CN105593022B - 记录装置及传送带的清洁方法 - Google Patents

Abstract

为了改善传送记录介质的传送带的清洁性。一种记录装置包括：传送带(2)，其支持并传送记录介质(P)；记录头(6)，通过该记录头，墨被释放到记录介质(P)上；以及用于传送带(2)的清洁部(10)。该记录装置具有：第一清洁模式，在该清洁模式中，清洁部(10)在传送带(2)传送记录介质(P)期间清洁传送带(2)；以及第二清洁模式，在该清洁模式中，清洁部(10)在除传送带(2)传送记录介质(P)之外的时段期间清洁传送带(2)。

Description

记录装置及传送带的清洁方法

技术领域

本发明涉及记录装置，以及传送记录介质的传送带的清洁方法。

背景技术

迄今已经使用包括传送带的记录装置，该传送带传送记录介质。在这些记录装置当中，已经公开了能够清洁传送带的记录装置。

例如，在PTL 1中已经公开了能够使用擦拭器和液体吸收材料这二者清洁传送带的记录装置。

引用列表

专利文献

PTL 1：公开号为3-227648的日本未审查专利申请

发明内容

技术问题

但是在许多情况下，无法在相关领域的记录装置中充分执行传送带的清洁，该记录装置包括用于传送记录介质的传送带。

因此，根据发明人的深入研究结果，发现可通过设置以下两种清洁模式来抑制传送带清洁不充分的问题：一种清洁模式是在记录操作期间清洁传送带，另一清洁模式是在除记录操作之外的时段期间清洁传送带。

在PTL 1的描述中，未提及兼具用于在记录操作期间清洁传送带的模式以及用于在除记录操作之外的时段期间清洁传送带的模式的记录装置。

本发明的目的是改善传送记录介质的传送带的清洁性。

问题的解决方案

根据用于解决上述问题的本发明的第一方面，提供一种记录装置，该记录装置包括：传送带，其传送记录介质；记录头，通过该记录头，墨被释放到所述记录介质上；以及用于所述传送带的清洁部，其中所述记录装置具有：第一清洁模式，在该清洁模式中，所述清洁部在所述传送带传送所述记录介质期间清洁所述传送带；以及第二清洁模式，在该清洁模式中，所述清洁部在除所述传送带传送所述记录介质之外的时段期间清洁所述传送带。

根据此方面，所述记录装置兼具：第一清洁模式，在该清洁模式中，所述清洁部在所述传送带传送所述记录介质期间清洁所述传送带；以及第二清洁模式，在该清洁模式中，所述清洁部在除所述传送带传送所述记录介质之外的时段期间清洁所述传送带。换言之，在正常记录操作期间，使用所述第一清洁模式清洁所述传送带。此外，与所述第一清洁模式相比具有更高的相对于所述传送带而言的清洁性的清洁模式被设定为所述第二清洁模式，并且可被按需执行。因此可以改善相对于所述传送带而言的清洁性。

根据本发明的第二方面的记录装置，在所述第一方面，所述清洁部包括：接触部，在该接触部中，所述清洁部与所述传送带接触；以及去除部，其去除被施加到所述传送带上的清洁剂。此外，在所述第二清洁模式中，可以在所述传送带间歇地移动的状态下清洁所述传送带，然后完成所述传送带的清洁。

根据此方面，所述清洁部包括：接触部，在该接触部中，所述清洁部与所述传送带接触；以及去除部，其去除被施加到所述传送带上的清洁剂。换言之，由于使用所述清洁剂清洁所述传送带，因此可以改善相对于所述传送带而言的清洁性。

同时，当使用所述清洁剂清洁所述传送带时，所述清洁剂会残留在所述传送带上。这样，在某些情况下，所述记录介质会沾上所述清洁剂。但是根据此方面，在所述第二清洁模式中，在所述传送带间歇地移动的状态下清洁所述传送带，然后完成所述传送带的清洁。如上所述，由于清洁在所述传送带间歇地移动的状态下完成，因此与在所述传送带连续地移动的状态下完成清洁的情况相比，所述清洁剂难以残留在所述传送带上。这样可以抑制所述记录介质沾上所述清洁剂。

此外，不仅在所述传送带间歇地移动的状态下清洁所述传送带，而且还在所述传送带间歇地移动的状态下清洁所述传送带之前，在所述传送带连续地移动的状态下清洁所述传送带。因此缩短了相对于所述传送带而言的清洁时间。

根据本发明的第三方面的记录装置，在所述第二方面，可以设置多种记录模式，在这些记录模式中，所述记录头在所述传送带间歇地移动的状态下执行记录。而且，所述第二清洁模式中的所述传送带的间歇移动操作可以是所述多种记录模式中的任一记录模式中的所述传送带的间歇移动操作。

根据此方面，所述第二清洁模式中的所述传送带的间歇移动操作是所述多种记录模式中的任一记录模式中的所述传送带的间歇移动操作。因此，可以省略在所述多种记录模式之外还设置所述传送带的间歇移动操作。

根据本发明的第四方面的记录装置，在所述第三方面，所述第二清洁模式中的所述传送带的所述间歇移动操作是所述多种记录模式中的这样一种记录模式中的所述传送带的间歇移动操作：在该记录模式中，所述传送带的每单位时间的移动量为最大值。

根据此方面，所述第二清洁模式中的所述传送带的所述间歇移动操作是所述多种记录模式中的这样一种记录模式中的所述传送带的间歇移动操作：在该记录模式中，所述传送带的每单位时间的移动量为最大值。因此可以抑制相对于所述传送带而言的清洁时间的增加。

根据本发明的第五方面的记录装置，在所述第二方面到所述第四方面中的任一方面，所述传送带是绕在多个旋转体上的环形带。此外，在所述第二清洁模式中，可以在所述传送带间歇地移动一圈或多圈的状态下清洁所述传送带，然后完成所述传送带的清洁。

在这种情况下，“在所述第二清洁模式中，在所述传送带间歇地移动一圈或多圈的状态下清洁所述传送带，然后完成所述传送带的清洁”的含义同时包括以下两种情况：第一种情况是：在所述传送带间歇地移动一圈或多圈的状态下清洁所述传送带之前，在所述传送带连续地移动的状态下清洁所述传送带；第二种情况是：在所述传送带不连续地移动，而是间歇地移动一圈或多圈的状态下清洁所述传送带。

根据此方面，在所述第二清洁模式中，在所述传送带间歇地移动一圈或多圈的状态下清洁所述传送带，然后完成所述传送带的清洁。这样可以抑制整个所述传送带上的所述清洁剂的残留。因此可以有效地抑制所述记录介质沾上所述清洁剂。

根据本发明的第六方面的记录装置，在所述第二方面到所述第五方面中的任一方面，所述记录装置进一步包括布辊，其支持去除被施加到所述传送带上的所述清洁剂。此外，在所述第二清洁模式中，在所述传送带间歇地移动的状态下清洁所述传送带之前，在所述传送带连续地移动的状态下清洁所述传送带的情况下，至少当在所述传送带连续地移动的状态下清洁所述传送带时，所述布辊可以与所述传送带分离。

在这种情况下，“布辊”表示这样的棍：在该辊中，在所述传送带与所述辊之间的接触部分中使用布。

在所述传送带连续地移动的状态下清洁所述传送带的情况下，当所述布辊与所述传送带接触时，在某些情况下，所述布辊的相对于所述清洁剂而言的去除效应可能劣化，这是因为所述布辊被所述清洁剂弄得太湿。但是根据此方面，在所述第二清洁模式中，在所述传送带间歇地移动的状态下清洁所述传送带之前，在所述传送带连续地移动的状态下清洁所述传送带的情况下，至少当在所述传送带连续地移动的状态下清洁所述传送带时，所述布辊与所述传送带分离。因此，可以抑制由于所述布辊被所述清洁剂弄得太湿而导致的相对于所述清洁剂而言的去除效应劣化。

根据本发明的第七方面的记录装置，在所述第二方面到所述第六方面中的任一方面，在所述第二清洁模式中，在完成所述传送带的清洁之后，所述传送带移动预定距离。

当在所述第二清洁模式中完成所述传送带的清洁时，在某些情况下，所述清洁剂残留在所述传送带的一部分上，该部分对应于在完成清洁的状态下位于所述接触部与所述去除部之间的部分。但是根据此方面，在所述第二清洁模式中，在完成所述传送带的清洁之后，所述传送带移动预定距离。因此，即使所述清洁剂残留在所述传送带上，所述传送带的上面残留有所述清洁剂的一部分也可被移到其中用户可容易执行擦拭工作的位置。

根据本发明的第八方面的记录装置，在所述第七方面，在所述第二清洁模式中，在完成所述传送带的清洁之后所述去除部与所述传送带接触的状态下，所述传送带移动等于或大于所述接触部与所述去除部之间的距离的距离。

根据此方面，在所述第二清洁模式中，在完成所述传送带的清洁之后所述去除部与所述传送带接触的状态下，所述传送带移动等于或大于所述接触部与所述去除部之间的距离的距离。因此，在完成所述传送的清洁的情况下，即使当所述清洁剂残留在所述传送带的该部分(该部分对应于位于所述接触部与所述去除部之间的部分)上时，所述接触部与所述去除部之间的整个部分也可通过所述去除部。因此可以使用所述去除部去除所述清洁剂。

在本发明的第九方面，提供一种用于记录装置中的传送带的清洁方法，所述记录装置包括：传送带，其传送记录介质；记录头，通过该记录头，墨被释放到所述记录介质上；以及用于所述传送带的清洁部，所述清洁方法包括：第一清洁步骤，在所述传送带传送所述记录介质期间使用所述清洁部清洁所述传送带；以及第二清洁步骤，在除所述传送带传送所述记录介质之外的时段期间使用所述清洁部清洁所述传送带。

根据此方面，所述清洁方法兼具：第一清洁步骤，所述清洁部在所述传送带传送所述记录介质期间清洁所述传送带；以及第二清洁步骤，所述清洁部在除所述传送带传送所述记录介质之外的时段期间清洁所述传送带。换言之，在正常记录操作期间在所述第一清洁步骤清洁所述传送带。此外，与所述第一清洁步骤相比具有更高的相对于所述传送带而言的清洁性的清洁步骤被设定为所述第二清洁步骤，并且可被按需执行。因此可以改善相对于所述传送带而言的清洁性。

附图说明

图1是示出根据本发明的实例的记录装置的示意性侧视图。

图2是示出根据本发明的该实例的记录装置的主要部分的控制配置的框图。

图3是示出GUI的显示屏的视图，通过该GUI，实施执行根据本发明的该实例的传送带的清洁序列时的设定。

图4A是示出根据本发明的该实例的传送带的清洁序列的图形。

图4B是示出根据本发明的该实例的传送带的清洁序列的图形。

具体实施方式

下面将参考附图描述根据本发明的实施例的记录装置的细节。

图1是示出根据本发明的实例的记录装置1的示意性侧视图。

该实例的记录装置1包括传送带2，该传送带2绕在驱动辊3和从动辊4上，支持记录介质P，并且沿着传送方向A传送记录介质P。驱动辊3和从动辊4沿着旋转方向C旋转。该实例的记录装置1包括两个辊作为多个旋转体，它们是驱动辊3和从动辊4。但是，该实例的记录装置1可以包括三个或更多个辊。而且，在三个或更多个辊当中，多个辊可以是驱动辊。

该实例的传送带2根据驱动辊3沿旋转方向C的旋转而在方向D上移动，因此，传送带2沿着传送方向A传送记录介质P。

该实例的传送带2是粘性带，在该粘性带中，粘合剂被施加到支持记录介质P的表面上。粘合剂以粘合的方式可分离地保持记录介质P。但是，传送带2不限于此类粘性带，也可以是以静电吸引的方式保持记录介质P的传送带。

此外，在传送带2传送记录介质P的路径中设置记录头6。记录装置1通过以下方式形成所需图像：即，记录装置1使记录头6通过托架5在垂直于传送方向A的方向B上往复移动，并且记录装置1使记录头6将墨从墨释放表面F释放到记录介质上。

该实例的记录装置1包括记录头6，在记录头6往复移动的状态下，记录头6执行记录。但是，该实例的记录装置1可以是包括所谓的线式头的记录装置，在该线式头中，在垂直于传送方向A的方向上设置多个喷嘴，通过这些喷嘴释放墨。

在此，“线式头”表示这样的记录头：在该记录头中，在与记录介质P的传送方向A垂直的方向B上形成的喷嘴区域可以覆盖记录介质P在方向B上的全部，并且该记录头被用于其中以这样的方式形成图像的记录装置：即，记录头和记录介质P中的一者固定，而另一者移动。线式头在方向B上的喷嘴区域可以不覆盖在记录装置中使用的所有类型的记录介质P在方向B上的全部。

在该实例的记录装置1中，记录介质P在预定的范围内与传送带2分离，然后记录介质P经由固定于预定位置的从动辊7而由卷绕部8卷绕。当卷绕部8卷绕记录介质P时，卷绕部8使记录介质P沿着旋转方向C旋转。

在记录介质P的传送路径中，在记录介质P与传送带2分离的位置和设置从动辊7的位置之间设置传感器9，该传感器检测记录介质P与传送带2的分离位置。

在这种情况下，传感器9是光学传感器，该传感器通过这样的方式检测记录介质P与传送带2的分离：即，从与记录介质P的表面垂直的方向发射光束，并且接收从记录介质P的表面反射的光束。

因此，该实例的检测精度高于相关技术的方法中的精度，在相关技术的方法中，通过以下方式检测记录介质P与传送带2的分离：即，使用光学传感器，从沿着记录介质P的表面的方向发射光束，并且检测记录介质P对反射光束的遮挡，该光学传感器具有这样的配置，在该配置中，在面向发射部的一侧设置反射部，并且接收从反射部反射的光束。其原因如下：在相关技术的这种方法中，光学传感器的检测时间与记录介质P遮挡反射光束的时间偏离，这是因为与记录介质P的表面垂直的方向上的长度(厚度)短。因此，出现检测误差。

该实例的记录装置1包括清洁单元10作为用于清洁传送带2的清洁部。清洁单元10包括清洁刷11以及擦拭器13a和13b。清洁刷11是与清洁剂槽12中的清洁剂14和传送带2这二者接触的部分。擦拭器13a和13b是去除清洁剂14的部分，清洁剂14根据清洁刷11与传送带2的接触而被施加到传送带2上。

该实例的清洁剂14是水。但是，不限于水，该实例的清洁剂14可以是包含去垢剂成分(诸如表面活性剂)的清洁剂。粘附到传送带上的清洁剂还包括处于这样状态的液体：其中，由清洁刷11将通过记录头6释放并且被施加到传送带2上的墨与清洁剂14混合。

在这种情况下，清洁刷11可以通过清洁单元驱动部17在方向E上移动(请参见图2)。因此，该实例的记录装置1可以使清洁刷11从清洁刷11与传送带2接触的位置移到清洁刷11不与传送带2接触的位置。

而且，该实例的记录装置1不仅可以在清洁刷11沿着旋转方向C旋转的状态下使清洁刷11和传送带2彼此接触/不接触，而且还可以在清洁刷11的旋转驱动停止的状态下使清洁刷11和传送带2彼此接触/不接触。

当在清洁刷11沿着旋转方向C旋转的状态下清洁刷11与传送带2接触时，清洁剂14易于通过清洁刷11从清洁剂槽12移到传送带2。相反，当在清洁刷11的旋转驱动停止的状态下清洁刷11与传送带2接触时，清洁剂14难以从清洁剂槽12移到传送带2。

该实例的记录装置1包括毛巾辊(towel roller)15作为用于支持去除被施加到传送带2上的清洁剂14的布辊。毛巾辊15位于面向从动辊4的位置，传送带2介于毛巾辊15与从动辊4之间。

在这种情况下，“布辊”表示其中在传送带2与该辊之间的接触部分使用布的辊。

毛巾辊15可以沿着与旋转方向C相反的方向被旋转地驱动。此外，毛巾辊15可以通过毛巾辊驱动部22在方向G上移动(请参见图2)。因此，该实例的记录装置1可以使毛巾辊15从毛巾辊15与传送带2接触的位置移到毛巾辊15不与传送带2接触的位置。

该实例的毛巾辊15具有这样的配置：在该配置中，毛巾辊15可以根据传送带2在方向D上的移动，沿着与旋转方向C相反的方向被旋转地驱动。但是，不限于该配置，例如，该实例的毛巾辊15可以具有其中毛巾辊15沿着旋转方向C被旋转地驱动的配置。

接下来将描述该实例的记录装置1的主要部分的控制配置。

图2是示出根据该实例的记录装置1的主要部分的控制配置的框图。

该实例的记录装置1包括控制器16，该控制器包括CPU、ROM和RAM。CPU管理整个记录装置1的控制。各种清洁模式、各种记录模式等的序列数据、各个控制程序等被存储在ROM中。数据可以被临时存储在RAM中。

控制器16被连接到PC 20，该PC包括图形用户界面(GUI)21，通过该GUI可输入用户指令。控制器16被连接到清洁单元驱动部17、清洁刷驱动部18、驱动辊驱动部19、以及毛巾辊驱动部22。清洁单元驱动部17使清洁刷11在方向E上移动。清洁刷驱动部18使清洁刷11沿着旋转方向E被旋转地驱动。驱动辊驱动部19使驱动辊3沿着旋转方向C被旋转地驱动。毛巾辊驱动部22使毛巾辊15在方向G上移动。

换言之，控制器16根据通过PC 20输入的用户指令，经由清洁单元驱动部17、清洁刷驱动部18、驱动辊驱动部19以及毛巾辊驱动部22控制清洁刷11、驱动辊3和毛巾辊15。

接下来将描述由该实例的记录装置1执行的传送带2的清洁序列。

该实例的记录装置1具有第一清洁模式和第二清洁模式。在第一清洁模式中，在记录头6执行的记录操作期间(换言之，在传送带执行记录介质P的传送期间)通过清洁单元10清洁传送带2。在第二清洁模式中，在除记录头6执行的记录操作之外的状态下(换言之，在传送带不执行记录介质P的传送的状态下)通过清洁单元10清洁传送带2。

顺便提一下，在该实例的记录装置1中，第一清洁模式是在记录操作中自动执行的清洁模式，第二清洁模式是通过用户的执行指令执行的所谓维护模式的清洁模式。但是，该实例的记录装置1具有这样的配置：在该配置中，记录装置1可以阻止在记录操作中执行第一清洁模式。

第一清洁模式和第二清洁模式都是这样的清洁模式，在该模式中，通过以下方式清洁传送带2：即，传送带2在D方向上移动，并且在清洁刷11与传送带2接触的状态下，清洁刷11沿着旋转方向C被旋转地驱动。

如上所述，该实例的记录装置1包括：传送带2，其用于传送记录介质P；记录头6，通过该记录头，墨被释放到记录介质P上；以及用于传送带2的清洁单元10。此外，该实例的记录装置1包括第一清洁模式和第二清洁模式这两者，在第一清洁模式中，在记录头6执行的记录操作期间(即，在传送带2执行记录介质P的传送期间)通过清洁单元10清洁传送带2；在第二清洁模式中，在除记录头6执行的记录操作之外的状态下(即，在传送带2不执行记录介质P的传送的状态下)通过清洁单元10清洁传送带。

由于该实例的记录装置1具有上述配置，因此记录装置1可以在正常记录操作期间使用第一清洁模式清洁传送带2。此外，在记录装置1中，与第一清洁模式相比，具有更高的相对于传送带2而言的清洁性的清洁模式被设定为第二清洁模式，并且可被按需执行。因此，可以改善相对于传送带2而言的清洁性。

当从用于该实例的记录装置1的传送带2的清洁方法的角度，使用另一表达进行描述时，该实例的清洁方法是用于记录装置1中的传送带2的清洁方法，该记录装置1包括：传送带2，其用于支持和传送记录介质P；记录头6，通过该记录头，墨被释放到记录介质P上；以及用于传送带2的清洁单元10。此外，该实例的清洁方法包括第一清洁步骤和第二清洁步骤这两者。在第一清洁步骤中，在记录头6执行的记录操作期间通过清洁单元10清洁传送带2。在第二清洁步骤中，在除记录头6执行的记录操作之外的时段期间通过清洁单元10清洁传送带2。

换言之，在该实例的清洁方法中，在正常记录操作期间，在第一清洁步骤中清洁传送带2。此外，与第一清洁步骤相比，具有更高的相对于传送带2而言的清洁性的清洁步骤被设定为第二清洁步骤，并且可被按需执行。因此，可以改善相对于传送带2而言的清洁性。

该实例的记录装置1可以设定第二清洁模式中的传送带2的转圈数。

图3是示出GUI 21的显示屏的视图，在该实例的记录装置1中，通过该GUI实现执行用于传送带2的清洁序列时的设定。

用户可以使用在PC 20的GUI 21上显示的窗口23的下拉选项卡24来设定第二清洁模式中的传送带2的转圈数n。在用户使用下拉选项卡24设定第二清洁模式中的传送带2的转圈数n之后，用户可以通过按下开始选项卡25来使第二清洁模式在记录装置1中被执行。在这种情况下，n为自然数。

在这种情况下，该实例的记录装置1的第二清洁模式是这样的清洁模式：在该模式中，在传送带2的最后一圈期间，在传送带2间歇地移动的状态下清洁传送带2，然后完成传送带2的清洁。

下面使用图4A和4B更详细地描述第二清洁模式。

图4A是示出由该实例的记录装置1在第二清洁模式中执行的传送带2的清洁序列的图形。

图4A和4B中的水平轴指示经过的时间。图4A和4B示出每次传送带的移动/停止，清洁单元10的清洁刷11相对于传送带的位置，以及清洁刷11的驱动/停止。

当在用户使用下拉选项卡24设定第二清洁模式中的传送带2的转圈数n之后用户按下开始选项卡25，从而开始第二清洁模式的执行时，处于停止状态的清洁刷11开始被驱动，并且清洁刷11从清洁刷11不与传送带2接触的位置移到清洁刷11与传送带2接触的位置，如图4A所示。当使用另一表达进行描述时，清洁单元10被从非接触位置移到接触位置。

当清洁单元10被从非接触位置移到接触位置时，在清洁刷11与传送带2接触并且清洁刷11沿着旋转方向C被驱动的状态下，传送带2连续地移动(即，执行连续移动)n-1圈。

尽管在图4A中简单地示出，但是传送带2连续地移动n-1圈，然后，传送带2在最后一圈中间歇地移动(执行间歇移动)几次以便重复执行驱动/停止。在该实例的记录装置1中，传送带2在间歇移动中的最大移动速度为200mm/s，传送带2在一次间歇移动中的移动距离为12.7mm，并且传送带2在间歇移动中的停止时段为200ms。

传送带2间歇地移动最后一圈，然后，清洁单元10从接触位置移到非接触位置，并且清洁刷11的旋转驱动停止。结果，第二清洁模式完成。

当用户设定一圈作为传送带2的转圈数n时，传送带2在这一圈中未连续地移动，而是间歇地移动。

同时，图4B是示出不同于该实例的实例情况下的传送带2的清洁序列的图形，其中，以传送带2连续地移动全部n圈的方式清洁传送带2。

在这种情况下，当在传送带2间歇地移动的状态下清洁传送带2时，与在传送带2连续地移动的状态下清洁传送带2的情况相比，清洁剂14难以残留在传送带2上。

因此，当与其中执行图4B所示的清洁序列的记录装置比较时，该实例的其中执行图4A所示的清洁序列的记录装置1抑制了记录介质P沾上清洁剂14。

如上所述，在该实例的记录装置1中，清洁单元10包括清洁刷11以及擦拭器13a和13b。清洁刷11在清洁剂14被施加到清洁刷11上的状态下与传送带接触。擦拭器13a和13b去除被施加到传送带2上的清洁剂14。在第二清洁模式中，在传送带2间歇地移动的状态下清洁传送带2，然后完成传送带2的清洁。

在该实例的记录装置1中，以通过施加清洁剂14清洁传送带2的方式改善了相对于传送带2而言的清洁性。

同时，当通过将清洁剂14施加到传送带2上来清洁传送带2时，清洁剂14残留在传送带2上。因此，在某些情况下，记录介质P沾上清洁剂14。但是，在该实例的记录装置1的第二清洁模式中，在传送带2间歇地移动的状态下清洁传送带2，然后完成传送带2的清洁。如上所述，由于在传送带2间歇地移动的状态下完成清洁，因此，与在传送带2连续地移动的状态下完成清洁的情况相比，清洁剂14难以残留在传送带上。这样可以抑制记录介质P沾上清洁剂14。

在第二清洁模式中，不仅在传送带2间歇地移动的状态下清洁传送带2，而且在传送带2间歇地移动的状态下清洁传送带2之前，在传送带2连续地移动的状态下清洁传送带2。因此，与其中仅在传送带2间歇地移动的状态下执行清洁的清洁模式相比，缩短了相对于传送带2而言的清洁时间。

在这种情况下，该实例的记录装置1具有多种记录模式，在这些记录模式中，在传送带2间歇地移动的状态下记录头6执行记录。根据要记录的图像的质量和记录速度，使用这些记录模式中的任一种记录模式执行记录介质上的记录。

在该实例的记录装置1中，第二清洁模式中的传送带2的间歇移动操作是多种记录模式中的这样一种记录模式中的传送带2的间歇移动操作：在该记录模式中，传送带2的每单位时间的移动量为最大值。

因此，可以省略在多种记录模式之外还设置传送带2的间歇移动操作，并且抑制相对于传送带2而言的清洁时间的增加。

如上所述，在该实例的记录装置1中，在多种记录模式中的这样一种记录模式中执行第二清洁模式中的传送带2的间歇移动操作：在该记录模式中，传送带2的每单位时间的移动量为最大值。

但是，在第二清洁模式中的传送带2的间歇移动操作是多种记录模式中的任一种记录模式中的传送带2的间歇移动操作的情况下，具有这样的优点：即，即使传送带2的每单位时间的移动量不为最大值，也可以省略在多种记录模式之外还设置传送带2的间歇移动操作。

如上所述，在该实例的记录装置1中，传送带21是绕在多个旋转体(驱动辊3和从动辊4)上的环形带。

在第二清洁模式中，在传送带2间歇地移动一圈的状态下清洁传送带2，然后完成传送带2的清洁。

如上所述，第二清洁模式优选地为这样的模式：在该模式中，在传送带2间歇地移动一圈或多圈的状态下清洁传送带2，然后完成传送带2的清洁。

在这种情况下，“在第二清洁模式中，在传送带2间歇地移动一圈或多圈的状态下清洁传送带2，然后完成传送带2的清洁”的含义包括两种情况，第一种情况例如是这样的实例：其中，在传送带2间歇地移动一圈或多圈的状态下清洁传送带2之前，在传送带2连续地移动的状态下清洁传送带2；第二种情况是：其中，在传送带2未连续地移动，而是间歇地移动一圈或多圈的状态下清洁传送带2。

在第二清洁模式中，在传送带2间歇地移动一圈或多圈的状态下清洁传送带2，然后完成传送带2的清洁。这样可以抑制整个传送带2上的清洁剂14的残留。因此可以有效地抑制记录介质P沾上清洁剂14。

如上所述，该实例的记录装置1包括毛巾辊15，毛巾辊15支持去除被施加到传送带2上的清洁剂14。

在这种情况下，在该实例的记录装置1的第二清洁模式中，在这样的情况下，至少当在传送带2连续地移动的状态下清洁传送带2时，毛巾辊15与传送带2分离：其中，在传送带2间歇地移动的状态下清洁传送带2之前，在传送带2连续地移动的状态下清洁传送带2。

在传送带2连续地移动的状态下清洁传送带2的情况下，当毛巾辊15与传送带2接触时，在某些情况下，毛巾辊15的相对于清洁剂14而言的去除效果劣化，这是因为毛巾辊15被清洁剂14弄得太湿。但是，在该实例的记录装置1中抑制了由于毛巾辊15被清洁剂14弄得太湿而导致的相对于清洁剂14而言的去除效果劣化。

在第二清洁模式中，在完成传送带2的清洁之后，该实例的记录装置1根据控制器16的控制使传送带2移动预定距离。

在这种情况下，该实例中的预定距离是这样的距离：以该距离，传送带2的一部分到达其中传送带2的该部分向上指向的位置，该传送带2的该部分与在第二清洁模式中完成传送带2的清洁的状态下位于清洁刷11与作为前侧去除部的擦拭器13a之间的部分对应。

当在第二清洁模式中完成传送带2的清洁时，在某些情况下，清洁剂14残留在传送带2的该部分上，该部分与在完成清洁的状态下位于清洁刷11与擦拭器13a之间的部分对应。但是，在第二清洁模式中，在完成传送带2的清洁之后，该实例的记录装置1使传送带2移动预定距离。因此，即使当清洁剂14残留在传送带2的该部分(对应于位于清洁刷11与擦拭器13a之间的部分)上时，也会使传送带2移动到其中该传送带2的该部分向上指向的位置。因此，用户可以在其中用户可容易执行擦拭工作的位置上擦拭清洁剂14。

在该实例的记录装置1中，预定距离是这样的距离：以该距离，传送带2的该部分到达其中传送带2的该部分向上指向的位置，传送带2的该部分与在第二清洁模式中完成传送带2的清洁的状态下位于清洁刷11与擦拭器13a之间的部分对应。但是，当在擦拭器13a和13b与传送带2接触的状态下传送带2移动预定距离时，该预定距离可被设定为等于或大于清洁刷11与作为前侧去除部的擦拭器13a之间的距离L的距离，如图1所示。

因此，在第二清洁模式中完成传送带2的清洁的情况下，即使当清洁剂14残留在传送带2的该部分(对应于位于清洁刷11与擦拭器13a之间的部分)上时，清洁刷11与擦拭器13a之间的整个部分也会通过擦拭器13a。因此具有擦拭器13a可以去除清洁剂14的优点。

在该实例的记录装置1中，当传送带2移动预定距离时，在处于停止状态的清洁刷11与传送带2接触的状态下传送带2移动。当清洁刷11停止时，清洁剂14难以从清洁刷11移到传送带2，此外，清洁剂14可以从传送带2移到清洁刷11。因此具有增加从传送带2去除清洁剂14的效果的优点。

在上述实例的记录装置1中，以清洁刷11将清洁剂14施加到传送带2上的方式执行传送带2的清洁。但是不限于此，可以在例如借助喷嘴将清洁剂14喷到传送带2上的状态下，通过清洁刷11清洁传送带2。

附图标记列表

1记录装置

2传送带

3驱动辊

4从动辊

5托架

6记录头

7从动辊

8卷绕部

9传感器

10清洁单元(清洁部)

11清洁刷(接触部)

12清洁剂槽

13a、13b擦拭器

14清洁剂

15毛巾辊(布辊)

16控制器

17清洁单元驱动部

18清洁刷驱动部

19驱动辊驱动部

20PC

21GUI

22毛巾辊驱动部

23窗口

24下拉选项卡

25开始选项卡

L清洁刷11与作为前侧去除部的擦拭器13a之间的距离

P记录介质

Claims (8)

1.一种记录装置，包括：

传送带，其传送记录介质；

记录头，通过该记录头，墨被释放到所述记录介质上；以及

用于所述传送带的清洁部，

其中所述记录装置具有

第一清洁模式，在该第一清洁模式中，所述清洁部在由所述传送带传送所述记录介质期间清洁所述传送带，以及

第二清洁模式，在该第二清洁模式中，所述清洁部在除了由所述传送带传送所述记录介质之外的时段期间清洁所述传送带，

其中所述清洁部包括：接触部，在该接触部中，所述清洁部与所述传送带接触；以及去除部，其去除被施加到所述传送带上的清洁剂，并且

其中，在所述第二清洁模式中，在所述传送带间歇地移动的状态下清洁所述传送带，然后完成所述传送带的清洁。

2.根据权利要求1所述的记录装置，

其中多种记录模式被设置，在这些记录模式中，在所述传送带间歇地移动的状态下所述记录头执行记录，并且

其中所述第二清洁模式中的所述传送带的间歇移动操作是所述多种记录模式中的任一记录模式中的所述传送带的间歇移动操作。

3.根据权利要求2所述的记录装置，

其中所述第二清洁模式中的所述传送带的间歇移动操作是所述多种记录模式中的这样一种记录模式中的所述传送带的间歇移动操作：在该记录模式中，所述传送带的每单位时间的移动量为最大值。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的记录装置，

其中所述传送带是绕在多个旋转体上的环形带，并且

其中，在所述第二清洁模式中，在所述传送带间歇地移动一圈或多圈的状态下清洁所述传送带，然后完成所述传送带的清洁。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的记录装置，进一步包括：

布辊，其支持去除被施加到所述传送带上的所述清洁剂，

其中，在所述第二清洁模式中，在这样的情况下，至少当在所述传送带连续地移动的状态下清洁所述传送带时，所述布辊与所述传送带分离：其中，在所述传送带间歇地移动的状态下清洁所述传送带之前，在所述传送带连续地移动的状态下清洁所述传送带。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的记录装置，

其中，在所述第二清洁模式中，在完成所述传送带的清洁之后，所述传送带移动预定距离。

7.根据权利要求6所述的记录装置，

其中，在所述第二清洁模式中，在完成所述传送带的清洁之后所述去除部与所述传送带接触的状态下，所述传送带移动等于或大于所述接触部与所述去除部之间的距离的距离。

8.一种用于记录装置中的传送带的清洁方法，该记录装置包括：传送带，其传送记录介质；记录头，通过该记录头，墨被释放到所述记录介质上；以及用于所述传送带的清洁部，所述清洁方法包括：

第一清洁步骤，在由所述传送带传送所述记录介质期间使用所述清洁部清洁所述传送带；以及

第二清洁步骤，在除了由所述传送带传送所述记录介质之外的时段期间使用所述清洁部清洁所述传送带，

其中所述清洁部包括：接触部，在该接触部中，所述清洁部与所述传送带接触；以及去除部，其去除被施加到所述传送带上的清洁剂，并且

其中，在所述第二清洁步骤中，在所述传送带间歇地移动的状态下清洁所述传送带，然后完成所述传送带的清洁。