KR102548202B1 - 비표시부의 패턴 형성용 조성물 및 이를 이용하는 커버 윈도우 기판 - Google Patents

비표시부의 패턴 형성용 조성물 및 이를 이용하는 커버 윈도우 기판 Download PDF

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Abstract

본 발명은 비표시부의 패턴 형성용 조성물 및 이를 이용하는 커버 윈도우 기판에 관한 것이다. 본 발명에 따른 비표시부 패턴 형성용 조성물로 형성된 도막은 굴곡 평가 수행 시, 크랙이 거의 발생하지 않는 것으로 확인되므로, 플렉서블 터치스크린 패널의 비표시부, 즉 베젤에 적용 시 크랙 현상이 개선되는 효과가 있다.

Description

비표시부의 패턴 형성용 조성물 및 이를 이용하는 커버 윈도우 기판{Composition for forming patterns of non-display part and Cover window substrate using the same}
본 발명은 비표시부의 패턴 형성용 조성물 및 이를 이용하는 커버 윈도우 기판에 관한 것이다.
1차 모바일 혁명이라고도 명명된 스마트폰 기술의 발전은 2009년 아이폰 출시 이후 폭발적인 증가세를 보이며 크게 성장해 왔으며 이제 성숙기에 접어들었다. 현 시점에서 향후 스마트폰을 대체할 수 있을 것으로 예상되는 차세대 모바일 기술로 플렉서블(flexible) 또는 웨어러블 (wearable) 디바이스를 꼽을 수 있다.
이렇게 접거나 휘는 것이 가능한 플렉서블 형태의 IT 기기는 휴대성, 공간 활용성 등을 높여 소비자에게 편의성을 제공할 것으로 기대되며, 이러한 차세대의 IT 기기가 개발되기 위해서는 플렉서블 디스플레이 등 변형이 가능한 부품 개발이 선행되고 있다.
종래 유리 기판 대신에 고분자 필름을 이용하여 종래의 패널보다 더욱 얇고 가벼우며 구부릴 수 있는 플렉서블 터치스크린 패널에 대한 연구가 활발히 진행 중이며, 종래에는 유리(Glass) 기판 상에 터치 센서 패턴 등을 형성하였으나 플렉서블한 특성을 구현할 수 없다는 한계로 인해 필름 재질로 대체하고 있다.
일반적으로 플렉서블 터치스크린 패널은 최외면에 커버 윈도우 기판이 배치되고, 커버 윈도우 기판은 전면에 화상이 표시되고 필요에 따라 터치 입력을 받아들이는 부분인 표시부와, 이 영상센서의 표시부를 둘러싼 비표시부로 구분된다. 상기 비표시부에는 비표시부 차광 패턴이 형성되어 불투명한 도전성 배선 패턴 및 각종 회로들을 은폐하는 기능을 하며, 필요에 따라 휴대폰 메이커의 상표나 로고 등을 인쇄하게 된다.
그러나 종래 비표시부는 배선이나 회로를 은폐하는 것이 주목적이었으므로 단순한 색상층으로 형성되는 것이 일반적이고, 종래에는 차광 패턴을 윈도우 기판에 형성하기 때문에, 그 후에 적층되는 광학 필름, 터치 센서의 접합 시에 돌출된 차광 패턴으로 인한 단차 문제가 있다.
또한 종래 열경화성 블랙 잉크 조성물을 사용하여 그라비아 인쇄, 오프셋 인쇄, 스크린 인쇄, 리버스 오프셋 등의 방식으로 터치 패널의 베젤 패턴을 형성하는 기술 개발되었으나, 상기와 같은 인쇄 방식은 용액 상의 잉크를 사용하는 방식으로서 잉여 잉크가 목적하는 영역 외의 다른 영역, 예를 들면 표시부 등을 오염시키게 되는 문제점이 있다.
KR 2013-0056598 B1
본 발명은 플렉시블 터치 패널의 굴곡 시, 발생하기 쉬운 크랙을 제어할 수 있는 비표시부 패턴 형성용 조성물 및 이를 이용하여 형성된 커버 윈도우 기판에 관한 것이다.
1. 하기 화학식 1의 반복단위를 갖는 디이소시아네이트계 고분자 화합물, 경화제, 착색제 및 용매를 포함하는, 비표시부의 패턴 형성용 조성물.
[화학식 1]
Figure 112016094502405-pat00001
(상기 화학식 1에서,
A 및 B는 각각 비스페놀-A계 구조, 비페닐계 구조, 나프탈렌계 구조, 카도계 구조 및 안트라센계 구조로 구성되는 그룹으로부터 독립적으로 선택되는 것으로, 같거나 다를 수 있으며,
상기 반복단위의 수 n은 상기 고분자 화합물의 중량평균 분자량이 5,000 내지 15,000이 되도록 결정되는 정수이다).
2. 위 1에 있어서, 상기 디이소시아네이트계 고분자 화합물은 화합물 내 하이드록시기를 0.6 내지 0.8 g/M로 포함하는, 비표시부의 패턴 형성용 조성물.
3. 위 1에 있어서, 상기 디이소시아네이트계 고분자 화합물은 이소시아네이트 기 및 알코올 기의 몰비가 0.2 내지 0.8 : 1인 것인, 비표시부의 패턴 형성용 조성물.
4. 위 1에 있어서, 상기 디이소시아네이트계 고분자 화합물은 35 내지 60 중량%로 포함되는 것인, 비표시부의 패턴 형성용 조성물.
5. 위 1에 있어서, 상기 경화제는 이소시아네이트계 경화제인 것인 비표시부의 패턴 형성용 조성물.
6. 외곽부에 비표시부 패턴을 구비한 커버 윈도우 기판에 있어서, 상기 비표시부 패턴은 위 1 내지 5 중 어느 하나의 조성물로 형성된 패턴을 포함하는, 커버 윈도우 기판.
7. 위 6의 커버 윈도우 기판, 편광판 및 터치 센서를 포함하는 커버 윈도우 기판 적층체.
8. 위 7의 커버 윈도우 기판 적층체를 포함하는 화상 표시 장치.
본 발명에 따른 비표시부 패턴 형성용 조성물로 형성된 도막은 굴곡 평가 수행 시, 크랙이 거의 발생하지 않는 것으로 확인되므로, 플렉서블 터치스크린 패널의 비표시부, 즉 베젤에 적용 시 크랙 현상이 개선되는 효과가 있다.
도 1은 본 발명에 따라 굴곡 평가 기준을 나타낸 현미경 사진이다.
본 발명은 디이소시아네이트계 고분자 화합물, 경화제, 착색제 및 용매를 포함하는 비표시부 패턴 형성용 조성물을 제공한다.
본 발명에 따른 상기 비표시부 패턴 형성용 조성물은 플렉시블 터치 패널의 굴곡 시, 발생하기 쉬운 비표시부, 즉 베젤 부분의 크랙을 제어할 수 있는 효과가 있다.
이하에서, 본 발명의 여러 측면 및 다양한 구현예에 대해 더욱 구체적으로 살펴보도록 한다.
< 비표시부의 패턴 형성용 조성물>
본 발명의 비표시부의 패턴 형성용 조성물은 하기 화학식 1의 반복단위를 갖는 디이소시아네이트계 고분자 화합물, 경화제, 착색제 및 용매를 포함한다:
[화학식 1]
Figure 112016094502405-pat00002
(상기 화학식 1에서,
A 및 B는 각각 비스페놀-A계 구조, 비페닐계 구조, 나프탈렌계 구조, 카도계 구조 및 안트라센계 구조로 구성되는 그룹으로부터 독립적으로 선택되는 것으로, 같거나 다를 수 있으며,
상기 반복단위의 수 n은 상기 고분자 화합물의 중량평균 분자량이 5,000 내지 15,000이 되도록 결정되는 정수이다).
디이소시아네이트계 고분자 화합물
본 발명에 따른 디이소시아네이트계 고분자 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 고분자 화합물로서, 후술할 경화제와 반응할 수 있는 바인더 수지의 역할을 한다.
[화학식 1]
Figure 112016094502405-pat00003
(상기 화학식 1에서,
A 및 B는 각각 비스페놀-A계 구조, 비페닐계 구조, 나프탈렌계 구조, 카도계 구조 및 안트라센계 구조로 구성되는 그룹으로부터 독립적으로 선택되는 것으로, 같거나 다를 수 있으며,
상기 반복단위의 수 n은 상기 고분자 화합물의 중량평균 분자량이 5,000 내지 15,000이 되도록 결정되는 정수이다).
상기 "A 및 B가 다를 수 있다"는 의미는 A 및 B 구조 자체가 나프탈렌계 구조, 안트라센계 구조와 같이 다른 경우뿐만 아니라, 나프탈렌계 구조이더라도 나프탈렌 구조가 하기 화학식 6 및 7과 같이 다른 경우 및 나프탈렌 구조 중 결합되는 탄소의 위치가 다른 경우 (예를 들어, 1,6-, 2,7-탄소 위치에 연결되는 경우) 또한, 다른 구조로 이해된다.
상기 디이소시아네이트계 고분자 화합물의 비스페놀-A계 구조는 비스페놀-A 구조를 갖는 한 어떠한 것일 수 있으며, 이로써 한정하는 것은 아니지만, 예를 들어, 하기 화학식 2 또는 3의 비스페놀-A 구조일 수 있다.
[화학식 2]
Figure 112016094502405-pat00004
[화학식 3]
Figure 112016094502405-pat00005
상기 디이소시아네이트계 고분자 화합물의 비페닐계 구조는 비페닐 구조를 갖는 한 어떠한 것일 수 있으며, 이로써 한정하는 것은 아니지만, 예를 들어, 하기 화학식 4 또는 5의 비페닐 구조일 수 있다.
[화학식 4]
Figure 112016094502405-pat00006
[화학식 5]
Figure 112016094502405-pat00007
상기 디이소시아네이트계 고분자 화합물의 나프탈렌계 구조는 나프탈렌 구조를 갖는 한 어떠한 것일 수 있으며, 이로써 한정하는 것은 아니지만, 예를들어, 화학식 6 또는 7로 나타낸 나프탈렌 구조일 수 있다:
[화학식 6]
Figure 112016094502405-pat00008
[화학식 7]
Figure 112016094502405-pat00009
(단, 상기 화학식 7에서 R은 단일결합 또는 C1 내지 C5 알칸디일 그룹, 바람직하게는 C1 내지 C3의 알칸디일 그룹일 수 있다).
상기 화학식 6 및 7에서 나트탈렌 고리에 대한 연결부위 그리고 화학식 7 에서 나프탈렌 고리간의 결합부위는 특정하지 않았으며, 나프탈렌 고리의 어떠한 탄소 위치에도 연결 및 결합될 수 있음을 의미하는 것이다. 이로써 한정하는 것은 아니지만, 예를 들어, 화학식 6의 경우에, 1,2-, 1,3-, 1,4-, 1,5-, 1,6-, 1,7-, 2,3-, 2,6-, 2,7- 탄소 위치에 연결되는 등의 모든 경우를 포함하는 것으로 이해된다. 또한, 화학식 7의 경우에, 2,6-비나프탈레닐-7,7'-탄소위치에 연결 및 1,1-비나프탈레닐-2,2'-탄소위치에 연결 등의 두 나프탈렌의 어떠한 부분에서 연결된 모든 경우를 포함하는 것으로 이해된다.
상기 디이소시아네이트계 고분자 화합물의 카도계 구조는 카도계 구조를 갖는 한 어떠한 것일 수 있으며, 이로써 한정하는 것은 아니지만, 예를들어, 하기 화학식 8 내지 13의 카도계 구조일 수 있다.
[화학식 8]
Figure 112016094502405-pat00010
[화학식 9]
Figure 112016094502405-pat00011
[화학식 10]
Figure 112016094502405-pat00012
[화학식 11]
Figure 112016094502405-pat00013
[화학식 12]
Figure 112016094502405-pat00014
[화학식 13]
Figure 112016094502405-pat00015
상기 디이소시아네이트계 고분자 화합물의 안트라센계 구조는 안트라센 구조를 갖는 한 어떠한 것일 수 있으며, 이로써 한정하는 것은 아니지만, 예를들어, 하기 화학식 14의 안트라센 구조일 수 있다.
[화학식 14]
Figure 112016094502405-pat00016
상기 화학식 1에서 반복단위의 수 n은 1 내지 10의 정수이며, 화학식 3에서 반복단위 수 m은 1 내지 10의 정수일 수 있다. 반복단위 수의 증가로 인하여 디이소시아네이트 수지의 분자량이 증가하면 가교밀도가 낮아질 뿐만 아니라, 수지의 점도가 증가하여 디이소시아네이트 소재의 가공이 어려워질 수 있다. 상기 화학식 1에서, 반복단위 수 n은 바람직하게는 1 내지 5의 정수, 보다 바람직하게는 1 내지 3의 정수일 수 있다. 상기 화학식 3에서 반복단위 수 m은 바람직하게는 1 내지 5의 정수, 보다 바람직하게는 1 내지 2의 정수, 가장 바람직하게는 1 일 수 있다.
본 발명에 따르면, 상기 화학식 1의 반복단위를 갖는 고분자 화합물은 5,000 내지 15,000이 분자량을 가질 수 있고, 상기 분자량 범위를 벗어나는 경우에는 크랙이 발생하는 문제점이 있다.
또한 상기 화학식 1의 반복단위를 갖는 고분자 화합물 내 하이드록시기를 0.6 내지 0.8 g/M로 포함할 수 있고, 상기 고분자 화합물 내 하이드록시기가 0.6 g/M 미만으로 포함되는 경우 접착력이 떨어지거나 크랙이 발생하는 문제점이 있고, 0.8 g/M 초과하여 포함되는 경우에는 크랙이 발생하는 문제점이 있다.
본 발명에 따른 디이소시아네이트계 고분자 화합물은 고분자 화합물 내의 이소시아네이트기(-NCO)와 히드록시기(-OH)가 서로 반응하여 가교 구조를 형성할 수 있다.
이때, 상기 디이소시아네이트계 고분자 화합물은 이소시아네이트 기와 알코올 기의 몰비가 0.2 내지 0.8 : 1일 수 있다.
상기 디이소시아네이트계 고분자 화합물은 조성물 총 중량에 대하여 35 내지 60 중량%로 포함될 수 있다. 이 함량 범위에서는 패턴 지지체의 역할과 패턴 전사율을 높여 수율 개선 및 공정 효율성을 향상시킬 수 있다.
경화제
본 발명의 비표시부의 패턴 형성용 조성물은 경화제를 포함한다. 상기 경화제는 열경화성 관능기를 경화시킬 수 있는 것이면 특별히 제한되지 않는다.
바람직하게, 이소시아네이트계 화합물을 예를 들 수 있고, 톨릴렌디이소시아네이트, 자일렌디이소시아네이트, 4-디페닐메탄디이소시아네트, 4,4-디페닐메탄디이소시아네트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 테트라메틸자일렌디이소시아네이트, 나프탈렌디이소시아네이트 등의 디이소시아네이트화합물; 트리메틸올프로판 등의 다가 알콜계 화합물 1몰에 디이소시아네이트 화합물 3몰을 반응시킨 부가체, 디이소시아네이트 화합물 3몰을 자기 축합시킨 이소시아누레이트체, 디이소시아네이트 화합물 3몰 중 2몰로부터 얻어지는 디이소시아네이트 우레아에 나머지 1몰의 디이소시아네이트가 축합된 뷰렛체, 트리페닐메탄트리이소시아네이트, 메틸렌비스트리이소시아네이트 등의 3개의 관능기를 함유하는 다관능 이소시아네이트 화합물 등을 들 수 있다.
즉, 본 발명의 잉크 조성물은 상기 경화제를 포함함으로써 약 120 ℃의 저온에서도 경화될 수 있고, 따라서, 플렉서블 디스플레이 등에 적용되는 패턴 형성에 사용될 수 있다.
경화제는 조성물 총 중량에 대하여 6 내지 7.5 중량%로 포함될 수 있다. 함량이 6 중량% 미만이면 가교 정도가 미미하여 패턴의 경화도가 떨어질 수 있고, 7.5 중량% 초과이면 조성물의 저장안정성이 저하될 수 있다.
착색제
착색제는 카본블랙 등의 안료, 염료, 합성 또는 천연 색소와 같은 유기 착색제, 또는 금속 산화물, 금속 착염, 황산바륨(체질 안료) 등의 무기 착색제일 수 있다.
착색제로는 칼라 인덱스(Color Index, The Society of Dyers and Colourists) 내에 안료 및 염료로서 분류된 화합물을 사용할 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
또한, 본 발명의 비표시부 패턴 형성용 조성물이 백색의 비표시부 패턴 형성에 사용되는 경우, 본 발명에 따른 착색제는 백색 착색제를 포함한다.
착색제는 요구되는 색 특성에 따라 그 함량이 조절될 수 있으며, 비표시부 형성용 조성물 총 중량에 대하여 10 내지 15 중량%로 포함될 수 있다.
용매
용매는 당해 분야에서 통상적으로 사용하는 것이라면 어떠한 것이라도 제한 없이 사용할 수 있다.
상기 용매의 구체적인 예로는 에틸렌글리콜모노알킬에테르류; 디에틸렌글리콜디알킬에테르류; 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜모노알킬에테르류; 프로필렌글리콜디알킬에테르류; 프로필렌글리콜알킬에테르프로피오네이트류; 부틸디올모노알킬에테르류; 부탄디올모노알킬에테르아세테이트류; 부탄디올모노알킬에테르프로피오네이트류; 디프로필렌글리콜디알킬에테르류; 방향족 탄화수소류; 케톤류; 알코올류; 에스테르류; 고리형 에스테르류 등을 들 수 있다. 여기서 예시한 용매는, 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 용매는 도포성 및 건조성을 고려하였을 때 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 케톤류, 부탄디올알킬에테르아세테이트류, 부탄디올모노알킬에테르류, 에스테르류가 바람직하게 사용될 수 있으며, 더욱 바람직하게는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 메톡시부틸아세테이트, 메톡시부탄올, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등이 사용될 수 있다.
상기 용매 함량은 감광성 수지 조성물에 전체 100 중량부에 대하여, 40 내지 95중량부, 바람직하게는 45 내지 85 중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 스핀 코터, 슬릿 & 스핀 코터, 슬릿 코터(다이 코터, 커튼플로우 코터라고도 불리는 경우가 있다), 잉크젯 등의 도포 장치로 도포했을 때 도포성이 양호해지기 때문에 바람직하다.
한편, 본 발명의 비표시부 패턴 형성용 조성물은 커버 윈도우 기판에 코팅되어, 비표시부 패턴을 형성할 수 있다.
본 발명의 비표시부 패턴 형성용 조성물은 스크린 프린팅, 잉크젯 프린팅, 롤 프린팅 등의 다양한 인쇄 공정에 제한 없이 적용되어 우수한 내화학성을 나타내는 패턴을 형성할 수 있으나, 미세하고 정밀한 비표시부 패턴을 형성할 수 있다는 측면에서 바람직하게는 롤 프린팅용 잉크 조성물로서 사용될 수 있다.
상기 비표시부 패턴은 복수의 층으로 적층되어 형성될 수 있는데, 본 발명에 따른 조성물이 복수로 적층될 수 있고, 종래 공지된 조성물이 함께 복수로 적층될 수 있다.
또한, 본 발명은 외곽부에 비표시부 패턴을 구비한 커버 윈도우 기판에 있어서, 상기 비표시부 패턴은 상기 조성물로 형성된 패턴을 포함하는, 커버 윈도우 기판을 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 커버 윈도우 기판을 포함하는 화상표시장치를 제공한다.
이 경우 커버 윈도우 기판에는 종래 알려진 구성들이 적층될 수 있다. 예를 들면, 편광판, 터치 센서 등이 적층된 커버 윈도우 기판 적층체로서 화상 표시 장치에 포함될 수 있다.
본 발명에 따른 화상 표시 장치는 특별하게 제한되지 않고, 통상의 액정 표시 장치, 유기 발광 다이오드(OLED) 표시 장치, 전계 발광 표시 장치, 플라스마 표시 장치, 전계 방출 표시 장치 등 각종 화상 표시 장치일 수 있다. 특히, 기재 필름이 고분자 필름인 경우 유연성을 가질 수 있으므로 플렉서블 표시 장치에도 적용될 수 있고, 터치 센서와 조합되는 경우에는 터치 스크린에도 적용될 수 있다.
이하에서 실시예 등을 통해 본 발명을 더욱 상세히 설명하고자 하며, 다만 이하에 실시예 등에 의해 본 발명의 범위와 내용이 축소되거나 제한되어 해석될 수 없다. 또한, 이하의 실시예를 포함한 본 발명의 개시 내용에 기초한다면, 구체적으로 실험 결과가 제시되지 않은 본 발명을 통상의 기술자가 용이하게 실시할 수 있음은 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연하다.
합성예 1
플라스크에 2,2'-비스(글리시딜록시)-1,1'-비나프탈렌 5 g, 9,9'-비스(4-2-하이드록시에톡시페닐)플로렌 10 g, 트라이에틸벤질암모늄 클로라이드 270 mg, 및 폴리에틸렌글라이콜-400 150 ml을 넣고 180 ℃에서 60분 동안 교반하여 반응을 시켜 중량 평균 분자량이 8,000인 것을 확인한 후, 물로 반응을 종결시킨 다음 에틸아세테이트 200 ml으로 추출하고, 마그네슘설페이트로 건조한 후, 용매를 제거하여 제1 중간체를 얻었다.
플라스크에 브로모시아나이드 1.63 g을 아세톤 50 ml에 녹인 후, 상기 제1 중간체 5.10 g을 아세톤 10 ml에 녹여 -15 ℃에서 케뉼라한 후, 트라이에틸아민 1.06 ml를 아세톤 3 ml과 혼합하여 상기 혼합물에 첨가한 다음 60분 동안 교반하였다.
암모늄 브로아이드 고체를 여과하고, 메틸렌클로라이드로 추출한 후, 물로 3회 세척하여, 마그네슘설페이트로 건조하고, 용매를 제거하여 중량평균 분자량이 8000인 화합물 P를 얻었다.
합성예 2
반응온도가 160 ℃이고, 30 분 동안 교반하는 것을 제외하고는 상기 합성예 1과 동일한 방법을 수행하여 중량평균 분자량이 4,000인 화합물 P를 얻었다.
합성예 3
반응온도가 180 ℃이고, 120 분 동안 교반하는 것을 제외하고는 상기 합성예 1과 동일한 방법을 수행하여 중량평균 분자량이 15,000인 화합물 P를 얻었다.
합성예 4
상기 9,9'-비스(4-2-하이드록시에톡시페닐)플로렌 대신 9-(4-하이드록시벤질)-10-4(-하이드록시페닐)안트라센을 사용하는 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법을 수행하여 중량평균 분자량이 9,000인 화합물 Q를 얻었다.
합성예 5
반응온도가 160 ℃이고, 30 분 동안 교반하는 것을 제외하고는 상기 합성예 1과 동일한 방법을 수행하여 중량평균 분자량이 4,000인 화합물 Q를 얻었다.
합성예 6
반응온도가 180 ℃이고, 120 분 동안 교반하는 것을 제외하고는 상기 합성예 1과 동일한 방법을 수행하여 중량평균 분자량이 15,000인 화합물 Q를 얻었다.
실시예 1 내지 11 및 비교예 1 내지 4
상기 합성예에서 얻은 하기 표 1의 분자량 및 A, B의 작용기를 포함하는 화학식 1의 디이소시아네이트계 고분자 화합물 42 중량%, 카본블랙 10 중량%, 메칠에틸케톤 37 중량% 을 혼합한 후, 폴리이소시아네이트계 화합물 8.25 중량%, 메칠에틸케톤 2.75 중량%하에서 상기 혼합물을 3시간 동안 교반하여 비표시부 패턴 형성용 조성물을 제조하였다.
하기 표 1에서 기재된 괄호안의 수치는 화학식 1의 화합물의 함량비를 나타내고, 고분자를 2종 혼합한 경우에는 분자량 및 OH기의 g/M은 혼합비를 고려하여 혼합물을 기준으로 환산한 값이다.
구분 화학식 1의 화합물 분자량 OH기 g/M
P Q
실시예 1 합성예 1 (50) 합성예 6 (50) 11500 0.6
실시예 2 합성예 3 (50) 합성예 4 (50) 12000 0.6
실시예 3 합성예 1 (50)
합성예 3 (50)
- 11500 0.6
실시예 4 - 합성예 4 (50)
합성예 6 (50)
12000 0.6
실시예 5 합성예 3 - 15000 0.8
실시예 6 - 합성예 6 15000 0.8
실시예 7 합성예 3 (50) 합성예 6 (50) 15000 0.8
실시예 8 합성예 3 (80) 합성예 6 (20) 15000 0.4
실시예 9 합성예 1 - 8000 0.4
실시예 10 - 합성예 4 9000 0.4
실시예 11 합성예 1 (50) 합성예 4 (50) 8500 0.4
실시예 12 합성예 1 (80) 합성예 4 (20) 8200 0.4
비교예 1 합성예 2 - 4000 0.2
비교예 2 - 합성예 5 4000 0.2
비교예 3 합성예 2 (50) 합성예 5 (50) 4000 0.2
비교예 4 합성예 2 (20) 합성예 2 (80) 4000 0.2
비교예 5 합성예 2 (80) 합성예 2 (20) 4000 0.2
실험예
상기 실시예 및 비교예의 조성물을 유리 기판 상에 스핀 코터로 코팅하고, 100 ℃에서 120초간 선굽기한 후 실온에서 3분 동안 방치하였다. 이를 다시 220 ℃에서 30분간 가열하여 경화시켜 도막을 형성한 후, 20만회 굴곡 평가를 수행하여 굴곡부분을 현미경으로 x20 배율에서 확인하였다. 굴곡 평가는 도 1의 평가 기준에 따라 평가하였다.
구분 굴곡 평가
실시예 1 0
실시예 2 0
실시예 3 0
실시예 4 0
실시예 5 0.5
실시예 6 0.5
실시예 7 0.5
실시예 8 1
실시예 9 5
실시예 10 5
실시예 11 3
실시예 12 3
비교예 1 접착력 없음
비교예 2 접착력 없음
비교예 3 접착력 없음
비교예 4 접착력 없음
비교예 5 접착력 없음
표 1을 참고하면, 비교예 1 내지 5의 경우, 형성된 패턴이 기판에의 접착력이 없어 굴곡 평가 자체가 불가능하였다.
실시예 1 내지 7의 경우, 비표시부 패턴 형성용 조성물로 형성된 도막은 굴곡 평가 수행 시, 크랙이 거의 발생하지 않는 것으로 확인되었고, 실시예 8 내지 12의 경우에는 크랙이 다소 발생하였다.

Claims (8)

  1. 디이소시아네이트계 고분자 화합물, 경화제, 착색제 및 용매를 포함하고,
    상기 디이소시아네이트계 고분자 화합물은 하기 화학식 1-1로 표시되는 반복단위를 포함하는 디이소시아네이트계 고분자 화합물 및 하기 화학식 1-2로 표시되는 반복단위를 포함하는 디이소시아네이트계 고분자 화합물 중 적어도 하나를 포함하는, 비표시부의 패턴 형성용 조성물:
    [화학식 1-1]
    Figure 112023031049646-pat00019

    [화학식 1-2]
    Figure 112023031049646-pat00020
    .
  2. 삭제
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 디이소시아네이트계 고분자 화합물은 이소시아네이트 기와 알코올 기의 몰비가 0.2 내지 0.8 : 1인 것인, 비표시부의 패턴 형성용 조성물.
  4. 청구항 1에 있어서, 상기 디이소시아네이트계 고분자 화합물은 35 내지 60 중량%로 포함되는 것인, 비표시부의 패턴 형성용 조성물.
  5. 청구항 1에 있어서, 상기 경화제는 이소시아네이트계 경화제인 것인 비표시부의 패턴 형성용 조성물.
  6. 외곽부에 비표시부 패턴을 구비한 커버 윈도우 기판에 있어서, 상기 비표시부 패턴은 청구항 1의 조성물로 형성된 패턴을 포함하는, 커버 윈도우 기판.
  7. 청구항 6의 커버 윈도우 기판, 편광판 및 터치 센서를 포함하는 커버 윈도우 기판 적층체.
  8. 청구항 7의 커버 윈도우 기판 적층체를 포함하는 화상 표시 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101298539B1 (ko) * 2010-04-29 2013-08-27 한국생산기술연구원 새로운 열경화성 시아네이트 화합물, 및 이의 제조방법
KR101596533B1 (ko) 2011-11-22 2016-02-22 주식회사 엘지화학 열경화성 블랙 잉크 조성물, 이를 이용하여 형성된 패턴 및 이를 포함하는 전자소자
US9341946B2 (en) * 2012-05-25 2016-05-17 Lg Chem, Ltd. Photosensitive resin composition, pattern formed using same and display panel comprising same
KR102084218B1 (ko) * 2013-07-11 2020-03-04 동우 화인켐 주식회사 비표시부 패턴 형성용 조성물

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101391225B1 (ko) 2013-09-05 2014-05-07 동우 화인켐 주식회사 비표시부 차광 패턴 형성용 감광성 수지 조성물

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