CN104114367B - 聚乙烯醇系蒸镀膜 - Google Patents

聚乙烯醇系蒸镀膜 Download PDF

Info

Publication number
CN104114367B
CN104114367B CN201380009839.5A CN201380009839A CN104114367B CN 104114367 B CN104114367 B CN 104114367B CN 201380009839 A CN201380009839 A CN 201380009839A CN 104114367 B CN104114367 B CN 104114367B
Authority
CN
China
Prior art keywords
vapor
deposited film
film
base material
deposition layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201380009839.5A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104114367A (zh
Inventor
野中康弘
河合宏
山越聪
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kuraray Co Ltd
Original Assignee
Kuraray Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kuraray Co Ltd filed Critical Kuraray Co Ltd
Publication of CN104114367A publication Critical patent/CN104114367A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104114367B publication Critical patent/CN104114367B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B32B15/082—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin comprising vinyl resins; comprising acrylic resins
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • B32B27/306—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising vinyl acetate or vinyl alcohol (co)polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/32—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/021—Cleaning or etching treatments
    • C23C14/022—Cleaning or etching treatments by means of bombardment with energetic particles or radiation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/20—Metallic material, boron or silicon on organic substrates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
    • C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2250/00—Layers arrangement
    • B32B2250/02—2 layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2250/00—Layers arrangement
    • B32B2250/03—3 layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00—Coating on the layer surface
    • B32B2255/10—Coating on the layer surface on synthetic resin layer or on natural or synthetic rubber layer
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00—Coating on the layer surface
    • B32B2255/20—Inorganic coating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00—Coating on the layer surface
    • B32B2255/20—Inorganic coating
    • B32B2255/205—Metallic coating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2264/00—Composition or properties of particles which form a particulate layer or are present as additives
    • B32B2264/10—Inorganic particles
    • B32B2264/105—Metal
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/30—Properties of the layers or laminate having particular thermal properties
    • B32B2307/304—Insulating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2310/00—Treatment by energy or chemical effects
    • B32B2310/14—Corona, ionisation, electrical discharge, plasma treatment
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/25—Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Wrappers (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Packages (AREA)
  • Thermal Insulation (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)

Abstract

本发明的目的在于提供一种蒸镀膜，所述蒸镀膜可抑制在层压等蒸镀膜加工时因弯曲而导致的针孔、裂缝的产生，可抑制阻气性的降低。本发明是一种蒸镀膜，其具有包含聚乙烯醇系聚合物的基材膜、和被层叠在该基材膜上的金属蒸镀层，所述蒸镀膜的特征在于，上述金属蒸镀层的利用电子显微镜测得的平均粒径为150nm以下。作为上述金属蒸镀层的平均厚度，优选30nm以上100nm以下。

Description

聚乙烯醇系蒸镀膜
技术领域
本发明涉及聚乙烯醇系蒸镀膜。
背景技术
以往，作为冰箱用的绝热材料、住宅绝热壁用的绝热板、热水储存罐的绝热材料等，使用了利用聚氨酯泡沫的绝热体。作为代替该利用聚氨酯泡沫的绝热体的更优异的材料，开始使用由即使在高湿度下也具有阻气性的层压（laminate）膜和芯材构成的真空绝热体。作为这种情况下的阻气材料，主要使用了铝箔，但由于铝是热的良导体，所以存在通过膜中的铝部分的热量大，导致绝热性能降低这样的缺点。为了消除该缺点，代替铝箔，而研究了具有薄的铝蒸镀层的聚酯膜、乙烯－乙烯醇（vinylalcohol）共聚物（以下，有时简称为EVOH）膜，二氧化硅蒸镀膜等高阻气膜。
但是，这些蒸镀层为数十nm的薄层，所以存在因在层压膜制作工序、真空绝热体制作工序中的弯曲而导致阻气性降低的不良情况。作为解决该问题的方法，已知有通过在阻气性树脂中含有填料来提高耐针孔性的技术（参见日本特开2002－310385号公报）。另外，也研究了通过进行基材膜的表面处理从而稳定地呈现阻隔性的技术（参见日本特开2005－290108号公报）。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2002－310385号公报
专利文献2：日本特开2005－290108号公报。
发明内容
发明所要解决的课题
然而，即使使用上述技术，也会由于弯曲而在蒸镀层上产生针孔、裂缝（crack），导致阻气性降低，因此，一直期待层压（lamination）等加工时的蒸镀层的耐弯曲性的提高。
本发明的目的在于提供一种蒸镀膜，所述蒸镀膜可抑制在层压等蒸镀膜加工时产生针孔、裂缝，可抑制阻气性降低。
用于解决课题的手段
本发明是一种蒸镀膜，具有：
包含聚乙烯醇系聚合物的基材膜，和
被层叠在该基材膜上的金属蒸镀层，
其特征在于，
上述金属蒸镀层的利用电子显微镜测得的平均粒径为150nm以下。
作为上述金属蒸镀层的平均厚度，优选为30nm以上100nm以下，上述基材膜优选进一步包含无机氧化物，可以进一步具有被层叠在上述金属蒸镀层上的包含聚乙烯醇系聚合物的树脂涂层，可以进一步具有包含聚乙烯醇系聚合物以外的热塑性树脂的层。
另外，本发明还包括具有该蒸镀膜的包装材料、及具有该蒸镀膜的真空绝热体。
进而，本发明还包括：该蒸镀膜的制造方法，其特征在于，蒸镀前的基材膜中含有的挥发成分的含量为1.1质量%以下；蒸镀时的基材膜的表面温度为60℃以下；对蒸镀前的基材膜的表面进行等离子体处理。
发明效果
本发明的蒸镀膜可抑制在层压等蒸镀膜加工时产生针孔、裂缝，可抑制阻气性降低。因此，该蒸镀膜可优选作为包装材料、真空绝热体的材料使用。
附图说明
[图1]为实施例2的蒸镀膜的扫描型电子显微镜照片。图的横向宽度（横幅）相当于1.94μm。
具体实施方式
［蒸镀膜］
本发明的蒸镀膜具有：
包含聚乙烯醇系聚合物的基材膜，和
被层叠在该基材膜上的金属蒸镀层，
其特征在于，上述金属蒸镀层的利用电子显微镜测得的平均粒径为150nm以下。
以下，依次说明基材膜、金属蒸镀层。
＜基材膜＞
上述基材膜中含有的聚乙烯醇系聚合物是使用碱性催化剂等将乙烯基酯均聚物、或包含40摩尔%以上的乙烯基酯的与其他单体的共聚物皂化而得到的。作为上述乙烯基酯，可举出乙酸乙烯酯为代表，但其他的脂肪酸乙烯基酯（丙酸乙烯酯、特戊酸乙烯酯等）也可使用。另外，对于上述聚乙烯醇系聚合物而言，只要在不妨碍本发明的效果的范围内，也可以是共聚其他单体例如乙烯；丙烯、丁烯、异丁烯、4－甲基－1－戊烯、1－己烯、1－辛烯等α－烯烃；（甲基）丙烯酸等不饱和羧酸或其酯；乙烯基三甲氧基硅烷等乙烯基硅烷系化合物；不饱和磺酸或其盐；N－乙烯基吡咯烷酮等乙烯基吡咯烷酮化合物等中的1种或多种而成的共聚物。其中，作为共聚的单体，从得到的聚乙烯醇系聚合物的熔融成型变得容易的观点考虑，优选乙烯。上述其他单体为乙烯的情况下，作为乙烯单元相对于构成上述聚乙烯醇系聚合物的全部单元的含量，为3摩尔%～60摩尔%，优选为10摩尔%～60摩尔%，更优选为20摩尔%～55摩尔%。
上述基材膜中含有的聚乙烯醇系聚合物的制造可利用公知的方法进行。制造时也可使用链转移剂，作为链转移剂，可举出例如烷基硫醇类等。
另外，作为上述聚乙烯醇系聚合物的皂化度（乙烯醇单元相对于乙烯醇单元和乙烯基酯单元的总和的比例（摩尔%）），优选为90摩尔%以上，更优选为95摩尔%以上，进一步优选为99摩尔%以上。皂化度小于90摩尔%时，该蒸镀膜在高湿度下的阻气性有可能降低。当聚乙烯醇系聚合物包含皂化度不同的2种以上的聚乙烯醇系聚合物时，将由各聚乙烯醇系聚合物的含有质量比算出的平均值作为皂化度。上述聚乙烯醇系聚合物的皂化度可利用核磁共振（NMR）法求出。
作为上述基材膜的在20℃－65%RH的条件下测得的透氧系数，优选为50mL?20μm/m2?天?atm以下，更优选为10mL?20μm/m2?天?atm以下，进一步优选为5mL?20μm/m2?天?atm以下，特别优选为1mL?20μm/m2?天?atm以下。若透氧系数为上述上限以下，则在制成真空绝热体时，可使阻隔膜的厚度变薄，也可降低成本。
此处，“20℃－65%RH”表示在20℃下，相对湿度为65%，“50mL?20μm/m2?天?atm”表示，在将膜厚换算为20μm时，在膜为1m2、氧气为1大气压的圧力差的条件下，每1天透过50mL的氧。
作为上述基材膜的平均厚度，没有特别限制，但优选为30μm以下，更优选为25μm以下，进一步优选为20μm以下。另外，作为上述平均厚度，优选为5μm以上，更优选为7μm以上，进一步优选为10μm以上。
作为上述基材膜的制造方法，没有特别限制，例如可举出铸塑法，可以是无拉伸及拉伸中的任一种。作为膜的拉伸方法，可以是双轴拉伸、单轴拉伸及吹胀（inflation）中的任一种。
作为进行拉伸的方法，没有特别限制，可以是同时拉伸、依次拉伸中的任一种。作为拉伸倍率，以面积倍率计，优选为12倍以下，更优选为11倍以下。另外，作为拉伸倍率，以面积倍率计，优选为8倍以上，更优选为9倍以上。从得到的膜的厚度的均匀性、阻气性及机械强度的观点考虑，优选使面积倍率为8～12倍。若面积倍率小于8倍，则有时变得容易残留拉伸不均，另外，若大于12倍，则有时变得在拉伸时易于发生膜的断裂。
另外，通过预先使拉伸前的整卷膜（原反）含水，从而连续拉伸变得容易。作为拉伸前整卷膜的水分率，优选为2质量%以上，更优选为5质量%以上，进一步优选为10质量%以上。作为拉伸前整卷膜的水分率，优选为30质量%以下，更优选为25质量%以下，进一步优选为20质量%以下。水分率小于2质量%时，容易残留拉伸不均，另外，尤其是利用拉幅机进行拉伸的情况，接近于夹具（grip）的部分的拉伸倍率变高，因此，有时变得容易在夹具附近发生破裂。另一方面，水分率大于30质量%时，被拉伸的部分的弹性模量低，与未拉伸部分之差不足，有时变得容易残留拉伸不均。
作为拉伸温度，随着拉伸前的整卷膜的水分率的多少的不同而不同，但通常可使用50℃～130℃的范围。尤其是在同时双轴拉伸的情况下，在70℃～100℃的范围时，容易得到厚度不均少的双轴拉伸膜，在依次双轴拉伸的情况下，辊的长度方向的拉伸为70℃～100℃，拉幅机的宽度方向的拉伸在80℃～120℃的温度范围内时，容易得到厚度不均少的双轴拉伸膜。
上述聚乙烯醇系聚合物也可以含有无机氧化物。作为该无机氧化物，没有特别限制，可使用氧化硅、氧化铝、氧化镁、氧化锆、氧化铈、氧化钨、氧化钼及它们的复合物等。这些无机氧化物中，优选氧化硅、氧化硅－氧化镁，更优选氧化硅。
作为上述无机氧化物的含量，相对于聚乙烯醇系聚合物100质量%，优选为0.001质量%以上，更优选为0.005质量%以上，进一步优选为0.01质量%以上。另外，作为无机氧化物的含量，优选为1质量%以下，更优选为0.75质量%以下，进一步优选为0.5质量%以下。无机氧化物的含量大于1质量%时，有时变得容易产生凝胶、白点（fisheye）等，由于蒸镀缺漏等而导致阻气性降低。
作为利用激光衍射散射法测定的上述无机氧化物的平均粒径，优选为2μm以上，更优选为2.5μm以上。另外，作为氧化物的平均粒径，优选为10μm以下，更优选为5μm以下，进一步优选为3.5μm以下。若无机氧化物的平均粒径大于10μm，则变得容易产生凝胶、白点等。另外，若小于2μm，则有时阻气性降低。作为无机氧化物的添加方法，没有特别限制，例如，可举出在制造聚乙烯醇系聚合物时，以水分散液的形式添加，然后在凝固浴中使其析出并干燥的方法；利用挤出机等进行熔融混炼的方法；进行干混的方法；混合母料（masterbatch）的方法等。
另外，在不妨碍本发明的目的的范围内，也可在上述聚乙烯醇系聚合物中共混抗氧化剂、增塑剂、热稳定剂、紫外线吸收剂、防静电剂、着色剂、填料等。
＜金属蒸镀层＞
本发明的金属蒸镀膜具有被层叠在包含聚乙烯醇系聚合物的基材膜上的金属蒸镀层。作为蒸镀的金属，铝由于具有质轻、富于柔软性及光泽性这样的优点，因而优选。作为该金属蒸镀层的平均粒径，为150nm以下，优选为125nm以下，更优选为100nm以下，进一步优选为75nm以下。特别优选为50nm以下。另外，作为上述金属蒸镀层的平均粒径，对于下限没有特别限制，但优选为10nm以上，更优选为15nm以上，进一步优选为20nm以上。该金属蒸镀层的粒径是利用扫描型电子显微镜等电子显微镜测定的，当上述金属蒸镀层由金属粒子形成时，是指该金属粒子的粒径；当由金属粒块形成时，是指形成该粒块的金属粒子的粒径。另外，金属蒸镀层的平均粒径是指，将利用电子显微镜观察的、金属粒子等在同一方向上分别的最大长度进行个数平均而得的值。
作为上述金属蒸镀层的平均厚度，优选为100nm以下，更优选为90nm以下，进一步优选为80nm以下。另外，作为上述金属蒸镀层的平均厚度，优选为15nm以上，更优选为20nm以上，进一步优选为30nm以上。若平均厚度大于100nm，则变得容易在真空绝热体中产生热桥（heatbridge），绝热效果可能降低。若平均厚度小于15nm，则阻气性可能变得不充分。需要说明的是，上述金属蒸镀层的平均厚度是指，利用电子显微镜测定的金属蒸镀层截面的任意10点的厚度的平均值。
作为使上述金属蒸镀层的平均粒径为150nm以下的方法，可使用如下方法：在蒸镀膜的制造中，使蒸镀前的基材膜含有的挥发成分的含量为1.1质量%以下；使蒸镀时的基材膜的表面温度为60℃以下；对蒸镀前的基材膜的表面进行等离子体处理来将其改性等。
作为上述蒸镀前的基材膜中含有的挥发成分的含量，优选为1.1质量%以下，更优选为0.5质量%以下，进一步优选为0.3质量%以下。另外，作为上述挥发成分的含量，对于下限没有特别限制，但优选为0.01质量%以上，更优选为0.03质量%以上，进一步优选为0.05质量%以上。此处，挥发成分的含量由105℃下的干燥前后的质量变化利用下式求出。
挥发成分的含量（质量%）＝［（干燥前质量－干燥后质量）/干燥后质量］×100。
作为进行金属蒸镀时的基材膜的表面温度，优选为60℃以下，更优选为55℃以下，进一步优选为50℃以下。另外，作为蒸镀时的基材膜的表面温度，对于下限没有特别限制，但优选为0℃以上，更优选为10℃以上，进一步优选为20℃以上。
作为对蒸镀前的基材膜的表面进行等离子体处理的方法，可使用公知的方法，但其中优选大气压等离子体处理。在大气压等离子体处理中，作为放电气体，可使用氮气、氦、氖、氩、氪、氙、氡等。其中，优选使用氮、氦、氩，由于氮可降低成本，所以特别优选使用氮。
本发明的蒸镀膜可以进一步具有被层叠在上述金属蒸镀层上的包含聚乙烯醇系聚合物的树脂涂层。通过进一步具有树脂涂层，能进一步抑制可能在该蒸镀膜制造中发生的、因后工序的层压等膜加工中的弯曲而导致的阻气性的降低。作为树脂涂层的材料，优选为水溶性或水分散性聚合物，即，能在常温下完全溶解或微分散在以水为主成分的溶剂中的高分子。作为这样的聚合物，没有特别限制，但可举出作为可用于基材膜的聚乙烯醇系聚合物而例举的聚合物中的、具有水溶性或水分散性等的聚合物。
还可以在上述树脂涂层中分散溶胀性无机层状硅酸盐。作为上述溶胀性无机层状硅酸盐的相对于树脂涂层中的聚乙烯醇系聚合物的含量，没有特别限制，但以固态成分换算，优选为0.5质量%～55质量%。若大于55质量%，则树脂涂层的柔软性降低，变得容易产生裂缝等缺点。作为溶胀性无机层状硅酸盐的含量，更优选为1质量%～40质量%，进一步优选为3质量%～30质量%，特别优选为5质量%～20质量%。
作为将上述树脂涂层层叠在上述金属蒸镀层上的方法，没有特别限制，但优选如下方法：在金属蒸镀层上，将树脂组合物的涂布液涂布到基材膜侧的表面上，进行干燥及热处理，来进行涂覆的方法；将树脂涂层层压到金属蒸镀层侧的方法。另外，对于金属蒸镀层与树脂涂层的界面，还可以进行电晕处理、基于锚涂剂等的处理等。作为进行上述涂覆的方法，可举出直接凹版法或反向凹版法、微型凹版法、双辊打击涂布法（２本ロールビートコート法）、底部进料3辊逆式涂布法（ボトムフィード３本リバースコート法）等辊涂覆法；刮刀法、模涂法、浸涂法、棒涂法及将它们组合的涂覆法等。作为树脂涂层的平均厚度，没有特别限制，但优选为10μm以下，更优选为2μm以下。作为树脂涂层的平均厚度，对于下限没有特别限制，但为了得到有效的阻气性，优选为0.001μm以上。
本发明的蒸镀膜还可以进一步具有包含聚乙烯醇系聚合物以外的热塑性树脂的层。作为上述热塑性树脂，可举出聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃，聚对苯二甲酸乙二醇酯等聚酯等，也可以对它们进行拉伸。由上述热塑性树脂形成的层可以形成在该蒸镀膜的基材膜、金属蒸镀层及树脂涂层中的任一者上，可以经由粘接层粘接在这些层上。
如上所述，该蒸镀膜可抑制在蒸镀加工时产生针孔、裂缝，可抑制阻气性的降低，绝热性及阻气性均优异，因此，可优选作为包装材料、真空绝热体的材料使用。
实施例
以下，基于实施例更具体地说明本发明，但本发明不限于这些实施例。
［蒸镀膜的制造］
＜实施例1＞
相对于株式会社kuraray制乙烯－乙烯醇共聚物F101A（乙烯含量为32摩尔%，皂化度为99.9%）100质量份，使用滚筒（tumbler），以0.03质量份的量，干混作为无机氧化物的FujiSilysiaChemical,Ltd.制合成二氧化硅（“SYLYSIA”310P，利用激光法测得的平均粒径为2.7μm），然后，在240℃下熔融，从模头挤出到铸塑辊（castingroll）上，同时使用气刀，以30m/秒的风速吹空气，得到厚170μm的未拉伸膜。使该膜接触80℃的温水10秒，利用拉幅机式同时双轴拉伸设备，在90℃下沿纵向拉伸3.2倍，沿横向拉伸3.0倍，进而在设定为170℃的拉幅机内进行5秒热处理，得到厚12μm、总宽度3.6m的拉伸热处理膜。一边卷回该膜，一边以膜总宽度的中央位置为中心切割成80cm的宽度，得到4，000m长的卷。
从上述卷的总宽度80cm的中央部，切出挥发成分测定用的小片，使用热风干燥机，在105℃下干燥3小时，由干燥前后的质量利用下式求出挥发成分的含量。
挥发成分的含量（质量%）＝［（干燥前质量－干燥后质量）/干燥后质量］×100。
实施例1的蒸镀前的基材膜中含有的挥发成分的含量为0.15质量%。对于制造的双轴拉伸膜，为了防止吸湿，在制膜后迅速用铝箔层压膜而包装。
将上述膜作为基材膜，使用日本真空技术公司制分批式蒸镀设备EWA－105，在基材膜的表面温度为38℃、膜行进速度为200m/分钟的条件下，在膜单侧蒸镀铝，得到了蒸镀膜。蒸镀的铝的厚度（金属蒸镀层的平均厚度）为70nm。
使用SEM（扫描型电子显微镜），从铝蒸镀层的表面侧直接观察，来确定铝蒸镀层的平均粒径。需要说明的是，此处所谓平均粒径，是图1所示的SEM照片（倍率为60，000倍，测定下限值为10nm）中的n＝100的平均值。SEM观察中，使用SIINanoTechnologyInc.制ZEISS　ULTRA　55进行测定。作为检测器，使用了反射电子检测器。实施例1中的铝蒸镀层的平均粒径为35nm。
作为树脂涂层，将作为通过聚乙烯－乙酸乙烯酯聚合物的皂化而得到的聚乙烯－乙烯醇共聚物的株式会社kuraray制“EXCEVAL”　RS－3110（乙烯含量为6摩尔%，皂化度为98%以上）33.75g加入到离子交换水326.5g中，一边加热到90℃一边进行1小时搅拌，得到了水溶液。将该水溶液冷却至室温，然后为了提高溶液的稳定性，添加50质量%的异丙醇水溶液64.75g。进而，向该溶液中添加TOPYINDUSTRIES,LIMITED制NHT－溶胶B2（合成锂蒙脱石的水分散液，固态成分浓度为5质量%，平均粒径为3.8μm，标准偏差为2.2μm）76g，得到了包含溶胀性无机层状硅酸盐的500g的树脂组合物。液体中的固态成分浓度为7.5质量%，固态成分中的溶胀性无机层状硅酸盐的含量为10质量%。将该树脂组合物涂布到上述得到的蒸镀膜的铝蒸镀层侧，用热风干燥机在100℃下进行20秒干燥。干燥后的树脂涂层（由上述乙烯－乙烯醇共聚物和溶胀性无机层状硅酸盐的组合物形成的层）的平均厚度为1.5μm。
使用上述得到的具有树脂涂层的蒸镀膜（涂膜），进行氧透过度（OTR）的评价。OTR如下测定，切取试样膜的一部分，使用MOCON　INC.制氧透过率测定装置OX－TRAN2/20型（检测极限值0.01mL/m2?天?atm），在涂膜的树脂涂层侧的湿度为90%RH、基材膜侧的湿度为0%RH、温度为40℃的条件下，按照JIS　K7126（等压法）中记载的方法进行测定。实施例1的涂膜的氧透过度为0.08mL/m2?天?atm。此处，氧透过度表示相对于透过试样膜的氧的单位面积（m2）、单位时间（天）及试样膜两面间的单位压力差（atm）的体积。
在上述涂膜上，使用粘接剂利用干式层压层叠厚50μm的无拉伸聚丙烯膜（MitsuiChemicalsTohcelloInc.制，RXC－21）、和厚15μm的聚酯拉伸膜（TorayIndustries,Inc.制“LUMIRROR”P60），得到了多层膜。以该多层膜的层结构为聚酯拉伸膜/涂膜/无拉伸聚丙烯膜，上述涂膜的树脂涂层侧成为聚酯拉伸膜侧的方式进行了层叠。作为粘接剂，使用三井化学株式会社“Takelac”A－385/“Takenate”A－50，使涂布量为固态成分为4g/m2，在50℃干燥5秒。另外，在干燥后进一步在40℃下老化3天。
使用上述多层膜，进行了氧透过度的评价。氧透过度为0.09mL/m2?天?atm。即，由层压加工导致的氧透过度的上升为0.01mL/m2?天?atm。
＜实施例2＞
使用实施例1中得到的形成树脂涂层前的蒸镀膜，在实施例1中记载的层结构与条件下进行层压，得到了多层膜。在与实施例1同样的条件下，进行了氧透过度的测定,结果，蒸镀膜的氧透过度（层压前OTR）为0.07mL/m2?天?atm，多层膜（层压后OTR）的氧透过度为0.11mL/m2?天?atm。即，由层压加工导致的氧透过度的上升为0.04mL/m2?天?atm。
＜实施例3、4及5＞
将实施例1中蒸镀时的基材膜的表面温度分别改变为43℃（实施例3）、48℃（实施例4）、53℃（实施例5），未形成树脂涂层，除此之外，与实施例1同样地操作，得到了蒸镀膜及多层膜，进行了上述得到的蒸镀膜和多层膜的评价。将结果示于表1。在所有的实施例的所有评价项目中均确认了良好的性能。
＜实施例6、7及8＞
使实施例5中蒸镀前的基材膜中含有的挥发成分的含量为0.45质量%（实施例6）、0.70质量%（实施例7）、0.95质量%（实施例8），除此之外，与实施例5同样地操作，得到了蒸镀膜及多层膜，进行了上述得到的蒸镀膜和多层膜的评价。将结果示于表1。在所有的实施例的所有评价项目中均确认了良好的性能。
＜实施例9＞
使实施例1中蒸镀前的基材膜中含有的挥发成分的含量为1.05质量%，使蒸镀时的基材膜的表面温度为38℃，未形成树脂涂层，除此之外，与实施例1同样地操作，得到了蒸镀膜及多层膜，进行了上述得到的蒸镀膜和多层膜的评价。将结果示于表1。在所有评价项目中均确认了良好的性能。
＜实施例10、11及12＞
使实施例1中蒸镀的铝的厚度（金属蒸镀层的平均厚度）为95nm（实施例10）、50nm（实施例11）、25nm（实施例12），未形成树脂涂层，除此之外，与实施例1同样地操作，得到了蒸镀膜及多层膜，进行了上述得到的蒸镀膜和多层膜的评价。将结果示于表1。在所有的实施例的所有评价项目中均确认了良好的性能。
＜实施例13＞
对于实施例9中蒸镀前的基材膜，使用氦作为放电气体，在输出功率为700W、放电量为212W?min/m2、线速度（linespeed）为100m/min的条件下进行等离子体处理，而且使蒸镀时的基材膜的表面温度为53℃，除此之外，与实施例9同样地操作，得到了蒸镀膜及多层膜，进行了上述得到的蒸镀膜和多层膜的评价。将结果示于表1。在所有评价项目中均确认了良好的性能。
＜实施例14＞
在实施例13中，在基材膜的制造中，在将EVOH熔融之前，不添加合成二氧化硅，使蒸镀时的基材膜的表面温度为38℃，除此之外，与实施例13同样地操作，得到了蒸镀膜及多层膜，进行了上述得到的蒸镀膜和多层膜的评价。将结果示于表1。在所有评价项目中均确认了良好的性能。
＜比较例1＞
在实施例1中，在基材膜的制造中，在将EVOH熔融之前，不添加合成二氧化硅，使蒸镀前的基材膜中含有的挥发成分的含量为1.15质量%，未形成树脂涂层，除此之外，与实施例1同样地操作，得到了蒸镀膜及多层膜，进行了上述得到的蒸镀膜和多层膜的评价。得到的蒸镀膜的金属蒸镀层的平均粒径为155nm，蒸镀膜的氧透过度为0.16mL/m2?天?atm，多层膜的氧透过度为0.28mL/m2?天?atm，可见阻气性的恶化，性能不足。
＜比较例2＞
在实施例1中，在基材膜的制造中，在将EVOH熔融之前，不添加合成二氧化硅，使蒸镀前的基材膜中含有的挥发成分的含量为0.15质量%，未形成树脂涂层，除此之外，与实施例1同样地操作，得到了蒸镀膜及多层膜，进行了上述得到的蒸镀膜和多层膜的评价，可见阻气性的恶化，性能不足。
＜比较例3＞
在实施例2中，使蒸镀时的基材膜的表面温度为62℃，除此之外，与实施例2同样地操作，得到了蒸镀膜及多层膜，进行了上述得到的蒸镀膜和多层膜的评价，但层压前后的阻气性的恶化（OTR恶化）大，性能不足。
＜比较例4＞
在实施例13中，使蒸镀时的基材膜的表面温度为62℃，使蒸镀前的基材膜中含有的挥发成分的含量为0.15质量%，除此之外，与实施例13同样地操作，得到了蒸镀膜及多层膜，进行了上述得到的蒸镀膜和多层膜的评价，但层压前后的阻气性的恶化（OTR恶化）大，性能不足。
在表1中，“无机氧化物”、“等离子体处理”及“树脂涂层”栏的“○”表示使用、进行或形成了它们，“×”表示未使用、未进行或未形成它们。使用“无机氧化物”是与实施例1中使用的相同的“合成二氧化硅”。
[表1]
如表1的结果所示，实施例的蒸镀膜的金属蒸镀层的利用电子显微镜测得的平均粒径为150nm以下，在层压加工前后，可抑制产生针孔、裂缝，可抑制阻气性降低。另一方面，比较例的蒸镀膜的平均粒径大于150nm，在层压加工前后产生针孔、裂缝，阻气性恶化。
工业适用性
通过本发明的蒸镀膜，可抑制在层压等蒸镀膜加工时产生针孔、裂缝，可抑制阻气性的降低。因此，该蒸镀膜可优选作为包装材料、真空绝热体的材料使用。

Claims (10)

1.蒸镀膜，具有：
包含聚乙烯醇系聚合物的基材膜，和
被层叠在该基材膜上的金属蒸镀层，
其特征在于，
所述金属蒸镀层的利用电子显微镜测得的平均粒径为10nm以上150nm以下。
2.根据权利要求1所述的蒸镀膜，其中，所述金属蒸镀层的平均厚度为30nm以上100nm以下。
3.根据权利要求1所述的蒸镀膜，其中，所述基材膜进一步包含无机氧化物。
4.根据权利要求1所述的蒸镀膜，其中，进一步具有被层叠在所述金属蒸镀层上的包含聚乙烯醇系聚合物的树脂涂层。
5.根据权利要求1所述的蒸镀膜，其中，进一步具有包含聚乙烯醇系聚合物以外的热塑性树脂的层。
6.包装材料，具有权利要求1所述的蒸镀膜。
7.真空绝热体，具有权利要求1所述的蒸镀膜。
8.蒸镀膜的制造方法，其是权利要求1所述的蒸镀膜的制造方法，其特征在于，
蒸镀前的基材膜中含有的挥发成分的含量为1.1质量%以下。
9.蒸镀膜的制造方法，其是权利要求1所述的蒸镀膜的制造方法，其特征在于，
蒸镀时的基材膜的表面温度为60℃以下。
10.蒸镀膜的制造方法，其是权利要求1所述的蒸镀膜的制造方法，其特征在于，
对蒸镀前的基材膜的表面进行等离子体处理。
CN201380009839.5A 2012-02-20 2013-02-20 聚乙烯醇系蒸镀膜 Active CN104114367B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012-034073 2012-02-20
JP2012034073 2012-02-20
PCT/JP2013/054138 WO2013125564A1 (ja) 2012-02-20 2013-02-20 ポリビニルアルコール系蒸着フィルム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104114367A CN104114367A (zh) 2014-10-22
CN104114367B true CN104114367B (zh) 2016-01-20

Family

ID=49005746

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201380009839.5A Active CN104114367B (zh) 2012-02-20 2013-02-20 聚乙烯醇系蒸镀膜

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20150004395A1 (zh)
EP (1) EP2818316B1 (zh)
JP (2) JP6095640B2 (zh)
KR (1) KR102053473B1 (zh)
CN (1) CN104114367B (zh)
WO (1) WO2013125564A1 (zh)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10047204B2 (en) 2013-05-29 2018-08-14 Kuraray Co., Ltd. Ethylene-vinyl alcohol copolymer-containing resin composition, film, laminate, packaging material, vacuum thermal insulator, film production method, and laminate production method
JP6450069B2 (ja) * 2013-09-20 2019-01-09 株式会社クラレ 溶融成形用樹脂組成物、フィルム、積層体、包装材料及びフィルムの製造方法
WO2016006191A1 (ja) * 2014-07-09 2016-01-14 凸版印刷株式会社 包装材用積層体、真空断熱材用包装材及び真空断熱材
JP6780922B2 (ja) * 2014-07-11 2020-11-04 株式会社クラレ 樹脂組成物、フィルム、多層構造体及び包装材料
JP6749079B2 (ja) * 2014-07-11 2020-09-02 株式会社クラレ 蒸着フィルム、包装材及び真空断熱体
JP6645119B2 (ja) * 2015-10-22 2020-02-12 凸版印刷株式会社 建材用防湿シートおよび化粧板
CN110709174A (zh) 2017-06-22 2020-01-17 宝洁公司 包括水溶性层和气相沉积有机涂层的膜
WO2018237213A1 (en) 2017-06-22 2018-12-27 The Procter & Gamble Company FILMS COMPRISING A WATER-SOLUBLE LAYER AND AN INORGANIC COATING PRESENTED IN STEAM PHASE
US20200131626A1 (en) * 2018-10-30 2020-04-30 Fres-Co System Usa, Inc. Films and laminates with high oxygen barrier and methods of making the same
JP7366661B2 (ja) * 2019-09-18 2023-10-23 株式会社クラレ 積層体の処理方法及び回収方法、並びに回収組成物及び成形体
JP7357560B2 (ja) * 2020-01-30 2023-10-06 株式会社クラレ 多層構造体並びに前記多層構造体を備える包装材、真空包装袋及び真空断熱体
JP7357558B2 (ja) * 2020-01-30 2023-10-06 株式会社クラレ 多層構造体並びに前記多層構造体を備える包装材、真空包装袋及び真空断熱体
JP7357559B2 (ja) * 2020-01-30 2023-10-06 株式会社クラレ 多層構造体並びに前記多層構造体を備える包装材、真空包装袋及び真空断熱体
JP2021119032A (ja) * 2020-01-30 2021-08-12 株式会社クラレ 多層構造体並びに前記多層構造体を備える包装材、真空包装袋及び真空断熱体
CN111978857B (zh) * 2020-09-08 2021-11-05 杭州星点包装材料有限公司 一种薄膜蒸镀前使用的涂布液及其制备工艺
CN114351092A (zh) * 2021-12-01 2022-04-15 湖北润烨新能源有限公司 一种金属复合铝膜的制备方法及系统

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0976400A (ja) * 1995-09-12 1997-03-25 Mitsubishi Chem Corp 薄膜ガスバリア性フィルム
WO2008044549A1 (fr) * 2006-10-06 2008-04-17 The Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. Film multicouche et structure D'isolaTION sous vide

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55132241A (en) * 1979-04-02 1980-10-14 Toyo Boseki Laminate
JPS59106958A (ja) * 1982-12-13 1984-06-20 東洋製罐株式会社 アルミニウム層を含む積層体
JPH0713164B2 (ja) * 1985-06-06 1995-02-15 株式会社クラレ 成形物の製法
US5175054A (en) * 1991-11-08 1992-12-29 Mobil Oil Corporation Metallized film structure and method
JPH08269689A (ja) * 1995-03-31 1996-10-15 Toyo Metaraijingu Kk 蒸着プラスチックフィルム及びその製造方法
JPH08296689A (ja) * 1995-04-27 1996-11-12 Nissan Motor Co Ltd ねじ部の構造及びねじ部の製造方法
US6824828B2 (en) * 1995-06-07 2004-11-30 Avery Dennison Corporation Method for forming multilayer release liners
JP3792802B2 (ja) * 1996-10-18 2006-07-05 松下冷機株式会社 真空断熱体
JP3218287B2 (ja) * 1997-10-31 2001-10-15 清二 加川 ガスバリア性積層フィルムの製造方法およびガスバリアコート剤
JP3733300B2 (ja) * 1997-10-31 2006-01-11 清二 加川 ガスバリア性積層フィルムおよびガスバリア性積層フィルムの製造方法
US6004660A (en) * 1998-03-12 1999-12-21 E.I. Du Pont De Nemours And Company Oxygen barrier composite film structure
JP2920143B1 (ja) * 1998-06-02 1999-07-19 清二 加川 易裂性ガスバリアフィルムおよび易裂性ガスバリアフィルムの製造方法
JP3943304B2 (ja) * 2000-01-07 2007-07-11 三菱樹脂株式会社 ガスバリア性に優れた積層構造体
JP4642265B2 (ja) 2001-04-17 2011-03-02 株式会社クラレ 真空断熱構造体
JP4593153B2 (ja) 2004-03-31 2010-12-08 株式会社クラレ 表面処理用樹脂フィルムおよびそれを用いた多層フィルムの製造方法
JP4835014B2 (ja) * 2005-03-23 2011-12-14 凸版印刷株式会社 真空断熱体
WO2007011331A2 (en) * 2005-07-14 2007-01-25 3M Innovative Properties Company Water-soluble polymeric substrate having metallic nanoparticle coating
JP2007290144A (ja) * 2006-04-21 2007-11-08 Toppan Printing Co Ltd ガスバリア性積層体
US8945702B2 (en) * 2007-10-31 2015-02-03 Bemis Company, Inc. Barrier packaging webs having metallized non-oriented film
GB0809063D0 (en) * 2008-05-19 2008-06-25 Sun Chemical Ltd Gas barrier coatings
JP2011036778A (ja) * 2009-08-10 2011-02-24 Konica Minolta Holdings Inc バリアフィルムの製造方法
US20110229701A1 (en) * 2010-03-18 2011-09-22 Cryovac, Inc. Multilayer Active Oxygen Barrier Film Comprising a Plurality of Microlayers

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0976400A (ja) * 1995-09-12 1997-03-25 Mitsubishi Chem Corp 薄膜ガスバリア性フィルム
WO2008044549A1 (fr) * 2006-10-06 2008-04-17 The Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. Film multicouche et structure D'isolaTION sous vide

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2013125564A1 (ja) 2015-07-30
JP6095640B2 (ja) 2017-03-15
EP2818316B1 (en) 2023-09-13
CN104114367A (zh) 2014-10-22
KR102053473B1 (ko) 2019-12-06
JP2017100451A (ja) 2017-06-08
EP2818316A1 (en) 2014-12-31
EP2818316A4 (en) 2015-11-11
US20150004395A1 (en) 2015-01-01
KR20140133841A (ko) 2014-11-20
WO2013125564A1 (ja) 2013-08-29
JP6422932B2 (ja) 2018-11-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104114367B (zh) 聚乙烯醇系蒸镀膜
KR102157033B1 (ko) 에틸렌-비닐알코올 공중합체 함유 수지 조성물, 필름, 적층체, 포장 재료, 진공 단열체, 필름의 제조 방법 및 적층체의 제조 방법
JP6450183B2 (ja) 真空断熱材及びその製造方法
JPWO2009123200A1 (ja) ガスバリア性フィルムおよびその製造方法
JP2021017060A (ja) 製造工程で被覆する二軸配向ポリエチレン薄膜とその製法
JP4642265B2 (ja) 真空断熱構造体
JP2009241328A (ja) 多層フィルムおよびこれを用いてなる真空断熱構造体
JP2009079762A (ja) 真空断熱構造体及びその製造方法
JP6239409B2 (ja) 蒸着フィルム
JP4230007B2 (ja) エチレン−ビニルアルコール共重合体からなる成形物
JP2007078176A (ja) 真空断熱構造体
WO2017217436A1 (ja) ポリアミド系フィルム、これを用いた積層体及び容器、ならびにその製造方法
JP6258029B2 (ja) 真空断熱構造体用外装袋及びそれを用いた真空断熱構造体、並びに真空断熱構造体用外装袋の保管または輸送方法、及び真空断熱構造体用外装袋の製法
JP2014126098A (ja) 真空断熱構造体及び真空断熱構造体用外装袋
US20170210105A1 (en) Biaxially-stretched layer polyamide film and packaging bag
JP3199160B2 (ja) 線状低密度ポリエチレン系複合フイルム
JP2023015849A (ja) 真空断熱材外装用積層体
JP2001315281A (ja) 易裂性フィルムおよび易裂性包装袋
JP7482606B2 (ja) 積層フィルムの製造方法
WO2023243390A1 (ja) 積層体及び包装袋
WO2014104259A1 (ja) 真空断熱構造体用外装袋及びそれを用いた真空断熱構造体
JP2014142060A (ja) 真空断熱構造体用外装袋及びそれを用いた真空断熱構造体
EP4410547A1 (en) Laminated film and packaging material
JP2024028450A (ja) 包装用フィルムおよび包装体
KR101578320B1 (ko) 성형체 및 그 제조 방법

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant