整玻璃基材及涂覆于其上之膜层的折射率或厚度，减少入射光在玻璃基材上的反射现象及减少光破坏性干涉现象，以增加入射光的比例，藉此提高光的利用率及增进太阳电池的光电转换效率。
习知反射涂料系藉由在基材上形成一或多个涂层，使基材(以玻璃基材而言，其折射率约1.52)与空气(折射率约1)间的折射率产生梯度变化，从而可降低因折射率差异过大所致之反射光损耗。过去涂层材料的选择以在树脂中添加实心粒子最广为业界使用，惟实心粒子仍旧折射率偏高，因此，以实心粒子制作之抗反射涂层效果有限。中空粒子内部具有孔洞，可藉由孔洞中充填之空气层或树脂进一步降低粒子之折射率。但是，相较于一般实心粒子而言，中空粒子的制备方法复杂、成本高且难度较大，因此，难以达到工业化生产之目的。
先前技术提出多种抗反射膜层之涂料组成物，如中国专利申请案CN200710170356.X提出一种用于制造抗反射薄膜的化合物组合物，其含有直链型硅氧烷低聚物及氟代硅氧烷基单体；中国专利申请案CN 02146838.9揭示一种形成抗反射膜之溶液，其包含硅氧烷寡聚物及具有氟代烷基结构和聚硅氧烷结构的化合物。
另有先前技术揭示一种利用数个集光单元以提高集光效果之构成之太阳能电池组件，各集光单元之主要元件包含菲聂尔透镜、具有散热器之玻璃基板及框架，惟，上述元件均以玻璃制备，故其重量相当大，不利于组装。另一种习知技术系在玻璃前板上进行加工，制备具规则性图案之压花玻璃用以提升光穿透。然而，此种技术需要精密的制造技术且制造成本高，不利于大面积的生产。
发明内容
本发明主要目的在于提供一种涂料组合物，其包含：
(A)聚硅氧烷树脂，其包含衍生自硅氧烷单体、硅氧烷寡聚物或其组合之单元；
(B)无机粒子，其包含第一SiO2粒子，其具有在15nm至100nm范围内之粒径，及第二SiO2粒子，其具有在3nm至<15nm范围内之粒径。
本发明之另一目的在于提供一种由该涂料组合物所形成之增光穿透涂层。
本发明之涂料组合物能有效增进光穿透率，可解决先前技术之问题。具体言之，本发明之涂料组合物，藉由添加不同尺寸的无机粒子，导入更多孔洞，可增加涂层之孔隙率，藉此可将折射率降低至1.21至1.25，故能有效地发挥抗反射功效，提高光线穿透率。再者，本发明之涂料组合物可透过一般的涂布方式涂覆于一基材上以供后续利用，其制作过程相对简易、便宜，故可有效简化制备步骤、降低能源消耗、节省成本且有利于工业量产。
附图说明
图1(a)为包含不同粒径大小SiO2(第一SiO2及第二SiO2粒子)膜层中粒子堆积示意图。
图1(b)为包含不同粒径大小SiO2(第一SiO2及第二SiO2粒子)及TiO2之膜层中粒子堆积示意图。
图2为以TEM观察包含不同粒径大小SiO2(第一SiO2及第二SiO2粒子)及TiO2之膜层所得之粒子分散情况。
图3(a)为以实施例1、比较例2及比较例3之涂料组合物拉提成膜后所量得之穿透度图谱。
图3(b)为以实施例1、4及5之涂料组合物拉提成膜后所量得之穿透度图谱。
图3(c)为以实施例1及6之涂料组合物拉提成膜后所量得之穿透度图谱。
图3(d)为以实施例7至11之涂料组合物拉提成膜后所量得之穿透度图谱。
具体实施方式
为便于理解本文所陈述之揭示内容，兹于下文中定义若干术语。
术语「约」意谓如由一般熟习此项技术者所测定之特定值的可接受误差，其部分地视如何量测或测定该值而定。
在本发明中，「粒径」系指粒子之平均粒径(算数平均粒径)，其可藉由如以TEM量测多个粒子(100颗以上)之粒子直径，计算其平均值而得，然不以此为限。
本发明之涂料组合物，其包含：(A)聚硅氧烷树脂，其包含衍生自硅氧烷单体、硅氧烷寡聚物或其组合之单元；(B)无机粒子，其包含两种具不同粒径范围之无机粒子。本发明涂料组合物所含之无机粒子为含有选自由硅、钛、锆及其组合所组成之群之元素的无机氧化物粒子，较佳为含硅之无机氧化物粒子，例如二氧化硅(SiO2)粒子。
本案发明人发现在组合物中添加至少两种不同粒径大小之无机粒子，以几何形式堆栈，增加许多孔隙的空间，可增加涂层孔隙度，有效降低涂层的光折射率。根据本发明之一实施态样，所述两种不同粒径大小之无机粒子包含：第一SiO2粒子，其具有在15nm至100nm范围之粒径，较佳系16nm至50nm；及第二SiO2粒子，其具有在3nm 至<15nm范围之粒径，较佳系5nm至13nm。
上述第一SiO2粒子与第二SiO2粒子之重量比为40:1至1:40，较佳为30:1至1:30，更佳为20:1至1:20。
在本发明之具体实例中，该聚硅氧烷树脂重量与该无机粒子总重量的比为20:1至1:1，较佳为15:1至1.5:1，更佳为10:1至2:1，若聚硅氧烷树脂重量与该无机粒子总重量的比太高，则增光效果不显著，若太少则会涂层密着性不佳。在本发明之具体实例中，该聚硅氧烷树脂，其包含衍生自硅氧烷单体之单元，该硅氧烷单体具有通式 (R1)nSi(OR2)4-n，其中R1各自独立为H、苯基、C1-6烷基或末端具有胺基、环氧基、乙烯基、异氰酸酯基、巯基或(甲基)丙烯酰氧基的单价有机基团，R2为C1-3烷基，且n为0至3 之整数。根据本发明之一实施态样，该R1为H、甲基、乙基、乙烯基、N-(β-胺乙基)- γ-胺丙基、胺丙基、γ-缩水甘油醚氧丙基、β-(3,4-环氧环己基)乙基、3-(甲基丙烯酰氧)丙基或巯丙基；且R2为甲基或乙基。
在本发明之具体实例中，该硅氧烷单体系选自以下化合物所构成之群组：三甲基甲氧基硅烷、三甲基乙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基三丙氧基硅烷、四乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷、γ-缩水甘油醚氧丙基三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油醚氧丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-缩水甘油醚氧丙基甲基二乙氧基硅烷、β-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷、N-(β-胺乙基)-γ-胺丙基甲基二甲氧基硅烷、N-(β-胺乙基)-γ-胺丙基三甲氧基硅烷、γ-胺丙基甲基二乙氧基硅烷(γ-aminopropylmethyldiethoxysilane)、γ-胺丙基三乙氧基硅烷(γ-aminopropyltriethoxysilane)、γ-胺丙基三甲氧基硅烷(γ-aminopropyltrimethoxysilane)及γ-巯丙基三甲氧基硅烷(γ-mercaptopropyltrimethoxysilane)。
在本发明之具体实例中，该聚硅氧烷树脂，其包含衍生自硅氧烷寡聚物之单元，该硅氧烷寡聚物具有式(I)之结构︰
(R5 3SiO1/2)x(R6 2SiO2/2)y(R7SiO3/2)z 式(I)
其中R5、R6、R7各自独立为C1-3烷基(较佳为甲基或乙基)、苯基、羟基、或C1-3烷氧基(较佳为甲氧基或乙氧基)，各R5可相同或不同，各R6可相同或不同，各R7可相同或不同，x＞0，y＞0，及z≧0。根据本发明之一较佳实施态样，若聚硅氧烷树脂包含衍生自硅氧烷寡聚物之单元可增加所制成之涂层的柔韧性，适用于软性基材/组件的增光穿透涂层。
根据本发明之一实施态样，该硅氧烷寡聚物为具式(II)或式(III)结构之化合物：
其中各R3可相同或不同，各自独立为甲基或苯基；各R4可相同或不同，各自独立为H、甲基或乙基，较佳为甲基；及m为2至20之整数，较佳为5至12之整数。根据本发明之一较佳实施态样，本发明所使用之硅氧烷寡聚物系式(II)结构之化合物。
本发明之硅氧烷单体之单元之含量沒有无特殊限制，例如可占总树脂成分的0wt％、10wt％、20wt％、30wt％、40wt％、50wt％、60wt％、70wt％、80wt％、90wt％或100wt％，較佳为50至100wt％，更佳为70至100wt％。本发明之硅氧烷寡聚物之单元之含量没有无特殊限制，例如可占总树脂成分的0wt％、10wt％、20wt％、30wt％、 40wt％、50wt％、60wt％、70wt％、80wt％、90wt％或100wt％，較佳為0至70wt％；若为提供柔韧性，则可例如占总树脂成分的约1至50wt％，较佳为2至40wt％，更佳为3至 30wt％。
为降低折射率，在本发明之具体实例中，该聚硅氧烷树脂可进一步包含衍生自含氟之硅氧烷单体之单元，藉此产生折射率梯度分布的效果，提高涂层抗反射的能力，进而提高穿透度。该含氟之硅氧烷单体的通式为CF3(CF2)a(CH2)bSi(X)c(Y)3-c或 CH3(CF2)a(CH2)bSi(X)c(Y)3-c，其中a为0至14，b为1至5，c为0至2，X为卤素，较佳为氟，Y为C1-3烷氧基(较佳为甲氧基或乙氧基)。该含氟之硅氧烷单体之单元之含量并无特殊限制，例如可占总树脂成分的约1至20wt％，较佳为2至12wt％，更佳为3至7 wt％。
在本发明之具体实例中，该氟之硅氧烷单体系选自以下化合物所构成之群组：三氟甲基甲基三乙氧基硅烷、十二氟庚基丙基三甲氧基硅烷(Dodecafluoroheptyl-propyl-trimethoxysilane)、十三氟辛基三乙氧基硅烷(1H,1H,2H,2H-perfluorooctyltriethoxysilane)、1-甲基十三氟辛基丙基三甲氧基硅烷 (C6F13CH2CH(CH3)C3H6Si(OCH3)3)、十二氟庚基丙基甲基二甲氧基硅烷 (Dodecafluoroheptylpropylmethyl dimethoxysilane)、十七氟癸基三甲氧基硅烷 (heptadecafluorodecyltrimethoxysilane)、十七氟癸基三异丙氧基硅烷 (heptadecafluorodecyltriisopropoxysilane)。
太阳能电池模块因长期暴露于户外环境中，环境的水气及脏污容易累积太阳能电池模块表面。环境中的水气及脏污可能致使得涂层孔隙度随着使用时间逐渐减少，导致其所能达到之降低光折射率效果不彰，无法有效增进入射光的穿透率。因此，为展现自我清洁功能，维持长期具有抗反射功效，提高光线穿透率，在本发明之具体实例中，该无机粒子进一步包含TiO2粒子，此涂料组合物不但具有抗反射功效，可提高光线穿透率，且同时展现自我清洁功能。因此，可有效地用作太阳能电池模块/组件之抗反射涂层(但不以此为限)。
在本发明之一较佳具体实例中，本发明涂料组合物之无机粒子组分中进一步包含TiO2粒子，可藉由TiO2经光照后所产生的亲水现象，移除该涂料组合物所形成之膜层的表面脏污，达到自洁效果。然而，使用TiO2粒子虽可提供自洁功效，但TiO2粒子高达2.5之折射率将降低涂层的抗反射效果。本案发明人经反复研究及试验，发现适当地调整TiO2粒子之特性(如粒径或结构)及其于该涂料组合物中之用量，可改良该涂料组合物所形成之膜层的整体折射率，解决上述问题。举例言之，当涂料组合物包含第一 SiO2粒子、第二SiO2粒子及TiO2粒子时，调整该上述粒子之粒径大小及/或重量比，可增加膜层孔隙度，提高光穿透率，使涂料组合物形成同时兼具有良好的光穿透性以及表面亲水自洁功能之膜层。根据本发明之一实施态样，SiO2粒子总重量(该第一及第二 SiO2粒子总重量)与TiO2粒子之重量比为15:1至1:1，较佳为10:1至1.5:1，更佳为9:1至 2:1。在本发明之具体实例中，TiO2粒子具有在小于70nm范围之粒径，较佳为2nm至65 nm，更佳为5nm至60nm。根据本发明之一较佳实施态样，本发明之涂料组合物，其包含：
(A)聚硅氧烷树脂，其包含衍生自硅氧烷单体和含氟之硅氧烷单体之单元；及
(B)无机粒子，其包含第一SiO2粒子，其具有在16nm至50nm范围内之粒径，第二SiO2粒子，其具有在5nm至15nm范围内之粒径，及TiO2粒子，其具有在5nm至60 nm范围内之粒径，其中该聚硅氧烷树脂重量与该无机粒子总重量之比为8:1至2:1，该第一SiO2粒子与该第二SiO2粒子之重量比为20:1至5:1，该第一及第二SiO2粒子总重量：该 TiO2粒子重量为9:1至2:1，
其中硅氧烷单体及含氟之硅氧烷单体系如前述所定义者。
本发明之涂料组合物可视需要包含任何本发明所属技术领域具有通常知识者所习知之添加剂，其例如但不限于色料、填充剂、硬化剂、硬化剂促进剂、紫外线吸收剂、抗静电剂、消光剂、安定剂、散热助剂或防浮色剂等。
本发明之涂料组合物可涂布于需抗反射功效之组件或基材上形成增光穿透涂层。本发明之组合物流动性佳，有利于制备薄的增光穿透涂层，从而可降低因光线经过增光穿透膜层时被树脂或其他成分吸收之损耗。是以，本发明涂料组合物特别适用于显示器或太阳能电池领域，有效减少光反射损失并增加光线穿透率，进一步提升其效能。
根据本发明之一实施态样，可以溶胶凝胶法(sol-gel)制成本发明之涂料组合物的聚硅氧烷树脂，将该聚硅氧烷树脂与无机粒子于溶剂中混合后，直接涂布于基材上，经热处理后形成一增光穿透膜层。无机粒子之添加顺序及添加时点并无特殊限制，即各组分可以一次性或以任意顺序与该聚硅氧烷树脂混合，且可在制备聚硅氧烷树脂时添加或于聚硅氧烷树脂制备后添加。例如，在本发明之一实施态样中，可将第一SiO2粒子与硅氧烷单体或寡聚物于溶剂(例如水及醇类溶剂)中混合制备聚硅氧烷树脂后，再添加第二SiO2粒子及TiO2粒子并视需要添加溶剂(例如醚类溶剂)，制得本发明之涂料组合物。
可用于本发明之溶剂原则上并无任何特别的限制，可为本发明所属技术领域中具有通常知识者所习知之适当溶剂，例如但不限于，水、醇类、苯类、醚类、酯类、酮类或其组合。醇类溶剂之非限制性实例包括，甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、异丁醇或其它类似物。苯类溶剂之非限制性实例包括，苯、邻二甲苯、间二甲苯、对二甲苯、三甲基苯或苯乙烯或其它类似物。醚类溶剂可为之非限制性实例包括丙醚、丁醚、乙二醇甲醚、丙二醇甲醚、乙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇甲醚醋酸酯、二乙二醇丁醚醋酸酯 (二甘醇丁醚醋酸酯)或其它类似物。酯类溶剂之非限制性实例如包括，乙酸乙酯、乙酸丁酯、碳酸二乙酯、甲酸乙酯、乙酸甲酯、乙酸乙氧基乙酯、乙酸乙氧基丙酯或单甲基醚丙二醇醋酸酯或其它类似物。酮类溶剂之非限制性实例包括丙酮、甲基乙基酮或甲基异丁基酮或其它类似物。
习知制备涂层之方式中，物理气相沉积法具有设备昂贵的缺点，而化学气相沉积法虽具有快速且便宜之优点，但其所形成之膜层`耐磨性差。相较之下，本发明之涂料组合物采用溶胶凝胶法制备聚硅氧烷树脂，且所得涂料组合物可直接涂布于基材上，因此不仅低成本，生产速度佳，适合连续生产，且化学前驱物的替换相对简单。本发明所用之涂布方法可为任何本发明所属技术领域中具有通常知识者所熟知者，其例如但不限于：刮刀式涂布(knife coating)、滚轮涂布(roller coating)、微凹版印刷涂布(micro gravurecoating)、流涂(flow coating)、含浸涂布(dip coating)、喷雾涂布(spray coating) 缝式涂布法(slot die coating)、旋转涂布法(spin coating)及帘涂(curtain coating)。根据本发明之一实施态样，可以含浸提拉方式达到同时双面涂布玻璃基材的效果，所得之膜层具有高光穿透率、密着度佳及耐磨性佳之优点。
一般抗反射涂料组合物涂布基材上需要经过高温(600℃以上)烧结过程，才能得到较高的孔隙率，本发明之涂料组合物透过包含不同粒径范围的无机粒子，导入更多孔洞，可增加涂层之孔隙率，因此，在低温(300℃以下)制程也能达到降低折射率的效果。
本发明亦关于一种增光穿透涂层，其系由上述涂料组合物所形成。详细言之，本发明之增光穿透涂层系将一种涂料组合物涂覆在基材上以形成一涂层后，经热处理 (例如但不限于，于150～700℃下加热1至5分钟)所制得。
上述增光穿透涂层之厚度并无特殊限制，主要系取决于无机粒子尺寸及将无机粒子固着于基材上所需聚硅氧烷树脂含量。根据本发明之一实施态样，热处理后所得之增光穿透涂层厚度系介于50nm至500nm之范围，较佳增光穿透涂层厚度小于1/4λ (λ：可见光至近红外线光范围内之波长)系介于90nm至275nm之范围，更佳系100 nm至200nm，尤佳系120nm至180nm。
本发明所用之基材，可为任何本发明所属技术领域具有通常知识者所已知者的透明基材，例如玻璃或塑料。上述塑料基材并无特殊限制，其例如但不限于：聚酯树脂(polyester resin)，如聚对苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate,PET)或聚萘二甲酸乙二酯(polyethylene naphthalate,PEN)；聚甲基丙烯酸酯树脂(polymethacrylate resin)，如聚甲基丙烯酸甲酯(polymethyl methacrylate,PMMA)；聚酰亚胺树脂(polyimide resin)；聚苯乙烯树脂(polystyrene resin)；聚环烯烃树脂(polycycloolefin resin)；聚烯烃树脂(polyolefin resin)；聚碳酸酯树脂(polycarbonate resin)；聚胺基甲酸酯树脂 (polyurethane resin)；三醋酸纤维素(triacetate cellulose,TAC)；或彼等之混合物。较佳塑料基材为聚对苯二甲酸乙二酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚环烯烃树脂或其混合物，更佳为聚对苯二甲酸乙二酯。该基材之厚度并无特殊限制，若基材为玻璃一般系介于约 0.1cm至0.3cm之间；若为塑料基材一般系介于约5μm至约300μm之间。
本发明之增光穿透膜层具有增加2％以上之全光线穿透率之光学特性，可用于任何需要增加全光线穿透率的组件中，例如，大楼玻璃帷幕或园艺玻璃，以提升光利用率。根据本发明之一实施态样，不需要改变太阳能电池组件的模块设计，可以本发明所属技术领域中具有通常知识者所熟知之任何方式将上述涂料组合物应用于太阳能电池模块中，例如，直接在太阳能电池组件之部件(例如，前板或密封层)上涂布上述涂料组合物形成一增光穿透涂层。当光线进入增光穿透涂层时，增加全光线穿透率，经电池部件吸收利用，增加发电效益。
以下兹配合图式以本发明增光穿透涂层之实施态样为例作进一步说明，唯非用以限制本发明之范围。任何此技术技艺中具有通常知识者可轻易达成之修饰及改变均包括于本案说明书揭示内容。
图1(a)为根据本发明之一实施态样之增光穿透涂层中的粒子堆积示意图，该涂层包含不同粒径大小之SiO2粒子：粒径较大之第一SiO2(1)及粒径较小之第二SiO2粒子(2)。
图1(b)为根据本发明之另一实施态样之增光穿透涂层中的粒子堆积示意图，该涂层包含不同粒径大小之SiO2粒子：粒径较大之第一SiO2(1)及粒径较小之第二SiO2粒子(2)，且包含TiO2粒子(3)。
图2显示以TEM观察包含不同粒径大小SiO2(第一SiO2粒子及第二SiO2粒子)及TiO2之膜层所得之粒子分散情况及粒径大小。由图2可观察到SiO2粒子及TiO2粒子在涂料组合物中分布均匀。
以下实施例系用于对本发明作进一步说明，唯非用以限制本发明之范围。任何熟悉此项技艺之人士可轻易达成之修饰及改变均包括于本案说明书揭示内容及所附申请专利范围之范围内。
<制备例>
分别将硅氧烷单体/寡聚物、第一SiO2粒子水溶液与溶剂依表1所示之配比(克重)预先混合、搅拌，通入氮气加热至75±2℃并持温反应6小时，制备组合物a至e。
表1
注1总固含量：即为所有固形份占组合物之比例(重量比)。例如，取组合物秤重，并记录其实际重量为a(总重)，加热移除溶剂(例如，以1克组合物而言，以加热板150℃加热30分钟)后再次秤重测得重量为b(固形份总重量)，b/a即为总固含量(％)。
注2SiO2/总固含重：即为SiO2固形份占总固形份之比(％)，以组合物a为例，第一SiO2粒子水溶液中之固形份重为178*20％＝35.6克，组合物之固形份总重量为187.8克，SiO2粒子/总固含重之比例为 35.6/187.8*100％＝18.96％。
注3树脂重/总固含：即为树脂固形份占总固形份之比(％)。树脂重/总固含+SiO2/总固含重＝100％。
注4Dow Corning 3074(分子量100-1500)：
其中，R'为甲基或苯基，且R'中，甲基/苯基之莫耳比例为1/1，m'为约5- 10的整数。
<涂料组合物之制备>
将上述制得之组合物a至e、第二SiO2粒子水溶液、TiO2粒子水溶液、及溶剂依表2-1至表2-3所示配比(克重)添加至瓶中，并搅拌均匀，制得涂料组合物。
表2-1
表2-2
表2-3
各实施例与比较例之各组份比例关系整理如表3-1至3-3：
表3-1
表3-2
表3-3
<增光穿透涂层之制备>
将上述各实施例及比较例所制得之涂料组合物以提拉机在2.1cm/min的速度之下提拉涂布于1mm的玻璃片上，之后将涂布好的玻璃片在200℃温度下烘烤2分钟。涂层厚度约0.125μm。
<物性测试>
将上述涂层进行各项测试，包括穿透度、耐溶剂性、耐醇性、密着度、硬度、接触角及信赖性，各项测试详述如下：
穿透度：以PerkinElmer Lambda 900量测(未经涂布之1mm的玻璃片当作基准，视为穿透度100％)。于表4中记录样品于550nm波长(人类视觉最敏感之波长)之穿透度。
耐溶剂性：以二甲苯及甲乙酮在润湿状态下来回擦拭150下，观察涂层有无破损。
耐醇性：以酒精在润湿状态下来回擦拭150下，看有无破损。
密着度：百格测试，3M Scotch 600胶带。
硬度：以三菱标准硬度试验用铅笔，在负重1公斤下，测试涂层硬度。
接触角：以KRUSS公司之的接触角测量仪，在试片的表面滴水，量测其动态接触角，并取五个点作平均值。
各项测试的结果列于表4中。
表4
图3(a)至3(d)分别为实施例1、比较例2及比较例3之涂料组合物、实施例1、4及5之涂料组合物、实施例1及6之涂料组合物、实施例7至11之涂料组合物，在2.1cm/min速度下拉提成膜后，所量得之于可见光波长范围中的穿透度图谱(同上，以PerkinElmer Lambda 900量测)。
添加不同粒径之SiO2粒子对涂层性质之影响：
由实施例1及4至6与比较例2、3可看出，同时添加第一SiO2粒子与第二SiO2粒子的涂层之穿透度明显优于只单纯添加第一SiO2粒子(比较例2)或第二SiO2粒子(比较例3) 者。由图3(a)所显示之实施例1、比较例2及比较例3之穿透度图谱观之甚明，实施例 1(即同时添加第一SiO2粒子与第二SiO2粒子的涂层)之穿透度高于比较例2(只单纯添加第一SiO2粒子者)或比较例3(只单纯添加第二SiO2粒子者)。
添加TiO2粒子对涂层性质之影响：
实施例7～11添加不同比例TiO2(粒径小于70nm)，仍可有效提高穿透度2％以上。图3(d)结果亦显示，含TiO2粒子之实施例7至11在可见光波长范围具备增光穿透之功效(穿透度＞100％)。
实施例1、8及9中第一SiO2粒子与第二SiO2粒子比例相近(11.4～11.5)，其中实施例1不含TiO2粒子，实施例8及9添加TiO2(粒径小于70nm)。实施例1、8及9所得穿透度分别为108.6％、107.4％及106.6％。
实施例10与比较例14的组成及比例相似，然而，比较例14使用粒径大于70nm的TiO2粒子。实施例10与比较例14所得之穿透度分别为103.3％与100.2％，可知TiO2粒子过大会影响增光穿透的效果。
由前述结果可知，本發明可在有或無添加TiO2粒子下實施。使用TiO2粒子虽会影响增光穿透效果，但控制TiO2粒子的粒径在适当范围(小于70nm)仍可达成增光穿透之功效且可藉由TiO2粒子提供自洁之功效。
TiO2粒子添加量对涂层性质之影响：
实施例10与比较例13的组成及比例相似，然而，比较例13中，TiO2的用量过高。实施例10与比较例13所得之穿透度分别为103.3％与97％，可知TiO2粒子用量过高会影响增光穿透的效果。
第一SiO2粒子/第二SiO2粒子之比例对涂层性质之影响：
实施例1、4及5之涂层同时包含第一SiO2粒子及第二SiO2粒子，其中实施例5之第二SiO2粒子含量最高(0.8克重)，实施例1次之(0.126克重)。实施例1、4及5中第一 SiO2粒子/第二SiO2粒子之比分别为11.5、16及1.8(实施例1、4及5分别提升8.6％、6.1％及5％)。由图3(b)之结果亦可知，在本发明界定之第一SiO2粒子/第二SiO2粒子之比范围内，所得涂层具有可有提升穿透度之效果。
添加含氟之硅氧烷单体对涂层性质之影响：
实施例7之树脂不包含衍生自含氟之硅氧烷单体之单元，可有效增进穿透度达3.7％。实施例8组成比例与实施例7相似，但所用树脂含有衍生自含氟之硅氧烷单体之单元，所得涂层可增进穿透度达7.4％，显示使用含氟之硅氧烷单体可进一步提高穿透度。
此外，实施例1及实施例6之树脂均使用含氟之硅氧烷单体。由表4及图3(c)之结果可知，实施例1及实施例6可达到增进涂层穿透度之效果。
添加硅氧烷寡聚物对涂层性质之影响：
实施例12之树脂使用硅氧烷寡聚物，可增加所制成之涂层的柔韧性及有效增进穿透度达5.5％，适用于软性基材/组件的增光穿透涂层。
Claims (15)
1.一种涂料组合物，其包含：
(A)聚硅氧烷树脂，其包含衍生自硅氧烷单体、硅氧烷寡聚物或其组合之单元；
(B)无机粒子，其包含第一SiO2粒子，其具有在15nm至100nm之范围内之粒径、第二SiO2粒子，其具有在3nm至<15nm之范围内之粒径及TiO2粒子，该TiO2粒子具有小于70nm范围之粒径，其中该第一SiO2粒子与该第二SiO2粒子之重量比为20:1至5:1，该聚硅氧烷树脂重量与该无机粒子总重量之比为10:1至2:1，该第一及第二SiO2粒子总重量：该TiO2粒子重量为15:1至1:1。
2.如权利要求1之涂料组合物，其中该硅氧烷单体具有通式(R1)nSi(OR2)4-n，其中R1各自独立为H、苯基、C1-6烷基或末端具有胺基、环氧基、乙烯基、异氰酸酯基、巯基或(甲基)丙烯酰氧基的单价有机基团，R2为C1-3烷基，且n为0至3之整数。
3.如权利要求2之涂料组合物，其中该R1为H、甲基、乙基、乙烯基、N-(β-胺乙基)-γ-胺丙基、胺丙基、γ-缩水甘油醚氧丙基、β-(3,4-环氧环己基)乙基、3-(甲基丙烯酰氧)丙基或巯丙基；且R2为甲基或乙基。
4.如权利要求1之涂料组合物，其中该硅氧烷单体系选自以下化合物所构成之群组：三甲基甲氧基硅烷、三甲基乙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基三丙氧基硅烷、四乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷、γ-缩水甘油醚氧丙基三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油醚氧丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-缩水甘油醚氧丙基甲基二乙氧基硅烷、β-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷、N-(β-胺乙基)-γ-胺丙基甲基二甲氧基硅烷、N-(β-胺乙基)-γ-胺丙基三甲氧基硅烷、γ-胺丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-胺丙基三乙氧基硅烷、g-胺丙基三甲氧基硅烷及γ-巯丙基三甲氧基硅烷。
5.如权利要求1之涂料组合物，其中该硅氧烷寡聚物具有式(I)之结构︰
(R5 3SiO1/2)x(R6 2SiO2/2)y(R7SiO3/2)z 式(I)
其中R5、R6、R7各自独立为C1-3烷基、苯基、-OH基或C1-3烷氧基，各R5可相同或不同，各R6可相同或不同，各R7可相同或不同，x＞0，y＞0，及z≧0。
6.如权利要求5之涂料组合物，其中该硅氧烷寡聚物为具式(II)或式(III)结构之化合物：
其中各R3可相同或不同，各自独立为甲基或苯基；各R4可相同或不同，各自独立为H、甲基或乙基；及m为2至20之整数。
7.如权利要求1之涂料组合物，其中该第一SiO2粒子具有在16nm至50nm范围之粒径。
8.如权利要求1之涂料组合物，该TiO2粒子具有5nm至60nm范围之粒径。
9.如权利要求8之涂料组合物，其中该第一及第二SiO2粒子总重量：该TiO2粒子重量为10:1至1.5:1。
10.如权利要求1至9中任一权利要求之涂料组合物，其中该聚硅氧烷树脂进一步包含衍生自含氟之硅氧烷单体之单元。
11.如权利要求10之涂料组合物，其中该含氟之硅氧烷单体的通式为CF3(CF2)a(CH2)bSi(X)c(Y)3-c或CH3(CF2)a(CH2)bSi(X)c(Y)3-c，其中a为0至14，b为1至5，c为0至2，X为卤素，Y为C1-3烷氧基。
12.如权利要求11之涂料组合物，其中该含氟之硅氧烷单体为三氟甲基甲基三乙氧基硅烷、十二氟庚基丙基三甲氧基硅烷、十三氟辛基三乙氧基硅烷、1-甲基十三氟辛基丙基三甲氧基硅烷、十二氟庚基丙基甲基二甲氧基硅烷、十七氟癸基三甲氧基硅烷、十七氟癸基三异丙氧基硅烷或其组合。
13.一种增光穿透涂层，其系由权利要求1至12中任一权利要求之涂料组合物所形成。
14.如权利要求13之涂层，其厚度系在50nm至500nm范围内。
15.如权利要求14之涂层，其厚度系在120nm至180nm范围内。
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Cited By (1)
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Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| TWI734914B (zh) * | 2018-05-08 | 2021-08-01 | 致達應材股份有限公司 | 同時具有自潔性與抗反射性的塗料及玻璃與其製作方法 |
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| JP2021179452A (ja) * | 2018-07-31 | 2021-11-18 | 日本電産株式会社 | 光学部材、コーティング剤、親水膜形成方法および親水性回復方法 |
| US11256001B2 (en) * | 2018-10-23 | 2022-02-22 | Dupont Electronics, Inc. | Low haze polymer films and electronic devices |
| KR102209403B1 (ko) * | 2018-12-11 | 2021-02-01 | 주식회사 포스코 | 다공성 폴리실록산 필름 제조방법, 이에 의해 제조된 다공성 폴리실록산 필름 및 이를 포함하는 태양광 모듈 |
| KR102594548B1 (ko) * | 2019-01-02 | 2023-10-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | 윈도우, 윈도우의 제조 방법 및 윈도우를 포함하는 표시 장치 |
| CN111019522A (zh) * | 2019-12-20 | 2020-04-17 | 苏州浩纳新材料科技有限公司 | 具有自清洁和增透双功能的太阳能组件涂层及制备方法 |
| FR3108613B1 (fr) * | 2020-03-26 | 2022-04-01 | Arkema France | Composition comprenant des particules dispersantes |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1556774A (zh) * | 2001-09-21 | 2004-12-22 | Ĭ��ר���ɷ�����˾ | 用于形成耐磨的SiO2抗反射层的新型混杂型溶胶 |
| CN101538445A (zh) * | 2009-04-10 | 2009-09-23 | 吕文生 | 一种功能聚合物纳米涂料及其制备方法 |
| CN101578343A (zh) * | 2007-02-22 | 2009-11-11 | 株式会社德山 | 涂层组合物及光致变色光学品 |
| CN102272218A (zh) * | 2009-01-08 | 2011-12-07 | 纳克公司 | 聚硅氧烷聚合物与无机纳米颗粒的复合物 |
Family Cites Families (44)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH028273A (ja) | 1988-06-27 | 1990-01-11 | Matsushita Electric Works Ltd | ケイ素アルコキシド系コーティング材 |
| JPH10158401A (ja) * | 1996-12-03 | 1998-06-16 | Toshiba Silicone Co Ltd | フルオロアルキル基含有シロキサンの製造方法 |
| JP2000281971A (ja) * | 1999-03-29 | 2000-10-10 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シリコーン樹脂含有エマルジョン塗料組成物及びこの組成物の硬化被膜が形成された物品 |
| US6427451B2 (en) | 1999-06-08 | 2002-08-06 | W. L. Gore & Associates (Uk) Ltd. | Material for the controlled vaporization of a liquid cryogen |
| JP3541152B2 (ja) * | 1999-11-10 | 2004-07-07 | 松下電器産業株式会社 | ハードコート剤および光ディスク |
| JP3953922B2 (ja) | 2001-10-18 | 2007-08-08 | 日東電工株式会社 | 反射防止フィルム、光学素子および表示装置 |
| TWI274662B (en) | 2002-03-29 | 2007-03-01 | Toray Industries | Laminated film, filter for display and display |
| JP4041968B2 (ja) * | 2002-10-09 | 2008-02-06 | 信越化学工業株式会社 | 下塗り剤組成物、該組成物を用いたコーティング方法、及びコーティング物品 |
| US6979704B1 (en) * | 2002-10-29 | 2005-12-27 | Jds Uniphase Corporation | Optical polymer blend with bimodal particle sizes |
| JP2005171068A (ja) | 2003-12-10 | 2005-06-30 | Daikin Ind Ltd | 非付着性表面構造 |
| EP1717278A1 (en) * | 2005-04-26 | 2006-11-02 | Nuplex Resins B.V. | Coated particles and coating compositions comprising coated particles |
| US7596194B2 (en) | 2005-09-28 | 2009-09-29 | Pine Valley Investments, Inc. | System and method for automatic roaming in land mobile radio systems |
| JP2007156391A (ja) | 2005-11-14 | 2007-06-21 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 反射防止膜付き透明基材 |
| JP2007182511A (ja) * | 2006-01-10 | 2007-07-19 | Toray Ind Inc | コーティング材料、その製造方法および光学物品 |
| US7848021B2 (en) * | 2006-02-17 | 2010-12-07 | Fujifilm Corporation | Optical film, antireflection film, polarizing plate and image display device |
| KR100981575B1 (ko) * | 2006-07-10 | 2010-09-10 | 주식회사 엘지화학 | 오염 제거가 용이한 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물 |
| WO2008032722A1 (fr) * | 2006-09-14 | 2008-03-20 | Toray Industries, Inc. | Matière de revêtement, article optique utilisant celle-ci et procédé de fabrication d'un article optique |
| JP5157162B2 (ja) * | 2006-12-27 | 2013-03-06 | 日本ゼオン株式会社 | 反射防止積層体及びその製造方法 |
| US7919425B2 (en) * | 2008-03-26 | 2011-04-05 | Toto Ltd. | Photocatalyst-coated body and photocatalytic coating liquid for the same |
| JP5392460B2 (ja) * | 2007-09-12 | 2014-01-22 | 株式会社リコー | 外添剤の製造方法 |
| CN101434614A (zh) | 2007-11-15 | 2009-05-20 | 达信科技股份有限公司 | 用于制造抗反射薄膜的化合物以及抗反射薄膜的制造方法 |
| JP2009203285A (ja) | 2008-02-26 | 2009-09-10 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 被膜形成用コーティング材組成物及び反射防止基材 |
| CN101579672A (zh) | 2008-05-16 | 2009-11-18 | 3M创新有限公司 | 用于提高亲水性/透射率的二氧化硅涂层 |
| US9206335B2 (en) * | 2008-10-10 | 2015-12-08 | 3M Innovation Properties Company | Silica coating for enhanced hydrophilicity |
| US20100092765A1 (en) * | 2008-10-10 | 2010-04-15 | 3M Innovative Properties Company | Silica coating for enhanced hydrophilicity |
| EP2350198A1 (en) | 2008-11-19 | 2011-08-03 | Dow Corning Corporation | A silicone composition and a method for preparing the same |
| CN101407589A (zh) | 2008-11-27 | 2009-04-15 | 南京工业大学 | 一种低热膨胀系数热塑性聚酰亚胺薄膜的制备方法 |
| CN102326099B (zh) | 2008-12-30 | 2014-09-17 | 3M创新有限公司 | 减反射制品及其制备方法 |
| ES2547416T3 (es) * | 2009-03-11 | 2015-10-06 | Asahi Kasei E-Materials Corporation | Composición de recubrimiento, película de recubrimiento, laminado y procedimiento para la producción del laminado |
| JP5545298B2 (ja) | 2009-10-21 | 2014-07-09 | 信越化学工業株式会社 | 太陽電池モジュール表面保護用透明積層フィルム及び太陽電池モジュール |
| US20120276369A1 (en) * | 2009-11-18 | 2012-11-01 | 3M Innovative Properties Company | Protective coatings and methods of making and using the same |
| JP5666803B2 (ja) | 2009-11-27 | 2015-02-12 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | エネルギー変換装置用部材、リフレクター装置及び太陽熱発電システム |
| JP5452249B2 (ja) | 2010-01-26 | 2014-03-26 | パナソニック株式会社 | 塗料組成物と塗装品並びに塗装方法 |
| EP2563865B1 (en) * | 2010-04-28 | 2016-06-01 | 3M Innovative Properties Company | Articles including nanosilica-based primers for polymer coatings and methods |
| WO2012045204A1 (en) | 2010-10-06 | 2012-04-12 | 3M Innovative Properties Company | Coating composition and method of making and using the same |
| CN102146838B (zh) | 2011-02-25 | 2013-07-10 | 绍兴文理学院 | 偏心转子柴油发动机 |
| JP2012246440A (ja) | 2011-05-30 | 2012-12-13 | Nippon Paint Co Ltd | 無機コーティング組成物 |
| CN102827500B (zh) * | 2012-07-16 | 2015-09-16 | 长兴（中国）投资有限公司 | 一种抗刮且耐磨的组合物及其制备方法和应用 |
| JP2014091780A (ja) | 2012-11-02 | 2014-05-19 | Toppan Printing Co Ltd | 低屈折率層形成用樹脂組成物、低屈折率層及び反射防止フィルム |
| JP6000839B2 (ja) | 2012-12-21 | 2016-10-05 | メルクパフォーマンスマテリアルズマニュファクチャリング合同会社 | ケイ素酸化物ナノ粒子とシルセスキオキサンポリマーとの複合体およびその製造方法、ならびにその複合体を用いて製造した複合材料 |
| JP6125275B2 (ja) | 2013-02-28 | 2017-05-10 | 株式会社ソフト９９コーポレーション | コーティング剤およびその塗布方法 |
| JP2014213596A (ja) | 2013-04-30 | 2014-11-17 | 新日鉄住金化学株式会社 | 樹脂積層体 |
| US10040953B2 (en) * | 2013-05-30 | 2018-08-07 | 3M Innovative Properties Company | Poly(vinyl alcohol) and silica nanoparticle multilayer coatings and methods |
| TWI510574B (zh) * | 2013-11-18 | 2015-12-01 | Eternal Materials Co Ltd | 有機無機複合樹脂、含彼之塗料組合物及其應用 |
-
2015
- 2015-05-19 TW TW104115996A patent/TWI546559B/zh active
-
2016
- 2016-05-18 US US15/158,038 patent/US11046867B2/en active Active
- 2016-05-19 JP JP2016100677A patent/JP2016216717A/ja active Pending
- 2016-05-19 DE DE102016208586.7A patent/DE102016208586A1/de not_active Ceased
- 2016-05-19 CN CN201610333078.4A patent/CN106433450B/zh active Active
-
2018
- 2018-10-29 JP JP2018203307A patent/JP6813553B2/ja active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1556774A (zh) * | 2001-09-21 | 2004-12-22 | Ĭ��ר���ɷ�����˾ | 用于形成耐磨的SiO2抗反射层的新型混杂型溶胶 |
| CN101578343A (zh) * | 2007-02-22 | 2009-11-11 | 株式会社德山 | 涂层组合物及光致变色光学品 |
| CN102272218A (zh) * | 2009-01-08 | 2011-12-07 | 纳克公司 | 聚硅氧烷聚合物与无机纳米颗粒的复合物 |
| CN101538445A (zh) * | 2009-04-10 | 2009-09-23 | 吕文生 | 一种功能聚合物纳米涂料及其制备方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112300393B (zh) * | 2019-07-30 | 2022-09-20 | 长兴材料工业股份有限公司 | 聚硅氧烷树脂、含其的涂料组合物及其应用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE102016208586A1 (de) | 2016-11-24 |
| CN106433450A (zh) | 2017-02-22 |
| TW201641958A (zh) | 2016-12-01 |
| US20160340551A1 (en) | 2016-11-24 |
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| US11046867B2 (en) | 2021-06-29 |
| JP6813553B2 (ja) | 2021-01-13 |
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