CN103543607A - 有机el元件、感射线性树脂组合物以及固化膜 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种具备有所希望形状的堤层、保护膜等构成要素的有机EL元件、感射线性树脂组合物以及固化膜。有机EL显示元件1具有：基板2；基板2上的TFT3；将TFT3覆盖的保护膜10；保护膜10上的阳极11；配置于阳极11上的有机发光层14；将有机发光层14的配置区域进行规定的堤层13；配置于有机发光层14之上的阴极15。保护膜10以及堤层13中至少之一以固化膜的方式构成，包含：树脂；以及具有醌二叠氮化物结构的化合物和具有茚羧酸结构的化合物中至少之一，具有优异的图案化性，所述固化膜是通过使用包含树脂和具有醌二叠氮化物结构的化合物的感射线性树脂组合物而形成的固化膜。

Description

有机EL元件、感射线性树脂组合物以及固化膜

技术领域

本发明涉及有机EL(电致发光)元件、感射线性树脂组合物以及固化膜。

背景技术

有机EL元件是利用有机化合物产生的电致发光而得到的元件，用作有机EL显示元件和有机EL照明等。

例如，有机EL显示元件是利用有机化合物的电致发光而得到的自发光型的显示元件，不需要背光源，可进行广视角并且高速响应的图像显示。而且耗电低，具有薄型、轻量等优异的特征。

鉴于这些特征，近年来大力地推进着有机EL显示元件和有机EL照明的开发。

作为有机EL元件的有机EL显示元件的结构的特征在于，具有阳极和阴极、以及配置于这两极之间的有机发光层。有机发光层因形成于两极间的电场而发光，大致划分为使用低分子类材料作为构成材料的有机发光层、使用高分子类材料作为构成材料的有机发光层。

使用了低分子类材料的有机发光层大多通过利用了真空蒸镀法等的干式工艺而形成。另一方面，使用了高分子类材料的有机发光层例如可通过使用喷墨法等技术将包含有机发光材料和溶剂的发光材料组合物涂布于显示元件所具有的多个像素的每个像素，进行干燥从而形成。在利用了喷墨法的情况下，可显著提高所涂布的发光材料组合物的使用效率。而且，使用高分子类材料而形成的有机发光层的有机EL显示元件具备如下特征：可以以较低电压进行驱动，耗电少，容易应对于大屏幕化等等。

通过喷墨法等涂布法形成有机发光层的情况下，要求发光材料组合物不浸入相邻的发出其它颜色的光的像素。

已知有如下技术：为了使发光材料组合物不浸入相邻的发出其它颜色的光的像素，因而形成分隔壁(以下称为堤层(バンク))，将包含有机发光材料的发光材料组合物滴加于由该堤层规定出的区域内(例如参照专利文献1及专利文献2)。堤层可通过使用聚酰亚胺树脂、丙烯酸类树脂等材料，形成为例如格子状。通过准确地将发光材料组合物涂布于由该堤层规定出的区域内，可防止发光材料组合物浸入相邻的发出其它颜色的光的像素。

图2为模式地表示以往的有机EL显示元件的主要部分的结构的剖视图。

如图2所示那样，以往的有源矩阵型的有机EL显示元件100中，例如，在使用无碱玻璃等而得到的基板102上矩阵状地形成出的多个像素的每个像素上，配置有作为有源元件的薄膜晶体管(TFT)103。TFT103通过在基板102上具有栅极104、栅极绝缘膜105、半导体层106、第1源-漏极电极107、第2源-漏极电极108而构成。

然后，按照从上方覆盖TFT103的方式配设保护膜110，保护形成了TFT103的基板面。对于保护膜110，要求具有将形成了TFT103的基板面进行平整化的功能。在该保护膜110之上，配置形成像素电极的阳极111。在保护膜110中形成了通孔112，阳极111通过通孔112与TFT103的第2源-漏极电极108连接。保护膜110可由氧化硅膜形成(参照专利文献3)。

在TFT103的上方，形成成为障碍壁的堤层113，在该堤层113中规定的区域配置了有机发光层114。堤层113将有机发光层114的周围包围，将相互相邻的各像素区划。然后，将有机发光层114覆盖、将像素区划用的堤层113覆盖地形成阴极115。阴极115通过将多个像素共通地覆盖而形成，形成共通电极。在阴极115上设置有钝化膜116。关于这样构成出的基板102的配置着有机发光层114的主表面，通过使用涂布于外周端部附近的密封剂(未图示)，通过封口层117，利用例如使用无碱玻璃而得到的封口基板120而封口。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2006-004743号公报

专利文献2：日本特开2010-282899号公报

专利文献3：日本特开2008-15293号公报

发明内容

发明要解决的问题

以上的结构的有机EL显示元件中，堤层按照将有机发光层的形成区域进行规定的方式而设置。因此，对于堤层，要求充分确保有机发光层的有效的面积，另外，按照有机发光层的形状在各像素间为均匀的方式将有机发光层的形成区域进行规定。因此，需要堤层具备受控制的均匀的形状。具体要求，堤层的线宽狭窄、均匀并且没有偏差，其结果，在边缘部分的形状中没有产生间隙。

另外，要求有机EL显示元件的保护膜具有平整化的功能，并且要求具有形成所希望形状的通孔而配置的功能。即，对于保护膜，要求其实现受控制的形状，要求其具有均匀的通孔。通过实现这些要求，可使有机EL显示元件实现阳极与TFT的高信赖的连接，并且增大在像素内有效的发光区域。

因此，在有机EL显示元件中，特别是对于堤层、保护膜等构成要素，强烈要求着优异的形状控制。即，在有机EL元件中，特别是对于堤层、保护膜等构成要素，强烈要求着优异的形状控制。

本发明鉴于以上那样的问题而开发。即，本发明的目的在于提供有机EL元件，该有机EL元件具备有具有所希望的形状的保护膜。另外，本发明的目的在于提供有机EL元件，该有机EL元件具备有：具有所希望的形状的保护膜。而且特别是，本发明的目的在于提供一种有机EL显示元件，其具备有：具有所希望的形状的堤层、保护膜等；具有所希望的形状的构成要素。

另外，本发明的目的在于提供感射线性树脂组合物，该感射线性树脂组合物用于形成有机EL元件的所希望的形状的保护膜。而且，本发明的目的在于提供感射线性树脂组合物，该感射线性树脂组合物用于形成所希望的形状的堤层。

特别是，本发明的目的在于提供用于形成有机EL显示元件所希望的形状的堤层的感射线性树脂组合物以及用于形成所希望的形状的保护膜的感射线性树脂组合物。

进一步，本发明的目的在于提供形成有机EL元件所希望的形状的保护膜的固化膜以及形成所希望的形状的堤层的固化膜。

特别是，本发明的目的在于提供形成有机EL显示元件所希望的形状的堤层的固化膜以及形成所希望的形状的保护膜的固化膜。

用于解决问题的方案

本发明的第1实施方式涉及一种有机EL元件，其具有：基板；配置于该基板上的有源元件；将有源元件覆盖的保护膜；配置于保护膜上的第1电极；以及配置于第1电极上的有机发光层；配置于有机发光层之上的第2电极，其特征在于，

保护膜包含：第1树脂；以及具有醌二叠氮化物结构的化合物和具有茚羧酸结构的化合物中至少之一。

本发明的第1实施方式中，优选的是保护膜具有通孔，第1电极按照通过该通孔与有源元件连接的方式而构成。

本发明的第1实施方式中，第1树脂优选包含从由具有羧基的丙烯酸类树脂、聚酰亚胺树脂、聚硅氧烷以及酚醛清漆树脂构成的群组中选出的至少一种。

本发明的第1实施方式中，保护膜优选包含紫外线吸收剂。

本发明的第1实施方式中，紫外线吸收剂优选包含从由下述通式(1)以及下述通式(2)所示的化合物构成的群组中选出的一种。

【化学式1】

【化学式2】

式(1)以及式(2)中，R¹～R¹⁵各自独立地表示氢、碳原子数1～20的烷基、碳原子数1～20的烷氧基、碳原子数1～20的苯酰氧基(ベンゾイロキシ基)或者羟基。

本发明的第1实施方式中，优选在有源元件之上具有堤层，该堤层按照将有机发光层的配置区域进行规定的方式设置。

本发明的第1实施方式中，堤层优选包含：第2树脂；以及具有醌二叠氮化物结构的化合物和具有茚羧酸结构的化合物中至少之一。

本发明的第1实施方式中，第2树脂优选包含从由具有羧基的丙烯酸类树脂、聚酰亚胺树脂、聚硅氧烷以及酚醛清漆树脂构成的群组中选出的至少一种。

本发明的第1实施方式中，堤层优选包含紫外线吸收剂。

本发明的第1实施方式中，紫外线吸收剂优选包含从由下述通式(1)以及下述通式(2)所示的化合物构成的群组中选出的一种。

【化学式3】

【化学式4】

式(1)以及式(2)中，R¹～R¹⁵各自独立地表示氢、碳原子数1～20的烷基、碳原子数1～20的烷氧基、碳原子数1～20的苯酰氧基或者羟基。

本发明的第2实施方式涉及一种有机EL元件，其具有：基板；配置于该基板上的有源元件；连接于有源元件的第1电极；配置于第1电极上的有机发光层；堤层，该堤层设置于有源元件之上并且将有机发光层的配置区域进行规定；以及配置于有机发光层之上的第2电极，其特征在于，

堤层包含：树脂；以及具有醌二叠氮化物结构的化合物和具有茚羧酸结构的化合物中至少之一。

本发明的第2实施方式中，树脂优选包含从由具有羧基的丙烯酸类树脂、聚酰亚胺树脂、聚硅氧烷以及酚醛清漆树脂构成的群组中选出的至少一种。

本发明的第2实施方式中，堤层优选包含紫外线吸收剂。

本发明的第2实施方式中，紫外线吸收剂优选包含从由下述通式(1)以及下述通式(2)所示的化合物构成的群组中选出的一种。

【化学式5】

【化学式6】

式(1)以及式(2)中，R¹～R¹⁵各自独立地表示氢、碳原子数1～20的烷基、碳原子数1～20的烷氧基、碳原子数1～20的苯酰氧基或者羟基。

本发明的第2实施方式中，优选的是，在有源元件之上具有将该有源元件覆盖的保护膜，第1电极按照配置于保护膜上并且通过设置于该保护膜的通孔连接于有源元件的方式构成。

本发明的第1实施方式以及本发明的第2实施方式中，有源元件优选通过具有半导体层而构成，半导体层优选通过使用硅(Si)而构成。

本发明的第1实施方式以及本发明的第2实施方式中，有源元件优选通过具有半导体层而构成，半导体层优选通过使用包含铟(In)、锌(Zn)以及锡(Sn)中的至少一种而构成的氧化物而形成。

本发明的第1实施方式以及本发明的第2实施方式中，半导体层优选为通过使用氧化锌(ZnO)、氧化铟镓锌(IGZO)、氧化锌锡(ZTO)以及氧化铟锌(IZO)之中的至少一种而形成。

本发明的第3实施方式涉及一种感射线性树脂组合物，其用于形成本发明的第1实施方式的有机EL元件的保护膜，其特征在于，包含树脂和具有醌二叠氮化物结构的化合物。

本发明的第4实施方式涉及一种感射线性树脂组合物，其用于形成本发明的第2实施方式的有机EL元件的堤层，其特征在于，包含树脂和具有醌二叠氮化物结构的化合物。

本发明的第4实施方式中，有机EL元件优选有源元件具有半导体层而构成，半导体层优选为通过使用包含铟(In)、锌(Zn)以及锡(Sn)之中的至少一种而构成的氧化物而形成。

本发明的第5实施方式涉及一种固化膜，其特征在于，通过使用本发明的第3实施方式的感射线性树脂组合物而形成，构成有机EL元件的保护膜。

本发明的第6实施方式涉及一种固化膜，其特征在于，通过使用本发明的第4实施方式的感射线性树脂组合物而形成，构成有机EL元件的堤层。

发明的效果

根据本发明的第1实施方式，可获得有机EL元件，该有机EL元件具备所希望形状的堤层、保护膜等的具有所希望的形状的构成要素。

根据本发明的第2实施方式，可获得有机EL元件，该有机EL元件具备所希望形状的堤层等的具有所希望的形状的构成要素。

根据本发明的第3实施方式，可获得感射线性树脂组合物，该感射线性树脂组合物用于形成有机EL元件的所希望形状的保护膜。

根据本发明的第4实施方式，可获得感射线性树脂组合物，该感射线性树脂组合物用于形成有机EL元件的所希望形状的堤层。

根据本发明的第5实施方式，可获得固化膜，该固化膜形成有机EL元件的所希望形状的保护膜。

根据本发明的第6实施方式，可获得固化膜，该固化膜形成有机EL元件的所希望形状的堤层。

附图说明

图1：模式地说明本实施方式的有机EL显示元件的主要部分的结构的剖视图。

图2：模式地表示现有的有机EL显示元件的主要部分的结构的剖视图。

具体实施方式

以下，一边适当参照附图一边说明本发明的实施方式。

又，在本发明中，曝光时照射的“射线”是指包含可见光线、紫外线、远紫外线、X射线、带电粒子线等的概念。

＜有机EL显示元件＞

作为本发明的有机EL元件，对本发明的有机EL显示元件进行说明。

即，使用附图而对本发明的实施方式的有机EL显示元件进行说明。

图1为模式地说明本实施方式的有机EL显示元件的主要部分的结构的剖视图。

本实施方式的有机EL显示元件1是矩阵状地形成具有多个像素的有源矩阵型的有机EL显示元件。有机EL显示元件1可以是顶部发光型、底部发光型中的任一种。有机EL显示元件1中，在基板2上的各像素部分上配置有作为有源元件的薄膜晶体管(以下，也称为TFT)3。

关于有机EL显示元件1的基板2，有机EL显示元件1为底部发光型的情况下，要求基板2透明，因此作为基板2的材料的例子，可使用PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)、PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯)、PI(聚酰亚胺)等透明树脂或无碱玻璃等玻璃等。另一方面，有机EL显示元件1为顶部发光型的情况下，基板2不需要为透明，因而可使用任意的绝缘体作为基板2的材料。也可与底部发光型同样，使用无碱玻璃等玻璃材料。

TFT3通过在基板2上具有如下部件而构成：形成扫描信号线(未图示)的一部分的栅极4；将栅极4覆盖的栅极绝缘膜5；在栅极4上通过栅极绝缘膜5而配置的半导体层6；形成影像信号线(未图示)的一部分而连接于半导体层6的第1源-漏极电极7；连接于半导体层6的第2源-漏极电极8。

栅极4可通过蒸镀法、溅射法等在基板2上形成金属薄膜，进行使用了蚀刻工艺的图案化从而形成。另外，也可通过将金属氧化物导电膜或者有机导电膜进行图案化而使用。

作为构成栅极4的金属薄膜的材料，例如可列举出铝(Al)、铜(Cu)、钼(Mo)、铬(Cr)、钽(Ta)、钛(Ti)、金(Au)、钨(W)以及银(Ag)等金属；这些金属的合金；以及Al-Nd以及APC合金(银、钯、铜的合金)等合金。而且，作为金属薄膜，也可使用Al与Mo的层叠膜等的包含不同材料的层的层叠膜。

作为构成栅极4的金属氧化物导电膜的材料，可列举出氧化锡、氧化锌、氧化铟、ITO(掺铟氧化锡)以及氧化锌铟(IZO)等的金属氧化物导电膜。

另外，作为有机导电膜的材料，可列举出聚苯胺、聚噻吩以及聚吡咯等导电性的有机化合物，或者它们的混合物。

栅极4的厚度优选设为10nm～1000nm。

按照覆盖栅极4的方式配置的栅极绝缘膜5可通过溅射法、CVD法、蒸镀法等而成膜出氧化膜、氮化膜从而形成。栅极绝缘膜5例如可通过使用SiO₂等金属氧化物或SiN等金属氮化物，将它们单独使用或者层叠而形成。另外，也可由高分子材料等有机材料构成。栅极绝缘膜5的膜厚优选为10nm～10μm，特别是在使用了金属氧化物等无机材料的情况下，优选为10nm～1000nm，在使用了有机材料的情况下优选为50nm～10μm。

关于与半导体层6连接的第1源-漏极电极7以及第2源-漏极电极8，可通过使用印刷法、涂布法、以及溅射法、CVD法、蒸镀法等方法而形成构成这些电极的导电膜，然后实施利用了光刻法等的图案化而形成。作为第1源-漏极电极7以及第2源-漏极电极8的构成材料，例如可列举出Al、Cu、Mo、Cr、Ta、Ti、Au、W以及Ag等金属；这些金属的合金；以及Al-Nd以及APC等合金。另外可列举出氧化锡、氧化锌、氧化铟、ITO、氧化铟锌(IZO)、掺杂铝的氧化锌(AZO)以及掺杂镓的氧化锌(GZO)等导电性的金属氧化物；聚苯胺、聚噻吩以及聚吡咯等导电性的有机化合物。而且，作为构成这些电极的导电膜，也可使用Ti与Al的层叠膜等的包含不同的材料的层的层叠膜。

第1源-漏极电极7以及第2源-漏极电极8的厚度优选设为10nm～1000nm。

半导体层6例如可使用通过利用准分子激光或者固相生长等将非晶质状态的a-Si(无定形硅)、或者a-Si进行结晶化而获得的p-Si(多晶硅)等硅(Si)材料从而形成。

另外，TFT3的半导体层6可通过使用氧化物而形成。作为可适用于该半导体层6的氧化物，列举出单晶氧化物、多晶氧化物、以及无定形氧化物、以及它们的混合物。作为多晶氧化物，例如可列举出氧化锌(ZnO)等。

作为可适用于半导体层6的无定形氧化物，可列举出包含铟(In)、锌(Zn)以及锡(Sn)之中的至少一种元素而构成的无定形氧化物。

作为可适用于半导体层6的无定形氧化物的具体的例子，可列举出Sn-In-Zn氧化物、In-Ga-Zn氧化物(IGZO：氧化铟镓锌)、In-Zn-Ga-Mg氧化物、Zn-Sn氧化物(ZTO：氧化锌锡)、In氧化物、Ga氧化物、In-Sn氧化物、In-Ga氧化物、In-Zn氧化物(IZO：氧化铟锌)、Zn-Ga氧化物、Sn-In-Zn氧化物等。又，以上的情况下，构成材料的组成比并不一定需要为1:1，可选择实现所希望的特性的组成比。

关于使用了无定形氧化物的半导体层6，例如，其为使用IGZO、ZTO而形成的半导体层的情况下，通过使用IGZO靶、ZTO靶，利用溅射法或蒸镀法形成那样的材料的层。而且，半导体层6通过利用光刻法等，进行基于抗蚀工艺和蚀刻工艺的图案化从而形成。使用了无定形氧化物的半导体层6的厚度优选设为1nm～1000nm。

在TFT3的半导体层6上，在使用上述的氧化物的情况下，优选在半导体层6的上部面的没有形成第1源-漏极电极7以及第2源-漏极电极8的区域，设置例如5nm～80nm厚度的由SiO₂形成的保护层(未图示)。该保护层有时也称为蚀刻停止层或者阻挡层等。

通过使用以上所例示的氧化物，可在低温形成迁移率高的半导体层6，可提供性能优异的TFT3。

而且，作为特别优选的用于形成本实施方式的半导体元件1的半导体层6的氧化物，可列举出氧化锌(ZnO)、氧化铟镓锌(IGZO)、氧化锌锡(ZTO)以及氧化铟锌(ZIO)。

通过使用这些氧化物，可在更低温形成迁移率优异的半导体层6，可使TFT3显示高ON/OFF比。

在TFT3之上，可按照将TFT3覆盖的方式设置无机绝缘膜19。无机绝缘膜19例如可通过使用SiO₂等金属氧化物、SiN等金属氮化物，将它们单独使用或者层叠而形成。无机绝缘膜19用于保护半导体层6而设置，例如防止受湿度的影响。又，在本实施方式的有机EL显示元件1中，也可制成如下结构：不设置无机绝缘膜19，在TFT3之上配置作为绝缘膜的保护膜10，该保护膜10由后述的有机材料形成。

接着，在有机EL显示元件1中，按照将基板2上的TFT3的上方覆盖的方式，在无机绝缘膜19之上配置保护膜10。该保护膜10具备将由形成于基板2上的TFT3导致的凹凸进行平整化的功能。保护膜10是使用在后面详述的本实施方式的感射线性树脂组合物而形成的绝缘性的固化膜，是使用有机材料而形成的有机绝缘膜。保护膜10优选具有作为平整化膜的优异的功能，从这一观点考虑优选厚厚地形成。例如，保护膜10可以以1μm～6μm的膜厚形成。在后面详述保护膜10的结构和形成。

在保护膜10上配置阳极11，该阳极11作为形成像素电极的第1电极。阳极11由导电性的材料形成。关于阳极11的材料，优选根据有机EL显示元件1为底部发光型或顶部发光型而选择不同特性的材料。在底部发光型的情况下，要求阳极11为透明，因而选择ITO、IZO、氧化锡等作为阳极11的材料。另一方面，有机EL显示元件1为顶部发光型的情况下，要求阳极11具有光反射性，选择APC合金(银、钯、铜的合金)、ARA(银、铷、金的合金)、MoCr(钼与铬的合金)、NiCr(镍与铬的合金)等作为阳极11的材料。阳极11的厚度优选设为100nm～500nm。

为了使配置于保护膜10上的阳极11与第2源-漏极电极8连接，在保护膜10中形成有将保护膜10贯通的通孔12。通孔12按照也将处于保护膜10的下层的无机绝缘膜19贯通的方式形成。如后面所述，保护膜10可通过使用本实施方式的感射线性树脂组合物而形成。因此，例如，可通过对感射线性树脂组合物的涂膜照射射线，形成所希望的形状的贯通孔而形成保护膜10，然后将该保护膜10作为掩模对无机绝缘膜19进行干法蚀刻，从而完成通孔12。又，在TFT3上没有配置无机绝缘膜19的结构的情况下，对保护膜10照射射线而形成的贯通孔构成通孔12。其结果，阳极11可将保护膜10的至少一部分覆盖，并且通过按照将保护膜10贯通的方式设置于保护膜10的通孔12，与连接于TFT3的第2源-漏极电极8连接。

在有机EL显示元件1中，在保护膜10上的阳极11之上形成有堤层13，该堤层13要成为将有机发光层14的配置区域进行规定的分隔壁。堤层13可将通过使用在后面详述的本实施方式的感射线性树脂组合物而形成的涂膜进行图案化，作为固化膜而制造，例如可在俯视下具有格子状的形状。在该堤层13所规定的区域内，配置有电致发光的有机发光层14。在有机EL显示元件1中，堤层13成为将有机发光层14的周围包围的障碍壁，从而将相互相邻的多个像素中的每个进行区划。

有机EL显示元件1中，堤层13的高度(堤层13的上表面与有机发光层14的配置区域中的阳极11的上表面的距离)优选为0.1μm～2μm，更优选为0.8μm～1.2μm。堤层13的高度为2μm以上的情况下，存在有堤层13的上方与封口基板20碰撞的可能。另外，堤层13的高度为0.1μm以下的情况下，存在有在由堤层13规定的区域内由喷墨法涂布的油墨状的发光材料组合物从堤层13漏出的可能。

有机EL显示元件1的堤层13可通过使用在后面详述的本实施方式的感射线性树脂组合物，对其涂膜实施图案化等从而以固化膜的方式形成。即，堤层13可通过包含树脂而构成。关于堤层13，如后面所述，由于将涂布包含有机发光材料的油墨状的发光材料组合物的区域进行规定，因而优选浸润性低的堤层13。特别是将堤层13的浸润性较低地控制的情况下，可以用氟气体将堤层13进行等离子体处理，另外，也可在形成堤层13的本实施方式的感射线性树脂组合物中含有憎液剂。等离子体处理有时会对有机EL显示元件1的其它的构成部件造成不良影响，因而存在有优选：在形成堤层13的本实施方式的感射线性树脂组合物中含有憎液剂的情况。在后面详述堤层13的形成。

在堤层13中规定的区域内，配置有通过施加电场而发光的有机发光层14。有机发光层14是包含电致发光的有机发光材料的层。

有机发光层14中所含的有机发光材料可以为低分子有机发光材料，也可以为高分子有机发光材料，但是在使用了基于喷墨法的有机发光材料的涂布法的情况下，优选为适于该方法的高分子有机发光材料。作为高分子有机发光材料，例如可选择使用聚亚苯基亚乙烯(Poly phenylene vinylene)及其衍生物、聚乙炔(Poly acetylene)及其衍生物、聚亚苯基(Poly phenylene)及其衍生物、聚对亚苯基乙烯(Poly para phenylene ethylene)及其衍生物、聚3-己基噻吩(Poly3-hexylthiophene(P3HT))及其衍生物、聚芴(Poly fluorene(PF))及其衍生物等。

有机发光层14在由堤层13规定出的区域内配置于阳极11上。有机发光层14的厚度优选为50nm～100nm。此处有机发光层14的厚度是指从阳极11上的有机发光层14的底面直到阳极11上的有机发光层14的上表面的距离。

又，也可在阳极11与有机发光层14之间配置空穴注入层及/或中间层。在阳极11与有机发光层14之间配置空穴注入层以及中间层的情况下，在阳极11上配置空穴注入层，在空穴注入层上配置中间层，然后在中间层上配置有机发光层14。另外，只要可有效率地将空穴从阳极11传递到有机发光层14，那么也可省略空穴注入层以及中间层。

在有机EL显示元件1中，将有机发光层14覆盖、将用于像素区划的堤层13覆盖而形成作为第2电极的阴极15。阴极15通过将多个像素共通地覆盖而形成，形成有机EL显示元件1的共通电极。

本实施方式的有机EL显示元件1中，在有机发光层14上具有阴极15，阴极15由导电性构件形成。关于用于形成阴极15的材料，根据有机EL显示元件1为底部发光型或顶部发光型而不同。在顶部发光型的情况下，阴极15优选为构成可见光透射性的电极的ITO电极或IZO电极等。另一方面，在有机EL显示元件1为底部发光型的情况下不需要使阴极15为可见光透射性。在该情况下，阴极15的构成材料如果具有导电性则没有特别限定，但是也可选择例如钡(Ba)、氧化钡(BaO)、铝(Al)以及包含Al的合金等。

又，在阴极15与有机发光层14之间，也可配置例如包含钡(Ba)、氟化锂(LiF)等的电子注入层。

可在阴极15之上设置钝化膜16。钝化膜16可通过使用SiN、氮化铝(AlN)等金属氮化物等，将它们单独使用或者层叠从而形成。通过钝化膜16的作用，可抑制水分和氧气向有机EL显示元件1内的浸入。

关于像这样构成的基板2的配置有有机发光层14的主表面，优选通过使用涂布于外周端部附近的密封剂(未图示)，通过封口层17，由封口基板20进行封口。封口层17可制成干燥了的氮气等的非活性气体层，或者可制成粘接剂等填充材料的层。另外，作为封口基板20，可使用无碱玻璃等玻璃基板。

又，在本实施方式的有机EL显示元件中，也可制成底部发光型，制成不设置覆盖TFT的上方的保护膜的结构。在该情况下，作为第1电极的阳极不需邻接保护膜，连接于第2源-漏极电极从而连接于TFT。而且，有机发光层配置于阳极上。此时，堤层设置于TFT之上，将有机发光层的配置区域进行规定。作为第2电极的阴极配置于有机发光层之上。

下面，更详细说明作为本实施方式的有机EL显示元件1的主要构成要素的保护膜10与堤层13、以及用于形成它们的感射线性树脂组合物。本实施方式的感射线性树脂组合物适合于形成本发明的实施方式的有机EL元件的保护膜，另外，适合于形成堤层，优选用于形成作为本发明的实施方式的有机EL显示元件1的主要构成要素的保护膜10以及堤层13。

＜保护膜＞

关于本发明的实施方式的保护膜，通过使用后述的本实施方式的感射线性树脂组成而形成，可优选作为本发明的实施方式的有机EL元件的保护膜，可优选用作上述的本实施方式的有机EL显示元件的保护膜。以下，对作为本实施方式的有机EL显示元件的主要构成部件的保护膜进行说明。

如上述那样，本实施方式的有机EL显示元件具有将基板上的TFT的上方覆盖的保护膜。本实施方式的保护膜通过包含树脂而构成从而具有绝缘性，并且具备将由基板上的TFT导致的凹凸进行平整化的功能。

而且，如上述那样，在保护膜的上层配置有阳极，按照可将处于保护膜的下层的TFT与处于上层的阳极连接的方式具有通孔而构成。

关于保护膜，为了以较高精度来实现这样的所希望的形状的通孔的形成，通过使用在此后说明的本实施方式的感射线性树脂组合物而形成。关于本实施方式的感射线性树脂组合物，按照实现其涂膜的高分辨率的图案化、可以以具有通孔等的固化膜的方式形成保护膜的方式，通过包含树脂和具有醌二叠氮化物结构的化合物而构成。该树脂优选具有碱显影性。其结果，关于保护膜，在形成有TFT的基板上涂布本实施方式的感射线性树脂组合物，进行通孔的形成等必需的图案化，然后进行加热固化从而以固化膜的方式形成。

此时，所形成的保护膜可包含树脂以及作为感射线性树脂组合物的成分的具有醌二叠氮化物结构的化合物，其结果，可实现优异的遮光性。

在半导体层使用了a-Si、p-Si等硅(Si)的TFT中，用于显示元件的情况下，大多按照光不从外部入射到半导体层的方式设置遮光手段。进一步，在使用IGZO等无定形氧化物而形成的半导体层的情况下，有时会在紫外线区域等具有吸收。因此，如日本特开2007-115902号公报中记载的那样，在将无定形氧化物用于半导体层的TFT中，在从外部照射了光时OFF时的电阻有时会降低，其结果，用作显示元件的开关元件的情况下有时无法获得充分的ON/OFF比。因此，在具有这样的TFT的有机EL显示元件的情况下，因来自外部的光的影响而导致的特性的恶化有时会成为问题。

针对于这样的以往的有机EL显示元件的问题，具有将TFT覆盖的上述保护膜的本实施方式的有机EL显示元件可在保护膜的效果的作用下实现TFT的半导体层的遮光。而且，本实施方式的有机EL显示元件可在保护膜的遮光效果的作用下减低由光的影响导致的特性的降低。包含具有这样的醌二叠氮化物结构的化合物而得到的保护膜的遮光功能，如上述那样，对于因耐光性而存在较大问题的下述的具有半导体层的TFT的有机EL显示元件而言特别有效，该具有半导体层的有机EL显示元件使用了IGZO等无定形氧化物。

此时，特别是在底部发光型的有机EL显示元件的情况下，有时会要求保护膜具有优异的可见光透射性，存在有保护膜具有遮光性从而不优选的情况。

但是，本实施方式的有机EL显示元件通过使用保护膜，该保护膜包含具有醌二叠氮化物结构的化合物，可适宜地控制有机EL显示元件的保护膜所要求的光透射性与遮光性的平衡。

具有醌二叠氮化物结构的化合物一旦曝光则分子结构发生变化，成为具有茚羧酸结构的化合物，使分子的光吸收性能发生变化。即，具有醌二叠氮化物结构的化合物具有称为光漂白性的特性。因此，本实施方式的有机EL显示元件在形成保护膜之后，在光透射性方面产生了不良现象的情况下，可仅仅通过对保护膜照射光而进行光透射性的调整。

因此，在本实施方式的有机EL显示元件的保护膜中，包含：树脂；具有醌二叠氮化物结构的化合物和具有茚羧酸结构的化合物之中的至少一个。而且，本实施方式的有机EL显示元件为底部发光型的情况下，形成特别优选的保护膜。

如以上那样，在本实施方式的有机EL显示元件中，其保护膜在平整化功能和图案化性等的基础上，显示出上述的特有的效果。因此下面对本实施方式的有机EL元件的保护膜的形成进行说明。特别是，更详细说明本实施方式的有机EL显示元件的保护膜的形成。而且，对用于形成保护膜的感射线性树脂组合物进行详细说明。

＜感射线性树脂组合物＞

在本实施方式的有机EL元件中，用于制造成为构成部件的保护膜的本实施方式的感射线性树脂组合物含有：树脂以及具有醌二叠氮化物结构的化合物作为必需的成分。因此，在本实施方式的有机EL显示元件中，用于制造作为其构成部件的保护膜的本实施方式的感射线性树脂组合物含有：树脂以及具有醌二叠氮化物结构的化合物作为必需的成分。而且，可进一步含有紫外线吸收剂。

本实施方式的感射线性树脂组合物中含有的树脂优选为具备有碱显影性的树脂。通过具有这样的组成，使得由本实施方式的感射线性树脂组合物形成的固化膜可具有优异的图案化性，可构成高度控制的所希望形状的保护膜。而且，通过包含具有醌二叠氮化物结构的化合物，可也兼具能够控制的遮光性。另外，含有紫外线吸收剂的情况下，可减低紫外线对TFT的影响。而且，本实施方式的感射线性树脂组合物可含有促进所形成的膜的固化的固化促进剂，进一步，只要不损害本发明的效果，就可以含有其它可选成分。

另外已知，在有机EL显示元件中，有机发光层无论使用了低分子类材料的低分子-有机发光层、还是使用了高分子类材料的高分子-有机发光层，一旦与水分接触则迅速地劣化，阻碍其发光状态。可认为有时这样的水分从外部环境浸入后，以吸附水等形态包含于保护膜形成材料、堤层形成材料等中的微量的水分缓慢地浸入有机发光层。

因此，要求开发出一种材料，其可形成防止杂质(主要是水分)向有机发光层的浸入、并且减低有机发光层的发光阻碍的保护膜。同样地要求开发出一种材料，其可形成防止杂质(主要是水分)向有机发光层的浸入、并且减低有机发光层的发光的阻碍的堤层。如上述那样，形成这样的保护膜的材料需要具有可形成通孔的分辨率和平整化功能。

从这样的水分等的杂质的观点考虑，本实施方式的感射线性树脂组合物中含有的树脂选择最优的树脂。

以下，更详细地说明本实施方式的感射线性树脂组合物中所含有的成分。

[树脂]

关于本实施方式的感射线性树脂组合物中含有的树脂，为了使所形成的保护膜具有优异的图案化性，优选为具备碱显影性的树脂。而且，优选抑制杂质(主要是水分)向有机发光层浸入的树脂。从这样的观点考虑，本实施方式的感射线性树脂组合物中含有的树脂优选包含从具有羧基的丙烯酸类树脂、聚酰亚胺树脂、聚硅氧烷以及酚醛清漆树脂中选出的至少一种。而且，可单独使用上述各树脂，另外也可混合使用。

将树脂混合使用时没有特别限制，但是在该情况下，从上述的观点考虑，特别优选将酚醛清漆树脂混合于其它的树脂而使用。进一步，优选将酚醛清漆树脂和具有羧基的丙烯酸类树脂混合而使用，以及优选将酚醛清漆树脂和聚酰亚胺树脂混合而使用。

以下，对于优选作为树脂而含于本实施方式的感射线性树脂组合物中的具有羧基的丙烯酸类树脂、聚酰亚胺树脂、聚硅氧烷以及酚醛清漆树脂的每一个进行更详细地说明。

[具有羧基的丙烯酸类树脂]

优选作为树脂的具有羧基的丙烯酸类树脂优选为包含具有羧基的结构单元和具有聚合性基团的结构单元的丙烯酸类树脂。在该情况下，如果包含具有羧基的结构单元和具有聚合性基团的结构单元、具有碱显影性，则没有特别限定。

具有聚合性基团的结构单元优选从由具有环氧基的结构单元与具有(甲基)丙烯酰氧基的结构单元构成的群组中选出的至少一种结构单元。通过使具有羧基的丙烯酸类树脂包含上述特定的结构单元，从而可形成具有优异的表面固化性以及深部固化性的固化膜，可形成本实施方式的保护膜。

具有(甲基)丙烯酰氧基的结构单元例如可通过如下方法而形成：使(甲基)丙烯酸与共聚物中的环氧基进行反应的方法、使具有环氧基的(甲基)丙烯酸酯与共聚物中的羧基进行反应的方法、使具有异氰酸酯基的(甲基)丙烯酸酯与共聚物中的羟基进行反应的方法、使(甲基)丙烯酸羟基酯与共聚物中的酸酐部位进行反应的方法等。它们之中特别优选使具有环氧基的(甲基)丙烯酸酯与共聚物中的羧基进行反应的方法。

包含具有羧基的结构单元和具有环氧基作为聚合性基团的结构单元的丙烯酸类树脂可通过使(A1)从由不饱和羧酸以及不饱和羧酸酐构成的群组中选出的至少1种(以下也称为“(A1)化合物”)与(A2)含环氧基的不饱和化合物(以下也称为“(A2)化合物”)进行共聚而合成。在此情况下，具有羧基的丙烯酸类树脂成为：包含从由不饱和羧酸以及不饱和羧酸酐构成的群组中选出的至少一种形成的结构单元、由含环氧基的不饱和化合物形成的结构单元的共聚物。

关于具有羧基的丙烯酸类树脂，例如在溶剂中，在聚合引发剂的存在下，可通过共聚下述化合物从而制造，该化合物包括：赋予含羧基的结构单元的(A1)化合物；赋予含环氧基的结构单元的(A2)化合物。另外，也可进一步加入(A3)赋予含羟基的结构单元的含羟基的不饱和化合物(以下，也称为“(A3)化合物”)，从而制成共聚物。另外进一步，在具有羧基的丙烯酸类树脂的制造中，也可通过与上述(A1)化合物、(A2)化合物以及(A3)化合物一起加入(A4)化合物(赋予除了源自上述(A1)、(A2)和(A3)化合物的结构单元以外的结构单元的不饱和化合物)，从而制成共聚物。以下详述各化合物。

[(A1)化合物]

作为(A1)化合物，列举出不饱和单羧酸、不饱和二羧酸、不饱和二羧酸的酸酐、多元羧酸的单[(甲基)丙烯酰氧基烷基]酯等。

作为不饱和单羧酸，例如列举出丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸等。

作为不饱和二羧酸，例如列举出马来酸、富马酸、柠康酸、中康酸、衣康酸等。

作为不饱和二羧酸的酸酐，例如列举出作为上述二羧酸而例示的化合物的酸酐等。

这些(A1)化合物之中，优选丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸酐，从共聚反应性、在碱水溶液中的溶解性以及获取的容易性考虑更优选丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸酐。

这些(A1)化合物可单独使用，也可将辆种以上混合而使用。

关于(A1)化合物的使用比例，基于(A1)化合物以及(A2)化合物(根据需要的任意的(A3)化合物和(A4)化合物)的合计，优选为5质量%～30质量%，更优选为10质量%～25质量%。将(A1)化合物的使用比例设为5质量%～30质量%，从而可将具有羧基的丙烯酸类树脂在碱水溶液中的溶解性进行最优化，制成射线性灵敏度优异的固化膜，形成本实施方式的保护膜。

[(A2)化合物]

(A2)化合物是具有自由基聚合性的含环氧基的不饱和化合物。作为环氧基，列举出环氧乙基(1,2-环氧基结构)或者氧杂环丁基(1,3-环氧基结构)等。

作为具有环氧乙基的不饱和化合物，例如列举出丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸2-甲基缩水甘油酯、丙烯酸3,4-环氧丁酯、甲基丙烯酸3,4-环氧丁酯、丙烯酸6,7-环氧庚酯、甲基丙烯酸6,7-环氧庚酯、α-乙基丙烯酸6,7-环氧庚酯、邻乙烯基苄基缩水甘油基醚、间乙烯基苄基缩水甘油基醚、对乙烯基苄基缩水甘油基醚、甲基丙烯酸3,4-环氧环己基甲酯等。它们之中，从共聚反应性以及保护膜的耐溶剂性等的提高的观点考虑，优选甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸2-甲基缩水甘油酯、甲基丙烯酸6,7-环氧庚基酯、邻乙烯基苄基缩水甘油基醚、间乙烯基苄基缩水甘油基醚、对乙烯基苄基缩水甘油基醚、甲基丙烯酸3,4-环氧环己酯、丙烯酸3,4-环氧环己酯等。

作为具有氧杂环丁基的不饱和化合物，例如列举出：

3-(丙烯酰氧基甲基)氧杂环丁烷、3-(丙烯酰氧基甲基)-2-甲基氧杂环丁烷、3-(丙烯酰氧基甲基)-3-乙基氧杂环丁烷、3-(丙烯酰氧基甲基)-2-苯基氧杂环丁烷、3-(2-丙烯酰氧基乙基)氧杂环丁烷、3-(2-丙烯酰氧基乙基)-2-乙基氧杂环丁烷、3-(2-丙烯酰氧基乙基)-3-乙基氧杂环丁烷、3-(2-丙烯酰氧基乙基)-2-苯基氧杂环丁烷等丙烯酸酯；

3-(甲基丙烯酰氧基甲基)氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-2-甲基氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-3-乙基氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-2-苯基氧杂环丁烷、3-(2-甲基丙烯酰氧基乙基)氧杂环丁烷、3-(2-甲基丙烯酰氧基乙基)-2-乙基氧杂环丁烷、3-(2-甲基丙烯酰氧基乙基)-3-乙基氧杂环丁烷、3-(2-甲基丙烯酰氧基乙基)-2-苯基氧杂环丁烷、3-(2-甲基丙烯酰氧基乙基)-2,2-二氟氧杂环丁烷等甲基丙烯酸酯等。

这些(A2)化合物之中，优选甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸-3,4-环氧环己酯、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-3-乙基氧杂环丁烷。这些(A2)化合物可单独使用，也可将两种以上混合而使用。

关于(A2)化合物的使用比例，基于(A1)化合物以及(A2)化合物(根据需要的任意的(A3)化合物以及(A4)化合物)的合计，优选为5质量%～60质量%，更优选为10质量%～50质量%。通过将(A2)化合物的使用比例设为5质量%～60质量%，可形成具有优异的固化性的固化膜，可形成本实施方式的保护膜。

[(A3)化合物]

作为(A3)化合物，列举出具有羟基的(甲基)丙烯酸酯、具有酚羟基的(甲基)丙烯酸酯、羟基苯乙烯。

作为具有羟基的丙烯酸酯，列举出丙烯酸2-羟乙酯、丙烯酸3-羟基丙酯、丙烯酸4-羟基丁酯、丙烯酸5-羟基戊酯、丙烯酸6-羟基己酯等。

作为具有羟基的甲基丙烯酸酯，列举出甲基丙烯酸2-羟乙酯、甲基丙烯酸3-羟基丙酯、甲基丙烯酸4-羟基丁酯、甲基丙烯酸5-羟基戊酯、甲基丙烯酸6-羟己酯等。

作为具有酚羟基的丙烯酸酯，列举出丙烯酸2-羟基苯酯、丙烯酸4-羟基苯酯等。作为具有酚羟基的甲基丙烯酸酯，列举出甲基丙烯酸2-羟基苯酯、甲基丙烯酸4-羟基苯酯等。

作为羟基苯乙烯，优选o-羟基苯乙烯、对羟基苯乙烯、α-甲基-对羟基苯乙烯。这些(A3)化合物可单独使用，也可混合两种以上而使用。

关于(A3)化合物的使用比例，基于(A1)化合物、(A2)化合物以及(A3)化合物(根据需要的任选的(A4)化合物)的合计，优选为1质量%～30质量%，更优选为5质量%～25质量%。

[(A4)化合物]

(A4)化合物如果是除了上述的(A1)化合物、(A2)化合物以及(A3)化合物以外的不饱和化合物，那么没有特别限制。作为(A4)化合物，例如列举出甲基丙烯酸链状烷基酯、甲基丙烯酸环状烷基酯、丙烯酸链状烷基酯、丙烯酸环状烷基酯、甲基丙烯酸芳基酯、丙烯酸芳基酯、不饱和二羧酸二酯、马来酰亚胺化合物、不饱和芳香族化合物、共轭二烯、具有四氢呋喃骨架等的不饱和化合物以及其它的不饱和化合物等。

作为甲基丙烯酸链状烷基酯，例如列举出甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸异癸酯、甲基丙烯酸正月桂酯、甲基丙烯酸十三烷基酯、甲基丙烯酸正硬脂基酯等。

作为甲基丙烯酸环状烷基酯，例如列举出甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸-2-甲基环己酯、甲基丙烯酸三环[5.2.1.0^2,6]癸烷-8-基酯、甲基丙烯酸三环[5.2.1.0^2,6]癸烷-8-基氧基乙酯、甲基丙烯酸异冰片酯等。

作为丙烯酸链状烷基酯，例如列举出丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸仲丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸-2-乙基己酯、丙烯酸异癸酯、丙烯酸正月桂酯、丙烯酸十三烷基酯、丙烯酸正硬脂基酯等。

作为丙烯酸环状烷基酯，例如列举出丙烯酸环己酯、丙烯酸-2-甲基环己酯、丙烯酸三环[5.2.1.0^2,6]癸烷-8-基酯、丙烯酸三环[5.2.1.0^2,6]癸烷-8-基氧基乙基酯、丙烯酸异冰片酯等。

作为甲基丙烯酸芳基酯，例如列举出甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸苄酯等。

作为丙烯酸芳基酯，例如列举出丙烯酸苯酯、丙烯酸苄酯等。

作为不饱和二羧酸二酯，例如列举出马来酸二乙酯、富马酸二乙酯、衣康酸二乙酯等。

作为马来酰亚胺化合物，例如列举出N-苯基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺、N-苄基马来酰亚胺、N-(4-羟基苯基)马来酰亚胺、N-(4-羟基苄基)马来酰亚胺、N-琥珀酰亚胺基-3-马来酰亚胺基苯甲酸酯、N-琥珀酰亚胺基-4-马来酰亚胺基丁酸酯、N-琥珀酰亚胺基-6-马来酰亚胺基己酸酯、N-琥珀酰亚胺基-3-马来酰亚胺基丙酸酯、N-(9-吖啶基)马来酰亚胺等。

作为不饱和芳香族化合物，例如列举出苯乙烯、α-甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、对甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、对甲氧基苯乙烯等。

作为共轭二烯，例如列举出1,3-丁二烯、异戊二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯等。

作为含有四氢呋喃骨架的不饱和化合物，例如列举出甲基丙烯酸四氢糠基酯、2-甲基丙烯酰氧基-丙酸四氢糠基酯、3-(甲基)丙烯酰氧基四氢呋喃-2-酮等。

作为其它的不饱和化合物，例如列举出丙烯腈、甲基丙烯腈、氯乙烯、偏二氯乙烯、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、乙酸乙烯酯等。

这些(A4)化合物之中，优选甲基丙烯酸链状烷基酯、甲基丙烯酸环状烷基酯、甲基丙烯酸芳基酯、马来酰亚胺化合物、四氢呋喃骨架、不饱和芳香族化合物、丙烯酸环状烷基酯。它们之中，从共聚反应性以及在碱水溶液中的溶解性的观点考虑，特别优选苯乙烯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸正月桂酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸三环[5.2.1.0^2,6]癸烷-8-基酯、对甲氧基苯乙烯、丙烯酸2-甲基环己酯、N-苯基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺、甲基丙烯酸四氢糠基酯。

这些(A4)化合物可单独使用，也可将两种以上混合而使用。

作为(A4)化合物的使用比例，基于(A1)化合物、(A2)化合物以及(A4)化合物(以及任选的(A3)化合物)的合计，优选为10质量%～80质量%。

[聚酰亚胺树脂]

作为本实施方式的感射线性树脂组合物中使用的树脂而优选的聚酰亚胺树脂是在聚合物的结构单元中具有从由羧基、酚羟基、磺酸基以及硫醇基构成的群组中选出的至少一种基团的聚酰亚胺树脂。在结构单元中由于具有这些碱可溶性的基团，从而可在碱显影时抑制曝光部的浮渣显现。另外，在结构单元中具有氟原子时，则在由碱水溶液进行显影时，可对膜的界面赋予憎水性，可抑制界面的渗透等，因而优选。关于聚酰亚胺树脂中的氟原子含量，为了充分获得界面的渗透防止效果，优选为10质量%以上，另外，从在碱水溶液中的溶解性的观点考虑优选为20质量%以下。

作为本实施方式的感射线性树脂组合物中使用的树脂而优选的聚酰亚胺树脂没有特别的限定，但是优选具有由下述通式(I-1)表示的结构单元。

【化学式7】

上述式(I-1)中，R¹表示4价～14价的有机基团，R²表示2价～12价的有机基团。

上述式(I-1)中，R³以及R⁴表示羧基、酚羟基、磺酸基或者硫醇基，分别可以相同也可以不同。a以及b表示0～10的整数。

上述式(I-1)中，R¹表示四羧酸二酐的残基，是4价～14价的有机基团。其中优选含有芳香族环或者环状脂肪族基团的碳原子数5～40的有机基团。

作为四羧酸二酐，优选3,3’,4,4’-联苯四羧酸二酐、2,3,3’,4’-联苯四羧酸二酐、2,2’,3,3’-联苯四羧酸二酐、3,3’,4,4’-二苯甲酮四羧酸二酐、2,2’,3,3’-二苯甲酮四羧酸二酐、2,2-双(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-双(2,3-二羧基苯基)丙烷二酐、1,1-双(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-双(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、双(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐、双(2,3-二羧基苯基)甲烷二酐、双(3,4-二羧基苯基)砜二酐、双(3,4-二羧基苯基)醚二酐、2,2-双(3,4-二羧基苯基)六氟丙烷二酐、3,3’,4,4’-二苯基砜四羧酸二酐、9,9-双(3,4-二羧基苯基)芴二酐、9,9-双{4-(3,4-二羧基苯氧基)苯基}芴二酐、或者下述所示的结构的酸二酐等。也可使用它们中的两种以上。

【化学式8】

R⁵表示氧原子、C(CF₃)₂、C(CH₃)₂或者SO₂。R⁶以及R⁷表示氢原子、羟基或者硫醇基。

上述式(I-1)中，R²表示二胺的残基，是2价～12价的有机基团。其中优选含有芳香族环或者环状脂肪族基团的碳原子数5～40的有机基团。

作为二胺的具体的例子，优选3,3’-二氨基二苯基醚、3,4’-二氨基二苯基醚、4,4’-二氨基二苯基醚、3,3’-二氨基二苯基甲烷、3,4’-二氨基二苯基甲烷、4,4’-二氨基二苯基甲烷、3,3’-二氨基二苯基砜、3,4’-二氨基二苯基砜、4,4’-二氨基二苯基砜、3,3’-二氨基二苯基硫醚、3,4’-二氨基二苯基硫醚、4,4’-二氨基二苯基硫醚、间苯二胺、对苯二胺、1,4-双(4-氨基苯氧基)苯、9,9-双(4-氨基苯基)芴、或者下述所示的结构的二胺等。也可使用它们中的两种以上。

【化学式9】

R⁵表示氧原子、C(CF₃)₂、C(CH₃)₂或者SO₂。R⁶～R⁹表示氢原子、羟基或者硫醇基。

另外，为了提高与基板的粘接性，也可在不降低耐热性的范围，使具有硅氧烷结构的脂肪族的基团与R¹或R²进行共聚。具体而言，作为二胺成分，列举出通过将1摩尔%～10摩尔%的双(3-氨基丙基)四甲基二硅氧烷、双(对氨基苯基)八甲基五硅氧烷等进行共聚而得到的二胺成分等。

上述式(I-1)中，R³以及R⁴表示羧基、酚羟基、磺酸基或者硫醇基。a以及b表示0～10的整数。从所获得的感射线性树脂组合物的稳定性考虑，a以及b优选为0，但是从在碱水溶液中的溶解性的观点考虑，a以及b优选为1以上。

通过调整该R³以及R⁴的碱可溶性基的量，使得在碱水溶液中的溶解速度变化，因此可通过该调整而获得具有适度的溶解速度的感射线性树脂组合物。

上述R³以及R⁴中的任一个都是酚羟基的情况下，为了使在2.38质量%四甲基氢氧化铵(TMAH)水溶液中的溶解速度为更恰当的范围，优选(a)聚酰亚胺树脂在(a)1kg中含有2摩尔～4摩尔的酚羟基量。使酚羟基量为此范围，可获得更高灵敏度以及更高对比度的感射线性树脂组合物。

另外，具有由上述式(I-1)表示的结构单元的聚酰亚胺优选在主链末端具有碱可溶性基团。这样的聚酰亚胺具有高的碱可溶性。作为碱可溶性基的具体例子，列举出羧基、酚羟基、磺酸基以及硫醇基等。碱可溶性基向主链末端中的导入可通过在末端封口剂中具有碱可溶性基团而进行。末端封口剂可使用单胺、酸酐、单羧酸、单酰氯化合物、单活性酯化合物等。

作为用作末端封口剂的单胺，优选5-氨基-8-羟基喹啉、1-羟基-7-氨基萘、1-羟基-6-氨基萘、1-羟基-5-氨基萘、1-羟基-4-氨基萘、2-羟基-7-氨基萘、2-羟基-6-氨基萘、2-羟基-5-氨基萘、1-羧基-7-氨基萘、1-羧基-6-氨基萘、1-羧基-5-氨基萘、2-羧基-7-氨基萘、2-羧基-6-氨基萘、2-羧基-5-氨基萘、2-氨基苯甲酸、3-氨基苯甲酸、4-氨基苯甲酸、4-氨基水杨酸、5-氨基水杨酸、6-氨基水杨酸、2-氨基苯磺酸、3-氨基苯磺酸、4-氨基苯磺酸、3-氨基-4,6-二羟基嘧啶、2-氨基苯酚、3-氨基苯酚、4-氨基苯酚、2-氨基苯硫酚、3-氨基苯硫酚、4-氨基苯硫酚等。也可使用它们中的两种以上。

作为用作末端封口剂的酸酐、单羧酸、单酰氯化合物、单活性酯化合物，优选：邻苯二甲酸酐、马来酸酐、降冰片烯二酸酐、环己烷二羧酸酐、3-羟基邻苯二甲酸酐等酸酐，3-羧基苯酚、4-羧基苯酚、3-羧基苯硫酚、4-羧基苯硫酚、1-羟基-7-羧基萘、1-羟基-6-羧基萘、1-羟基-5-羧基萘、1-巯基-7-羧基萘、1-巯基-6-羧基萘、1-巯基-5-羧基萘、3-羧基苯磺酸、4-羧基苯磺酸等单羧酸类以及它们的羧基经过酰氯化而得到的单酰氯化合物，对苯二甲酸、邻苯二甲酸、马来酸、环己烷二羧酸、1,5-二羧基萘、1,6-二羧基萘、1,7-二羧基萘、2,6-二羧基萘等二羧酸类的仅仅一个羧基经过酰氯化而得到的单酰氯化合物，通过单酰氯化合物与N-羟基苯并三唑或N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二羧基酰亚胺的反应获得的活性酯化合物等。也可使用它们中的两种以上。

关于用于末端封口剂的单胺的导入比例，相对于全胺成分，优选为0.1摩尔%以上，特别优选为5摩尔%以上，优选为60摩尔%以下，特别优选为50摩尔%以下。关于用作末端封口剂的酸酐、单羧酸、单酰氯化合物或者单活性酯化合物的导入比例，相对于二胺成分，优选为0.1摩尔%以上，特别优选为5摩尔%以上，优选为100摩尔%以下，特别优选为90摩尔%以下。也可使多个末端封口剂进行反应，从而导入多个不同的末端基。

具有由上述式(I-1)表示的结构单元的聚酰亚胺中，结构单元的重复数优选为3以上，更优选为5以上，另外优选为200以下，更优选为100以下。如果处于此范围，则可在本发明的感光性树脂组合物的厚膜中使用。

在本实施方式中，优选的聚酰亚胺树脂可以为仅仅包含上述式(I-1)表示的结构单元的聚酰亚胺树脂，也可以为与其它的结构单元的共聚物或者混合体。此时，优选上述式(I-1)表示的结构单元占聚酰亚胺树脂全体的10质量%以上。如果为10质量%以上，那么可抑制热固化时的收缩，适合于厚膜的制作。关于用于共聚或者混合的结构单元的种类及量，优选在不损害通过最终加热处理而获得的聚酰亚胺的耐热性的范围选择。例如列举出苯并恶唑、苯并咪唑、苯并噻唑等。这些结构单元优选在聚酰亚胺树脂中为70质量%以下。

在本实施方式中，优选的聚酰亚胺树脂例如可利用如下方法而合成：使用公知方法获得聚酰亚胺前体，然后使用公知的酰亚胺化反应法将其进行酰亚胺化。关于聚酰亚胺前体的公知的合成法，将二胺的一部分置换为作为末端封口剂的单胺，或者将酸二酐的一部分置换为作为末端封口剂的单羧酸、酸酐、单酰氯化合物、单活性酯化合物，使胺成分与酸成分进行反应从而获得。存在例如如下的方法：在低温中使四羧酸二酐与二胺化合物(将一部分置换为单胺)进行反应的方法；在低温中使四羧酸二酐(将一部分置换为酸酐、单酰氯化合物或者单活性酯化合物)与二胺化合物进行反应的方法；通过四羧酸二酐和醇而获得二酯，其后在二胺(将一部分置换为单胺)和缩合剂的存在下进行反应的方法；通过四羧酸二酐与醇而获得二酯，其后将剩余的二羧酸进行酰氯化，与二胺(将一部分置换为单胺)反应的方法等。

另外，聚酰亚胺树脂的酰亚胺化率例如可通过以下的方法容易地求出。首先，测定聚合物的红外吸收谱图，确认起因于聚酰亚胺的酰亚胺结构的吸收峰(1780cm-¹附近、1377cm-¹附近)的存在。接着，将该聚合物在350℃热处理1小时，测定红外吸收谱图，比较1377cm-¹附近的峰强度，从而算出热处理前聚合物中的酰亚胺基的含量，求出酰亚胺化率。

在本实施方式中聚酰亚胺树脂的酰亚胺化率从耐化学品性、高收缩残膜率的观点考虑优选为80%以上。

另外，在本实施方式中优选的导入聚酰亚胺树脂的末端封口剂，可通过以下的方法容易地检出。例如，将导入了末端封口剂的聚酰亚胺溶解于酸性溶液，分解为作为聚酰亚胺的结构单元的胺成分和酸酐成分，将其通过气相色谱法(GC)或NMR测定，可容易地检出本发明中使用的末端封口剂。除此以外，对于导入了末端封口剂的聚合物成分，也可通过直接由热分解气相色谱仪(PGC)、红外谱图以及¹³C-NMR谱图测定而容易地检出。

[聚硅氧烷]

作为本实施方式的感射线性树脂组合物中使用的树脂而优选的聚硅氧烷是具有自由基反应性官能团的聚硅氧烷。聚硅氧烷是具有自由基反应性官能团的聚硅氧烷的情况下，如果是在具有硅氧烷键的化合物的聚合物的主链或者侧链上具有自由基反应性官能团的聚硅氧烷则没有特别限定。在该情况下，聚硅氧烷可通过自由基聚合而固化，可将固化收缩控制在最小限度。作为自由基反应性官能团，例如列举出乙烯基、α-甲基乙烯基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、苯乙烯基等不饱和有机基团。它们之中，由于固化反应顺利地推进，因而优选具有丙烯酰基或者甲基丙烯酰基的聚硅氧烷。

在本实施方式中优选的聚硅氧烷优选为水解性硅烷化合物的水解缩合物。构成聚硅氧烷的水解性硅烷化合物优选为包含(s1)下述式(S-1)所示的水解性硅烷化合物(以下，亦称为“(s1)化合物”)和(s2)下述式(S-2)所示的水解性硅烷化合物(以下，亦称为“(s2)化合物”)的水解性硅烷化合物。

【化学式10】

【化学式11】

上述式(S-1)中，R¹¹为碳原子数1～6的烷基。R¹²是包含自由基反应性官能团的有机基团。p为1～3的整数。其中，R¹¹以及R¹²为多个的情况下，多个R¹¹以及R¹²分别独立。

上述式(S-2)中，R¹³为碳原子数1～6的烷基。R¹⁴为氢原子、碳原子数为1～20的烷基、碳原子数1～20的氟代烷基、苯基、甲苯基、萘基、环氧基、氨基或者异氰酸酯基。n为0～20的整数。q为0～3的整数。其中，R¹³以及R¹⁴为多个的情况下，多个R¹³以及R¹⁴分别独立。

在本发明中，“水解性硅烷化合物”是指具有如下基团的化合物：通常通过在无催化剂、过量的水的共存下在室温(约25℃)～约100℃的温度范围内加热，从而可进行水解而生成硅烷醇基的基团或者可形成硅氧烷缩合物的基团。在由上述式(S-1)以及上述式(S-2)表示的水解性硅烷化合物的水解反应中，在生成的聚硅氧烷中，一部分的水解性基团也可以以未水解的状态而残留。此处，“水解性基团”是指，上述的可进行水解而生成硅烷醇基的基团或者可形成硅氧烷缩合物的基团。另外，在感射线性树脂组合物中，关于一部分的水解性硅烷化合物，其分子中的一部分或者全部的水解性基团也可在未水解的状态下、且不与其它的水解性硅烷化合物缩合地，以单体的状态而残留。又，“水解缩合物”是指：水解得到的硅烷化合物的一部分的硅烷醇基彼此进行缩合而得到的水解缩合物。以下，对(s1)化合物以及(s2)化合物进行详述。

[(s1)化合物]

上述式(S-1)中，R¹¹为碳原子数1～6的烷基。R¹²是包含自由基反应性官能团的有机基团。p为1～3的整数。其中，R¹¹以及R¹²为多个的情况下，多个R¹¹以及R¹²分别独立。

上述的作为R¹¹的碳原子数1～6的烷基例如列举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、丁基等。它们之中，从水解的容易性的观点考虑，优选为甲基、乙基。作为上述的p，从水解缩合反应的进行的观点考虑优选为1或2，更优选为1。

作为具有自由基反应性官能团的有机基团，列举出1个以上的氢原子被上述的自由基反应性官能团置换而得到的直链状、支链状或者环状的碳原子数1～12的烷基、碳原子数6～12的芳基、碳原子数7～12的芳烷基等。在同一分子内存在多个R¹²时，它们分别独立。另外，R¹²所表示的有机基团也可具有杂原子。作为这样的有机基团，例如列举出醚基、酯基、硫醚基等。

作为p=1的情况下的(s1)化合物，例如列举出乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三丙氧基硅烷、邻苯乙烯基三甲氧基硅烷、邻苯乙烯基三乙氧基硅烷、间苯乙烯基三甲氧基硅烷、间苯乙烯基三乙氧基硅烷、对苯乙烯基三甲氧基硅烷、对苯乙烯基三乙氧基硅烷、烯丙基三甲氧基硅烷、烯丙基三乙氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基三乙氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基三丙氧基硅烷、丙烯酰氧基三甲氧基硅烷、丙烯酰氧基三乙氧基硅烷、丙烯酰氧基三丙氧基硅烷、2-甲基丙烯酰氧基乙基三甲氧基硅烷、2-甲基丙烯酰氧基乙基三乙氧基硅烷、2-甲基丙烯酰氧基乙基三丙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三丙氧基硅烷、2-丙烯酰氧基乙基三甲氧基硅烷、2-丙烯酰氧基乙基三乙氧基硅烷、2-丙烯酰氧基乙基三丙氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三丙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三丙氧基硅烷、三氟丙基三甲氧基硅烷、三氟丙基三乙氧基硅烷、三氟丁基三甲氧基硅烷、3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基琥珀酸酐等三烷氧基硅烷化合物。

作为p=2的情况下的(s1)化合物，例如列举出乙烯基甲基二甲氧基硅烷、乙烯基甲基二乙氧基硅烷、乙烯基苯基二甲氧基硅烷、乙烯基苯基二乙氧基硅烷、烯丙基甲基二甲氧基硅烷、烯丙基甲基二乙氧基硅烷、苯基三氟丙基二甲氧基硅烷等二烷氧基硅烷化合物。

作为p=3的情况下的(s1)化合物，例如列举出烯丙基二甲基甲氧基硅烷、烯丙基二甲基乙氧基硅烷、二乙烯基甲基甲氧基硅烷、二乙烯基甲基乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基二甲基甲氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基二甲基甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基二苯基甲氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基二苯基甲氧基硅烷、3,3’-二甲基丙烯酰氧基丙基二甲氧基硅烷、3,3’-二丙烯酰氧基丙基二甲氧基硅烷、3,3’,3’’-三甲基丙烯酰氧基丙基甲氧基硅烷、3,3’,3’’-三丙烯酰氧基丙基甲氧基硅烷、二甲基三氟丙基甲氧基硅烷等单烷氧基硅烷化合物。

这些(s1)化合物之中，由于可以以高水平实现耐擦伤性等，并且缩合反应性变高，因而优选乙烯基三甲氧基硅烷、对苯乙烯基三乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基琥珀酸酐。

[(s2)化合物]

上述式(S-2)中，R¹³为碳原子数1～6的烷基。R¹⁴为氢原子、碳原子数1～20的烷基、碳原子数1～20的氟代烷基、苯基、甲苯基、萘基、环氧基、氨基或者异氰酸酯基。n为0～20的整数。q为0～3的整数。其中，R¹³以及R¹⁴分别为多个的情况下，多个R¹³以及R¹⁴分别独立。

作为上述的R¹³的碳原子数1～6的烷基，例如列举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、丁基等。它们之中，从水解的容易性的观点考虑，优选为甲基、乙基。作为上述的q，从水解缩合反应的进行的观点考虑优选为1或2，更优选为1。

上述的R¹⁴为上述碳原子数1～20的烷基的情况下，作为该烷基，例如列举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、3-甲基丁基、2-甲基丁基、1-甲基丁基、2,2-二甲基丙基、正己基、4-甲基戊基、3-甲基戊基、2-甲基戊基、1-甲基戊基、3,3-二甲基丁基、2,3-二甲基丁基、1,3-二甲基丁基、2,2-二甲基丁基、1,2-二甲基丁基、1,1-二甲基丁基、正庚基、5-甲基己基、4-甲基己基、3-甲基己基、2-甲基己基、1-甲基己基、4,4-二甲基戊基、3,4-二甲基戊基、2,4-二甲基戊基、1,4-二甲基戊基、3,3-二甲基戊基、2,3-二甲基戊基、1,3-二甲基戊基、2,2-二甲基戊基、1,2-二甲基戊基、1,1-二甲基戊基、2,3,3-三甲基丁基、1,3,3-三甲基丁基、1,2,3-三甲基丁基、正辛基、6-甲基庚基、5-甲基庚基、4-甲基庚基、3-甲基庚基、2-甲基庚基、1-甲基庚基、2-乙基己基、正壬基、正癸基、正十一烷基、正十二烷基、正十三烷基、正十四烷基、正十五烷基、正十六烷基、正十七烷基、正十八烷基、正十九烷基等。优选为碳原子数1～10的烷基，更优选为碳原子数1～3的烷基。

作为q=0的情况下的(s2)化合物，例如，作为由4个水解性基团取代而得到的硅烷化合物，列举出四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丁氧基硅烷、四正丙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷等。

关于q=1的情况下的(s2)化合物，作为由1个非水解性基团和3个水解性基团取代而得到的硅烷化合物，例如列举出甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基三异丙氧基硅烷、甲基三丁氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、乙基三异丙氧基硅烷、乙基三丁氧基硅烷、丁基三甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、甲苯基三甲氧基硅烷、萘基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、萘基三乙氧基硅烷、氨基三甲氧基硅烷、氨基三乙氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-异氰基丙基三甲氧基硅烷、3-异氰基丙基三乙氧基硅烷、邻甲苯基三甲氧基硅烷、间甲苯基三甲氧基硅烷、对甲苯基三甲氧基硅烷等。

关于q=2的情况下的(s2)化合物，作为由2个非水解性基团和2个水解性基团取代而得到的硅烷化合物，例如列举出二甲基二甲氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、二甲苯基二甲氧基硅烷、二丁基二甲氧基硅烷等。

作为q=3的情况下的(s2)化合物，作为由3个非水解性基团和1个水解性基团取代而得到的硅烷化合物，例如列举出三甲基甲氧基硅烷、三苯基甲氧基硅烷、三甲苯基甲氧基硅烷、三丁基甲氧基硅烷等。

这些(s2)化合物之中，优选为由4个水解性基团取代而得到的硅烷化合物、由1个非水解性基团和3个水解性基团取代而得到的硅烷化合物，更优选为由1个非水解性基团和3个水解性基团取代而得到的硅烷化合物。作为特别优选的水解性硅烷化合物，例如列举出四乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基三异丙氧基硅烷、甲基三丁氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、甲苯基三甲氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、乙基三异丙氧基硅烷、乙基三丁氧基硅烷、丁基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、萘基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三甲氧基硅烷以及γ-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷。这样的水解性硅烷化合物可单独使用或者也可组合2种以上而使用。

关于上述(s1)化合物以及(s2)化合物的混合比，优选(s1)化合物超过5摩尔%。(s1)化合物为5摩尔%以下的情况下，存在有如下倾向：以固化膜的方式形成保护膜之时的曝光灵敏度低，进一步降低所获得的保护膜的耐擦伤性等。

[(s1)化合物以及(s2)化合物的水解缩合]

作为将上述(s1)化合物以及(s2)化合物进行水解缩合的条件，只要是使(s1)化合物以及(s2)化合物的至少一部分水解从而将水解性基团转换为硅烷醇基并且引发缩合反应，就没有特别限定，但是作为一个例子，可如以下那样实施。

作为供给于水解缩合反应的水，优选使用通过反渗透膜处理、离子交换处理、蒸馏等方法而精制得到的水。通过使用这样的精制水，从而可抑制副反应，可提高水解的反应性。作为水的用量，相对于上述(s1)化合物以及(s2)化合物的水解性基团的合计量1摩尔，优选为0.1摩尔～3摩尔，更优选为0.3摩尔～2摩尔，特别优选为0.5摩尔～1.5摩尔。通过使用这样的量的水，可将水解缩合的反应速度进行最优化。

作为供给于水解缩合的溶剂，例如列举出醇类、醚类、二醇醚、乙二醇烷基醚乙酸酯、二乙二醇烷基醚、丙二醇单烷基醚、丙二醇单烷基醚乙酸酯、丙二醇单烷基醚丙酸酯、芳香族烃类、酮类、其它的酯类等。这些溶剂可单独使用或并用两种以上来使用。

这些溶剂之中，优选为乙二醇烷基醚乙酸酯、二乙二醇烷基醚、丙二醇单烷基醚、丙二醇单烷基醚乙酸酯、甲氧基乙酸丁酯，特别优选为二乙二醇二甲醚、二乙二醇乙基甲基醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单甲醚、甲氧基乙酸丁酯。

水解缩合反应优选在酸催化剂(例如，盐酸、硫酸、硝酸、甲酸、乙二酸、乙酸、三氟乙酸、三氟甲磺酸、磷酸、酸性离子交换树脂、各种路易斯酸等)、碱性催化剂(例如，氨、伯胺类、仲胺类、叔胺类、吡啶等含氮化合物，碱性离子交换树脂，氢氧化钠等氢氧化物，碳酸钾等碳酸盐，乙酸钠等羧酸盐，各种路易斯碱等)或者醇盐(例如锆醇盐、钛醇盐、铝醇盐等)等催化剂的存在下进行。例如，作为铝醇盐，可使用三异丙氧基铝。作为催化剂的用量，从促进水解缩合反应的观点考虑，相对于水解性硅烷化合物的单体1摩尔，优选为0.2摩尔以下，更优选为0.00001摩尔～0.1摩尔。

上述的水解缩合物的基于GPC(凝胶渗透色谱法)而得到的聚苯乙烯换算重均分子量(以下称为“Mw”)优选为500～10000，更优选为1000～5000。通过使Mw为500以上，可改善本实施方式的感射线性树脂组合物的成膜性。另一方面，通过使Mw为10000以下，可防止感射线性树脂组合物的显影性的降低。

上述的水解缩合物的基于GPC而得到的聚苯乙烯换算数均分子量(以下称为“Mn”)优选为300～5000，更优选为500～3000。通过使聚硅氧烷的Mn为上述范围，可提高本实施方式的感射线性树脂组合物的涂膜在固化时的固化反应性。

上述水解缩合物的分子量分布“Mw/Mn”优选为3.0以下，更优选为2.6以下。通过使(s1)化合物以及(s2)化合物的水解缩合物的Mw/Mn为3.0以下，从而可提高所获得的保护膜的显影性。包含聚硅氧烷的感射线性树脂组合物在显影时显影残留的产生少，并且可容易地形成所希望的图案形状。

[酚醛清漆树脂]

关于作为本实施方式的感射线性树脂组合物中使用的树脂而优选的酚醛清漆树脂，可通过公知方法由福尔马林等醛类将酚类进行缩聚而获得。

作为获得本实施方式中优选的酚醛清漆树脂的酚类，例如列举出苯酚、对甲酚、间甲酚、邻甲酚、2,3-二甲基苯酚、2,4-二甲基苯酚、2,5-二甲基苯酚、2,6-二甲基苯酚、3,4-二甲基苯酚、3,5-二甲基苯酚、2,3,4-三甲基苯酚、2,3,5-三甲基苯酚、3,4,5-三甲基苯酚、2,4,5-三甲基苯酚、亚甲基双酚、亚甲基双对甲酚、间苯二酚、儿茶酚、2-甲基间苯二酚、4-甲基间苯二酚、邻氯苯酚、间氯苯酚、对氯苯酚、2,3-二氯苯酚、间甲氧基苯酚、对甲氧基苯酚、对丁氧基苯酚、邻乙基苯酚、间乙基苯酚、对乙基苯酚、2,3-二乙基苯酚、2,5-二乙基苯酚、对异丙基苯酚、α-萘酚、β-萘酚等。也可使用它们中的两种以上。

另外，在本实施方式中，作为优选的获得酚醛清漆树脂的醛类，除了列举出福尔马林之外，还列举出对甲醛、乙醛、苯甲醛、羟基苯甲醛、氯乙醛等。也可使用它们中的两种以上。

作为本实施方式的感射线性树脂组合物中使用的树脂的酚醛清漆树脂的优选的重均分子量(Mw)基于GPC按照聚苯乙烯换算为2000～50000，更优选为3000～40000。

[具有醌二叠氮化物结构的化合物]

本实施方式的感射线性树脂组合物含有上述的树脂以及具有醌二叠氮化物结构的化合物作为必需的成分。由此，本实施方式的感射线性树脂组合物可用作正型的感射线性树脂组合物。而且，可赋予形成后的保护膜遮光性。进一步，也可根据光漂白性能，进行所形成的保护膜的透明性的调整。

具有醌二叠氮化物结构的化合物是通过照射射线而产生羧酸的醌二叠氮化合物。作为具有醌二叠氮化物结构的化合物，可使用酚性化合物或者醇性化合物(以下称为“母核”)与1,2-萘醌二叠氮化物磺酰卤的缩合物。

作为上述的母核，例如列举出三羟基二苯甲酮、四羟基二苯甲酮、五羟基二苯甲酮、六羟基二苯甲酮、(多羟基苯基)链烷、其它的母核等。

作为三羟基二苯甲酮，例如列举出2,3,4-三羟基二苯甲酮、2,4,6-三羟基二苯甲酮等。

作为四羟基二苯甲酮，例如列举出2,2’,4,4’-四羟基二苯甲酮、2,3,4,3’-四羟基二苯甲酮、2,3,4,4’-四羟基二苯甲酮、2,3,4,2’-四羟基-4’-甲基二苯甲酮、2,3,4,4’-四羟基-3’-甲氧基二苯甲酮等。

作为五羟基二苯甲酮，例如列举出2,3,4,2’,6’-五羟基二苯甲酮等。

作为六羟基二苯甲酮，例如列举出2,4,6,3’,4’,5’-六羟基二苯甲酮、3,4,5,3’,4’,5’-六羟基二苯甲酮等。

作为(多羟基苯基)链烷，例如列举出双(2,4-二羟基苯基)甲烷、双(对羟基苯基)甲烷、三(对羟基苯基)甲烷、1,1,1-三(对羟基苯基)乙烷、双(2,3,4-三羟基苯基)甲烷、2,2-双(2,3,4-三羟基苯基)丙烷、1,1,3-三(2,5-二甲基-4-羟基苯基)-3-苯基丙烷、4,4’-[1-{4-(1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基)苯基}亚乙基]双酚、双(2,5-二甲基-4-羟基苯基)-2-羟基苯基甲烷、3,3,3’,3’-四甲基-1,1’-螺双茚-5,6,7,5’,6’,7’-己醇、2,2,4-三甲基-7,2’,4’-三羟基黄烷等。

作为其它的母核，例如列举出2-甲基-2-(2,4-二羟基苯基)-4-(4-羟基苯基)-7-羟基氧杂萘满、1-[1-{3-(1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基)-4,6-二羟基苯基}-1-甲基乙基]-3-[1-{3-(1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基)-4,6-二羟基苯基}-1-甲基乙基]苯、4,6-双{1-(4-羟基苯基)-1-甲基乙基}-1,3-二羟基苯等。

这些母核之中，优选使用2,3,4,4’-四羟基二苯甲酮、1,1,1-三(对羟基苯基)乙烷、4,4’-[1-{4-(1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基)苯基}亚乙基]双酚。

作为1,2-萘醌二叠氮化物磺酰卤，优选1,2-萘醌二叠氮化物磺酰氯。作为1,2-萘醌二叠氮化物磺酰氯，例如列举出1,2-萘醌二叠氮化物-4-磺酰氯、1,2-萘醌二叠氮化物-5-磺酰氯等。它们之中，更优选为1,2-萘醌二叠氮化物-5-磺酰氯。

在酚性化合物或者醇性化合物(母核)与1,2-萘醌二叠氮化物磺酰卤的缩合反应中，相对于酚性化合物或者醇性化合物中的OH基团数，可使用优选为与30摩尔%～85摩尔%、更优选与50摩尔%～70摩尔%相当的1,2-萘醌二叠氮化物磺酰卤。缩合反应可通过公知方法而实施。

另外，作为具有醌二叠氮化物结构的化合物，也可优选使用通过将上述中例示的母核的酯键变更为酰胺键而得到的1,2-萘醌二叠氮化物磺酰胺类，例如，2,3,4-三氨基二苯甲酮-1,2-萘醌二叠氮化物-4-磺酰胺等。

这些具有醌二叠氮化物结构的化合物可单独使用或组合两种以上而使用。关于本实施方式的感射线性树脂组合物中的具有醌二叠氮化物结构的化合物的使用比例，相对于树脂100质量份，优选为5质量份～100质量份，更优选为10质量份～50质量份。通过使具有醌二叠氮化物结构的化合物的使用比例为上述范围，从而可增大射线的照射部分与未照射部分在成为显影液的碱水溶液中的溶解度的差异，可提高图案化性能。另外，也可使通过使用该感射线性树脂组合物而获得的保护膜的耐溶剂性成为良好。

[紫外线吸收剂]

本实施方式的感射线性树脂组合物含有上述的树脂以及具有醌二叠氮化物结构的化合物作为必需的成分，可根据需要，与它们一同含有紫外线吸收剂。由此，本实施方式的感射线性树脂组合物可赋予所形成后的保护膜以紫外线吸收性。而且，可减低有机EL显示元件的TFT处的紫外线的影响。

紫外线吸收剂优选为在300nm～400nm的波长区域具有吸收的化合物。作为紫外线吸收剂，如果是在上述范围具有吸收带的紫外线吸收剂，就没有特别限定，特别是作为容易获取的紫外线吸收剂，优选使用在上述范围具有吸收带的苯并三唑类化合物以及二苯甲酮类化合物等。

苯并三唑类化合物是具有由下述通式(1)表示的结构的化合物。二苯甲酮类化合物是由下述通式(2)表示的化合物。

【化学式12】

【化学式13】

在上述式(1)以及上述式(2)中，R¹～R¹⁵各自独立地表示氢、碳原子数1～20的烷基、碳原子数1～20的烷氧基、碳原子数1～20的苯酰氧基或者羟基。

作为这样的苯并三唑类化合物，具体而言，例如列举出2-(2-羟基-5-甲基苯基)-2H-苯并三唑、2-(3-叔丁基-2-羟基-5-甲基苯基)-5-氯-2H-苯并三唑、2-(3,5-二叔戊基-2-羟基苯基)-2H-苯并三唑、2-(2-羟基-4-辛氧基苯基)-2H-苯并三唑、2-(2-羟基-5-叔辛基苯基)-2H-苯并三唑等。这些苯并三唑类化合物可单独使用，也可并用2种以上。

另外，作为这样的二苯甲酮类化合物，具体而言，例如列举出2,4-二羟基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮-5-磺酸三水合物、2-羟基-4-辛基氧基二苯甲酮、4-十二烷基氧基-2-羟基二苯甲酮、4-苄基氧基-2-羟基二苯甲酮、2,2’4,4’-四羟基二苯甲酮、2,2’-二羟基-4,4’-二甲氧基二苯甲酮等。这些二苯甲酮类化合物可单独使用，也可并用两种以上。

关于本实施方式的感射线性树脂组合物中的紫外线吸收剂的用量，相对于树脂100质量份，优选为0.01质量份～30质量份的范围，特别优选在0.1质量份～20质量份的范围使用。0.01质量份以下时，则对于所获得的保护膜的紫外线的屏蔽效果变得缺乏，30质量份以上时则存在有如下可能：使本实施方式的感射线性树脂组合物的感射线性降低，引起对图案形成的妨碍。

[其它的成分]

本实施方式的感射线性树脂组合物含有树脂以及具有醌二叠氮化物结构的化合物作为必需成分，并且除了含有紫外线吸收剂之外，还可含有固化促进剂、热酸产生剂、其它任选成分。

固化促进剂是发挥下述功能的化合物，其促进由本实施方式的感射线性树脂组合物形成的膜的固化。

作为固化促进剂，可列举出由4,4’-二氨基二苯基砜、2,2-双(4-氨基苯基)六氟丙烷、2,2’-双(三氟甲基)联苯胺、3-氨基苯磺酸乙酯、3,5-双三氟甲基-1,2-二氨基苯、4-氨基硝基苯、N,N-二甲基-4-硝基苯胺等在分子中具有吸电子性基和氨基的化合物，叔胺类化合物、酰胺类化合物、硫醇化合物、封端异氰酸酯化合物以及含咪唑环的化合物构成的群组中选出的至少一种化合物。

热酸产生剂是可以释放出酸性活性物质的化合物，其作为通过施加热将树脂进行固化时的催化剂而起作用。

本实施方式的感射线性树脂组合物中，在不损害本发明的效果的范围，可根据需要而含有表面活性剂、保存稳定剂、粘接助剂、耐热性提高剂等其它的任选成分。这些任选成分可单独使用，也可将两种以上混合而使用。

＜感射线性树脂组合物的制备方法＞

本实施方式的感射线性树脂组合物通过将树脂、具有醌二叠氮化物结构的化合物进行均匀混合而制备。另外，在含有紫外线吸收剂、固化促进剂、热酸产生剂、或者根据需要添加的其它任意成分的情况下，通过将树脂以及具有醌二叠氮化物结构的化合物和这些成分进行均匀混合从而制备。优选将该感射线性树脂组合物溶解于适当的溶剂而以溶液状使用。溶剂可单独使用或者混合两种以上而使用。

作为用于制备本实施方式的感射线性树脂组合物的溶剂，可使用将必需成分以及任选成分均匀溶解并且不与各成分反应的溶剂。作为这样的溶剂，例如列举出乙醇、乙二醇醚、乙二醇烷基醚乙酸酯、二乙二醇单烷基醚、二乙二醇二烷基醚、二丙二醇二烷基醚、丙二醇单烷基醚、丙二醇烷基醚乙酸酯、丙二醇单烷基醚丙酸酯、酮、酯等。

溶剂的含量没有特别限定，但是从所获得的感射线性树脂组合物的涂布性、稳定性等观点考虑，优选为使得感射线性树脂组合物经过去除溶剂而得到的各成分的合计浓度成为5质量%～50质量%的量，更优选为使其成为10质量%～40质量%的量。在制备感射线性树脂组合物的溶液的情况下，实际上，在上述浓度范围设定与所希望的膜厚的值等对应的固形物浓度(在组合物溶液中所占的除了溶剂以外的成分)。

关于通过这样操作而制备出的溶液状的组合物，优选通过使用孔径0.5μm左右的微孔过滤器等进行过滤，然后使用于形成本实施方式的保护膜。

＜保护膜的形成方法＞

关于本实施方式的有机EL显示元件的保护膜以下述方式形成，在按照公知方法形成有TFT以及在需要的情况下将该TFT覆盖的无机绝缘膜等的基板上，涂布本实施方式的感射线性树脂组合物，进行通孔的形成等必需的图案化，然后进行加热固化，形成固化膜。所形成的保护膜优选包含下述化合物而构成，该化合物具有感射线性树脂组合物中所含有的醌二叠氮化物结构，在该情况下可具备所希望的遮光性。

以下，更详细地说明保护膜的形成方法。

在本实施方式的半导体元件的保护膜的形成中，首先，在基板上形成本实施方式的感射线性树脂组合物的涂膜。在该基板上，按照公知方法形成有包含栅极、栅极绝缘膜以及半导体层等的TFT等。例如，在半导体层是通过使用IGZO等无定形氧化物而形成的半导体层的情况下，按照日本特开2006-165529号公报中记载的方法等，通过在基板上反复进行半导体成膜和基于光刻法的蚀刻从而形成。

在上述基板上，在形成有TFT等的面上涂布本实施方式的感射线性树脂组合物，然后进行预烘烤将溶剂蒸发，形成涂膜。

作为感射线性树脂组合物的涂布方法，例如可采用喷雾法、辊涂法、旋转涂布法(也有时称为旋涂法或者旋转法)、狭缝式涂布法(狭缝口模涂布法)、刮棒涂布法、喷墨涂布法等适当的方法。它们之中，从可形成均匀的厚度的膜的观点考虑，优选旋涂法或者狭缝式涂布法。

上述的预烘烤的条件因构成感射线性树脂组合物的各成分的种类、配混比例等而不同，但是优选在70℃～120℃的温度进行，时间因热板、烘箱等加热装置而不同，但是大致为1分钟～15分钟左右。

接着，对如上述那样操作而形成出的涂膜的至少一部分照射射线。此时，为了仅对涂膜的一部分进行照射，例如通过所希望的通孔、以及与所希望的形状对应的图案的光掩模而进行。

作为照射中使用的射线，列举出可见光线、紫外线、远紫外线等。其中优选为波长处于200nm～550nm的范围的辐射线，更优选为包含365nm的紫外线的辐射线。

关于辐射线照射量(曝光量)，通过照度计(OAI model356、Optical Associates Inc.制)测定所照射的射线在波长365nm处的强度的值可设为10J/m²～10000J/m²，优选为100J/m²～5000J/m²，更优选为200J/m²～3000J/m²。

接着，将射线照射后的涂膜进行显影而去除不需要的部分，获得形成有规定形状的通孔的涂膜。

作为显影中使用的显影液，例如可使用：氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠等无机碱，四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵等季铵盐，胆碱、1,8-二氮杂双环-[5.4.0]-7-十一碳烯、1,5-二氮杂双环-[4.3.0]-5-壬烯等碱性化合物的水溶液。也可在上述的碱性化合物的水溶液中添加适当量的甲醇、乙醇等水溶性有机溶剂而使用。进一步，也可仅将适当量的表面活性剂进行添加，或者也可与上述的水溶性有机溶剂的添加一同地将适当量的表面活性剂进行添加而使用。

显影方法可以是旋覆浸没法、浸渍法、淋浴法、喷雾法等中的任一种方法，显影时间在常温下可设为5秒～300秒，优选在常温下为10秒～180秒左右。紧接在显影处理之后，例如，进行30秒～90秒的流水洗涤，然后用压缩空气或压缩氮气进行风干，从而可获得所希望的图案。

接着，通过热板、烘箱等适当的加热装置将形成有规定形状的通孔的涂膜进行固化(亦称为后烘烤)。由此，可形成固化膜而获得本实施方式的保护膜。保护膜的膜厚优选为1μm～6μm。如上述那样，保护膜在所希望的位置配置通孔，具有所希望的形状。

根据本实施方式的感射线性树脂组合物，优选将后烘烤中的固化温度设为100℃～250℃。而且，通过所添加的固化促进剂的效果等，也可将固化温度设为200℃以下的低温固化。关于固化时间，例如，在热板上优选设为5分钟～30分钟，在烘箱中优选设为30分钟～180分钟。

＜堤层＞

本发明的实施方式的堤层如后述那样可通过使用本实施方式的感射线性树脂组合物而形成，可优选用作本发明的实施方式的有机EL元件的堤层，可优选用作上述的本实施方式的有机EL显示元件的堤层。以下，对作为本实施方式的有机EL显示元件的主要构成部件的堤层进行说明。

如上述那样，本实施方式的有机EL显示元件中，在形成于上述的保护膜之上的阳极上，具有要成为将有机发光层的配置区域进行规定的分隔壁的堤层。堤层可按照与矩阵状地配置的各像素对应的方式，例如可在俯视下具有格子状的形状。在该堤层所规定的区域内，配置有电致发光的有机发光层。本实施方式的有机EL显示元件中，堤层成为将有机发光层的周围包围的障碍壁，将相互相邻的各像素区划。

因此，要求堤层能够按照具有所希望的细的线宽、充分确保有机发光层的有效面积、并且使有机发光层的形状在各像素间变均匀，规定有机发光层的形成区域。为了实现这样的特性，堤层优选通过使用感射线性的树脂组合物而形成。而且，要求堤层在其形成中防止杂质(主要是水分)向有机发光层中的浸入。因此，要求开发出一种感射线性的树脂组合物，其可形成防止杂质(主要是水分)向有机发光层的浸入并且减低有机发光层的发光阻碍的堤层。

进一步，堤层优选为对于上述的以往的有机EL显示元件中的光的影响的问题而言是有效的堤层。

因此，在本实施方式的有机EL显示元件的堤层的形成中，可使用在上述的本实施方式的有机EL显示元件的保护膜的形成中使用的本实施方式的感射线性树脂组合物。

上述的本实施方式的感射线性树脂组合物通过包含树脂和具有醌二叠氮化物结构的化合物而构成，可通过实现其涂膜的高分辨率的图案化而实现所希望的形状。而且，可形成防止杂质(主要是水分)向有机发光层的浸入并且减低有机发光层的发光阻碍的堤层。

总而言之，具有上述的堤层的本实施方式的有机EL显示元件在包含具有醌二叠氮化物结构的化合物的堤层的效果的作用下，可实现TFT的半导体层的遮光。而且，本实施方式的有机EL显示元件在堤层的遮光效果的作用下，可减低由光的影响导致的特性的降低。通过包含具有这样的醌二叠氮化物结构的化合物而得到的堤层的遮光功能，如上述那样，对于因耐光性而存在较大问题的下述的具有半导体层的TFT的有机EL显示元件而言特别有效，该具有半导体层的有机EL显示元件使用了IGZO等无定形氧化物。

此时，将有机发光层的配置区域进行规定的堤层具有遮光性，这有可能会降低源自有机发光层的发光的效率，存在有成为不优选的情况。

但是，本实施方式的有机EL显示元件通过使用堤层，该堤层包含具有醌二叠氮化物结构的化合物，从而如上述那样可适宜地控制堤层的光透射性与遮光性的平衡。

因此，在本实施方式的有机EL显示元件的堤层中包含树脂以及、具有醌二叠氮化物结构的化合物和具有茚羧酸结构的化合物之中的至少一个。

如以上那样，在本实施方式的有机EL显示元件中，其堤层在图案化性等的基础上，显示出上述的特有的效果。而且，在堤层的形成中，可使用在保护膜的形成中使用的本实施方式的感射线性树脂组合物。因此，在本实施方式的有机EL显示元件中，可使用在保护膜和堤层的形成中共通使用的感射线性树脂组合物，可实现高的生产率。

又，在堤层的形成中使用上述的本实施方式的感射线性树脂组合物的情况下，可含有憎液剂作为其它的成分。关于堤层，由于如上述那样将包含有机发光材料的油墨状的发光材料组合物所涂布的区域进行规定，因而优选浸润性低的堤层。因此，存在有感射线性树脂组合物中含有的憎液剂有效地发挥功能的情况。憎液剂的例子中，包含偏二氟乙烯、氟乙烯、三氟乙烯等氟化合物或含氟聚合物等。

下面，更详细说明本实施方式的有机EL显示元件的堤层的形成。

＜堤层的形成方法＞

堤层可通过使用上述的本实施方式的感射线性树脂组合物，利用光刻法从而形成。另外，也可使用印刷法而形成。利用光刻法的情况下，在上述的保护膜上形成有阳极的基板之上，形成本实施方式的感射线性树脂组合物的涂膜。如上述那样，保护膜上的阳极例如由ITO等导电性的材料形成。阳极可通过利用溅射法等将该导电性的材料在保护膜上进行成膜，然后通过蚀刻等将所成膜出的膜进行图案化，从而形成。另外，也可通过喷墨、液体定量供给装置、凸版、凹版印刷等将液状的阳极形成材料涂布于保护膜上，将所涂布的阳极形成材料进行干燥而形成阳极。

然后，通过使用本实施方式的感射线性树脂组合物，在保护膜上形成有阳极的基板之上，进行涂布，然后进行预烘烤，将溶剂蒸发，形成涂膜。

作为感射线性树脂组合物的涂布方法，例如可采用喷雾法、辊涂法、旋转涂布法、狭缝式涂布法、刮棒涂布法、喷墨涂布法等适当的方法。它们之中，从可形成均匀的厚度的膜的观点考虑，优选旋转涂布法或者狭缝式涂布法。

关于上述的预烘烤的条件，因构成感射线性树脂组合物的各成分的种类、配混比例等而不同，优选在70℃～120℃的温度进行，关于时间，因热板、烘箱等加热装置而不同，但是大致为1分钟～15分钟左右。作为所形成的涂膜的膜厚，以预烘烤后的值的方式可设为3μm～6μm。

接着，对如上述那样操作而形成出的涂膜的至少一部分照射射线。此时，为了仅对涂膜的一部分进行照射，优选例如通过与所希望的形状对应的图案的光掩模而进行。

作为照射中使用的射线，列举出可见光线、紫外线、远紫外线等。其中优选为波长处于200nm～550nm的范围的射线，更优选为包含365nm的紫外线的辐射线。

关于射线照射量(曝光量)，通过照度计(OAI model356、OpticalAssociates Inc.制)测定所照射的射线在波长365nm处的强度的值可设为10J/m²～10000J/m²，优选为100J/m²～5000J/m²，更优选为200J/m²～3000J/m²。

接着，将射线照射后的涂膜进行显影而去除不需要的部分，可获得形成为规定的形状的涂膜。

作为显影中使用的显影液，例如可使用氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠等无机碱，四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵等季铵盐，胆碱、1,8-二氮杂双环-[5.4.0]-7-十一碳烯、1,5-二氮杂双环-[4.3.0]-5-壬烯等碱性化合物的水溶液。也可在上述的碱性化合物的水溶液中添加适当量的甲醇、乙醇等水溶性有机溶剂而使用。进一步，也可仅将适当量的表面活性剂进行添加，或者也可与上述的水溶性有机溶剂的添加一同地将适当量的表面活性剂进行添加从而使用。

显影方法可以是旋覆浸没法、浸渍法、淋浴法、喷雾法等中的任一个方法，显影时间在常温下可设为5秒～300秒，优选在常温下为10秒～180秒左右。紧接在显影处理之后，例如，进行30秒～90秒的流水洗涤，然后由压缩空气或压缩氮气进行风干，从而可获得所希望的图案。

接着，通过热板、烘箱等适当的加热装置将形成了规定形状的通孔的涂膜进行后烘烤。由此形成固化膜，获得具备有所希望的形状的本实施方式的堤层。

根据本实施方式的感射线性树脂组合物，后烘烤时的固化温度优选设为100℃～250℃。而且，也可在所添加的固化促进剂的效果等的作用下，将固化温度设为200℃以下的低温固化。关于固化时间，例如，在热板上优选设为5分钟～30分钟，在烘箱中优选设为30分钟～180分钟。

以上，对本实施方式的有机EL显示元件的结构和主要的构成要素进行了说明，以下对本实施方式的有机EL显示元件的制造方法进行说明。又，关于本实施方式的有机EL显示元件的形成有TFT的基板的准备、保护膜以及堤层等的形成，可按照上述的方法进行，以下主要对有机发光层的形成进行说明。

＜有机EL显示元件的制造方法＞

在本实施方式的有机EL显示元件的制造方法中，作为主要的制造工序，包含如下工序：使用形成有TFT等并且按照上述的方法形成有保护膜以及堤层的基板，在由堤层规定出的区域形成有机发光层。

在该工序中，由堤层规定出的区域处，在阳极上涂布包含有机发光层的材料的油墨状的发光材料组合物，从而形成有机发光层。分别发光出红、绿以及蓝的有机发光层通过如下形成：在由堤层规定出的区域内，涂布包含有机发光材料和溶剂的液状发光材料组合物，将所涂布的该组合物干燥。在溶剂的例子中，包含苯甲醚等芳香族类的溶剂。涂布的手段没有特别限定。涂布的手段的例子中，包含使用了喷墨、液体定量供给装置、喷嘴涂布、旋转涂布、凹版印刷、凸版印刷等的方法。优选的涂布手段为喷墨法。另外，关于所供给的发光材料组合物的量，优选每1像素(5000μm²～30000μm²)为40pl～120pl。

通过喷墨法等涂布法将包含有机发光材料和溶剂的液状发光材料组合物涂布于像素区域，可容易并且不对其它的材料造成损伤地形成有机发光层。

通过该工序而形成有机发光层后，按照蒸镀法、溅射法等公知方法，在有机发光层上形成阴极。优选的是，在阴极上按照公知方法形成钝化膜，其后，通过封口基板从上方将形成有有机发光层的基板面封口。关于封口，沿着封口基板封的外周，例如，涂布紫外线固化型的密封材料，在氮气或氩气等非活性气体气氛中，使形成了有机发光层的基板与封口基板贴合。由此，氮气等非活性气体构成封口层，将有机发光层封入于非活性气体气氛的密闭空间内。其后，通过照射紫外线，将密封材料进行固化。根据以上，可获得本实施方式的有机EL显示元件。又，也可将封口层制成粘接剂等填充材料的层。

如以上那样操作而制造的本实施方式的有机EL显示元件中，在保护膜中可按照所希望的配置和形状形成通孔，在堤层中可实现所希望的狭小并且均匀的线宽以及没有间隙的边缘部分。其结果，本实施方式的有机EL显示元件中，保护膜、堤层等构成要素实现优异的形状控制。而且，本实施方式的有机EL显示元件是高亮度并且高可靠性的，成为高生产率的有机EL显示元件。

实施例

以下，基于实施例而详述本发明的实施方式，但是本发明不限于该实施例的具有限定性的解释。

＜感射线性树脂组合物的制备＞

合成例1

[树脂(α-I)的合成]

向具备有冷凝管以及搅拌器的烧瓶中，加入了2,2’-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)8质量份以及二乙二醇甲基乙基醚220质量份。接着，加入甲基丙烯酸15质量份、甲基丙烯酸缩水甘油酯40质量份、甲基丙烯酸羟基苯酯10质量份、甲基丙烯酸甲酯20质量份、N-环己基马来酰亚胺15质量份，进行氮气置换，然后一边平缓地搅拌一边将溶液的温度提高至70℃，将该温度保持5小时而聚合，从而获得了含有树脂(α-I)的作为共聚物的溶液。作为共聚物的树脂(α-I)的Mw为8000。

合成例2

[树脂(α-II)的合成]

在干燥氮气流下，将双(3-氨基-4-羟基苯基)六氟丙烷(CentralGlass Co.,Ltd.)29.30g(0.08摩尔)、1,3-双(3-氨基丙基)四甲基二硅氧烷1.24g(0.005摩尔)、作为末端封口剂的3-氨基苯酚(东京化成工业社)3.27g(0.03摩尔)溶解于N-甲基-2-吡咯烷酮(以下称为NMP)80g中。向其中加入双(3,4-二羧基苯基)醚二酐(MANAC公司(マナック社))31.2g(0.1摩尔)以及NMP20g，在20℃反应1小时，接着在50℃反应了4小时。其后，添加二甲苯15g，一边使水与二甲苯一同地共沸，一边在150℃搅拌5小时。搅拌结束后，将溶液投入于水3L而获得了白色沉淀。通过过滤将该沉淀收集，用水进行3次洗涤，然后利用80℃的真空干燥机而干燥20小时，以由下述式表示的结构的聚合物的方式获得了树脂(α-II)。

【化学式14】

合成例3

[树脂(α-III)的合成]

在附带搅拌器的容器内，加入丙二醇单甲醚20质量份，接着，加入甲基三甲氧基硅烷70质量份、以及甲苯基三甲氧基硅烷30质量份，进行加热直至溶液温度成为60℃。溶液温度达到60℃后，加入磷酸0.15质量份、离子交换水19质量份，进行加热直至成为75℃，保持了4小时。进一步，将溶液温度设为40℃，一边保持该温度一边蒸发，从而去除了离子交换水以及由水解缩合产生的甲醇。通过以上，获得了作为水解缩合物的硅氧烷聚合物。作为硅氧烷聚合物的树脂(α-III)的Mw为5000。

实施例1

[感射线性树脂组合物(β-I)的制备]

将与共聚物100质量份(固形物)相当的量的合成例1的含有树脂(α-I)的溶液、以及35质量份的作为具有醌二叠氮化物结构的化合物的下述化合物、以及5质量份的作为紫外线吸收剂的2,2’,4,4’-四羟基二苯甲酮进行混合，溶解于二乙二醇乙基甲基醚，然后用口径0.2μm的膜过滤器过滤，从而制备了感射线性树脂组合物(β-I)。

【化学式15】

实施例2

[感射线性树脂组合物(β-II)的制备]

向合成例2的树脂(α-II)8g中加入酚醛清漆树脂(商品名，XPS-4958G、间甲酚/对甲酚比=55/45(重量比)、群荣化学工业社)2g。进一步，作为在热的作用下进行交联反应的热交联性化合物，加入下述式(β1)所示的化合物2.4g以及下述式(β2)所示的化合物0.6g，加入具有醌二叠氮化物结构的化合物(β3)2g，加入作为紫外线吸收剂的2-(2-羟基-5-甲基苯基)-2H-苯并三唑0.5g，向它们中加入作为溶剂的γ-丁内酯而溶解，然后用口径0.2μm的膜过滤器过滤，从而制备了感射线性树脂组合物(β-II)。

【化学式16】

实施例3

[感射线性树脂组合物(β-III)的制备]

向由合成例3获得的包含作为硅氧烷聚合物的树脂(α-III)的溶液(与硅氧烷聚合物100质量份(固形物)相当的量)中，加入作为具有醌二叠氮化物结构的化合物的4,4’-[1-{4-(1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基)苯基}亚乙基]双酚(1.0摩尔)与1,2-萘醌二叠氮化物-5-磺酰氯(3.0摩尔)的缩合物12质量份，加入作为紫外线吸收剂的2,2’,4,4’-四羟基二苯甲酮5质量份，按照固形物浓度为25质量%的方式添加丙二醇单甲醚，制备了感射线性树脂组合物(β-III)。

＜固化膜的形成和射线灵敏度的评价＞

实施例4

在硅基板上，通过旋涂器将由实施例1制备出的感射线性树脂组合物(β-I)涂布后，在90℃的热板上预烘烤2分钟从而形成涂膜。接着，对于所获得的涂膜，使用高压水银灯，通过具有规定的线与间隔(line and space)(10比1)图案的图案掩模，以曝光量700J/m²进行射线照射，在0.4质量%的四甲基氢氧化铵水溶液中进行了25℃、60秒显影。接着，通过在烘箱中以230℃的固化温度以及30分钟的固化时间进行后烘烤而形成有图案化后的固化膜。可知：在所获得的固化膜中，3.0μm的线与间隔图案中的间隔图案完全地溶解，可以以1000J/m²以下较少的射线照射量进行高度的图案化。其结果可知，由实施例1制备出的感射线性树脂组合物(β-I)具有优异的辐射线灵敏度，使用其而形成的固化膜具有优异的图案化性。

实施例5

在硅基板上，通过旋涂器将由实施例2制备出的感射线性树脂组合物(β-II)涂布后，在90℃的热板上预烘烤2分钟而形成了涂膜。接着，对于所获得的涂膜，使用高压水银灯，通过具有规定的线与间隔(10比1)图案的图案掩模，以曝光量1000J/m²进行射线照射，在0.4质量%的四甲基氢氧化铵水溶液中进行了25℃、150秒显影。接着，在烘箱中以230℃的固化温度以及30分钟的固化时间进行后烘烤而形成有图案化后的固化膜。可知：在所获得的固化膜中，3.0μm的线与间隔图案的间隔图案完全地溶解，可以以1000J/m²以下较少的射线照射量进行高度的图案化。其结果可知，由实施例2制备出的感射线性树脂组合物(β-II)具有优异的辐射线灵敏度，使用其而形成的固化膜具有优异的图案化性。

实施例6

在硅基板上，通过旋涂器将由实施例3制备出的感射线性树脂组合物(β-III)涂布后，在100℃的热板上预烘烤2分钟而形成出涂膜。接着，对于所获得的涂膜，使用高压水银灯，通过具有规定的线与间隔(10比1)图案的图案掩模，以曝光量800J/m²进行辐射线照射，在0.4质量%的四甲基氢氧化铵水溶液中进行了25℃、80秒显影。接着，在烘箱中以230℃的固化温度以及30分钟的固化时间进行后烘烤而形成有图案化后的固化膜。可知：在所获得的固化膜中，3.0μm的线与间隔图案的间隔图案完全地溶解，可以以1000J/m²以下较少的射线照射量进行高度的图案化。其结果可知，由实施例3制备出的感射线性树脂组合物(β-III)具有优异的射线灵敏度，使用其而形成的固化膜具有优异的图案化性。

＜固化膜的形成和耐受性的评价＞

实施例7

[由感射线性树脂组合物(β-I)形成的固化膜]

在无碱玻璃基板上，通过旋涂器将由实施例1制备出的感射线性树脂组合物(β-I)涂布后，在90℃的热板上预烘烤2分钟而形成出涂膜。接着，对于所获得的涂膜，使用高压水银灯以曝光量700J/m²进行射线照射，在0.4质量%的四甲基氢氧化铵水溶液中进行了25℃、60秒显影。接着，在烘箱中以230℃的固化温度以及30分钟的固化时间进行后烘烤从而形成出固化膜。

实施例8

[由感射线性树脂组合物(β-II)形成的固化膜]

在无碱玻璃基板上，通过旋涂器将由实施例2制备出的感射线性树脂组合物(β-II)涂布后，在90℃的热板上预烘烤2分钟而形成出涂膜。接着，对于所获得的涂膜使用高压水银灯以曝光量1000J/m²进行射线照射，在0.4质量%的四甲基氢氧化铵水溶液中进行了25℃、150秒显影。接着，在烘箱中以230℃的固化温度以及30分钟的固化时间进行后烘烤而形成出固化膜。

实施例9

[由感射线性树脂组合物(β-III)形成的固化膜]

在无碱玻璃基板上，通过旋涂器将由实施例3制备出的感射线性树脂组合物(β-III)涂布后，在100℃的热板上预烘烤2分钟而形成出涂膜。接着，对于所获得的涂膜，使用高压水银灯以曝光量800J/m²进行射线照射，在0.4质量%的四甲基氢氧化铵水溶液中进行了25℃、80秒显影。接着，在烘箱中以230℃的固化温度以及30分钟的固化时间进行后烘烤而形成出固化膜。

实施例10

[耐热性的评价]

关于基于实施例7的形成方法而得到的固化膜，进一步在烘箱中在230℃加热20分钟，由触针式膜厚测定仪(Alpha-Step IQ、KLA-TENCOR社)测定出此加热前后的膜厚。然后，算出残膜率(处理后膜厚/处理前膜厚×100)，将该残膜率设为耐热性。残膜率为99%，判断耐热性为良好。

同样地关于基于实施例8的形成方法而得到的固化膜，进一步在烘箱中在230℃加热20分钟，由触针式膜厚测定仪(Alpha-StepIQ、KLA-TENCOR社)测定出此加热前后的膜厚。然后，算出残膜率(处理后膜厚/处理前膜厚×100)，将该残膜率设为耐热性。残膜率为99%，判断耐热性为良好。

同样地关于基于实施例9的形成方法而得到的固化膜，进一步在烘箱中在230℃加热20分钟，由触针式膜厚测定仪(Alpha-StepIQ、KLA-TENCOR社)测定出此加热前后的膜厚。然后，算出残膜率(处理后膜厚/处理前膜厚×100)，将该残膜率设为耐热性。残膜率为99%，判断耐热性为良好。

实施例11

[耐光性的评价]

关于基于实施例7的形成方法而得到的固化膜，进一步，使用UV照射装置(UVX-02516S1JS01、USHIO公司)，以130mW的照度照射800000J/m²的紫外光，调查了照射后的膜减少量。膜减少量为2%以下，判断耐光性为良好。

同样地，关于基于实施例8的形成方法而得到的固化膜，进一步，使用UV照射装置(UVX-02516S1JS01、USHIO公司)，以130mW的照度照射800000J/m²的紫外光，调查了照射后的膜减少量。膜减少量为2%以下，判断耐光性为良好。

同样地，关于基于实施例9的形成方法而得到的固化膜，进一步，使用UV照射装置(UVX-02516S1JS01、USHIO公司)，以130mW的照度照射800000J/m²的紫外光，调查了照射后的膜减少量。膜减少量为2%以下，判断耐光性为良好。

根据以上的结果可知，由实施例1～3制备出的感射线性树脂组合物(β-I)～(β-III)可以以高的水平进行图案化，使用其而获得的固化膜可优选用作有机EL显示元件的保护膜以及堤层。

产业上的可利用性

本发明的有机EL显示元件可增大像素内的有机发光层的有效面积，另外，可利用喷墨法等以高生产率和高精度来形成有机发光层。而且，可减低由紫外线或水分等杂质导致的性能降低。因此，本发明的有机EL显示元件可优选使用于要求获得优异的显示品味和可靠性的大型平面电视等用途中。

符号说明

1、100  有机EL显示元件

2、102  基板

3、103  TFT

4、104  栅极

5、105  栅极绝缘膜

6、106  半导体层

7、107  第1源-漏极电极

8、108  第2源-漏极电极

10、110 保护膜

11、111 阳极

12、112 通孔

13、113 堤层

14、114 有机发光层

15、115 阴极

16、116 钝化膜

17、117 封口层

19      无机绝缘膜

20、120 封口基板

Claims (23)

1.一种有机EL元件，其具有：基板；配置于所述基板上的有源元件；将所述有源元件覆盖的保护膜；配置于所述保护膜上的第1电极；配置于所述第1电极上的有机发光层；以及配置于所述有机发光层之上的第2电极，其特征在于，

所述保护膜包含：第1树脂；以及具有醌二叠氮化物结构的化合物和具有茚羧酸结构的化合物中至少之一。

2.根据权利要求1所述的有机EL元件，其特征在于，所述保护膜具有通孔，所述第1电极按照通过该通孔与所述有源元件连接的方式而构成。

3.根据权利要求1或2所述的有机EL元件，其特征在于，所述第1树脂包含从由具有羧基的丙烯酸类树脂、聚酰亚胺树脂、聚硅氧烷以及酚醛清漆树脂构成的群组中选出的至少一种。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的有机EL元件，其特征在于，所述保护膜包含紫外线吸收剂。

5.根据权利要求4所述的有机EL元件，其特征在于，所述紫外线吸收剂包含从由下述通式(1)以及下述通式(2)所示的化合物构成的群组中选出的1种，

【化学式1】

【化学式2】

式(1)以及式(2)中，R¹～R¹⁵各自独立地表示氢、碳原子数1～20的烷基、碳原子数1～20的烷氧基、碳原子数1～20的苯酰氧基或者羟基。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的有机EL元件，其特征在于，在所述有源元件之上具有堤层，该堤层按照将所述有机发光层的配置区域进行规定的方式设置。

7.根据权利要求6所述的有机EL元件，其特征在于，所述堤层包含：第2树脂；以及具有醌二叠氮化物结构的化合物和具有茚羧酸结构的化合物中至少之一。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的有机EL元件，其特征在于，所述第2树脂包含从由具有羧基的丙烯酸类树脂、聚酰亚胺树脂、聚硅氧烷以及酚醛清漆树脂构成的群组中选出的至少一种。

9.根据权利要求6～8中任一项所述的有机EL元件，其特征在于，所述堤层包含紫外线吸收剂。

10.根据权利要求9所述的有机EL元件，其特征在于，所述紫外线吸收剂包含从由下述通式(1)以及下述通式(2)所示的化合构成的群组中选出的一种，

【化学式3】

【化学式4】

式(1)以及式(2)中，R¹～R¹⁵各自独立地表示氢、碳原子数1～20的烷基、碳原子数1～20的烷氧基、碳原子数1～20的苯酰氧基或者羟基。

11.一种有机EL元件，其具有：基板；配置于所述基板上的有源元件；连接于所述有源元件的第1电极；配置于所述第1电极上的有机发光层；堤层，该堤层设置于所述有源元件之上并且将所述有机发光层的配置区域进行规定；以及配置于所述有机发光层之上的第2电极，其特征在于，

所述堤层包含：树脂；以及具有醌二叠氮化物结构的化合物和具有茚羧酸结构的化合物中至少之一。

12.根据权利要求11所述的有机EL元件，其特征在于，所述树脂包含从由具有羧基的丙烯酸类树脂、聚酰亚胺树脂、聚硅氧烷以及酚醛清漆树脂构成的群组中选出的至少一种。

13.根据权利要求11或12所述的有机EL元件，其特征在于，所述堤层包含紫外线吸收剂。

14.根据权利要求13所述的有机EL元件，其特征在于，所述紫外线吸收剂包含从由下述通式(1)以及下述通式(2)所示的化合物构成的群组中选出的一种，

【化学式5】

【化学式6】

式(1)以及式(2)中，R¹～R¹⁵各自独立地表示氢、碳原子数1～20的烷基、碳原子数1～20的烷氧基、碳原子数1～20的苯酰氧基或者羟基。

15.根据权利要求11～14中任一项所述的有机EL元件，其特征在于，在所述有源元件之上，具有将该有源元件覆盖的保护膜，所述第1电极按照配置于所述保护膜上并且通过设置于该保护膜的通孔连接于所述有源元件的方式而构成。

16.根据权利要求1～15中任一项所述的有机EL元件，其特征在于，所述有源元件通过具有半导体层而构成，所述半导体层通过使用硅(Si)而构成。

17.根据权利要求1～15中任一项所述的有机EL元件，其特征在于，所述有源元件通过具有半导体层而构成，所述半导体层通过使用下述氧化物而形成，该氧化物通过包含铟(In)、锌(Zn)以及锡(Sn)之中的至少一种而构成。

18.根据权利要求17所述的有机EL元件，其特征在于，所述半导体层通过使用氧化锌(ZnO)、氧化铟镓锌(IGZO)、氧化锌锡(ZTO)以及氧化铟锌(IZO)之中的至少一种而形成。

19.一种感射线性树脂组合物，其特征在于，其为用于形成权利要求1～10中任一项所述的有机EL元件的保护膜的感射线性树脂组合物，包含树脂和具有醌二叠氮化物结构的化合物。

20.一种感射线性树脂组合物，其特征在于，其为用于形成权利要求11～15中任一项所述的有机EL元件的堤层的感射线性树脂组合物，包含树脂和具有醌二叠氮化物结构的化合物。

21.根据权利要求20所述的感射线性树脂组合物，其特征在于，所述有机EL元件中，所述有源元件通过具有半导体层而构成，所述半导体层通过使用下述氧化物而形成，该氧化物通过包含铟(In)、锌(Zn)以及锡(Sn)之中的至少一种而构成。

22.一种固化膜，其特征在于，其通过使用权利要求19所述的感射线性树脂组合物而形成，并构成有机EL元件的保护膜。

23.一种固化膜，其特征在于，其通过使用权利要求20或21所述的感射线性树脂组合物而形成，并构成有机EL元件的堤层。

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