CN104335120A - 光敏树脂组合物、使用其形成的图案以及包含其的显示面板 - Google Patents

光敏树脂组合物、使用其形成的图案以及包含其的显示面板 Download PDF

Info

Publication number
CN104335120A
CN104335120A CN201380026833.9A CN201380026833A CN104335120A CN 104335120 A CN104335120 A CN 104335120A CN 201380026833 A CN201380026833 A CN 201380026833A CN 104335120 A CN104335120 A CN 104335120A
Authority
CN
China
Prior art keywords
photosensitive resin
resin composition
weight portions
methyl
weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201380026833.9A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104335120B (zh
Inventor
朴光汉
金星炫
崔东昌
崔庚铢
李商哲
吴熙英
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LG Chem Ltd
LG Corp
Original Assignee
LG Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LG Chemical Co Ltd filed Critical LG Chemical Co Ltd
Publication of CN104335120A publication Critical patent/CN104335120A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104335120B publication Critical patent/CN104335120B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0385Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable using epoxidised novolak resin
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0751Silicon-containing compounds used as adhesion-promoting additives or as means to improve adhesion
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)

Abstract

本发明提供一种光敏树脂组合物,其包含:碱溶性粘合剂、可交联的化合物、光聚合引发剂、溶剂、着色剂以及环氧粘合促进剂。本发明的光敏树脂组合物具有优异的绝缘性和遮光性,并且在蚀刻过程和去膜过程中具有优异的耐化学性。因此,本发明的组合物可形成具有渐进锥形的薄型边框层,从而可形成集成触控传感器,该集成触控传感器在金属线路中不会发生短路,并使高温过程中电阻值降低最小化。

Description

光敏树脂组合物、使用其形成的图案以及包含其的显示面板
技术领域
本发明涉及一种光敏树脂组合物、使用所述组合物形成的图案以及包含该图案的显示面板。本申请要求于2012年5月25日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2012-0056398号的优先权,其公开内容通过引证的方式纳入本发明书。
背景技术
近年来,触控萤幕已经占据了移动显示器市场的重要份额。触控萤幕是通过人手或用于输入的物体直接触碰萤幕进行操作,无需使用如键盘或鼠标的输入装置。因此,大部分的萤幕操作——包括互联网接入(internetaccess)、移动图像,及多点触控——易于进行,因此触控萤幕成为最方便的用户界面之一。
实现触控萤幕的方法的实例包括:电阻覆盖法(resistive overlaymethod)、电容覆盖法(capacitive overlay method)、超声波法、光学法、红外线法等。基于电阻覆盖法的触控萤幕所存在的问题是:具有低的耐久性和透光率,并且实际上不能实现多点触控。
解决电阻覆盖法相关问题的一种方法是电容覆盖法。电容覆盖法是一种通过感应人体产生的微电流来操作触控萤幕的方法。基于电容覆盖法的触控萤幕使用恒定电流,因此具有优异的触控灵敏性,并且尤其能够实现多点触控功能。此外,其优点在于,因其使用玻璃作为覆盖层,所以具有良好的耐久性和90%以上的透光率,并且给人以高雅的感觉。但是,其缺点在于,输入方式受限并且生产成本高。
在制造集成触控萤幕面板(integrated touch screen panel)的常规方法中,边框层(bezel layers)是通过丝网印刷法使用墨水形成的,因此其厚度大多为6μm以上,且平均为10μm。
然而,当将传感层施加于具有该厚度的边框层时,由于边框层与基板之间的高度差而发生短路,导致很难驱动传感器。
为此,需要一种能够替代用以形成边框板的常规墨水的材料,其为薄型、渐成锥形,且具有足够的遮光性质。具体而言,因为在形成触控传感器的高温过程中触控传感器的电阻被减小,所以需要解决触控萤幕面板性质劣化的问题,所述触控萤幕面板需要展现高电阻,这归因于边框材料。
此外,为了防止在蚀刻过程和去膜(stripping)过程(用以在边框层上形成金属线路)中产生剥离现象(peeling phenomenon),需要开发一种具有优异的耐化学性的边框材料。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:韩国专利公开公报第10-2008-0107846号。
发明内容
技术问题
本发明的目的是提供一种光敏树脂组合物,当在显示面板上形成边框图案时,所述光敏树脂组合物能够提供一种薄型、渐成锥形、且具有足够的遮光性能和优异的耐化学性和/或耐热性的图案。
技术方案
本发明提供了一种光敏树脂组合物,其包含:碱溶性粘合剂、可交联的化合物、光聚合引发剂、溶剂、着色剂以及环氧粘合促进剂。
本发明还提供了一种使用所述光敏树脂组合物形成的图案。
本发明还提供了一种用于制作图案的方法,该方法包括如下步骤:将上述光敏树脂组合物涂布于基板上;以及曝光并显影所涂布的光敏树脂组合物。
本发明还提供了一种包含上述图案的显示面板。
有益效果
本发明的一个实施方案的光敏树脂组合物具有优异的绝缘性和遮光性,并且在蚀刻过程和去膜过程中显示优异的耐化学性。因此,该光敏树脂组合物可形成显示面板中的薄型且渐成锥形的边框图案层,从而可防止金属线路发生短路,并使高温过程中耐受性降低最少。
附图说明
图1示出了自金属上剥离的图案。具体而言,图1(a)示出了来自比较实施例2的步骤4的图案,图1(b)示出了来自实施例1的步骤5的图案,图1(c)示出了来自实施例2的步骤6的图案,图1(d)示出了来自比较实施例12的步骤2的图案,以及图1(e)示出了来自实施例3的步骤6的图案。
具体实施方式
在下文,将详细描述本发明。
除非另有定义,此处所使用的技术及科学术语具有如本领域普通技术人员通常所理解的相同含义。
为了降低电容覆盖法的生产成本,本发明人开发了一种用于制造集成触控萤幕面板的方法,在所述方法中,减少了铟锡氧化物(ITO)传感层的数量,或者在所述方法中,触控传感器直接附于最上层的强化玻璃。在此情况下,可获得提高触控萤幕面板透光率和降低生产成本的效果。所述集成触控面板是通过在覆盖玻璃上涂布屏蔽边框层并于其上形成触控传感层而制造的。
此外,为解决上述问题,本发明人进行了广泛的尝试,最终,开发了一种适用于在触控萤幕面板上形成图案的组合物,从而完成了本发明。
本发明的一个实施方案提供了一种光敏树脂组合物,其包含碱溶性粘合剂、可交联的化合物、光聚合引发剂、溶剂、着色剂以及环氧粘合促进剂。
因为含有环氧粘合促进剂,本发明的光敏树脂组合物在蚀刻过程及去膜过程中具有提高的耐化学性。因此,通过防止剥离现象的发生,其确保了对金属线路的粘着性。
本发明还提供了一种光敏树脂组合物,其包含碱溶性粘合剂、可交联的化合物、光聚合引发剂、溶剂、着色剂、环氧粘合促进剂及环氧粘合剂。
本发明的光敏树脂组合物含有环氧粘合剂和环氧粘合促进剂,因此,与含有环氧粘合促进剂而不含环氧粘合剂的组合物相比,在蚀刻过程及去膜过程中具有改进的耐化学性。此外,因为防止了剥离现象的发生,所以其具有改进的对金属线路的粘着性。
在本发明的一个实施方案中,所述环氧粘合剂特别选自双酚型环氧树脂(bisphenol type epoxy resin)、酚醛型环氧树脂(novolac type epoxyresin)、缩水甘油酯型环氧树脂(glycidyl ester type epoxy resin)、缩水甘油胺型环氧树脂(glycidyl amine type epoxy resin)、直链型脂族环氧树脂(linear aliphatic epoxy resin)、脂环族环氧树脂(alicyclic epoxy resin)以及联苯型环氧树脂(biphenyl type epoxy resin)。
在本发明的一个实施方案中,所述环氧粘合剂具有5000g/eq以下的环氧当量。
所述环氧粘合剂可具有1至5000g/eq的环氧当量。
所述环氧粘合剂可具有200至400g/eq的环氧当量。
当环氧当量为200g/eq以上时,所述组合物的稳定性没有问题,
当环氧当量为400g/eq以下时,所述组合物的粘着性没有问题。
于此使用的术语“环氧当量”(EEW)意指对应于一个环氧反应基团的分子量,其为用环氧树脂的重均分子量除以每个分子中反应基团的数量所得的值。
在本发明中,重均分子量是利用凝胶渗透色谱法(GPC)测得的值。
在本发明的一个实施方案中,环氧粘合剂的含量为10至50重量份,基于100重量份的全部粘合剂计。
基于100重量份的全部粘合剂计,当环氧粘合剂的含量为10重量份以上时,由于耐化学性的提高,所述组合物将具有优异的金属粘着性,当其含量为50重量份以下时,可防止组合物储存稳定性的降低。
环氧粘合剂的含量可为15至30重量份,基于100重量份的全部粘合剂计。
基于100重量份的全部粘合剂计,当环氧粘合剂的含量为15重量份以上时,相比于当环氧粘合剂的含量为10重量份时,由于耐化学性的提高,所述组合物将具有优异的金属粘着性,当环氧粘合剂的含量为30重量份以下时,相比于当环氧粘合剂的含量为50重量份以下时,可更有效地防止组合物储存稳定性的降低。
于此使用的术语“全部粘合剂”意指碱溶性粘合剂和环氧粘合剂的结合。
在本发明的一个实施方案中,环氧粘合剂的含量为1至10重量份,基于100重量份的光敏树脂组合物计。
基于100重量份的光敏树脂组合物计,当环氧粘合剂的含量为1重量份以上时,所述组合物的粘着性没有问题,基于100重量份的光敏树脂组合物计,当环氧粘合剂的含量为10重量份以下时,所述组合物的稳定性没有问题,因此所述组合物不会凝胶化。
在本发明的一个实施方案中,所述环氧粘合促进剂为丙烯酰基硅烷偶联剂(acryloyl silane coupling agent)或烷基三甲氧硅烷(alkyltrimethoxysilane)。
所述丙烯酰基硅烷偶联剂可为选自以下的一种或多种:甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷(methacryloyloxy propyltrimethoxysilane)、甲基丙烯酰氧丙基二甲氧基硅烷(methacryloyloxypropyldimethoxysilane)、甲基丙烯酰氧丙基三乙氧基硅烷(methacryloyloxy propyltriethoxysilane)及甲基丙烯酰氧丙基二乙氧基硅烷(methacryloyloxy propyldiethoxysilane)。
所述烷基三甲氧基硅烷可为选自以下的一种或多种:辛基三甲氧基硅烷(octyl trimethoxysilane)、十二烷基三甲氧基硅烷(dodecyltrimethoxysilane)以及十八烷基三甲氧基硅烷(octadecyltrimethoxysilane)的物质。
在本发明的一个实施方案中,所述环氧粘合促进剂为硅倍半氧烷(silsesquioxane)。
于此所用的术语“粘合促进剂”意指提高基板与光敏树脂组合物之间粘着性的材料。
所述粘合促进剂包括具有硅醇基(silanol)的化合物。所述硅醇基用以保持组合物在基板上的粘着性,并且与硅醇基相对的烷基等提供额外功效。
于此所用的术语“环氧粘合促进剂”意指包含在粘合促进剂中的含有硅醇基的化合物,具有与硅醇基相对的环氧基团。
相比于使用常规粘合促进剂,所述环氧粘合促进剂提高了膜的固化程度,导致膜的耐化学性提高。该特征显示为在耐化学性测试后,通过硅醇基维持粘着性的效果。
在本发明的一个实施方案中,环氧粘合促进剂的含量为0.01至1重量份,基于100重量份的光敏树脂组合物计。
当环氧粘合促进剂的含量为0.01重量份以上时,将产生其添加功效,当环氧粘合促进剂的含量为1重量份以下时,其添加功效将进一步提高。
在本发明的一个实施方案中,所述碱溶性粘合剂包括基于卡多的粘合剂(cardo-based binder)和丙烯酸系粘合剂(acrylic binder)中的一种或多种。
当用于本发明的碱溶性粘合剂为基于卡多的粘合剂与丙烯酸系粘合剂的混合物时,基于卡多的粘合剂与丙烯酸系粘合剂可以1-99:99-1的比例进行混合。
所述基于卡多的粘合剂与丙烯酸系粘合剂可以50:50的重量比进行混合。
当光敏树脂组合物中包含基于卡多的粘合剂或丙烯酸系粘合剂时,其显示出优异的基板粘附效果。
在本发明中,所述基于卡多的粘合剂为具有骨架结构的树脂,所述骨架结构由键合至季碳原子的两个环状结构组成。
在本发明的一个实施方案中,所述基于卡多的粘合剂包含由下式1所表示的重复单元:
式1
现将进一步详述式1中的取代基。
式1中的Rx是为由五元环状羧酸酐或二异氰酸酯反应形成的结构,但不限于此。
五元环状羧酸酐的实例包括,但不限于:琥珀酸酐(succinicanhydride)、甲基琥珀酸酐(methylsuccinic anhydride)、2,2-二甲基琥珀酸酐(2,2-dimethylsuccinic anhydride)、异丁烯基琥珀酸酐(isobutenylsuccinic anhydride)、1,2-环己烷二羧酸酐(1,2-cyclohexanedicarbonic anhydride)、六氢-4-甲基酞酸酐(hexahydro-4-methylphthalic anhydride)、衣康酸酐(itaconicanhydride)、四氢邻苯二甲酸酐(tetrahydrophthalic anhydride)、5-降冰片烯-2,3-二羧酸酐(5-norbornene-2,3-dicarbonic anhydride)、甲基-5-降冰片烯-2,3-二羧酸酐(methyl-5-norbornene-2,3-dicarbonicanhydride)、1,2,3,4-环丁烷四羧酸二酐(1,2,3,4-cyclobutanetetracarbonic dianhydride)、马来酸酐(maleicanhydride)、柠康酸酐(citraconic anhydride)、2,3-二甲基马来酸酐(2,3,-dimethylmaleic anhydride)、1-环戊烯-1,2-二羧酸二酐(1-cyclopentene-1,2-dicarbonic dianhydride)、3,4,5,6-四氢邻苯二甲酸酐(3,4,5,6-tetrahydrophthalic anhydride)、邻苯二甲酸酐(phthalicanhydride)、双邻苯二甲酸酐(bisphthalic anhydride)、4-甲基邻苯二甲酸酐(4-methylphthalic anhydride)、3,6-二氯邻苯二甲酸酐(3,6-dichlorophthalic anhydride)、3-氢邻苯二甲酸酐(3-hydrophthalic anhydride)、1,2,4-苯三酸酐(1,2,4-benzenetricarbonic anhydride)、4-硝基邻苯二甲酸酐(4-nitrophthalic anhydride),以及二乙二醇-1,2-双偏苯三酸酐(diethyleneglycol-1,2-bistrimellitic anhydride)。
二异氰酸酯的实例包括,但不限于:三亚甲基二异氰酸酯(trimethylene diisocyanate)、四亚甲基二异氰酸酯(tetramethylenediisocyanate)、六亚甲基二异氰酸酯(hexamethylene diisocyanate)、五亚甲基二异氰酸酯(pentamethylene diisocyanate)、1,2-亚丙基二异氰酸酯(1,2-propylene diisocyanate)、2,3-亚丁基二异氰酸酯(2,3-butylene diisocyanate)、1,3-亚丁基二异氰酸酯(1,3-butylenediisocyanate)、十二亚甲基二异氰酸酯(dodecamethylene diisocyanate)、2,4,4-三甲基六亚甲基二异氰酸酯(2,4,4-trimethyl hexamethylenediisocyanate)、w,w′-二异氰酸酯-1,3-二甲基苯(w,w′-diisocyanate-1,3-dimethylbenzene)、w,w′-二异氰酸酯-1,4-二甲基苯(w,w′-diisocyanate-1,4-dimethylbenzene)、w,w′-二异氰酸酯-1,3-二乙基苯(w,w′-diisocyanate-1,3-diethylbenzene)、1,4-四甲代苯二甲撑二异氰酸酯(1,4-tetramethylxylene diisocyanate)、1,3-四甲代苯二甲撑二异氰酸酯(1,3-tetramethylxylene diisocyanate)、异佛尔酮二异氰酸酯(isophorone diisocyanate)、1,3-环戊烷二异氰酸酯(1,3-cyclopentane diisocyanate)、1,3-环己烷二异氰酸酯(1,3-cyclohexane diisocyanate)、1,4-环己烷二异氰酸酯(1,4-cyclohexane diisocyanate)、甲基-2,4-环己烷二异氰酸酯(methyl-2,4-cyclohexane diisocyanate)、甲基-2,6-环己烷二异氰酸酯(methyl-2,6-cyclohexane diisocyanate)、4,4′-亚甲基双异氰酸酯甲基环己烷(4,4′-methylene bisisocyanate methylcyclohexane)、2,5-异氰酸酯甲基二环[2,2,2]庚烷(2,5-isocyanatemethyl bicyclo[2,2,2]heptane),以及2,6-异氰酸酯甲基二环[2,2,1]庚烷(2,6-isocyanatemethylbicyclo[2,2,1]heptane)。
式1中的Ry可选自氢、丙烯酰基及甲基丙烯酰基,但不限于此。
式1中的R1至R3可各自独立地选自氢、卤素基团、取代或未取代的C1至C5烷基、取代或未取代的C1至C5烷氧基,以及取代或未取代的C2至C5烯基。
式1中的R4至R7可各自独立地选自取代或未取代的C1至C5亚烷基、取代或未取代的C1至C5亚烷氧基(alkoxylene group)以及取代或未取代的C2至C5亚烯基。
所述卤素基基可为氟、氯、溴或碘。
所述烷基可为直链或支链的、取代或未取代的,并且对其碳原子数无特别限制,但是可为1至5个。所述烷基的具体实例包括,但不限于:甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、叔丁基等。
所述亚烷基可为直链或支链的、取代的或未取代的,并且对其碳原子数无特别限制,但是可为1至5个。所述亚烷基的具体实例包括,但不限于:亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚异丙基、亚丁基、亚叔丁基等。
所述烷氧基可为直链或支链的、取代或未取代的,并且对其碳原子数无特别限制,但是可为1至5个。所述烷氧基的具体实例包括,但不限于:甲氧基、乙氧基、异丙氧基等。
所述亚烷氧基可为直链或支链的、取代的或未取代的,并且对其碳原子数无特别限制,但是可为1至5个。所述亚烷氧基的具体实例包括,但不限于:亚甲氧基、亚乙氧基、亚异丙氧基等。
所述烯基可为直链或支链的、取代或未取代的,并且对其碳原子数无特别限制,但是可为1至5个。所述烯基的具体实例包括,但不限于:乙烯基、丙烯基、丁烯基、戊烯基等。
所述亚烯基可为直链或支链的、取代或未取代的,并且对其碳原子数无特别限制,但是可为1至5个。所述亚烯基的具体实例包括,但不限于:亚乙烯基、亚丙烯基、亚丁烯基、亚戊烯基等。
各个取代基可为卤素基团、取代或未取代的C1至C5烷基、取代或未取代的C1至C5烷氧基,以及取代或未取代的C2至C5烯基。
式1中的l为1至4的整数,m为1至8的整数,n为由式1所表示的重复单元的数量。
在本发明的一个实施方案中,该基于卡多的粘合剂具有10至200KOH mg/g的酸值。
当基于卡多的粘合剂的酸值为10KOH mg/g以上时,所述组合物在碱性显影溶液中具有良好的溶解性,因此该组合物的显影时间将被缩短,且在基板上无残留,当酸值为200KOH mg/g以下时,可防止图案解吸附,并且可确保图案的平直度。
所述基于卡多的粘合剂的酸值可为30至150KOH mg/g。
当基于卡多的粘合剂的酸值为30KOH mg/g以上时,显影不会失败,当酸值为150KOH mg/g以下时,可确保图案显影且无图案损失。
在本发明的一个实施方案中,所述基于卡多的粘合剂具有1000至30000的重均分子量。
当基于卡多的粘合剂的重均分子量为1000以上时,该粘合剂将具有良好的粘附功能,并且图案可抵抗物理性外力,因此不会发生损失,并且图案可满足如耐热性及耐化学性的基本物理性质。当基于卡多的粘合剂的重均分子量为30000以下时,该组合物在碱性显影溶液中将具有良好的显影性,且将具有良好的流动性,因此可控制涂层厚度,并且可确保涂层厚度的均匀性。
基于卡多的粘合剂的重均分子量可为1500至10000。
当基于卡多的粘合剂的重均分子量为1500以上时,足以形成薄膜,当基于卡多的粘合剂的重均分子量为10000以下时,可充分形成薄膜且无图案损失,并且可确保耐化学性。
在本发明的一个实施方案中,所述丙烯酸系粘合剂由可赋予膜机械强度的单体和可赋予碱溶解度的单体组成。
所述丙烯酸系粘合剂可减小图案的锥角。
于此所用的术语“图案的锥角”意指图案梯形的底侧与相邻侧之间的角度。
所述丙烯酸系粘合剂可由赋予膜机械强度的单体和赋予碱溶解度的单体组成,并且此外也可减小图案的锥角。
用于控制膜的机械强度和锥角的单体可为选自以下的一种或多种:不饱和羧酸酯(unsaturated carboxylic esters),例如苄基(甲基)丙烯酸酯(benzyl(meth)acrylate)、甲基(甲基)丙烯酸酯(methyl(meth)acrylate)、乙基(甲基)丙烯酸酯(ethyl(meth)acrylate)、丁基(甲基)丙烯酸酯(butyl(meth)acrylate)、二甲基氨基乙基(甲基)丙烯酸酯(dimethylaminoethyl(meth)acrylate)、异丁基(甲基)丙烯酸酯(isobutyl(meth)acrylate)、叔丁基(甲基)丙烯酸酯(t-butyl(meth)acrylate)、环己基(甲基)丙烯酸酯(cyclohexyl(meth)acrylate)、(甲基)丙烯酸异冰片酯(isobonyl(meth)acrylate)、乙基己基(甲基)丙烯酸酯(ethylhexyl(meth)acrylate)、2-苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯(2-phenoxyethyl(meth)acrylate)、(甲基)丙烯酸四氢糠基酯(tetrahydrofurfuryl(meth)acrylate)、羟乙基(甲基)丙烯酸酯(hydroxyethyl(meth)acrylate)、2-羟丙基(甲基)丙烯酸酯(2-hydroxypropyl(meth)acrylate)、2-羟基-3-氯丙基(甲基)丙烯酸酯(2-hydroxy-3-chloropropyl(meth)acrylate)、4-羟丁基(甲基)丙烯酸酯(4-hydroxybutyl(meth)acrylate)、(甲基)丙烯酸甘油酯(glycerol(meth)acrylate)、2-甲氧基乙基(甲基)丙烯酸酯(2-methoxyethyl(meth)acrylate)、3-甲氧基丁基(甲基)丙烯酸酯(3-methoxybutyl(meth)acrylate)、乙氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯(ethoxydiethyleneglycol(meth)acrylate)、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯(methoxytriethyleneglycol(meth)acrylate)、甲氧基三丙三醇(甲基)丙烯酸酯(methoxytripropyleneglycol(meth)acrylate)、聚(乙二醇)甲基醚(甲基)丙烯酸酯(poly(ethyleneglycol)methylether(meth)acrylate)、苯氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯(phenoxydiethyleneglycol(meth)acrylate)、对壬基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯(p-nonylphenoxypolyethyleneglycol(meth)acrylate)、对壬基苯氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯(p-nonylphenoxypolypropyleneglycol(meth)acrylate)、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯(glycidyl(meth)acrylate)、(甲基)丙烯酸二环戊酯(dicyclopentanyl(meth)acrylate)、(甲基)丙烯酸二环戊烯酯(dicyclopentenyl(meth)acrylate)、(甲基)丙烯酸二环戊烯基氧乙酯(dicyclopentenyloxyethyl(meth)acrylate)、(甲基)丙烯酸异冰片酯(isobonyl(meth)acrylate)、金刚烷基(甲基)丙烯酸酯(adamentyl(meth)acrylate)、(甲基)丙烯酸十八烷基酯(stearyl(meth)acrylate)、(甲基)丙烯酸己酯(hexyl(meth)acrylate)、(甲基)丙烯酸庚酯(heptyl(meth)acrylate)、(甲基)丙烯酸辛酯(octyl(meth)acrylate)、(甲基)丙烯酸壬酯(nonyl(meth)acrylate)、(甲基)丙烯酸癸酯(decyl(meth)acrylate)、(甲基)丙烯酸月桂酯(lauryl(meth)acrylate)、甲基α-羟甲基丙烯酸酯(methylα-hydroxymethyl acrylate)、乙基α-羟甲基丙烯酸酯(ethylα-hydroxymethyl acrylate)、丙基α-羟甲基丙烯酸酯(propylα-hydroxymethyl acrylate),以及丁基α-羟甲基丙烯酸酯(butylα-hydroxymethyl acrylate);芳族乙烯,例如苯乙烯(styrene)、α-甲基苯乙烯(α-methylstyrene)、(o,m,p)-乙烯基甲苯((o,m,p)-vinyltoluene)、(o,m,p)-甲氧基苯乙烯((o,m,p)-methoxystyrene),以及(o,m,p)-氯苯乙烯((o,m,p)-chlorostyrene);不饱和醚,例如乙烯基甲醚(vinyl methylether)、乙烯基乙醚(vinyl ethyl ether),以及烯丙基缩水甘油醚(allylglycidyl ether);不饱和酰亚胺,例如N-苯基马来酰亚胺(N-phenylmaleimide)、N-(4-氯苯基)马来酰亚胺(N-(4-chlorophenyl)maleimide)、N-(4-羟基苯基)马来酰亚胺(N-(4-hydroxyphenyl)maleimide),以及N-环己基马来酰亚胺(N-cyclohexyl maleimide);以及马来酸酐,例如马来酸酐(maleic anhydride)和甲基马来酸酐(methylmaleicanhydride)。使用两种或多种选自上述的单体是有效的。具体而言,该丙烯酸系粘合剂可包含1-30摩尔当量的具有6至18个碳原子的取代单体,但不限于此。
赋予碱溶解度的单体优选为选自以下的一种或多种:(甲基)丙烯酸((meth)acrylic acid)、巴豆酸(crotonic acid)、衣康酸(itaconicacid)、马来酸(maleic acid)、富马酸(fumaric acid)、单甲基马来酸(monomethyl maleic acid)、5-冰片烯-2-羧酸(5-nobonen-2-carboxylic acid)、单-2-((甲基)丙烯酰氧基)乙基邻苯二甲酸酯(mono-2-((meth)acryloyloxy)ethyl phthalate)、单-2-((甲基)丙烯酰氧基)乙基琥珀酸酯(mono-2-((meth)acryloyloxy)ethylsuccinate),以及ω-羧基聚己内酯单(甲基)丙烯酸酯(ω-carboxypolycaprolactone mono(metha)acrylate),但不限于此。
在本发明的一个实施方案中,所述丙烯酸系粘合剂具有10至200KOH mg/g的酸值。
当丙烯酸系粘合剂的酸值为10KOH mg/g以上时,所述组合物在碱性显影溶液中具有良好的溶解性,因此该组合物的显影时间将被缩短,且在基板上无残留,当酸值为200KOH mg/g以下时,可防止图案的解吸附,可确保图案的平直度,并且图案的锥角不会超过90°。
所述丙烯酸系粘合剂可具有30至150KOH mg/g的酸值。
当丙烯酸系粘合剂的酸值为30KOH mg/g以上时,显影不会失败,当酸值为150KOH mg/g以下时,可确保图案显影且无图案损失。
在本发明的一个实施方案中,所述丙烯酸系粘合剂具有1000至50000的重均分子量。
当丙烯酸系粘合剂的重均分子量为1000以上时,该粘合剂将具有良好的粘合功能,并且图案可抵抗物理性外力,因此不会发生损失,且可满足如耐热性及耐化学性的基本物理性质。当丙烯酸系粘合剂的重均分子量为50000以下时,所述组合物在碱性显影溶液中将具有良好的显影性,且将具有良好的流动性,因此可控制涂层厚度,并且可确保涂层厚度的均匀性。
所述丙烯酸系粘合剂的重均分子量可为2000至30000。
当丙烯酸系粘合剂的重均分子量为2000以上时,足以形成薄膜,当丙烯酸系粘合剂的重均分子量为30000以下时,可充分形成薄膜且无图案损失,并可确保耐化学性。
在本发明的一个实施方案中,碱溶性粘合剂的含量为1至20重量份,基于100重量份的光敏树脂组合物计。
当碱溶性粘合剂的含量为1重量份以上时,所形成图案的粘着性不会降低,且可利用碱性水溶液进行图案化,当碱溶性粘合剂的含量为20重量份以下时,所形成图案的强度和灵敏度不会降低,并且在显影过程中不会发生图案损失。
碱溶性粘合剂的含量可为1至10重量份,基于100重量份的光敏树脂组合物计。
当碱溶性粘合剂的含量为10重量份以下时,可确保图案显影,且无图案损失。
在本发明的一个实施方案中,可交联的化合物为具有烯键式不饱和双键的多官能单体。
所述可交联的化合物可为一种或多种具有100℃以上沸点,且分子中含有一种或多种额外可聚合的不饱和基团的化合物,以及含有被引入其中的己内酯的多官能单体。
具有100℃以上沸点且分子中含有一种或多种额外可聚合的不饱和基团的化合物可为选自以下的一种或多种:单官能单体,例如聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯(polyethyleneglycol mono(meth)acrylate)、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯(polypropyleneglycol mono(meth)acrylate)和(甲基)丙烯酸苯氧基乙基酯(phenoxyethyl(meth)acrylate);以及多官能单体,例如(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯(polyethyleneglycol(meth)acrylate)、(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯(polypropyleneglycol(meth)acrylate)、三羟甲基乙烷三丙烯酸酯(trimethylolethanetriacrylate)、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(trimethylolpropanetriacrylate)、(甲基)丙烯酸新戊二醇酯(neopentylglycol(meth)acrylate)、季戊四醇四丙烯酸酯(pentaerythritol tetraacrylate)、季戊四醇三丙烯酸酯(pentaerythritol triacrylate)、二季戊四醇五丙烯酸酯(dipentaerythritol pentaacrylate)和二季戊四醇六丙烯酸酯(dipentaerythritol hexaacrylate),但不限于此。
含有引入其中的己内酰的多官能单体可为选自以下的一种或多种:引入二季戊四醇的化合物,例如KAYARAD DPCA-20、KAYARADDPCA-30、KAYARAD DPCA-60和KAYARAD DPCA-120;引入丙烯酸四氢糠基酯的化合物,例如KAYARAD TC-110S;引入新戊二醇羟基新戊酸酯的化合物,例如KAYARAD HX-220和KAYARAD HK-620;环氧酯(epoxy ester)200PA,环氧酯(epoxy ester)3002M,环氧酯(epoxy ester)3002A和环氧酯(epoxy ester)3000M(由KyoeishaChemical Co.,Ltd.制造);以及氨基甲酸酯丙烯酸酯(urethaneacrylates),例如UA306H、UA306T、UA306I、UA510H、UF8001、U-324A、U15HA和U-4HA(由Kyoeisha Chemical Co.,Ltd.制造),但不限于此。
在本发明的一个实施方案中,可交联的化合物的含量为1-10重量份,基于100重量份的光敏树脂组合物计。
当可交联的化合物的含量为1重量份以上时,其具有防止所涂布薄膜的光敏感性或强度劣化的效果,当可交联的化合物的含量为10重量份以下时,其具有防止光敏感层的粘着性过度增强的效果,从而得到足够的膜强度,并防止图案在显影过程中发生损失。
在本发明的一个实施方案中,所述光聚合引发剂为选自以下的一种或多种:苯乙酮系化合物(acetophenone-based compound)、二咪唑系化合物(biimidazole-based compound)、三嗪系化合物(triazine-based compound),以及肟系化合物(oxime-basedcompound)。
所述苯乙酮系化合物可为选自以下的一种或多种:2-羟基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮(2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one)、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基丙-1-酮(1-(4-isopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one)、4-(2-羟基乙氧基)-苯基-(2-羟基-2-丙基)酮(4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl-(2-hydroxy-2-propyl)ketone)、1-羟基环己基苯基酮(1-hydroxycyclohexylphenylketone)、安息香甲醚(benzoin methyl ether)、安息香乙醚(benzoin ethyl ether)、安息香异丁醚(benzoin isobutyl ether)、安息香丁醚(benzoin butyl ether)、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮(2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone)、2-甲基-(4-甲硫基)苯基-2-吗啉代-1-丙-1-酮(2-methyl-(4-methylthio)phenyl-2-morpholino-1-propan-1-one)、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁-1-酮(2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one)、2-(4-溴-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁-1-酮(2-(4-bromo-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one),以及2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉代丙-1-酮(2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one),但不限于此。
所述二咪唑系化合物可为选自以下的一种或多种:2,2-双(2-氯苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑(2,2-bis(2-chlorophenyl)-4,4′,5,5′-tetraphenyl biimidazole)、2,2′-双(邻氯苯基)-4,4′,5,5′-四(3,4,5-三甲氧基苯基)-1,2′-联咪唑(2,2′-bis(o-chlorophenyl)-4,4′,5,5′-tetrakis(3,4,5-trimethoxyphenyl)-1,2′-biimidazole)、2,2′-双(2,3-二氯苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑(2,2′-bis(2,3-dichlorophenyl)-4,4′,5,5′-tetraphenyl biimidazole),以及2,2′-双(邻氯苯基)-4,4′,5,5′-四苯基-1,2′-联咪唑(2,2′-bis(o-chlorophenyl)-4,4,5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole),但不限于此。
所述三嗪系化合物可为选自以下的一种或多种:3-{4-[2,4-双(三氯甲基)-s-三嗪-6-基]苯硫基}丙酸(3-{4-[2,4-bis(trichloromethyl)-s-triazine-6-yl]phenylthio}propionicacid)、1,1,1,3,3,3-六氟异丙基-3-{4-[2,4-双(三氯甲基)-s-三嗪-6-基]苯硫基}丙酸酯(1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl-3-{4-[2,4-bis(trichloromethyl)-s-triazine-6-yl]phenylthio}propionate)、乙基-2-{4-[2,4-双(三氯甲基)-s-三嗪-6-基]苯硫基}乙酸酯(ethyl-2-{4-[2,4-bis(trichloromethyl)-s-triazine-6-yl]phenylthio}acetate)、2-环氧乙基-2-{4-[2,4-双(三氯甲基)-s-三嗪-6-基]苯硫基}乙酸酯(2-epoxyethyl-2-{4-[2,4-bis(trichloromethyl)-s-triazine-6-yl]phenylthio}acetate)、环己基-2-{4-[2,4-双(三氯甲基)-s-三嗪-6-基]苯硫基}乙酸酯(cyclohexyl-2-{4-[2,4-bis(trichloromethyl)-s-triazine-6-yl]phenylthio}acetate)、苄基-2-{4-[2,4-双(三氯甲基)-s-三嗪-6-基]苯硫基}乙酸酯(benzyl-2-{4-[2,4-bis(trichloromethyl)-s-triazine-6-yl]phenylthio}acetate)、3-{氯-4-[2,4-双(三氯甲基)-s-三嗪-6-基]苯硫基}丙酸(3-{chloro-4-[2,4-bis(trichloromethyl)-s-triazine-6-yl]phenylthio}propionic acid)、3-{4-[2,4-双(三氯甲基)-s-三嗪-6-基]苯硫基}丙酰胺(3-{4-[2,4-bis(trichloromethyl)-s-triazine-6-yl]phenylthio}propionamide)、2,4-双(三氯甲基)-6-对甲氧基苯乙烯基-s-三嗪(2,4-bis(trichloromethyl)-6-p-methoxystyryl-s-triazine)、2,4-双(三氯甲基)-6-(1-对二甲基氨基苯基)-1,3,-丁二烯基-s-三嗪(2,4-bis(trichloromethyl)-6-(1-p-dimethylaminophenyl)-1,3,-butadienyl-s-triazine),以及2-三氯甲基-4-氨基-6-对甲氧基苯乙烯基-s-三嗪(2-trichloromethyl-4-amino-6-p-methoxystyryl-s-triazine),但不限于此。
所述肟系化合物可为选自以下的一种或多种:1,2-辛二酮-1-(4-苯硫基)苯基-2-(邻苯甲酰基肟)(1,2-octadione-1-(4-phenylthio)phenyl-2-(o-benzoyloxime))(由Ciba-Geigy制造的CGI 124)、乙酮-1-(9-乙基)-6-(2-甲基苯甲酰基-3-基)-1-(邻乙酰基肟)(ethanone-1-(9-ethyl)-6-(2-methylbenzoyl-3-yl)-1-(o-acetyloxime))(由Ciba-Geigy制造的CGI 242),以及N-1919(由Adeka Corp.制造),但不限于此。
在本发明的一个实施方案中,所述光聚合引发剂的含量为0.1至10重量份,基于100重量份的光敏树脂组合物计。
当所述光聚合引发剂的含量为0.1重量份以上时,其添加功效将产生,当光聚合引发剂的含量为10重量份以下时,其添加功效将进一步提高。
所述光聚合引发剂在曝光负型光刻胶的过程中充当引发剂,通过曝光形成自由基,并通过自由基的链反应形成光刻胶膜。
在本发明的一个实施方案中,光敏树脂组合物中的光聚合引发剂的含量为1至300重量份,基于100重量份的粘合剂和具有烯键式不饱和双键的多官能单体的总和计。
用于本发明的光聚合引发剂可为选自苯乙酮系化合物、二咪唑系化合物、三嗪系化合物和肟系化合物中的一种或者两种或多种的混合物。
综合考虑显影能力、图案性质及曝光波长来选择光聚合引发剂,并且即使使用长波长范围的光,肟系引发剂也具有良好的引发效率。
苯乙酮系化合物的含量可为1至300重量份,且优选1至200重量份。
二咪唑系化合物的含量可为1至300重量份,且优选1至100重量份。
三嗪系化合物的含量可为1至300重量份,且优选1至100重量份。
肟系化合物的含量可为1至300重量份,且优选1至50重量份。
在本发明的一个实施方案中,光聚合引发剂可包含:作为辅助成分用于促进自由基产生的光交联敏化剂,或作为辅助成分用于加速固化的固化促进剂。
所述光聚合引发剂可同时包含作为辅助成分的光交联敏化剂和固化促进剂。
光交联敏化剂或固化促进剂的含量可为0.01至10重量份,基于100重量份的光聚合引发剂计。
当光聚合引发剂的含量为0.01重量份以上时,其添加功效将产生,当光聚合引发剂的含量为10重量份以下时,其添加功效将进一步提高。
于此所用的术语“光交联敏化剂”意指一种具有接收能量并将三重态能量转移至其他分子的功能的材料。
例如,在相对长的波长(365nm,I-Line)处显示良好吸收性的材料可接收能量,并将能量转移至可与波长为315nm的光线反应的引发剂。
所述光交联敏化剂可为选自以下的一种或多种:二苯甲酮系化合物,例如二苯甲酮(benzophenone)、4,4-双(二甲基氨基)二苯甲酮(4,4-bis(dimethylamino)benzophenone)、4,4-双(二乙基氨基)二苯甲酮(4,4-bis(diethylamino)benzophenone)、2,4,6-三甲基氨基二苯甲酮(2,4,6-trimethylaminobenzophenone)、甲基-邻苯甲酰基苯甲酸酯(methyl-o-benzoyl benzoate)、3,3-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮(3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone),以及3,3,4,4-四(叔丁基过氧化羰基)二苯甲酮(3,3,4,4-tetra(t-butylperoxycarbonyl)benzophenone);芴酮系化合物,例如9-芴酮(9-fluorenone)、2-氯-9-芴酮(2-chloro-9-fluorenone),以及2-甲基-9-芴酮(2-methyl-9-fluorenone);噻吨酮系化合物,例如噻吨酮(thioxanthone)、2,4-二乙基噻吨酮(2,4-diethyl thioxanthone)、2-氯噻吨酮(2-chloro thioxanthone)、1-氯-4-丙氧基噻吨酮(1-chloro-4-propyloxy thioxanthone)、异丙基噻吨酮(isopropylthioxanthone),以及二异丙基噻吨酮(diisopropylthioxanthone);呫吨酮系化合物,例如呫吨酮(xanthone)和2-甲基呫吨酮(2-methylxanthone);蒽醌系化合物,例如蒽醌(anthraquinone)、2-甲基-蒽醌(2-methyl anthraquinone)、2-乙基蒽醌(2-ethyl anthraquinone)、叔丁基蒽醌(t-butyl anthraquinone)和2,6-二氯-9,10-蒽醌;吖啶系化合物(acridine-based compounds),例如9-苯基吖啶、1,7-双(9-吖啶基)庚烷(1,7-bis(9-acridinyl)heptane)、1,5-双(9-吖啶基戊烷)(1,5-bis(9-acridinylpentane)),以及1,3-双(9-吖啶基)丙烷(1,3-bis(9-acridinyl)propane);二羰基化合物(dicarbonylcompounds),例如苄基(benzyl)、1,7,7-三甲基-二环[2,2,1]庚烷-2,3-二酮(1,7,7-trimethyl-bicyclo[2,2,1]heptane-2,3-dion),以及9,10-菲醌(9,10-phenanthrenequinone);氧化膦系化合物(phosphineoxide-based compounds),例如2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦(2,4,6-trimethylbenzoyl diphenylphosphine oxide)和双(2,6-二甲氧基苯甲酰基)-2,4,4-三甲基戊基氧化膦(bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide);苯甲酸酯系化合物(benzoate-based compounds),例如甲基-4-(二甲基氨基)苯甲酸酯(methyl-4-(dimethylamino)benzoate),乙基-4-(二甲基氨基)苯甲酸酯(ethyl-4-(dimethylamino)benzoate),以及2-正丁氧基乙基-4-(二甲基氨基)苯甲酸酯(2-n-butoxyethyl-4-(dimethylamino)benzoate);氨基增效剂(aminosynergists),例如2,5-双(4-二乙基氨基亚苄基)环戊酮(2,5-bis(4-diethylaminobenzal)cyclopentanone),2,6-双(4-二乙基氨基亚苄基)环己酮(2,6-bis(4-diethylaminobenzal)cyclohexanone),以及2,6-双(4-二乙基氨基亚苄基)-4-甲基-环戊酮(2,6-bis(4-diethylaminobenzal)-4-methyl-cyclopentanone);香豆素系化合物(coumarin-based compounds),例如3,3-羰基乙烯基-7-(二乙基氨基)香豆素(3,3-carbonylvinyl-7-(diethylamino)coumarin),3-(2-苯并噻唑基)-7-(二乙基氨基)香豆素(3-(2-benzothiazolyl)-7-(diethylamino)coumarin),3-苯甲酰基-7-(二乙基氨基)香豆素(3-benzoyl-7-(diethylamino)coumarin),3-苯甲酰基-7-甲氧基-香豆素(3-benzoyl-7-methoxy-coumarin),以及10,10-羰基双[1,1,7,7-四甲基-2,3,6,7-四氢-1H,5H,11H-C1]-苯并吡喃[6,7,8-ij]-喹嗪-11-酮(10,10-carbonylbis[1,1,7,7-tetramethyl-2,3,6,7-tetrahydro-1H,5H,11H-C1]-benzopyrano[6,7,8-ij]-quinolizin-11-one);查尔酮化合物(chalcone compound),例如4-二乙基氨基查尔酮(4-diethylaminochalcone)和4-叠氮亚苄基苯乙酮(4-azidbenzalacetophenone);2-苯甲酰基亚甲基(2-benzoylmethylene)和3-甲基-b-萘并噻唑啉(3-methyl-b-naphthothiazoline),但是不限于此。
所述固化促进剂可为选自以下的一种或多种:2-巯基苯并咪唑(2-mercaptobenzoimidazole)、2-巯基苯并噻唑(2-mercaptobenzothiazol)、2-巯基苯并噁唑(2-mercaptobenzooxazole)、2,5-二巯基-1,3,4-噻二唑(2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole)、2-巯基-4,6-二甲基氨基吡啶(2-mercapto-4,6-dimethylaminopyridine)、季戊四醇-四(3-巯基丙酸酯)(pentaerythritol-tetrakis(3-mercaptopropionate))、季戊四醇-三(3-巯基丙酸酯)(pentaerythritol-tris(3-mercaptopropionate))、季戊四醇-四(2-巯基乙酸酯)(pentaerythritol-tetrakis(2-mercaptoacetate))、季戊四醇-三(2-巯基乙酸酯)(pentaerythritol-tris(2-mercaptoacetate))、三羟甲基丙烷-三(2-巯基乙酸酯)(trimethylolpropane-tris(2-mercaptoacetate)),以及三羟甲基丙烷-三(2-巯基丙酸酯)(trimethylolpropane-tris(3-mercaptopropionate)),但是不限于此。
在本发明的一个实施方案中,考虑到溶解度、颜料分散性,涂布性等,对溶剂进行选择。
溶剂可为选自以下的一种溶剂或者两种或多种溶剂的混合物:甲基-3-甲氧基丙酸酯(methyl-3-methoxy propionate)(144℃)、乙二醇甲醚(ethyleneglycol methylether)(125℃)、乙二醇乙醚(ethyleneglycol ethylether)(135℃)、乙二醇二乙醚(ethyleneglycoldiethylether)(121℃)、二丁醚(dibutylether)(140℃)、丙酮酸乙酯(ethyl pyruvate)(144℃)、丙二醇甲基醚(propyleneglycolmethylether)(121℃)、丙二醇甲基醚乙酸酯(propyleneglycolmethylether acetate)(146℃)、乙酸正丁酯(n-butyl acetate)(125℃)、乙酸异丁酯(isobutyl acetate)(116℃)、乙酸戊酯(amyl acetate)(149℃)、乙酸异戊酯(isoamyl acetate)(143℃)、丙酸丁酯(butylpropionate)(146℃)、丙酸异戊酯(isoamyl propionate)(156℃),丁酸乙酯(ethyl butyrate)(120℃)、丁酸丙酯(propyl butyrate)(143℃)、甲基-3-甲氧基异丁酸酯(methyl-3-methoxyisobutyrate)(148℃)、乙醇酸甲酯(methyl glycolate)(150℃)、乳酸甲酯(methyllactate)(145℃)、乳酸乙酯(ethyl lactate)(154℃)、甲基-2-羟基异丁酸酯(methyl-2-hydroxyisobutyrate)(137℃)、乙基乙氧基乙酸酯(ethylethoxy acetate)(156℃)、2-甲氧基乙基乙酸酯(2-methoxyethyl acetate)(145℃)、乙二醇甲醚乙酸酯(ethyleneglycolmethylether acetate)(145℃)、2-乙氧基乙基乙酸酯(2-ethoxyethylacetate)(156℃)、二丁醚(dibutylether)(140℃)、环戊酮(cyclopentanone)(131℃)、环己酮(cyclohexanone)(155℃)、2-己酮(2-hexanone)(127℃)、3-己酮(3-hexanone)(123℃)、5-甲基-2-己酮(5-methyl-2-hexanone)(145℃)、2-庚酮(2-heptanone)(150℃)、3-庚酮(3-heptanone)(148℃)、4-庚酮(4-heptanone)(145℃)、2-甲基-3-庚酮(2-methyl-3-heptanone)(159℃)、1-甲氧基-2-丙醇(1-methoxy-2-propanol)(118℃)、乙基-2-羟基-丙酸酯(ethyl-2-hydroxy-propionate)(154℃)、乙基-3-甲氧基丙酸酯(ethyl-3-methoxypropionate)(158℃)、2-甲氧基乙基醚(2-methoxyethylether)(162℃)、3-甲氧基丁基乙酸酯(3-methoxybutylacetate)(170℃)、2-乙氧基乙基醚(2-ethoxyethylether)(185℃)、2-丁氧基乙醇(2-butoxyethanol)(171℃)、3-乙氧基-丙醇(3-ethoxy-propanol)(161℃)、二乙二醇十二烷基醚(diethylene glycol dodecylether)(169℃)、二丙二醇甲基醚(dipropylene glycol methylether)(188℃)、2,6-二甲基-4-庚酮(2,6-dimethyl-4-hepatanone)(169℃)、2-辛酮(2-octanone)(173℃)、3-辛酮(3-octanone)(168℃)、3-壬酮(3-nonanone)(188℃)、5-壬酮(5-nonanone)(187℃)、4-羟基-4-甲基-2-戊酮(4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone)(166℃)、2-甲基环己酮(2-methylcyclohexanone)(163℃)、3-甲基环己酮(3-methylcyclohexanone)(170℃)、4-甲基环己酮(4-methylcyclohexanone)(170℃)、2,6-二甲基环己酮(2,6-dimethylcyclohexanone)(175℃)、2,2,6-三甲基环己酮(2,2,6-trimethylcyclohexanone)(179℃)、环庚酮(cycloheptanone)(179℃)、乙酸己酯(hexyl acetate)(169℃)、丁酸戊酯(amyl butyrate)(185℃)、乳酸异丙酯(isopropyl lactate)(167℃)、乳酸丁酯(butyllactate)(186℃)、乙基-3-羟基丁酸酯(ethyl-3-hydroxybutyrate)(170℃)、乙基-3-乙氧基丁酸酯(ethyl-3-ethoxybutyrate)(170℃)、乙基-3-羟基丁酸酯(ethyl-3-hydroxybutyrate)(180℃)、丙基-2-羟基丙酸酯(propyl-2-hydroxypropionate)(169℃)、丙二醇二乙酸酯(propyleneglycol diacetate)(186℃)、丙二醇丁醚(propyleneglycolbutylether)(170℃)、丙二醇甲醚丙酸酯(propyleneglycol methyletherpropionate)(160℃)、二乙二醇二甲基醚(diethyleneglycol dimethylether)(162℃)、二乙二醇二甲基醚乙酸酯(diethyleneglycol dimethylether acetate)(165℃)、二丙二醇甲基醚(dipropyleneglycolmethylether)(188℃)、二丙二醇二甲基醚(dipropyleneglycoldimethylether)(171℃)、乙二醇丁醚(ethyleneglycol butylether)(171℃)、二乙二醇甲乙醚(diethyleneglycol methylethylether)(176℃)、二乙二醇甲基异丙基醚(diethyleneglycol methylisopropylether)(179℃)、二乙二醇二乙醚(diethyleneglycol diethylether)(189℃)、丁酸丁酯(butyl butyrate)(165℃)、乙基-3-乙氧基丙酸酯(ethyl-3-ethoxypropionate)(170℃)、二乙二醇单甲醚(diethyleneglycol monomethylether)(194℃)、4-乙基环己酮(4-ethylcyclohexanone)(193℃)、2-丁氧基乙基乙酸酯(2-butoxyethylacetate)(192℃)、二乙二醇单乙醚(diethyleneglycol monoethylether)(202℃)、丁内酯(butyrolactone)(204℃)、丁酸己酯(hexyl butyrate)(205℃)、二乙二醇甲基醚乙酸酯(diethyleneglycol methyletheracetate)(209℃)、二乙二醇丁基甲基醚(diethyleneglycol butyl methylether)(212℃)、三丙二醇二甲基醚(tripropylglycol dimethyl ether)(215℃)、三乙二醇二甲醚(triethyleneglycol dimethylether)(216℃)、二乙二醇乙醚乙酸酯(diethyleneglycol ethylether acetate)(217℃)、二乙二醇丁醚乙酸酯(diethyleneglycol butylether acetate)(245℃)、3-环氧-1,2-丙二醇(3-epoxy-1,2-propanediol)(222℃)、乙基-4-乙酰丁酸酯(ethyl-4-acetylbutyrate)(222℃)、二乙二醇单丁醚(diethyleneglycol monobutylether)(231℃)、三丙二醇甲基醚(tripropylglycol methyl ether)(242℃)、二乙二醇(diethyleneglycol)(245℃)、2-(2-丁氧基乙氧基)乙基乙酸酯(2-(2-butoxyethoxy)ethylacetate)(245℃)、邻苯二酚(catechol)(245℃)、三乙二醇甲醚(triethyleneglycol methylether)(249℃)、二乙二醇二丁醚(diethyleneglycol dibutylether)(256℃)、三乙二醇乙醚(triethyleneglycol ethylether)(256℃)、二乙二醇单庚醚(diethyleneglycol monoheptylether)(260℃)、三乙二醇丁基甲基醚(triethyleneglycol butyl methy ether)(261℃)、三乙二醇丁基醚(triethyleneglycol butylether)(271℃)、三丙二醇(tripropylglycol)(273℃)以及四乙二醇二甲醚(tetraethyleneglycol dimethylether)(276℃),括号内的温度为溶剂的沸点。
当溶剂仅由具有低沸点的物质组成时,涂布后该膜可在真空室干燥过程(VCD)中迅速干燥,其可导致VCD缺陷。在旋式组合物(spin-type composition)的情况下,晶边去除液(edge bead remover)(EBR)的清除效果可被减小,在非旋式组合物(spinless-typecomposition)的情况下,涂布机中的溶液可被干燥,其可造成突出状况。为防止这些现象,用于本发明的溶剂可为两种或多种上述溶剂的混合物。
所述着色剂可被直接添加到光敏树脂组合物中,或者含有着色剂的组合物也可被添加到光敏树脂组合物中。
所述着色剂组合物可含有着色剂和至少一种粘合剂、溶剂和分散剂。
在本发明的一个实施方案中,用于本发明的着色剂可为黑色颜料本身或者为黑色颜料与彩色颜料的混合物。
所述黑色颜料可为具有1011Ω·cm以上表面电阻的炭黑(通过处理碳黑以使其具有高电阻而获得),或者为炭黑与有机黑色颜料的混合物。当将有机黑色颜料添加到黑色颜料中时,将增加平均光学密度,并将平均光学密度(OD)调整至其在每个单位波长均统一,这样,该组合物将具有高的遮光性能。
所述炭黑可为选自以下的一种或者两种或多种的混合物:由Donghae Carbon,Co.,Ltd.制造的Cisto 5HIISAF-HS、Cisto KH、Cisto3HHAF-HS、Cisto NH、Cisto 3M、Cisto 300HAF-LS、Cisto116HMMAF-HS、Cisto 116MAF、Cisto FMFEF-HS、Cisto SOFEF、Cisto VGPF、Cisto SVHSRF-HS,以及Cisto SSRF;由Tokushiki Co.Ltd.制造的BK_8132;由Mitsubishi Chemical制造的Diagram blackII、Diagram black N339、Diagram black SH、Diagram black H、Diagram LH、Diagram HA、Diagram SF、Diagram N550M、DiagramM、Diagram E、Diagram G、Diagram R、Diagram N760M、DiagramLR、#2700、#2600、#2400、#2350、#2300、#2200、#1000、#980、#900、MCF88、#52、#50、#47、#45、#45L、#25、#CF9、#95、#3030、#3050、MA7、A77、MA8、MA11、MA100、MA40、OIL7B、OIL9B、OIL11B、OIL30B,以及OIL31B;由Degussa Corp.制造的PRINTEX-U、PRINTEX-V、PRINTEX-140U、PRINTEX-140V、PRINTEX-95、RINTEX-85、PRINTEX-75、PRINTEX-55、PRINTEX-45、PRINTEX-300、PRINTEX-35、PRINTEX-25、PRINTEX-200、PRINTEX-40、PRINTEX-30、PRINTEX-3、PRINTEX-A、SPECIALBLACK-550、SPECIAL BLACK-350、SPECIAL BLACK-250、SPECIAL BLACK-100,以及LAMP BLACK-101;以及由ColumbiaCarbon Co.,Ltd.制造的RAVEN-1100ULTRA、RAVEN-1080ULTRA、RAVEN-1060ULTRA、RAVEN-1040、RAVEN-1035、RAVEN-1020、RAVEN-1000、RAVEN-890H、RAVEN-890、RAVEN-880ULTRA、RAVEN-860ULTRA、RAVEN-850、RAVEN-820、RAVEN-790ULTRA、RAVEN-780ULTRA、RAVEN-760ULTRA、RAVEN-520、RAVEN-500、RAVEN-460、RAVEN-450、RAVEN-430ULTRA、RAVEN-420、RAVEN-410、RAVEN-2500ULTRA、RAVEN-2000、RAVEN-1500、RAVEN-1255、RAVEN-1250、RAVEN-1200、RAVEN-1190ULTRA,以及RAVEN-1170。
所述有机黑色颜料可具有1011Ω·cm以上的表面电阻。
本发明还提供一种用于触控边框层的光敏树脂组合物,其包含具有1011Ω·cm以上表面电阻的有机黑色颜料。
具有1011Ω·cm以上表面电阻的有机黑色颜料可为内酰胺黑(lactam black)、苯胺黑(aniline black),或苝黑(perylene black)。
在本发明的一个实施方案中,所述着色剂的含量为2至12重量份,基于100重量份的光敏树脂组合物计。
当着色剂的含量为2重量份以上时,因为薄膜的光学密度不会降低,因此所形成的膜将具有足够的遮光特性,当着色剂的含量为12重量份以下时,所述组合物将具有良好的显影特性,并且无残留。
与黑色颜料混合使用的彩色颜料的实例包括:胭脂红(carmine 6B,C.I.12490);酞菁绿(phthalocyanine green,C.I.74260);酞菁蓝(phthalocyanine blue,C.I.74160);苝黑(perylene black,BASF K0084.K0086);花菁黑(cyanine black);linol yellow(C.I.21090);linol yellowGRO(C.I.21090);联苯胺黄4T-564D(benzidine yellow 4T-564D);维多利亚纯蓝(victoria pure blue,C.I.42595);C.I.颜料红(PIGMENTRED)97、122、149、168、177、180、192和215;C.I.颜料绿(PIGMENTGREEN)7和36;C.I.PIGMENT 15:1、15:4、15:6、22、60和64;C.I.颜料黄(PIGMENT yellow)83和139;C.I.颜料紫(PIGMENTVIOLET)23等;以及白色颜料、荧光颜料等。
在本发明的一个实施方案中,所述光敏树脂组合物可进一步包括一种或多种第一添加剂,其选自表面活性剂、分散剂、抗氧化剂、UV吸收剂、热聚合抑制剂,以及均化剂。这些添加剂可为本领域已知的任何材料。
表面活性剂的实例包括,但是不限于:由DIC Co.Ltd制造的MCF350SF、F-475、F-488和F-552。
通过用分散剂处理颜料表面,可将分散剂添加到颜料内或颜料外。
用于本发明的分散剂可为聚合型(polymeric)、非离子型(non-ionic)、阴离子型(anionic)或阳离子型(cationic)分散剂。分散剂的非限制性实例包括聚亚烷基二醇(polyalkyleneglycol)及其酯、聚氧化烯多元醇(polyoxyalkylene polyhydric alcohol)、酯环氧烷加合物(ester alkylene oxide adducts)、醇环氧烷加合物(alcoholalkylene oxide adducts)、磺酸酯(sulfonic ester)、磺酸盐(sulfonate)、羧酸酯(carboxylic ester)、羧酸盐(carboxylate)、烷基酰胺环氧烷加合物(alkylamide alkylene oxide adducts)、烷基胺(alkylamine)等。其中,可使用它们中的两种或多种的混合物,但是本发明的范围不限于此。
抗氧化剂的非限定性实例包括2,2-硫代双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)(2,2-thiobis(4-methyl-6-t-butylphenol)、2,6-g,t-丁基苯酚(2,6-g,t-butylphenol)等。
UV吸收剂的非限定性实例包括2-(3-叔丁基-5-甲基-2-羟基苯基)-5-氯-苯并三唑(2-(3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl)-5-chloro-benzotriazole)、烷氧基二苯甲酮(alkoxy benzophenone)等。
热聚合抑制剂的非限定性实例包括2-巯基咪唑(2-mercaptoimidazole)、对甲氧基苯酚(p-methoxyphenol)、二-叔丁基-对甲苯酚(di-t-butyl-p-cresol)、联苯三酚(pyrogarol)、叔丁基儿茶酚(t-butylcatechol)、苯醌(benzoquinone)、4,4-硫代双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)(4,4-thiobis(3-methyl-6-t-butylphenol)、2,2-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)(2,2-methylenebis(4-methyl-6-t-butylphenol))、2-巯基咪唑(2-mercaptoimidazole),及其两种或多种的混合物。
此外,所述光敏树脂组合物可进一步包括一种或多种第二添加剂,其选自炭黑分散剂、具有功能性的树脂粘合剂、单体、辐射敏化剂(radiation-sensitive compound),以及其他添加剂。
在本发明的一个实施方案中,添加剂的含量高于0重量份,但不高于5重量份,基于100重量份的该组合物计。
本发明还提供一种使用该光敏树脂组合物形成的图案。
所述图案可为边框图案,优选为在显示面板中形成的边框图案,且更优选为在触控面板中形成的边框图案。
在本发明的一个实施方案中,所述图案具有0.3μ.至5μm的层厚度。
当所述图案具有0.3μm至5μm的层厚度时,可防止金属线路的短路。
所述图案可具有0.8μm至3μm的层厚度。
当所述图案的层厚度为0.8μm以上时,遮光特性不会降低,当所述图案的层厚度为3μm以下时,可确保遮光特性。
鉴于遮光特性,所述图案的层厚度可为1.5μm至2μm。
在本发明的一个实施方案中,使用本发明的光敏树脂组合物形成的图案,在可见光波长范围内(380至780nm),具有3.0以上的光学密度(OD)。
使用本发明的光敏树脂组合物形成的图案,在可见光波长范围内(380至780nm),可具有3.5以上的光学密度(OD)。
使用本发明的光敏树脂组合物形成的图案,在可见光波长范围内(380至780nm),可具有4.0以上的光学密度(OD)。
在本发明的一个实施方案中,所述图案通过包含下列步骤的方法形成:将光敏树脂组合物涂布于基板上;将已涂布的树脂组合物曝光并显影。
本发明还提供一种制作图案的方法。
在本发明的一个实施方案中,用于制作图案的方法包括以下步骤:将光敏树脂组合物涂布于基板上;将已涂布的树脂组合物曝光并显影。
所述基板可由玻璃、塑料或金属材料制成,但不限于此。
涂布光敏树脂组合物的步骤可使用喷射法(spray method)、辊涂法(roll coating method)、旋涂法(spin coating method)、棒涂法(bar coating method)或狭缝涂布法(slit coating method)进行。
在涂布光敏树脂组合物的步骤之后,可通过预烘烤(pre-baking)移除溶剂,从而形成薄膜。预烘烤可在70至150℃温度范围内进行0.5至30分钟。
预烘烤后,使用例如具有所需图案的光掩模曝光已涂布的光敏树脂组合物,然后利用合适的显影溶液将所曝光的光敏树脂层进行显影,从而制造边框层。
已曝光树脂层的显影可使用浸渍法、淋浴法、喷涂法、桨法等进行。显影时间可为约30至180秒。
用于本发明的显影溶液的实例包括:无机碱例如氢氧化钠、氢氧化钾、硅酸钠、偏硅酸钠或氨的水溶液;伯胺例如乙胺或N-丙胺的水溶液;仲胺例如二乙胺或二-n-丙胺的水溶液;叔胺例如三甲胺、甲基二乙基胺或二甲基乙基胺的水溶液;三级醇胺例如二甲基乙醇胺、甲基二乙醇胺或三乙醇胺的水溶液;三级环胺例如吡咯、哌啶、n-甲基哌啶、n-甲基吡咯烷酮、1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一碳烯或1,5-二氮杂双环[4.3.0]-5-壬烯的水溶液;芳香三级胺例如吡啶、骨溜胺、二甲基吡啶或喹啉的水溶液;以及季铵盐例如四甲基氢氧化铵或四乙基氢氧化铵的水溶液。
显影之后,以流水清洗该层约30至90秒,并在空气或氮气气氛中干燥,从而形成图案。可使用如加热板或烘箱的加热装置对该图案进行后烘烤,从而得到边框层。
本发明还提供一种显示面板。
在本发明的一个实施方案中,显示面板包含上述图案。
所述显示面板具体可为包含上述边框图案的显示面板,且更具体可为包含该边框图案的触控面板。
在下文,将参照实施例、比较实施例和实验实施例进一步详述本发明。然而,应理解,这些实施例、比较实施例和实验实施例仅为说明目的,而非限制本发明的范围。
实施例1
将10重量份的碳分散剂(由20重量份的碳分散在100重量份的BK_8132中形成,由Tokyshiki Co.Ltd.制造)与1重量份的作为碱溶性丙烯酸系粘合剂1的甲基丙烯酸苄酯(benzylmethacrylate)/N-苯基马来酰亚胺(N-phenylmaleimide)/苯乙烯(styrene)/甲基丙烯酸缩水甘油酯(glycidyl methacrylate)/甲基丙烯酸(methacrylic acid)(摩尔比:38/7/7/21/27;重均分子量Mw=9000;酸值:105KOH mg/g;固含量:30重量份,基于100重量份的聚合粘合剂计)、3重量份的作为丙烯酸系粘合剂2的甲基丙烯酸苄酯/N-苯基马来酰亚胺/苯乙烯/甲基丙烯酸月桂酯(laurylmethacrylate)/甲基丙烯酸(摩尔比:40/7/8/14/31;重均分子量Mw=19000;酸值:124KOH mg/g;固含量:30重量份,基于100重量份的聚合粘合剂计)、1.8重量份的作为多官能单体的二季戊四醇六丙烯酸酯(dipentaerythritol hexaacrylate)、1.5重量份的作为光聚合引发剂的N-1919(由Adeka Corp.制造)、0.1重量份的作为环氧粘合促进剂的SQ506(环氧当量:350g/eq;由Arakawa Co.,Ltd.制造)、0.1重量份的作为均化剂的F-475(由DIC Co.,Ltd.制造),以及26.5重量份的丙二醇单甲基醚乙酸酯和56重量份的作为溶剂的3-甲氧基丁基乙酸酯进行混合。
然后,搅拌该混合物5小时,以得到光敏树脂组合物。
将所得光敏树脂组合物旋涂在金属基板(ITO基板)上,然后在约100℃下预烘烤2分钟,以形成具有约1.44μ.厚度的薄膜。随后,将基板上的薄膜在室温下冷却,并在高压汞灯下以约100mJ/cm2的能量使用光掩模曝光该薄膜。在25℃下,使用喷射法,于0.04%的KOH水溶液中显影该已曝光基板,并以纯水清洗、干燥,并在对流烘箱中在230℃下后烘烤该基板20分钟。
如上述所获得的薄膜是一种干净的薄膜,其在制造过程的任何步骤中均没有呈现出表面缺陷。此外,该薄膜具有1.31μm的厚度和5.0的光学密度(OD),这意味着可确保边框层具有良好的平直性。
实施例2
将10重量份的碳分散剂(由20重量份的碳分散在100重量份的BK_8132中形成,由Tokyshiki Co.Ltd.制造)与1重量份的作为碱溶性丙烯酸系粘合剂1的甲基丙烯酸苄酯/N-苯基马来酰亚胺/苯乙烯/甲基丙烯酸缩水甘油酯/甲基丙烯酸(摩尔比:38/7/7/21/27;重均分子量Mw=9000;酸值:105KOH mg/g;固含量:30重量份,基于100重量份的聚合粘合剂计)、2重量份的作为丙烯酸系粘合剂2的甲基丙烯酸苄酯/N-苯基马来酰亚胺/苯乙烯/甲基丙烯酸月桂酯/甲基丙烯酸(摩尔比:40/7/8/14/31;重均分子量Mw=19000;酸值:124KOH mg/g;固含量:30重量份,基于100重量份的聚合粘合剂计)、1重量份的作为甲酚酚醛型环氧树脂(cresol novolac type epoxy resin)的EOCN-70(Nippon Kayaku;环氧当量:198g/eq)、1.8重量份的作为多官能单体的二季戊四醇六丙烯酸酯、1.5重量份的作为光聚合引发剂的N-1919(由Adeka Corp.制造)、0.1重量份的作为环氧粘合促进剂的SQ506(环氧当量:350g/eq;由Arakawa Co.,Ltd.制造)、0.1重量份的作为均化剂的F-475(由DIC Co.,Ltd.制造),以及26.5重量份的丙二醇单甲基醚乙酸酯和56重量份的作为溶剂的3-甲氧基丁基乙酸酯进行混合。
然后,搅拌该混合物5小时,以得到光敏树脂组合物。
将所得光敏树脂组合物旋涂于金属基板(ITO基板)上,然后在约100℃下预烘烤2分钟,以形成具有约1.44μm厚度的薄膜。随后,将基板上的薄膜在室温下冷却,并在高压汞灯下以约100mJ/cm2的能量使用光掩模曝光该薄膜。在25℃下,使用喷射法,于0.04%的KOH水溶液中显影该已曝光的基板,以纯水清洗、干燥,并于对流烘箱中在230℃下后烘烤该基板20分钟。
如上述所获得的薄膜是一种干净的薄膜,其在制造过程的任何步骤均中没有呈现出表面缺陷。此外,该薄膜具有1.31μm的厚度及5.0的光学密度(OD),这意味着可确保边框层具有良好的平直性。
实施例3
将10重量份的碳分散剂(由20重量份的碳分散在100重量份的BK_8132中形成,Tokyshiki Co.Ltd.制造)与1重量份的作为碱溶性丙烯酸系粘合剂1的甲基丙烯酸苄酯/N-苯基马来酰亚胺/苯乙烯/甲基丙烯酸缩水甘油酯/甲基丙烯酸(摩尔比:38/7/7/21/27;重均分子量Mw=9000;酸值:105KOH mg/g;固含量:30重量份,基于100重量份的聚合粘合剂计)、2重量份的作为丙烯酸系粘合剂2的甲基丙烯酸苄酯/N-苯基马来酰亚胺/苯乙烯/甲基丙烯酸月桂酯/甲基丙烯酸(摩尔比:40/7/8/14/31;重均分子量Mw=19000;酸值:124KOH mg/g;固含量:30重量份,基于100重量份的聚合粘合剂计)、1重量份的作为甲酚酚醛型环氧树脂的EOCN-70(Nippon Kayaku;环氧当量:198g/eq)、1.8重量份的作为多官能单体的二季戊四醇六丙烯酸酯、1.5重量份的作为光聚合引发剂的N-1919(由Adeka Corp.制造)、0.1重量份的作为环氧粘合促进剂的SQ502(环氧当量:250g/eq;由Arakawa Co.,Ltd.制造)、0.1重量份的作为均化剂的F-475(由DIC Co.,Ltd.制造),以及26.5重量份的丙二醇单甲基醚乙酸酯和56重量份的作为溶剂的3-甲氧基丁基乙酸酯进行混合。
然后,搅拌该混合物5小时,以得到光敏树脂组合物。
将所得光敏树脂组合物旋涂于金属基板(ITO基板)上,然后在约100℃下预烘烤2分钟,以形成具有约1.44μm厚度的薄膜。随后,将基板上的薄膜在室温下冷却,并在高压汞灯下以约100mJ/cm2的能量使用光掩模曝光该薄膜。在25℃下,使用喷射法,于0.04%的KOH水溶液中显影该已曝光的基板,以纯水清洗、干燥,并于对流烘箱中在230℃下后烘烤该基板20分钟。
如上述所获得的薄膜是一种干净的薄膜,其在制造过程的任何步骤中均没有呈现出表面缺陷。此外,该薄膜具有1.31μm的厚度及5.0的光学密度(OD),这意味着可确保边框层具有良好的平直性。
比较实施例1
将10重量份的碳分散剂(由20重量份的碳分散在100重量份的BK_8132中形成,Tokyshiki Co.Ltd.制造)与1重量份的作为碱溶性丙烯酸系粘合剂1的甲基丙烯酸苄酯/N-苯基马来酰亚胺/苯乙烯/甲基丙烯酸缩水甘油酯/甲基丙烯酸(摩尔比:38/7/7/21/27;重均分子量Mw=9000;酸值:105KOH mg/g;固含量:30重量份,基于100重量份的聚合粘合剂计)、3重量份的作为丙烯酸系粘合剂2的甲基丙烯酸苄酯/N-苯基马来酰亚胺/苯乙烯/甲基丙烯酸月桂酯/甲基丙烯酸(摩尔比:40/7/8/14/31;重均分子量Mw=19000;酸值:124KOH mg/g;固含量:30重量份,基于100重量份的聚合粘合剂计)、1.8重量份的作为多官能单体的二季戊四醇六丙烯酸酯、1.5重量份的作为光聚合引发剂的N-1919(由Adeka Corp.制造)、5重量份的作为粘合促进剂的3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(3-methacryloxypropyltrimethoxysilane)、0.1重量份的作为均化剂的F-475(由DIC Co.,Ltd.制造),以及26.6重量份的丙二醇单甲基醚乙酸酯和56重量份的作为溶剂的3-甲氧基丁基乙酸酯混合。
然后,搅拌该混合物5小时,以得到光敏树脂组合物。
将所得光敏树脂组合物旋涂于金属基板(ITO基板)上,然后在约100℃下预烘烤2分钟,以形成具有约1.44μm厚度的薄膜。随后,将基板上的薄膜在室温下冷却,并在高压汞灯下以约100mJ/cm2的能量使用光掩模曝光该薄膜。在25℃下,使用喷射法,于0.04%的KOH水溶液中显影该已曝光的基板,以纯水清洗、干燥,并于对流烘箱中在230℃下后烘烤该基板20分钟。
如上述所获得的薄膜可提供具有1.31μm厚度的边框层。
比较实施例2
将10重量份的作为着色剂组合物的碳分散剂(由20重量份的碳分散在100重量份的BK_8132中形成,由Tokyshiki Co.Ltd.制造)与1重量份的作为碱溶性丙烯酸系粘合剂1的甲基丙烯酸苄酯/N-苯基马来酰亚胺/苯乙烯/甲基丙烯酸缩水甘油酯/甲基丙烯酸(摩尔比:38/7/7/21/27;重均分子量Mw=9000;酸值:105KOH mg/g;固含量:30重量份,基于100重量份的聚合粘合剂计)、3重量份的作为丙烯酸系粘合剂2的甲基丙烯酸苄酯/N-苯基马来酰亚胺/苯乙烯/甲基丙烯酸月桂酯/甲基丙烯酸(摩尔比:40/7/8/14/31;重均分子量Mw=19000;酸值:124KOH mg/g;固含量:30重量份,基于100重量份的聚合粘合剂计)、1.8重量份的作为甲酚酚醛型环氧树脂的EOCN-70(NipponKayaku;环氧当量:198g/eq)、1.5重量份的作为多官能单体的二季戊四醇六丙烯酸酯、5重量份的作为光聚合引发剂的N-1919(由AdekaCorp.制造)、5重量份的作为粘合促进剂的3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、0.1重量份的作为均化剂的F-475(由DIC Co.,Ltd.制造),以及26.6重量份的丙二醇单甲基醚乙酸酯和56重量份的作为溶剂的3-甲氧基丁基乙酸酯混合。
然后,搅拌该混合物5小时,以得到光敏树脂组合物。
将所得光敏树脂组合物旋涂于金属基板(ITO基板)上,然后在约100℃下预烘烤2分钟,以形成具有约1.44μm厚度的薄膜。随后,将基板上的薄膜在室温下冷却,并在高压汞灯下以约100mJ/cm2的能量使用光掩模曝光该薄膜。在25℃下,使用喷射法,于0.04%的KOH水溶液中显影该已曝光的基板,以纯水清洗、干燥,并于对流烘箱中在230℃下后烘烤该基板20分钟。
如上述所获得的薄膜是一种干净的薄膜,其在制造过程的任何步骤中均没有呈现出表面缺陷。此外,该薄膜可提供具有1.31μm厚度的边框层。
实验实施例:耐化学性及对金属粘着性的评估
由实施例1至3及比较实施例1所获得的其上形成有边框层的基板,被依序浸渍在用于形成金属图案的蚀刻剂和去膜剂中,然后,测定该边框层的粘着性,以评估该边框层是否从金属基板(ITO基板)上剥离。评估结果显示于下表1。
表1
O:良好且无图案剥离
X:发生图案剥离
由上表1的结果可见,本发明的用于黑色光刻胶的光敏树脂组合物对于蚀刻剂和去膜剂具有耐化学性,并且因此具有优异的金属粘着性,且无剥离。此外,所述光敏树脂组合物的特征在于,其包含环氧粘合剂和环氧粘合促进剂之一或两者。
此外,可以看出,相比于不含环氧粘合剂和环氧粘合促进剂的比较实施例1的组合物,或相比于仅含环氧粘合剂而不含环氧粘合促进剂的比较实施例2的组合物,含环氧粘合促进剂的实施例1和2的组合物具有提高的耐化学性。
具体而言,相比于不含环氧粘合剂或环氧粘合促进剂的比较实施例1的组合物,或相比于仅含环氧粘合剂而不含环氧粘合促进剂的比较实施例2的组合物,含有环氧粘合剂和环氧粘合促进剂的实施例2的组合物具有显著提高的耐化学性。此外,相比于仅含环氧粘合剂而不含环氧粘合促进剂的实施例1的组合物,实施例2的组合物具有提高的耐化学性。
在金属图案形成期间的蚀刻步骤和去膜步骤之后,耐化学性的提高,可使光敏树脂组合物对金属图案和基板的粘着性提高。此外,已显示,不含环氧粘合剂或环氧粘合促进剂的比较实施例1的组合物的耐化学性和粘着性,显著低于实施例1、2和3的组合物的耐化学性和粘着性。
本发明不限于上述实施方案,任何本领域普通技术人员将理解,在不脱离本发明范围的情况下,可进行各种应用和修改。
虽然已参照具体特征详细描述了本发明,但本领域普通技术人员应理解,这些描述仅为本发明的优选实施方案,并未限制本发明的范围。因此,本发明的实质范围将由所附权利要求及同等方案来定义。

Claims (27)

1.一种光敏树脂组合物,包含:碱溶性粘合剂、可交联的化合物、光聚合引发剂、溶剂、着色剂和环氧粘合促进剂。
2.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物,进一步包含环氧粘合剂。
3.根据权利要求2所述的光敏树脂组合物,其中,所述环氧粘合剂选自双酚型环氧树脂、酚醛型环氧树脂、缩水甘油酯型环氧树脂、缩水甘油胺型环氧树脂、直链型脂族环氧树脂、脂环族环氧树脂以及联苯型环氧树脂。
4.根据权利要求2所述的光敏树脂组合物,其中,所述环氧粘合剂具有5000g/eq以下的环氧当量。
5.根据权利要求2所述的光敏树脂组合物,其中,所述环氧粘合剂的含量为10至50重量份,基于100重量份的粘合剂计。
6.根据权利要求2所述的光敏树脂组合物,其中,所述环氧粘合剂的含量为1至10重量份,基于100重量份的光敏树脂组合物计。
7.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物,其中,所述环氧粘合促进剂为硅倍半氧烷。
8.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物,其中,所述环氧粘合促进剂的含量为0.01至1重量份,基于100重量份的光敏树脂组合物计。
9.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物,其中,所述碱溶性粘合剂的含量为1至20重量份,基于100重量份的光敏树脂组合物计。
10.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物,其中,所述可交联的化合物的含量为1至10重量份,基于100重量份的光敏树脂组合物计。
11.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物,其中,所述光聚合引发剂的含量为0.1至10重量份,基于100重量份的光敏树脂组合物计。
12.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物,其中,所述溶剂的含量为40至90重量份,基于100重量份的光敏树脂组合物计。
13.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物,其中,所述着色剂的含量为2至12重量份,基于100重量份的光敏树脂组合物计。
14.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物,其中,所述碱溶性粘合剂包含基于卡多的粘合剂和丙烯酸系粘合剂中的一种或多种。
15.根据权利要求14所述的光敏树脂组合物,其中,所述基于卡多的粘合剂包括由下式1所表示的重复单元:
式1
其中Rx是由五元环状羧酸酐或二异氰酸酯反应形成的结构,
Ry选自氢、丙烯酰基和甲基丙烯酰基,
R1至R3各自独立地选自氢、卤素基团、取代或未取代的C1至C5烷基、取代或未取代的C1至C5烷氧基,以及取代或未取代的C2至C5烯基,
R4至R7各自独立地选自取代或未取代的C1至C5亚烷基、取代或未取代的C1至C5亚烷氧基,以及取代或未取代的C2至C5亚烯基,
l为1至4的整数,
m为1至8的整数,以及
n为由式1所表示的重复单元的数目。
16.根据权利要求14所述的光敏树脂组合物,其中,所述基于卡多的粘合剂具有10至200KOH mg/g的酸值,以及1,000至30,000的重均分子量。
17.根据权利要求14所述的光敏树脂组合物,其中,所述丙烯酸系粘合剂具有10至200KOH mg/g的酸值,以及1,000至50,000的重均分子量。
18.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物,进一步包括光交联敏化剂或固化促进剂。
19.根据权利要求18所述的光敏树脂组合物,其中,光交联敏化剂或固化促进剂的含量为0.01至10重量份,基于100重量份的光聚合引发剂计。
20.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物,其中,所述着色剂包括炭黑或黑色颜料,所述黑色颜料为炭黑与有机黑色颜料的混合物。
21.根据权利要求20所述的光敏树脂组合物,其中,所述炭黑具有1011Ω·cm以上的表面电阻。
22.一种图案,其为使用权利要求1至21任一项的光敏树脂组合物所形成。
23.根据权利要求22所述的图案,其中,所述图案为边框图案。
24.根据权利要求22所述的图案,其中,所述图案具有0.3μm至5μm的层厚度以及3以上的光学密度(OD)。
25.一种用于制作图案的方法,所述方法包括以下步骤:将权利要求1至21中任一项的光敏树脂组合物涂布于基板上;将已涂布的光敏树脂组合物曝光并显影。
26.一种显示面板,其包含权利要求22所述的图案。
27.根据权利要求26所述的显示面板,其中,所述显示面板为触控面板。
CN201380026833.9A 2012-05-25 2013-05-24 光敏树脂组合物、使用其形成的图案以及包含其的显示面板 Active CN104335120B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2012-0056398 2012-05-25
KR20120056398 2012-05-25
PCT/KR2013/004572 WO2013176517A1 (ko) 2012-05-25 2013-05-24 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 형성된 패턴 및 이를 포함하는 디스플레이 패널

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104335120A true CN104335120A (zh) 2015-02-04
CN104335120B CN104335120B (zh) 2018-04-03

Family

ID=49624124

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201380026833.9A Active CN104335120B (zh) 2012-05-25 2013-05-24 光敏树脂组合物、使用其形成的图案以及包含其的显示面板

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9341946B2 (zh)
JP (1) JP6095023B2 (zh)
KR (2) KR20130132322A (zh)
CN (1) CN104335120B (zh)
TW (1) TWI564661B (zh)
WO (1) WO2013176517A1 (zh)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107107603A (zh) * 2015-08-26 2017-08-29 株式会社Lg化学 用于胶版印刷的铅版的制造方法以及用于胶版印刷的铅版
CN107561860A (zh) * 2016-06-30 2018-01-09 东京应化工业株式会社 感光性树脂组合物及其应用
CN107703658A (zh) * 2016-08-08 2018-02-16 东京应化工业株式会社 基板的制造方法
CN108475013A (zh) * 2016-01-18 2018-08-31 罗门哈斯电子材料韩国有限公司 黑色感光性树脂组合物和由其制备的黑色柱状间隔物
CN108699245A (zh) * 2016-02-19 2018-10-23 Ltc有限公司 聚倍半硅氧烷树脂组合物及包含其的遮光用黑色抗蚀剂组合物
CN110872455A (zh) * 2018-08-31 2020-03-10 东友精细化工有限公司 白色树脂组合物、背光单元以及显示装置

Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6018704B2 (ja) * 2012-05-30 2016-11-02 エルジー・ケム・リミテッド 感光性樹脂組成物および前記感光性樹脂組成物から製造されたベゼルパターンを含むタッチパネル
KR101661673B1 (ko) * 2014-02-12 2016-09-30 제일모직 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 차광층 및 컬러필터
WO2016048116A1 (ko) * 2014-09-26 2016-03-31 주식회사 엘지화학 자외선 경화형 잉크 조성물, 이를 이용한 디스플레이 기판의 베젤 패턴의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 베젤 패턴
WO2016048115A1 (ko) * 2014-09-26 2016-03-31 주식회사 엘지화학 자외선 경화형 잉크 조성물, 이를 이용한 디스플레이 기판의 베젤 패턴의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 베젤 패턴
CN107004384B (zh) 2014-09-26 2019-09-06 株式会社Lg化学 可紫外光固化的油墨组合物、使用其制造显示基板的边框图案的方法以及制造的边框图案
WO2016048117A1 (ko) * 2014-09-26 2016-03-31 주식회사 엘지화학 자외선 경화형 잉크 조성물, 이를 이용한 디스플레이 기판의 베젤 패턴의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 베젤 패턴
WO2016048119A1 (ko) * 2014-09-26 2016-03-31 주식회사 엘지화학 자외선 경화형 잉크 조성물, 이를 이용한 디스플레이 기판의 베젤 패턴의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 베젤 패턴
WO2016048120A1 (ko) * 2014-09-26 2016-03-31 주식회사 엘지화학 자외선 경화형 잉크 조성물, 이를 이용한 디스플레이 기판의 베젤 패턴의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 베젤 패턴
WO2016048118A1 (ko) * 2014-09-26 2016-03-31 주식회사 엘지화학 자외선 경화형 잉크 조성물, 이를 이용한 디스플레이 기판의 베젤 패턴의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 베젤 패턴
US10723900B2 (en) 2014-10-21 2020-07-28 Lg Chem, Ltd. UV curable ink for inkjet, method for manufacturing a bezel using the same, a bezel pattern using the same method and display panel comprising the bezel pattern
KR101703166B1 (ko) 2014-10-21 2017-02-06 주식회사 엘지화학 잉크젯용 자외선 경화성 잉크, 이를 이용한 베젤의 제조방법, 이에 따라 제조한 배젤 패턴 및 이를 포함하는 디스플레이 기판
KR101767082B1 (ko) 2014-11-17 2017-08-10 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터
KR101730224B1 (ko) 2014-11-26 2017-04-25 주식회사 엘지화학 잉크젯용 자외선 경화성 잉크를 이용한 미세 패턴부가 선명한 베젤의 제조방법, 이에 따라 제조한 배젤 패턴 및 이를 포함하는 전자 소자
KR101813338B1 (ko) 2014-12-11 2017-12-28 주식회사 엘지화학 베젤용 감광성 유색 잉크 조성물, 이를 이용하여 형성된 베젤 패턴 및 이를 포함하는 디스플레이 기판
WO2016093672A1 (ko) * 2014-12-11 2016-06-16 주식회사 엘지화학 베젤용 감광성 유색 잉크 조성물, 이를 이용하여 형성된 베젤 패턴 및 이를 포함하는 디스플레이 기판
KR20160094668A (ko) * 2015-02-02 2016-08-10 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 이로써 제조된 컬럼 스페이서 및 이를 구비한 액정 표시 장치
KR102332736B1 (ko) * 2015-02-02 2021-12-01 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 이로써 제조된 컬럼 스페이서 및 이를 구비한 액정 표시 장치
CN104617111B (zh) * 2015-02-03 2017-08-25 京东方科技集团股份有限公司 基板及其制造方法、显示装置
KR101952735B1 (ko) * 2015-11-27 2019-02-27 주식회사 엘지화학 터치패널용 커버글라스의 인쇄방법 및 이에 의해 제조된 터치패널용 커버글라스
KR102548202B1 (ko) * 2016-09-29 2023-06-26 동우 화인켐 주식회사 비표시부의 패턴 형성용 조성물 및 이를 이용하는 커버 윈도우 기판
KR101840347B1 (ko) * 2016-10-26 2018-03-20 동우 화인켐 주식회사 자발광 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상 표시 장치
KR102134633B1 (ko) * 2016-11-25 2020-07-16 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치
KR102226800B1 (ko) * 2016-12-16 2021-03-10 주식회사 엘지화학 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물, 이를 이용한 디스플레이 기판의 베젤 패턴의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 베젤 패턴
KR102517695B1 (ko) * 2017-01-20 2023-04-03 제이에스알 가부시끼가이샤 감광성 조성물, 경화막 및 그의 제조 방법, 그리고 표시 소자, 발광 소자 및 수광 소자
KR102128598B1 (ko) * 2017-06-08 2020-06-30 주식회사 엘지화학 블랙 컬럼 스페이서용 감광성 수지 조성물 및 블랙 컬럼 스페이서
KR102648724B1 (ko) 2017-08-17 2024-03-18 삼성전자주식회사 조성물, 이로부터 제조된 양자점-폴리머 복합체와 적층 구조물, 및 이를 포함하는 전자 소자
KR102178853B1 (ko) * 2017-08-18 2020-11-13 주식회사 엘지화학 잉크젯용 적외선 투과 잉크 조성물, 이를 이용한 베젤 패턴의 형성방법, 이에 따라 제조한 베젤 패턴 및 이를 포함하는 디스플레이 기판
KR102216075B1 (ko) 2017-12-27 2021-02-15 주식회사 엘지화학 자외선 경화형 잉크 조성물, 이를 이용한 디스플레이 기판의 베젤 패턴의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 베젤 패턴
KR102284582B1 (ko) * 2018-04-04 2021-08-02 삼성에스디아이 주식회사 적색 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터
KR20230039291A (ko) * 2021-09-14 2023-03-21 주식회사 케이씨씨 감광성 수지 조성물

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6577802B1 (en) * 2000-07-13 2003-06-10 Corning Incorporated Application of silane-enhanced adhesion promoters for optical fibers and fiber ribbons
KR20090071694A (ko) * 2007-12-28 2009-07-02 주식회사 코오롱 감광성 수지 조성물
TW201214043A (en) * 2010-09-30 2012-04-01 Kolon Inc Photosensitive resin composition for organic insulator
CN102445841A (zh) * 2010-10-13 2012-05-09 第一毛织株式会社 光敏树脂组合物和使用其的挡光层

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3254572B2 (ja) 1996-06-28 2002-02-12 バンティコ株式会社 光重合性熱硬化性樹脂組成物
US20030113640A1 (en) * 1998-07-14 2003-06-19 Sabnis Ram W. Photosensitive black matrix
KR100673296B1 (ko) * 2003-12-18 2007-01-24 주식회사 코오롱 액정 표시 소자의 칼럼 스페이서용 감광성 수지 조성물
CN104133343B (zh) * 2005-05-23 2016-11-16 日立化成株式会社 感光性树脂组合物,感光性元件,光致抗蚀图形的形成方法及印刷电路板的制造方法
JP5255783B2 (ja) * 2006-06-01 2013-08-07 新日鉄住金化学株式会社 カラーフィルター用レジスト組成物及びその製造方法並びにそれを用いたカラーフィルター
KR100961818B1 (ko) * 2007-02-21 2010-06-08 주식회사 엘지화학 블랙 매트릭스용 감광성 수지 조성물, 이에 의해 형성되는블랙 매트릭스 및 이를 포함하는 액정표시소자
JP2008233244A (ja) 2007-03-16 2008-10-02 Fujifilm Corp 硬化性着色組成物、カラーフィルタ及び液晶表示装置
KR101034347B1 (ko) 2007-06-08 2011-05-16 주식회사 엘지화학 감광성 수지 조성물
WO2009048231A2 (en) * 2007-10-11 2009-04-16 Lg Chem. Ltd. Fluorene-based polymer containing urethane groups, preparation method thereof and negative-type photosensitive resin composition comprising the same
KR101032275B1 (ko) * 2007-11-08 2011-05-06 주식회사 엘지화학 착색 분산액, 감광성 수지조성물 및 블랙매트릭스
JP5105073B2 (ja) * 2008-03-24 2012-12-19 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物、ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズの製造方法
JP5222624B2 (ja) * 2008-05-12 2013-06-26 富士フイルム株式会社 黒色感光性樹脂組成物、及びカラーフィルタ並びにその製造方法
JP5611544B2 (ja) * 2008-06-20 2014-10-22 昭和電工株式会社 (メタ)アクリロイルオキシ基含有篭状シルセスキオキサン化合物およびその製造方法
JP5581614B2 (ja) 2008-07-31 2014-09-03 Jsr株式会社 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
JP5498051B2 (ja) * 2009-04-24 2014-05-21 新日鉄住金化学株式会社 隔壁及びカラーフィルター
JP2011039404A (ja) * 2009-08-17 2011-02-24 Asahi Glass Co Ltd 光学素子隔壁形成用感光性組成物、これを用いたブラックマトリックスおよびその製造方法、並びにカラーフィルタの製造方法
JP2011048195A (ja) 2009-08-27 2011-03-10 Asahi Glass Co Ltd 光学素子隔壁形成用感光性組成物、これを用いたブラックマトリックスおよびその製造方法、並びにカラーフィルタオンアレイの製造方法
KR101759929B1 (ko) 2009-11-20 2017-07-20 코오롱인더스트리 주식회사 감광성 수지 조성물
JP5515714B2 (ja) 2009-12-16 2014-06-11 Jsr株式会社 着色組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
KR101068622B1 (ko) 2009-12-22 2011-09-28 주식회사 엘지화학 기판접착력이 향상된 고차광성 블랙매트릭스 조성물
KR101333696B1 (ko) 2009-12-29 2013-11-27 제일모직주식회사 신규한 카도계 수지 및 이를 포함하는 컬러필터용 감광성 수지 조성물
JP5431225B2 (ja) 2010-03-29 2014-03-05 新日鉄住金化学株式会社 アルカリ現像性感光性樹脂組成物、及びこれを用いて形成した表示素子向け隔壁、並びに表示素子
KR101319919B1 (ko) * 2010-10-13 2013-10-22 제일모직주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층
JP5698510B2 (ja) * 2010-12-07 2015-04-08 新日鉄住金化学株式会社 遮光性組成物及びカラーフィルター
WO2012086610A1 (ja) * 2010-12-20 2012-06-28 旭硝子株式会社 感光性樹脂組成物、隔壁、カラーフィルタおよび有機el素子
WO2013051805A2 (en) 2011-10-02 2013-04-11 Kolon Industries, Inc Photosensitive resin composition
JP5957952B2 (ja) * 2012-02-24 2016-07-27 三菱化学株式会社 感光性着色樹脂組成物、及びカラーフィルタ、及び液晶表示装置
KR20140066417A (ko) * 2012-11-23 2014-06-02 삼성전기주식회사 터치 스크린 모듈 및 이의 제조방법
JP5668118B2 (ja) * 2013-09-20 2015-02-12 新日鉄住金化学株式会社 感光性樹脂組成物及び硬化膜

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6577802B1 (en) * 2000-07-13 2003-06-10 Corning Incorporated Application of silane-enhanced adhesion promoters for optical fibers and fiber ribbons
KR20090071694A (ko) * 2007-12-28 2009-07-02 주식회사 코오롱 감광성 수지 조성물
TW201214043A (en) * 2010-09-30 2012-04-01 Kolon Inc Photosensitive resin composition for organic insulator
CN102445841A (zh) * 2010-10-13 2012-05-09 第一毛织株式会社 光敏树脂组合物和使用其的挡光层

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107107603A (zh) * 2015-08-26 2017-08-29 株式会社Lg化学 用于胶版印刷的铅版的制造方法以及用于胶版印刷的铅版
US10696081B2 (en) 2015-08-26 2020-06-30 Lg Chem, Ltd. Method for manufacturing cliché for offset printing, and cliché for offset printing
CN108475013A (zh) * 2016-01-18 2018-08-31 罗门哈斯电子材料韩国有限公司 黑色感光性树脂组合物和由其制备的黑色柱状间隔物
CN108699245A (zh) * 2016-02-19 2018-10-23 Ltc有限公司 聚倍半硅氧烷树脂组合物及包含其的遮光用黑色抗蚀剂组合物
CN107561860A (zh) * 2016-06-30 2018-01-09 东京应化工业株式会社 感光性树脂组合物及其应用
CN107561860B (zh) * 2016-06-30 2022-09-27 东京应化工业株式会社 感光性树脂组合物及其应用
CN107703658A (zh) * 2016-08-08 2018-02-16 东京应化工业株式会社 基板的制造方法
CN107703658B (zh) * 2016-08-08 2022-02-25 东京应化工业株式会社 基板的制造方法
CN110872455A (zh) * 2018-08-31 2020-03-10 东友精细化工有限公司 白色树脂组合物、背光单元以及显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN104335120B (zh) 2018-04-03
JP6095023B2 (ja) 2017-03-15
TWI564661B (zh) 2017-01-01
WO2013176517A1 (ko) 2013-11-28
KR20150106386A (ko) 2015-09-21
KR20130132322A (ko) 2013-12-04
TW201409173A (zh) 2014-03-01
JP2015518978A (ja) 2015-07-06
KR101682825B1 (ko) 2016-12-05
US9341946B2 (en) 2016-05-17
US20150125789A1 (en) 2015-05-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104335120B (zh) 光敏树脂组合物、使用其形成的图案以及包含其的显示面板
JP5545856B2 (ja) 基板接着力が向上した高遮光性ブラックマトリックス組成物
JP5329430B2 (ja) 液晶ディスプレイ用ブラックマトリックス高感度感光性樹脂組成物およびそれを用いて製造されるブラックマトリックス
US8822127B2 (en) Photosensitive resin composition for black matrix
JP6113078B2 (ja) 感光性樹脂組成物、感光材及び感光材の製造方法
JP4489564B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター
JP4508928B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター
JP6018704B2 (ja) 感光性樹脂組成物および前記感光性樹脂組成物から製造されたベゼルパターンを含むタッチパネル
KR20140147062A (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터, 이를 이용하여 제조된 스페이서 및 이를 이용하여 제조된 액정 디스플레이 장치
KR101367525B1 (ko) 블랙 매트릭스용 감광성 수지 조성물
KR101623618B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 형성된 패턴 및 이를 포함하는 디스플레이 패널
JP7351451B2 (ja) 化合物、バインダー樹脂、ネガ型感光性樹脂組成物およびこれを用いて形成されたブラックバンクを含むディスプレイ装置
KR20160001450A (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 형성된 패턴 및 이를 포함하는 터치 스크린 패널
KR20210073093A (ko) 저온 경화용 블랙 감광성 조성물, 블랙 차광막 및 디스플레이 장치
KR101560870B1 (ko) 신규한 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
KR20210059354A (ko) 저온 경화용 블랙 감광성 조성물, 블랙 차광막 및 디스플레이 장치
KR20210059352A (ko) 저온 경화용 블랙 감광성 조성물, 블랙 차광막 및 디스플레이 장치
KR20150062995A (ko) 감광성 수지 조성물

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant