JP5343664B2 - 感放射線性樹脂組成物、有機ｅｌ表示素子用隔壁及び絶縁膜、並びにその形成方法 - Google Patents

Description

本発明は、隔壁及び絶縁膜形成用の感放射線性樹脂組成物、有機ＥＬ表示素子用隔壁及び絶縁膜、及びその形成方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、紫外線、遠紫外線、Ｘ線等の放射線を利用した隔壁及び絶縁膜の形成に適する感放射線性樹脂組成物、それから形成された有機ＥＬ表示素子用隔壁及び絶縁膜、及びその隔壁及び絶縁膜を形成する方法に関する。

有機ＥＬ表示素子は、自己発光するため視野角依存性がなく、また固体素子であるため耐衝撃性に優れ、低電圧駆動、低消費電力及び低温域の動作安定性が高いなど、液晶表示素子と比較して種々の利点がある。有機ＥＬ表示素子は、これらの利点を有するため、特に携帯端末や車載機器等のモバイル用途への適用の期待が高く、盛んに研究がなされている。

このような有機ＥＬ表示素子は、一般的に次のような方法によって製造される。まず、基板上に錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）などの透明電極（ホール注入電極）及びホール輸送層のパターンを形成する。次いで、パッシブ型有機ＥＬ表示素子にあっては、絶縁膜のパターン及び陰極隔壁のパターンを形成した後、有機ＥＬ層、電子輸送層及び陰極（電子注入電極）を蒸着によりパターニングする。また、アクティブ型有機ＥＬ表示素子にあっては、ＩＴＯパターン、有機ＥＬ層の隔壁ともなる絶縁膜のパターンを形成した後、有機ＥＬ層のパターンをマスキング法やインクジェット法等により形成し、次いで電子輸送層及び陰極（電子注入電極）を形成する。ここで、有機ＥＬ層としては、Ａｌｑ₃、ＢｅＢｑ₃の如き基材母体にキナクリドンやクマリンをドープした材料を用い、陰極材料としては、ＭｇやＡｇのような低仕事関数の金属を主体とした材料を用いるのが一般的である。

近年、高精細化の要求に応えるべく、開口率のより高い有機ＥＬ表示素子が検討されている。しかし、下記する理由により、開口率の向上には一定の限界がある。すなわち、パッシブ型有機ＥＬ表示素子において開口率を上げるには、絶縁膜及び陰極隔壁のパターン幅を減ずる必要があるが、これらの部分には一定の強度が要求されること、及び解像度の点からパターン幅の減少に限界があることから、十分に高い開口率が得られていない。また、アクティブ型有機ＥＬ表示素子においては、画素ごとのＩＴＯパターンの短絡を避けるため、画素間に一定の間隔を設ける必要があるため、開口率の向上に限界がある。

最近、より高い開口率を実現できる構造のアクティブ型有機ＥＬ表示素子が検討されている。このようなアクティブ型有機ＥＬ表示素子は、例えば次のような方法によって製造される。まず、ガラス等の基板上に駆動用端子を形成し、その上に平坦化膜を兼ねた第一の絶縁膜を形成する。次いで、その上にＩＴＯなどの透明電極（ホール注入電極）のパターンを形成する。このときのパターン形成は、通常、ウェット・エッチング法によっている。さらにその上に、マスキング法によりホール輸送層のパターンを形成する。続いて、ＩＴＯパターン及び有機ＥＬ層の隔壁ともなる第二の絶縁膜のパターン、並びに有機ＥＬ層のパターンをマスキング法やインクジェット法等により形成し、次いで、電子輸送層及び陰極（電子注入電極）を順次形成する。このとき、ＩＴＯ電極（ホール注入電極）と駆動用端子との導通を取るため、第一の絶縁膜に１〜１５μｍ程度のスルーホールあるいはコの字型の窪みを形成する必要がある。

ところで、有機ＥＬ発光層は、低分子発光層であっても高分子発光層であっても、水分と接触すると速やかに劣化し、その発光状態が阻害されることが知られている。このような水分は、環境から浸入する場合と、吸着水などの形態で絶縁膜材料に含まれる微量の水分が徐々に有機ＥＬ層に浸入する場合があると考えられている。

現在に至るまで、より高い開口率を実現するために必要なスルーホールあるいはコの字型の窪みを形成しうる十分な解像度を持ち、平坦化性能に優れると共に、透明電極形成時に用いられるレジスト剥離液に対する高い耐性を持ち、さらに、発光を阻害する不純物（主として水分）の浸入を防ぐ絶縁膜を形成できる材料は提案されていない。

一方、有機ＥＬ表示素子を用いた表示装置におけるコントラストを高め、視認性を向上させる目的で、絶縁膜及び／又は素子分離構造体の基部に遮光性を持たせる試みがなされている（例えば、特開平１１−２７３８７０号公報、特開２００２−１１６５３６号公報参照）。しかしながら、これら感放射線性樹脂組成物では、遮光性硬化膜やブラックマトリックスの遮光性を十分高めるために、着色剤を相当量使用する必要がある。そのように多量の着色剤を用いた場合には、露光された放射線が着色剤により吸収されるために、塗膜中の放射線の有効強度が低下し、パターン形成のための放射線感度（露光感度）が低下する等の不都合がある。

放射線感度を低下させず、隔壁や絶縁膜に遮光性を付与する具体的手法として、ノボラック樹脂等のアルカリ可溶性樹脂とジアゾキノンとを含むポジ型レジストに、感熱性材料と顕色剤を添加する方法がある（例えば、特開平１０−１７０７１５号公報、特開２００８−１２２５０１号公報参照）。この方法では、熱を加えることにより黒色に発色する感熱性材料と顕色剤を予め内添したポジ型感放射線性樹脂組成物が用いられる。このような感放射線性樹脂組成物においては、露光前は感熱性材料が未反応の状態にあり黒色にはなっていないため、樹脂組成物自身として遮光性を有さず、放射線感度が悪化することはない。

しかしながら、有機ＥＬ表示素子におけるパターンや、隔壁あるいは絶縁膜形成に必要とされる温度は一般的に２００℃付近である。そのため、特開平１０−１７０７１５号公報や特開２００８−１２２５０１号公報に開示されている顕色剤と発色剤では、この温度に対する耐熱性が不十分であり、満足な遮光性が得られないばかりか、パターン形成時に昇華し、焼成炉の汚染等の危険性も指摘されている。

特開平１１−２７３８７０号公報 特開２００２−１１６５３６号公報 特開平１０−１７０７１５号公報 特開２００８−１２２５０１号公報

本発明は、上記のような事情に基づいてなされたものであり、その目的は、絶縁膜のスルーホールあるいはコの字型の窪みを形成しうる十分な解像度を持ち、平坦化性能に優れると共に、透明電極形成時に用いられるレジスト剥離液に対する高い耐性を持ち、かつ優れた放射線感度と加熱時の高い遮光性を併せ持つ、有機ＥＬ表示素子の隔壁及び絶縁膜を形成するための感放射線性樹脂組成物を提供することにある。

上記課題を解決するためになされた本発明は、
［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物と、
（ａ２）下記式（Ｉ）で表わされるフェノール骨格含有不飽和化合物、下記式（ＩＩ）で表わされる化合物、及び下記式（ＩＩＩ）で表わされる化合物よりなる群から選択される化合物と
を含む単量体を共重合してなる共重合体のアルカリ可溶性樹脂、
［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物、及び
［Ｃ］感熱色素
を含有する隔壁及び絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物である。

（式（Ｉ）中、Ｒ^１は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ^２〜Ｒ^６は同一もしくは異なり、水素原子、ヒドロキシル基又は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｂは単結合、−ＣＯＯ−、又は−ＣＯＮＨ−であり、ｍは０〜３の整数であるが、但し、Ｒ^２〜Ｒ^６の少なくとも１つはヒドロキシル基である。式（ＩＩ）中、Ｒ^１は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｙ^１及びＹ^２は同一もしくは異なり、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｘ^１〜Ｘ^４は同一もしくは異なり、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子であり、Ｚは単結合又は−Ｏ（ＣＨ_２）_ｗ−であり、ｗは１〜６の整数である。式（ＩＩＩ）中、Ｒ^１は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｚは単結合又は−Ｏ（ＣＨ_２）_ｗ−であり、ｗは１〜６の整数である。）

当該隔壁及び絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂及び顕色剤の両方として作用する不飽和カルボン酸等、並びにフェノール骨格含有不飽和化合物等の共重合体と、感熱色素とを含有するため、隔壁及び絶縁膜形成時の高温に対する耐熱性を有し、顕色剤の昇華が防止されうると共に、優れた放射線感度及び現像性に加えて、加熱時の高い遮光性が得られる。

当該感放射線性樹脂組成物における［Ａ］成分のアルカリ可溶性樹脂は、（ａ１）成分及び（ａ２）成分に加えて、（ａ３）エポキシ基含有不飽和化合物を含む単量体を共重合してなる共重合体であることが好ましい。［Ａ］成分のアルカリ可溶性樹脂である共重合体の成分として、このようなエポキシ基含有不飽和化合物を用いることにより、当該感放射線性樹脂組成物から形成される隔壁及び絶縁膜の耐熱性及び表面硬度をさらに高めることが可能となる。

当該感放射線性樹脂組成物における［Ｃ］成分の感熱色素の含有量は、［Ａ］成分のアルカリ可溶性樹脂１００質量部に対して、０．１質量部以上３０質量部以下であることが好ましい。［Ｃ］成分の感熱色素の含有量をこのような範囲とすることにより、熱に対する吸収感度や、放射線感度、耐熱性、及び耐溶剤性を適切なレベルに保つことができる。

また、本発明の有機ＥＬ表示素子用隔壁及び有機ＥＬ表示素子用絶縁膜の形成方法は、
（１）当該感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
（２）工程（１）で形成した塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）工程（２）で放射線を照射された塗膜を現像する工程、及び
（４）工程（３）で現像された塗膜を加熱する工程
を含んでいる。

当該感放射線性樹脂組成物を用い、上記の工程により有機ＥＬ表示素子の隔壁及び絶縁膜を製造した場合には、露光前は組成物に包含される感熱色素が未反応の状態にあるため遮光性を発現しないが、露光後に加熱した際には高い遮光性を示し、当該隔壁及び絶縁膜を有する有機ＥＬ表示素子を備えた表示装置のコントラストが良好となる。

以上説明したように、本発明の感放射線性樹脂組成物は、所定の共重合体であるアルカリ可溶性樹脂を顕色剤としても用いるため、隔壁及び絶縁膜形成時の高温に対する耐熱性を有し、顕色剤の昇華が防止されうると共に、優れた放射線感度、現像性に加えて、加熱時の高い遮光性が得られる。

本発明の隔壁及び絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物は、［Ａ］成分のアルカリ可溶性樹脂、［Ｂ］成分の１，２−キノンジアジド化合物、［Ｃ］成分の感熱色素、及びその他の任意成分を含有する。以下、各成分について説明する。

［Ａ］成分
［Ａ］成分は、（ａ１）不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物、並びに（ａ２）上記式（Ｉ）で表わされるフェノール骨格含有不飽和化合物、上記式（ＩＩ）で表わされる化合物、及び上記式（ＩＩＩ）で表わされる化合物よりなる群から選択される化合物を含む単量体を共重合してなる共重合体である。以下、この共重合体を「共重合体［Ａ］」と称する。共重合体［Ａ］は、この化合物（ａ１）及び化合物（ａ２）に加えて、（ａ３）エポキシ基含有不飽和化合物、及び／又は（ａ４）これらの化合物（ａ１）〜（ａ３）以外のラジカル重合性を有する不飽和化合物を含む単量体を共重合してなる共重合体であってもよい。共重合体［Ａ］は、アルカリ可溶性樹脂であるが、感放射線性樹脂組成物において顕色剤としても機能する。共重合体［Ａ］を含む感放射線性樹脂組成物によれば、隔壁及び絶縁膜形成時における高耐熱性、高放射線感度、高現像性に加えて、加熱時に優れた遮光性が得られる。

共重合体［Ａ］は、化合物（ａ１）及び（ａ２）、並びに任意の化合物（ａ３）及び（ａ４）を溶媒中、重合開始剤の存在下でラジカル重合することによって製造することができる。共重合体［Ａ］は、化合物（ａ１）から誘導される構成単位を、化合物（ａ１）、（ａ２）、（ａ３）及び（ａ４）から誘導される構成単位の合計に基づいて、好ましくは５〜４０質量％、特に好ましくは１０〜３０質量％含有している。化合物（ａ１）から誘導される構成単位をこのような割合で用いることによって、共重合体［Ａ］の現像工程におけるアルカリ水溶液に対する溶解性を適切な範囲に制御することができる。

化合物（ａ１）はラジカル重合性を有する不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物である。化合物（ａ１）としては、例えばモノカルボン酸、ジカルボン酸、ジカルボン酸の無水物、多価カルボン酸のモノ〔（メタ）アクリロイルオキシアルキル〕エステル、両末端にカルボキシル基と水酸基とを有するポリマーのモノ（メタ）アクリレート、カルボキシル基を有する多環式化合物及びその無水物などを挙げることができる。

これらの化合物（ａ１）の具体例としては、モノカルボン酸として、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸など；
ジカルボン酸として、例えばマレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸など；
ジカルボン酸の無水物として、例えば上記ジカルボン酸として例示した化合物の無水物など；
多価カルボン酸のモノ〔（メタ）アクリロイルオキシアルキル〕エステルとして、例えばコハク酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕、フタル酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕など；

両末端にカルボキシル基と水酸基とを有するポリマーのモノ（メタ）アクリレートとして、例えばω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなど；
カルボキシル基を有する多環式化合物及びその無水物として、例えば５−カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン無水物などがそれぞれ挙げられる。

これらの化合物（ａ１）のうち、モノカルボン酸、ジカルボン酸の無水物が好ましく使用される。この中でも特に、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸が、他の化合物との共重合反応性、アルカリ水溶液に対する溶解性、及び入手容易性の観点から、好ましく用いられる。これらの化合物（ａ１）は、単独であるいは組み合わせて用いられる。

共重合体［Ａ］は、化合物（ａ２）から誘導される構成単位を、化合物（ａ１）、（ａ２）、（ａ３）及び（ａ４）から誘導される構成単位の合計に基づいて、好ましくは１〜５０質量％、特に好ましくは３〜４０質量％含有している。化合物（ａ２）から誘導される構成単位を１質量％以上用いることによって、感放射線性樹脂組成物の放射線感度を向上させることができる。一方、この構成単位の量を５０質量％以下にすることによって、隔壁及び絶縁膜の形成における現像工程において、アルカリ水溶液に対する溶解性が過剰に大きくなるのを防止することができる。

化合物（ａ２）は、上記式（Ｉ）で表されるフェノール骨格含有不飽和化合物、上記式（ＩＩ）で表される化合物、及び上記式（ＩＩＩ）で表される化合物よりなる群から選択される化合物である。

上記式（Ｉ）で表されるフェノール骨格含有不飽和化合物は、Ｂとｍの定義によって、下記式（ＩＶ）〜（ＶＩＩＩ）で表わされる化合物に分類することができる。

（式（ＩＶ）中、ｎは１から３の整数であり、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６の定義は式（Ｉ）に同じである。）

（式（Ｖ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６の定義は、上記式（Ｉ）に同じである。）

（式（ＶＩ）中、ｐは１から３の整数である。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６の定義は上記式（Ｉ）に同じである。）

（式（ＶＩＩ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６の定義は上記式（Ｉ）に同じである。）

（式（ＶＩＩＩ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６の定義は上記式（Ｉ）に同じである。）

これらのフェノール骨格含有不飽和化合物のうち、Ｎ−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシベンジル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）（メタ）アクリルアミド、４−ヒドロキシベンジル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシフェニル（メタ）アクリレート、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、α−メチル−ｏ−ヒドロキシスチレン、α−メチル−ｍ−ヒドロキシスチレン、α−メチル−ｐ−ヒドロキシスチレンが、感放射線性樹脂組成物の放射線感度を高め、現像マージン（現像時間の許容範囲）を大きくすると共に、得られる隔壁及び絶縁膜の耐熱性を向上させる点から好ましく用いられる。

上記式（ＩＩ）で表される化合物は、ビスフェノール型化合物の一方の水酸基に重合性不飽和基が導入された化合物である。上記式（ＩＩ）で表される化合物としては、例えば、４，４’−イソプロピリデンジフェノール、４，４’−イソプロピリデンビス（２−クロロフェノール）、４，４’−イソプロピリデンビス（２、６−ジブロモフェノール）、４，４’−イソプロピリデンビス（２、６−ジクロロフェノール）、４，４’−イソプロピリデンビス（２−メチルフェノール）、４，４’−イソプロピリデンビス（２、６−ジメチルフェノール）、４，４’−イソプロピリデンビス（２−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ｓ−ブチリデンジフェノール、４，４’−ｓ−ブチリデンビス（２−メチルフェノール）等のビスフェノール型化合物の一方の水酸基に（メタ）アクリロイル基が導入された化合物が挙げられる。この中でも、形成される［Ａ］成分の化合物の顕色性能向上の観点から、４，４’−イソプロピリデンジフェノールの一方の水酸基に（メタ）アクリロイル基が導入された化合物が特に好ましい。

上記式（ＩＩＩ）で表される化合物は、ナフタレンジオールの一方の水酸基に重合性不飽和基が導入された化合物である。ナフタレンジオールは、１，２−体、１，３−体、１，４−体、１，５−体、２，３−体及び２，６−体のいずれの異性体であってもよく、これらの混合物でもよい。上記式（ＩＩＩ）で表される化合物の具体例としては、１−アクリロイルオキシ−４−ナフトール、１−アクリロイルオキシ−５−ナフトール、２−アクリロイルオキシ−６−ナフトール、１−メタクリロイルオキシ−４−ナフトール、１−メタクリロイルオキシ−５−ナフトール、２−メタクリロイルオキシ−６−ナフトール等が挙げられる。これらの化合物の中でも、形成される［Ａ］成分の化合物の顕色性能向上と共重合性の観点から、１−メタクリロイルオキシ−４−ナフトールが特に好ましい。

共重合体［Ａ］は、ラジカル重合性を有するエポキシ基含有不飽和化合物である化合物（ａ３）から誘導される構成単位を、化合物（ａ１）、（ａ２）、（ａ３）及び（ａ４）から誘導される構成単位の合計に基づいて、好ましくは１０〜８０質量％、特に好ましくは２０〜７０質量％含有している。この化合物（ａ３）から誘導される構成単位の量を１０質量％以上にすることによって、得られる隔壁及び絶縁膜の耐熱性や表面硬度が向上する。一方、この構成単位の量を８０質量％以下にすることによって、感放射線性樹脂組成物の保存安定性を高く保つことができる。

化合物（ａ３）としては、例えばアクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−３，４−エポキシブチル、メタクリル酸−３，４−エポキシブチル、アクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、メタクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、３，４−エポキシシクロへキシルメタクリレート等が挙げられる。これらの化合物（ａ３）のうち、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、３，４−エポキシシクロへキシルメタクリレートなどが、他の化合物との共重合反応性、及び得られる隔壁及び絶縁膜の耐熱性や表面硬度を高める点から好ましく用いられる。これらの化合物（ａ３）は、単独であるいは組み合わせて用いられる。

共重合体［Ａ］は、上記の化合物（ａ１）、（ａ２）及び（ａ３）以外のラジカル重合性を有する不飽和化合物である化合物（ａ４）から誘導される構成単位を、化合物（ａ１）、（ａ２）、（ａ３）及び（ａ４）から誘導される構成単位の合計に基づいて、好ましくは５〜７０質量％、特に好ましくは５〜５０質量％含有している。この化合物（ａ４）から誘導される構成単位を５質量％以上にすることによって、感放射線性樹脂組成物の保存安定性を向上させることができる。一方、この構成単位の量を７０質量％以下にすることによって、隔壁及び絶縁膜の形成における現像工程において、組成物のアルカリ水溶液に対する溶解性を促進することができる。

化合物（ａ４）としては、例えばメタクリル酸鎖状アルキルエステル、アクリル酸鎖状アルキルエステル、メタクリル酸環状アルキルエステル、水酸基を有するメタクリル酸エステル、アクリル酸環状アルキルエステル、メタクリル酸アリールエステル、アクリル酸アリールエステル、不飽和ジカルボン酸ジエステル、ビシクロ不飽和化合物、マレイミド化合物、不飽和芳香族化合物、共役ジエン、テトラヒドロフラン骨格を有する不飽和化合物、フラン骨格を有する不飽和化合物、テトラヒドロピラン骨格を有する不飽和化合物、ピラン骨格を有する不飽和化合物、下記式（ＩＸ）で表される骨格を有する不飽和化合物、及びその他の不飽和化合物を挙げることができる。

（式（ＩＸ）中、Ｒ^７は水素原子又はメチル基である。ｑは１以上の整数である。）

これらの具体例としては、メタクリル酸鎖状アルキルエステルとして、例えばメチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、イソデシルメタクリレート、ｎ−ラウリルメタクリレート、トリデシルメタクリレート、ｎ−ステアリルメタクリレートなど；
アクリル酸鎖状アルキルエステルとして、例えばメチルアクリレート、イソプロピルアクリレートなど；
メタクリル酸環状アルキルエステルとして、例えばシクロヘキシルメタクリレート、２−メチルシクロヘキシルメタクリレート、トリシクロ［５．２．１．０^2，6］デカン−８−イルメタクリレート、トリシクロ［５．２．１．０^2，6］デカン−８−イルオキシエチルメタクリレート、イソボロニルメタクリレートなど；
水酸基を有するメタクリル酸エステルとして、例えばヒドロキシメチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、２，３−ジヒドロキシプロピルメタクリレート、２−メタクリロキシエチルグリコサイドなど；

アクリル酸環状アルキルエステルとして、例えばシクロヘキシルアクリレート、２−メチルシクロヘキシルアクリレート、トリシクロ［５．２．１．０^2，6］デカン−８−イルアクリレート、トリシクロ［５．２．１．０^2，6］デカン−８−イルオキシエチルアクリレート、イソボロニルアクリレートなど；
メタクリル酸アリールエステルとして、例えばフェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレートなど；
アクリル酸アリールエステルとして、例えばフェニルアクリレート、ベンジルアクリレートなど；
不飽和ジカルボン酸ジエステルとして、例えばマレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチルなど；

ビシクロ不飽和化合物として、例えばビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジメトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジエトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ｔ−ブトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−フェノキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（ｔ−ブトキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（シクロヘキシルオキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（ヒドロキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチル−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エンなど；

マレイミド化合物として、例えばＮ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−ヒドロキシベンジル）マレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４−マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マレイミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドプロピオネート、Ｎ−（９−アクリジニル）マレイミドなど；
不飽和芳香族化合物として、例えばスチレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−メトキシスチレンなど；
共役ジエンとして、例えば１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエンなど；

テトラヒドロフラン骨格を含有する不飽和化合物として、例えばテトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２−メタクリロイルオキシ−プロピオン酸テトラヒドロフルフリルエステル、３−（メタ）アクリロイルオキシテトラヒドロフラン−２−オンなど；
フラン骨格を含有する不飽和化合物として、例えば２−メチル−５−（３−フリル）−１−ペンテン−３−オン、フルフリル（メタ）アクリレート、１−フラン−２−ブチル−３−エン−２−オン、１−フラン−２−ブチル−３−メトキシ−３−エン−２−オン、６−（２−フリル）−２−メチル−１−ヘキセン−３−オン、６−フラン−２−イル−ヘキシ−１−エン−３−オン、アクリル酸−２−フラン−２−イル−１−メチル−エチルエステル、６−（２−フリル）−６−メチル−１−ヘプテン−３−オンなど；
テトラヒドロピラン骨格を含有する不飽和化合物として、例えば（テトラヒドロピラン−２−イル）メチルメタクリレート、２，６−ジメチル−８−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）−オクト−１−エン−３−オン、２−メタクリル酸テトラヒドロピラン−２−イルエステル、１−（テトラヒドロピラン−２−オキシ）−ブチル−３−エン−２−オンなど；

ピラン骨格を含有する不飽和化合物として、例えば４−（１，４−ジオキサ−５−オキソ−６−ヘプテニル）−６−メチル−２−ピラン、４−（１，５−ジオキサ−６−オキソ−７−オクテニル）−６−メチル−２−ピランなど；
上記式（ＩＸ）で表される骨格を含有する不飽和化合物として、例えばポリエチレングリコール（ｎ＝２〜１０）モノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（ｎ＝２〜１０）モノ（メタ）アクリレートなど；
その他の不飽和化合物として、例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニルをそれぞれ挙げることができる。

これらの化合物（ａ４）のうち、メタクリル酸鎖状アルキルエステル、メタクリル酸環状アルキルエステル、アクリル酸環状アルキルエステル、不飽和ジカルボン酸ジエステル、ビシクロ不飽和化合物、マレイミド化合物、不飽和芳香族化合物、共役ジエン、テトラヒドロフラン骨格を含有する不飽和化合物、テトラヒドロピラン骨格を含有する不飽和化合物、上記式（ＩＸ）で表される骨格を含有する不飽和化合物が好ましく用いられる。それらの中でも特に、スチレン、ｔ−ブチルメタクリレート、トリシクロ［５．２．１．０^2，6］デカン−８−イルメタクリレート、ｐ−メトキシスチレン、２−メチルシクロヘキシルアクリレート、１，３−ブタジエン、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（ｎ＝２〜１０）モノ（メタ）アクリレート、３−（メタ）アクリロイルオキシテトラヒドロフラン−２−オン、１−（テトラヒドロピラン−２−オキシ）−ブチル−３−エン−２−オン、フルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−シクロヘキシルマレイミドが、他の化合物との共重合反応性、及びアルカリ水溶液に対する溶解性の点から好ましい。これらの化合物（ａ４）は、単独であるいは組み合わせて用いられる。

本発明で用いられる共重合体［Ａ］において、単量体である化合物群の組み合わせの好ましい具体例としては、メタクリル酸／トリシクロ［５．２．１．０^2，6］デカン−８−イルメタクリレート／メタクリル酸グリシジル／２−メチルシクロヘキシルアクリレート／Ｎ−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシベンジル）メタクリルアミド共重合体、メタクリル酸／メタクリル酸グリシジル／１−（テトラヒドロピラン−２−オキシ）−ブチル−３−エン−２−オン／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／ｐ−メトキシスチレン／Ｎ−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシベンジル）メタクリルアミド共重合体、メタクリル酸／メタクリル酸グリシジル／トリシクロ［５．２．１．０^2，6］デカン−８−イルメタクリレート／スチレン／Ｎ−フェニルマレイミド／Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド共重合体、メタクリル酸／メタクリル酸グリシジル／トリシクロ［５．２．１．０^2，6］デカン−８−イルメタクリレート／ｎ−ラウリルメタクリレート／３−メタクリロイルオキシテトラヒドロフラン−２−オン／Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド共重合体、メタクリル酸／メタクリル酸グリシジル／トリシクロ［５．２．１．０^2，6］デカン−８−イルメタクリレート／ｐ−メトキシスチレン／４−ヒドロキシベンジルメタクリレート共重合体、メタクリル酸／トリシクロ［５．２．１．０^2，6］デカン−８−イルメタクリレート／メタクリル酸グリシジル／スチレン／ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル／テトラヒドロフルフリルメタクリレート／４−ヒドロキシフェニルメタクリレート共重合体、メタクリル酸／メタクリル酸グリシジル／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／３−メタクリロイルオキシテトラヒドロフラン−２−オン／テトラヒドロフルフリルメタクリレート／４−ヒドロキシフェニルメタクリレート共重合体、メタクリル酸／メタクリル酸グリシジル／テトラヒドロフルフリルメタクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／α−メチル−ｐ−ヒドロキシスチレン共重合体、メタクリル酸／メタクリル酸グリシジル／トリシクロ［５．２．１．０^2，6］デカン−８−イルメタクリレート／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／ｎ−ラウリルメタクリレート／α−メチル−ｐ−ヒドロキシスチレン共重合体、メタクリル酸／メタクリル酸グリシジル／テトラヒドロフルフリルメタクリレート／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／ｎ−ラウリルメタクリレート／α−メチル−ｐ−ヒドロキシスチレン共重合体、メタクリル酸／トリシクロ［５．２．１．０^2，6］デカン−８−イルメタクリレート／メタクリル酸グリシジル／２−メチルシクロヘキシルアクリレート／４，４’−イソプロピリデン−ジフェノールの一方の水酸基にメタクリロイル基が導入された化合物の共重合体、メタクリル酸／トリシクロ［５．２．１．０^2，6］デカン−８−イルメタクリレート／メタクリル酸グリシジル／２−メチルシクロヘキシルアクリレート／１−メタクリロイルオキシ−４−ナフトール共重合体が挙げられる。

共重合体［Ａ］のポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という）は、好ましくは２×１０³〜１×１０⁵、より好ましくは５×１０³〜５×１０⁴である。共重合体［Ａ］のＭｗを２×１０³以上とすることによって、感放射線樹脂組成物の十分な現像マージンを得ると共に、形成される塗膜の残膜率（パターン状薄膜が適正に残存する比率）の低下を防止し、さらには得られる隔壁及び絶縁膜のパターン形状や耐熱性などを良好に保つことが可能となる。一方、共重合体［Ａ］のＭｗを１×１０⁵以下にすることによって、高度な放射線感度を保持し、良好なパターン形状を得ることができる。また、共重合体［Ａ］の分子量分布（以下、「Ｍｗ／Ｍｎ」という）は、好ましくは５．０以下、より好ましくは３．０以下である。共重合体［Ａ］のＭｗ／Ｍｎを５．０以下にすることによって、得られる隔壁及び絶縁膜のパターン形状を良好に保つことができる。また、上記のような好ましい範囲のＭｗ及びＭｗ／Ｍｎを有する共重合体［Ａ］を含む感放射線性樹脂組成物は、高度な現像性を有するため、現像工程において、現像残りを生じることなく容易に所定パターン形状を形成することができる。

共重合体［Ａ］を製造するための重合反応に用いられる溶媒としては、例えばアルコール類、エーテル類、グリコールエーテル、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート、芳香族炭化水素類、ケトン類、他のエステル類などを挙げることができる。

これらの溶媒としては、アルコール類として、例えばメタノール、エタノール、ベンジルアルコール、２−フェニルエチルアルコール、３−フェニル−１−プロパノールなど；
エーテル類として、例えばテトラヒドロフランなど；
グリコールエーテルとして、例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなど；
エチレングリコールアルキルエーテルアセテートとして、例えばメチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなど；
ジエチレングリコールアルキルエーテルとして、例えばジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルなど；
プロピレングリコールモノアルキルエーテルとして、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルなど；

プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートとして、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテートなど；
プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネートとして、例えばプロピレンモノグリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノブチルエーテルプロピオネートなど；
芳香族炭化水素類として、例えばトルエン、キシレンなど；
ケトン類として、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなど；

他のエステル類として、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ブトキシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシプロピオン酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸プロピル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−プロポキシプロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピオン酸エチル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、３−プロポキシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチルなどのエステル類をそれぞれ挙げることができる。

これらの溶媒のうち、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテートが好ましく、特に、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが好ましい。

共重合体［Ａ］を製造するための重合反応に用いられる重合開始剤としては、一般的にラジカル重合開始剤として知られているものが使用できる。例えば２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス−（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ化合物；ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１，１’−ビス−（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサンなどの有機過酸化物；及び過酸化水素が挙げられる。ラジカル重合開始剤として過酸化物を用いる場合には、過酸化物を還元剤とともに用いてレドックス型開始剤としてもよい。

共重合体［Ａ］を製造するための重合反応においては、分子量を調整するために、分子量調整剤を使用することができる。分子量調整剤の具体例としては、クロロホルム、四臭化炭素等のハロゲン化炭化水素類；ｎ−ヘキシルメルカプタン、ｎ−オクチルメルカプタン、ｎ−ドデシルメルカプタン、ｔ−ドデシルメルカプタン、チオグリコール酸等のメルカプタン類；ジメチルキサントゲンスルフィド、ジイソプロピルキサントゲンジスルフィド等のキサントゲン類；ターピノーレン、α−メチルスチレンダイマー等が挙げられる。

［Ｂ］成分
本発明の感放射線性樹脂組成物に用いられる［Ｂ］成分は、放射線の照射によりカルボン酸を発生する１，２−キノンジアジド化合物である。１，２−キノンジアジド化合物として、フェノール性化合物又はアルコール性化合物（以下、「母核」という。）と１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合物を用いることができる。

上記母核としては、例えばトリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、ペンタヒドロキシベンゾフェノン、ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、（ポリヒドロキシフェニル）アルカン、その他の母核を挙げることができる。

これらの母核としては、トリヒドロキシベンゾフェノンとして、例えば２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン等；
テトラヒドロキシベンゾフェノンとして、例えば２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，２’−テトラヒドロキシ−４’−メチルベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノン等；
ペンタヒドロキシベンゾフェノンとして、例えば２，３，４，２’，６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン等；
ヘキサヒドロキシベンゾフェノンとして、例えば２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン等；

（ポリヒドロキシフェニル）アルカンとして、例えばビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン、トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン、４，４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノール、ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインデン−５，６，７，５’，６’，７’−ヘキサノール、２，２，４−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロキシフラバン等；

その他の母核として、例えば２−メチル−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４−（４−ヒドロキシフェニル）−７−ヒドロキシクロマン、２−［ビス｛（５−イソプロピル−４−ヒドロキシ−２−メチル）フェニル｝メチル］、１−［１−（３−｛１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル｝−４，６−ジヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］−３−（１−（３−｛１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル｝−４，６−ジヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）ベンゼン、４，６−ビス｛１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル｝−１，３−ジヒドロキシベンゼンが挙げられる。

これらの母核のうち、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン、４，４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノールが好ましい。

また、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとしては、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドが好ましい。１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドの具体例としては、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸クロリド及び１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリドを挙げることができる。この中でも、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリドを使用することが特に好ましい。

フェノール性化合物又はアルコール性化合物（母核）と、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合反応においては、フェノール性化合物またはアルコール性化合物中のＯＨ基数に対して、好ましくは３０〜８５モル％、より好ましくは５０〜７０モル％に相当する１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドを用いることができる。縮合反応は、公知の方法によって実施することができる。

また、１，２−キノンジアジド化合物としては、上記例示した母核のエステル結合をアミド結合に変更した１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミド類、例えば２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸アミド等も好適に使用される。

これらの［Ｂ］成分は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。感放射線樹脂組成物における［Ｂ］成分の使用割合は、共重合体［Ａ］１００質量部に対して、好ましくは５〜１００質量部、より好ましくは１０〜５０質量部である。感放射線樹脂組成物における［Ｂ］成分の割合を５質量部以上にすることによって、現像液であるアルカリ水溶液に対する放射線の照射部分と未照射部分との溶解度の差が大きくなり、パターニングが容易となると共に、得られる隔壁及び絶縁膜の耐熱性及び耐溶剤性が良好に保たれる。一方、［Ｂ］成分の割合を１００質量部以下にすることによって、放射線照射部分におけるアルカリ水溶液への溶解度が十分高いレベルに保たれ、容易に現像を行うことが可能となる。

［Ｃ］成分
［Ｃ］成分は感熱色素である。ここで言うところの「感熱色素」は、電子受容性化合物（例えば酸等のプロトン）を受容した状態で加熱することにより、発色する性質を有する化合物を意味する。感熱色素としては、特に、ラクトン、ラクタム、サルトン、スピロピラン、エステル、アミド等の部分骨格を有し、電子受容性化合物と接触した時に、速やかにこれらの部分骨格が開環もしくは開裂する無色の化合物が好ましい。

このような感熱色素の例としては、３，３−ビス（４−ジメチルアミノフェニル）−６−ジメチルアミノフタリド（”クリスタルバイオレットラクトン”と称される）、３，３−ビス（４−ジメチルアミノフェニル）フタリド、３−（４−ジメチルアミノフェニル）−３−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）−６−ジメチルアミノフタリド、３−（４−ジメチルアミノフェニル）−３−（１，２−ジメチルインドール−３−イル）フタリド、３−（４−ジメチルアミノフェニル）−３−（２−メチルインドール−３−イル）フタリド、３，３−ビス（１，２−ジメチルインドール−３−イル）−５−ジメチルアミノフタリド、３，３−ビス（１，２−ジメチルインドール−３−イル）−６−ジメチルアミノフタリド、３，３−ビス（９−エチルカルバゾール−３−イル）−６−ジメチルアミノフタリド、３，３−ビス（２−フェニルインドール−３−イル）−６−ジメチルアミノフタリド、３−（４−ジメチルアミノフェニル）−３−（１−メチルピロール−３−イル）−６−ジメチルアミノフタリド、

３，３−ビス〔１，１−ビス（４−ジメチルアミノフェニル）エチレン−２−イル〕−４，５，６，７−テトラクロロフタリド、３，３−ビス〔１，１−ビス（４−ピロリジノフェニル）エチレン−２−イル〕−４，５，６，７−テトラブロモフタリド、３，３−ビス〔１−（４−ジメチルアミノフェニル）−１−（４−メトキシフェニル）エチレン−２−イル〕−４，５，６，７−テトラクロロフタリド、３，３−ビス〔１−（４−ピロリジノフェニル）−１−（４−メトキシフェニル）エチレン−２−イル〕−４，５，６，７−テトラクロロフタリド、３−〔１，１−ジ（１−エチル−２−メチルインドール−３−イル）エチレン−２−イル〕−３−（４−ジエチルアミノフェニル）フタリド、３−〔１，１−ジ（１−エチル−２−メチルインドール−３−イル）エチレン−２−イル〕−３−（４−Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアミノフェニル）フタリド、３−（２−エトキシ−４−ジエチルアミノフェニル）−３−（１−ｎ−オクチル−２−メチルインドール−３−イル）−フタリド、３，３−ビス（１−ｎ−オクチル−２−メチルインドール−３−イル）−フタリド、３−（２−メチル−４−ジエチルアミノフェニル）−３−（１−ｎ−オクチル−２−メチルインドール−３−イル）−フタリド等のフタリド類、

４，４−ビス−ジメチルアミノベンズヒドリンベンジルエーテル、Ｎ−ハロフェニル−ロイコオーラミン、Ｎ−２，４，５−トリクロロフェニルロイコオーラミン、ローダミン−Ｂ−アニリノラクタム、ローダミン−（４−ニトロアニリノ）ラクタム、ローダミン−Ｂ−（４−クロロアニリノ）ラクタム、３，７−ビス（ジエチルアミノ）−１０−ベンゾイルフェノオキサジン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、４ーニトロベンゾイルメチレンブルー、

３，６−ジメトキシフルオラン、３−ジメチルアミノ−７−メトキシフルオラン、３−ジエチルアミノ−６−メトキシフルオラン、３−ジエチルアミノ−７−メトキシフルオラン、３−ジエチルアミノ−７−クロロフルオラン、３−ジエチルアミノ−６−メチル−７−クロロフルオラン、３−ジエチルアミノ−６，７−ジメチルフルオラン、３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ｎ−ブチルアミノ−７−メチルフルオラン、３−ジエチルアミノ−７−ジベンジルアミノフルオラン、３−ジエチルアミノ−７−オクチルアミノフルオラン、３−ジエチルアミノ−７−ジ−ｎ−ヘキシルアミノフルオラン、３−ジエチルアミノ−７−アニリノフルオラン、３−ジエチルアミノ−７−（２’−フルオロフェニルアミノ）フルオラン、３−ジエチルアミノ−７−（２’−クロロフェニルアミノ）フルオラン、３−ジエチルアミノ−７−（３’−クロロフェニルアミノ）フルオラン、３−ジエチルアミノ−７−（２’，３’−ジクロロフェニルアミノ）フルオラン、３−ジエチルアミノ−７−（３’−トリフルオロメチルフェニルアミノ）フルオラン、３−ジ−ｎ−ブチルアミノ−７−（２’−フルオロフェニルアミノ）フルオラン、３−ジ−ｎ−ブチルアミノ−７−（２’−クロロフェニルアミノ）フルオラン、３−Ｎ−イソペンチル−Ｎ−エチルアミノ−７−（２’−クロロフェニルアミノ）フルオラン、

３−Ｎ−ｎ−ヘキシル−Ｎ−エチルアミノ−７−（２’−クロロフェニルアミノ）フルオラン、３−ジエチルアミノ−６−クロロ−７−アニリノフルオラン、３−ジ−ｎ−ブチルアミノ−６−クロロ−７−アニリノフルオラン、３−ジエチルアミノ−６−メトキシ−７−アニリノフルオラン、３−ジ−ｎ−ブチルアミノ−６−エトキシ−７−アニリノフルオラン、３−ピロリジノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−ピペリジノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−モルホリノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−ジメチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−ジエチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−ジ−ｎ−ブチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−ジ−ｎ−ペンチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−ｎ−プロピル−Ｎ−メチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−ｎ−プロピル−Ｎ−エチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−ｎ−ブチル−Ｎ−メチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−ｎ−ブチル−Ｎ−エチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−イソブチル−Ｎ−メチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−イソブチル−Ｎ−エチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−イソペンチル−Ｎ−エチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−ｎ−ヘキシル−Ｎ−メチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−エチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ｎ−プロピルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ｎ−ブチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ｎ−ヘキシルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ｎ−オクチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、

３−Ｎ−（２’−メトキシエチル）−Ｎ−メチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−（２’−メトキシエチル）−Ｎ−エチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−（２’−メトキシエチル）−Ｎ−イソブチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−（２’−エトキシエチル）−Ｎ−メチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−（２’−エトキシエチル）−Ｎ−エチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−（３’−メトキシプロピル）−Ｎ−メチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−（３’−メトキシプロピル）−Ｎ−エチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−（３’−エトキシプロピル）−Ｎ−メチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−（３’−エトキシプロピル）−Ｎ−エチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−（２’−テトラヒドロフルフリル）−Ｎ−エチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−（４’−メチルフェニル）−Ｎ−エチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−ジエチルアミノ−６−エチル−７−アニリノフルオラン、３−ジエチルアミノ−６−メチル−７−（３’−メチルフェニルアミノ）フルオラン、３−ジエチルアミノ−６−メチル−７−（２’，６’−ジメチルフェニルアミノ）フルオラン、３−ジ−ｎ−ブチルアミノ−６−メチル−７−（２’，６’−ジメチルフェニルアミノ）フルオラン、３−ジ−ｎ−ブチルアミノ−７−（２’，６’−ジメチルフェニルアミノ）フルオラン、２，２−ビス〔４’−（３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルアミノ−６−メチルフルオラン）−７−イルアミノフェニル〕プロパン、３−〔４’−（４−フェニルアミノフェニル）アミノフェニル〕アミノ−６−メチル−７−クロロフルオラン、３−〔４’−（ジメチルアミノフェニル）〕アミノ−５，７−ジメチルフルオラン等のフルオラン類、

３−（２−メチル−４−ジエチルアミノフェニル）−３−（１−エチル−２−メチルインドール−３−イル）−４−アザフタリド、３−（２−ｎ−プロポキシカルボニルアミノ−４−ジ−ｎ−プロピルアミノフェニル）−３−（１−エチル−２−メチルインドール−３−イル）−４−アザフタリド、３−（２−メチルアミノ−４−ジ−ｎ−プロピルアミノフェニル）−３−（１−エチル−２−メチルインドール−３−イル）−４−アザフタリド、３−（２−メチル−４−ジｎ−ヘキシルアミノフェニル）−３−（１−ｎ−オクチル−２−メチルインドール−３−イル）−４，７−ジアザフタリド、３，３−ビス（２−エトキシ−４−ジエチルアミノフェニル）−４−アザフタリド、３，３−ビス（１−ｎ−オクチル−２−メチルインドール−３−イル）−４−アザフタリド、３−（２−エトキシ−４−ジエチルアミノフェニル）−３−（１−エチル−２−メチルインドール−３−イル）−４−アザフタリド、３−（２−エトキシ−４−ジエチルアミノフェニル）−３−（１−オクチル−２−メチルインドール−３−イル）−４又は７−アザフタリド、３−（２−エトキシ−４−ジエチルアミノフェニル）−３−（１−エチル−２−メチルインドール−３−イル）−４又は７−アザフタリド、３−（２−ヘキシルオキシ−４−ジエチルアミノフェニル）−３−（１−エチル−２−メチルインドール−３−イル）−４又は７−アザフタリド、３−（２−エトキシ−４−ジエチルアミノフェニル）−３−（１−エチル−２−フェニルインドール−３−イル）−４又は７−アザフタリド、３−（２−ブトキシ−４−ジエチルアミノフェニル）−３−（１−エチル−２−フェニルインドール−３−イル）−４又は７−アザフタリド３−メチル−スピロ−ジナフトピラン、３−エチル−スピロ−ジナフトピラン、３−フェニル−スピロ−ジナフトピラン、３−ベンジル−スピロ−ジナフトピラン、３−メチル−ナフト−（３−メトキシベンゾ）スピロピラン、３−プロピル−スピロ−ジベンゾピラン−３，６−ビス（ジメチルアミノ）フルオレン−９−スピロ−３’−（６’−ジメチルアミノ）フタリド、３，６−ビス（ジエチルアミノ）フルオレン−９−スピロ−３’−（６’−ジメチルアミノ）フタリド等のフタリド類、

その他、２’−アニリノ−６’−（Ｎ−エチル−Ｎ−イソペンチル）アミノ−３’−メチルスピロ［イソベンゾフラン−１（３Ｈ），９’−（９Ｈ）キサンテン−３−オン、２’−アニリノ−６’−（Ｎ−エチル−Ｎ−（４−メチルフェニル））アミノ−３’−メチルスピロ［イソベンゾフラン−１（３Ｈ），９’−（９Ｈ）キサンテン］−３−オン、３’−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−６’−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノスピロ［イソベンゾフラン−１（３Ｈ），９’−（９Ｈ）キサンテン］−３−オン、２’−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル）アミノ−６'−（Ｎ−エチル−Ｎ−（４−メチルフェニル））アミノスピロ［イソベンゾフラン−１（３Ｈ），９’−（９Ｈ）キサンテン］−３−オンなどが挙げられる。

それらの感熱色素の市販品としては、ＥＴＡＣ、ＲＥＤ５００、ＲＥＤ５２０、ＣＶＬ、Ｓ−２０５、ＢＬＡＣＫ３０５、ＢＬＡＣＫ４００、ＢＬＡＣＫ１００、ＢＬＡＣＫ５００、Ｈ−７００１、ＧＲＥＥＮ３００、ＮＩＲ ＢＬＡＣＫ７８、ＢＬＵＥ２２０、Ｈ−３０３５、ＢＬＵＥ２０３、ＡＴＰ、Ｈ−１０４６、Ｈ−２１１４（山田化学工業（株）製）、ＯＲＡＮＧＥ−ＤＣＦ、Ｖｅｒｍｉｌｉｏｎ−ＤＣＦ、ＰＩＮＫ−ＤＣＦ、ＲＥＤ−ＤＣＦ、ＢＬＭＢ、ＣＶＬ、ＧＲＥＥＮ−ＤＣＦ、ＴＨ−１０７（保土ヶ谷化学（株）製）等が挙げられる。これらの市販品の中でも、ＥＴＡＣ、Ｓ−２０５、ＢＬＡＣＫ３０５、ＢＬＡＣＫ４００、ＢＬＡＣＫ１００、ＢＬＡＣＫ５００、Ｈ−７００１、ＧＲＥＥＮ３００、ＮＩＲ ＢＬＡＣＫ７８、Ｈ−３０３５、ＡＴＰ、Ｈ−１０４６、Ｈ−２１１４、ＧＲＥＥＮ−ＤＣＦが、形成される膜の可視光吸収率が良好のため好ましい。

これらの感熱色素は、隔壁及び絶縁膜に求められる可視光スペクトルによって、２種類以上の成分を組み合わせて使用することもできる。感放射線樹脂組成物における［Ｃ］成分の使用割合は、共重合体［Ａ］１００質量部に対して、好ましくは０．１〜３０質量部、より好ましくは０．５〜１５質量部である。［Ｃ］成分の割合を０．１質量部以上とすることによって、所望の光線を効率的に吸収して遮光性を発現することができる。一方、［Ｃ］成分の割合を３０質量部以下とすることによって、感放射線樹脂組成物の放射線感度、及び得られる隔壁及び絶縁膜の耐溶剤性や耐熱性を良好に保つことができる。

その他の任意成分
本発明の感放射線性樹脂組成物は、上記の［Ａ］、［Ｂ］及び［Ｃ］成分を必須成分として含有するが、その他必要に応じて［Ｄ］感熱性酸生成化合物、［Ｅ］少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物、［Ｆ］共重合体［Ａ］以外のエポキシ樹脂、［Ｇ］界面活性剤、［Ｈ］密着助剤を含有することができる。

［Ｄ］成分の感熱性酸生成化合物は、得られる隔壁及び絶縁膜の耐熱性や表面硬度を向上させるために用いることができる。感熱性酸生成化合物としては、スルホニウム塩、ベンゾチアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩などのオニウム塩が挙げられる。上記スルホニウム塩の例の例としては、アルキルスルホニウム塩、ベンジルスルホニウム塩、ジベンジルスルホニウム塩、置換ベンジルスルホニウム塩などを挙げることができる。

これらのスルホニウム塩としては、
アルキルスルホニウム塩として、例えば４−アセトキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル−４−（ベンジルオキシカルボニルオキシ）フェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル−４−（ベンゾイルオキシ）フェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル−４−（ベンゾイルオキシ）フェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル−３−クロロ−４−アセトキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートなど；

ベンジルスルホニウム塩として、例えばベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４−アセトキシフェニルベンジルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−メトキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−２−メチル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェートなど；

ジベンジルスルホニウム塩として、例えばジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４−アセトキシフェニルジベンジルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−４−メトキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジベンジル−３−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−メトキシベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェートなど；

置換ベンジルスルホニウム塩として、例えばｐ−クロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−ニトロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−クロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ｐ−ニトロベンジル−３−メチル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、３，５−ジクロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｏ−クロロベンジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートなどを、それぞれ挙げることができる。

上記ベンゾチアゾニウム塩の例としては、
３−ベンジルベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジルベンゾチアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、３−ベンジルベンゾチアゾニウムテトラフルオロボレート、３−（ｐ−メトキシベンジル）ベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジル−２−メチルチオベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジル−５−クロロベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。

これらの感熱性酸生成化合物の中でも、スルホニウム塩及びベンゾチアゾニウム塩が好ましく用いられる。この中でも特に、４−アセトキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキシフェニルベンジルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキシフェニルベンジルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジルベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネートが好ましく用いられる。

これらの感熱性酸生成化合物の市販品としては、サンエイドＳＩ−Ｌ８５、同ＳＩ−Ｌ１１０、同ＳＩ−Ｌ１４５、同ＳＩ−Ｌ１５０、同ＳＩ−Ｌ１６０（三新化学工業（株）製）などが挙げられる。

感放射線樹脂組成物における［Ｄ］成分の使用割合は、共重合体［Ａ］１００質量部に対して、好ましくは０．１〜２０質量部、さらに好ましくは１〜１０質量部である。［Ｄ］成分の配合量を０．１〜２０質量部とすることによって、十分な強度を有する硬化膜を形成することができると共に、塗膜形成工程において析出物の発生を防止することが可能となる。

［Ｅ］成分の少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物としては、例えば単官能（メタ）アクリレート、２官能（メタ）アクリレート、３官能以上の（メタ）アクリレートを好適に用いることができる。

単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレートなどが挙げられる。これらの単官能（メタ）アクリレートの市販品の例としては、アロニックスＭ−１０１、同Ｍ−１１１、同Ｍ−１１４（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＣ−１１０Ｓ、同ＴＣ−１２０Ｓ（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート１５８、同２３１１（以上、大阪有機化学工業（株）製）等が挙げられる。

２官能（メタ）アクリレートとしては、例えばエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートなどが挙げられる。これらの２官能（メタ）アクリレートの市販品としては、例えばアロニックスＭ−２１０、同Ｍ−２４０、同Ｍ−６２００（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＤＤＡ、同ＨＸ−２２０、同Ｒ−６０４（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート２６０、同３１２、同３３５ＨＰ（以上、大阪有機化学工業（株）製）などが挙げられる。

３官能以上の（メタ）アクリレートとしては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリ（（メタ）アクリロイルオキシエチル）フォスフェート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらの３官能以上の（メタ）アクリレートの市販品としては、例えばアロニックスＭ−３０９、同Ｍ−４００、同Ｍ−４０５、同Ｍ−４５０、同Ｍ−７１００、同Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＭＰＴＡ、同ＤＰＨＡ、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＤＰＣＡ−１２０（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート２９５、同３００、同３６０、同ＧＰＴ、同３ＰＡ、同４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）などが挙げられる。

これらのメタ（アクリレート）類のうち、形成される隔壁及び絶縁膜の耐熱性及び表面硬度の改善の観点から、３官能以上の（メタ）アクリレートが好ましく用いられる。その中でも、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが特に好ましい。これらの単官能、２官能又は３官能以上の（メタ）アクリレートは、単独であるいは組み合わせて用いられる。

感放射線樹脂組成物における［Ｅ］成分の使用割合は、共重合体［Ａ］１００質量部に対して、好ましくは１〜５０質量部、さらに好ましくは３〜３０質量部である。［Ｅ］成分の配合量を１〜５０質量部とすることによって、得られる隔壁及び絶縁膜の耐熱性及び表面硬度等を向上させることができると共に、基板上への塗膜形成工程における膜荒れの発生を抑制することが可能となる。

［Ｆ］成分である共重合体［Ａ］以外のエポキシ樹脂は、感放射線樹脂組成物に含まれる各成分との相溶性に悪影響を及ぼすものでない限り特に限定されるものではない。そのようなエポキシ樹脂の例として、好ましくは、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、環状脂肪族エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルメタアクリレートを（共）重合した樹脂等を挙げることができる。これらのうち、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂等が特に好ましい。

感放射線樹脂組成物における［Ｆ］成分の使用割合は、共重合体［Ａ］１００質量部に対して、好ましくは３０質量部以下である。このような割合で［Ｆ］成分を用いることにより、感放射線性樹脂組成物から得られる隔壁及び絶縁膜の耐熱性及び表面硬度等をさらに向上させることができると共に、基板上に感放射線性樹脂組成物の塗膜を形成する際に高度な膜厚均一性を得ることができる。なお、共重合体［Ａ］も「エポキシ樹脂」といい得るが、アルカリ可溶性を有する点で［Ｆ］成分とは異なる。［Ｆ］成分は、アルカリ不溶性である。

感放射線性樹脂組成物には、塗膜形成時の塗布性をさらに向上させるため、［Ｇ］成分として界面活性剤を使用することができる。好適に用いることができる界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤及びノニオン系界面活性剤が挙げられる。

フッ素系界面活性剤の例としては、１，１，２，２−テトラフルオロオクチル（１，１，２，２−テトラフルオロプロピル）エーテル、１，１，２，２−テトラフルオロオクチルヘキシルエーテル、オクタエチレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフルオロブチル）エーテル、ヘキサエチレングリコール（１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロペンチル）エーテル、オクタプロピレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフルオロブチル）エーテル、ヘキサプロピレングリコールジ（１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロペンチル）エーテル等のフルオロエーテル類；パーフルオロドデシルスルホン酸ナトリウム；１，１，２，２，８，８，９，９，１０，１０−デカフルオロドデカン、１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロデカン等のフルオロアルカン類；フルオロアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム類；フルオロアルキルオキシエチレンエーテル類；フルオロアルキルアンモニウムヨージド類；フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル類；パーフルオロアルキルポリオキシエタノール類；パーフルオロアルキルアルコキシレート類；フッ素系アルキルエステル類等を挙げることができる。

これらのフッ素系界面活性剤の市販品としては、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００（以上、ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３、同Ｆ１７８、同Ｆ１９１、同Ｆ４７１（以上、大日本インキ化学工業（株）製）、フロラードＦＣ−１７０Ｃ、ＦＣ−１７１、ＦＣ−４３０、ＦＣ−４３１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１、同Ｓ−１４５、同Ｓ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６（旭硝子（株）製）、エフトップＥＦ３０１、同３０３、同３５２（新秋田化成（株）製）などが挙げられる。

シリコーン系界面活性剤の具体例としては、市販されている商品名で、ＤＣ３ＰＡ、ＤＣ７ＰＡ、ＦＳ−１２６５、ＳＦ−８４２８、ＳＨ１１ＰＡ、ＳＨ２１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＨ−１９０、ＳＨ−１９３、ＳＺ−６０３２（以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）、ＴＳＦ−４４４０、ＴＳＦ−４３００、ＴＳＦ−４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ−４４６０、ＴＳＦ−４４５２（以上、ＧＥ東芝シリコーン（株）製）等を挙げることができる。

ノニオン系界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどのポリオキシエチレンアリールエーテル類；ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレートなどのポリオキシエチレンジアルキルエステル類；（メタ）アクリル酸系共重合体類などが挙げられる。ノニオン系界面活性剤の代表的な市販品としては、ポリフローＮｏ．５７、９５（共栄社化学（株）製）が挙げられる。これらの界面活性剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

感放射線樹脂組成物において、［Ｇ］成分の界面活性剤は、共重合体［Ａ］１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜５質量部、さらに好ましくは０．０５〜３質量部である。界面活性剤の配合量を０．０１〜５質量部とすることによって、基板上に塗膜を形成する際の膜荒れの発生を抑制することができる。

本発明の感放射線性樹脂組成物においては、基板との接着性を向上させるために［Ｈ］成分である密着助剤を使用することができる。このような密着助剤としては、官能性シランカップリング剤が好ましく使用される。官能性シランカップリング剤の例としては、カルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基等の反応性置換基を有するシランカップリング剤などが挙げられる。官能性シランカップリング剤の具体例としては、トリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどが挙げられる。感放射線樹脂組成物において、このような密着助剤は、共重合体［Ａ］１００質量部に対して、好ましくは０．１〜３０質量部、さらに好ましくは１〜２５質量部である。〔Ｈ〕成分の密着助剤の配合量を０．１〜２０質量部とすることによって、現像工程において現像残りを生じることなく、基板に対して十分な密着性を発現し、容易にパターンを形成することができる。

感放射線性樹脂組成物
本発明の感放射線性樹脂組成物は、上記の［Ａ］、［Ｂ］及び［Ｃ］成分、並びに任意成分（［Ｄ］〜［Ｈ］成分）を均一に混合することによって調製される。通常、感放射線性樹脂組成物は、好ましくは適当な溶媒に溶解されて溶液状態で保存され、使用される。例えば、溶媒中で、［Ａ］、［Ｂ］及び［Ｃ］成分、並びに任意成分を所定の割合で混合することにより、溶液状態の感放射線性樹脂組成物を調製することができる。

感放射線性樹脂組成物の調製に用いられる溶媒としては、上記の［Ａ］、［Ｂ］及び［Ｃ］成分、並びに任意成分（［Ｄ］〜［Ｈ］成分）の各成分を均一に溶解し、かつ各成分と反応しないものである限り、特に限定されるものではない。このような溶媒としては、共重合体［Ａ］を製造するために使用できる溶媒として例示した溶媒と同様のものを挙げることができる。

このような溶媒のうち、各成分の溶解性、各成分との非反応性、塗膜形成の容易性等の点から、アルコール類、グリコールエーテル、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、エステル類及びジエチレングリコールアルキルエーテルが好ましく用いられる。これらの溶媒のうち、ベンジルアルコール、２−フェニルエチルアルコール、３−フェニル−１−プロパノール、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プルピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、２−又は３−メトキシプロピオン酸メチル、２−又は３−エトキシプロピオン酸エチルが特に好ましく使用できる。

さらに、形成される塗膜の膜厚の面内均一性を高めるため、前記溶媒と共に高沸点溶媒を併用することもできる。併用できる高沸点溶媒としては、例えばＮ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテートなどが挙げられる。これらの高沸点溶媒のうち、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドが好ましい。

感放射線性樹脂組成物の溶媒として、高沸点溶媒を併用する場合、その使用量は、全溶媒量に対して好ましくは１〜４０質量％、さらに好ましくは３〜３０質量％以である。１〜４０質量％とすることによって、塗膜形成時の塗工性をさらに良好にすることができ、さらに放射線感度及び残膜率の低下を抑制することができる。

感放射線性樹脂組成物を溶液状態として調製する場合、溶液中に占める溶媒以外の成分（すなわち、共重合体［Ａ］、［Ｂ］及び［Ｃ］成分、並びにその他の任意成分の合計量）の割合は、使用目的や所望の膜厚等に応じて任意に設定することができるが、好ましくは５〜５０質量％、より好ましくは１０〜４０質量％、さらに好ましくは１５〜３５質量％である。このようにして調製された感放射線性樹脂組成物の溶液は、孔径０．２μｍ程度のミリポアフィルタなどを用いて濾過した後、使用に供することもできる。

隔壁及び絶縁膜の形成
次に、上記の感放射線性樹脂組成物を用いて、本発明の隔壁及び絶縁膜を形成する方法について述べる。当該方法は、以下の工程を以下の記載順で含む。
（１）本発明の感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
（２）工程（１）で形成した塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）工程（２）で放射線を照射された塗膜を現像する工程、及び
（４）工程（３）で現像された塗膜を加熱する工程。

（１）感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程
上記（１）の工程において、本発明の感放射線樹脂組成物の溶液を基板表面に塗布し、好ましくはプレベークを行うことにより溶剤を除去して、感放射線性樹脂組成物の塗膜を形成する。使用できる基板の種類としては、例えば、ガラス基板、シリコンウエハー及びこれらの表面に各種金属が形成された基板を挙げることができる。

組成物溶液の塗布方法としては、特に限定されず、例えば、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法（スピンコート法）、スリットダイ塗布法、バー塗布法、インクジェット法等の適宜の方法を採用することができる。これらの塗布方法の中でも特に、スピンコート法、スリットダイ塗布法が好ましい。プレベークの条件としては、各成分の種類、使用割合等によっても異なるが、例えば、６０〜１１０℃で３０秒間〜１５分間程度とすることができる。形成される塗膜の膜厚としては、プレベーク後の値として３〜６μｍとすることができる。

（２）塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程
上記（２）の工程では、形成された塗膜に所定のパターンを有するマスクを介して、放射線を照射する。このとき用いられる放射線としては、例えば紫外線、遠紫外線、Ｘ線、荷電粒子線等が挙げられる。

上記紫外線としては、例えばｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）等が挙げられる。遠紫外線としては、例えばＫｒＦエキシマレーザー等が挙げられる。Ｘ線としては、例えばシンクロトロン放射線等が挙げられる。荷電粒子線としては、例えば電子線等を挙げることができる。これらの放射線のうち、紫外線が好ましく、紫外線の中でもｇ線及び／又はｉ線を含む放射線が特に好ましい。露光量としては、５０〜１，５００Ｊ／ｍ^２とすることが好ましい。

（３）現像工程
（３）現像工程において、上記（２）の工程で放射線を照射された塗膜に対して現像を行って、放射線の照射部分を除去し、所望のパターンを形成することができる。現像処理に用いられる現像液としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジエチルアミノエタノール、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ〔４，３，０〕−５−ノナン等のアルカリ（塩基性化合物）の水溶液を用いることができる。また、上記のアルカリの水溶液にメタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒や界面活性剤を適当量添加した水溶液、又は感放射線樹脂組成物を溶解する各種有機溶媒を少量含むアルカリ水溶液を、現像液として使用することができる。さらに、現像方法としては、例えば、液盛り法、ディッピング法、揺動浸漬法、シャワー法等の適宜の方法を利用することができる。現像時間は、感放射線樹脂組成物の組成によって異なるが、例えば３０〜１２０秒間とすることができる。

なお、従来知られている感放射線性樹脂組成物は、現像時間が最適値から２０〜２５秒程度超過すると形成したパターンに剥がれが生じるため現像時間を厳密に制御する必要がある。それに対して、本発明の感放射線性樹脂組成物は、現像マージンが高いため、最適現像時間からの超過時間が３０秒以上となっても良好なパターン形成が可能であり、製品歩留まり上の利点が大きい。

（４）加熱工程
（４）加熱工程において、上記（３）の現像工程後に、パターニングされた薄膜に対して、好ましくは流水洗浄によるリンス処理を行い、続いて、好ましくは高圧水銀灯などによる放射線を全面に照射（後露光）することにより、薄膜中に残存する１，２−キノンジアジド化合物の分解処理を行う。次いで、ホットプレート、オーブン等の加熱装置を用いて、この薄膜を加熱処理（ポストベーク処理）することによって、薄膜の硬化処理を行う。上記の後露光における露光量は、好ましくは２，０００〜５，０００Ｊ／ｍ^２程度である。また、この硬化処理における焼成温度は、例えば１２０〜２５０℃である。加熱時間は、加熱機器の種類により異なるが、例えば、ホットプレート上で加熱処理を行う場合には５〜３０分間、オーブン中で加熱処理を行う場合には３０〜９０分間とすることができる。この際に、２回以上の加熱工程を行うステップベーク法等を用いることもできる。このようにして、目的とする隔壁あるいは絶縁膜に対応するパターン状薄膜を基板の表面上に形成することができる。

上記のようにして形成された隔壁あるいは絶縁膜は、後述の実施例から明らかにされるように、放射線感度、現像マージン（現像性の尺度）、耐溶剤性、耐熱性、全光線透過率（遮光性の尺度）及び比誘電率（誘電特性の尺度）の全ての点において、優れた特性を示す。

以下に合成例、実施例を示して、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

以下の各合成例及び比較合成例から得られた共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、下記の仕様によるゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定した。
装置：ＧＰＣ−１０１（昭和電工（株）製）
カラム：ＧＰＣ−ＫＦ−８０１、ＧＰＣ−ＫＦ−８０２、ＧＰＣ−ＫＦ−８０３及びＧＰＣ−ＫＦ−８０４（昭和電工（株）製）を結合したもの
移動相：リン酸０．５質量％を含むテトラヒドロフラン

共重合体の合成例
［合成例１］
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）７質量部、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００質量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸１４質量部、トリシクロ［５．２．１．０^2，6］デカン−８−イルメタクリレート１６質量部、２−メチルシクロヘキシルアクリレート２０質量部、メタクリル酸グリシジル４０質量部、Ｎ−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシベンジル）メタクリルアミド１０質量部及びα−メチルスチレンダイマー３質量部を仕込み、窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を４時間保持し共重合体［Ａ−１］を含む重合体溶液を得た。この共重合体［Ａ−１］のポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は８，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．３であった。また、ここで得られた重合体溶液の固形分濃度は、３４．４質量％であった。

［合成例２］
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）９質量部、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル２２０質量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸１２質量部、ｐ−メトキシスチレン１２質量部、１−（テトラヒドロピラン−２−オキシ）−ブチル−３−エン−２−オン１５質量部、メタクリル酸グリシジル４０質量部、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド１０質量部、Ｎ−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシベンジル）メタクリルアミド１０質量部、及びα−メチルスチレンダイマー３質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を４時間保持し共重合体［Ａ−２］を含む重合体溶液を得た。共重合体［Ａ−２］のポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は８，１００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．４であった。また、ここで得られた重合体溶液の固形分濃度は、３２．７質量％であった。

［合成例３］
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）７質量部、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００質量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸１４質量部、トリシクロ［５．２．１．０^2，6］デカン−８−イルメタクリレート１６質量部、ｐ−メトキシスチレン１０質量部、メタクリル酸グリシジル４０質量部、４−ヒドロキシベンジルメタクリレート２０質量部及びα−メチルスチレンダイマー３質量部を仕込み、窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を４時間保持し共重合体［Ａ−３］を含む重合体溶液を得た。共重合体［Ａ−３］のポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は８，５００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．３であった。また、ここで得られた重合体溶液の固形分濃度は、３４．１質量％であった。

［合成例４］
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）８質量部及びジエチレングリコールエチルメチルエーテル２２０質量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸１１質量部、テトラヒドロフルフリルメタクリレート１２質量部、メタクリル酸グリシジル４０質量部、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド１５質量部、ｎ−ラウリルメタクリレート１０質量部、α−メチル−ｐ−ヒドロキシスチレン１０質量部、及びα−メチルスチレンダイマー３質量部を仕込み、窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体［Ａ−４］を含む重合体溶液を得た。共重合体［Ａ−４］のポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は８，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．３であった。また、ここで得られた重合体溶液の固形分濃度は３１．９質量％であった。

［合成例５］
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）７質量部、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００質量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸１４質量部、トリシクロ［５．２．１．０^2，6］デカン−８−イルメタクリレート１６質量部、２−メチルシクロヘキシルアクリレート２０質量部、メタクリル酸グリシジル４０質量部、４，４’−イソプロピリデンジフェノールの一方の水酸基にメタクリロイル基が導入された化合物１０質量部及びα−メチルスチレンダイマー３質量部を仕込み、窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を４時間保持し共重合体［Ａ−５］を含む重合体溶液を得た。この共重合体［Ａ−５］のポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は７，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．５であった。また、ここで得られた重合体溶液の固形分濃度は、３４．８質量％であった。

［合成例６］
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）７質量部、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００質量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸１４質量部、トリシクロ［５．２．１．０^2，6］デカン−８−イルメタクリレート１６質量部、２−メチルシクロヘキシルアクリレート２０質量部、メタクリル酸グリシジル４０質量部、１−メタクリロイルオキシ−４−ナフトール１０質量部及びα−メチルスチレンダイマー３質量部を仕込み、窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を４時間保持し共重合体［Ａ−６］を含む重合体溶液を得た。この共重合体［Ａ−６］のポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は８，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．５であった。また、ここで得られた重合体溶液の固形分濃度は、３４．６質量％であった。

［比較合成例１］
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）８質量部、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル２２０質量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸１２質量部、ｐ−メトキシスチレン１２質量部、１−（テトラヒドロピラン−２−オキシ）−ブチル−３−エン−２−オン１５質量部、メタクリル酸グリシジル４０質量部、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド１０質量部、トリシクロ［５．２．１．０^2，6］デカン−８−イルメタクリレート１０質量部、及びα−メチルスチレンダイマー３質量部を仕込み、窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を４時間保持し共重合体［ａ−１］を含む重合体溶液を得た。共重合体［ａ−１］のポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は８，９００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．５であった。また、ここで得られた重合体溶液の固形分濃度は、３２．９質量％であった。

＜感放射線性樹脂組成物の調製＞
［実施例１］
［Ａ］成分として合成例１の共重合体［Ａ−１］を含有する溶液を、共重合体１００質量部（固形分）に相当する量、及び［Ｂ］成分として４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール（１．０モル）と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド（２．０モル）の縮合物（Ｂ−１）３０質量部、及び［Ｃ］成分として２’−アニリノ−６’−（Ｎ−エチル−Ｎ−イソペンチル）アミノ−３’−メチルスピロ［イソベンゾフラン−１（３Ｈ），９’−（９Ｈ）キサンテン］−３−オン（Ｃ−１）５質量部を混合し、固形分濃度が３０質量％となるようにジエチレングリコールエチルメチルエーテルに溶解させた後、口径０．２μｍのメンブランフィルタで濾過して、感放射線性樹脂組成物の溶液（Ｓ−１）を調製した。

［実施例２〜５、７〜１０、比較例１〜４］
［Ａ］、［Ｂ］及び［Ｃ］成分として、表１に記載のとおりの種類、量を使用した他は、実施例１と同様に感放射線性樹脂組成物の溶液（Ｓ−２）〜（Ｓ−５）、（Ｓ−７）〜（Ｓ−１０）、及び（ｓ−１）〜（ｓ−４）を調製した。

［実施例６］
固形分濃度が２０質量％になるようにジエチレングリコールエチルメチルエーテル／プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート＝６／４（モル比）に溶解した以外は、実施例１と同様に感放射線性樹脂組成物の溶液（Ｓ−６）を調製した。

表１中、成分の略称は次の化合物を示す。
（Ｂ−１）：４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール（１．０モル）と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド（２．０モル）の縮合物
（Ｂ−２）：１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン（１．０モル）と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド（２．０モル）の縮合物
（Ｃ−１）：２’−アニリノ−６’−（Ｎ−エチル−Ｎ−イソペンチル）アミノ−３’−メチルスピロ［イソベンゾフラン−１（３Ｈ），９’−（９Ｈ）キサンテン］−３−オン（山田化学工業（株）製、商品名Ｓ２０５）
（Ｃ−２）２’−アニリノ−６’−（Ｎ−エチル−Ｎ−（４−メチルフェニル））アミノ−３’−メチルスピロ［イソベンゾフラン−１（３Ｈ），９’−（９Ｈ）キサンテン］−３−オン（山田化学工業（株）製、商品名ＥＴＡＣ）
（Ｃ−３）３’−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−６’−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノスピロ［イソベンゾフラン−１（３Ｈ），９’−（９Ｈ）キサンテン］−３−オン（保土ヶ谷化学（株）製、商品名ＧＲＥＥＮ ＤＣＦ）
（Ｃ−４）２’−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル）アミノ−６’−（Ｎ−エチル−Ｎ−（４−メチルフェニル））アミノスピロ［イソベンゾフラン−１（３Ｈ），９’−（９Ｈ）キサンテン］−３−オン（山田化学工業（株）製、商品名ＡＴＰ）
（Ｇ）界面活性剤：ＳＨ２８ＰＡ（東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）
（Ｈ）密着助剤：β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン
（Ｘ−１）低分子顕色剤：ＢＯＮＪＥＴ ＢＬＡＣＫ００５２（オリエント化学工業（株）製）
（Ｘ−２）低分子顕色剤：４−フェニルフェノール

＜隔壁及び絶縁膜としての性能評価＞
［実施例１１〜２０、比較例５〜８］
上記のように調製した感放射線性樹脂組成物を使用し、以下のように隔壁及び絶縁膜としての各種の特性を評価した。

〔放射線感度の評価〕
実施例１１〜１５、１７〜２０、及び比較例５〜８についてはスピンナーを用い、実施例１６についてはスリットダイコーターを用いて、シリコン基板上に表２に記載の組成物を塗布した後、９０℃にて２分間ホットプレート上でプレベークして膜厚３．０μｍの塗膜を形成した。得られた塗膜に対し、キヤノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）を用い、所定のパターンを有するパターンマスクを介して露光時間を変化させて露光を行った後、表２に記載した濃度のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて２５℃、８０秒間液盛り法で現像した。次いで、超純水で１分間流水洗浄を行い、乾燥させてウエハー上にパターンを形成した。３．０μｍのライン・アンド・スペース（１０対１）のスペース・パターンが完全に溶解するために必要な露光量を測定した。この値を放射線感度（露光感度）として、表２に示した。この値が１０００Ｊ／ｍ^２以下の場合に感度が良好であると言える。

〔現像マージンの評価〕
上記〔放射線感度の評価〕と同様に、シリコン基板上に塗膜を形成した。キヤノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）を使用し、３．０μｍのライン・アンド・スペース（１０対１）のパターンを有するマスクを介して、得られた塗膜に、上記〔放射線感度の評価〕にて測定した放射線感度の値に相当する露光量で露光を行い、表２に記載した濃度のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて２５℃、現像時間を変化させて液盛り法で現像した。次いで、超純水で１分間流水洗浄を行い、乾燥させてウエハー上にパターンを形成した。このとき、ライン線幅が３．０μｍとなるのに必要な現像時間を最適現像時間として表２に示した。また、最適現像時間からさらに現像を続けた際に３．０μｍのライン・パターンが剥がれるまでの時間を測定し、現像マージン（現像時間の許容範囲）として表２に示した。この値が３０秒以上のとき、現像マージンは良好であると言える。

〔耐溶剤性の評価〕
上記〔放射線感度の評価〕と同様に、シリコン基板上に塗膜を形成した。得られた塗膜をクリーンオーブン内にて２２０℃で１時間加熱して硬化膜を得た。得られた硬化膜の膜厚（Ｔ１）を測定した。そして、この硬化膜が形成されたシリコン基板を、７０℃に温度制御されたジメチルスルホキシド中に２０分間浸漬させた後、当該硬化膜の膜厚（ｔ１）を測定し、浸漬による膜厚変化率｛｜ｔ１−Ｔ１｜／Ｔ１｝×１００〔％〕を算出した。膜厚変化率の結果を表２に示した。この値が４％以下のとき、耐溶剤性は良好であると言える。なお、耐溶剤性の評価においては形成する膜のパターニングは不要のため、放射線照射工程及び現像工程は省略し、塗膜形成工程及び加熱工程のみ行い評価に供した。

〔耐熱性の評価〕
上記の耐溶剤性の評価と同様にして硬化膜を形成し、得られた硬化膜の膜厚（Ｔ２）を測定した。次いで、この硬化膜が形成されたシリコン基板を、クリーンオーブン内にて２４０℃で１時間追加ベークした後、当該硬化膜の膜厚（ｔ２）を測定し、追加ベークによる膜厚変化率｛｜ｔ２−Ｔ２｜／Ｔ２｝×１００〔％〕を算出した。耐熱性の結果を表２に示した。この値が１％以下のとき、耐熱性は良好であると言える。

〔全光線透過率（遮光性）の評価〕
シリコン基板の代わりにガラス基板「コーニング７０５９（コーニング社製）」を用いた以外は、上記〔耐溶剤性の評価〕と同様にガラス基板上に硬化膜を形成した。分光光度計「１５０−２０型ダブルビーム（（株）日立製作所製）」を用いて、この硬化膜を有するガラス基板の全光線透過率を３８０〜７８０ｎｍの範囲の波長で測定した。全光線透過率の値を表２に示した。この値が５０％未満のとき、遮光性は良好であると言える。

〔比誘電率の評価〕
研磨したＳＵＳ３０４製基板上に、実施例１１〜１５、１７〜２０、及び比較例５〜８についてはスピンナーを用いて、実施例１６についてはスリットダイコーターを用いて、表２に記載の組成物を塗布した後、９０℃にて２分間ホットプレート上でプレベークして膜厚３．０μｍの塗膜を形成した。得られた塗膜をクリーンオーブン内にて２２０℃で１時間焼成することにより、硬化膜を得た。この硬化膜について、蒸着法によりＰｔ／Ｐｄ電極パターンを形成させ比誘電率測定用サンプルを作成した。横河・ヒューレットパッカード（株）製ＨＰ１６４５１Ｂ電極及びＨＰ４２８４ＡプレシジョンＬＣＲメーターを用い、周波数１０ｋＨｚの周波数で、ＣＶ法によりサンプルの比誘電率を測定した。比誘電率の結果を表２に示した。この値が３．７以下のとき、誘電率は良好といえる。なお、誘電率の評価においては形成する膜のパターニングは不要のため、放射線照射工程及び現像工程は省略し、塗膜形成工程及び加熱工程のみ行い評価に供した。

表２に示された結果から、実施例１〜１０で調製された感放射線樹脂組成物を用いた実施例１１〜２０においては、放射線感度（露光感度）、現像マージン、耐溶剤性、耐熱性、全光線透過率及び比誘電率の全ての点がバランス良く優れていることが分かった。特に、全ての実施例で、別途顕色剤を用いることなく４５％以下の全光線透過率が得られ、顕著に良好な遮光性が達成された。一方、共重合体の構成化合物としてフェノール骨格含有不飽和化合物を含まない組成物を用いた比較例５や、感熱色素及び顕色剤を含まない組成物を用いた比較例６では、５０％未満の全光線透過率が得られず、特に後者の全光線透過率は７０％と非常に高い値となった。また、感熱色素を含まず、低分子顕色剤を含む組成物を用いた比較例７では、５０％未満の全光線透過率が得られるものの、放射線感度が極めて不良な値となった。さらに、共重合体の構成化合物としてフェノール骨格含有不飽和化合物を含まず、また感熱色素を含まず、低分子顕色剤を含む組成物を用いた比較例８（特許文献３及び４の場合に相当）でも、５０％未満の全光線透過率は得られなかった。

これらの実施例及び比較例の結果から、本発明の感放射線樹脂組成物は、絶縁膜のスルーホールあるいはコの字型の窪みを形成しうる程度の十分な現像性を有すると同時に、溶剤に対する高い耐性を持ち、かつ優れた放射線感度と高い遮光性を併せ持つため、隔壁及び絶縁膜として好適に使用可能であることが分かった。

本発明の感放射線樹脂組成物は、所定のアルカリ可溶性樹脂を顕色剤としても用いるため、隔壁及び絶縁膜形成時の高温に対する耐熱性を有し、顕色剤の昇華が防止されうると共に、優れた放射線感度、現像性に加えて、加熱時の高い遮光性が得られる。従って、かかる感放射線樹脂組成物から形成された隔壁及び絶縁膜を備えた有機ＥＬ素子は、良好なコントラストを示す表示装置の電子部品として好適に使用される。

Claims (7)

1. ［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物と、
   （ａ２）下記式（Ｉ）で表わされるフェノール骨格含有不飽和化合物、下記式（ＩＩ）で表わされる化合物、及び下記式（ＩＩＩ）で表わされる化合物よりなる群から選択される化合物と
   を含む単量体を共重合してなる共重合体のアルカリ可溶性樹脂、
   ［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物、及び
   ［Ｃ］感熱色素
   を含有する隔壁及び絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物。
   

   

   

   

   （式（Ｉ）中、Ｒ^１は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ^２〜Ｒ^６は同一もしくは異なり、水素原子、ヒドロキシル基又は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｂは単結合、−ＣＯＯ−、又は−ＣＯＮＨ−であり、ｍは０〜３の整数であるが、但し、Ｒ^２〜Ｒ^６の少なくとも１つはヒドロキシル基である。式（ＩＩ）中、Ｒ^１は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｙ^１及びＹ^２は同一もしくは異なり、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｘ^１〜Ｘ^４は同一もしくは異なり、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子であり、Ｚは単結合又は−Ｏ（ＣＨ_２）_ｗ−であり、ｗは１〜６の整数である。式（ＩＩＩ）中、Ｒ^１は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｚは単結合又は−Ｏ（ＣＨ_２）_ｗ−であり、ｗは１〜６の整数である。）
2. ［Ａ］成分のアルカリ可溶性樹脂が、（ａ１）成分及び（ａ２）成分に加えて、（ａ３）エポキシ基含有不飽和化合物を含む単量体を共重合してなる共重合体である請求項１に記載の感放射線性樹脂組成物。
3. ［Ｃ］成分の感熱色素の含有量が、［Ａ］成分のアルカリ可溶性樹脂１００質量部に対して、０．１質量部以上３０質量部以下である請求項１又は請求項２に記載の感放射線性樹脂組成物。
4. 請求項１、請求項２又は請求項３に記載の感放射線性樹脂組成物から形成された有機ＥＬ表示素子用隔壁。
5. 請求項１、請求項２又は請求項３に記載の感放射線性樹脂組成物から形成された有機ＥＬ表示素子用絶縁膜。
6. （１）請求項１、請求項２又は請求項３に記載の感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
   （２）工程（１）で形成した塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
   （３）工程（２）で放射線を照射された塗膜を現像する工程、及び
   （４）工程（３）で現像された塗膜を加熱する工程
   を含む有機ＥＬ表示素子用隔壁の形成方法。
7. （１）請求項１、請求項２又は請求項３に記載の感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
   （２）工程（１）で形成した塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
   （３）工程（２）で放射線を照射された塗膜を現像する工程、及び
   （４）工程（３）で現像された塗膜を加熱する工程
   を含む有機ＥＬ表示素子用絶縁膜の形成方法。