CN103974832B - 图像抹除装置和图像抹除方法 - Google Patents

Abstract

可以均匀地抹除记录在热可逆记录介质上的图像。该图像抹除装置2000包括：LD阵列1，其发出横截面具有线形的激光，包含至少一个柱面透镜的光学器件，使从LD阵列1发出的线形光束转化为在宽度方向上会聚的会聚光，并且发出该会聚光；和单轴检流计(galvano)镜5，使发自光学器件的激光在宽度方向上转向，并且使该转向的激光在该热可逆记录介质上扫描。

Description

图像抹除装置和图像抹除方法

技术领域

本发明涉及图像抹除装置和图像抹除方法，其使激光在热可逆记录介质上扫描，以抹除记录在该热可逆记录介质上的图像。

背景技术

在相关技术中，已知一种图像抹除装置，其在宽度方向使其横截面为线形的激光转向，以便使转向的激光在热可逆记录介质扫描，以抹除记录在该热可逆记录介质上的图像(例如参见专利文献1)。

然而，在专利文献1中，由于激光在线形激光的热可逆记录介质上的入射角变化，照射到热可逆记录介质上的激光的能量密度发生变化，以致难以均匀抹除记录在该热可逆记录介质上的图像。

发明内容

解决问题的手段

根据本发明，提供一种使激光在记录了图像的热可逆性介质上扫描的图像抹除装置，该图像抹除装置包括：光源，所述光源发出横截面为线形的激光；光学器件，所述光学器件将从发自光源的激光转化成在宽度方向上会聚的会聚光以便发出该会聚光；和扫描单元，所述扫描单元在宽度方向上使发自光学器件的激光转向，以便使该转向的激光在热可逆记录介质上扫描。

本发明可以均匀地抹除记录在热可逆记录介质上的图像。

附图说明

图1A到1C是举例说明本发明的热可逆记录介质的层结构的实例(第一到第三部分)的示意截面图；

图2A是举例说明热可逆记录介质的着色-脱色特性的图，而2B是显示热可逆记录介质的着色-脱色变化的原理的示意性解释图；

图3A和3B是用于解释本发明图像抹除装置的实例的图的第一部分和第二部分；

图4A和4B是用于解释本发明图像抹除装置的不同实例的图的第一部分和第二部分；

图5是举例线形光束的形状和说明本发明的激光扫描方法的图；

图6A是显示在本发明的实施方式1中的热可逆记录介质的中心部分和周围部分的抹除特性，而图6B是举例说明在对比例1中热可逆记录介质的中心部分和周围部分的抹除特性；

图7是用于解释激光扫描中的跳跃(jumping)的图(没有照射激光的激光扫描)；

图8是举例说明RF-ID标签的实例的示意性解释图；

图9A和9B是描述当在对比例(部件1和2)中使线形光束转向时照射到热可逆记录介质上的光束宽度的图，和

图10是描述当在本发明的一种实施方式中使线形光束转向时照射到热可逆记录介质上的光束宽度的图。

具体实施方式

(图像抹除装置和图像抹除方法)

本发明的图像抹除装置至少包括：光源，所述光源发出其横截面为线形的激光；光学器件；和扫描单元，并且如需要，包括照射能量值控制单元和其它单元。

本发明的图像抹除方法至少包括转化步骤和扫描步骤，并且如需要，包括其它步骤。

根据本发明的图像抹除装置和图像抹除方法，将从光源发出的其横截面为线形的激光转化为在宽度方向会聚的会聚光，将转变为会聚光的激光在宽度方向转向，以便使转向的激光在热可逆记录介质上扫描，从而抹除记录在该热可逆记录介质上的图像。

本发明的图像抹除方法可以用本发明的图像抹除装置适当地具体化，可以通过该光学器件执行转化步骤，可以通过该扫描单元进行扫描步骤，并且可以通过其它单元进行其它步骤。

光源

作为一实例，光源为包括多个布置成单轴方向的(一维排列的)半导体激光器的一维激光器阵列，发出横截面为线形的激光。

一维激光阵列优选包括3到300个半导体激光器，并且更优选包括10到100个半导体激光器。

当半导体激光器的数目小时，不能增加照射功率，而当数目太大时，可能需要大规模的冷却装置用于冷却该一维激光阵列。

一维激光阵列的光发射单元的纵向长度，没有特殊限制，并且可以根据其目的适当选择，优选为1mm到50mm并且更优选为3mm至15mm。当一维激光阵列的光发射单元的纵向长度小于1mm时，不能增加照射功率，而当其超过50mm，需要大规模的冷却装置用于冷却一维激光阵列，可能使该装置的成本增加。

在此，一维激光器阵列的光发射单元指在一维激光器阵列中有效并且实际发光的部分。

例如，光源可以是包括多个成二维排列的半导体激光器的二维激光器阵列，只要它发出横截面为线形的激光。

而且该光源可以包括固态激光器、纤维激光器、CO₂激光器等，代替半导体激光器。

一维激光器阵列中激光的波长优选为至少700nm，更优选为至少720nm，并且进一步优选为至少750nm。激光波长的上限，可以根据其目的适当地选择，优选小于或等于1,500nm，更优选为小于或等于1,300nm，并且进一步优选小于或等于1,200nm。

当激光的波长设置为小于700nm的波长时，出现问题：在可见光区域中，热可逆记录介质的图像记录时的对比度降低，并且该热可逆记录介质被着色。而且，在波长甚至更短的紫外线区域中，存在问题：其变得更可能发生热可逆记录介质的劣化。而且，对于要添加到该热可逆记录介质中的光热转化材料，必须具有高的分解温度，用于维持抗重复图像处理的耐久性，以致当有机染料被用于光热转化材料时，难以获得具有高分解温度和长吸收波长的光热转化材料。因此，激光的波长优选小于或等于1,500nm。

转化过程和光学器件

转化过程，是将从一维激光器阵列发出的线形激光(下面称为线形光束)转化成在宽度方向(短方向)上会聚的会聚光的过程，这可以用光学器件实现。该“宽度方向”是平行于与多个半导体激光器的排列方向成直角的方向。

光学器件，被布置在从一维激光器阵列发出的线形光束的光路上，其将线形光束转化成在宽度方向上会聚的会聚光，以便将该会聚光发射到扫描单元。

光学器件至少包括宽度方向会聚单元以及，如需要，包括至少一个宽度方向平行化单元、纵向光分布均匀化单元和纵向平行化单元。

宽度方向会聚单元布置在一维激光器阵列和扫描单元之间的线形光束的光路上。

宽度方向会聚单元，没有具体限制，可以根据其目的适当选择，以致可以用柱面透镜(光收集元件)或多个柱面透镜的结合来实现。

换句话说，至少一个柱面透镜如此设置，以致发射到扫描单元的线形光束在宽度方向上会聚。在这种情况中，该至少一个柱面透镜的位置根据其焦距确定。

宽度方向平行化单元，布置在一维激光器阵列和宽度方向会聚单元之间的线形光束的光路上，使从一维激光器阵列发出的线形光束在宽度方向上平行化。

宽度方向平行化单元，没有特殊的限制，可以根据其目的适当选择，以致于其例如包括凹柱面透镜、多个凸柱面透镜、具有一凸面的柱面透镜等的组合。

来自一维激光器阵列的线形光束在宽度方向上相对于长度方向(纵向)具有大的发散角，以致宽度方向平行化单元优选设置在接近一维激光器阵列的发射面。在这种情况中，可以尽可能抑制线形光束在宽度方向上的发散，并且该透镜可以制得尽可能小。“长度方向”是平行于多个半导体激光器对齐方向的方向。

长度方向光分布均匀化单元，布置在一维激光器阵列和扫描单元之间的线形光束光路上，导致线形光束在长度方向上均匀发散，以便使线形光束在长度方向的光分布均匀化。

长度方向光分布均匀化单元优选布置在宽度方向平行化单元和宽度方向会聚单元之间的线形光束的光路上。

长度方向光分布均匀化单元，没有特殊限制，可以根据其目的适当选择，以致其可以用例如非球面柱面透镜和球面透镜的组合来实现。例如，非球面柱面透镜(长度方向)包括微透镜阵列、凸面镜阵列、凹面镜阵列、Fresnel透镜等。透镜阵列表示一组多个在长度方向上排列的凸或凹面透镜。用非球面柱面透镜，可以导致线形光束在长度方向上发散，获得均匀的光分布。

长度方向平行化单元，布置在一维激光器阵列和扫描单元之间的线形光束的光路上，使线形光束在长度方向上平行化。

长度方向平行化单元优选布置在长度方向分布均匀化单元和扫描单元之间的线形光束的光路上。

长度方向平行化单元，没有特殊限制，可以根据其目的适当选择，以致其可以用例如球面透镜来实现。

换句话说，布置该球面透镜，使发射到扫描单元的线形光束在长度方向平行化。在这种情况中，该球面透镜的位置根据其焦距确定。

被长度方向平行化单元平行化的线形光束的长度优选在10mm和300mm之间，并且更优选为30mm和160mm之间。可抹除区域根据线形光束的长度确定，以致于当其长度短时，可抹除区域变窄。

线形光束的长度优选超过一维激光器阵列的光发射单元的纵向长度的两倍，并且更优选超过三倍。当线形光束的长度比一维激光阵列的光发射单元的纵向长度短时，必须使一维激光器阵列光源变长，以便维持长的抹除区域，可能导致增加装置成本和增加装置尺寸。

扫描单元，经光学器件设置在线形光束的光路上，在宽度方向上，使被光学器件会聚成在宽度方向上会聚的会聚光的线形光束转向，以便使转向的线形光束在热可逆记录介质上扫描。结果是，抹除记录在热可逆记录介质上的图像。

扫描单元，没有特殊限制，只要其可以使线形光束在宽度方向(单轴方向)转向，可以根据其目的适当选择，以致于它包括例如单轴检流计镜(monoaxialgalvano-mirror)、多面镜、步进电机镜等。

可以用单轴检流计镜和步进电机镜精密控制速度调节，步进电机镜比单轴检流计镜便宜；而难以进行速度调节的多面镜便宜。

热可逆记录介质上线形光束的光束宽度优选在0.1mm和10mm之间，并且更优选为0.2mm和5mm之间。在该光束宽度下，可以控制加热该热可逆性介质的时间(加热时间)。当光束宽度太窄时，加热时间变短，导致可抹除性降低。另一方面，当光束宽度太宽时，加热时间变长，对热可逆记录介质提供过多的能量，以致需要大量能量，这使高速抹除变得困难。因此，理想的是将光束宽度调节到与热可逆记录介质的抹除特性相应适应。

而且线形光束的扫描速度(转向速度)，没有特殊限制，优选至少2mm/s，更优选至少10mm/s，并且进一步优选至少20mm/s。当扫描速度小于2mm/s时，图像抹除费时。另外，激光的扫描速度上限，没有特殊限制，可以根据其目的适当选择，优选小于或等于1000mm/s，更优选小于或等于300mm/s，并且进一步优选小于或等于100mm/s。当扫描速度超过1000mm/s时，均匀的图像抹除会变得困难。

另外，线形光束的输出没有特殊限制，可以根据其目的适当选择，优选至少10W，更优选至少20W，并且进一步优选至少40W。当线形光束的输出小于10W时，图像抹除费时，而当追求缩短图像抹除时间时，出现输出不足，导致图像抹除失败。另外，线形光束的输出的上限没有特殊限制，可以根据其目的适当选择，优选小于或等于500W，更优选小于或等于200W，并且进一步优选小于或等于120W。当激光的输出超过500W时，半导体激光器的冷却装置变大。

为了使线形光束在热可逆记录介质上扫描，线形光束可以在停止的热可逆记录介质上扫描以抹除记录在该热可逆记录介质上的图像，或该热可逆记录介质可以通过移动单元移动并且使线形光束在该热可逆记录介质上扫描以抹除记录在该热可逆记录介质上的图像。该移动单元包括例如传送装置、载物台等。在这种情况中，优选通过传送装置移动容器以便移动热可逆记录介质，该热可逆记录介质被贴在该容器表面上。

例如该容器包括纸板盒、塑料容器、箱等。

现在，如上所述，当线形光束在热可逆记录介质上在宽度方向上扫描以抹除记录在该热可逆记录介质上的图像时，该热可逆记录介质的加热时间，或，换言之，在热可逆记录介质上的线形光束的光束宽度影响抹除特性。

在此，如从图9A到10可以看出，例如，当线形光束通过扫描单元在热可逆记录介质上扫描时，线形光束的前进方向发生变化，并且线形光束在热可逆记录介质的入射角变化。然后，当线形光束在热可逆记录介质上的入射角变化时，在热可逆记录介质上的光束宽度通常发生变化。

在这种情况中，为了在热可逆记录介质的整个表面上进行均匀抹除，理想的是：由于线形光束的入射角改变导致在热可逆记录介质上的光束宽度的变化(加热时间的变化)尽可能小，并且热可逆记录介质上的光束宽度尽可能恒定，不管该线形光束的扫描位置。

如图9A所示，在被扫描单元转向的线形光束在宽度方向上发散，或，换言之线形光束行进同时它在宽度方向发散的情况中，线形光束越发散，并且以越大的入射角入射到热可逆记录介质中，则扫描单元和热可逆记录介质之间光路长度越长(图9A中较大的θ)。在图9A中θ是线形光束与作为参比的垂直于热可逆记录介质的方向的转向角。

这里，假定在入射到热可逆记录介质上之前的光束宽度W1并且在热可逆记录介质上的光束宽度为W1(θ)，W1(θ)＝W1/cosθ。

在这种情况中，W1越大，θ越大，并且cosθ是θ的递减函数。

换句话说，热可逆记录介质上的光束宽度显著变大，上述光学路径长度越长(θ越大)。换句话说，由于线形光束的入射角变化导致光束宽度在热可逆记录介质上的变化显著较大。

另外，如图9B所示，在通过扫描单元转向的线形光束在宽度方向平行，或，换言之，线形光束以恒定的宽度前进时，线形光束以越大的入射角入射到热可逆记录介质上，扫描单元和热可逆记录介质之间的光路长度就越长(图9B中θ越大)。图9B中θ是线形光束与作为参比的垂直于热可逆记录介质的方向之间的转向角。

在这里，在入射到热可逆记录介质上之前光束宽度为W2并且热可逆记录介质上的光束宽度为w2(θ)的情况下，W2(θ)＝W2/cosθ。

在这种情况中，W2是恒定的，并且cosθ是θ的递减函数。

换句话说，热可逆记录介质上的光束宽度变大，上述光学路径长度越长(θ越大)。换句话说，由于线形光束的入射角变化导致光束宽度在热可逆记录介质上的变化大。

另外，如图10所示，在通过扫描单元转向的线形光束在宽度方向会聚，或，换言之该线形光束前进同时在宽度方向变窄的情况中，线形光束入射到热可逆记录介质上，以致于其越窄，入射角越大，扫描单元和热可逆记录介质之间的光路长度越长(图10中θ越大)。在图10中θ是线形光束与作为参比的垂直于热可逆记录介质方向之间的转向角。

在此，假定入射到热可逆记录介质之前的光束宽度为W3，而热可逆记录介质上的光束宽度为W3(θ)，W3(θ)＝W3/cosθ。

在这种情况中，W3变得越小，θ越大，并且cosθ是θ的递减函数。

换句话说，由于光学路径长度变化导致光束宽度在热可逆性介质上的变化小。换句话说，由于线形光束的入射角变化导致光束宽度在热可逆记录介质上的变化小。

因此，如上所述，本发明的图像抹除装置的光学器件具有宽度方向会聚单元，并且使线形光束会聚成在宽度方向上会聚的会聚光，通过扫描单元使其入射，这可以降低由于线形光束的入射角变化导致的在热可逆记录介质上的光束宽度(加热时间)的变化，并且结果是：可以在热可逆记录介质的整个表面上进行均匀抹除。

然后，至少一种排列和宽度方向会聚单元的焦点位置；扫描单元和热可逆记录介质之间的距离等可以改变，以调节入射到热可逆记录介质上的线形光束宽度方向的会聚程度，以致于由于线形光束的入射角变化导致的热可逆记录介质上的光束宽度变化可以被设置成几乎为0，或换句话说，不管线形光束的扫描位置，或换句话说不管θ，热可逆记录介质上的光束宽度W3(θ)可以被设置为几乎恒定。结果是，可以在热可逆记录介质的整个表面上进行更均匀的抹除。

现在，即使当热可逆记录介质的光束宽度被设置为几乎恒定，不管线形光束的入射角时，在入射到扫描单元的线形光束在长度方向上发散或会聚的情况中，由于线形光束通过扫描单元的入射角变化，导致线形光束的光学路径长度变化，以致于热可逆记录介质上的线形光束的长度(光束长度)变化。

在这种情况下，线形光束在热可逆记录介质上的照射面积(光束宽度×光束长度)，或者换句话说，照射能量密度随着线形光束的入射角的变化而变化。

因此，为了在热可逆记录介质的整个表面上进行更均匀的抹除，理想的是在长度方向使被扫描单元入射的线形光束平行化。

然后，如上所述，本发明的图像抹除装置的光学器件，如果需要包括长度方向平行化单元，可以在长度方向使被扫描单元入射的线形光束平行化，以抑制由于线形光束的入射角变化导致的热可逆记录介质上光束长度的变化。结果是，热可逆记录介质上线形光束的照射面积(照射能量密度)可以设置为尽可能恒定，而不管线形光束的扫描位置。

另外，如上所述，本发明的图像抹除装置，如需要，包括长度方向光分布均匀化单元，可以使被该扫描单元入射的线形光束在长度方向上的光分布均匀化。结果是，可以在长度方向使线形光束的照射能量密度均匀化。

如上所述，该光学器件除了宽度方向会聚单元以外可以包括长度方向平行化单元和长度方向光分布均匀化单元中之一，以便相对于热可逆记录介质的整个表面进行更均匀的抹除。另外，该光学器件除了宽度方向会聚单元以外可以均包括长度方向平行化单元和长度方向光分布均匀化单元二者，以便相对于热可逆记录介质的整个表面进行极其均匀的抹除。

照射能量值控制单元是调节照射到热可逆记录介质上的能量值的单元。

照射能量值控制单元包括具有测量热可逆记录介质或其环境的温度的温度传感器的那些；和根据温度传感器的测量值调节一维激光器阵列的输出的输出调节装置。照射能量值控制单元可以例如包括根据温度传感器的测量值调节热可逆记录介质的加热时间的加热时间调节装置，代替输出调节装置。

在这种情况中，不管热可逆记录介质的温度，更适用于抹除图像的数值的照射能量被照射到热可逆记录介质上。

另外，照射能量值控制单元可以包括测量热可逆记录介质和扫描单元之间距离的距离传感器(位移传感器)，代替温度传感器。在这种情况中，可以根据距离传感器的测量值布置输出调节装置，以便调节一维激光器阵列的输出，或可以根据距离传感器的测量值布置加热时间调节装置，以便调节热可逆记录介质上的加热时间。

在这种情况中，热可逆记录介质上的光束宽度随着热可逆记录介质和扫描单元之间的距离变化，使得可以考虑光束宽度变化而控制照射能量的量，并且结果是，照射到热可逆记录介质的照射能量数值更适合抹除图像，而无论热可逆记录介质和扫描单元之间的距离如何。

照射能量值控制单元可以包括温度传感器和距离传感器。在这种情况中，可以根据温度传感器和距离传感器的测量值布置输出调节装置，以便调节一维激光器阵列的输出，或可以根据温度传感器和距离传感器的测量值布置加热时间调节装置，以便调节热可逆记录介质上的加热时间。

另外，当通过扫描单元扫描线形光束时，照射能量值控制单元可以包括根据线形光束的扫描位置调节一维激光器阵列的输出的输出调节装置。在这种情况中，可以布置照射能量值控制单元，以便从扫描单元的工作状态探测线形光束的扫描位置。

不管线形光束的扫描位置，甚至在热可逆记录介质上的光束照射面积由于线形光束的入射角变化而变化的情况中，这可以使热可逆记录介质上的照射能量密度均匀化。结果是，可以在热可逆记录介质的整个表面上进行更均匀的抹除。

照射能量值控制单元可以包括根据线形光束的入射角调节热可逆记录介质的加热时间的加热时间调节装置，代替输出调节装置。

其它过程和其它单元

其它过程，没有特殊限制，可以根据其目的适当选择，以致它们例如包括控制过程。

控制过程，是控制各个过程的过程，可以优选通过控制单元进行。

控制单元，没有特殊限制，只要其控制各个单元的移动，可以根据其目的适当选择，以致其包括设备单元如序列发生器、电脑等。

热可逆记录介质

在热可逆记录介质中，透明度和色调之一根据温度可逆地变化。

热可逆记录介质，没有特殊限制，而且可以根据其目的适当选择，包括例如载体；和依次在该载体上的第一热可逆记录层、光热转化层和第二热可逆记录层；并且如需要，还包括其它层如适当选择的第一氧阻挡层、第二氧阻挡层、紫外线吸收层、背层、保护层、中间层、底层、粘合层、胶粘层、着色层、空气层、光反射层等。可以对热可逆记录层添加光热转化材料，以使第一和第二热可逆记录层成为一层，省略光热转化层。各个层可以是单层结构或多层结构。要设置在光热转化层上的层优选使用在特定波长下具有较小吸收的材料进行设置，以便降低要照射的、具有特定波长的激光的能量损失104。

在此，如图1A所示，热可逆记录介质100的层结构模式包括载体101；和依次在载体上的第一热可逆记录层102、光热转化层103和第二热可逆记录层。

另外，如图1B所示，其模式包括载体101；和依次在载体上的第一氧阻挡层105、第一热可逆记录层102、光热转化层103、第二热可逆记录层104和第二氧阻挡层106。

另外，如图1C所示，其模式包括载体101；和依次在载体上的第一氧阻挡层105、第一热可逆记录层102、光热转化层103、第二热可逆记录层104、紫外线吸收层107和第二氧阻挡层106，并且在该载体101的、未包括热可逆记录层的一侧的表面上包括背层108等。

虽然省略说明，但是可以在图1A中的第二热可逆记录层104上、图1B中的第二氧阻挡层106上和图1C中的第二氧阻挡层106上的最外表面层上形成保护层。

载体

载体的形状、结构、尺寸等没有特殊限制，可以根据其目的适当选择，以致于例如形状包括平板形状等。结构可以是单层结构或多层结构；而尺寸可以根据热可逆性介质的尺寸适当选择，等等。

例如，载体的材料包括无机材料、有机材料等。

无机材料包括例如玻璃、石英、硅、二氧化硅、氧化铝、SiO₂、金属等。

有机材料包括例如纤维素衍生物如纤维素三醋酸酯、纸、膜如聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、合成纸等。

无机材料和有机材料可以单独使用，或两种或更多种可以结合使用。这些材料中，有机材料是优选的，膜如聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯等更优选，并且聚对苯二甲酸乙二醇酯特别优选。

优选的是：通过进行电晕放电、氧化反应(铬酸等)、蚀刻、促进粘附力、抗静电处理等使载体进行表面改性。用于提高涂层的粘附。

优选的是通过对该载体增加白色颜料等如二氧化钛使该载体着色成白色。

载体的厚度没有特殊限制，并且可以根据其目的适当选择，优选在10μm到2000μm之间，并且更优选在50μm和1000μm之间。

第一热可逆记录层和第二热可逆记录层

第一热可逆记录层和第二热可逆记录层(下面，其被称为“热可逆记录层”)均是包含无色染料和显色剂的热可逆记录层，无色染料是给电子成色化合物；显色剂是接受电子化合物。在该热可逆记录层中，通过加热，色调可逆地变化，并且如需要，可以包括粘合剂树脂和其它组分。

无色染料，是给电子着色化合物，而可逆性显色剂，是接受电子化合物，其中无色染料和可逆性显色剂色调通过加热可逆地变化，无色染料和可逆性显色剂是能显示由于温度变化出现可逆的可见变化现象的材料。该材料可以根据加热温度和加热之后的冷却速率的差异相应地改变着色状态和脱色状态。

无色染料

无色染料是本身没有颜色的或苍白色的染料前驱体。无色染料没有特殊限制，可以从已知的那些中适当选择，优选包括例如基于三苯甲烷苯酞、三烷基甲烷、荧烷、吩噻嗪、硫代荧烷、夹氧杂蒽、吲哚邻苯二甲酰、螺环吡喃、氮杂苯酞、色烯并吡唑(chromenopyrazole)、次甲烯、若丹明苯胺基内酰胺、若丹明内酰胺、喹唑啉、二氮夹氧杂蒽、双内酯(bislactone)等的无色化合物。在这些中，基于荧烷或苯酞的无色染料是特别优选的，因为：在着色和脱色性能、着色、耐储存性等方面优越。这些可以以一种单独使用，或其两种或更多种结合使用，并且用不同色调显色的层可以层压在一起，以响应多色或全色。

可逆性显色剂

可逆显色剂，没有特别限制，只要在加热作为起因可逆地显色和抹除颜色，可以根据其目的适当选择，并且优选包括例如其分子中具有至少一个选自以下结构的化合物：(1)具有显色能力的结构，其使无色染料显色(例如酚羟基、羧基、磷酸基等)；和(2)控制分子凝聚的结构(例如，其中长链烃基团连接在一起的结构)。在连接部分中，该连接可以是包含杂原子的二价或更高价的连接基团。另外，其中该包含长链烃基团也可以至少包含类似连接基团和芳族基之一。

对于(1)具有使无色染料显色的显色能力的结构，酚是特别优选的。

(2)控制分子之间凝聚的结构优选为具有至少8个碳原子的长链烃基团，更优选为具有11个碳原子，并且碳原子的数目上限优选小于或等于40并且更优选小于或等于30。

可逆显色剂中，优选通式(1)表示的酚化合物，并且更优选通式(2)表示的酚化合物。

化合物1

化合物2

在通式(1)和通式(2)中，R¹表示具有1到24个碳原子的脂肪族烃基或单键。R²表示具有两个或多个碳原子的脂肪族烃基，可以具有取代基团，并且碳原子数目优选至少为5，并且更优选至少为10。R³表示具有1到35个碳原子的脂肪族烃基，碳原子数目优选为6到35，并且更优选为8到35。脂肪族烃基可以以一种单独提供，或两种或更多种可以结合提供。

R¹、R²和R³的碳原子总数，没有具体限制，可以根据其目的适当选择；其下限优选至少为8，并且更优选至少为11，并且其上限优选小于或等于40，并且更优选小于或等于35。

当碳原子总数小于8时，可能损害颜色稳定度或脱色性能。脂肪族烃基，可以是直链基或支链基，并且可以具有不饱和键，优选直链基。另外，结合到烃基团的取代基团包括例如羟基、卤素原子、烷氧基等。

X和Y可以相同或不同，均表示含N原子或含O原子的二价基团。其具体实例包括氧原子、酰胺基、脲基、二酰基肼基、联氨草酸酯基(diamideoxalategroup)和酰基脲基团。其中，酰胺基和脲基是优选的。

n表示整数0和1。

接受电子化合物(显色剂)优选与作为颜色抹除促进剂的化合物一起使用，颜色抹除促进剂在其分子中包含-NHCO-基和-OCONH-基中的至少一个，以便在形成脱色状态的过程中，诱发颜色抹除加速剂和显色剂之间的分子间相互作用，以致提高着色和脱色性能。

颜色抹除加速剂，没有特殊限制，可以根据其目的适当选择。

对于热可逆记录层，可以使用粘合剂树脂，并且如果还需要，可以使用不同的添加剂，用以提高或控制热可逆记录层涂布性能和着色和脱色性能。这些添加剂包括例如表面活性剂、导电剂、填充剂、抗氧化剂、光稳定剂、着色稳定剂、颜色抹除加速剂等。

粘合剂树脂

粘合剂树脂没有特殊的限制，只要可以将热可逆记录层结合到载体上，可以根据其目的适当选择，可以使用这些已知树脂中的一种，或其两种或更多种可以结合使用。在这些中，为了提高在重复使用时的耐久性，优选使用通过热量、紫外线、电子束等固化的树脂，并且尤其是：其中基于异氰酸酯的化合物等用作交联剂的热固性树脂是优选的。热固性树脂包括例如具有与交联剂反应的基团如羟基、羧基等的树脂，和通过使包含羟基或包含羧基的单体和不同单体共聚产生的树脂。这种热固性树脂包括例如苯氧基树脂、聚乙烯醇缩丁醛树脂、醋酸丙酸纤维素树脂、醋酸丁酸纤维素树脂、丙烯酰基多醇树脂、聚酯多元醇树脂、聚氨酯多元醇树脂等。这些中，丙烯酰基多醇树脂、聚酯多元醇树脂和聚氨酯多元醇树脂是特别优选的。

在热可逆记录层中，着色剂对粘合剂树脂的混合比(质量比)相对于1(着色剂)而言优选为0.1到10。当粘合剂树脂的量太小时，热可逆记录层变得缺乏耐热强度，而当粘合剂树脂的量太大时，可能出现着色密度降低的问题。

交联剂，没有特殊限制，可以根据其目的适当选择并且包括例如异氰酸酯类、氨基树脂、酚醛树脂、胺类、环氧化合物等。这些中，更优选异氰酸酯类，并且尤其优选具有多个异氰酸基的多异氰酸酯化合物。

虽然交联剂相对于粘合剂树脂量的用量没有特殊限制，在交联剂中官能团数目对包含于该粘合剂树脂中的活性基团数目的比率优选在0.01到2。小于或等于0.01的比率导致不足的耐热强度，并且大于或等于2的比率产生对着色和脱色性能的副作用。

另外，作为交联促进剂，可以使用用于这类反应的催化剂。

当热交联时热固性树脂的凝胶分数没有特殊限制，优选至少30％，更优选至少50％，并且尤其优选70％。当凝胶分数小于30％时，交联状态不足，这导致较差的耐久性。

涂层膜可以浸入具有高溶解度的溶剂中，作为区分粘合剂树脂是否处于交联状态或非交联状态的方法。换句话说，相对于非交联状态的粘合剂树脂，该树脂溶解于该溶剂中，以致它没有残留在溶质中。

在热可逆记录层中的其它组分，没有特殊限制，并且其可以根据其目的适当选择，从便于记录图像的角度看，包括例如表面活性剂、增塑剂等。

对于用于热可逆记录层涂布溶液的溶剂、涂布溶液分散装置、涂布方法、干燥和固化方法等，可以使用已知的方法。

关于热可逆记录层涂布溶液，各种原料可以使用分散装置分散在溶剂中，或将其单独分散在溶剂中，以便混合所分散的产物。另外，可对其进行加热，并且使其溶解，然后通过快速冷却或缓慢冷却沉淀。

形成热可逆记录层的方法，没有特殊限制，并且可以根据其目的适当选择，优选包括例如(1)向载体涂布热可逆记录层涂布溶液并且当使其形成片状等的同时或之后通过蒸发溶剂使涂布溶液交联的方法，在热可逆记录层涂布溶液中，树脂、无色染料和可逆性显色剂被溶解或分散在溶剂中；(2)在载体涂布热可逆记录层涂布溶液并且在当使其形成片状等的同时或之后通过蒸发溶剂使涂布溶液交联的方法，在该热可逆记录层涂布溶液中无色染料和可逆性显色剂分散在仅仅溶解树脂的溶剂中，和(3)不使用溶剂的方法，加热和熔融树脂、无色染料和可逆显色剂以便使其混合在一起，在形成片等之后，使熔融混合物交联，冷却。在这些方法中，不使用载体也能形成片状热可逆记录介质。

用于上述方法(1)或(2)的溶剂，不能被明确地限定，因为其取决于树脂、无色染料和可逆性显色剂的种类等，包括例如四氢呋喃、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、氯仿、四氯化碳、乙醇、甲苯、苯等。

可逆显色剂存在于热可逆记录层中，以颗粒的形式分散。

为了使涂层材料具有高性能，可以向热可逆记录层涂布溶液添加不同的颜料、消泡剂、分散剂、滑爽剂、防腐剂、交联剂、增塑剂等。

热可逆记录层的涂布方法没有特殊限制，可以根据其目的适当选择，以致输送卷状连续载体或切割成片状的载体，并且通过已知的方法如刮涂、绕线棒涂、喷涂、气刀涂布、珠涂、幕涂、凹版涂布、吻涂、逆辊涂布、浸渍涂层、模涂等在载体上进行涂布。

热可逆记录层涂布溶液的干燥条件没有特殊限制，并且可以根据其目的适当选择，包括例如在室温到140℃下干燥大约10秒到10分钟。

热可逆记录层的厚度没有特殊限制，并且可以根据其目的适当选择，例如优选在1μm到20μm之间，并且更优选在3μm和15μm之间。当热可逆记录层太薄时，由于色密度降低，图像的对比度可能降低。另一方面，当其太厚时，在该层中的热量分布增加，出现没有到达着色温度并且因此没有显色的部分，并且因此可能不能获得所需的色密度。

可以向热可逆记录层添加光热转化材料，并且在这种情况中，可以省略光热转化层和阻挡层，并且可以用一个热可逆记录层代替第一和第二热可逆记录层。

光热转化层

光热转化层至少包含具有高效吸收激光并且发热功能的光热转化材料。另外，为了抑制热可逆记录层和光热转化层之间相互作用，可以在其之间形成阻挡层，优选具有高热导率材料的层。置于热可逆记录层和光热转化层之间的层可以根据其目的适当选择，不受其限制。

光热转化材料可以广义地分为基于无机的材料和基于有机的材料。

基于无机的材料，包括例如碳黑、金属如Ge、Bi、In、Te、Se、Cr等，或其半金属，和其合金、硼化镧、氧化钨、ATO、ITO等，通过真空蒸发方法或通过使颗粒材料与树脂结合等方法形成层的形状。

关于基于有机的材料，可以根据要吸收的光的波长适当使用多种的染料，当半导体激光器用作光源时，可以使用吸收峰值在700nm到1,500nm的波长范围内的近红外吸收染料。更具体地说，它包括菁染料、基于奎宁的染料、吲哚萘酚的喹啉衍生物、基于苯二胺的镍复合物、基于酞菁的化合物等。为了重复进行图像处理，优选选择在其光线中耐热性优越的光热转化材料，尤其优选基于酞菁的化合物。

近红外线收染料以一种单独使用，或其两种或更多种可以结合使用。

当提供光热转化层时，光热转化材料通常与树脂结合使用。用于光热转化层的树脂没有特殊限制，可以从现有技术中已知的那些中适当选择，只要其保持基于无机的材料和基于有机的材料，并且优选热塑性树脂、热固性树脂等，以致可以优选与用于记录层的粘合剂树脂相同的树脂。在这些中，为了提高在重复使用时的耐久性，优选使用可以通过热量、紫外线、电子束、等固化的树脂，并且尤其优选使用异氰酸酯基化合物等用作交联剂的热交联树脂。在粘合剂树脂中，其羟值优选为50mgKOH/g到400mgKOH/g。

光热转化层的厚度没有特殊限制，并且可以根据其目的适当选择，优选为0.1μm到20μm。

第一氧阻挡层和第二氧阻挡层

关于第一和第二氧阻挡层(其可以简称为“氧阻挡层”)，优选在第一热可逆记录层和第二热可逆记录层之上和之下提供氧阻挡层，用于防止氧进入热可逆记录层，以防止第一和第二热可逆记录层内的无色染料的光劣化。换句话说，优选在载体和第一热可逆记录层之间提供第一氧阻挡层，并且在第二热可逆记录层之上提供第二氧阻挡层。

形成第一和第二氧阻挡层的原料没有特殊限制，并且可以根据其目的适当选择，包括树脂、聚合物膜等，在其可见光谱区具有大的透光率和低的氧渗透率。氧阻挡层根据其用途、氧渗透性、透明度、涂布方便性、粘合剂等进行选择。

氧阻挡层的具体实例包括二氧化硅沉积膜、氧化铝沉积膜、和二氧化硅-氧化铝沉积膜，所有这些中，无机氧化物被气相沉积到聚合物膜如聚对苯二甲酸乙二醇酯、尼龙等；或树脂如尼龙-6、聚缩醛等；聚丙烯酸烷基酯、聚甲基丙烯酸烷基酯、聚甲基丙烯腈、聚烷基乙烯酯、聚烷基乙烯醚、聚氟乙烯、聚苯乙烯、乙酸-乙烯系共聚物、醋酸纤维素、聚乙烯醇、聚偏氯乙烯、乙腈共聚物、偏二氯乙烯共聚物、聚(三氟氯乙烯)、乙烯-乙烯醇共聚物、聚丙烯腈、丙烯腈共聚物、聚对苯二甲酸乙二醇酯等上。在它们之中，无机氧化物被气相沉积到该聚合物膜上的膜是优选的。

氧阻挡层的氧渗透性没有限制，优选小于或等于20ml/m²/天/MPa或以下，更优选小于或等于5ml/m²/天/MPa，并且尤其优选小于或等于1ml/m²/天/MPa。当其氧渗透性超过20ml/m²/天/MPa，不能抑制在第一和第二热可逆记录层中的无色染料的光劣化。

氧渗透性可以通过例如符合JISK7126B方法的测量方法进行测量。

形成氧阻挡层，以便将热可逆记录层置于氧阻挡层之间，如热可逆记录层的下侧上，或载体背面上。这样，可以更有效地防止氧进入热可逆记录层，可以降低无色染料的光劣化。

形成第一和第二氧阻挡层的方法没有特殊限制，并且可以根据其目的适当选择，包括熔融挤出、涂布、层压等。

第一和第二氧阻挡层的厚度，根据树脂或聚合物膜的氧渗透性而变化，优选0.1μm到100μm。当它小于0.1μm时，氧阻挡性能不足，而当其大于100μm时，由于其透明度降低，并不优选。

可以在氧阻挡层和下层之间提供粘合层。形成粘合层的方法没有特殊限制，包括涂布、层压等常规方法。该粘合层厚度，没有特殊限制，优选为0.1μm到5μm。粘合层可以用交联剂固化。对于交联剂，优选使用与热可逆记录层中使用的相同交联剂。

保护层

在本发明的热可逆记录介质中，优选在热可逆记录层上提供保护层，用于保护热可逆记录层。保护层，没有限制，可以根据其目的适当选择，并且例如可以由一层或多层形成，并且优选设置在暴露的最外层表面上。

保护层包含粘合剂树脂，并且如果需要，包括其它组分如填料、润滑剂、着色颜料等。

保护层的粘合剂树脂，没有限制，可以根据其目的适当选择，优选热固性树脂、紫外线(UV)固化树脂、电子束固化树脂等，并且在这些中，尤其优选紫外线(UV)固化树脂或热固性树脂。

借助于UV固化树脂，在固化之后可以形成非常硬的膜，可以抑制由于直接接触表面导致的损坏和激光加热导致的介质变形，以致获得重复耐久性优越的热可逆记录介质。

另外，虽然热固性树脂比UV固化树脂稍微差一些，热固性树脂同样可以固化表面，并且在重复耐久性方面优越。

UV固化树脂，没有特殊限制，可以根据其目的从已知的那些中适当选择，并且包括例如基于丙烯酸尿烷酯、环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、乙烯基和不饱和聚酯的低聚物；和单体如各种单官能和多官能的丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、乙烯基酯、乙烯衍生物、烯丙基化合物等。这些中，多官能的即四官能或更高官能的单体或低聚物尤其优选。这些单体或低聚物的两种或更多种可以混合，以适当调节树脂膜的硬度、收缩率、灵活度、涂布强度等。

为了用紫外线固化单体或低聚物，必须使用光致聚合作用引发剂或光致聚合作用促进剂。

添加的光致聚合作用引发剂或光致聚合作用促进剂的量没有特殊限制，相对于保护层的树脂组分总质量计优选为0.1质量％到20质量％，并且更优选为1质量％到10质量％。

用于固化紫外线固化树脂的紫外线照射，可以使用已知的紫外线照射装置进行，包括例如具有光源、灯、电源、冷却装置、输送装置等的一种。

光源包括例如水银灯、金属卤化物灯、钾灯、水银-氙气灯、闪光灯等。光源的波长可以根据添加到热可逆记录介质组合物中的光致聚合作用引发剂和光致聚合作用促进剂的紫外线吸收波长进行适当选择。

紫外线照射的条件，没有特殊限制，可以根据其目的适当选择，以致例如根据交联树脂所必须得照射能量足以确定灯的输出、运输速度等。

另外，为了提高可传输性，可以添加防粘剂如硬脂酸锌、或蜡；有机硅-接枝聚合物或具有可聚合基团的有机硅；或润滑剂如硅油等。这些的添加的量相对于保护层的树脂组分总质量计优选为0.01质量％到50质量％，并且更优选为0.1质量％到40质量％。这些可以以一种单独使用，或两种或更多种一起使用。另外，关于静电的防范措施，优选使用导电填料，并且尤其优选使用针状导电填料。

填料的粒径没有特殊限制，例如优选0.01μm到10.0μm，并且更优选为0.05μmto8.0μm。添加的填料的用量相对于1重量份树脂计优选为0.001重量份到2重量份，并且更优选为0.005重量份到1重量份。

保护层可以包含表面活性剂、均化剂、抗静电剂等，它们作为添加剂在现有技术中是已知的。

另外，关于该热固性树脂，例如优选使用与热可逆记录层中使用的粘合剂树脂相同的树脂。

热固性树脂优选是交联的。因此，热固性树脂优选具有能与固化剂反应的基团(如羟基、胺基羧基等)的一种，并且尤其优选的是包含羟基的聚合物。为了提高具有紫外线吸收结构的含聚合物层的强度，具有羟值至少为10mgKOH/g的聚合物导致获得足够的涂布强度，更优选至少30mgKOH/g，并且进一步优选至少40mgKOH/g。可以使保护层具有足够的涂布强度，即使当重复进行图像记录和抹除时，防止热可逆记录介质劣化。

关于固化剂，没有特殊限制，例如优选使用与热可逆记录层中使用的固化剂相同的固化剂。

对于保护层涂布溶液中使用的溶剂，涂布溶液的分散装置、保护层涂布方法，干燥法等没有特殊限制，可以使用用于该记录层的已知方法。当使用紫外线固化树脂时，需要通过紫外线照射装置的固化步骤，用该装置进行涂布和干燥，在这种情况中，紫外线照射装置、光源和照射条件如上所述。

保护层的厚度，没有特殊限制，优选为0.1μm到20μm，更优选为0.5μm到10μm，并且尤其优选1.5μm到6μm。当厚度小于0.1μm时，该保护层不足以起到热可逆记录介质的保护层的功能，该热可逆记录介质容易由于重复加热的经历而恶化，并且因此可能不能被重复使用。当厚度超过20μm时，不能适当加热位于保护层下层部分的热敏部分，并且因此，其变得不足以通过加热执行图像的记录和抹除。

紫外线吸收层

对于热可逆记录介质，优选提供紫外线吸收层，用于防止由于光劣化和被热可逆记录层内部的无色染料紫外线着色导致的未抹除，这可以提高记录介质的耐光性。优选的是，适当紫外线吸收层的厚度，以致其吸收小于或等于390nm的紫外线。

紫外线吸收层至少包含粘合剂树脂和紫外线吸收剂，并且如果需要，包括其它组分如填料、润滑剂、着色颜料等。

粘合剂树脂，没有特殊限制，可以根据其目的适当选择，并且作为粘合剂树脂，可以使用热可逆记录层树脂的组分如热固性树脂、热塑性树脂、粘合剂树脂等。树脂组分包括例如聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚乙烯醇、聚乙烯醇缩丁醛、聚氨酯、饱和聚酯、不饱和聚酯、环氧树脂、酚醛树脂、聚碳酸酯、聚酰胺等。

关于紫外线吸收剂，可以使用基于有机的化合物和基于无机的化合物之一。

另外，优选使用具有紫外线吸收结构的聚合物(下面，可以将其称为“紫外线吸收聚合物”)。

在此，具有紫外线吸收结构的聚合物指在其分子中具有紫外线吸收结构(例如紫外线吸收基团)的聚合物。紫外线吸收结构包括例如水杨酸酯结构、氰基丙烯酸酯结构、苯并三唑结构、二苯甲酮结构等，其中，苯并三唑结构和二苯甲酮结构是尤其优选的，因为它们吸收波长为340nm到400nm的紫外线，该紫外线是无色染料的光劣化的原因。

紫外线吸收聚合物优选是交联的。因此，对于紫外线吸收聚合物，优选使用一种具有能与固化剂反应的基团，如羟基、胺基、羧基等，并且尤其优选的是具有羟基的聚合物。为了增加具有紫外线吸收结构的、含聚合物层的物理强度，通过使用具有羟值至少为10mgKOH/g的聚合物获得足够的涂层膜强度，其羟值更优选至少30mgKOH/g，并且进一步优选至少40mgKOH/g。可以使其具有足够的涂布强度，即使当重复进行图像抹除和打印时，防止热可逆记录介质劣化。

紫外线吸收层的厚度没有特殊限制，优选0.1μm到30μm，并且更优选为0.5μm到20μm。关于紫外线吸收层涂布溶液中使用的溶剂、涂布溶液的分散装置、紫外线吸收层涂布方法，紫外线吸收层的干燥和固化方法等没有特殊限制，可以使用用于热可逆记录层的已知方法。

中间层

关于热可逆记录介质，没有特殊限制，优选在热可逆记录层和保护层之间提供中间层，用于提高热可逆记录层和保护层之间的粘附力，防止热可逆记录层由于涂布保护层导致质量变化，并且防止保护层中的添加剂被转移到记录层。这可以提高彩色图像的可维护性。

中间层，没有特殊限制，包括一种至少包含粘合剂树脂的中间层，并且如果需要，包括一种含其它不同组分如填料、润滑剂、着色颜料等的中间层。粘合剂树脂，没有特殊限制，可以根据其目的适当选择，并且关于粘合剂树脂，可以使用热可逆记录层树脂的组分如热固性树脂、热塑性树脂、粘合剂树脂等。该树脂组分包括例如聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚乙烯醇、聚乙烯醇缩丁醛、聚氨酯、饱和聚酯、不饱和聚酯、环氧树脂、酚醛树脂、聚碳酸酯、聚酰胺等。

另外，中间层优选包含紫外线吸收剂。关于紫外线吸收剂，可以使用基于有机的化合物和基于无机的化合物之一。

另外，可以使用紫外线吸收聚合物，或通过交联剂进行固化(cutting)。对于这些，优选使用与保护层中使用的那些相同。

中间层的厚度优选为0.1μm到20μm，并且更优选为0.5μm到5μm。关于中间层涂布溶液中使用的溶剂，涂布溶液的分散装置、中间层涂布方法、中间层干燥法和固化(cutting)方法等没有特殊限制，可以使用用于热可逆记录层的已知方法。

底层

关于热可逆记录介质，没有特殊限制，可以在热可逆记录层和载体之间提供底层，用于有效利用所施加的热量，并且获得高灵敏度，或提高载体和热可逆记录层之间的粘附力，并且防止记录层材料渗透到载体中。

底层包括至少含中空颗粒的一种和一种含粘合剂树脂以及如需要，包含其它组分的一种。

中空颗粒包括单一中空颗粒，其中在颗粒内部仅仅存在一种中空部分，和多中空颗粒，其中颗粒中存在许多中空部分。这些中，一种可以以一种单独使用，或两种以上可以结合使用。

中空颗粒的材料，没有限制，可以根据其目的适当选择，并且例如，优选包括热塑性树脂等。中空颗粒可以适当制造，或它们可以是市售产品。例如，市售产品包括MICROSPHERE-R-300(由MatsumotoYushi-SeiyakuCo.Ltd.制造)；ROPAQUEHP1055和ROPAQUEHP433J(均由ZeonCorporation制造)；SX866(由JSRCorporation制造)等。

添加到底层的中空颗粒的用量，没有特殊限制，根据其目的适当选择，并且例如，优选为10质量％到80质量％。

关于粘合剂树脂，可以使用与用于热可逆记录层的或用于具有紫外线吸收结构的、含聚合物层的相同树脂。

底层可以包括多种有机填料和无机填料如碳酸钙、碳酸镁、二氧化钛、二氧化硅、氢氧化铝、高岭土、滑石等中的至少一种。

底层也可以包含润滑剂、表面活性剂、分散剂等。

底层的厚度没有特殊限制，可以根据其目的适当选择，并且优选0.1μm到50μm，更优选为2μm到30μm，并且尤其优选为12μm到24μm。

背层

关于热可逆记录介质，没有特殊限制，可以在载体上在形成热可逆记录层的表面的另一侧上提供背层，用于防止卷曲和静电，并且提高可传输性。

背层，没有特殊限制，包括至少包含粘合剂树脂的一种，并且如果需要，包括不同组分如填料、导电填料、润滑剂、着色颜料等的一种。

保护层的粘合剂树脂，没有限制，可以根据其目的适当选择，并且包括例如热固性树脂、紫外线(UV)固化树脂、电子束固化树脂等，并且在这些中，尤其优选紫外线(UV)固化树脂或热固性树脂。

对于紫外线固化树脂、热固性树脂、填料、导电填料和润滑剂，优选使用与用于热可逆记录层或保护层中的相同。

粘合层和粘性层

可以在载体的记录层形成面的相反表面上提供粘合层或粘性层，以获得热可逆记录标签模式的热可逆性介质。

粘合层和粘性层的材料没有特殊限制，可以根据其目的从常用的那些中适当地选择。

粘合层和粘性层的材料可以是热熔型。另外，可以使用脱膜纸，或可以使用非脱膜型纸。以这种方法，设置粘合层或粘性层，以便将记录层粘贴到厚基体如磁性的条状氯乙烯卡片的整个表面或一部分，该卡片难以涂布记录层。这可以提高热可逆性介质的便利性，如显示部分磁性存储信息的能力。

设有这种粘合层或粘性层的热可逆记录标签也优选用于厚卡片如IC卡片、光卡等。

着色层

在热可逆记录介质中，可以在载体和记录层之间提供着色层，用于提高可见性。

着色层可以通过在目标表面上涂布分散体溶液或包含着色剂和树脂粘合剂的溶液，并且干燥来形成，或简单地通过对其粘贴彩色片来形成。

着色层可以制成彩色打印层。

彩色打印层中的着色剂包括例如不同的染料、颜料等，它们包含于常规的全色打印的彩色墨中。

树脂粘合剂包括多种树脂，包括热塑性树脂、热固性树脂、紫外线固化树脂、电子束固化树脂等。

彩色打印层的厚度，没有限制，可以根据所需打印色密度进行适当选择，因为它相对于打印色密度适当地变化。

在热可逆记录介质中，可以使用不可逆的记录层。在这种情况中，各个记录层的色调可以相同或不同。

另外，通过胶版印刷、照相凹版印刷等或通过喷墨打印机、热转印打印机、升华打印机等形成任意图画设计的着色层可以设置在热可逆记录介质的记录层的相反表面的一部分上，或相同表面的全部或一部分上，并且可以在全部或部分着色层上提供具有固化(cutting)树脂作为主要成分的OP清漆层。

图画设计包括例如字符、图案、图表、照片、红外线探测的信息等。

另外，简单形成的任意层可以通过对其加入染料或颜料进行着色。

而且，为了安全，该热可逆记录介质可以具有全息图。另外，为了提供设计效果，其也可以通过形成阳或阴的凹陷或凸出，而具有如下设计：肖像、公司徽章、符号等。

热可逆记录介质的形状和应用

热可逆记录介质可以根据其目的形成所需形状，以致其形成例如卡片状、标签状、标记状、片状、卷状等。

另外，形成卡片的热可逆记录介质可以用于预付卡、打折卡(即所谓的点卡)、信用卡等。

形成尺寸比卡片小的标签状的热可逆记录介质可以用于价格标签等，而形成尺寸比卡片大的标签状的热可逆记录介质可以用于票、过程控制和运输指令等。

形成标记的热可逆记录介质可以被粘贴，以致可以形成各种尺寸，并且可以粘贴到手推车、容器、箱、盒等上，其可以重复使用，以便用于过程控制和制品控制等。另外，形成尺寸大于卡片的片状热可逆记录介质提供更宽的记录范围，以致于可以用于通用的文件、过程控制指令等。

热可逆记录介质与RF-ID结合的实例

热可逆记录元件在便利方面优良，因为热可逆记录层(记录层)能够可逆显示，并且可以在相同的卡片或标签上(整体地)设置信息存储单元，并且存储在信息存储器中的部分信息被显示在记录层，这可以通过不需要专门的装置，简单检查卡片或标签就可以检查该信息。另外，当信息存储单元的内容被重写时，热可逆记录单元的显示内容可以被重写，以便重复多次使用该热可逆记录介质。

信息存储单元，没有特殊限制，可以根据其目的适当选择，并且优选包括例如磁性记录层、磁条、IC存储器、光存储器、RF-ID标签等。对于过程控制、制品控制等，尤其优选使用RF-ID标签。

RF-ID标签包括IC芯片，和连接到该IC芯片的天线。

热可逆记录元件包括能可逆显示的记录层；和信息存储单元，其优选的实例包括RF-ID标签。

图8显示RF-ID标签的示意图的实例。该RF-ID标签85包括IC芯片81和连接到IC芯片81的天线82。IC芯片81被分为四个单元，即存储单元、功率调节单元、发射单元和接收单元，每一个单元进行规定的任务，进行通信。至于通信，RF-ID标签85通过无线电波与读取器/写入器通信，以便交换数据。更具体地说，有两种方法即电磁感应法和无线电波法，在电磁感应法中，RF-ID标签85的天线接收来自读取器/写入器的无线电波，并且通过由共振导致的电磁感应产生电动势，而在无线电波法中通过辐射的电磁场进行激活。在两种方法中，RF-ID标签85内部的IC芯片81由外部的电磁场激活，芯片内的信息被转化为信号，并且然后从RF-ID标签85发出。从读取器/写入器侧的天线接收信号，并通过数据处理单元辨认，并且在软件侧进行数据处理。

RF-ID标签，形成标签状或卡片状，可以粘贴到热可逆记录介质上。RF-ID标签，可以粘贴到记录层表面或背层表面，优选粘贴背层表面。

可以使用已知的粘附剂或胶粘剂，将RF-ID标签粘贴到热可逆记录介质上。

另外，热可逆记录介质和RF-ID标签可以通过层压等整体形成卡片状或标签状。

显示热可逆记录元件在过程控制中应用的实例，其中热可逆记录介质和RF-ID标签结合使用。

输送包含供应原料的容器的生产线设置有在被传送时在显示单元上以非接触的方式写入可见图像的单元；和以非接触的方式进行抹除的单元，并且进一步设置用于在置于该容器中的RF-ID中通过发射电磁波以非接触方式读取和重写信息的读取器/写入器。另外，生产线还设置有当该容器在分配线上正被传送以便自动进行分类、过秤、管理等时以非接触方式写入或读取该容器的各自信息的控制单元。

对于附于该容器的、装备有RF-ID标签的热可逆记录介质，可以通过在热可逆记录介质和RF-ID标签上记录信息如制品名称、数量等进行检查。在下一过程中，给出指令，以便处理所供应的原料，处理信息被记录在热可逆记录介质上和RF-ID标签中，形成处理指令，并且进行该处理过程。其次，订购信息作为所加工产品的订购指令记录在热可逆记录介质和RF-ID标签上，在产品装运之后，从收集的容器上读出运输信息，并且具有RF-ID标签的容器和热可逆记录介质可以再次用于运输。

在这时候，使用激光以非接触式记录到热可逆记录介质上，可以进行信息的抹除/记录，而无需从该容器等剥离热可逆记录介质，并且用以非接触方式在RF-ID标签中存储信息的能力，可以实时管理该过程，并且RF-ID标签内部的信息可以同时显示在热可逆记录介质上。

图像记录和图像抹除原理

图像记录和图像抹除的原理是色调由于热量而可逆变化的方式。在该方式中，包括无色染料和可逆显色剂(以下称为“显色剂")，色调由于热量而可逆变化成透明和着色的状态。

图2A显示具有在其树脂中包括无色染料和显色剂的热可逆记录层的热可逆记录介质的温度-色密度变化曲线的实例，而图2B显示该热可逆记录介质的着色和脱色原理，因此透明状态和着色状态由于热量而可逆变化。

首先，当最初在脱色状态(A)的热可逆记录层的温度在熔融温度T₁下增加时，无色染料和显色剂熔合在一起，发生着色，导致熔合的着色状态(B)。当从熔合的着色状态(B)迅速冷却时，可以降低到室温同时维持着色状态，以致着色状态被稳定化，导致固定的着色状态(C)。是否能获得着色状态取决于温度从熔合状态的下降速度，以致于在缓慢冷却的降温过程中发生脱色，相对于快速冷却的着色状态而言产生低的密度状态，或脱色状态(A)，这与初始状态相同。另一方面，当温度再次从着色状态(C)上升时，在低于着色温度的温度T₂下发生脱色(从D到E)；从该状态降低温度导致变回脱色状态(A)，这与初始状态相同。

着色状态(C)，通过从熔合状态迅速冷却获得，是无色染料和显色剂混合以致于其分子进行接触反应的状态，通常是固态。这是其中无色染料和显色剂的熔合的混合物发生结晶以保持颜色的状态，并且人们认为：通过形成这种结构使着色稳定化。另一方面，脱色状态是两者均为分离的相的状态。人们认为：这是一种其中至少一种化合物分子聚集形成结构域或它们结晶的状态，并且聚集或结晶导致无色染料和显色剂分离，稳定化。在很多情况中，以这种方法，均是分离的相，以致于显色剂结晶，导致发生更充分的脱色。

在图2A所示的由于从熔合状态缓慢冷却导致脱色和由于从着色状态升温导致的脱色中，聚集结构在T₂下发生变化，导致显色剂结晶并且发生相分离。

另外，在图2A中，当记录层的温度反复增加到大于或等于熔融温度T₁的温度T₃时，可能发生抹除失败，即使当加热到抹除温度时也不能抹除。人们认为：这是由于显色剂经历热分解，显色剂难以聚集或结晶并且从无色染料中分离。为了抑制由于反复升温导致热可逆记录介质劣化，在图2A中当加热该热可逆记录介质时，减小温度T₃和熔融温度T₁的差值以便抑制由于反复升温导致热可逆记录介质劣化。

现在，参考附图对本发明的图像抹除装置的实施方式进行说明。

如图3A和3B所示，该实施方式的图像抹除装置1000包括LD阵列1、宽度方向平行化单元2、长度方向光分布均匀化单元7、长度方向平行化单元4、长度方向会聚单元9、扫描单元5和照射能量值控制单元17。

关于LD阵列1，使用其中多个LD(半导体激光器)以单轴方向(α-轴线方向)排列的LD阵列。

关于宽度方向平行化单元2，使用使从LD阵列1发出的线形激光(线形光束)在宽度方向会聚的光学透镜。

长度方向光分布均匀化单元7具有在长度方向(α轴线方向)均匀分散经过宽度方向平行化单元2的线形光束的功能，以便使光分布在线形光束的长度方向上均匀化。

关于长度方向平行化单元4，使用与经过长度方向光分布均匀化单元7的线形光束在长度方向平行化的光学透镜。

关于宽度方向会聚单元9，使用使经过长度方向平行化单元4的线形光束会聚成在宽度方向上会聚的会聚光的光学透镜。

关于扫描单元5，(1)单轴检流计镜的激光扫描可以实现精密的扫描控制，但成本高；(2)通过步进电动机镜的激光扫描可以以低于检流计镜的成本实现精密扫描；(3)通过多面镜的激光扫描只能以恒定速度进行，但成本低。

另外，除了通过扫描单元5转向之外，也可以移动热可逆记录介质10。关于实现方法，(1)热可逆记录介质10随着载物台移动，或(2)热可逆记录介质10随着传送装置移动(该介质附到盒子上，盒子随着传送装置移动)。

使用照射能量值控制单元17，其包括温度传感器TS、距离传感器DS和输出调节装置PA，其中温度传感器TS测量热可逆记录介质10或其周围的温度；距离传感器DS测量热可逆记录介质10和扫描单元5之间的距离，输出调节装置PA根据温度传感器TS和距离传感器DS的测量值调节一维LD阵列1的输出。

以这种方法，将适合抹除图像的照射能量照射到热可逆记录介质10上，而不管热可逆记录介质10的温度和热可逆记录介质10与扫描单元5之间的距离。

在这种情况中，考虑热可逆记录介质10的上述着色-脱色特性，输出调节装置PA根据温度传感器TS和距离传感器DS的测量值调节LD阵列1的输出。

照射能量值控制单元17不必包括温度传感器TS或距离传感器DS。换句话说，输出调节装置PA可以根据温度传感器TS或距离传感器DS的测量值调节LD阵列1的输出。

代替输出调节装置PA，照射能量值控制单元17可以包括根据温度传感器TS和距离传感器DS中的至少一个的测量值调节热可逆性介质10的加热时间的加热时间调节装置。

当线形光束在宽度方向上转向(扫描)以进行抹除时，加热时间表示为W/V，光束宽度为W和扫描速度为V，其中希望W/V尽可能恒定，以便实现均匀抹除。

然而，难以从装置成本方面根据线形光束前进方向控制V，使其符合根据线形光束的前进方向控制W的需要。更具体地说，例如，当使V恒定时，可以尽可能控制W恒定。

图4A和4B是举例说明本发明的图像抹除装置的具体实施方式的示意图。

例如，该实施方式的图像抹除装置2000使用47个LD以α轴线方向排列的LD阵列，并且LD阵列1的光发射单元的纵向长度为10mm。

用柱面透镜2作为宽度方向平行化单元使发自LD阵列1的线形激光(线形光束)在宽度方向上稍微会聚，以便使该会聚光入射到球面透镜6上，该入射光被收集到透镜15。

透镜15包括具有将激光扩散并且均质化以便扩展其长度和宽度的透镜(例如微透镜阵列、凹或凸透镜阵列、Fresnel透镜、或微透镜阵列TEL-150/，由LIMOGmbH公司制造，并且用于本实施方式中)。

经过透镜15的线形光束用柱面透镜3在宽度方向上会聚。

从柱面透镜2发出的线形光束的光分布并不均匀，因为是从多个光源(半导体激光器)发出的光的组合，因此，必须设置上述光学器件用于均匀化。

更具体地说，布置具有一个凸面的、焦距为70mm的透镜作为球面透镜6，和具有一个凹面的、焦距根据光束宽度变化的透镜作为柱面透镜3，以致于通过使用-1,000mm、-400mm和-200mm来实现实例的光束宽度。布置凸透镜阵列，使长度方向具有间隔为40μm的步幅。

经过柱面透镜3的线形光束使用作为长度方向平行化单元的球面透镜4在长度方向平行化。对于球面透镜4，使用具有一个凸面的、焦距为200mm的透镜。

经过球面透镜4的线形光束用柱面透镜8在宽度方向上会聚。对于球面透镜8，使用具有一个凸面的焦距为200mm的透镜。

经过柱面透镜8的线形光束在宽度方向上被扫描单元5转向，以致于在热可逆记录介质10上扫描。对于扫描单元5，使用单轴检流计镜，但是作为其替代，可以使用步进电机镜、多面镜等。检流计镜是可以围绕α方向延伸的轴5a振荡的。

在该实施方式中，照射能量值控制单元19包括角形传感器AS，其探测扫描单元5的工作状，或换句话说，检流计镜的振动角；和输出调节装置，其根据来自角形传感器AS的测量信息调节LD阵列1的输出。

输出调节装置PA调节LD阵列1的输出，以致于照射到热可逆性介质10上的线形光束的能量密度变得恒定，不管扫描单元5所扫描的线形光束的扫描位置。

更具体地说，输出调节装置PA从线形光束的前进方向(热可逆性介质10上的入射角)实时计算前进方向中的光束宽度(照射面积)，并且根据计算的光束宽度照射输出的激光。输出调节装置PA可以预先在存贮器中存储每一入射角的光束宽度数据，并且根据线形光束的前进方向实时取出相应的数据。

照射能量值控制单元19可以包括根据角形传感器AS的探测信息代替输出调节装置PA调节热可逆记录介质10的加热时间的加热时间调节装置。

另外，如上所述，热可逆记录介质上的光束宽度10为W3(θ)＝W3/cosθ(见图10)。

然后，在本实施方式中，设置柱面透镜3和8的位置和焦点位置，以致使W3(θ)尽可能恒定，不管θ如何。结果是，可以使线形光束在热可逆记录介质上的光束宽度尽可能恒定，不管线形光束的扫描位置如何。

根据如图3A到4B所示的图像抹除装置，如图5所示的热可逆记录介质10上的线形光束在长度方向上光分布均匀化，以致线形光束的长度变为抹除区域的一边。线形光束扫描的长度(距离)为抹除区域的另一边。然后，线形光束可以只在宽度方向(单轴向)扫描。

上述各实施方式中的图像抹除装置(1000、2000)包括LD阵列1，其发出线形光束(具有线形横截面的激光)；包括至少一个光学透镜(宽度方向会聚单元)的光学器件，其使从LD阵列1发出的线形光束转化为在宽度方向上会聚的会聚光，并且发出会聚光；和扫描单元5，其使通过光学器件转换成会聚光并且发出的线形光束在宽度方向上转向，并且使转向的线形光束在热可逆记录介质10上扫描。

在这种情况中，可以使线形光束在热可逆性介质10上的光束宽度尽可能恒定，不管扫描单元5所扫描的线形光束的扫描位置。换句话说，可以使热可逆记录介质10的加热时间尽可能恒定，不管线形光束的扫描位置。结果是，可以均匀抹除记录在热可逆记录介质10上的图像。图像抹除装置(1000、2000)与常规图像抹除装置相比足以获得上述优点，尤其是较大的激光入射角，该激光在热可逆记录介质10上入射到扫描行程的一端和另外一端，或换言之，上述扫描行程相对于扫描单元5和热可逆记录介质10之间的距离的比率较大。

另外与常规的相比，可以在热可逆记录介质的整个记录区域增加均匀抹除记录在热可逆记录介质上的图像10的照射能量的宽度(下面描述NET抹除能量宽度)。换句话说，与常规的相比，均匀抹除记录在热可逆记录介质10上的图像所选择的照射能量量的宽度宽。

而且，图像抹除装置(1000、2000)除了宽度方向会聚单元外，还包括光学透镜(长度方向平行化单元)，其使被扫描单元5入射的线形光束在长度方向上平行化。

在这种情况中，可以使线形光束在热可逆性介质10上的光束长度尽可能恒定，不管扫描单元5所扫描的线形光束的扫描位置。换句话说，可以使照射到热可逆记录介质10的面积尽可能恒定，不管线形光束的扫描位置。结果是，可以更均匀地抹除记录在热可逆记录介质10上的图像。

另外，图像抹除装置(1000、2000)除了宽度方向会聚单元和长度方向平行化单元外，还包括长度方向光分布均匀化单元，其使被扫描单元5入射的线形光束在长度方向均匀化。

在这种情况中，可以使照射到热可逆记录介质10的照射能量密度尽可能恒定，不管线形光束的扫描位置。结果是，可以更均匀地抹除记录在该热可逆记录介质10上的图像。

另外，图像抹除装置(1000、2000)除了宽度方向会聚单元之外，还包括长度方向平行化单元和长度方向光分布均匀化单元和控制照射到热可逆记录介质10上的线形光束能量值的照射能量值控制单元。结果是，可以以极其均匀的方式抹除记录在热可逆记录介质10上的图像。

通过线形光束进行抹除，足以只在单轴方向扫描激光，可以减少扫描镜，容易控制，并且可以实现低成本。

与环形光束线相比，用线形光束抹除可以以更低的能量进行抹除。这是优点，因为线形光束被用作光源，这可以降低由于热扩散导致的能量损失。

线形光束不需要在激光扫描时进行跳跃(jumping)(没有照射激光的激光扫描)，以致抹除时间没有由于跳跃被延长。

与纤维耦合的LD相比，LD阵列可以容易地以低成本获得高输出。

背景部分密度通常随着重复进行抹除而增加，其极限为相对于初始背景部分密度增加0.02，这相对于环形光束而言为400次，相对于线形光束而言为5,000次，这是重要的改进。这是因为，不需要叠加的激光束扫描。

本发明的图像抹除方法和图像抹除装置使得可以以非接触的方式在热可逆记录介质如粘贴到容器如纸板盒、塑料容器等的标签上重复进行抹除。因此，它们可以尤其优选用于分配和输送系统。在这种情况中，例如，当移动置于传送装置上的纸板盒或塑料容器时，可以在标签上记录图像并且从标签上抹除图像，这可以减少运送时间，因为不需要停止生产线。

另外，粘贴该标签的纸板盒或塑料容器可以重复使用，因为标签没有从其剥离，可以再次进行图像抹除和记录。

实施例

下面描述本发明的实施例，然而本发明并不受这些实施例的限制。

制备实施例1

热可逆记录介质的制备

其中色调由于热量而可逆变化的热可逆记录介质按照如下进行制备。

载体

关于载体，使用厚度为125μm的白色混浊的聚酯薄膜(TETORONFILMU2L98W，由TeijinDuPontFilmsJapanLimited制造)。

第一氧阻挡层的形成

添加5重量份基于氨基甲酸酯的粘附剂(TM-567，由Toyo-Morton，Ltd制造.)、0.5重量份异氰酸酯(CAT-RT-37，由ToyoMorton，Ltd制造)和5重量份乙酸乙酯，并且充分搅拌，制备氧阻挡层涂布溶液。

其次，在沉积二氧化硅的PET膜(TECHBARRIERHX，由MitsubishiPlastics制造，氧渗透率：0.5ml/m²/天/MPa)上，使用绕线棒涂布氧阻挡层涂布溶液，并且在80℃加热且干燥1分钟。具有如上所述形成的氧阻挡层的、沉积二氧化硅的PET膜被附着到载体上，在50℃加热24小时，形成厚度为12μm的第一氧阻挡层。

第一热可逆记录层的形成

使用球磨机，将5重量份以下结构式(1)表示的可逆显色剂、各0.5重量份以下结构式(2)和结构式(3)表示的两种颜色抹除加速剂、10重量份50质量％的丙烯酰基多醇溶液(羟值＝200mgKOH/g)和80重量份甲基乙基酮粉碎并且分散，直至平均粒径变为约1μm。

化合物3

化合物4

化合物5

C₁₇H₃₅CONHC₁₈H₃₅结构式(3)

其次，向其中可逆显色剂被粉碎和分散的分散体溶液中添加1重量份作为无色染料的2-苯胺基-3-甲基-6-二丁氨基荧烷、和5重量份异氰酸酯(CORONATEHL，由NipponPolyurethaneIndustryCo.Ltd制造)，并且充分搅拌，以制备热可逆记录层涂布溶液。

使用绕线棒将获得的热可逆记录层涂布溶液涂布到第一氧阻挡层上，在100℃下干燥2分钟，此后在60℃下固化24小时，形成厚度为6.0μm的第一热可逆记录层。

光热转化层的形成

将4重量份1质量％的基于酞菁的光热转化材料溶液(IR-915，由NIPPONSHOKUBAICo.，Ltd制造，吸收峰波长：956nm)、10重量份50质量％丙烯酰基多醇溶液(羟值＝200mgKOH/g)、20重量份甲基乙基酮、和5重量份作为交联剂的异氰酸酯(CORONATEHL，由NipponPolyurethaneIndustryCo.，Ltd制造)充分搅拌，以制备光热转化层涂布溶液。使用绕线棒将所获得的光热转化层涂布溶液涂布到第一热可逆记录层上，并且在90℃下干燥1分钟，在此之后，在60℃下固化24小时，形成厚度为3μm的光热转化层。

第二热可逆记录层的形成

使用绕线棒，使与第一热可逆记录层相同的热可逆记录层组合物涂布到光热转化层上，并且在100℃下干燥2分钟，在此之后，在60℃下固化24小时，形成厚度为6.0μm的第二热可逆记录层。

紫外线吸收层的形成

添加10重量份40质量％的紫外线吸收聚合物溶液(UV-G300，由NIPPONSHOKUBAICO.LTD制造)、1.5重量份异氰酸酯(CORONATEHL，由NipponPolyurethaneIndustryCo.，Ltd.制造的)和12重量份甲基乙基酮，并且充分搅拌，制备紫外线吸收层涂布溶液。

其次，使用绕线棒将紫外线吸收层涂布溶液涂布到第二热可逆记录层上，并且在90℃加热且干燥1分钟，在此之后，在60℃下加热24小时，形成厚度为1μm的紫外线吸收层。

第二氧阻挡层的形成

将与第一氧阻挡层相同的、沉积二氧化硅的、具有氧阻挡层的PET膜附于紫外线吸收层上，在50℃下加热24小时，形成厚度为12μm的第二氧阻挡层。

背层的形成

添加7.5重量份六丙烯酸季戊四醇酯(KAYARADDPHA，由NipponKayakuCo.Ltd.制造)、2.5重量份丙烯酸尿烷酯低聚物(ARTRESINUN-3320HA，由NegamiChemicalIndustrialCo.Ltd.制造)、2.5重量份针状导电的二氧化钛(FT-3000，长轴＝5.15μm、短轴＝0.27μm，结构：涂有锑掺杂氧化锡的二氧化钛；由IshiharaSangyoKaisha，Ltd制造)、0.5重量份光致聚合作用引发剂(IRGACURE184，由NihonCiba-GeigyK.K制造)和13重量份异丙醇，使用球磨机充分搅拌，以制备背层涂布溶液。

其次，用绕线棒将背层涂布溶液涂布到载体上没有形成第一热可逆记录层等的一侧的表面上，在90℃加热并干燥1分钟，在此之后，用80W/cm的紫外线灯进行交联，形成厚度为4μm的背层。如上所述，制备出制备实施例1的热可逆记录介质。

制备实施例2

热可逆记录介质的制备

除了用作光热转化材料的硼化镧应用于热可逆记录层涂布溶液以便获得与制备实施例1相同的灵敏度以形成厚度为12μm的第一热可逆记录层，并且没有形成第二热可逆记录层、光热转化层和阻挡层之外，制备实施例2的热可逆记录介质用与制备实施例1中相同的方式制备。

实施例1

在实施例1中，对于记录在制备实施例2的热可逆记录介质上的实心图像(solidimage)，使用图4A和4B所示的本发明的图像抹除装置(使用LD阵列的抹除装置)的线形光束，当在扫描方向中围绕中心位置改变光束宽度时，按照如下方法测量抹除能量和抹除宽度。结果示于表1。

关于图像记录方法，用LD标记装置进行图像记录，其中从BMU25-975-10-R(中心波长：976nm)照射激光，BMU25-975-10-R是由Oclaro制造的纤维耦合的LD(半导体激光器)，并且当被聚场透镜系统(由两个固定透镜和一个移动透镜形成，调节其位置使其与检流计扫描器成一角度，以便在远处在相同的工作单元之间收集，而不依赖检流计扫描器)会聚时该激光通过检流计扫描器6230H(由Cambridge制造)扫描，以便会聚到热可逆记录介质上。

关于图像抹除方法，在图4A和4B中，通过本发明的图像抹除装置的线形光束抹除，使用装备校准透镜的LD光源JOLD-108-CPFN-1L-976(其是由JENOPTIKAG制造的LD棒光源(中心波长：976nm，输出：108W))作为LD阵列1和透镜2；焦距为70mm的球面透镜作为透镜6；由LIMO制造的微透镜阵列TEL-150/500作为透镜15；柱面透镜作为3；焦距为250mm的球面透镜作为透镜4；焦距为300mm的柱面透镜作为透镜8和由Cambridge制造的检流计扫描器6230H(其为检流计镜)作为扫描镜5组装光学透镜系统，用通过改变透镜3的焦距和装置距离以及将长度设置为46mm调节宽度的线形光束，在45mm/s的扫描线速度下扫描10mm的中心区域，在热可逆记录介质上进行抹除。

抹除能量和抹除宽度的测量

当在5℃环境下改变照射功率时，在打印有实心图像的热可逆性介质上进行抹除，以便确定抹除能量和抹除宽度，其中背景密度差异变为小于或等于0.03。该“抹除能量”定义为可抹除能量的最大值和最小值的平均值，其是在抹除实心图像之后背景密度相对于形成实心图像之前的背景密度计小于或等于+0.03时的激光照射能量。另外“抹除宽度”定义为利用可抹除能量的最大值和最小值得到的(最大值-最小值)/(最大值+最小值)。对于密度测量，使用反射式光密度计(由X-rite制造的938Spectro-densito-meter)进行测量。

关于当光束宽度改变时抹除能量和抹除宽度的特征，随着光束宽度的改变，热可逆性介质的加热时间改变，并且抹除特性发生改变。因此，在热可逆性介质上，将光束宽度设置为恒定值也导致相匹配的抹除特征。

实施例1和对比例1

在实施例1中，LD阵列1和透镜2以及透镜6之间的距离设置为75mm；透镜6和透镜15之间的距离设置为70mm；透镜15和透镜3之间的距离设置为175mm；透镜3和透镜4之间的距离设置为70mm；透镜4和透镜8之间的距离设置为55mm；透镜8和扫描镜5之间的距离设置为40mm；并且扫描镜5和热可逆记录介质10之间的距离设置为160mm。

在实施例1中，在图4A和4B所示的光学器件系统中，调节透镜3和8(柱面透镜)安装位置以及扫描镜5和热可逆介质10之间的距离，以便调节线形光束的会聚程度(该线形光束入射到热可逆记录介质10上)，使热可逆记录介质上的光束宽度或，换言之，图10中的W3(θ)几乎恒定，而与θ无关。在这里，入射到热可逆记录介质10上的线形光束在长度方向上被校准(平行化)。

另一方面，在该对比例1中，透镜3和8(柱面透镜)的安装位置和扫描镜5和热可逆记录介质10之间的距离如此设置，以致于线形光束的宽度为恒定值，而与扫描镜5和热可逆记录介质10之间的距离无关。对于实施例1和对比例1，扫描中心位置的光束宽度均设置为0.5mm。

对于实施例1和对比例1，在5℃环境下，用45mm/s扫描速度，在扫描镜的介质上以150mm的扫描宽度，在热可逆性介质上扫描和抹除。结果示于表1。图6A是显示实施例1的抹除特征的图，而图6B是显示对比例1的抹除特征的图。

这里，“NET抹除能量宽度”定义为利用激光在抹除实心图像之后在150mm的整个扫描区域中背景密度相对于形成实现图像之前的背景密度变为小于或等于+0.03时照射能量的最大值和最小值，得到的(最大值-最小值)/(最大值+最小值)。

NET抹除能量宽度可以通过具有相同可抹除性的扫描方向中的中心部分和边缘部分提高，并且可以在实际操作中改变抹除能量，因此重要的是：保证NET抹除能量尽可能宽。

表1

	NET抹除能量宽度
		实施例1	22.5％
对比例1	18.2％

实施例2

在实施例1中，在5℃环境下，根据线形光束的扫描位置调节激光照射功率进行抹除，以调节能量，确定NET抹除能量宽度。结果示于表2。

实施例3

在实施例1中，在5℃环境下，根据线形光束的扫描位置调节扫描速度进行抹除，以便调节能量，确定NET抹除能量宽度。结果示于表2。

表2

	NET抹除能量宽度
		实施例2	24.6％
实施例3	24.5％

在该扫描方向中，相对于中心部分，在边缘部分表面反射变得更大，因为激光倾斜入射到热可逆性介质上，以致于可以用于抹除的能量减少，使得通过在边缘部分增加抹除能量，可以获得与中心部分相等的可抹除性，并且使得可以增加NET抹除能量宽度。

实施例4

通过用与实施例1相同的方式进行实心图像打印，进行抹除，所不同的是，在图4A和4B所示的本发明的图像抹除装置中，安装步进电机镜代替检流计镜，并且控制步进电机镜使得在45mm/s的扫描线速度下进行扫描，这可以彻底抹除实心图像(抹除部分和背景部分的密度差为0.00)。

实施例5

在实施例1中，通过用与实施例1相同的方式进行实心图像打印，进行抹除，所不同的是，在图4A和4B所示的本发明的图像抹除装置中，安装多面镜代替检流计镜，并且调节多面镜旋转次数使得在45mm/s的扫描线速度下进行扫描，这可以彻底抹除实心图像(抹除部分和背景部分的密度差为0.00)。

实施例6

在实施例1中，通过移走图4A和4B所示的本发明的图像抹除装置中的检流计镜，用与实施例2相同的方式在制备实施例1的热可逆记录介质上打印实心图像，当移动其上附着了该热可逆记录介质的塑料箱时进行抹除，传送装置的运输速度为20mm/s(1.2m/分钟)，这可以彻底抹除实心图像(抹除部分和背景部分之间的密度差为0.00)。

实施例7

当在实施例1中的图4A和4B所示的本发明的图像抹除装置中，用实施例2相同的方式在制备实施例1的热可逆记录介质上进行实心图像抹除时，该实心图像可以被彻底抹除(抹除部分和背景部分之间的密度差为0.00)。

实施例8和9

对于实施例8，在25℃和5℃环境下以设置在25℃的照射功率进行抹除，使用以下功能，当环境温度增加1℃时，进行将照射功率增加1.1％的校正，环境温度传感器安装在实施例1的图4A和4B所示的本发明的图像抹除装置中，并且，对于实施例9，没有上述功能，测量未抹除的密度。结果示于表3。

表3

	25℃环境	5℃环境
			实施例8	0.00	0.00
实施例9	0.00	0.05

实施例10和11

对于实施例10，扫描镜和热可逆介质之间距离为160mm和170mm，进行抹除，具有校正功能，其控制扫描镜使得扫描距离变成相同，不管中间工作距离，在实施例1的图4A和4B所示的本发明的图像抹除装置中，安装测量该装置和热可逆介质之间距离的位移传感器，而对于实施例11，并无上述功能，以测量未抹除密度。测试的结果列在表4中。

表4

	160mm	170mm
			实施例10	0.00	0.00
实施例11	0.00	0.05

注释说明

1.LD阵列(一维激光器阵列)

3.柱面透镜(光学器件的一部分)

4.球面透镜(光学器件的一部分)

5.扫描单元

6.球面透镜(光学器件的一部分)

8.柱面透镜(光学器件的一部分)

9.宽度方向会聚单元(光学器件的一部分)

10.热可逆记录介质

15.透镜(光学器件的一部分)

专利文件

专利文献1：JP2011-104995A

本申请基于并主张于2011年12月5日提交的日本专利申请No.2011-265370的优先权的权益。

Claims (9)

1.一种图像抹除装置，其使激光在记录了图像的热可逆记录介质上扫描，以便抹除该图像，所述装置包括：

光源，所述光源发出横截面为线形的激光；

光学器件，所述光学器件将发自该光源的激光转化成在宽度方向上会聚的会聚光，以便发出该会聚光；和

扫描单元，所述扫描单元将发自所述光学器件的激光在宽度方向转向，以便使该转向的激光在热可逆记录介质上扫描，

其中该光学器件进一步在长度方向使发自该光源的激光平行化，以便发出平行化的激光。

2.如权利要求1所要求的图像抹除装置，其中所述光学器件包括至少一个收集部件，将其设置为使得该激光在热可逆记录介质上的宽度变为恒定，而与该扫描单元扫描的激光的扫描位置无关。

3.如权利要求2中所要求的图像抹除装置，其中该收集部件是柱面透镜。

4.如权利要求1到3中任何一项所要求的图像抹除装置，其中该光学器件进一步在发自该光源的激光的长度方向使光分布均匀化，以便发出激光。

5.如权利要求1到3中任何一项所要求的图像抹除装置，进一步包括：

照射能量值控制单元，所述照射能量值控制单元根据该扫描单元扫描的激光的扫描位置，控制照射到热可逆记录介质上的激光的能量值。

6.如权利要求1到3中任何一项所要求的图像抹除装置，进一步包括：

照射能量值控制单元，所述照射能量值控制单元测量热可逆记录介质或其周围的温度，以便根据测量的温度控制照射到该热可逆记录介质上的激光的能量值。

7.如权利要求1到3中任何一项所要求的图像抹除装置，进一步包括；

照射能量值控制单元，所述照射能量值控制单元测量该热可逆记录介质和该扫描单元之间的距离，以便根据测量的距离控制照射到该热可逆记录介质上的激光的能量值。

8.如权利要求1到3中任何一项所要求的图像抹除装置，其中该光源包括多个一维排列的半导体激光器。

9.一种图像抹除方法，其使用激光扫描记录了图像的热可逆记录介质，以便抹除该图像，所述方法包括以下步骤：

将其横截面为线形的激光转化成在宽度方向会聚的会聚光；和

使在转化步骤中转化成会聚光的激光在宽度方向上转向，以便使该转向的激光在该热可逆记录介质上扫描；

其中所述方法进一步包括在长度方向使发自光源的激光平行化，以便发出平行化的激光。