JP6303588B2 - 感放射線性樹脂組成物、絶縁膜及びその形成方法並びに有機el素子 - Google Patents
感放射線性樹脂組成物、絶縁膜及びその形成方法並びに有機el素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6303588B2 JP6303588B2 JP2014032352A JP2014032352A JP6303588B2 JP 6303588 B2 JP6303588 B2 JP 6303588B2 JP 2014032352 A JP2014032352 A JP 2014032352A JP 2014032352 A JP2014032352 A JP 2014032352A JP 6303588 B2 JP6303588 B2 JP 6303588B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- insulating film
- radiation
- resin composition
- examples
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims description 140
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 86
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 55
- -1 diethylene glycol dialkyl ether Chemical class 0.000 claims description 195
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 78
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 58
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 claims description 53
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 49
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 45
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 44
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 41
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 38
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 37
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 36
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 36
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 30
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 22
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 17
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N anhydrous diethylene glycol Natural products OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 150000001346 alkyl aryl ethers Chemical class 0.000 claims description 12
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 12
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 12
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims description 9
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 5
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 claims description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 236
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 82
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 58
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 46
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 37
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 33
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 32
- 239000000463 material Substances 0.000 description 31
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 31
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 25
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 23
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 17
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 17
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 17
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 17
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 102100033806 Alpha-protein kinase 3 Human genes 0.000 description 16
- 101710082399 Alpha-protein kinase 3 Proteins 0.000 description 16
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 15
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 15
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 14
- 238000011161 development Methods 0.000 description 13
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- FNYWFRSQRHGKJT-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCC1(CC)COC1 FNYWFRSQRHGKJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 11
- 239000000047 product Substances 0.000 description 11
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 10
- 239000002585 base Substances 0.000 description 10
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 10
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 10
- 238000000434 field desorption mass spectrometry Methods 0.000 description 10
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 10
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 10
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 10
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 9
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 9
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000002057 carboxymethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])[*] 0.000 description 8
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 8
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- WADCPEMKIBAJHH-UHFFFAOYSA-N 3,4-diphenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1NC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 WADCPEMKIBAJHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 7
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 7
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 7
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 7
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 7
- PCILLCXFKWDRMK-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4-diol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=C(O)C2=C1 PCILLCXFKWDRMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000004044 response Effects 0.000 description 7
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 7
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 6
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 6
- UENWRTRMUIOCKN-UHFFFAOYSA-N benzyl thiol Chemical class SCC1=CC=CC=C1 UENWRTRMUIOCKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 6
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 6
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N succinimide Chemical compound O=C1CCC(=O)N1 KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 5
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- QSYYLCHYRULSFV-UHFFFAOYSA-N anthracene-1,4-diol Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(O)=CC=C(O)C3=CC2=C1 QSYYLCHYRULSFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000008378 aryl ethers Chemical class 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 5
- 238000006266 etherification reaction Methods 0.000 description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 5
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 5
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 5
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZYVXFNCWRJNIQJ-UHFFFAOYSA-M 1-(4,7-dibutoxynaphthalen-1-yl)thiolan-1-ium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C12=CC(OCCCC)=CC=C2C(OCCCC)=CC=C1[S+]1CCCC1 ZYVXFNCWRJNIQJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YXHKONLOYHBTNS-UHFFFAOYSA-N Diazomethane Chemical class C=[N+]=[N-] YXHKONLOYHBTNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 4
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004657 carbamic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- BSUSEPIPTZNHMN-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+);diperchlorate Chemical compound [Co+2].[O-]Cl(=O)(=O)=O.[O-]Cl(=O)(=O)=O BSUSEPIPTZNHMN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical class C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 4
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 4
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 4
- 229920002866 paraformaldehyde Polymers 0.000 description 4
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 4
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N tetrahydrothiophene Chemical class C1CCSC1 RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- KQDCUEMOGIRBNY-UHFFFAOYSA-N (2,5-dioxo-3,4-diphenylpyrrol-1-yl) 4-fluorobenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(F)=CC=C1S(=O)(=O)ON1C(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C1=O KQDCUEMOGIRBNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trihydroxbenzophenone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JFUOAGBSDGCVES-UHFFFAOYSA-N 3-but-2-enyl-4-methylpyrrolidine-2,5-dione Chemical compound CC=CCC1C(C)C(=O)NC1=O JFUOAGBSDGCVES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WXYSZTISEJBRHW-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[4-[1,1-bis(4-hydroxyphenyl)ethyl]phenyl]propan-2-yl]phenol Chemical compound C=1C=C(C(C)(C=2C=CC(O)=CC=2)C=2C=CC(O)=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 WXYSZTISEJBRHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 3
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthene Chemical compound C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 3
- 150000004780 naphthols Chemical class 0.000 description 3
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 3
- XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N phthalimide Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NC(=O)C2=C1 XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229960002317 succinimide Drugs 0.000 description 3
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- WTVXIBRMWGUIMI-UHFFFAOYSA-N trifluoro($l^{1}-oxidanylsulfonyl)methane Chemical group [O]S(=O)(=O)C(F)(F)F WTVXIBRMWGUIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical class C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 3
- GWPGIMPAYBUFNS-UHFFFAOYSA-N (1,3-dioxo-3a,4,7,7a-tetrahydro-octahydro-1h-4,7-epoxyisoindol-2-yl) 2-(trifluoromethyl)benzenesulfonate Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1S(=O)(=O)ON1C(=O)C2C(C=C3)OC3C2C1=O GWPGIMPAYBUFNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZVBBBYXVYYKYOM-UHFFFAOYSA-N (1,3-dioxoisoindol-2-yl) 2-fluorobenzenesulfonate Chemical compound FC1=CC=CC=C1S(=O)(=O)ON1C(=O)C2=CC=CC=C2C1=O ZVBBBYXVYYKYOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYXAHUXQRATWDV-UHFFFAOYSA-N (1,3-dioxoisoindol-2-yl) trifluoromethanesulfonate Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(OS(=O)(=O)C(F)(F)F)C(=O)C2=C1 GYXAHUXQRATWDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UYBDKTYLTZZVEB-UHFFFAOYSA-N (2,3,4,5,6-pentahydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=C(O)C(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 UYBDKTYLTZZVEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PRHKHLYZXJWYMP-UHFFFAOYSA-N (2,5-dioxopyrrolidin-1-yl) 4-fluorobenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(F)=CC=C1S(=O)(=O)ON1C(=O)CCC1=O PRHKHLYZXJWYMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFJSTBHMLYKHJF-UHFFFAOYSA-N (2,5-dioxopyrrolidin-1-yl) 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)ON1C(=O)CCC1=O XFJSTBHMLYKHJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKRLWHAZMUFONP-UHFFFAOYSA-N (2,5-dioxopyrrolidin-1-yl) trifluoromethanesulfonate Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)ON1C(=O)CCC1=O OKRLWHAZMUFONP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NFNNWCSMHFTEQD-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-(2,3,4,5,6-pentahydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=C(O)C(O)=C(O)C(O)=C1O NFNNWCSMHFTEQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NJMCHQONLVUNAM-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl)methyl n-cyclohexylcarbamate Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1COC(=O)NC1CCCCC1 NJMCHQONLVUNAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZRDYULMDEGRWRC-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxyphenyl)-(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C(O)=C1O ZRDYULMDEGRWRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYGBYAQGBVHMDD-XQRVVYSFSA-N (z)-2-cyano-3-thiophen-2-ylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(\C#N)=C/C1=CC=CS1 QYGBYAQGBVHMDD-XQRVVYSFSA-N 0.000 description 2
- DPOPGHCRRJYPMP-UHFFFAOYSA-N 1-[diazo(methylsulfonyl)methyl]sulfonyl-4-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(S(=O)(=O)C(=[N+]=[N-])S(C)(=O)=O)C=C1 DPOPGHCRRJYPMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYQQFWWMZYBCIB-UHFFFAOYSA-N 1-[diazo-(4-methylphenyl)sulfonylmethyl]sulfonyl-4-methylbenzene Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)C(=[N+]=[N-])S(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 GYQQFWWMZYBCIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MUVQKFGNPGZBII-UHFFFAOYSA-N 1-anthrol Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(O)=CC=CC3=CC2=C1 MUVQKFGNPGZBII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ULGCVKBNCOLUAV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-[(4-chlorophenyl)sulfonyl-diazomethyl]sulfonylbenzene Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1S(=O)(=O)C(=[N+]=[N-])S(=O)(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 ULGCVKBNCOLUAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 1-hexanamine Chemical compound CCCCCCN BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Chemical compound C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPEXFJVZFNYXGU-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CPEXFJVZFNYXGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SAFWZKVQMVOANB-UHFFFAOYSA-N 2-[tert-butylsulfonyl(diazo)methyl]sulfonyl-2-methylpropane Chemical compound CC(C)(C)S(=O)(=O)C(=[N+]=[N-])S(=O)(=O)C(C)(C)C SAFWZKVQMVOANB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UWFHYGTWXNRUDH-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[4-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]butoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCCCCOCC1(CC)COC1 UWFHYGTWXNRUDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OUKJQFLHMCYVEA-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[1-[(3-ethyloxetan-3-yl)methyl]-4-phenylcyclohexa-2,4-dien-1-yl]methyl]oxetane Chemical group C(C)C1(COC1)CC1(CC=C(C=C1)C1=CC=CC=C1)CC1(COC1)CC OUKJQFLHMCYVEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPIUUMROPXDNRH-UHFFFAOYSA-N 3647-74-3 Chemical compound C1C2C3C(=O)NC(=O)C3C1C=C2 GPIUUMROPXDNRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BRPSWMCDEYMRPE-UHFFFAOYSA-N 4-[1,1-bis(4-hydroxyphenyl)ethyl]phenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C=1C=CC(O)=CC=1)(C)C1=CC=C(O)C=C1 BRPSWMCDEYMRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- ALVGSDOIXRPZFH-UHFFFAOYSA-N [(1-diazonioimino-3,4-dioxonaphthalen-2-ylidene)hydrazinylidene]azanide Chemical compound C1=CC=C2C(=N[N+]#N)C(=NN=[N-])C(=O)C(=O)C2=C1 ALVGSDOIXRPZFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QFKJMDYQKVPGNM-UHFFFAOYSA-N [benzenesulfonyl(diazo)methyl]sulfonylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C(=[N+]=[N-])S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 QFKJMDYQKVPGNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLGXSTXZLFQYKJ-UHFFFAOYSA-N [cyclohexylsulfonyl(diazo)methyl]sulfonylcyclohexane Chemical compound C1CCCCC1S(=O)(=O)C(=[N+]=[N-])S(=O)(=O)C1CCCCC1 GLGXSTXZLFQYKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDTRPMUFAMGRNM-UHFFFAOYSA-N [diazo(trifluoromethylsulfonyl)methyl]sulfonyl-trifluoromethane Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)C(=[N+]=[N-])S(=O)(=O)C(F)(F)F FDTRPMUFAMGRNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FEVJONIJUZTKGL-UHFFFAOYSA-N [tert-butylsulfonyl(diazo)methyl]sulfonylcyclohexane Chemical compound CC(C)(C)S(=O)(=O)C(=[N+]=[N-])S(=O)(=O)C1CCCCC1 FEVJONIJUZTKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 2
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical compound C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 2
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 2
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 2
- CUFNKYGDVFVPHO-UHFFFAOYSA-N azulene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC2=C1 CUFNKYGDVFVPHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LUFPJJNWMYZRQE-UHFFFAOYSA-N benzylsulfanylmethylbenzene Chemical class C=1C=CC=CC=1CSCC1=CC=CC=C1 LUFPJJNWMYZRQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N cadaverine Chemical compound NCCCCCN VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000788 chromium alloy Substances 0.000 description 2
- WDECIBYCCFPHNR-UHFFFAOYSA-N chrysene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=C3C4=CC=CC=C4C=CC3=C21 WDECIBYCCFPHNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentene Chemical compound C1CC=CC1 LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 2
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfone Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 2
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HOXINJBQVZWYGZ-UHFFFAOYSA-N fenbutatin oxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)C[Sn](O[Sn](CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)(CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)(CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)CC(C)(C)C1=CC=CC=C1 HOXINJBQVZWYGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OENHRRVNRZBNNS-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,8-diol Chemical compound C1=CC(O)=C2C(O)=CC=CC2=C1 OENHRRVNRZBNNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 238000001579 optical reflectometry Methods 0.000 description 2
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 2
- KYKLWYKWCAYAJY-UHFFFAOYSA-N oxotin;zinc Chemical compound [Zn].[Sn]=O KYKLWYKWCAYAJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYKRPDCJKSXAHS-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,3,4,5-tetrahydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1O LYKRPDCJKSXAHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 2
- GBROPGWFBFCKAG-UHFFFAOYSA-N picene Chemical compound C1=CC2=C3C=CC=CC3=CC=C2C2=C1C1=CC=CC=C1C=C2 GBROPGWFBFCKAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000301 poly(3-hexylthiophene-2,5-diyl) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 2
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 2
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 2
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- KUCOHFSKRZZVRO-UHFFFAOYSA-N terephthalaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=C(C=O)C=C1 KUCOHFSKRZZVRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IFLREYGFSNHWGE-UHFFFAOYSA-N tetracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC=CC=C4C=C3C=C21 IFLREYGFSNHWGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 2
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRWFGVWFFZKLTI-IUCAKERBSA-N (-)-α-pinene Chemical compound CC1=CC[C@@H]2C(C)(C)[C@H]1C2 GRWFGVWFFZKLTI-IUCAKERBSA-N 0.000 description 1
- YIWZAOFAGICWPI-UHFFFAOYSA-N (1,3-dioxo-3a,4,7,7a-tetrahydro-octahydro-1h-4,7-epoxyisoindol-2-yl) 4-fluorobenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(F)=CC=C1S(=O)(=O)ON1C(=O)C2C(C=C3)OC3C2C1=O YIWZAOFAGICWPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTCZYUIKQJWABL-UHFFFAOYSA-N (1,3-dioxo-3a,4,7,7a-tetrahydro-octahydro-1h-4,7-epoxyisoindol-2-yl) 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)ON1C(=O)C2C(C=C3)OC3C2C1=O UTCZYUIKQJWABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFMMMYHKGPIRON-UHFFFAOYSA-N (1,3-dioxo-3a,4,7,7a-tetrahydro-octahydro-1h-4,7-epoxyisoindol-2-yl) trifluoromethanesulfonate Chemical compound C1=CC2OC1C1C2C(=O)N(OS(=O)(=O)C(F)(F)F)C1=O KFMMMYHKGPIRON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKQXXLVXLSREHB-UHFFFAOYSA-N (1,3-dioxobenzo[de]isoquinolin-2-yl) 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)ON(C1=O)C(=O)C2=C3C1=CC=CC3=CC=C2 BKQXXLVXLSREHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWHOMMCIJIJIGV-UHFFFAOYSA-N (1,3-dioxobenzo[de]isoquinolin-2-yl) trifluoromethanesulfonate Chemical compound C1=CC(C(N(OS(=O)(=O)C(F)(F)F)C2=O)=O)=C3C2=CC=CC3=C1 LWHOMMCIJIJIGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLBURFVEHMDJPO-UHFFFAOYSA-N (1,3-dioxoisoindol-2-yl) 2-(trifluoromethyl)benzenesulfonate Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1S(=O)(=O)ON1C(=O)C2=CC=CC=C2C1=O FLBURFVEHMDJPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWRVAXMLZCMVSL-UHFFFAOYSA-N (2,4,6-trihydroxyphenyl)-(3,4,5-trihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 QWRVAXMLZCMVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDKXCMCPUBYZBF-UHFFFAOYSA-N (2,5-dioxo-3,4-diphenylpyrrol-1-yl) 2-(trifluoromethyl)benzenesulfonate Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1S(=O)(=O)ON1C(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C1=O WDKXCMCPUBYZBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLLFCCPTQOZGOL-UHFFFAOYSA-N (2,5-dioxo-3,4-diphenylpyrrol-1-yl) trifluoromethanesulfonate Chemical compound O=C1N(OS(=O)(=O)C(F)(F)F)C(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 RLLFCCPTQOZGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMKFJAZDRZNWRC-UHFFFAOYSA-N (2,5-dioxopyrrolidin-1-yl) 2-(trifluoromethyl)benzenesulfonate Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1S(=O)(=O)ON1C(=O)CCC1=O XMKFJAZDRZNWRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTZQBKXLNQEOHK-UHFFFAOYSA-N (2,6-difluorophenoxy)boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=C(F)C=CC=C1F HTZQBKXLNQEOHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDROXNKXVHPNBJ-UHFFFAOYSA-N (2,6-dihydroxyphenyl)-(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC=C1C(=O)C1=C(O)C=CC=C1O ZDROXNKXVHPNBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPALFYDBFJWLOV-UHFFFAOYSA-N (2,6-dinitrophenyl)methyl N-[2-[(2,6-dinitrophenyl)methoxycarbonylamino]phenyl]carbamate Chemical compound [N+](=O)([O-])C1=C(COC(=O)NC2=C(C=CC=C2)NC(=O)OCC2=C(C=CC=C2[N+](=O)[O-])[N+](=O)[O-])C(=CC=C1)[N+](=O)[O-] XPALFYDBFJWLOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REPNLHVPISRIIU-UHFFFAOYSA-N (2,6-dinitrophenyl)methyl n-[6-[(2,6-dinitrophenyl)methoxycarbonylamino]hexyl]carbamate Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1COC(=O)NCCCCCCNC(=O)OCC1=C([N+]([O-])=O)C=CC=C1[N+]([O-])=O REPNLHVPISRIIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTVGJHKGLOQOQM-UHFFFAOYSA-N (2,6-dinitrophenyl)methyl n-cyclohexylcarbamate Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1COC(=O)NC1CCCCC1 UTVGJHKGLOQOQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVPACERGROHTSS-UHFFFAOYSA-N (2,6-dinitrophenyl)methyl n-hexylcarbamate Chemical compound CCCCCCNC(=O)OCC1=C([N+]([O-])=O)C=CC=C1[N+]([O-])=O VVPACERGROHTSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXNMUFZWEFURFP-UHFFFAOYSA-N (2,6-dinitrophenyl)methyl n-methylcarbamate Chemical compound CNC(=O)OCC1=C([N+]([O-])=O)C=CC=C1[N+]([O-])=O IXNMUFZWEFURFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDSYKTIIBSOEMS-UHFFFAOYSA-N (2,6-dinitrophenyl)methyl n-phenylcarbamate Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1COC(=O)NC1=CC=CC=C1 SDSYKTIIBSOEMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCDGHOWMFYQPTF-UHFFFAOYSA-N (2,6-dinitrophenyl)methyl n-propylcarbamate Chemical compound CCCNC(=O)OCC1=C([N+]([O-])=O)C=CC=C1[N+]([O-])=O LCDGHOWMFYQPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWENFLVRXHKVBS-UHFFFAOYSA-N (2,6-dinitrophenyl)methyl piperidine-1-carboxylate Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1COC(=O)N1CCCCC1 TWENFLVRXHKVBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKUPURXSAPJFEO-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl)methyl 2-[1,1-diamino-2-[(2-nitrophenyl)methoxy]-2-oxoethyl]benzoate Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)OCC=2C(=CC=CC=2)[N+]([O-])=O)C=1C(N)(N)C(=O)OCC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O LKUPURXSAPJFEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOPRZYCNRLSSMW-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl)methyl N-[2-[(2-nitrophenyl)methoxycarbonylamino]phenyl]carbamate Chemical compound [N+](=O)([O-])C1=C(COC(=O)NC2=C(C=CC=C2)NC(=O)OCC2=C(C=CC=C2)[N+](=O)[O-])C=CC=C1 NOPRZYCNRLSSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZYMYLVMDVAQAK-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl)methyl n-[6-[(2-nitrophenyl)methoxycarbonylamino]hexyl]carbamate Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1COC(=O)NCCCCCCNC(=O)OCC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O OZYMYLVMDVAQAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHWCDPQWVYCOHU-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl)methyl n-methylcarbamate Chemical compound CNC(=O)OCC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O KHWCDPQWVYCOHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHBXIXRJLUDQNU-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl)methyl n-phenylcarbamate Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1COC(=O)NC1=CC=CC=C1 AHBXIXRJLUDQNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMBYCLRBSJQLDA-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl)methyl n-propylcarbamate Chemical compound CCCNC(=O)OCC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O NMBYCLRBSJQLDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZEHWWYWZYFYBV-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl)methyl piperidine-1-carboxylate Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1COC(=O)N1CCCCC1 ZZEHWWYWZYFYBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLDWUFCUUXXYTB-UHFFFAOYSA-N (2-oxo-1,2-diphenylethyl) 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)OC(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=CC=CC=C1 DLDWUFCUUXXYTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSLWIRRLTICCEK-UHFFFAOYSA-N (3,5-dioxo-4-azatricyclo[5.2.1.02,6]dec-8-en-4-yl) 2-(trifluoromethyl)benzenesulfonate Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1S(=O)(=O)ON1C(=O)C2C(C=C3)CC3C2C1=O YSLWIRRLTICCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPJUYJATIOZWDB-UHFFFAOYSA-N (3,5-dioxo-4-azatricyclo[5.2.1.02,6]dec-8-en-4-yl) 4-fluorobenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(F)=CC=C1S(=O)(=O)ON1C(=O)C2C(C=C3)CC3C2C1=O UPJUYJATIOZWDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWZREQONUGCFIT-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxyphenyl)-(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC=CC(C(=O)C=2C(=C(O)C(O)=CC=2)O)=C1 HWZREQONUGCFIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVHMFMMVURPZFE-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxy-3-methoxyphenyl)-(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone Chemical compound C1=C(O)C(OC)=CC(C(=O)C=2C(=C(O)C(O)=CC=2)O)=C1 FVHMFMMVURPZFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAEDNLDMOUKNMI-UHFFFAOYSA-O (4-hydroxyphenyl)-dimethylsulfanium Chemical compound C[S+](C)C1=CC=C(O)C=C1 QAEDNLDMOUKNMI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- FJALTVCJBKZXKY-UHFFFAOYSA-M (7,7-dimethyl-3-oxo-4-bicyclo[2.2.1]heptanyl)methanesulfonate;triphenylsulfanium Chemical compound C1CC2(CS([O-])(=O)=O)C(=O)CC1C2(C)C.C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 FJALTVCJBKZXKY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KYLXYSWUYYPCHF-UHFFFAOYSA-N (diphenyl-lambda3-iodanyl) 2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound C=1C=CC=CC=1I(OC(=O)C(F)(F)F)C1=CC=CC=C1 KYLXYSWUYYPCHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBDUMNZXAIUUTH-HWKANZROSA-N (e)-tetradec-2-ene Chemical group CCCCCCCCCCC\C=C\C OBDUMNZXAIUUTH-HWKANZROSA-N 0.000 description 1
- NSGXIBWMJZWTPY-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)CC(F)(F)F NSGXIBWMJZWTPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVYNAINACXQUBL-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,9,9,10,10-decafluorododecane Chemical compound CCC(F)(F)C(F)(F)CCCCCC(F)(F)C(F)(F)C(F)F JVYNAINACXQUBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASEOYCMPSWVAFP-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3-hexafluoro-1-[2-[2-[2-[2-[2-[2-(1,1,2,2,3,3-hexafluoropentoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]pentane Chemical compound FC(C(C(CC)(F)F)(F)F)(F)OCCOCCOCCOCCOCCOCCOC(C(C(CC)(F)F)(F)F)(F)F ASEOYCMPSWVAFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMMOLDZBACYVIN-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3-hexafluoro-1-[2-[2-[2-[2-[2-[2-(1,1,2,2,3,3-hexafluoropentoxy)propoxy]propoxy]propoxy]propoxy]propoxy]propoxy]pentane Chemical compound CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)OCC(C)OCC(C)OCC(C)OCC(C)OCC(C)OCC(C)OC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CC KMMOLDZBACYVIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWFUGQANHCJOAR-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3-hexafluorodecane Chemical compound CCCCCCCC(F)(F)C(F)(F)C(F)F FWFUGQANHCJOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJURQEZAWYGJDB-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoro-1-(1,1,2,2-tetrafluorobutoxy)butane Chemical compound CCC(F)(F)C(F)(F)OC(F)(F)C(F)(F)CC IJURQEZAWYGJDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKNKAWHZNOFVLS-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoro-1-(1,1,2,2-tetrafluoropropoxy)octane Chemical compound CCCCCCC(F)(F)C(F)(F)OC(F)(F)C(C)(F)F MKNKAWHZNOFVLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCCPAVALGCCVQZ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoro-1-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-(1,1,2,2-tetrafluorobutoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]butane Chemical compound CCC(F)(F)C(F)(F)OCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOC(F)(F)C(F)(F)CC GCCPAVALGCCVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIZMPBJZAHNFGY-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoro-1-hexoxyoctane Chemical compound CCCCCCOC(F)(F)C(F)(F)CCCCCC RIZMPBJZAHNFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTCOUOISVRSLSH-UHFFFAOYSA-N 1,2-Anthracenediol Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=C(O)C(O)=CC=C3C=C21 UTCOUOISVRSLSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical group C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxonaphthalene Natural products C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOKGTLAJQHTOKE-UHFFFAOYSA-N 1,5-dihydroxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1O BOKGTLAJQHTOKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 1,8-diaminooctane Chemical compound NCCCCCCCCN PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXIKTPYBJLGKCJ-UHFFFAOYSA-N 1-(4,7-dibutoxynaphthalen-1-yl)thiolan-1-ium Chemical compound C12=CC(OCCCC)=CC=C2C(OCCCC)=CC=C1[S+]1CCCC1 AXIKTPYBJLGKCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGSKOGYKWHUSLC-UHFFFAOYSA-N 1-(4-aminophenyl)-1,3,3-trimethyl-2h-inden-5-amine Chemical compound C12=CC=C(N)C=C2C(C)(C)CC1(C)C1=CC=C(N)C=C1 CGSKOGYKWHUSLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEZIJESLKIMKNL-UHFFFAOYSA-N 1-(4-butoxynaphthalen-1-yl)thiolan-1-ium Chemical compound C12=CC=CC=C2C(OCCCC)=CC=C1[S+]1CCCC1 CEZIJESLKIMKNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNDABSCBNOUSTE-UHFFFAOYSA-M 1-(4-butoxynaphthalen-1-yl)thiolan-1-ium;1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F.C12=CC=CC=C2C(OCCCC)=CC=C1[S+]1CCCC1 WNDABSCBNOUSTE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VENFLBNYESHJKZ-UHFFFAOYSA-M 1-(4-butoxynaphthalen-1-yl)thiolan-1-ium;1,1,2,2-tetrafluoro-2-[3-[(2-methylpropan-2-yl)oxycarbonyloxy]-5-bicyclo[2.2.1]heptanyl]ethanesulfonate Chemical compound C12=CC=CC=C2C(OCCCC)=CC=C1[S+]1CCCC1.C1C2C(OC(=O)OC(C)(C)C)CC1CC2C(F)(F)C(F)(F)S([O-])(=O)=O VENFLBNYESHJKZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JQIQJUCEFIYYOJ-UHFFFAOYSA-M 1-(4-butoxynaphthalen-1-yl)thiolan-1-ium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C12=CC=CC=C2C(OCCCC)=CC=C1[S+]1CCCC1 JQIQJUCEFIYYOJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GPCKPGVDNVERPI-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(N-hydroxy-C-phenylcarbonimidoyl)phenyl]butan-1-one Chemical compound CCCC(=O)C1=CC=CC=C1C(=NO)C1=CC=CC=C1 GPCKPGVDNVERPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWGBBKKLBLPWLV-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(N-hydroxy-C-phenylcarbonimidoyl)phenyl]propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1=CC=CC=C1C(=NO)C1=CC=CC=C1 KWGBBKKLBLPWLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMPVSXZHNCBTTN-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(n-hydroxy-c-phenylcarbonimidoyl)phenyl]prop-2-en-1-one Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=C)C=1C(=NO)C1=CC=CC=C1 OMPVSXZHNCBTTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOHNQBSUXAVDOP-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[(2-methylphenyl)methylsulfanylmethyl]phenyl]ethanone Chemical compound C1=CC(C(=O)C)=CC=C1CSCC1=CC=CC=C1C NOHNQBSUXAVDOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OESYNCIYSBWEQV-UHFFFAOYSA-N 1-[diazo-(2,4-dimethylphenyl)sulfonylmethyl]sulfonyl-2,4-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)C(=[N+]=[N-])S(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1C OESYNCIYSBWEQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEKIOKHXXBFTEU-UHFFFAOYSA-N 1-benzyl-9,10-diethoxy-3-nitroanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=C([N+]([O-])=O)C=C2C(OCC)=C3C=CC=CC3=C(OCC)C2=C1CC1=CC=CC=C1 GEKIOKHXXBFTEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)O RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUWDFGKRNIDKAE-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCCOCC(C)OC(C)=O FUWDFGKRNIDKAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNBHVKBYRFDOJK-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-yl propanoate Chemical compound CCCCOCC(C)OC(=O)CC FNBHVKBYRFDOJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODDDCGGSPAPBOS-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl propanoate Chemical compound CCOCC(C)OC(=O)CC ODDDCGGSPAPBOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXLCNVVQTVIXDG-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-1,2,3,4-tetrahydronaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(CC)CCCC2=C1 AXLCNVVQTVIXDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGJNPAIRPODCDT-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxyimino-1-phenylhexan-3-one Chemical compound CCCC(=O)CC(=NO)C1=CC=CC=C1 OGJNPAIRPODCDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQWTXCINKAWNGZ-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxyimino-1-phenylpentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC(=NO)C1=CC=CC=C1 GQWTXCINKAWNGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOVZUKKPYKRVIK-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-yl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC(C)COC DOVZUKKPYKRVIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical group CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILMDJKLKHFJJMZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-2-(2,4,6-trimethylphenyl)sulfonylethanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1S(=O)(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 ILMDJKLKHFJJMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCOCC(C)OC(C)=O DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVNBCIQRFGXLRD-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-yl propanoate Chemical compound CCCOCC(C)OC(=O)CC RVNBCIQRFGXLRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYMUYYZQUXYMJI-UHFFFAOYSA-M 2,2,2-trifluoroacetate;triphenylsulfanium Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F.C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WYMUYYZQUXYMJI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 2,4-diaminotoluene Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1N VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound COCCOCCOC(C)=O BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBZCNVNEJAFTJO-UHFFFAOYSA-N 2-(4-chlorophenyl)-1-[2-(4-chlorophenyl)-4-methylphenyl]sulfonylsulfonyl-4-methylbenzene Chemical class C=1C(C)=CC=C(S(=O)(=O)S(=O)(=O)C=2C(=CC(C)=CC=2)C=2C=CC(Cl)=CC=2)C=1C1=CC=C(Cl)C=C1 QBZCNVNEJAFTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIHOJFNAXBGDSE-UHFFFAOYSA-N 2-(benzenesulfonyl)-2-diazonio-1-phenylethenolate Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C(=[N+]=[N-])C(=O)C1=CC=CC=C1 YIHOJFNAXBGDSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYTPEWBYGVOCNF-UHFFFAOYSA-N 2-[(2,6-dinitrophenyl)methyl]benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1CC1=C([N+]([O-])=O)C=CC=C1[N+]([O-])=O UYTPEWBYGVOCNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUHPXRCIMAHURH-UHFFFAOYSA-N 2-[(phenylsulfonyl)oxy]-3a,4,7,7a-tetrahydro-1h-4,7-methanoisoindole-1,3(2h)-dione Chemical compound O=C1C2C(C=C3)CC3C2C(=O)N1OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 PUHPXRCIMAHURH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZEANNAZZVVPKU-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propoxy]propoxy]propoxy]propoxy]propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)COC(C)COC(C)COC(C)COC(C)COC(C)CO ZZEANNAZZVVPKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVIYKYLBDDQYRZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxy-n-propan-2-ylpropanamide Chemical compound CCCCOC(C)C(=O)NC(C)C NVIYKYLBDDQYRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 2-diethylaminoethanol Chemical compound CCN(CC)CCO BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOCVOAXAUMKNQT-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyiminoheptan-4-one Chemical compound CCCC(=O)CC(C)=NO WOCVOAXAUMKNQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDDGHHVNVQKFIB-UHFFFAOYSA-N 2-naphthalen-2-yl-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=2C=C3C=CC=CC3=CC=2)=N1 HDDGHHVNVQKFIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAZQZUFYRLFOLC-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 HAZQZUFYRLFOLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Chemical compound OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYYQKWASBLTRIW-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylbenzoic acid Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1C(O)=O WYYQKWASBLTRIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethoxybenzidine Chemical group C1=C(N)C(OC)=CC(C=2C=C(OC)C(N)=CC=2)=C1 JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethylbenzidine Chemical group C1=C(N)C(C)=CC(C=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBMISJGHVWNWTE-UHFFFAOYSA-N 3-(4-aminophenoxy)aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(N)=C1 ZBMISJGHVWNWTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDGWSSXWLLHGGV-UHFFFAOYSA-N 3-(4-aminophenyl)-1,1,3-trimethyl-2h-inden-5-amine Chemical compound C12=CC(N)=CC=C2C(C)(C)CC1(C)C1=CC=C(N)C=C1 GDGWSSXWLLHGGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)-3,5,5-trimethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(CN)C1 RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKXMZIDBVDIVME-UHFFFAOYSA-N 3-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]-2,2-bis[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]propan-1-ol Chemical compound C1OCC1(CC)COCC(CO)(COCC1(CC)COC1)COCC1(CC)COC1 WKXMZIDBVDIVME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKNOYISMZFDLQP-UHFFFAOYSA-N 3-[1-[2-(oxetan-3-yl)butoxy]butan-2-yl]oxetane Chemical compound C1OCC1C(CC)COCC(CC)C1COC1 MKNOYISMZFDLQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKKYOQYISDAQER-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(3-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(OC=3C=C(N)C=CC=3)C=CC=2)=C1 DKKYOQYISDAQER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVYXPOCADCXMLP-UHFFFAOYSA-N 3-butoxy-n,n-dimethylpropanamide Chemical compound CCCCOCCC(=O)N(C)C LVYXPOCADCXMLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLNCKLVYLZHRKK-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[2-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]ethoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCCOCC1(CC)COC1 SLNCKLVYLZHRKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUGFSEWXAWXRTM-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[2-[2-[2-[2-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCCOCCOCCOCCOCC1(CC)COC1 WUGFSEWXAWXRTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXEOSBGULDWPRJ-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[5-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]pentoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCCCCCOCC1(CC)COC1 UXEOSBGULDWPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBDPVIKGIRHANI-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[6-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]hexoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCCCCCCOCC1(CC)COC1 GBDPVIKGIRHANI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPINXYMPRYQBGF-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[3-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]-2,2-bis[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]propoxy]methyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCC(COCC1(CC)COC1)(COCC1(CC)COC1)COCC1(CC)COC1 HPINXYMPRYQBGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[4-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]phenyl]methoxymethyl]oxetane Chemical compound C=1C=C(COCC2(CC)COC2)C=CC=1COCC1(CC)COC1 LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGRJJOYCFCCGPX-UHFFFAOYSA-N 3-ethyloxetane Chemical compound CCC1COC1 CGRJJOYCFCCGPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSDRBSSKALZMGH-UHFFFAOYSA-N 3-hexoxy-n,n-dimethylpropanamide Chemical compound CCCCCCOCCC(=O)N(C)C JSDRBSSKALZMGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBVMWHCOFMFPEG-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-n,n-dimethylpropanamide Chemical compound COCCC(=O)N(C)C LBVMWHCOFMFPEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 3-propoxypropan-1-ol Chemical compound CCCOCCCO LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Thiodianiline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1SC1=CC=C(N)C=C1 ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBOFVQJTBBUKMU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-methylene-bis-(2-chloroaniline) Chemical compound C1=C(Cl)C(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C(Cl)=C1 IBOFVQJTBBUKMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGJZXXPWUDGJSV-UHFFFAOYSA-N 4,6-bis[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]benzene-1,3-diol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C=2C=CC(O)=CC=2)=C(O)C=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 SGJZXXPWUDGJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRLUQVLHGAVXQB-UHFFFAOYSA-N 4-(4-amino-2-chloro-5-methoxyphenyl)-5-chloro-2-methoxyaniline Chemical group C1=C(N)C(OC)=CC(C=2C(=CC(N)=C(OC)C=2)Cl)=C1Cl NRLUQVLHGAVXQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYIMZXITLDTULQ-UHFFFAOYSA-N 4-(4-amino-2-methylphenyl)-3-methylaniline Chemical group CC1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1C QYIMZXITLDTULQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOSONAGXTXMCDY-UHFFFAOYSA-N 4-(benzylsulfanylmethyl)phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CSCC1=CC=CC=C1 IOSONAGXTXMCDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBLFJUWXERDUEN-UHFFFAOYSA-N 4-[(2,3,4-trihydroxyphenyl)methyl]benzene-1,2,3-triol Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C(O)=C1O NBLFJUWXERDUEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNFYXIMJKWENNK-UHFFFAOYSA-N 4-[(2,4-dihydroxyphenyl)methyl]benzene-1,3-diol Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1O FNFYXIMJKWENNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STCQADFDVULNEN-UHFFFAOYSA-N 4-[(2-methylphenyl)methylsulfanylmethyl]phenol Chemical compound CC1=CC=CC=C1CSCC1=CC=C(O)C=C1 STCQADFDVULNEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminocyclohexyl)methyl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1CC1CCC(N)CC1 DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNICUQBUXHBYCH-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-hydroxy-2,5-dimethylphenyl)-(2-hydroxyphenyl)methyl]-2,5-dimethylphenol Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C(C=2C(=CC=CC=2)O)C=2C(=CC(O)=C(C)C=2)C)=C1C YNICUQBUXHBYCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGHDLJAZIIFENW-UHFFFAOYSA-N 4-[1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-(4-hydroxy-3-prop-2-enylphenyl)propan-2-yl]-2-prop-2-enylphenol Chemical group C1=C(CC=C)C(O)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(O)C(CC=C)=C1 QGHDLJAZIIFENW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSBOCPVKJMBWTF-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-aminophenyl)ethyl]aniline Chemical compound C=1C=C(N)C=CC=1C(C)C1=CC=C(N)C=C1 HSBOCPVKJMBWTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYIWTDSCYULDTJ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(2,3,4-trihydroxyphenyl)propan-2-yl]benzene-1,2,3-triol Chemical compound C=1C=C(O)C(O)=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C(O)=C1O NYIWTDSCYULDTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEKFRNOZJSYWKZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(N)C=C1 BEKFRNOZJSYWKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGFDWQYZRPDQQY-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[3-[2-[2,4-dihydroxy-5-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenyl]propan-2-yl]phenyl]propan-2-yl]-6-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]benzene-1,3-diol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C=2C=C(C=CC=2)C(C)(C)C=2C(=CC(O)=C(C=2)C(C)(C)C=2C=CC(O)=CC=2)O)=C(O)C=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IGFDWQYZRPDQQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUPRYUDHUFLKFL-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(OC=2C=CC(N)=CC=2)=C1 WUPRYUDHUFLKFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C(C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1 HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTTAAQJJJPFTLZ-UHFFFAOYSA-N 4-[7-hydroxy-4-(4-hydroxyphenyl)-2-methyl-3,4-dihydrochromen-2-yl]benzene-1,3-diol Chemical compound C12=CC=C(O)C=C2OC(C)(C=2C(=CC(O)=CC=2)O)CC1C1=CC=C(O)C=C1 ZTTAAQJJJPFTLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIFDSGGWDIVQGN-UHFFFAOYSA-N 4-[9-(4-aminophenyl)fluoren-9-yl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1(C=2C=CC(N)=CC=2)C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 KIFDSGGWDIVQGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFCQTAXSWSWIHS-UHFFFAOYSA-N 4-[bis(4-hydroxyphenyl)methyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 WFCQTAXSWSWIHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPAQFJJCWGSXGJ-UHFFFAOYSA-N 4-amino-n-(4-aminophenyl)benzamide Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1NC(=O)C1=CC=C(N)C=C1 XPAQFJJCWGSXGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 4-diazoniophenolate Chemical class [O-]C1=CC=C([N+]#N)C=C1 WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXZXRYDYTRYFAF-UHFFFAOYSA-M 4-methylbenzenesulfonate;triphenylsulfanium Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1.C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 YXZXRYDYTRYFAF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MJKWAFRFBDEJSI-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxyimino-5-phenylpent-1-en-3-one Chemical compound C=CC(=O)CC(=NO)C1=CC=CC=C1 MJKWAFRFBDEJSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAIPBFIXVUTBJM-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxyiminohex-1-en-3-one Chemical compound ON=C(C)CC(=O)C=C YAIPBFIXVUTBJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGMOIOAJGGWNAO-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxyiminohexan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC(C)=NO IGMOIOAJGGWNAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCFMUWBCZZUMRX-UHFFFAOYSA-N 9,10-Dihydroxyanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(O)=C(C=CC=C3)C3=C(O)C2=C1 PCFMUWBCZZUMRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNCJAJRILVFXAE-UHFFFAOYSA-N 9h-fluorene-2,7-diamine Chemical compound NC1=CC=C2C3=CC=C(N)C=C3CC2=C1 SNCJAJRILVFXAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJHGAFSJWGLOIV-UHFFFAOYSA-K Arsenate3- Chemical compound [O-][As]([O-])([O-])=O DJHGAFSJWGLOIV-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- JQCFSYSWHFPSBN-UHFFFAOYSA-N C(C)C1OCC1COCCOCCOCCOCC1C(OC1)CC Chemical compound C(C)C1OCC1COCCOCCOCCOCC1C(OC1)CC JQCFSYSWHFPSBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 0 CC1*(C)CCC1 Chemical compound CC1*(C)CCC1 0.000 description 1
- WVOIXYYALUFUSM-UHFFFAOYSA-N CCC1CCCc2cc(C)ccc12 Chemical compound CCC1CCCc2cc(C)ccc12 WVOIXYYALUFUSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- PMPVIKIVABFJJI-UHFFFAOYSA-N Cyclobutane Chemical compound C1CCC1 PMPVIKIVABFJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVZWSLJZHVFIQJ-UHFFFAOYSA-N Cyclopropane Chemical compound C1CC1 LVZWSLJZHVFIQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVGGHNCTFXOJCH-UHFFFAOYSA-N DDT Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(C(Cl)(Cl)Cl)C1=CC=C(Cl)C=C1 YVGGHNCTFXOJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPSMNPYXDWIDKU-UHFFFAOYSA-N FOS(=O)(=O)CCCCCCCCCCCC Chemical compound FOS(=O)(=O)CCCCCCCCCCCC WPSMNPYXDWIDKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229910001182 Mo alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910015202 MoCr Inorganic materials 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYSJUZGIOOLRDN-UHFFFAOYSA-N N-propan-2-yl-2-propan-2-yloxypropanamide Chemical compound C(C)(C)OC(C(=O)NC(C)C)C OYSJUZGIOOLRDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQURLFNQFDNNFX-UHFFFAOYSA-N NC1=CC(=C(C=C1)C1=C(C=C(C=C1)N)C(F)(F)F)C(F)(F)F.NC1=CC(=C(OC2=CC=C(C=C2)C(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1)C(F)(F)F Chemical group NC1=CC(=C(C=C1)C1=C(C=C(C=C1)N)C(F)(F)F)C(F)(F)F.NC1=CC(=C(OC2=CC=C(C=C2)C(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1)C(F)(F)F YQURLFNQFDNNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- XBDYBAVJXHJMNQ-UHFFFAOYSA-N Tetrahydroanthracene Natural products C1=CC=C2C=C(CCCC3)C3=CC2=C1 XBDYBAVJXHJMNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLGBZMMZGDRARJ-UHFFFAOYSA-N Triphenylene Natural products C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C3C2=C1 SLGBZMMZGDRARJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 229910007610 Zn—Sn Inorganic materials 0.000 description 1
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXIKYYJDTWKERT-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1CCC(CN)CC1 OXIKYYJDTWKERT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFXVSCAZEBOMCW-UHFFFAOYSA-N [4-[(2-methylphenyl)methylsulfanylmethyl]phenyl] benzoate Chemical compound CC1=CC=CC=C1CSCC(C=C1)=CC=C1OC(=O)C1=CC=CC=C1 VFXVSCAZEBOMCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQGFXDYETSVXJZ-UHFFFAOYSA-N [N+](=O)([O-])C1=C(COC(=O)C(C2=CC=CC=C2)(N)N)C(=CC=C1)[N+](=O)[O-] Chemical compound [N+](=O)([O-])C1=C(COC(=O)C(C2=CC=CC=C2)(N)N)C(=CC=C1)[N+](=O)[O-] QQGFXDYETSVXJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJQCJXJLKBJXFL-UHFFFAOYSA-N [[5-[cyano-(2-methylphenyl)methylidene]thiophen-2-ylidene]amino] octane-1-sulfonate Chemical compound C1=CC(=NOS(=O)(=O)CCCCCCCC)SC1=C(C#N)C1=CC=CC=C1C NJQCJXJLKBJXFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLGWCXKQZVGGJA-UHFFFAOYSA-N [[5-[cyano-(2-methylphenyl)methylidene]thiophen-2-ylidene]amino] propane-1-sulfonate Chemical compound C1=CC(=NOS(=O)(=O)CCC)SC1=C(C#N)C1=CC=CC=C1C PLGWCXKQZVGGJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXJNFINWUUSNRX-UHFFFAOYSA-N [[cyano-(4-methoxyphenyl)methylidene]amino] octane-1-sulfonate Chemical compound CCCCCCCCS(=O)(=O)ON=C(C#N)C1=CC=C(OC)C=C1 AXJNFINWUUSNRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWRYPZZKDGJXCA-UHFFFAOYSA-N acenaphthene Chemical group C1=CC(CC2)=C3C2=CC=CC3=C1 CWRYPZZKDGJXCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004054 acenaphthylenyl group Chemical group C1(=CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- SQFPKRNUGBRTAR-UHFFFAOYSA-N acephenanthrylene Chemical group C1=CC(C=C2)=C3C2=CC2=CC=CC=C2C3=C1 SQFPKRNUGBRTAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- HXGDTGSAIMULJN-UHFFFAOYSA-N acetnaphthylene Natural products C1=CC(C=C2)=C3C2=CC=CC3=C1 HXGDTGSAIMULJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXAJQJMDEXJWFB-UHFFFAOYSA-N acetone oxime Chemical compound CC(C)=NO PXAJQJMDEXJWFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 1
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- IVHKZGYFKJRXBD-UHFFFAOYSA-N amino carbamate Chemical compound NOC(N)=O IVHKZGYFKJRXBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- SLOLMTWBBAFOKJ-UHFFFAOYSA-N anthracene-1,2,3-triol Chemical compound C1=CC=C2C=C(C(O)=C(C(O)=C3)O)C3=CC2=C1 SLOLMTWBBAFOKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZIQWQARHPGHIG-UHFFFAOYSA-N anthrarobin Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=C(O)C(O)=CC=C3C(O)=C21 TZIQWQARHPGHIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229940000489 arsenate Drugs 0.000 description 1
- 125000005228 aryl sulfonate group Chemical group 0.000 description 1
- KNNXFYIMEYKHBZ-UHFFFAOYSA-N as-indacene Chemical compound C1=CC2=CC=CC2=C2C=CC=C21 KNNXFYIMEYKHBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFECTIOHCNMRKG-UHFFFAOYSA-L azane cobalt(2+) diperchlorate Chemical compound N.N.N.N.N.N.[Co++].[O-][Cl](=O)(=O)=O.[O-][Cl](=O)(=O)=O SFECTIOHCNMRKG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCHNSJNRFSOCLJ-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonylmethylsulfonylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)CS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 QCHNSJNRFSOCLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- KUYRDAWXIBUVCA-UHFFFAOYSA-N benzyl n-cyclohexylcarbamate Chemical compound C=1C=CC=CC=1COC(=O)NC1CCCCC1 KUYRDAWXIBUVCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950011260 betanaphthol Drugs 0.000 description 1
- SHOMMGQAMRXRRK-UHFFFAOYSA-N bicyclo[3.1.1]heptane Chemical compound C1C2CC1CCC2 SHOMMGQAMRXRRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002529 biphenylenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C12)* 0.000 description 1
- WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N bis(2,4-dihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1O WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGKOKEBHGRCHSR-UHFFFAOYSA-N bis(3,4,5-trihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC(C(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)=C1 IGKOKEBHGRCHSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUQQUUXMCKXGDI-UHFFFAOYSA-N bis(3-aminophenyl)methanone Chemical compound NC1=CC=CC(C(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 TUQQUUXMCKXGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N bis(4-aminophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N)C=C1 ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNFSNYQTQMVTOK-UHFFFAOYSA-N bis(4-tert-butylphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 DNFSNYQTQMVTOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDUKBVGQQFOMPC-UHFFFAOYSA-M bis(4-tert-butylphenyl)iodanium;(7,7-dimethyl-3-oxo-4-bicyclo[2.2.1]heptanyl)methanesulfonate Chemical compound C1CC2(CS([O-])(=O)=O)C(=O)CC1C2(C)C.C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 MDUKBVGQQFOMPC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UHGVULRLVZYBQE-UHFFFAOYSA-M bis(4-tert-butylphenyl)iodanium;2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F.C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 UHGVULRLVZYBQE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UEJFJTOGXLEPIV-UHFFFAOYSA-M bis(4-tert-butylphenyl)iodanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1.C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 UEJFJTOGXLEPIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VGZKCAUAQHHGDK-UHFFFAOYSA-M bis(4-tert-butylphenyl)iodanium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 VGZKCAUAQHHGDK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QKUAAKUWKQNSJS-UHFFFAOYSA-N bis[(2,6-dinitrophenyl)methyl] 3-[diamino(phenyl)methyl]benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=1C=CC(C(=O)OCC=2C(=CC=CC=2[N+]([O-])=O)[N+]([O-])=O)=C(C(=O)OCC=2C(=CC=CC=2[N+]([O-])=O)[N+]([O-])=O)C=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 QKUAAKUWKQNSJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQNVWJKGYTZAGX-UHFFFAOYSA-N bis[(2-nitrophenyl)methyl] piperazine-1,4-dicarboxylate Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1COC(=O)N1CCN(C(=O)OCC=2C(=CC=CC=2)[N+]([O-])=O)CC1 BQNVWJKGYTZAGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- VUKHQPGJNTXTPY-UHFFFAOYSA-N but-2-enylbenzene Chemical group CC=CCC1=CC=CC=C1 VUKHQPGJNTXTPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- MIOPJNTWMNEORI-UHFFFAOYSA-N camphorsulfonic acid Chemical compound C1CC2(CS(O)(=O)=O)C(=O)CC1C2(C)C MIOPJNTWMNEORI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHRWWRDRBPCWTF-OLQVQODUSA-N captafol Chemical class C1C=CC[C@H]2C(=O)N(SC(Cl)(Cl)C(Cl)Cl)C(=O)[C@H]21 JHRWWRDRBPCWTF-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-diamine Chemical compound NC1CCC(N)CC1 VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKJLNMAFNRKWGR-UHFFFAOYSA-N cyclohexatrienamine Chemical group NC1=CC=C=C[CH]1 UKJLNMAFNRKWGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N cyclooctane Chemical compound C1CCCCCCC1 WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004914 cyclooctane Substances 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- SOVOPSCRHKEUNJ-UHFFFAOYSA-N dec-4-ene Chemical compound CCCCCC=CCCC SOVOPSCRHKEUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCN YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006264 diethylaminomethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(C([H])([H])*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 229940105990 diglycerin Drugs 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical group C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006222 dimethylaminomethyl group Chemical group [H]C([H])([H])N(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012972 dimethylethanolamine Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- UMIKAXKFQJWKCV-UHFFFAOYSA-M diphenyliodanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1.C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 UMIKAXKFQJWKCV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SBQIJPBUMNWUKN-UHFFFAOYSA-M diphenyliodanium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 SBQIJPBUMNWUKN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N dipropylamine Chemical compound CCCNCCC WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFTYSVGGYOXFRQ-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,12-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCCCN QFTYSVGGYOXFRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005745 ethoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 229950004696 flusalan Drugs 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- DDTGNKBZWQHIEH-UHFFFAOYSA-N heptalene Chemical compound C1=CC=CC=C2C=CC=CC=C21 DDTGNKBZWQHIEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSXMPWKNMJXRDH-UHFFFAOYSA-N heptane-1,4,4,7-tetramine Chemical compound NCCCC(N)(N)CCCN SSXMPWKNMJXRDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N heptane-1,7-diamine Chemical compound NCCCCCCCN PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003651 hexanedioyl group Chemical group C(CCCCC(=O)*)(=O)* 0.000 description 1
- PKIFBGYEEVFWTJ-UHFFFAOYSA-N hexaphene Chemical compound C1=CC=C2C=C3C4=CC5=CC6=CC=CC=C6C=C5C=C4C=CC3=CC2=C1 PKIFBGYEEVFWTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 150000008040 ionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- IQTRBJRORQFYLN-UHFFFAOYSA-N molport-019-739-976 Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)ON1C(=O)C2C(C=C3)CC3C2C1=O IQTRBJRORQFYLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N mono-hydroxyphenyl-ethylene Natural products OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001064 morpholinomethyl group Chemical group [H]C([H])(*)N1C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- YCMDNBGUNDHOOD-UHFFFAOYSA-N n -((trifluoromethylsulfonyl)oxy)-5-norbornene-2,3-dicarboximide Chemical compound C1=CC2CC1C1C2C(=O)N(OS(=O)(=O)C(F)(F)F)C1=O YCMDNBGUNDHOOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXMIHVHJTLPVKL-UHFFFAOYSA-N n,n,2-trimethylpropanamide Chemical compound CC(C)C(=O)N(C)C GXMIHVHJTLPVKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940094933 n-dodecane Drugs 0.000 description 1
- GNVRJGIVDSQCOP-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-methylethanamine Chemical compound CCN(C)CC GNVRJGIVDSQCOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-diol Chemical compound C1=CC=CC2=C(O)C(O)=CC=C21 NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOOMNEFVDUTJPP-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,3-diol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC(O)=C21 XOOMNEFVDUTJPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-diamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1N KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZZQNEVOYIYFPF-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,6-diol Chemical compound OC1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 FZZQNEVOYIYFPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUVBIBLYOCVYJU-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,7-diol Chemical compound C1=CC=C(O)C2=CC(O)=CC=C21 ZUVBIBLYOCVYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRNGUTKWMSBIBF-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3-diol Chemical compound C1=CC=C2C=C(O)C(O)=CC2=C1 JRNGUTKWMSBIBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNZMMCVIXORAQL-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-diol Chemical compound C1=C(O)C=CC2=CC(O)=CC=C21 MNZMMCVIXORAQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFQICHCWIIJABH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,7-diol Chemical compound C1=CC(O)=CC2=CC(O)=CC=C21 DFQICHCWIIJABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 1
- YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N nifuroxazide Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C(=O)N\N=C\C1=CC=C([N+]([O-])=O)O1 YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N 0.000 description 1
- XTQCVIMYMUTLFT-UHFFFAOYSA-N nitro trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-][N+](=O)OS(=O)(=O)C(F)(F)F XTQCVIMYMUTLFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N nonane-1,9-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCN SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N norbornane Chemical compound C1C[C@H]2CC[C@@H]1C2 UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000466 oxiranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000005704 oxymethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])O[*:1] 0.000 description 1
- NRZWYNLTFLDQQX-UHFFFAOYSA-N p-tert-Amylphenol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 NRZWYNLTFLDQQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N pentacene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC5=CC=CC=C5C=C4C=C3C=C21 SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUVXZFRDPCKWEM-UHFFFAOYSA-N pentalene Chemical compound C1=CC2=CC=CC2=C1 GUVXZFRDPCKWEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDJOIMJURHQYDW-UHFFFAOYSA-N phenalene Chemical compound C1=CC(CC=C2)=C3C2=CC=CC3=C1 XDJOIMJURHQYDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-O phenylsulfanium Chemical compound [SH2+]C1=CC=CC=C1 RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229920003987 resole Polymers 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEMQMWWWCBYPOV-UHFFFAOYSA-N s-indacene Chemical compound C=1C2=CC=CC2=CC2=CC=CC2=1 WEMQMWWWCBYPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 1
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- KTQYWNARBMKMCX-UHFFFAOYSA-N tetraphenylene Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C3C2=C1 KTQYWNARBMKMCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002411 thermogravimetry Methods 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C=O FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005951 trifluoromethanesulfonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N triglyme Chemical compound COCCOCCOCCOC YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005580 triphenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012953 triphenylsulfonium Substances 0.000 description 1
- FAYMLNNRGCYLSR-UHFFFAOYSA-M triphenylsulfonium triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 FAYMLNNRGCYLSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CKRLZVYBDRHVQG-UHFFFAOYSA-N tris(2,6-difluorophenyl) borate Chemical compound FC1=CC=CC(F)=C1OB(OC=1C(=CC=CC=1F)F)OC1=C(F)C=CC=C1F CKRLZVYBDRHVQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L79/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
- C08L79/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08L79/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
本発明の感放射線性樹脂組成物は、有機EL素子の絶縁膜の形成に用いられるものである。当該感放射線性樹脂組成物は、[A]重合体、[B]感放射線性酸発生体及び[C]縮合環化合物を含有し、好適成分としてカチオン重合性基を有する化合物(以下、「[D]カチオン重合性化合物」ともいう)及び溶剤(以下、「[E]溶剤」ともいう)を含有していてもよい。また、当該感放射線性樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、その他の任意成分を含有してもよい。以下、各成分について詳述する。
[A]重合体は、特定構造を有するポリイミド(以下、「(A1)ポリイミド」という)及びそのポリイミド前駆体(以下、「(A2)ポリイミド前駆体」という)からなる群より選択される少なくとも1種である。
(A1)ポリイミドは、下記式(1)で表される構造単位を含む。
(A1)ポリイミドは、例えば特定の基を有するテトラカルボン酸二無水物(以下、「(A1−1)酸二無水物」ともいう)と特定の基を有するジアミン(以下、「(A1−2)ジアミン」ともいう)とを略等モルで重合させてポリアミック酸を生成した後、このポリアミック酸を脱水・環化(イミド化)することで合成できる。(A1)ポリイミドは、ポリアミック酸をイミド化することに代えて、ポリアミック酸をエステル化するなどしてポリアミック酸誘導体を合成し、このポリアミック酸誘導体をイミド化することで合成することもできる。
(A2)ポリイミド前駆体は、脱水・環化(イミド化)によって、上記式(1)で表される構造単位を有するポリイミドを生成することができるものである。このポリイミド前駆体は、ポリアミック酸及びポリアミック酸誘導体を含む。
ポリアミック酸としては、下記式(6)で表される構造単位を有するもののように構造単位中に水酸基を有するポリイミドを生成できるものが好ましい。
ポリアミック酸誘導体は、ポリアミック酸のエステル化等により合成される誘導体である。ポリアミック酸誘導体としては、例えば、ポリアミック酸の構造単位中のカルボキシル基の水素を置換したものが挙げられ、ポリアミック酸エステルが好ましい。
(A2)ポリイミド前駆体としてのポリアミック酸は、ポリイミドの合成過程におけるイミド化前の化合物として得ることができる。
[B]感放射線性酸発生体は、放射線の照射によって酸を発生する化合物である。放射線としては、例えば、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等を使用できる。当該感放射線性樹脂組成物は、[B]感放射線性酸発生体を含有することで、感放射線特性を発揮することができ、かつ良好な放射線感度を有することができる。[B]感放射線性酸発生体の当該感放射線性樹脂組成物における含有形態としては、後述するような化合物の形態(以下、適宜「[B]感放射性酸発生剤」と称する)でも、[A]重合体等の一部として組み込まれた感放射線性酸発生基の形態でも、これらの両方の形態でもよい。これらの[B]感放射性酸発生体は、単独で使用しても2種類以上を併用してもよい。
オキシムスルホネート化合物としては、下記式(8)で表されるオキシムスルホネート基を含む化合物が好ましい。
上記式(8−1)及び(8−2)中、R10は、炭素数1〜12のアルキル基、又は炭素数1〜12のフルオロアルキル基である。
式(8−3)中、X4は、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子である。mは、0〜3の整数である。但し、mが2又は3の場合、複数のX4は、同一でも異なっていてもよい。
オニウム塩としては、例えば、ジフェニルヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム塩、アルキルスルホニウム塩、ベンジルスルホニウム塩、ジベンジルスルホニウム塩、置換ベンジルスルホニウム塩、ベンゾチアゾニウム塩、テトラヒドロチオフェニウム塩等が挙げられる。
N−スルホニルオキシイミド化合物としては、例えば、N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)スクシンイミド、N−(カンファスルホニルオキシ)スクシンイミド、N−(4−メチルフェニルスルホニルオキシ)スクシンイミド、N−(2−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ)スクシンイミド、N−(4−フルオロフェニルスルホニルオキシ)スクシンイミド、N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)フタルイミド、N−(カンファスルホニルオキシ)フタルイミド、N−(2−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ)フタルイミド、N−(2−フルオロフェニルスルホニルオキシ)フタルイミド、N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)ジフェニルマレイミド、N−(カンファスルホニルオキシ)ジフェニルマレイミド、4−メチルフェニルスルホニルオキシ)ジフェニルマレイミド、N−(2−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ)ジフェニルマレイミド、N−(4−フルオロフェニルスルホニルオキシ)ジフェニルマレイミド、N−(4−フルオロフェニルスルホニルオキシ)ジフェニルマレイミド、N−(フェニルスルホニルオキシ)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(4−メチルフェニルスルホニルオキシ)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(ノナフルオロブタンスルホニルオキシ)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(カンファスルホニルオキシ)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(カンファスルホニルオキシ)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(4−メチルフェニルスルホニルオキシ)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(4−メチルフェニルスルホニルオキシ)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(2−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(2−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(4−フルオロフェニルスルホニルオキシ)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(4−フルオロフェニルスルホニルオキシ)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−5,6−オキシ−2,3−ジカルボキシイミド、N−(カンファスルホニルオキシ)ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−5,6−オキシ−2,3−ジカルボキシイミド、N−(4−メチルフェニルスルホニルオキシ)ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−5,6−オキシ−2,3−ジカルボキシイミド、N−(2−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ)ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−5,6−オキシ−2,3−ジカルボキシイミド、N−(4−フルオロフェニルスルホニルオキシ)ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−5,6−オキシ−2,3−ジカルボキシイミド、N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシイミド、N−(カンファスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシイミド、N−(4−メチルフェニルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシイミド、N−(フェニルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシイミド、N−(2−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシイミド、N−(4−フルオロフェニルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシイミド、N−(ペンタフルオロエチルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシイミド、N−(ヘプタフルオロプロピルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシイミド、N−(ノナフルオロブチルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシイミド、N−(エチルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシイミド、N−(プロピルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシイミド、N−(ブチルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシイミド、N−(ペンチルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシイミド、N−(ヘキシルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシイミド、N−(ヘプチルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシイミド、N−(オクチルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシイミド、N−(ノニルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシイミド等が挙げられる。
ハロゲン含有化合物としては、例えば、ハロアルキル基含有炭化水素化合物、ハロアルキル基含有ヘテロ環状化合物等が挙げられる。
ジアゾメタン化合物としては、例えば、ビス(トリフルオロメチルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(フェニルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(p−トリルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(2,4−キシリルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(p−クロロフェニルスルホニル)ジアゾメタン、メチルスルホニル−p−トルエンスルホニルジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル(1,1−ジメチルエチルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(1,1−ジメチルエチルスルホニル)ジアゾメタン、フェニルスルホニル(ベンゾイル)ジアゾメタン等が挙げられる。
スルホン化合物としては、例えば、β−ケトスルホン化合物、β−スルホニルスルホン化合物、ジアリールジスルホン化合物等が挙げられる。
スルホン酸エステル化合物としては、例えば、アルキルスルホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等が挙げられる。
カルボン酸エステル化合物としては、例えば、カルボン酸o−ニトロベンジルエステル等が挙げられる。
キノンジアジド化合物は、放射線の照射によってカルボン酸を発生する。キノンジアジド化合物としては、例えば、フェノール性化合物又はアルコール性化合物(以下、「母核」ともいう)と、1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合物が挙げられる。
[C]縮合環化合物は、フェノール性水酸基を有する縮合環化合物である。この[C]縮合環化合物は、例えば縮合環を構造単位の一部として含有する重合体である。当該感放射線性樹脂組成物は、[C]縮合環化合物を含有することで、遮光性および現像性を付与することができる。
ベンジレン基、フェニレン基、ナフチレン基等のアリーレン基;
フェニレンメチレン基、フェニレンエチレン基、ベンジルプロピレン基、ナフチレンメチレン基、ナフチレンエチレン基等のアリーレンアルキレン基;
フェニレンジメチレン基、フェニレンジエチレン基等のアリーレンジアルキレン基などが挙げられる。
[D]カチオン重合性化合物は、カチオン重合性基を有する化合物である。この[D]カチオン重合性化合物としては、例えば、一分子中に2個以上のオキセタニル基を有する化合物が挙げられる。
[E]溶剤は、当該感放射線性樹脂組成物を液状とするためのものである。[E]溶剤は、1種を単独で使用しても2種以上を併用してもよい。
当該感放射線性樹脂組成物は、上記必須成分及び好適成分に加え、本発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じて[F]密着助剤、[G]界面活性剤、[H]架橋剤、[I]感熱性酸発生剤又は感熱性塩基発生剤等のその他の任意成分を含有してもよい。その他の任意成分は、単独で使用しても2種以上を併用してもよい。以下、各成分を詳述する。
[F]密着助剤は、基板等の膜形成対象物と硬化膜との接着性を向上させる成分である。[F]密着助剤は、特に無機物の基板と硬化膜との接着性を向上させるために有用である。無機物としては、例えば、シリコン、酸化シリコン、窒化シリコン等のシリコン化合物、金、銅、アルミニウム等の金属などが挙げられる。
[G]界面活性剤は、当該感放射線性樹脂組成物の塗膜形成性を高める成分である。当該感放射線性樹脂組成物は、[G]界面活性剤を含有することで、塗膜の表面平滑性を向上でき、その結果、硬化膜の膜厚均一性をより向上できる。
「BM−1000」、「BM−1100」(以上、BM CHEMIE社)、「メガファックF142D」、「メガファックF172」、「メガファックF173」、「メガファックF183」、「メガファックF178」、「メガファックF191」、「メガファックF471」、「メガファックF476」(以上、大日本インキ化学工業社);
「フロラードFC−170C」、「フロラードFC−171」、「フロラードFC−430」、「フロラードFC−431」(以上、住友スリーエム社)、「サーフロンS−112」、「サーフロンS−113」、「サーフロンS−131」、「サーフロンS−141」、「サーフロンS−145」、「サーフロンS−382」、「サーフロンSC−101」、「サーフロンSC−102」、「サーフロンSC−103」、「サーフロンSC−104」、「サーフロンSC−105」、「サーフロンSC−106」(以上、旭硝子社);
「エフトップEF301」、「エフトップEF303」、「エフトップEF352」(以上、新秋田化成社);
「フタージェントFT−100」、「フタージェントFT−110」、「フタージェントFT−140A」、「フタージェントFT−150」、「フタージェントFT−250」、「フタージェントFT−251」、「フタージェントFT−300」、「フタージェントFT−310」、「フタージェントFT−400S」、「フタージェントFTX−218」、「フタージェントFT−251」(以上、ネオス社)等が挙げられる。
「トーレシリコーンDC3PA」、「トーレシリコーンDC7PA」、「トーレシリコーンSH11PA」、「トーレシリコーンSH21PA」、「トーレシリコーンSH28PA」、「トーレシリコーンSH29PA」、「トーレシリコーンSH30PA」、「トーレシリコーンSH−190」、「トーレシリコーンSH−193」、「トーレシリコーンSZ−6032」、「トーレシリコーンSF−8428」、「トーレシリコーンDC−57」、「トーレシリコーンDC−190」、「SH 8400 FLUID」(以上、東レダウコーニングシリコーン社);
「TSF−4440」、「TSF−4300」、「TSF−4445」、「TSF−4446」、「TSF−4460」、「TSF−4452」(以上、GE東芝シリコーン社);
「オルガノシロキサンポリマーKP341」(信越化学工業社)等が挙げられる。
[H]架橋剤は、当該感放射線性樹脂組成物の硬化膜を形成することができる。当該感放射線性樹脂組成物は、[H]架橋剤を含有することで、硬化膜の表面硬度及び耐熱性を向上できる。[H]架橋剤は、1種以上の架橋性官能基(以下、「架橋性官能基」ともいう。)を有する化合物である。架橋性官能基としては、例えば、グリシジルエーテル基、グリシジルエステル基、グリシジルアミノ基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、アセトキシメチル基、ベンゾイロキシメチル基、ホルミル基、アセチル基、ビニル基、イソプロペニル基、ジメチルアミノメチル基、ジエチルアミノメチル基、ジメチロールアミノメチル基、ジエチロールアミノメチル基、モルホリノメチル基等が挙げられる。
[I]感熱性酸発生剤又は感熱性塩基発生剤(以下、「[I]成分」ともいう)は、加熱によって、硬化反応させる際の触媒として作用する酸性活性物質又は塩基性活性物質を放出することができる化合物と定義される。このような[I]成分の化合物を用いることによって、当該ポジ型感放射線性組成物の現像後の加熱工程における[C]縮合環化合物の縮合反応が促進されるので、表面硬度及び耐熱性にさらに優れた硬化膜を形成することができる。なお、[I]成分の感熱性酸発生剤又は感熱性塩基発生剤としては、当該ポジ型感放射線性組成物の塗膜形成工程における比較的低温(例えば70℃〜120℃)のプレベーク時には酸性活性物質又は塩基性活性物質を放出せず、現像後の加熱工程における比較的高温(例えば120℃〜250℃)のポストベーク時に酸性活性物質又は塩基性活性物質を放出する性質を有するものが好ましい。
当該感放射線性樹脂組成物は、[E]溶剤に[A]重合体、[B]感放射線性酸発生体及び[C]縮合環化合物、必要に応じて好適成分、その他の任意成分を混合することによって溶解又は分散させた状態に調製される。
本発明の有機EL素子の絶縁膜は、当該感放射線性樹脂組成物から形成される。当該絶縁膜は、当該感放射線性樹脂組成物から形成されているため、低吸水、耐熱性等を有する。当該硬化膜は、上記性質を有しているため、例えば、有機EL素子の層間絶縁膜、平坦化膜、画素(発光層)を区画するバンク(隔壁)、スペーサー、保護膜等の絶縁膜として好適である。なお、当該絶縁膜の形成方法としては特に限定されないが、次に説明する当該硬化膜の形成方法を用いることが好ましい。
当該感放射線性樹脂組成物は、有機EL素子の絶縁膜の形成に好適に用いることができる。
本工程(1)では、当該感放射線樹脂組成物を基板表面に塗布し、好ましくはプレベークを行うことにより溶剤を除去することで塗膜を形成する。基板としては、例えば、樹脂基板、ガラス基板、シリコンウエハ等が挙げられる。基板としてはさらに、製造途中の有機EL表示素子、例えばTFTやその配線が形成されたTFT基板や配線基板が挙げられる。
本工程では、工程(1)で形成された塗膜に所定のパターンを有するマスクを介して、放射線を照射する。このときに用いられる放射線としては、例えば、紫外線、遠紫外線、X線、荷電粒子線等が挙げられる。
本工程では、工程(2)で放射線を照射した塗膜の現像を行う。これにより、放射線の照射部分を除去し、所望のパターンを形成することができる。現像処理に用いられる現像液としては、アルカリ性の水溶液が好ましい。アルカリとしては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア、エチルアミン、n−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジエチルアミノエタノール、ジ−n−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、ピロール、ピペリジン、1,8−ジアザビシクロ〔5,4,0〕−7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ〔4,3,0〕−5−ノナン等が挙げられる。現像液としては、アルカリの水溶液にメタノール、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤を適当量添加した水溶液、又は当該感放射線樹脂組成物を溶解する各種有機溶剤を少量含むアルカリ水溶液を使用することができる。この場合の有機溶剤としては、[A]重合体や当該感放射線樹脂組成物を得るための溶剤と同様なものを使用できる。アルカリ水溶液におけるアルカリの濃度としては、適当な現像性を得る観点から、0.1質量%以上5質量%以下が好ましい。
本工程では、工程(3)の後に、ホットプレート、オーブン等の加熱装置を用いて、塗膜に対する加熱処理(ポストベーク処理)により塗膜の硬化処理を行うことで当該絶縁膜を得る。この加熱処理における加熱温度は、例えば、120℃〜250℃であり、加熱時間は、加熱機器の種類により異なるが、例えば、ホットプレート上で加熱処理を行う場合には5分間〜30分間、オーブン中で加熱処理を行う場合には30分間〜90分間である。この際に、2回以上の加熱工程を行うステップベーク法等を用いることもできる。このようにして、目的とするパターンの絶縁膜を基板上に形成することができる。
本発明の有機EL素子は、当該絶縁膜を備える。以下、当該有機EL素子について、有機EL表示素子を例として、図1を参照しつつ説明する。
基板2は、絶縁材料より形成されている。絶縁材料は、有機EL表示素子1がトップエミッション型であるか、ボトムエミッション型であるか、すなわち基板2が透明であることが求められるか否かによって選択すればよい。有機EL表示素子1がボトムエミッション型である場合、高い透明性が求められる。そのため、絶縁材料としては、透明性の高いポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリイミド(PI)等の透明樹脂、無アルカリガラス等のガラスなどが好ましい。一方、有機EL表示素子1がトップエミッション型の場合には、上記絶縁材料として任意の絶縁体を用いることができ、ボトムエミッション型の場合と同様、無アルカリガラス等のガラス材料を用いることも可能である。
TFT3は、各画素部分のアクティブ素子であり、基板2上に形成されている。このTFT3は、ゲート電極30、ゲート絶縁膜31、半導体層32、ソース電極33及びドレイン電極34を備えている。
ゲート電極30は、走査信号線(図示略)の一部をなすものである。このゲート電極30は、単層膜として形成されていても、多層膜として形成されていてもよい。ゲート電極11の厚みとしては、10nm〜1μmが好ましい。
ゲート絶縁膜31は、ゲート電極30を被覆するものである。このゲート絶縁膜31は、スパッタ法やCVD法、蒸着法等により酸化膜や窒化膜を成膜して形成することができる。
半導体層32は、ゲート電極30上にゲート絶縁膜31を介して配置されるものである。この半導体層32は、ソース電極33及びドレイン電極34と接続されており、チャネル層を構成する。このチャネル層は、キャリアが流れ、ゲート電極30により制御される部分である。
ソース電極33は、キャリア発生源となる電極である。このソース電極33は、映像信号線(図示略)の一部をなしており、半導体層32に接続される。
無機絶縁膜4は、半導体層32を保護するため、例えば湿度によって半導体層32が影響を受けることを防ぐためのものである。この無機絶縁膜4は、TFT3の全体を被覆するように形成されている。
第1の絶縁膜5は、TFT3の表面凹凸を平坦化する役割を果たすものである。この第1の絶縁膜5は、TFT3の全体を被覆するように無機絶縁膜4上に形成されている。
陽極6は、画素電極をなすものである。この陽極6は、導電性材料によって第1の絶縁膜5上に形成されている。導電性材料としては、有機EL表示素子1がトップエミッション型であるか、ボトムエミッション型であるか、すなわち陽極6が透明であることが求められるか光反射性が求められるかによって選択すればよい。ボトムエミッション型の場合、陽極6は、透明であることが求められる。そのため、陽極6の材料としては、透明性の高いITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)、酸化スズが好ましい。一方、有機EL表示素子1がトップエミッション型の場合、陽極6に光反射性が求められる。そのため、陽極6の材料としては、光反射性が高いAPC合金(銀、パラジウム、銅の合金)、ARA(銀、ルビジウム、金の合金)、MoCr(モリブデンとクロムの合金)、NiCr(ニッケルとクロムの合金)等が好ましい。陽極6の厚さとしては、100nm〜500nmが好ましい。
スルーホール7は、陽極6と第2のソース−ドレイン電極34とを接続するためのものである。このスルーホール7は、第1の絶縁膜5の下層にある無機絶縁膜4も貫通するように形成される。
第2の絶縁膜8は、有機発光層9の配置領域を規定する凹部80を有する隔壁としての役割を果たすものである。この第2の絶縁膜8は、陽極6の一部を覆う一方で陽極6の一部を露出させるように形成されている。このような第2の絶縁膜8は、当該感放射線性樹脂組成物を用いて、上述した<絶縁膜の形成方法>において説明した方法等により形成される。第2の絶縁膜8は、塗膜の露光・現像によりパターニングすることで、平面視において、有機発光層9が形成される複数の凹部80がマトリクス状に配置されたものとして形成することができる。
有機発光層9は、電界を印加されて発光するものである。この有機発光層9は、電界発光する有機発光材料を含む層である。有機発光層9は、第2の絶縁膜8によって規定される領域、すなわち凹部80に形成されている。このように、凹部80に有機発光層9を形成することで有機発光層9の周囲が第2の絶縁膜8によって包囲され、隣接する複数画素同士を区画することができる。
陰極10は、複数の画素を共通に覆って形成され、有機EL表示素子1の共通電極をなす。この陰極10は、導電性部材からなる。陰極10の形成材料は、有機EL表示素子1がトップエミッション型であるか、ボトムエミッション型であるか、すなわち陰極10が透明であることが求められるか否かによって選択すればよい。トップエミッション型の場合には、陰極10は、可視光透過性の電極を構成するITO電極やIZO電極等であることが好ましい。一方、有機EL表示素子1がボトムエミッション型の場合には陰極10が可視光透過性である必要はない。その場合、陰極10の構成材料は、導電性であれば特に限定されないが、例えば、バリウム(Ba)、酸化バリウム(BaO)、アルミニウム(Al)およびAlを含む合金等を選択することも可能である。
パッシベーション膜11は、有機EL表示素子1内への水分や酸素の浸入を抑制するものである。このパッシベーション膜11は、陰極11の上に設けられている。パッシベーション膜11は、SiNや窒化アルミニウム(AlN)等の金属窒化物等を用いて形成されている。パッシベーション膜11は、単一の絶縁膜であっても複数の絶縁膜を積層したものであってもよい。
封止基板12は、有機発光層9が配置された主面(基板2とは反対側)を封止するものである。封止基板12としては、無アルカリガラス等のガラス基板を用いることができる。この封止基板12は、外周端部付近に塗布されたシール剤(図示略)を用い、封止層13を介して、封止基板12により封止することが好ましい。封止層13は、乾燥された窒素ガス等の不活性なガスの層、又は接着剤等の充填材料の層とすることができる。
[合成例1]
重合溶剤としてのγ−ブチロラクトン340gを加えた後、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート50gを加え、重合溶剤の合計390gに対し固形分濃度35%となるようにジアミン化合物としての2,2’−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン120gを重合溶剤中に加えた。ジアミン化合物を溶解させた後、酸二無水物としての4,4−オキシジフタル酸を71g投入した。その後、60℃で1時間反応させた後、末端封止剤として無水マレイン酸を19g加え、60℃で更に1時間反応させた後、昇温し180℃で4時間反応させた。反応の際はN2フロー条件でディーンスターク管を用い、低沸点溶剤のPGMEAを溜去した。これにより、重合体(A−1)を含むポリイミド溶液を約84g得た。
[合成例2](ナフタレン型フェノール樹脂(C1−1)の合成)
温度計、冷却管、分留管、撹拌器を取り付けたフラスコに、1−ナフトール144g(1.0モル)、メチルイソブチルケトン400g、水96g及び92質量%パラホルムアルデヒド27.7g(0.85モル)を仕込んだ。続いて、50%濃度に調整したパラトルエンスルホン酸の水溶液4.8gを、攪拌しながら添加した。反応系内の水の量は、1−ナフトール100質量部に対し62.9質量部である。その後、攪拌しながら80℃に昇温し、2時間反応させた。反応中、有機層と水層とは完全に相溶した「均一」とはなっておらず、「不均一」であった。反応終了後、系内の溶液を分液ロートに移し水層を有機層から分離除去した。次いで、洗浄水が中性を示すまで水洗後、有機層から溶媒を加熱減圧下に除去し、下記式で表される1−ナフトール由来の構造単位を有するナフタレン型フェノール樹脂(C1−1)を165g得た。
温度計、冷却管、分留管、撹拌器を取り付けたフラスコに、1−ナフトール648g(4.5モル)、テレフタルアルデヒド201g(1.5モル)及びトリフロロメタンスルホン酸0.45gを仕込んだ。続いて、攪拌を行いながら150℃〜160℃で4時間反応を行った。この反応で生成した水は、順次トラップし、系外へ除去した。反応終了後、未反応の1−ナフトールを減圧蒸留により除去し、下記式で表されるナフタレン型フェノール樹脂(C1−2)を682g得た。
温度計、冷却管、分留管、撹拌器を取り付けたフラスコに、1,4−ナフタレンジオール721g(4.5モル)、テレフタルアルデヒド201g(1.5モル)及びトリフロロメタンスルホン酸0.45gを仕込んだ。続いて、攪拌を行いながら150℃〜160℃で4時間反応を行った。この反応で生成した水は、順次トラップし、系外へ除去した。反応終了後、未反応の1、4−ナフタレンジオールを減圧蒸留により除去し、下記式で表されるナフタレン型フェノール樹脂(C1−3)を690g得た。
温度計、冷却管、分留管、撹拌器を取り付けたフラスコに、1−アントロール194g(1.0モル)、メチルイソブチルケトン400g、水96g及び92%パラホルムアルデヒド27.7g(0.85モル)を仕込んだ。続いて、50%濃度に調整したパラトルエンスルホン酸の水溶液4.8gを攪拌しながら添加した。反応系内の水の量は、1−アントール100質量部に対し62.9質量部である。その後、攪拌しながら80℃に昇温し、2時間反応させた。反応中、有機層と水層とは完全に相溶した「均一」とはなっておらず、「不均一」であった。反応終了後、系内の溶液を分液ロートに移し水層を有機層から分離除去した。次いで、洗浄水が中性を示すまで水洗後、有機層から溶媒を加熱減圧下に除去し、下記式で表される1−アントロール由来の構造単位を有するアントラセン型フェノール樹脂(C2−1)を202g得た。
温度計、冷却管、分留管、撹拌器を取り付けたフラスコに、1,4−アントラセンジオール210g(1.0モル)、メチルイソブチルケトン400g、水96g及び92%パラホルムアルデヒド27.7g(0.85モル)を仕込んだ。続いて、50%濃度に調整したパラトルエンスルホン酸の水溶液4.8gを攪拌しながら添加した。反応系内の水の量は1,4−アントラセンジオール100質量部に対し、62.9質量部である。その後、攪拌しながら80℃に昇温し、2時間反応させた。反応中、有機層と水層は完全に相溶した「均一」とはなっておらず、「不均一」であった。反応終了後、系内の溶液を分液ロートに移し水層を有機層から分離除去した。次いで洗浄水が中性を示すまで水洗後、有機層から溶媒を加熱減圧下に除去し、下記式で表される1,4−アントラセンジオール由来の構造単位を有するアントラセン型フェノール樹脂(C2−2)を220g得た。
感放射線性樹脂組成物の調製に用いた[A]重合体、[B]感放射線性酸発生剤、[C]縮合環化合物([C1]ナフタレン型フェノール樹脂及び[C2]アントラセン型フェノール樹脂)、[D]カチオン重合性化合物、[E]溶剤、[F]密着助剤、[G]界面活性剤、[H]架橋剤、及び[I]熱酸発生剤は、下記の通りである。
A−1:合成例1の重合体(A−1)
B−1:4,4’−[1−[4−[1−[4−ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール(1.0モル)と1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド(2.0モル)の縮合物(東洋合成工業社の「MILNESS−AC」)
[[C1]ナフタレン型フェノール樹脂]
C1−1:合成例2のフェノール樹脂(C1−1)
C1−2:合成例3のフェノール樹脂(C1−2)
C1−3:合成例4のフェノール樹脂(C1−3)
[[C2]アントラセン型フェノール樹脂]
C2−1:合成例5のフェノール樹脂(C2−1)
C2−2:合成例6のフェノール樹脂(C2−2)
D−1:4,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メチル]ビフェニル(宇部興産社の「OXBP」)
E−1:BL、PGMEA及びPGMEの質量比で30:20:50の混合溶剤
E−2:BL、PGMEA及びPGMEの質量比で50:10:40の混合溶剤
E−3:BL、PGMEA及びPGMEの質量比で60:10:30の混合溶剤
F−1:N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学社の「KBM−573」)
G−1:東レダウコーニング社の「SH8400」
H−1:群栄化学社の「C−357」
I−1:三新化学社の「SI−110L」
合成例1の重合体(A−1)を含む重合体溶液(重合体(A−1)100質量部(固形分)に相当する量)に、[B]感放射線性酸発生体として(B−1)20質量部、[C]縮合環化合物としてナフタレン型フェノール樹脂(C1−1)30質量部、[D]カチオン重合性化合物としての(D−1)30質量部、[F]密着剤として(F−1)5質量部、[G]界面活性剤として(G−1)0.1質量部、[H]架橋剤として(H−1)10質量部、[I]熱酸発生剤として(I−1)1質量部及び[E]溶剤として(E−1)を混合し、固形分濃度が28質量%となるようにする共に、口径0.2μmのメンブランフィルタで濾過して、感放射線性樹脂組成物を調製した。
下記表1に示す種類及び配合量の各成分を用いた以外は、実施例1と同様に操作し、感放射線性樹脂組成物を調製した。なお、表1において、「−」は該当成分を配合していないことを意味している。
実施例1〜13及び比較例1〜6の感放射線性樹脂組成物について、以下に説明する方法により組成物、絶縁膜及び素子特性の評価を行った。
組成物は、パターニング性、パターン形状、放射線感度及び解像度として評価した。
スピンナー又はスリットダイコーターを用いて、シリコン基板上に感放射線性樹脂組成物を塗布した後、120℃にて2分間ホットプレート上でプレベークして膜厚3μmの塗膜を形成した。この塗膜に対し、露光機(キヤノン社の「MPA−6000」)を用い、パターンマスクを介して露光量100mJ/cm2で露光した。その後、2.38質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて25℃、80秒間液盛り法で現像し、超純水で1分間流水洗浄を行い、乾燥させてウエハー上に直径が20.0μmの複数のスルーホールが列状に並ぶ絶縁パターンを形成した。このとき、スルーホールのパターンが完全に溶解するか確認し、現像残膜率が80%以上であり、かつパターンが剥がれることなく形成されたものを「良好」、現像後残膜率が80%未満、又はパターンが剥がれてしまい形成されないものを「不良」とした。
上記パターニング性評価と同様にしてシリコン基板上にライン状に並ぶ複数のスルーホールを有する塗膜を形成した。この塗膜をクリーンオーブン中にて250℃で45分間加熱し硬化させ、膜厚3μmの絶縁膜を得た。この絶縁膜において、複数のスルーホールのラインと直交する方向の垂直断面形状をSEM(日立ハイテクノロジー社の「SU3500」)で観察した。垂直断面においてその底辺が最大ライン幅となっている場合、すなわち順テーパー形状が形成されている場合は「良好」、そうでない場合は「不良」とした。
スピンナー又はスリットダイコーターを用いて、シリコン基板上に感放射線性樹脂組成物を塗布した後、120℃にて2分間ホットプレート上でプレベークして膜厚3μmの塗膜を形成した。この塗膜に対し、露光機(キヤノン社の「MPA−6000」)を用い、所定のパターンを有するパターンマスクを介して露光量を変化させて露光した。その後、2.38質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて25℃、80秒間液盛り法で現像し、超純水で1分間流水洗浄を行い、乾燥させてシリコン基板上に直径20.0μmの複数のスルーホールを有する絶縁パターンを形成した。20.0μmのスルーホールのパターンが完全に溶解するために必要な露光量を測定し、このときの露光量を放射線感度(露光感度)とした。放射線感度は、100mJ/cm2以下の場合に「良好」、100mJ/cm2を超えるときに「不良」とした。
スピンナー又はスリットダイコーターを用いて、シリコン基板上に感放射線性樹脂組成物を塗布した後、120℃にて2分間ホットプレート上でプレベークして膜厚3μmの塗膜を形成した。この塗膜に対し、露光機(キヤノン社の「MPA−6000」)を用い、ホールパターンの直径幅5μ〜50μmを有するパターンマスクを介して露光量100mJ/cm2で露光した。その後、2.38質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて25℃、80秒間液盛り法で現像し、超純水で1分間流水洗を行いし、複数のスルーホールのラインと直交する方向の垂直断面形状をSEM(日立ハイテクノロジー社の「SU3500」)で観察し、該断面においてその底辺幅を測定した。解像度は、底辺幅が小さいほど良好であると言える。
絶縁膜は、遮光性、吸水性及び耐熱性として評価した。
シリコン基板の代わりにガラス基板(コーニング社の「コーニング7059」)を用いた以外は、上記<放射線感度>の評価と同様に絶縁膜を形成した。この絶縁膜を有するガラス基板について、分光光度計(日立製作所社の「150−20型ダブルビーム」)を用いて全光線透過率を380nm〜780nmの波長範囲で測定し、400nmの遮光率を求めた。遮光性は、遮光率が50%以下の場合に「良好」、遮光率が50%を超える場合には「不良」とした。
スピンナー又はスリットダイコーターを用いて、シリコン基板上に感放射線性樹脂組成物を塗布した後、120℃にて2分間ホットプレート上でプレベーク後、クリーンオーブンにて250℃にて45分間ポストベークして膜厚3μmの塗膜を形成した。この硬化膜に対してThermal Desorption Spectroscopy(ESCO社の「TDS1200」)を用いて真空度1.0×10−9Paにて、常温から200℃に昇温した際の試料表面及び試料から脱離するガスを質量分析計(アジレントテクノロジー社の「5973N」)で水のピーク(M/z=18)の検出値を測定した。60℃〜200℃のトータルのピーク強度の積分値を取り、吸水性を評価した。吸水性は、60℃〜200℃のトータルのピーク強度の積分値が1.0×10−7以下の場合に「良好」、1.0×10−7を超えるときは「不良」とした。
吸水性の評価と同様にして感放射線性樹脂組成物用いて硬化膜を形成し、この硬化膜について熱重量測定装置(TAインスツルメント社の「TGA2950」)を用いて、100℃から500℃においてTGA測定(空気下、昇温速度10℃/分)を行うことで5%重量減少温度を求めた。耐熱性は、5%重量減少温度が350℃以上の場合に「良好」、350℃を下回る場合に「不良」とした。
素子特性は、以下に説明する方法で作成した評価用素子を用い、スイッチング応答特性及びTFT信頼性として評価した。
評価用素子は、ガラス基板(コーニング社の「コーニング7059」)上にTFTを形成してTFT基板を作製した後に、このTFE基板上に絶縁膜を形成することで作製した。
スイッチング応答特性は、ON/OFF比を測定することで評価した。ON/OFF比は、プローバ及び半導体パラメーターアナライザーを用いて、評価用素子のゲート電極に電圧を印可した状態でソース電極−ドレイン電極間に流れる電流を測定することで算出した。具体的には、評価用素子の半導体膜に対して上方から波長450nmまたは500nmを中心とした白色光(照度30000ルックス)を照射した条件下において、ドレイン電極の電位を+10V、ソース電極の電位を0Vとした場合に、ゲート電極に印可された電圧が+10Vと−10Vの時の電流値の比をON/OFF比とした。スイッチング応答特性は、ON/OFF比が1.0×105以上の場合に「良好」であるとし、1.0×105未満の場合に「不良」であるとした。
TFT信頼性は、ゲート電極−ソース電極間に電気的なストレスを印可した際のId−Vg特性の変化(閾値電圧Vthの変化量)を、評価用素子に対する光照射時と光非照射時とで比較することによって評価した。
電気的なストレスを印可は、評価用素子のソース電極の電位を0V、ドレイン電極の電位を+10Vに保ち、ソース電極−ドレイン電極間に電圧を印可した状態で、ゲート電極の電位Vgを−20Vから+20Vまで変化させることで行った。このようにゲート電極の電位Vgを変化させた際、ドレイン電極−ソース電極間に流れる電流Idをプロットすることで、Id−Vg特性を得た。このId−Vg特性においては、電流値がONとなる電圧を閾値電圧Vthに設定した。
電気的なストレスは、ゲート電極−ソース電極間に、+20Vの正電圧及び−20Vの負電圧をそれぞれ12時間ずつ印加することで与えた。このような電気的なストレスは、評価用素子の半導体膜に対して上方から光を照射した条件下、及び半導体膜に対して光を照射しない条件下のそれぞれについて行った。閾値電圧Vthの変化量は、光照射条件及び光り非照射条件のそれぞれについて、Id−Vg特性から算出した。そして、光照射時の閾値電圧Vthの変化量が、光非照射時の閾値電圧Vthの変化量の2倍以下に抑えられている場合にTFT信頼性が「良好」であるとし、2倍を超えている場合にTFT信頼性が「不良」であるとした。
2 基板
3 TFT
30 ゲート電極
31 ゲート絶縁膜
32 半導体層
33 ソース電極
34 ドレイン電極
4 無機絶縁膜
5 第1の絶縁膜(平坦化膜)
6 陽極
7 スルーホール
8 第2の絶縁膜(隔壁)
80 凹部
9 有機発光層
10 陰極
11 パッシベーション膜
12 封止基板
13 封止層
Claims (7)
- 絶縁膜の形成に用いられる感放射線性樹脂組成物であって、
下記式(1)で表される構造単位を有するポリイミド及びこのポリイミドの前駆体からなる群より選択される少なくとも1種の重合体、
感放射線性酸発生体、
フェノール性水酸基を有する縮合環化合物、
架橋剤、並びに
感熱性酸発生剤を含有し、
上記縮合環化合物が下記式(2−1)で表される構造単位及び下記式(2−2)で表される構造単位からなる群より選択される少なくとも1種を有するフェノール樹脂であり、
上記縮合環化合物の含有量が、上記重合体100質量部に対して5質量部以上90質量部以下である感放射線性樹脂組成物。
- カチオン重合性基を含む化合物をさらに含有する請求項1に記載の感放射線性樹脂組成物。
- 溶剤をさらに含有し、この溶剤が、
γ−ブチロラクトンと、
ジエチレングリコールジアルキルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、及びプロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネートからなる群より選択される少なくとも1種とを含む請求項1、請求項2又は請求項3に記載の感放射線性樹脂組成物。 - 請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の感放射線性樹脂組成物から形成される有機EL素子の絶縁膜。
- 基板上に塗膜を形成する工程、上記塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、上記放射線が照射された塗膜を現像する工程、及び上記現像された塗膜を加熱する工程を備える有機EL素子の絶縁膜の形成方法であって、
上記塗膜を請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の感放射線性樹脂組成物により形成する絶縁膜の形成方法。 - 請求項5に記載の絶縁膜を備える有機EL素子。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014032352A JP6303588B2 (ja) | 2013-08-08 | 2014-02-21 | 感放射線性樹脂組成物、絶縁膜及びその形成方法並びに有機el素子 |
KR1020140083011A KR102173287B1 (ko) | 2013-08-08 | 2014-07-03 | 감방사선성 수지 조성물, 절연막 및 그의 형성 방법 그리고 유기 el 소자 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013165640 | 2013-08-08 | ||
JP2013165640 | 2013-08-08 | ||
JP2014032352A JP6303588B2 (ja) | 2013-08-08 | 2014-02-21 | 感放射線性樹脂組成物、絶縁膜及びその形成方法並びに有機el素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015052770A JP2015052770A (ja) | 2015-03-19 |
JP6303588B2 true JP6303588B2 (ja) | 2018-04-04 |
Family
ID=52701810
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014032352A Active JP6303588B2 (ja) | 2013-08-08 | 2014-02-21 | 感放射線性樹脂組成物、絶縁膜及びその形成方法並びに有機el素子 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6303588B2 (ja) |
KR (1) | KR102173287B1 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6228796B2 (ja) * | 2013-09-26 | 2017-11-08 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 |
KR102377464B1 (ko) | 2014-03-20 | 2022-03-21 | 제온 코포레이션 | 감방사선 수지 조성물 및 전자 부품 |
CN106462063A (zh) * | 2014-06-12 | 2017-02-22 | Dic株式会社 | 永久膜用感光性组合物、抗蚀材料及涂膜 |
JPWO2016024425A1 (ja) * | 2014-08-12 | 2017-05-25 | Jsr株式会社 | 素子、絶縁膜及びその製造方法、並びに感放射線性樹脂組成物 |
KR102350804B1 (ko) * | 2015-10-23 | 2022-01-14 | 도레이 카부시키가이샤 | 디스플레이 기판용 수지 조성물, 및 그것을 사용한 내열성 수지 필름, 유기 el 디스플레이 기판 및 유기 el 디스플레이의 제조 방법 |
JP6973070B2 (ja) * | 2016-03-24 | 2021-11-24 | 東レ株式会社 | エッチング用マスクレジスト組成物、それを用いた基板の製造方法および発光素子の製造方法 |
JP7088639B2 (ja) * | 2017-08-01 | 2022-06-21 | 旭化成株式会社 | 半導体装置、及びその製造方法 |
JP7088636B2 (ja) * | 2017-07-11 | 2022-06-21 | 旭化成株式会社 | 半導体装置、及びその製造方法 |
JP7088638B2 (ja) * | 2017-08-01 | 2022-06-21 | 旭化成株式会社 | 半導体装置、及びその製造方法 |
JP2019029556A (ja) * | 2017-08-01 | 2019-02-21 | 旭化成株式会社 | 半導体装置、及びその製造方法 |
WO2019142866A1 (ja) * | 2018-01-17 | 2019-07-25 | 旭化成株式会社 | ポリイミド前駆体樹脂組成物 |
WO2021006181A1 (ja) * | 2019-07-05 | 2021-01-14 | 富士フイルム株式会社 | 熱硬化性感光性組成物、硬化膜、積層体、硬化膜の製造方法、及び、半導体デバイス |
US20240272551A1 (en) * | 2021-06-25 | 2024-08-15 | Sumitomo Bakelite Co., Ltd. | Negative-type photosensitive polymer, polymer solution, negative-type photosensitive resin composition, cured film, and semiconductor device |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3433017B2 (ja) * | 1995-08-31 | 2003-08-04 | 株式会社東芝 | 感光性組成物 |
JPH10186658A (ja) | 1996-12-24 | 1998-07-14 | Hitachi Ltd | ポジ型感光性樹脂組成物とそれを用いた大規模集積回路の製法 |
JP4164562B2 (ja) | 2002-09-11 | 2008-10-15 | 独立行政法人科学技術振興機構 | ホモロガス薄膜を活性層として用いる透明薄膜電界効果型トランジスタ |
JP2005088726A (ja) | 2003-09-17 | 2005-04-07 | Advics:Kk | タイヤ空気圧警報装置、この装置によって監視されるタイヤ、およびタイヤの特性値の管理方法 |
JP4379153B2 (ja) * | 2004-03-01 | 2009-12-09 | 住友ベークライト株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた半導体装置または表示素子 |
JP4548001B2 (ja) | 2004-06-09 | 2010-09-22 | 東レ株式会社 | ポジ型感光性樹脂前駆体組成物 |
JP2008083359A (ja) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Jsr Corp | 感光性樹脂組成物及び硬化膜 |
JP2009009934A (ja) | 2007-05-29 | 2009-01-15 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物、絶縁膜および有機el表示素子 |
JP5157560B2 (ja) * | 2008-03-21 | 2013-03-06 | Jsr株式会社 | レジスト下層膜形成用組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
JP5336306B2 (ja) * | 2008-10-20 | 2013-11-06 | 信越化学工業株式会社 | レジスト下層膜形成方法、これを用いたパターン形成方法、及びレジスト下層膜材料 |
KR101596985B1 (ko) * | 2009-01-29 | 2016-02-23 | 도레이 카부시키가이샤 | 수지 조성물 및 이것을 이용한 표시 장치 |
JP5343664B2 (ja) | 2009-03-30 | 2013-11-13 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、有機el表示素子用隔壁及び絶縁膜、並びにその形成方法 |
KR20110023354A (ko) * | 2009-08-31 | 2011-03-08 | 금호석유화학 주식회사 | 포지티브형 감광성 조성물 |
KR101200140B1 (ko) * | 2009-08-31 | 2012-11-12 | 금호석유화학 주식회사 | 포지티브형 감광성 조성물 |
JP2011107476A (ja) | 2009-11-18 | 2011-06-02 | Panasonic Corp | 電子デバイスの製造方法 |
KR20140079359A (ko) * | 2011-08-12 | 2014-06-26 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | 레지스트 조성물, 레지스트 패턴 형성방법, 이에 이용되는 폴리페놀 화합물 및 이로부터 유도될 수 있는 알코올 화합물 |
-
2014
- 2014-02-21 JP JP2014032352A patent/JP6303588B2/ja active Active
- 2014-07-03 KR KR1020140083011A patent/KR102173287B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20150018370A (ko) | 2015-02-23 |
KR102173287B1 (ko) | 2020-11-03 |
JP2015052770A (ja) | 2015-03-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6303588B2 (ja) | 感放射線性樹脂組成物、絶縁膜及びその形成方法並びに有機el素子 | |
JP5613851B1 (ja) | 表示又は照明装置 | |
KR102089410B1 (ko) | 유기 el 소자, 감방사선성 수지 조성물 및 경화막 | |
US8486604B2 (en) | Positive-type radiation-sensitive composition, cured film, interlayer insulating film, method of forming interlayer insulating film, display device, and siloxane polymer for forming interlayer insulating film | |
JP5966972B2 (ja) | 感放射線性樹脂組成物、絶縁膜および有機el素子 | |
JP6064570B2 (ja) | 表示素子用感放射線性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法、半導体素子および表示素子 | |
JP6065507B2 (ja) | 感放射線性重合体組成物、絶縁膜および有機el素子 | |
TWI752122B (zh) | 具備保護膜之薄膜電晶體基板及其製造方法 | |
TW201348296A (zh) | 感放射線性樹脂組成物、絕緣膜及有機el元件 | |
WO2016024425A1 (ja) | 素子、絶縁膜及びその製造方法、並びに感放射線性樹脂組成物 | |
JP5867006B2 (ja) | ポジ型感放射線性組成物、表示素子用硬化膜、表示素子用硬化膜の形成方法及び表示素子 | |
TW201529668A (zh) | 顯示元件的硬化膜的製造方法、感放射線性樹脂組成物及其應用、以及加熱裝置 | |
JP5803635B2 (ja) | ポジ型感放射線性組成物、硬化膜、硬化膜の形成方法 | |
JP2016018691A (ja) | 表示又は照明装置 | |
TWI816665B (zh) | 薄膜電晶體基板、液晶顯示元件、有機el元件、感放射線性樹脂組成物及薄膜電晶體基板的製造方法 | |
JP5895789B2 (ja) | 感放射線性樹脂組成物、ポリイミド膜、半導体素子および有機el素子 | |
CN108732831B (zh) | 树脂组合物、包括其的基板、元件及其制造方法 | |
CN114040948A (zh) | 栅极绝缘膜形成用组合物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160726 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170707 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170801 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170927 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180206 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180219 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6303588 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |