CN103204002B - 激光可重写设备 - Google Patents

Abstract

附有热可逆记录介质的物品按预定方向传输，在传输路径的任意一侧设置激光可重写设备。该激光可重写设备向热可逆记录介质发射激光从而重写图像。该激光可重写设备具有一个图像擦除设备和一个图像记录设备。图像擦除设备，通过向热可逆记录介质上发射激光对图像进行擦除；图像记录设备位于图像擦除设备沿传输方向下游侧，在图像被图像擦除设备擦除后，通过激光照射热可逆记录介质记录一个新图像。该图像擦除设备和图像记录设备各自具有光发射部，激光通过该光发射孔在该预定传输方向的同侧的侧壁发射。

Description

激光可重写设备

技术领域

本发明涉及一种激光可重写设备，尤其是一种利用激光照射热可逆记录介质来进行图像重写的激光可重写设备。

背景技术

本领域中(例如，见日本公开专利申请No.2008-194905)，附有热可逆记录介质的物体按预定方向传输，在传输路径的一侧或另一侧上设置激光可重写设备。该激光可重写设备向热可逆记录介质发射激光从而重写图像。

本领域的激光可重写设备具有图像擦除设备和图像记录设备。图像擦除设备向其上记录了图像的热可逆记录介质上发射激光并对图像进行擦除。图像记录设备位于图像擦除设备的预定的介质传输方向下游侧，通过向图像已经被图像擦除设备擦除的热可逆记录介质发射激光来记录新图像。

然而，当图像擦除设备和图像记录设备之间的间隔过大时，由于擦除图像所耗的时间变长，导致生产量降低；当图像擦除设备和图像记录设备之间的间隔短时，例如，取决于其上附着热可逆记录介质的要被传输物体的尺寸，会不可能分别并行地由图像擦除设备对要被传输物体上的热可逆记录介质进行擦除操作，同时对另一要被传输物体上的热可逆记录介质进行记录。

发明内容

根据一种实施方式，激光可重写设备定位在其上附有热可逆记录介质的要被传输物体按预定方向传输的传输路径的一侧或另一侧上。该激光可重写设备向热可逆记录介质发射激光并重写图像。激光可重写设备包括图像擦除设备和图像记录设备。图像擦除设备向其上包括记录图像的热可逆记录介质上发射激光并对图像进行擦除。图像记录设备位于图像擦除设备的预定传输方向下游，并通过向图像已经被图像擦除设备擦除的热可逆记录介质发射激光来记录新图像。图像擦除设备和图像记录设备具有相应的光发射部，激光发射部在相对于预定传输方向的相同侧的端部处发射激光。

本发明的其他目的、特征和优点将从下面的详细描述并结合附图阅读时变得更清楚。

附图说明

图1A和1B示出根据本发明第一实施例的激光可重写设备(第一布局)；

图2A和2B示出根据本发明第一实施例的激光可重写设备(第二布局)；

图3A示出包括在激光可重写设备中的图像擦除设备总体结构；

图3B是示出图像擦除设备的控制部的结构的方框图；

图4A示出包括在激光可重写设备中的图像记录设备总体结构；

图4B是示出图像记录设备的控制部的总体结构的方框图；

图5A和5B示出对照例的激光可重写设备；

图6A和6B示出根据本发明第二实施例的激光可重写设备；

图7示出根据本发明第三实施例的激光可重写设备；

图8示出对照例的激光可重写设备；

图9示出根据本发明第四实施例的激光可重写设备；

图10A是一个曲线图，示出了其上通过激光可重写设备进行图像重写的热可逆记录介质颜色的形成和擦除的特性描述；

图10B示出热可逆记录介质的颜色形成和擦除的机理；

图11A，11B，11C，11D是示出热可逆记录材料的层结构的特定实例的总体截面图。

具体实施方式

下面将参照图1A，1B，2A，2B，3A，3B，4A，4B对本发明的第一实施例进行详细说明。图1A，1B，2A，2B示出根据第一实施例的激光可重写设备100的总体结构。

激光可重写设备100向附着于作为要被传输物体的例子的容器C上的可重写标签RL照射激光，进而重写图像，如后面将详细描述的。提醒注意的是，所述“图像”意味着可见的信息，如容器C所保持的装载物的内容，传输目的地的信息，可重写标签RL的使用次数等。

举例来说，所述的“容器C”是用于运输的集装箱。所述的“可重写标签RL”是一种热可逆记录介质，其中，由于加热和/或冷却过程的差异而形成颜色或擦除颜色，并包括可吸收激光并产生热量的光热转化材料。举例来说，所述可重写标签RL附于容器C的一个侧面上。要指出的是，所述热可逆记录介质将在后面进行详细描述。

如图1A和1B所示，激光可重写设备100具有图像擦除设备14和图像记录设备16。

图像擦除设备14和图像记录设备16设于传输容器C的传输单元10的-Y侧(如图1A)或者+Y侧(如图2A)。

简单描述传输单元10。作为一个例子，传输单元10具有滚轴传输器RC(传输路径)，支撑基座12，驱动器(图中未示出)等等。

滚轴传输器RC包括多组沿X轴方向设置的滚轴。多组滚轴中的每组滚轴包含沿X轴方向按预定间隔设置的多个滚轴11(例如4个滚轴11)，且具有沿Y轴方向的轴向。所述各组的多个滚轴11由支撑基座12支撑为绕Y轴同步旋转的状态。所述多组滚轴由主控制部(图中未示出)通过所述驱动器独立(各自)控制和驱动。

在上述结构中，滚轴传输器RC沿+X方向在每组滚轴上至少可以传输或停运一个容器C，也可以将容器C在相邻组滚轴间转移。下文中滚轴传输器RC传输上述容器C的方向(+X方向)将被简称为传输方向。

提醒注意的是，传输单元10可以采用其他传输路径形式，比如采用传输带而非滚轴传输器RC传输。

下面，将就图像擦除设备14和图像记录设备16设置在传输单元10的-Y侧(下文中也称第一布局)来具体描述。提醒注意的是，此处描述的图像擦除设备14和图像记录设备16只是利用半导体激光器的图像擦除设备和图像记录设备的一个具体例子，具体实施方式不限于此方式。

如图3A和3B所示，图像擦除设备14包括：一维激光阵列LA1、光学系统OC1、终端模块7、操作者控制面板19、控制部33、冷却单元35以及长方体形状的外罩15(如图1A和1B)。所述一维激光阵列LA1、光学系统OC1、终端模块7、操作者控制面板19，控制部33和冷却单元35封装于外罩15中。操作者控制面板19可设于外罩15的侧表面或上表面上。

在一个实施例中，所述一维激光阵列LA1具有图中未示出的沿Z轴方向(一维排列)设置的多个激光二极管(比如17个激光二极管)(半导体激光器)。例如，沿Z轴方向在+Z端的激光二极管和在-Z端的激光二极管之间的距离小于10mm。作为一个实例，所述一维激光阵列LA1沿-X方向发射具有线型断面形状的激光(下文中称为线型束)。冷却单元35例如为安装于所述一维激光阵列LA1附近的散热片，并包括用于传送热气至散热片的风扇，和/或类似装置。

作为一个实施例，光学系统OC1包括：第一圆柱透镜20，第一球面透镜22，微透镜阵列24，第一反射镜25，第二反射镜27，第二球面透镜26，第二圆柱透镜28和检流计反射镜装置30。为方便起见，下文中将所述第一圆柱透镜20，第一球面透镜22，微透镜阵列24，第二球面透镜26，第二圆柱透镜28合称为“透镜组”。

作为一个实施例，所述第一圆柱透镜20位于由所述一维激光阵列LA1发射的所述线型束的光学路径上(在所述一维激光阵列LA1的-X侧上)，并对所述线型束在其宽度方向(Y)上稍微聚合(沿平行于方向(Y)的方向，该方向(Y)垂直于所述多个激光二极管所布设的方向(Z))。此例中，所述小尺寸的第一圆柱透镜20位于所述一维激光阵列LA1的激光发射面附近。

作为一个实施例，所述第一球面透镜22位于所述线型束穿过所述第一圆柱透镜20后的光路上(在所述第一圆柱透镜20的-X侧)，并收集所述线型束到微透镜阵列24上。

作为一个实施例，所述微透镜阵列24位于所述线型束穿过所述第一球面透镜22后的光路上(位于所述第一球面透镜22的-X侧)，通过沿纵向(Z)(平行于布设所述激光二极管的方向(Z))均匀扩散所述线型束，使得所述线型束均匀分布。

作为一个实施例，所述第一反射镜25位于所述线型束穿过所述微透镜阵列24后的光路上(位于所述微透镜阵列24的-X侧)，并沿+Y向反射所述线型束。

作为一个实施例，所述第二反射镜27位于所述线型束穿过所述第一反射镜25后的光路上(位于所述第一反射镜25的+Y侧)，并沿+X向反射所述线型束。

作为一个实施例，所述第二球面透镜26位于所述线型束在经所述第二反射镜27反射后的光路上(位于所述第二反射镜27的+X侧)，并将所述线型束沿纵向和宽度方向均匀放大或会聚。

作为一个实施例，所述第二圆柱透镜28位于所述线型束穿过所述第二球面透镜26后的光路上(位于所述第二球面透镜26的+X侧)，将所述线型束沿宽度方向稍微聚合。

检流计反射镜装置30是其中以振荡方式旋转并反射所述激光的振荡反射镜30a安装于检流计上的装置。在这个实施例中，作为一个例子，振荡反射镜30a围绕Z轴以振荡方式进行旋转。所述检流计反射镜装置30具有角度传感器(图中未示出)，其探测所述振荡反射镜30a的旋转角度。

作为一个实施例，所述振荡反射镜30a位于所述线型束穿过所述第二圆柱透镜28后的光路上(位于所述第二圆柱透镜28的+X侧)，其围绕Z轴以振荡方式旋转的同时反射所述线型束(改变反射方向)，并将所述线型束在近似+Y侧上偏转。

光发射孔(光发射部)15a形成在外罩15的+Y侧的侧壁的X侧的端部处，通过允许偏转过的线型束穿过而发射被所述检流计反射镜装置30偏转的线型束。所述光发射孔15a由透明或半透明组件封闭。可替换地，也可以在所述外罩15上设遮光件，所述遮光件可以在阻挡所述光发射孔15a的阻挡位置和从阻挡位置退回所述遮光件的回退位置之间可移动。这种情况下，当不发射激光时，所述遮光件移动到阻挡位置；当发射激光时，所述遮光件移动到回退位置。被检流计反射镜装置30偏转的所述线型束被发射，以使得该线型束在穿过所述光发射孔15a之后在所述滚轴传输器RC之上在例如从几厘米到几十厘米的高度穿过。

因此，从所述一维激光阵列LA1发射出的线型束的能量密度经所述透镜组变得均匀，且线型束也沿纵向(Z轴方向)放大，被所述检流计反射镜装置30偏转，并提供给位于滚轴传输器RC上在面向所述光发射孔位置的所述物体。结果，所述线型束就可以沿X轴方向扫描所述物品。

如图3A所示，在一个实施例中，在所述图像擦除设备14中，由于需要相对长的路径(光路)的光学系统OC1在平面图中布置成U形，所述外罩15被微型化，进而，所述光发射孔15a形成在所述光学系统OC1的光发射端附近，即，在所述外罩15的+Y侧的侧壁的+X侧的端部。

从而，所述光发射孔15a形成于外罩15的一侧壁(+Y侧上的侧壁)上。从而，与比如所述光发射孔15a形成于跨过外罩15的两个相邻侧壁之间的边界延伸的区域的情况相比，可以减少外罩15的强度的退化。

所述终端模块7具有用于输入图像擦除开始信号，联锁信号，环境温度信号，编码器信号等等的信号输入端子，这些信号从主控制部(图中未示出)输出；还具有用于向主控单元输出擦除准备完毕信号，期间擦除信号，发生故障信号等的信号输出端子。

所述擦除开始信号是所述图像擦除设备14开始擦除操作的信号。所述联锁信号用于紧急原因停止擦除操作的信号。所述环境温度信号是用于通过环境温度来校正激光强度(输出)和激光扫描速度的信号。所述编码器信号是用于检测可重写标签RL(物品)的移动速度的信号。所述擦除准备完毕信号是用于指示可以接收所述擦除开始信号的信号。所述期间擦除信号是用于指示正在进行擦除操作的信号。所述故障发生信号用于指示控制器21检测到，比如所述一维激光阵列LA1发射激光的故障、检流计反射镜装置30的运行故障等等的信号。

所述操作者控制面板19是具有简单指示器和操作开关的用户界面。可以利用所述操作者控制面板19可以选择菜单，输入数值。在这个实施例中，作为一个例子，通过使用所述操作者控制面板19，可以指定诸如激光扫描长度，激光扫描速度，激光扫描方向、激光强度，擦除开始延迟时间，物品速度等的擦除条件。

如图3B所示，所述控制部33具有控制器21，电驱动器42和激光驱动器40。

所述控制器21包括擦除条件设定部分32，擦除操作控制部分34，激光控制部分36和电流控制部分38。

所述擦除条件设定部分32设定由用户使用所述操作者控制面板19指定的，诸如激光扫描长度，激光扫描速度，激光扫描方向，激光强度，擦除开始延迟时间，物品速度等等的擦除条件。

所述擦除操作控制部分34处理来自终端模块7的信号，然后向所述激光控制部分36和所述电流控制部分38提供指令，同时向终端模块7生成输出信号。

所述激光控制部分36将所述擦除操作控制部分34指示的激光输出值转换为模拟电压，然后将模拟电压输出给所述激光驱动器40，生成开、关激光的时间信号。

所述激光驱动器40是一个电路，其根据来自所述激光控制部分36的指令值后为所述一维激光阵列LA1生成驱动电流并控制激光强度。

所述电流控制部分38产生模拟信号，该模拟信号用于以指定的速度从所述擦除操作控制部分34所指示的扫描开始位置和扫描终止位置之间以振荡方式旋转所述检流计反射镜装置30的所述振荡反射镜30a，并向所述电驱动器42输出摸拟信号。

所述电驱动器42具体是一个电路，其根据来自所述电流控制部分38的指令值，控制所述检流计反射镜装置30的振荡反射镜30a的振荡角度，将来自所述电流控制部分38的指令值和来自所述检流计反射镜装置30具有的角度传感器的信号相比较，然后向所述检流计反射镜装置30输出这种驱动信号以使两者之间的误差最小。

如图1A所示，所述图像记录设备16位于所述图像擦除设备14的+X侧(传输方向的下游侧)。

在使得激光可重写设备100的体积最小的角度看，所述图像擦除设备14和所述图像记录设备16沿X轴方向的距离M尽可能小是优选的。也就是说，优选地将所述图像擦除设备14和所述图像记录设备16尽可能彼此接近。要指出的是，所述“接近”是指所述距离M例如小于或等于40cm，优选地，小于或等于25cm，更优选地，小于或等于15cm。

如图4A所示，所述图像记录设备16包括光纤耦合LD41，光学系统OC2，冷却单元59，控制部53，以及第一外罩17和第二外罩18，例如，每个外罩均为长方体。

在此例中，例如，所述第一外罩17位于第二外罩18的+Y侧。所述光学系统OC2容纳于第一外罩17内，所述冷却单元59和控制部53容纳于所述第二外罩18内。在图1A-2B中，所述第二外罩18等部件被省略了。

所述光纤耦合LD41包括激光光源LS和光学转换系统(图中未示出)，该光学转换系统用于将激光从激光光源LS引导到光纤OF。作为激光光源LS，可以使用单束激光，包括多个激光的激光阵列，单个发射器等类似物。

作为一个实施例，所述所述光纤耦合LD41中，激光光源LS和光学转换系统被所述第二外罩18容纳，且所述光纤OF从第二外罩18延伸到第一外罩17，并与光学系统OC2的入射端连接。在一个实例中，所述冷却单元59包括定位于所述激光光源LS附近的散热片(未示出)，和用于传送空气至散热片的风扇，和/或类似装置。

通过如此使用光纤耦合LD41，很容易获得容易会聚且截面呈圆形(下文中称为“圆型束(circularbeam)”的激光。进一步地，也可以将第一外罩17安装于滚轴传输器RC附近，将第二外罩18安装成远离滚轴传输器RC。采用这种安装方式，即便在传输路径周围的安装空间狭小的情况下，也可以容易地进行安装。

在一个实施例中，所述光学系统OC2包括：准直透镜单元43，焦点位置校正单元44，聚光透镜45(例如球面透镜)，反射镜49和检流计反射镜系统51。

在一个实施例中，所述准直透镜单元43包括沿光轴方向间隔开的多个准直透镜，其入射端(光学系统OC2的入射端)与光纤OF相连。所述准直透镜单元43使得来自光纤耦合LD41的圆型束平行并将其沿+Y方向射出。

在一个实施例中，所述焦点位置校正单元44位于所述圆型束穿过准直透镜单元43后的光路上(位于准直透镜单元43的+Y侧)，并包括焦点位置校正透镜(图中未示出)和沿光轴方向移动该焦点位置校正透镜的移动机构(图中未示出)。借由所述移动机构沿光轴方向移动该焦点位置校正透镜，该焦点位置校正单元44光学控制圆型束的焦距，然后发射圆型束。要指出的是，优选地提供距离传感器(图中未示出)，其检测图像记录设备16的光发射孔(光发射部)17a和可重写标签RL之间的距离，并根据距离传感器的检测结果控制所述移动机构。

作为一个实施例，所述聚光透镜45位于圆型束穿过焦点位置校正单元44后的光路上(位于焦点位置校正单元44的光程+Y侧)，将圆型束转变成会聚光线，并发射圆型束。

在一个实施例中，所述反射镜49位于圆型束穿过聚光透镜45后的光路上(位于聚光透镜45的光程+Y侧)，沿+X方向反射圆型束。

如图4B所示，所述检流计反射镜系统51包括X轴检流计反射镜装置48和Z轴检流计反射镜装置50。

所述X轴检流计反射镜装置48与上述检流计反射镜装置30结构相同，除了其振荡反射镜(图中未示出)围绕Y轴以振荡方式旋转。在一个实施例中，该X轴检流计反射镜装置48位于圆型束经反射镜49反射后的光路上(位于反射镜49的+X侧)，并大致在-Z(或+Z)侧上偏转圆型束。

所述Z轴检流计反射镜装置50与上述检流计反射镜装置30结构相同，除了其振荡反射镜(图中未示出)围绕X轴以振荡方式旋转。在一个实施例中，该Z轴检流计反射镜装置50位于圆型束经所述X轴检流计反射镜装置48偏转后的光路上(位于所述X轴检流计反射镜装置48的振荡反射镜的-Z(或+Z侧))，大致在+Y侧上偏转圆型束。

所述光发射孔(光发射部)17a形成于第一外罩17的+Y侧的侧壁上，用于允许经所述检流计反射镜装置50偏转的所述圆型束穿过。在一个实施例中，所述光发射孔17a由一个透明或半透明组件阻挡。经上述方式，已经穿过所述光发射孔17a的所述圆型束在所述滚轴传输器RC之上在例如从几厘米到几十厘米的高度穿过。

因此，从所述光纤耦合LD41射出的圆型束通过准直透镜单元43、焦点位置校正单元44，聚光透镜45，反射镜49被导引至该检流计反射镜系统51，依次经X轴检流计反射镜装置48和Z轴检流计反射镜装置50偏转，然后提供给位于滚轴传输器RC上在面向所述光发射孔17a的位置的物体。结果，光点用于沿X轴和Z轴的两维方向扫描所述物品。

为了在可重写标签上以精细的记录线宽度记录图像，有必要尽可能地减小入射到检流计反射镜装置50上的激光束的直径。提醒注意的是，当激光束直径很大时，应当增大所述检流计反射镜装置中振荡反射镜的尺寸。此种情况下，对反射镜的操作不会那么精确，从而使得图像记录精度下降。

为了尽可能地减小入射到检流计反射镜装置50上的激光束的直径，就有必要增加光学系统OC2中从焦点位置校正单元44到检流计反射镜系统51的光路长度。

在所述图像记录设备16中，作为一个实例，所述光学系统OC1在平面图中布置成“L”形，并且将光发射孔17a设于光学系统OC2的激光发射端处，即，在所述第一外罩17的+Y侧的侧壁的+X侧的端部处。这样就使得第一外罩17小型化，并且尽可能增加了上述光路长度。

因此，所述光发射孔17a形成于第一外罩17的一侧壁(+Y侧上的侧壁)上。因此，与例如所述光发射孔形成于跨过第一外罩17两邻近侧壁之间的边界延伸的区域的情况相比，可以减小第一外罩17的强度的退化。

如图4B所示，控制部53具有控制器46，主机47，X轴伺服电机52和Z轴伺服电机54。

基于从主机47输出的图像信息，所述控制器46生成线段构成的渲染数据，控制X轴检流计反射镜装置48和Z轴检流计反射镜装置50的振荡反射镜的位置，激光发射时间和光发射功率，并在记录目标上记录(形成)图像。在一个实例中，所述图像，如字符/字母，数字，图形或者条形码以大约0.25mm的记录线宽被记录。

所述控制器46通过X轴伺服电机52控制X轴检流计反射镜装置48，也通过Z轴伺服电机54控制Z轴检流计反射镜装置50。

所述X轴伺服电机52是一个电路，其根据来自控制器46的指令值，控制所述X轴检流计反射镜装置48的振荡反射镜的位置，比较所述X轴检流计反射镜装置48中角度传感器的信号与来自所述控制器46的指令值，并向所述X轴检流计反射镜装置48输出驱动信号以尽可能减少两者之间的误差。

类似地，所述Z轴伺服电机54是一个电路，其根据来自控制器46的指令值，控制所述Z轴检流计反射镜装置50的振荡反射镜的位置，比较所述Z轴检流计反射镜装置50中角度传感器的信号与来自所述控制器46的指令值，然后向所述Z轴检流计反射镜装置50输出驱动信号以尽可能减少两者之间的误差。

对于图像擦除设备14和图像记录设备16，也可以按照预期目的选择除半导体激光器之外的其他激光器，比如：固态激光器，光纤激光器，CO₂激光器等等。当在图像擦除设备14和图像记录设备16中选择上述除半导体激光器之外的其他激光器时，也可以提供所述图像擦除设备14和图像记录设备16的光学系统之外的其他光学系统。同时，在这种情况下，优选地将所述图像擦除设备14和图像记录设备16中的光学系统分别布置成在平面图为“U”型和“L”型，与上述图像擦除设备14和图像记录设备16中的相同，为了使外罩小型化并也为了尽可能增加光路长度的目的。

根据实施例，如上所述，从波长选择性的宽范围、能够使设备小型化，这是因为激光器本身较小并且能够降低成本的角度来看，在所述图像擦除设备14和图像记录设备16中使用半导体激光器。

所述图像擦除设备14和图像记录设备16发射的激光的波长优选700nm或更大；更优选地，720nm或更大，再优选地，750nm或更大。作为所述激光波长的上限，可以根据预定目的选择，但优选1500nm或更小，更优选地，1300nm或更小，再优选地，1200nm或更小。

当激光波长短于700nm时，处于可见光区域，会发生在热可逆记录材料(可重写标签RL)上记录图像时对比度降低的问题或热可逆记录材料(可重写标签RL)着色的问题。当激光波长更短的紫外线区域，所述热可逆记录材料容易出现降解的问题。

对于要添加到热可逆记录介质的光热转化材料，为了确保反复图像处理的耐久度，需要较高的分解温度。在有机颜料用于光热转化材料的情况下，难于获得具有高分解温度和长吸收波长的光热转化材料。所以，对于激光的波长，优选为1500nm或更低。

CO₂激光器发射的激光波长为10.6μm，处于远红外区域，即使不添加吸收激光并产生热量的添加剂，介质表面也会吸收激光。由于即使使用具有近红外区域的激光，添加剂也会吸收可见光部分，通过使用不需要添加剂的CO₂激光器，可以避免图像对比度的降低。

从而，已经描述了该情况(第一布局)，其中所述图像擦除设备14和图像记录设备16位于传输单元10的-Y侧。但所述图像擦除设备14和图像记录设备16设于传输单元10的+Y侧的情况(也称为第二布局)大致相同，除了激光发射方向相反而已(参见图2A)。

在其上附着记录了图像的可重写标签RL的容器C已经被滚轴传输器RC传输到图像擦除设备14的+Y(或-Y)侧时，所述激光可重写设备100通过图像擦除设备14执行擦除操作重写图像；并且当同样的容器C通过滚轴传输器RC被传输到图像记录设备16的+Y侧(或-Y侧)时，由图像记录设备16进行图像记录步骤。

再具体地，当附着到所述容器C上的可重写标签RL已经抵达图像擦除设备14的+Y侧(或-Y侧)的指定位置，即正对光发射孔15a的位置(下文简称为擦除位置)时，图像擦除设备14发射激光，并擦除可重写标签RL上的图像。要指出的是，所述图像擦除设备14具有传感器(图中未示出)，其用来检测容器C是否处于擦除位置。在收到该传感器的检测信号后，主控制部将容器C减速后停下。要指出的是，制动器可以提供给所述传输单元10，用于将容器C快速而精确地停在所述擦除位置，并也是的该传输单元10产生的振动对容器C的影响更小。这种情况下，当容器C停下时，可以控制容器C的移动，从而实现对可重写标签RL的高精度擦除操作。

当附着于所述容器C上的可重叠标签RL抵达图像记录设备16的+Y(或-Y)侧的预定位置，即，正对光发射孔17a的位置(下文简称为记录位置)时，图像记录设备16发射激光，在可重写标签RL上记录新图像。要指出的是，在一个实施例中，所述图像记录设备16具有传感器(图中未示出)，其用来检测容器C是否抵达记录位置。在已经收到该传感器的检测信号后，主控制部将容器C减速后停下。对于图像记录设备16，和所述图像擦除设备14一样，制动器可以设置给所述传输单元10，以用于繁殖容器C的运动影响图像的记录。

如上所述，在第一布局中，如图1A所示，所述图像擦除设备14的光发射孔15a形成于外罩15的+Y侧的侧壁+X侧的端部处，且所述图像记录设备16的光发射孔17a形成于第一外罩17的+Y侧的侧壁的+X侧的端部处。在第二布局中，如图2A所示，所述图像擦除设备14的光发射孔15a形成于外罩15的-Y侧的侧壁的-X侧的端部处，而所述图像记录设备16的光发射孔17a形成于第一外罩17的-Y侧的侧壁的-X侧的端部处。与光发射孔形成于外罩X轴方向中部相比(当所述光发射孔的中心位于外罩X轴方向的中部时)，通过将所述光发射孔如此设置于外罩X轴方向的端部上，可以很容易增加外罩内的光学系统的光路。

即，根据第一、第二布局，相对于传输方向(X轴方向)，所述两个光发射孔15a和17a位于图像擦除设备14和图像记录设备16同侧的端部处。“所述两个光发射孔15a和17a位于图像擦除设备和图像记录设备同侧的端部处”是两个光发射孔15a和17a的中心的X轴位置(相对于X轴方向的位置)分别位于相应外罩X轴的中部的+X侧上，或者分别位于相应外罩的中部的X位置的-X侧。

在这种情况下，(见图1A)，第一布局中，两个所述光发射孔15a、17a相对于X轴方向的各自中心之间的距离Xa与外罩15、17相对于X轴方向的各自中心之间的距离T(下文中称为“外罩中心距离”T)大致相等。而且(见图2A)，在第二布局中，两个所述光发射孔15a、17a相对于X轴方向的各自中心之间的距离Xb也与外罩中心距离T大致相等。也就是说，|Xa-T|较小，且|Xb-T|也较小。为方便起见，下文中将两个所述光发射孔15a和17a相对于X轴方向(即传输方向)的中心之间的距离称为“光发射孔中心距离”。

对比来说，假定两个光发射孔15a，17a位于图像擦除设备14和图像记录设备16相对于传输方向(X轴方向)的相反两侧的端部处，第一布局下光发射孔中心距离Xc会比外罩中心距离T明显要大(见图5A)。类似地，第二布局下光发射孔中心距离Xd会比外罩中心距离T明显要小(见图5B)。要指出的是“所述两个光发射孔15a，17a位于相反两侧的端部”是指两光发射孔15a，17a之一的中心的X轴位置位于相应外罩中心的X轴方向的+X侧，而另一个光发射孔位于相应外罩中心的X轴方向的-X侧。

接下来要介绍所述激光可重写设备100的操作的一个实例。要指出的是，现在将描述的操作都由主控制部全面控制。该主控制部内包括的存储单元(图中未示出)中，存储要在可重写标签RL上记录的图像的信息，即，容器C中当前装载的货物的内容，传输目的地，可重写标签RL已使用次数等信息。

具体地，滚轴传输器RC上的擦除位置的上游(-X侧)上，例如，其中装载有货物并在其外侧壁上贴有可重写标签的许多容器C均沿X轴方向排列。要指出的是，在图中，由于图示的限制，只在图中描绘了相对于X轴方向的滚轴传输器RC的中间部分。

为简便起见，下文中将所述许多容器C分别称为“第一容器”C1...及第N个容器Cn，它们从+X侧到-X侧沿所陈述的顺序排列。

要指出的是，所述容器C位于滚轴传输器RC上，使得其上贴有可重写标签的侧壁能够面向所述图像擦除设备14和图像记录设备16的相应光发射孔15a，17a。

首先，用户操作主控制部的操作者控制面板(图中未示出)，向主控制部传递传输开始信号。

已经如此接收到传输开始信号的主控制单元独立控制滚轴传输器RC多个滚轴组，以由滚轴传输器RC以很小间隔传输各容器C。

接着，第一容器C1停在擦除位置，图像擦除设备14在第一容器C1的可重写标签RL上进行擦除操作(如图1A，2A)。

擦除操作如此结束后，第一容器C1被传输至并停止在记录位置。第2容器C2被传输至并停止在擦除位置。然后并行进行在第一容器C1上的可重写标签RL上的记录操作和在第2容器C2的可重写标签RL上的擦除操作(如图1B，2B)。

所述记录操作如此完成后，第一容器C1传送至下一过程(例如，传输准备过程)。第2容器C2在擦除操作完成后传送至并停止在记录位置。然后对第2容器C2上的可重写标签RL进行记录操作，同时对第3容器C3上的可重写标签RL进行擦除操作。

这样，在各个容器C上的可重写标签RL进行图像擦除和图像记录，并且图像被重写。

为了快速进行在可重写标签RL上的图像重写并提高产量，优选地尽可能减少容器C从擦除位置向记录位置传输所需时间周期(下文中称为“容器C传输时间”)。也就是，尽可能减小所述光发射孔中心距离。但如果光发射孔中心距离过短，将有可能导致擦除操作和记录操作无法并行进行。要指出的是，所述“擦除操作和记录操作无法并行进行”的具体实例是：取决于容器C的尺寸，不可能同时一个容器C位于擦除位置而另一个容器C位于记录位置；所述图像擦除设备14和图像记录设备16发射的激光相互干扰等类似情况。

为了并行实施擦除操作和记录操作而又不减少产量，优选地是将光发射孔中心距离设定为一个适度的长度(例如，在外罩中心距离T的数量级上)。

根据第一实施例的上述激光可重写设备100位于传输单元10的+Y或-Y侧，传输单元10沿着+X方向传输其上贴有可重写标签RL的容器C。

所述激光可重写设备100包括：图像擦除设备14，其发射激光并擦除在可重写标签RL上记录的图像；图像记录设备16，其位于图像擦除设备14的+X侧(传输方向的下游侧)，发射激光，并在其上图像已经被图像擦除设备14擦除的可重写标签RL上记录新图像。图像擦除设备14和图像记录设备16具有发射激光的光发射孔(光发射部)15a，17a，其位于传输方向(X轴方向)的同侧的端部处。

这种情况下，在激光可重写设备100中，无论激光可重写设备100位于传输单元10的+Y侧还是-Y侧(无论采用第一和第二布局)，光发射孔中心距离大致和外罩中心距离相等。进而可以避免产量降低，且并行实现擦除操作和记录操作。

结果，无论所述激光可重写设备100位于传输单元10的+Y侧还是-Y侧，其都可以充分发挥设备性能。

对比来说，在采用第一、第二布局中的一种布局的情况下，假定图像擦除设备14和图像记录设备16在传输方向的不同侧具有光发射孔15a，17a，光发射孔中心距离会比外罩中心距离T明显要大(容器C传输时间边长)，产量有可能降低。而当采用第一和第二布局中另一种布局时，由于光发射孔中心距离明显短，就很难并行实施擦除操作和记录操作。因此，无论采用第一布局或第二布局，所述记录装置都可能无法充分发挥性能。

进一步地，根据激光可重写设备100，无论采用第一或第二布局，光发射孔中心距离都约等于外罩中心距离T。从而，即便在所述图像擦除设备14和图像记录设备16两者之间的距离M减小时，也很可能并行实施擦除操作和记录操作。即，无论采用第一或第二布局，激光可重写装置100可充分发挥其设备性能，同时实现该装置的体积最小化。

因此，根据激光可重写设备100，无论采用第一、第二哪种布局，都可以确保设备性能。进而，根据设备的安装环境(例如，是否有足够的安装空间，安装起来的难易程度，维修起来的难易程度，和/或类似条件)，可以方便地确定该激光可重写设备100定位在传输单元10的+Y侧还是-Y侧。

下面，将基于图6A，6B对本发明第二实施例进行描述。第二实施例中，对于与上述第一实施例中相同或相似结构的组件，赋予相同的附图标记，省去重复描述，并主要阐述其与第一实施例中不同之处。

如图6A，6B所示，在根据第二实施例的激光可重写设备200中，与第一实施例相同，图像擦除设备14的光发射孔15a和图像记录设备16的光发射孔17a形成于传输方向的同一侧(+X或-X侧)的端部处。

此外，根据第二实施例，所述图像擦除设备14的中心与其上的光发射孔15a中心相对于X轴方向(传输方向)的距离，和所述图像记录设备16中心与其上的光发射孔17a中心相对于X轴方向(传输方向)的距离被设定为相等距离D。这样，第一布局下的光发射孔中心距离Xe和外罩中心距离T相等(如图6A)。相应地，第二布局下光发射孔中心距离Xf和外罩中心距离T也相等(如图6B)。

根据第二实施例，第一和第二布局中的光发射孔中心距离相等，并于是在第一和第二布局中，容器C传输时间也会相等。因此，两种布局也将实现相同产量。

接下来，将基于图7对本发明第三实施例进行描述。第三实施例中，对于与前述第一和第二实施例中相同或相似结构的组件，赋予相同的附图标记，省去重复描述，并主要阐述其与前述第一和第二实施例中不同之处。

根据第三实施例，如图7所示，除了第一、二实施例外，图像擦除设备14的外罩15的-X侧的侧表面(传输方向上游的侧表面)与图像记录设备16的第一外罩17的+X侧的侧表面(传输方向下游的侧表面)之间相对于X轴方向的距离L(下文中称为并排距离L)被设定为小于容器C沿X轴方向的长度K的2倍(L＜2K)。

这种情况下，当多个相同尺寸的容器C被滚轴传输器RC连续传输时，滚轴传输器RC上位于外罩15的-X侧的侧表面和第一外罩17的+X侧的侧表面之间的各位置上(下文中称为滚轴传输器RC上的并排位置)的容器C的数目是1或2。要指出的是在具有不同尺寸的容器C以混合状态连续传输时，相对于X轴方向具有最大长度的容器C被作为长度K的基础。

此时，处于每个擦除位置和记录位置的容器C的数量为0或1。在这种情况下，与前述第一和第二实施例相同，在对容器C的可重写标签RL的擦除操作结束后，容器C从擦除位置被传至记录位置，并进行记录操作。

另一方面，假设所述并排距离L大于或等于容器C沿X轴方向长度K的2倍(L≥2K)，在具有相同尺寸的多个容器C被滚轴传输器RC连续传输的情况下，滚轴传输器RC上的并排位置处的容器C的数量是2个或更多。在这种情况下，如图8所示，所述并排距离L相对于容器C沿X轴方向的长度K的比增大时，在所述擦除位置和记录位置可以插入至少一个容器C。结果，将处于擦除位置和记录位置之间的该容器C传输到所述记录位置的距离小于所述擦除位置和记录位置之间的距离，并且从增加产量的角度看这种状态是优选的。但是，当为了增大所述并排距离L相对于容器C沿X轴方向长度K的比而加大所述并排距离L时，整个装置的尺寸也会增大。而为了相同目的而减小容器C沿X轴方向的长度K时，容器C的容积可能不足。

从而，根据第三实施例，如上所述，所述并排距离L被设定成小于容器C沿X轴方向的长度K的2倍(L＜2K)。从而在使得整个装置最小化的同时确保容器C的体积足够大。

接下来，将基于图9对本发明第四实施例进行描述。在第四实施例中，对于与前述第一、第二和第三实施例中相同或相似结构的组件，赋予相同的附图标记，省去重复描述，下文将主要阐述其与前述第一、第二和第三实施例中不同之处。

根据第四实施例，如图9所示，除了前述第一、二或三实施例外，所述图像擦除设备14中的光发射孔15a的-X侧的边缘(沿传输方向上游侧的边缘)和所述图像记录设备16中的光发射孔17a的+X侧的边缘(沿传输方向下游侧的边缘)之间的距离N(下文中称为“光发射孔最大距离”)N被设定成大于X轴方向的长度K(N＞K)。

作为要通过滚轴传输器RC传输的传输容器(即，上述的容器C)，可以使用各种情况。具体地，有各种材质的传输容器比如：瓦楞纸板，聚丙烯(PP)，不锈钢等，其上印有公司名称等的传输容器，签字笔标记的传输容器，粘有颜料或染料的传输容器，为颜色编码(用不同颜色区别)目的将颜料或染料揉入材料的传输容器，等等。

当向这种传输容器发射激光时，根据其材质和/或颜料/染料，激光可能会被吸收并产生热量。当反复向这种传输容器发射激光时，传输容器会变形，破损或类似情况，反复使用的传输容器的时间周期(使用寿命)可能会缩短。

假设所述光发射孔最大距离N小于等于容器C沿X轴方向长度K(N≤K)，单个容器可以同时面对15a，17a两个光发射孔。从而，在通过图像擦除设备14在这个可重写标签RL上进行擦除操作的过程中，激光可能错误地从图像记录设备16发射到附有可重写标签RL的容器C上；或者在通过图像记录设备16在这个可重写标签RL上进行图像记录的过程中，激光会被图像擦除设备14发射到其上附着可重写标签RL的容器C上。此外，为了避免上述情况发生，擦除操作和记录工序不同时进行而是分别进行，就会降低产量。

下面着重描述前述第一、二、三、四实施例中所使用的可重写标签RL，即，热可逆记录介质。

热可逆记录介质中的图像擦除和记录机理包括其色调可通过热量进行可逆地变化。这种方式是通过无色染料和可逆显影剂(下文中称为显影剂)实现的，且色调在透明状态和颜色形成状态之间可逆地转化。

图10A示出热可逆记录介质的温度-颜色光学密度变化的曲线的实例，该热可逆记录介质具有在树脂中含有无色染料和显影剂的热可逆记录层。图10B示出热可逆记录介质颜色形成和擦除的原理图，其通过热量可以在透明状态和颜色形成状态之间可逆地转化。

当处于颜色擦除状态(A)的所述记录层的温度升高，在融化温度T1时，所述无色染料和显影剂融化并混合，从而形成颜色，从而，该记录层进入融化和颜色形成状态(B)。当处于所述融化和颜色形成状态(B)的记录层快速冷却时，可以在保持颜色形成状态时将记录层温度降至室温。进而，稳定了该颜色形成状态，得到固定的颜色形成状态(C)。能否达到颜色形成状态取决于从所述融化状态的温度冷却下来的速度。在缓慢冷却的状态下，冷却过程中颜色会被擦除。所述记录层就恢复到颜色擦除状态(A)，与初始状态相同；或者通过快速冷却，所述记录层会成为比颜色形成状态(C)的密度要浅的状态。

另一方面，处于颜色形成状态(C)的记录层被再次加热时，在低于所述彩色形成温度的温度T2(从D到E)下，彩色被擦除。当此种状态下的记录层温度被降低时，就会返回到颜色擦除状态(A)，与初始状态相同。

从融化状态通过快速冷却获得的颜色形成状态(C)是所述无色染料和显影剂在能够发生分子的催化效应的状态下混合到一起的状态。此种状态可以是许多情况的固态。此种状态是无色染料和显影剂的融化混合物(上述颜色形成混合物)结晶的状态，从而维持如此的颜色形成状态。认为是此种结构的形成使得所述颜色形成状态稳定。另一方面，颜色擦除状态(A)是所述无色染料和显影剂相位分离的状态。认为这种状态是需要至少一种上述化合物的分子聚集而形成域或结晶的状态，并从而是所述无色燃料和显影剂由于聚集或结晶而彼此分离的稳定状态。许多情况下，以这种方式的无色燃料和显影剂的相位分离以及显影剂的结晶，都会使颜色完全消褪。

要指出的是，如图10A所示，无论是从融化状态进行缓慢冷却的颜色擦除，还是从颜色形成状态升温的颜色擦除，所述聚合结构在T2温度时变化，相位分离，显影剂结晶。

进一步，在图10A中，如果所述记录层的温度反复升到大于或等于融化温度的温度T3，即使加热到所述擦除温度，也可能出现擦除失败的情况。认为这是因为显影剂热分解并所以很难聚合或结晶，进而，所述显影剂很难从无色染料中分离出来。在对所述热可逆记录介质进行加热时，通过减少图10A中所述融化温度T1和温度T3的差，可以减少该热可逆记录介质因反复使用引起的降解效果。

该热可逆记录介质可以根据需要进行适当选择而没有任何限制。该热可逆记录介质优选包括支撑元件和位于支撑元件上的热可逆记录层，该热可逆记录层可含有光热转换材料。此外，该热可逆记录材料优选地还具有另一层(或多层)，该另一层可以根据需求适当选择，例如：光热转换层，第一氧气阻隔层，第二氧气阻隔层，紫外线吸收层，背面层，保护层，中间层，基底层，粘结剂层，胶粘层(tackinesslayer)，着色层，空气层，光反射层，和/或类似层。

这些层中的每一个可以是单层结构，也可以是多层结构。但是，对于设置在该光热转化层之上的层(各层)，为了减少发射的特定波长的激光束的能量损失，优选地，它们各自由吸收该特定波长激光较少的材料形成。

所述热可逆记录介质的层结构并没有特别的限定。例如图11A所示的，可选择如下结构：热可逆记录介质100具有支撑元件101和设置在支撑元件101上并含有光热转化材料的热可逆记录层102。

此外，如图11B所示，可以采用如下层结构的模式：热可逆记录介质100具有支撑元件101，以及在支撑元件101上按照所描述的顺序的第一热可逆记录层103，光热转化层104和第二热可逆记录层105。

此外，如图11C所示，可以采用如下层结构的模式：热可逆记录介质100具有支撑元件101，以及在支撑元件101上按照所描述顺序的第一氧气阻隔层106，含有光热转化材料的热可逆记录层102，第二氧气阻隔层107以及紫外线吸收层108。

此外，如图11D所示，可以采用如下层结构的模式：热可逆记录介质100具有支撑元件101，以及在支撑元件101上的按照所描述顺序的含有光热转化材料的热可逆记录层102，第二氧气阻隔层107以及紫外线吸收层108，并进一步具有在所述支撑元件101的不具有热可逆记录层一侧的表面上的第一氧气阻隔层106。

要指出的是，尽管图中未示出，还可以在图11A热可逆记录层102上、图11B第二热可逆记录层105上、图11C紫外线吸收层108上以及图11D紫外线吸收层108上形成保护层，每个保护层设置为最外层。

-支撑元件-

可以根据需要无限制的选择该支撑元件的形状、结构、尺寸等等。形状的实例包括板状形状；结构可以是单层结构或者多层结构；具体尺寸可以根据热可逆记录介质的尺寸来选择；等等。

该支撑元件的材料的实例包括而不限于：例如，无机材料和有机材料。

该无机材料的实例包括而不限于：玻璃，石英，硅，氧化硅，氧化铝，SiO₂和各类金属。

该有机材料的实例包括而不限于：纸张，三乙酸纤维素类的纤维素衍生物，合成纸，和聚对苯二甲酸乙二醇酯，聚碳酸酯，聚苯乙烯，聚甲基丙烯酸甲酯制成的薄膜或类似物。

所述无机材料和有机材料各自可以单独使用或者两个以上组合使用。在上述材料中，有机材料是优选的，且聚对苯二甲酸乙二醇酯，聚碳酸酯，聚苯乙烯，聚甲基丙烯酸甲酯制成的薄膜等是优选的，其中特别优选地是聚对苯二甲酸乙二醇酯。

优选地，在所述支撑元件上借助于电晕放电，氧化反应(比如采用铬酸)，蚀刻，提高粘性，抗静电处理或类似处理进行表面改性，为了改善涂覆层附着的目的。

优选地，也可以采用添加诸如氧化钛之类的白色颜料将该支撑元件着色为白色。

该支撑元件可根据需要不受限制的选择合适厚度。但是10μm-2000μm的范围是优选的，50μm-1000μm的范围是更优选的。

-热可逆记录层-

该热可逆记录层的色调是可逆地变化的。

该热可逆记录层包括无色染料和显影剂和粘结剂树脂，无色染料作用为提供电子着色型化合物，显影剂作用为接收电子化合物。该热可逆记录层按需要还可能包括其他化合物。

作为提供电子着色型化合物的无色染料和作为接收电子化合物的可逆性显影剂，其中通过加热色调进行可逆变化，它是可以展示出通过温度变化可逆地产生视觉上的变化并且根据加热温度以及加热后冷却速度的差异在相对的颜色形成状态或颜色擦除状态之间能够变化的材料。

-无色染料-

该无色染料是一种本身无色或白色(pale)的染料前体。该无色染料可以从已知的无色染料中适当选择而没有任何限制，其实例包括基于以下物质的无色化合物：三苯甲烷苯酞，三烯丙基甲烷，荧烷，吩噻嗪，噻吩，两本骈派仑，靛酚，螺比喃，哌哒苯嗪，色原烯醇吡唑，次甲基，罗丹明乳胺，喹唑啉，二氮烷二本骈派仑，双内酯。其中基于荧烷和苯酞的无色染料由于其在颜色形成和擦除，颜色质量和保存质量方面的卓越性能而是特别优选的。其可以单独使用，也可两个以上组合使用。该热可逆记录介质通过层叠形成不同色调的层而被用于多色和/或全色记录。

-可逆显影剂-

可逆显影剂可以根据预期用途适当选择而没有限制，只要通过加热能够可逆地实现颜色的形成和擦除即可。其适当的实例包括：在其分子中至少具有下面结构中的一种：具有显色性能使得无色染料形成颜色的结构(1)(例如：酚式羟类，羟酸类，磷酸类和类似物)；控制分子之间的粘合力的结构(2)(例如：长链烃类链接在一起的结构)。在链接部分，长链烃类可通过含有杂原子的二价或二价以上连接基团链接起来。进一步地，该长链烃类起码可包含相同或类似链接基或芳香类。

作为具有促使无色染料形成颜色的显色性能的结构(1)，酚类是特别适当的。

作为控制分子间粘合力的结构(2)，优选含8个以上碳原子的长链烃类，更优选11个以上碳原子的长链烃类。优选碳原子数目的上限是40或更小，更优选的碳原子数目是30或更小。

上述可逆性显影剂中，优选下列通用方程式(1)所表示的酚化合物，进一步优选下述通用方程式(2)所表示的酚化合物。

在上述通用方程式(1)，(2)中，R¹表示单键或1-24个碳原子的脂肪烃类。R²表示两个或更多碳原子的脂肪烃类，也可能含有取代基，优选碳原子数目5个或更大，进一步优选10个或更大。R³表示含有1-35个碳原子的脂肪烃类，优选碳原子数目6-35，且8-35是更优选的。上述脂肪烃类可以单独提供，或者两个以上组合。

所述R¹，R²，R³的碳原子总数目可根据期望用途不受限制的选择。但下限优选是8或更大；且11或更大是更优选的。其上限优选地是40或更小，进一步优选是35或更小。

当碳原子总数低于8时，颜色形成稳定性和颜色擦除的性能就可能会降低。

每个所述脂肪烃基都可以是直链结构或分支链结构，也可以含有不饱和键。但优选地每个所述脂肪烃基为直链结构。键合到所述脂肪烃基的取代分子包括：烃类，卤素原子和烷氧类。

上述通用方程式(1)，(2)中，X和Y可以相同，也可不同，均表示包含N原子或氧原子的2价基。其特定实例包含氧原子，酰胺基，尿素基，二酰肼基，二酰氨草酸盐基，酰基脲基。在它们中，优选酰胺基和尿素基。

简式(1)中，“n”表示0到1的整数。

作为接收电子化合物(显影剂)，没有限制。但优选所述接收电子化合物与其分子中含有1个或多个-NHCO-基和-OCONH-基的其他化合物结合使用，作为擦除颜色加速剂。这是因为在产生颜色擦除状态的过程中在擦除颜色加速剂和显影剂之间诱发分子间相互作用，从而提高其形成颜色和擦除颜色的性能。

擦除颜色加速剂可以根据需要不受限制的适当选择。

在该热可逆记录层中，还可以使用粘结剂树脂以及按需要的各种添加剂，用于提高和/或控制该热可逆记录层的涂层性能，形成颜色性能和擦除颜色性能的各种粘合剂。上述添加剂的实例包括：表面活性剂，导电剂，填充剂，抗氧化剂，光稳定剂，颜色形成稳定剂和擦除颜色加速剂。

-粘结剂树脂-

该粘结剂树脂可以根据期望用途而适当选择，没有任何限制，只要使热可逆记录层能够附着在所述支撑元件上即可。例如：一种传统已知的树脂，或两种以上的传统已知的树脂组合使用作为粘结剂树脂。上述树脂中，能通过加热，紫外线，电子束或类似方式固化的树脂是优选的，这是因为可以提高其反复使用的耐久性(重复耐久度)。尤其是，各自采用异氰酸化合物作为交联剂的热固型树脂是优选的。所述热固型树脂的实例包括具有与交联剂反应的组的树脂，比如羟基或羧基；或者聚合由羟基、羧基或类似基团的单体与另一单体而形成的树脂。诸如此类的热固型树脂的特定实例包括：苯氧基树脂，聚乙烯醇缩丁醛树脂，醋酸纤维素丙酸树脂，醋酸纤维素丁酸树脂，丙烯多元醇树脂，聚酯型多元醇树脂，聚氨型多元醇树脂。在其中的，丙烯多元醇树脂，聚酯型多元醇树脂，聚氨型多元醇树脂是特别优选的。

该热可逆记录层中颜色形成剂和粘结剂树脂之间的混合比例(质量比)优选为1∶0.1～1∶10。在粘结剂树脂的量过小时，该热可逆记录材料层在耐热力方面可能不足。如果粘结剂树脂的量过大，由于颜色光学密度会降低而会成为问题。

上述交联剂也可以根据需要无限制地进行适当地选择，其实例包括：异氰酸酯，氨基树脂，酚类树脂，胺类和环氧树脂化合物。其中，优选的是异氰酸酯，特别优选含有多个异氰酸酯的多异氰酸酯化合物。

关于交联剂相对于粘结剂树脂的添加量，交联剂中官能团的数量与粘结剂树脂中活性基的数目之比最好在0.01-2的范围内。当该比过小而在此范围之外，不能获得足够的耐热力；当比值如此大而在这个范围外侧时，就会对颜色形成和颜色擦除特性带来不利影响。

进一步地，作为交联促进剂，可以使用在这种反应中的催化剂。

进行热交联的上述情况的任一种热固型树脂的凝胶部分并没有特别限制。优选30％或更大，特别优选50％或更大，更优选70％或更大。当所述凝胶的部分低于30％，就不可能充分达到交联状态，从而存在耐久性下降的问题。

作为确定该粘结剂树脂处于交联状态还是非交联状态的其中一种方法，可以通过将其涂层浸入高溶解性能溶剂中来确定。具体地，相对于非交联状态的粘结剂树脂，树脂会溶于上述溶剂而在溶解物中没有剩余。

该热可逆记录层中的其他成分可以根据需要不加限制地适当地选择。比如，出于更容易记录图像地考虑，可选择表面活性剂，增塑剂或类似物。

对于溶剂，还可以使用用于上述热可逆记录层涂层溶剂的：扩散该涂层溶剂的装置，涂层方法，干燥和固化方法等等。

为准备该热可逆记录层涂层溶剂，还可以通过该扩散装置将该材料一起溶解在溶剂中；或者，该材料可以单独溶解于相应的溶剂中，然后将这些溶液混合在一起。此外，该材料可以被加热和溶解，而后通过快速冷却或缓慢冷却使其沉淀。

形成该热可逆记录层的方法也可以根据期望用途而不加限制地适当选择。其适当的实例包括以下方法(1)，(2)，(3)。方法(1)是如下方法：在支撑元件上施加热可逆记录层涂层溶液，在该溶液中，树脂，无色染料和可逆性显影剂溶解或分散在溶剂中；然后，通过蒸发该溶剂，在该涂层溶剂形成片状或类似结构的同时或之后，交联该涂层溶液。方法(2)是如下方法：在支撑元件上施加热可逆记录层涂层溶液，在该溶液中，无色染料和可逆性显影剂分散在溶剂中，在该溶剂中仅溶解树脂，并然后在通过蒸发该溶剂而将该涂层溶剂形成片状或类似结构的同时或之后，交联该涂层溶液。方法(3)是如下的方法：不使用溶剂，加热和熔化所述树脂、无色染料和可逆型显影液以将其混合到一起，在将其形成为片状或类似结构并冷却之后，交联该熔化的混合物。上述每一种方式，也可以将热可逆记录层形成为片状形式热可逆记录介质，而不使用支撑元件。

方法(1)或(2)中使用的溶剂并不明确限定，因为其主要取决于树脂，无色染料和可逆性显影剂的类型等。它的例子包括：四氢呋喃，甲基乙基酮，甲基异丁基酮，氢仿，四氯化碳，乙醇，甲苯和苯。

要指出的是所述可逆性显影剂以粒子形式分散而存在于热可逆记录层中。

为了呈现出作为涂层材料的性能，还可向该热可逆记录层涂层溶液中添加各种类型的颜料，防泡剂，分散剂，增滑剂，防腐剂，交联剂，增塑剂等等。

该热可逆记录层的涂层方法也可以根据需要适当选择，而没有限制。例如，连续的辊形式的支撑元件或被切割成片状的支撑元件被传输，在支撑元件上以常规方法涂覆有所述热可逆记录层，该方法比如：刮刀涂布，线锭涂布，喷涂，气刀涂布，液滴涂布，幕式淋涂，照相凹版式涂布，吻合涂布，逆转辊涂布，浸涂，金属涂布。

该热可逆记录层的涂层溶液的干燥条件也可以根据需要不加限制地适当选择。例如：在室温到140℃下，干燥该热可逆记录层的涂层溶液，干燥时间约为10秒到10分钟。

该热可逆记录层的厚度也可以根据需要不加限制地适当选择。例如，优选为1μm-20μm，更优选为3μm-15μm。当热可逆记录层过薄时，由于颜色的光学密度降低使得图像对比度下降；而当热可逆记录层过厚时，层中热分布提高，会产生未达到颜色形成温度并因此不形成颜色的部分，从而无法达到理想光学密度。

-光热转化层-

该光热转化层含有光热转化材料，其用于高效吸收激光而产生热量。该光热转化材料至少添加到热可逆记录层或与之邻近的其他层中的至少一个中。如果光热转化材料添加到热可逆记录层中，该热可逆记录层同样作为光热转化层。为了阻止热可逆记录层和光热转化层之间发生反应，可以在其间设置阻隔层。该阻隔层优选地利用高热传导性的材料组成。介于热可逆记录层和光热转化层之间的层可根据需要不受任何限制的选择。

该光热转化材料可大致分为无机材料和有机材料。无机材料的例子包括：炭黑，如锗，铋，铟，碲，铯和铬等金属，半金属，上述的合金，金属硼化物颗粒，金属氧化物颗粒等等。

金属硼化物和金属氧化物的适当实例包括：六硼化物，氧化钨化合物，含锑氧化锡(ATO)，含铟氧化锡(ITO)和锑化锌。

对于有机材料来说，并无特别限定，对应不同激光波长可选择各种染料。但如果用激光二极管作为光源，应使用吸收峰值在700nm-1500nm波长之内的近红外吸收颜料。其特定实例包括：花青颜料，醌颜料，吲哚萘酚的喹啉衍生物，对苯二胺镊配合物，以及酞氰类化合物。为反复进行图像处理，优选高耐热性的光热转化材料，从这一点来看，特别优选酞氰类化合物。

上述每种近红外颜料都可以单独使用或者两种以上组合使用。

设置光热转化层时，光热转化材料通常与树脂一起使用。

该光热转化层中使用的树脂可以从本领域公知知的树脂中适当选择，而没有任何限制，只要它能保持所述无机材料或有机材料在其中即可。但是其优选实例包含热塑性树脂和热固性树脂，且可以适当地使用与热可逆记录层中选用树脂相同或相似的树脂。其中，优选使用通过热，紫外线，电子束可固化的树脂以提高重复耐用性，特别优选地是使用异氰酸酯作为交联剂的可热交联树脂。所述粘结剂树脂最好具有50mgKOH/g-400KOH/g的羟值。该光热转化层的厚度可根据需要无限制进行选择，但优选0.1μm-20μm。

-第一和第二氧气阻隔层-

该第一和第二氧气阻隔层(下文中简称为“阻隔层”)优选设置在第一第二热可逆记录层的上和下侧，以避免氧气进入热可逆记录介质，从而避免第一第二热可逆记录层中的无色染料产生光退化。即：优选将第一氧气阻隔层形成于支撑元件和第一热可逆记录层之间，第二氧气阻隔层形成于第二热可逆记录层之上。

形成该氧气阻隔层的材料的实例包括：树脂和聚合物膜，两者均具有高的可见光透射性和低的氧渗透性。也可以根据以下因素选择氧气阻隔层：其用途、氧气渗透率，透明度，涂层容易度，胶粘性，和/或类似因素。

该氧气阻隔层特定实例包括：硅石沉积膜，氧化铝沉积膜，和氧化硅-氧化铝沉积膜，所述无机氧化物蒸镀在树脂和聚合物膜上。此处，树脂的实例包括：聚丙烯酸烷基酯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚烷基乙烯酯，聚烷基乙烯醚，聚氟乙烯，聚苯乙烯，乙酸乙烯酯共聚物，醋酸纤维素，聚乙烯醇，聚偏二氯乙烯，乙腈聚合物，偏二氯乙烯聚合物，聚乙烯(氯三氟乙烯)，乙烯-乙烯醇聚合物，聚丙烯腈，丙烯腈聚合物，聚对苯二甲酸乙二醇酯，尼龙6和聚缩醛。所述聚合物膜含有聚对苯二甲酸乙二醇酯和尼龙。其中，沉积有无机氧化物的聚合物膜是优选的。

所述氧气阻隔层的氧渗透率没有特殊限制，最好在20ml/m²/day/Mpa或以下，更优选为5ml/m²/day/Mpa，仍更优选的是1ml/m²/day/Mpa。如果氧渗透率大于20ml/m²/day/Mpa，就很难避免所述第一第二热可逆记录层中的无色染料光退化。

例如，氧渗透率可通过JISK7126B中的测量方法进行测量。

例如，所述氧气阻隔层可以形成为通过第一、第二氧气阻隔层夹置将该热可逆记录层。进而有效防止氧气进入热可逆记录层，有效降低无色染料地光退化。

形成该氧气阻隔层的方法可以根据需要不加限制地适当选择。其实例包括：融化挤压，涂层，层叠等。

第一、第二氧气阻隔层的各自厚度主要取决于树脂和聚合物膜的氧气渗透率而变化，但优选是0.1μm-100μm。如果厚度小于0.1μm，该氧气阻隔层就可能不足。如果厚度大于100μm，其透明度就可能会降低。

可在氧气阻隔层和底层之间形成粘结剂层。形成该粘结剂层的方法没有特别限制，其中实例包括常规的涂层和层压方法。

该粘结剂层的厚度也没有特别限制，但优选为0.1μm-5μm。该粘结剂层可通过交联剂固化。可适当地选用在上述热可逆记录层中用的交联剂。

-保护层-

在上述热可逆记录介质中，为了保护热可逆记录层，优选在热可逆记录层上设保护层。

该保护层可根据需要不受限制的适当选择，例如，该保护层可以由单层或多层构成，优选设在暴露在外的最外层上。

该保护层含有粘结剂树脂，并根据需要还含有另一种成分(S)，比如填充剂，润滑剂，着色颜料和/或类似物。

该保护层中的粘结剂树脂可根据需要不受限制的适当选择。例如，树脂优选是热固性树脂，紫外线(UV)固化树脂，电子束固化树脂等等。其中优选紫外线(UV)固化树脂和热固性树脂。

UV固化树脂在固化后可以形成非常硬的膜，可以减少表面的物理性接触引起的损坏，或者激光加热引起的变形。因此，可以获得重复耐久性高的热可逆记录介质。

热固性树脂虽然略逊于UV固化树脂，但其可以使表面硬化，也有很好的重复耐久性。

UV固化树脂可根据需求从已知的UV固化树脂中不受限制地加以选择。其实例包括基于氨基甲酸酯丙烯酸酯，环氧丙烯酸酯，聚酯丙烯酸酯，聚醚丙烯酸酯，乙烯类和不饱和聚酯的低聚物；和诸如单官能团和多官能团丙烯酸酯，甲基丙烯酸酯，乙烯基酯，乙烯衍生物和烯丙基化合物。其中，优选四个以上官能团的单体和低聚物。混合两个以上上述单体和低聚物，可以适度调节该树脂膜的硬度，收缩性，柔韧性，膜强度等等。

为了通过紫外线固化所述单体或低聚物，有必要使用光聚合引发剂和/或光聚合加速剂。相对于该保护层中的树脂化合物的总质量，该光聚合引发剂和光聚合加速剂的加入量优选为0.1％-20％(质量上)，更优选1％-10％(质量上)。

紫外线照射以固化该紫外线固化树脂可采用已知的紫外线照射器进行，其实例包括配备有光源，灯具，动力，冷却单元，传输单元等的紫外线照射器。

所述光源的实例包括汞灯，金属卤化物灯，钾灯，汞-氙灯和闪光灯。该光源的波长可根据热可逆记录介质中添加的所述光聚合引发剂和/或光聚合加速剂所吸收的紫外线波长来进行选择。

紫外线照射条件可根据需要不受限制的适当选择。例如，根据交联树脂所需照射能量，确定灯的输出，传输速度等是可取的。

为了实现足够的传输能力，可添加含有聚合物的硅或硅接枝聚合物；诸如蜡或硬脂酸锌的脱模剂；和/或诸如硅油的润滑剂。其中任一种物质的添加量相对于保护层中的树脂成分总质量优选是0.01％-50％(质量上)；更优选0.1％-40％(质量上)。上述每种成分可以单独使用，也可两种以上组合使用。为了防止静电，优选使用导电填充物，更优选使用针式导电填充物。

所述填充物的粒径没有特别限制，例如，优选0.01-10.0μm，更优选0.05-8μm。

填充物的添加量没有特别限制，相对于1质量份树脂，优选添加0.001-2质量份的填充物；更优选0.005-1质量份填充物。

要指出的是，该保护层中还可以包含传统公知的表面活性剂，流平剂，抗静电剂和/或类似物作为添加剂。上述热固性树脂并无特别限定，比如采用和该热可逆记录层中的粘结剂树脂相同或相似的树脂。

上述热固型树脂最好是交联的。从而，对于热固性树脂来说，优选地使用具有与固化剂反应的基团，比如羟基，氨基或羧基，且羟基聚合物是特别优选的。为了提高含紫外线吸收结构的聚合物的层的强度，可通过利用羟值为10mgKOH/g以上的聚合物来实现足够的膜强度。更优选的使用30mgKOH/g或更大羟值的聚合物，仍更优选的使用40mgKOH/g或更大羟值的聚合物。作为如此具有足够膜强度的该保护层的结果，即便反复进行图像擦除和记录，也可以降低热可逆记录介质的退化。

上述固化剂并无特别限制，例如适当地使用与热可逆记录介质中所用的固化剂相同或类似的固化物。

对于用于保护层涂布溶液的溶剂、涂布液分散设备，保护层的涂布方法，干燥方法等，用于上述记录层的那些已知的都可以使用。当使用紫外线固化树脂时，在涂布和干燥后需要采用紫外线照射进行固化的步骤，在该情况下，紫外线照射器，光源，照射条件等如上所述。

该保护层厚度没有特别限制，但优选0.1μm-20μm，特别优选0.5μm-10μm，更优选1.5μm-6μm。当厚度小于0.1μm时，该保护层就无法起到充分保护热可逆记录介质的作用，热可逆记录介质会通过反复加热而容易退化，就不可能反复使用。当厚度大于20μm时，就无法向保护层下的热敏部分传递足够热量，进而无法充分通过加热进行图像记录和图像擦除。

-紫外线吸收层-

该紫外线吸收层优选设置成该紫外线吸收层相对于热可逆记录层在与支撑元件相对的一侧上，以避免热可逆记录层中包含的无色染料通过紫外线进行着色或光退化形成的残留物。利用该紫外线吸收层，提高了记录介质的耐光性。优选地，该紫外线吸收层的厚度适当选择以吸收具有390nm或更小波长的紫外线。

该紫外线吸收层含有至少粘结剂树脂和紫外线吸收剂，如果需要的话，还可以含有诸如填料，润滑剂，着色颜料和/或其他类似物的组分(S)。

该粘结剂树脂可根据需要不受限制的适当选择。热可逆记录层中使用的粘结剂树脂或者诸如热塑性树脂或热固性树脂等树脂组分可用作粘结剂树脂。上述树脂组分的实例包括：聚乙烯，聚丙烯，聚苯乙烯，聚乙烯醇，聚乙烯醇缩丁醛，聚氨酯，饱和聚酯，不饱和聚酯，环氧树脂，酚醛树脂，聚碳酸酯和聚酰胺。

所述紫外线吸收剂没有特别限制，可以是有机化合物或无机化合物。

此外，优选使用具有紫外线吸收结构的聚合物(下文中简称为“紫外线吸收聚合物”)作为紫外线吸收剂。

此处，具有紫外线吸收结构的聚合物是指聚合物在其分子中具有紫外线吸收结构(例如，紫外线吸收基团)。紫外线吸收结构的实例包括：水杨酸酯结构，氰基丙烯酸酯结构，苯并三唑结构和二苯甲酮结构。其中优选苯并三唑结构和二苯甲酮结构，因为它们吸收波长为340nm-400nm的紫外线，而该波长范围的紫外线是造成无色染料劣化的其中一个因素。

该紫外线吸收聚合物并无特别限制，但最好是交联的。因此，优选具有与固化剂反应的基团的聚合物作为紫外线吸收聚合物，如羟基，氨基，羧基。具有羟基的聚合物是特别优选的。为了提高包含具有紫外线吸收结构的聚合物的层的物理强度，可通过使用羟值为10mgKOH/g或以上的聚合物来实现足够的膜强度。30mgKOH/g或更大羟值的聚合物是优选的，40mgKOH/g或更大羟值的聚合物是更优选的。通过如此提供足够的膜强度后，即便反复进行图像擦除和记录，也可以降低热可逆记录介质的退化。

该紫外线吸收层的厚度没有特别限制，优选为0.1μm-30μm，更优选为0.5μm-20μm。对于用于紫外线吸收层涂布溶液的溶剂，用于涂布溶液的分散设备，紫外线吸收层的涂布方法，紫外线吸收层的干燥和固化方法等，可以使用用于热可逆记录层的那些。

-中间层-

为了提高热可逆记录层和保护层之间的粘合力，避免由涂布保护层引起的记录层品质的变化，避免保护层中的添加剂渗入记录层中，优选在热可逆记录层和保护层之间设中间层。这可以提高保持颜色形成图像的保持质量。

该中间层至少包含粘结剂树脂，还可以根据需要包含另一成分(S)，如填料，润滑剂和/或着色颜料。

粘结剂树脂可根据需要无限制地加以适当选择。对于粘结剂树脂，用于热可逆记录层的粘结剂树脂或诸如热塑性树脂或热固性树脂等树脂组分可用。上述树脂组分的实例包括：聚乙烯，聚丙烯，聚苯乙烯，聚乙烯醇，聚乙烯醇缩丁醛，聚氨酯，饱和聚酯，不饱和聚酯，环氧树脂，酚醛树脂，聚碳酸酯和聚酰胺。

该中间层优选含有紫外线吸收剂，对于紫外线吸收剂，可以使用无机化合物和有机化合物中任一种。

也可以使用紫外线吸收聚合物，其通过交联剂固化。作为这些化合物，可使用与保护层中所用的相同或相似的化合物。

该中间层的厚度并无特别限制，优选是0.1μm-20μm，更优选是0.5μm-5μm。就该中间层的涂布溶液的溶剂、涂布液分散设备，紫外线吸收层的涂布方法，干燥和固化方法等，可以使用公知的且用于热可逆记录层的那些。

-基底层-

为了有效利用所施加的热量以实现高灵敏度，提高支撑元件和热可逆记录层之间的粘合力，和/或防止记录层材料渗入支撑元件里，优选在热可逆记录层和支撑元件之间设置基底层。

该基底层至少含有中空颗粒，也包含粘结剂树脂，还可根据需要含有其他化合物(S)。

该中空颗粒并无特别限制，中空颗粒的实例包括每个颗粒只有一个空心部的单中空颗粒，或每个颗粒有多个空心部的多空心颗粒。所述中空颗粒可单独使用或两种以上组合使用。

该中空颗粒的材料可根据需要不受任何限制的适当选择，其适当的实例包括热塑性树脂。作为中空颗粒，可以使用适当形成的中空颗粒或者可以使用市售产品。市售产品的实例包括：MICROSPHERER-300(Matsμmotoyushi-SeiyakuCo.，Ltd生产)；ROPAQUEHP1055和ROPAQUEHP433J(均由Zeoncorporation生产)；以及SX866(JSRCorporation生产)。

该基底层内的中空颗粒的添加量可根据需要不受任何限制的加以适当选择。例如，中空颗粒的添加量优选10％(质量)-80％(质量)。

该粘结剂树脂没有特别的限制。可以使用与用于热可逆记录层中用的树脂或包含具有紫外吸收结构的聚合物的层中所用的树脂相同或类似的树脂。

该基底层可以包含各种有机填料和无机填料中的至少一种，该无机填料如碳酸钙，镁的碳酸盐，钛氧化物，硅氧化物，氢氧化铝，高岭土和滑石。

要指出的是，该基底层还包括润滑剂，表面活性剂，分散剂，和/或类似物。

该基底层的厚度可根据需要不受任何限制的加以适当选择。但优选在0.1μm-50μm的范围内，更优选在2μm-30μm的范围内，仍更优选在12-24μm的范围内。

-背面层-

为了防止热可逆记录介质卷曲和生成静电并提高传输能力，优选在支撑元件与形成热可逆记录层的表面相对的表面上设置背面层。

该背面层至少含有粘结剂树脂，还可根据需要含有其他化合物(S)，如填料，导电填料，润滑剂，和/或着色颜料。

该粘结剂树脂可根据需要不受任何限制的选择，如热固性树脂，紫外线(UV)固化树脂，电子束固化树脂等。其中，紫外线(UV)固化树脂和热固性树脂是特别优选的。

对于紫外线固化树脂，热固性树脂，填料，导电填料和润滑剂，可以适当使用与热可逆记录层和保护层中所用的相同或类似的材料。

-粘结剂层或胶粘层-

通过在支撑元件的与形成记录层的表面相反的表面上提供粘结剂层或胶粘层，该热可逆记录介质可以制造为热可逆记录标签(如，上述可重写标签RL)。。该粘结剂层或胶粘层的材料不受任何限制地从常规使用的材料中选择。

该粘结剂层或胶粘层的材料可根据需要不受任何限制的加以选择。其实例包括：尿素树脂，蜜胺树脂，酚醛树脂，环氧树脂，乙烯基乙酸乙烯酯树脂，乙酸乙烯酯-丙烯酸类聚合物，乙烯-醋酸乙烯聚合物，丙烯酸树脂，聚乙烯醚树脂，氯乙烯-乙酸乙烯酯聚合物，聚苯乙烯树脂，聚酯树脂，聚氨酯树脂，聚酰胺树脂，氯化聚烯烃树脂，聚乙烯醇缩丁醛树脂，丙烯酸类羟酸酯聚合物，甲基丙烯酸酯聚合物，天然橡胶，氰基丙烯酸酯树脂，硅树脂和类似物。

该粘结剂层或胶粘层的材料没有特别的限制，可以是热溶性材料。脱模纸使用不使用皆可。通过该粘结剂层或胶粘层，热可逆记录标签可以粘贴到厚衬底的整个表面或其中部分表面，所述厚衬底可以是很难被涂布记录层的氯乙烯磁条卡。这样可以使这种介质更方便使用，例如显示存储在磁条卡中磁存储的部分信息。设有这种粘结剂层或胶粘层的热可逆记录标签，也可以用于各种厚的卡片，例如IC卡和光学卡。

为了提高能见度，可在该热可逆记录介质中的支撑元件和记录层之间设置成色层(coloringlayer)。该成色层通过以下方式形成：向目标表面施加包含着色剂和树脂粘结剂的溶液或流体分散液，然后干燥该溶液或流体分散液。可选的，也可简单通过向目标表面粘贴成色片形成该成色层。

上述热可逆记录介质还可以设置有彩色打印层。具体地，该彩色打印层中的成色剂例如可选自各种染料，颜料以及传统全色印刷使用的彩色油墨中包含的那些。该树脂粘结剂的实例包括各种热塑性，热固性，紫外线固化和电子束固化的树脂。该彩色打印层的厚度取决于理想的打印颜色密度而变化。从而，该彩色打印层的厚度可基于理想的打印颜色密度而选择，而不受任何其他限制。

该热可逆记录介质并无特别限定，并且可以和不可逆记录层共同使用。这种情况下，从颜色形成所获得的各记录层的色调可以相同，也可不同。同时，已经通过以下方式打印有任何图像或其他类似形式的着色层可以提供在上述热可逆记录介质的与记录层所形成的相同表面的整个或一部分上，或可以设置在其相对表面的一部分上，所述图像打印方式为：胶印，凹印等印刷工艺或采用喷墨打印机，热转移打印机，升华打印机等印刷设备。进一步的，可在着色层的整个表面或部分表面上设置主要由固化性树脂组成的套印清漆层(清漆层)。上述图像的实例包括字母，文字，图案，图表，照片以及供紫外线检测的信息。进一步地，更简单的，该热可逆记录介质任何相应层可通过加入染料或颜料成色。

另外，为了安全，上述热可逆记录介质可利用全息图提供。为了提高设计，也可以o通过以浮雕或凹雕形成凹陷和突起，而在其上设置诸如肖像，公司徽章或标志的设计。

该热可逆记录介质可根据用途制成所需形状，例如卡型，标签，标记，片型和辊型。卡片型热可逆记录介质可用于预付卡，打折卡，信贷卡等。比卡型的尺寸要小的标签型热可逆记录介质，可用于价格标签等。比卡型的尺寸要大的标签型热可逆记录介质可用于票据、航运流程管理及说明的表单等。标记型的热可逆记录介质可粘贴使用，其包含各种尺寸。例如，其可粘贴于车子，容器，箱子，集装箱等，重复使用，用于生产控制，产品控制等方面。具体地，片型热可逆记录介质的尺寸大于卡型介质，可提供形成图像的更大区域，因此可用于一般文档、过程控制的指令表格等。

-热可逆记录介质与RFID的组合例-

通过在同一张卡或标签(从而形成一个单独单元)中设置能够可逆显示的上述热可逆记录层和信息存储部件，使得上述热可逆记录介质特别方便使用，还可在记录层上显示信息存储部件中的部分信息，这样不需借助特制工具，只要简单浏览下卡片或标签就可以确认信息。如果信息存储部件中存储的信息是可重写的，还可以通过重写可逆记录部分上显示的信息，可以根据需要多次反复使用该热可逆记录介质。

从而，根据各实施例，可以提供一种激光可重写设备，无论其位于传输路径的任意一侧，均可充分发挥性能。

从而，该激光可重写设备已通过上述实施例进行了描述。但本发明并不局限于上述实施例，在不背离本发明的范围的前提下可以做出变化和修改。例如，根据上述第一、第二、第三和第四实施例一～四，通过图像擦除设备14的擦除操作和通过图像记录设备16的记录操作都是在容器C已经处于静止的状态下进行的。但是，至少图像擦除或图像记录其中一种可以在容器C在被传输的同时进行。但考虑到滚轴传输器RC中发生的振动对记录操作的影响，优选在容器C静止的状态下由图像记录设备16进行记录操作。从而避免所记录图像质量的下降。

在上述第一、第二、第三和第四实施例中，通过图像擦除设备14的擦除操作和通过图像记录设备16的记录操作时并行进行的。但通过图像擦除设备14的擦除操作和通过图像记录设备16的记录操作也可以按顺序单独进行。

在上述第一、第二、第三和第四实施例中，为了在可重写标签RL上记录高质量和持久性强的图像，至少设置下列任一种：用于检测可重写标签RL或环境温度的温度传感器，用于检测每个光发射孔与可重写标签之间距离的距离传感器。在这种情况下，基于上述传感器的检测结果，激光输出，扫描速度和光束直径中的至少一个被控制，向可重写标签RL照射激光。

上述第一、第二、第三和第四实施例中，所述图像擦除设备14和图像记录设备16中的光学系统OC1和OC2只是一个示例，各实施例并不限于该结构。比如，包括在所述光学系统中的多个光学元件的排列不限于上述那些。再者，尽管采用了检流计反射镜装置作为偏转装置，也可以用多角镜装置，步进电机反射镜装置等作为替代。

在上述第一、第二、第三和第四实施例中，所述图像擦除设备14和图像记录设备16的每一个中的各光发射孔设在对应外罩的两相邻侧壁的其中一个上(+Y侧或-Y侧的侧壁)。但各实施例并不限于该结构。比如，至少所述图像擦除设备14或图像记录设备16的光发射孔设置在跨过对应外罩的两相邻侧壁(例如+Y侧或-Y侧的侧壁，以及+X侧或-X侧的侧壁)之间的边界延伸的区域，即设置在外罩的拐角上。

在上述第一、第二、第三和第四实施例中，传输方向为+X方向。但即使传输方向在+X方向和-X方向之间切换，根据本发明的实施例的激光可重写设备可以提供与上述第一、第二、第三和第四实施例中同样或类似的技术效果。即，比如，在该激光可重写设备设于传输单元10的-Y侧的状态下，在传输方向为-X方向的情况下，这种状态与上述第二布局相同。再者，在该激光可重写设备设于传输单元10的+Y侧的状态下，传输方向为-X方向的情况下，这种状态和上述第二布局相同。

本发明基于2011年12月5日提交的日本优先权申请NO.2011-265372，其整个内容通过引用结合于此。

Claims (10)

1.一种激光可重写设备，其位于传输路径的一侧或另一侧上，其上附着有热可逆记录介质的待传输物体按预定传输方向通过该传输路径传输，该激光可重写设备向该热可逆记录介质发射激光并重写图像，所述激光可重写设备包括：

图像擦除设备，该图像擦除设备向已记录图像的热可逆记录介质发射激光并擦除该图像，该图像擦除设备中的光学系统在平面图中布置成U形；以及

图像记录设备，该图像记录设备位于所述图像擦除设备的预定传输方向的下游，通过向其上图像已经被图像擦除设备擦除的热可逆记录介质照射激光来记录新图像，该图像记录设备中的光学系统在平面图中布置成L形；

其中，该图像擦除设备和图像记录设备在预定传输方向的相同侧的端部处具有相应的激光发射部，激光通过该激光发射部发射，

其中，该图像记录设备的中心与图像记录设备的激光发射部的中心之间相对于预定传输方向的距离等于所述图像擦除设备的中心与该图像擦除设备的激激光发射部的中心之间相对于预定传输方向的距离。

2.如权利要求1中所述的激光可重写设备，其中：

该图像擦除设备和图像记录设备具有相应的外罩；

该图像擦除设备的激光发射部设于该图像擦除设备的外罩上、在预定传输方向的上游侧的端部处；

该图像记录设备的激光发射部设于该图像记录设备的外罩上、在预定传输方向的上游侧的端部处。

3.如权利要求1所述的激光可重写设备，其中：

该图像擦除设备和图像记录设备具有相应的外罩；

该图像擦除设备的激光发射部设于该图像擦除设备的外罩上、在预定传输方向的下游侧的端部处；

该图像记录设备的激光发射部设于该图像记录设备的外罩上，在预定传输方向的下游侧的端部处。

4.如权利要求1～3中任一项所述的激光可重写设备，其中：

该图像擦除设备和图像记录设备彼此靠近地布置。

5.如权利要求1～3中任一项所述的激光可重写设备，其中：

该图像擦除设备沿预定传输方向的最上游侧的边缘与该图像记录设备沿预定传输方向的最下游侧的边缘之间的距离小于待传输物品沿预定传输方向的长度的2倍。

6.如权利要求1～3中任一项所述的激光可重写设备，其中：

该图像擦除设备的激光发射部的预定传输方向的最上游侧边缘与该图像记录设备的激光发射部的预定传输方向的最下游侧的边缘之间的距离大于待传输物品的预定传输方向的长度。

7.如权利要求1～3中任一项所述的激光可重写设备，其中：

该图像擦除设备和图像记录设备分别具有发出激光的光源以及将该光源发出的激光引导至激光发射部的光学系统。

8.如权利要求7所述的激光可重写设备，其中：

该图像擦除设备和图像记录设备分别具有容纳相应光学系统的外罩，各外罩具有两个邻近的侧壁；且

至少该图像擦除设备或图像记录设备的激光发射部设于所述两个邻近侧壁中的一个上。

9.如权利要求8所述的激光可重写设备，其中：

至少该图像擦除设备或图像记录设备的光源包括半导体激光器。

10.如权利要求1～3中任一项所述的激光可重写设备，其中：

该热可逆记录介质包括：

支撑元件；和

热可逆记录层，该热可逆记录层设置于该支撑元件上，包括吸收特定波长的光并将光转化成热量的光热转化材料、无色染料和可逆性显影剂，该热可逆记录层具有根据温度可逆变化的色调。