JP6064570B2 - 表示素子用感放射線性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法、半導体素子および表示素子 - Google Patents
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Description
[A]下記式(1)で示される基および下記式(2)で示される基の少なくとも一方を有するポリシロキサン、並びに
[B]光酸発生剤
を含有することを特徴とする表示素子用感放射線性樹脂組成物に関する。
式(2)中、R4〜R10は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜12の炭化水素基である。nは1または2の整数である。)
[2]表示素子用感放射線性樹脂組成物の塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
[3]放射線が照射された塗膜を現像する工程、および
[4]現像された塗膜を加熱して硬化する工程
を有することを特徴とする硬化膜の製造方法に関する。
尚、本発明において、露光に際して照射される「放射線」とは、可視光線、紫外線、遠紫外線、X線、荷電粒子線等を含む概念である。
以下、本発明の実施形態について説明する。
本発明の実施形態の表示素子用感放射線性樹脂組成物は、表示素子の形成も可能な有機EL素子の構成要素となる膜や、半導体素子の構成要素となる膜の形成に好適な感放射線性の樹脂組成物である。
式(2)中、R4〜R10は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜12の炭化水素基である。nは1または2の整数である。)
以下、本実施形態の表示素子用感放射線性樹脂組成物に含有される成分の詳細について説明する。
本実施形態の表示素子用感放射線性樹脂組成物に含有される[A]ポリシロキサンは、上記式(1)で示される基および上記式(2)で示される酸解離性基のうち、少なくとも一方を有してなる。酸解離性基とは後述する光酸発生剤から発生した酸によりポリシロキサンから解離することが可能な基である。[A]ポリシロキサンが、上記式(1)で示される基および上記式(2)で示される基の少なくとも一方を有することにより、本実施形態の表示素子用感放射線性樹脂組成物から得られる塗膜は、後述するように、[B]光酸発生剤を利用したフォトリソグラフィ法によるパターニングが可能となる。
従来のキノンジアジド化合物を用いたポジ型感光性ポリシロキサン材料によるパターン形成と異なり、キノンジアジドを感光剤として使用せずに、高感度でパターンを形成することが可能であり、キノンジアジド化合物由来の着色による低透過率やキノンジアジド化合物由来のインデンカルボン酸による膜中への吸水を防ぐが可能となる。
[B]光酸発生剤は、放射線の照射によって酸を発生する化合物である。放射線としては、上述したように、例えば、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等を使用することができる。本実施形態の表示素子用感放射線性樹脂組成物は、[B]光酸発生剤を含むことで、ポジ型の感放射線特性を示すようになり、ポジ型の感放射線性樹脂組成物として使用することができる。
上述のオキシムスルホネート化合物としては、下記式(3)で表されるオキシムスルホネート基を含有する化合物が好ましい。
[B]光酸発生剤として好ましいスルホンイミド化合物としては、例えば、N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)スクシンイミド、N−(カンファスルホニルオキシ)スクシンイミド、N−(4−メチルフェニルスルホニルオキシ)スクシンイミド、N−(2−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ)スクシンイミド、N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシルイミド、N−(カンファスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシルイミド、N−(4−メチルフェニルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシルイミド、N−(フェニルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシルイミド、N−(2−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシルイミド、N−(4−フルオロフェニルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシルイミド、N−(ペンタフルオロエチルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシルイミド、N−(ヘプタフルオロプロピルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシルイミド、N−(ノナフルオロブチルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシルイミド、N−(エチルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシルイミド、N−(プロピルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシルイミド、N−(ブチルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシルイミド、N−(ペンチルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシルイミド、N−(ヘキシルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシルイミド、N−(ヘプチルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシルイミド、N−(オクチルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシルイミド、N−(ノニルスルホニルオキシ)ナフチルジカルボキシルイミド等が挙げられる。
本実施形態の表示素子用感放射線性樹脂組成物は、上述の[A]ポリシロキサン、および、[B]光酸発生剤を含有し、さらに、[C]環状エーテル基を有する化合物を含有することができる。
ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールADジグリシジルエーテル等のビスフェノール型ジグリシジルエーテル類;
1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル類;
エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに1種または2種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類;
フェノールノボラック型エポキシ樹脂;
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂;
ポリフェノール型エポキシ樹脂;
脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類;
高級脂肪酸のグリシジルエステル類;
脂肪族ポリグリシジルエーテル類;
エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油等が挙げられる。
ビスフェノールA型エポキシ樹脂として、エピコート(登録商標)1001、同1002、同1003、同1004、同1007、同1009、同1010、同828(以上、ジャパンエポキシレジン社製)等;
ビスフェノールF型エポキシ樹脂として、エピコート(登録商標)807(ジャパンエポキシレジン社製)等;
フェノールノボラック型エポキシ樹脂として、エピコート(登録商標)152、同154、同157S65(以上、ジャパンエポキシレジン社製)、EPPN(登録商標)201、同202(以上、日本化薬社製)等;
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂として、EOCN(登録商標)102、同103S、同104S、1020、1025、1027(以上、日本化薬社製)、エピコート(登録商標)180S75(ジャパンエポキシレジン社製)等;
ポリフェノール型エポキシ樹脂として、エピコート(登録商標)1032H60、同XY−4000(以上、ジャパンエポキシレジン社製)等;
環状脂肪族エポキシ樹脂として、CY−175、同177、同179、アラルダイト(登録商標)CY−182、同192、184(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、ERL−4234、4299、4221、4206(以上、U.C.C社製)、ショーダイン509(昭和電工社製)、エピクロン200、同400(以上、大日本インキ社製)、エピコート(登録商標)871、同872(以上、ジャパンエポキシレジン社製)、ED−5661、同5662(以上、セラニーズコーティング社製)等;
脂肪族ポリグリシジルエーテルとしてエポライト100MF(共栄社化学社製)、エピオール(登録商標)TMP(日本油脂社製)等が挙げられる。
本実施形態の表示素子用感放射線性樹脂組成物は、上述の[A]ポリシロキサンおよび[B]光酸発生剤を含有し、それらに加えてさらに、上述した[C]環状エーテル基を有する化合物を含有することができるが、さらに、[D]酸化防止剤を含有することができる。
本実施形態の表示素子用感放射線性樹脂組成物は、上記[A]ポリシロキサンおよび[B]光酸発生剤の他、必要に応じて添加される[C]環状エーテル基を有する化合物、[D]酸化防止剤、並びに、[E]塩基性化合物およびその他の任意成分を混合することによって調製される。
[D]酸化防止剤としては、上述したように、ヒンダードフェノール構造を含む化合物、ヒンダードアミン構造を含む化合物、アルキルホスファイト構造を含む化合物及びチオエーテル構造を含む化合物を挙げることができる。[D]酸化防止剤は、光照射による硬化膜の酸化劣化を抑制することが可能となる。これのうち特にヒンダードフェノール構造を含む化合物が好ましい。
また、[E]塩基性化合物を含有することで、露光により酸発生剤から発生した酸の拡散長を適度に制御することができパターン現像性を良好にできる。[E]塩基性化合物としては、化学増幅レジストで用いられるものから任意に選択して使用でき、例えば脂肪族アミン、芳香族アミン、複素環式アミン、4級アンモニウムヒドロキシド、カルボン酸4級アンモニウム塩等が挙げられる。これのうち特に脂肪族アミン、複素環式アミンが好ましい。
次に、上述した本実施形態の表示素子用感放射線性樹脂組成物を用いた、本実施形態の硬化膜およびその製造方法について説明する。
(2)工程(1)で形成した塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程(以下、単に、放射線照射工程と言うことがある。)、
(3)工程(2)で放射線を照射された塗膜を現像する工程(以下、単に、現像工程と言うことがある。)、および
(4)工程(3)で現像された塗膜を加熱する工程(以下、単に、加熱工程と言うことがある。)。
以下(1)〜(4)の各工程についてより詳細に説明する。
図1(a)に示すように、(1)塗膜形成工程においては、本実施形態の感放射線樹脂組成物を基板1上に塗布し、好ましくはプレベークを行うことにより溶剤を除去して、表示素子用感放射線性樹脂組成物の塗膜2を形成する。
図1(b)に示すように、(2)放射線照射工程では、形成された塗膜2の一部に放射線4を照射して露光を行う。本工程では、塗膜2の所望とする一部に放射線4の照射が行えるように、所定のパターン形状を有するマスク3を介して放射線4を照射することが好ましい。そして、塗膜2中に所望とする形状の露光部5を形成する。このとき用いられる放射線4としては、例えば、紫外線、遠紫外線、X線、荷電粒子線等が挙げられる。
図1(c)に示すように、(3)現像工程では、上述の(2)放射線照射工程で放射線4を照射された塗膜2に対して現像を行って、放射線4の照射部分である露光部5を除去し、所望形状にパターニングされた塗膜2’を形成することができる。
すなわち、上述したように、露光部5ではアルカリ可溶性を示すカルボキシル基を有するポリシロキサンが生成されており、未露光の部分に比べて後述する現像液に溶解しやすくなっている。そのため、現像液を用いた露光部5のみの除去が可能となる。
図1(d)に示すように、(4)加熱工程では、ホットプレート、オーブン等の適当な加熱装置にを用い、図1(c)のパターニングされた塗膜2’の加熱を行う。塗膜2’を構成する[A]ポリシロキサンは、上述したように、その上記式(1)で示される基および/または上記式(2)で示される基が酸解離性基で保護されたままの状態にある。それに対し、本工程では、加熱を行うことにより、塗膜2’の[A]ポリシロキサンにおいて、上記式(1)で示される基および/または上記式(2)で示される基の有する酸解離性基が外れる解離反応を生じさせる。その結果、塗膜2’を構成する[A]ポリシロキサンには、酸解離性基のないアルカリ可溶性を示すカルボキシル基が発生することになる。そして、[A]ポリシロキサン中に、上述したエポキシ基等の架橋性基が含まれる場合、発生したカルボキシル基とエポキシ基とが付加反応し、架橋構造を形成する。したがって、この加熱工程により、塗膜2’を硬度に優れた硬化膜6とすることができ、基板1上に、パターニングされた硬化膜6を形成することができる。
図2は、本実施形態の半導体素子の構造を模式的に説明する断面図である。
半導体素子11は、半導体層12と、その半導体層12の、図2における上方側の面である、第1面に設けられた電極とを有する。電極は、第1のソース−ドレイン電極13と第2のソース−ドレイン電極14とからなる。
これら酸化物を用いることにより半導体素子11は、移動度に優れた半導体層12をより低温で形成して有し、高ON/OFF比を示すことが可能となる。
本発明の実施形態の有機EL素子として、本発明の実施形態の有機EL表示素子の例を用い、それについて図面を用いて説明する。
(合成例1)
撹拌機付の容器内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル24質量部を仕込み、続いて、メチルトリメトキシシラン25質量部、フェニルトリメトキシシラン40質量部、3−トリメトキシシリルプロピルコハク酸(商品名:X−12−967C、信越化学社製)20質量部、トリメチルメトキシシラン15質量部を仕込み、溶液温度が60℃になるまで加熱した。
(合成例1)において得られたポリシロキサン(a−1)溶液に、エチルビニルエーテルに代えてジヒドロフランを添加した以外は同様の方法で合成を行い、ポリシロキサン(A-2)を得た。
撹拌機付の容器内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル24質量部を仕込み、続いて、フェニルトリメトキシシラン30質量部、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン35質量部、3−トリメトキシシリルプロピルコハク酸20質量部、トリメチルメトキシシラン15質量部を仕込み、溶液温度が60℃になるまで加熱した。
撹拌機付の容器内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル24質量部を仕込み、続いて、フェニルトリメトキシシラン35質量部、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン30質量部、3−トリメトキシシリルプロピルコハク酸20質量部、トリメチルメトキシシラン15質量部を仕込み、溶液温度が60℃になるまで加熱した。
撹拌機付の容器内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル24質量部を仕込み、続いて、フェニルトリメトキシシラン40質量部、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン40質量部、トリメチルメトキシシラン5質量部、メチルトリメトキシシラン15質量部を仕込み、溶液温度が60℃になるまで加熱した。
(実施例1)
[A]成分として、合成例1で得られたポリシロキサン(A−1)を含む溶液(ポリシロキサン(A−1)100質量部(固形分)に相当する量)に、[B]成分として、光酸発生剤であるトリフルオロメタンスルホン酸−1,8−ナフタルイミド(B−1)4質量部、塩基性化合物である4−ジメチルアミノピリジン0.01質量部を混合し、孔径0.2μmのメンブランフィルタで濾過することにより、表示素子用感放射線性樹脂組成物(S−1)を調製した。
[A]成分として、合成例2で得られたポリシロキサン(A−2)を含む溶液(ポリシロキサン(A−2)100質量部(固形分)に相当する量)に、[B]成分として、光酸発生剤であるベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート(B−2)4質量部、[C]成分として、環状エーテル基を有する化合物であるジ[1−エチル−(3−オキセタニル)メチル]エーテル(C−1)25質量部、、塩基性化合物である4−ジメチルアミノピリジン0.01質量部を混合し、孔径0.2μmのメンブランフィルタで濾過することにより、表示素子用感放射線性樹脂組成物(S−2)を調製した。
[A]成分として、合成例3で得られたポリシロキサン(A−3)を含む溶液(ポリシロキサン(A−3)100質量部(固形分)に相当する量)に、[B]成分として、光酸発生剤である(B−4):(5−メチルスルフォニルオキシイミノ)−フェニルアセトニトリル4質量部、[C]成分として、環状エーテル基を有する化合物である(C−2):フェノールノボラック型エポキシ樹脂(エピコート152(登録商標) ジャパンエポキシレジン社製)10質量部、[D]成分として、酸化防止剤である2,6−ジ−t−ブチル−4−クレゾール(D−1)0.5質量部、、塩基性化合物である4−ジメチルアミノピリジン0.01質量部を混合し、孔径0.2μmのメンブランフィルタで濾過することにより、表示素子用感放射線性樹脂組成物(S−3)を調製した。
[A]成分として、合成例4で得られたポリシロキサン(A−4)を含む溶液(ポリシロキサン(A−4)100質量部(固形分)に相当する量)に、[B]成分として、光酸発生剤である(B−4):(5−メチルスルフォニルオキシイミノ)−フェニルアセトニトリル]4質量部、[C]成分として、環状エーテル基を有する化合物であるジ[1−エチル−(3−オキセタニル)メチル]エーテル(C−1)15質量部、[D]成分として、酸化防止剤である2,6−ジ−t−ブチル−4−クレゾール(D−1)0.5質量部、、塩基性化合物である4−ジメチルアミノピリジン0.01質量部を混合し、孔径0.2μmのメンブランフィルタで濾過することにより、表示素子用感放射線性樹脂組成物(S−4)を調製した。
[A]成分として、合成例2で得られたポリシロキサン(A−2)を含む溶液(ポリシロキサン(A−2)50質量部(固形分)に相当する量)と合成例5で得られたポリシロキサン(a−4)を含む溶液(ポリシロキサン(a−4)50質量部(固形分)に相当する量)を混合したもの、[B]成分として、光酸発生剤である上述した化合物(3−1−iv)([(5−p−トルエンスルフォニルオキシイミノ−5H−チオフェン−2−イリデン)−(2−メチルフェニル)アセトニトリル])(B−3)5質量部、[C]成分として、環状エーテル基を有する化合物であるジ[1−エチル−(3−オキセタニル)メチル]エーテル(C−1)25質量部、、塩基性化合物である4−ジメチルアミノピリジン0.01質量部を混合し、孔径0.2μmのメンブランフィルタで濾過することにより、表示素子用感放射線性樹脂組成物(S−5)を調製した。
(B−1):トリフルオロメタンスルホン酸−1,8−ナフタルイミド
(B−2):ベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート
(B−3):化合物(3−1−iv)
(B−4):(5−メチルスルフォニルオキシイミノ)−フェニルアセトニトリル]
(C−1):ジ[1−エチル−(3−オキセタニル)メチル]エーテル
(C−2):フェノールノボラック型エポキシ樹脂(エピコート(登録商標)152 ジャパンエポキシレジン社製)
(D−1)2,6−ジ−t−ブチル−4−クレゾール
尚、塩基性化合物は、上述した[E]成分として挙げられ、光酸発生剤より発生した酸の拡散を制御する目的で微量添加するものである。
[A]成分として、合成例5で得られた酸解離性基を有しないポリシロキサン(a−4)を含む溶液(ポリシロキサン(a−4)100質量部(固形分)に相当する量)を用いた。これに、キノンジアジド化合物(d−1)(下記に示す化合物)35質量部を混合し、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルに溶解させた後、口径0.2μmのメンブランフィルタで濾過して、表示素子用感放射線性樹脂組成物(s−1)とした。
実施例1〜実施例4および比較例1で調製したそれぞれの表示素子用感放射線性樹脂組成物を使用し、以下の方法に従い、表示素子用感放射線性樹脂組成物の特性、および、それらを用いて得られた硬化膜の特性を評価した。評価結果は下記の表1にまとめて示す。
550×650mmのクロム成膜ガラス上に、ヘキサメチルジシラザン(HMDS)を塗布し、60℃にて1分間加熱した(以下、HMDS処理ともいう。)。このHMDS処理後のクロム成膜ガラス上に、実施例1〜実施例5および比較例1で調製したそれぞれの表示素子用感放射線性樹脂組成物((S−1)〜(S−5)および(s−1))を用い、スピンコーターを使用して塗布した。その後、さらに90℃において3分間プレベークすることによって、膜厚3.0μmの塗膜を形成した。続いて、キヤノン(株)製のMPA−600FA露光機を用い、10μmのコンタクトホールのパターンを有するマスクを介して、プロキシギャップ10μmで塗膜に対し露光量を変量として放射線を照射した。その後、現像液濃度が0.4質量%のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて25℃において70秒間現像した。次いで、超純水で流水洗浄を行い、その後乾燥することにより、HMDS処理後のガラス基板上にパターンを形成した。このとき、10μmのコンタクトホール径にもっとも近い露光量を放射線感度とした。この値が500(J/m2)以下の場合に放射線感度が良好と判断した。
シリコン基板上に、スピンナを用いて、実施例1〜実施例5および比較例1で調製したそれぞれの表示素子用感放射線性樹脂組成物((S−1)〜(S−5)および(s−1))を塗布した後、90℃にて2分間ホットプレート上でプレベークして膜厚3.0μmの塗膜を形成した。このシリコン基板をクリーンオーブン内にて220℃で1時間加熱して硬化膜を得た。得られた各硬化膜に、UV照射装置(ウシオ社製の「UVX−02516S1JS01」)にて130mWの照度で800000J/m2照射した。照射前の膜厚に比較して、照射後の膜厚の膜減り量が2%以下であれば硬化膜の耐光性が良好であると言える。
尚、耐光性の評価においては、形成する硬化膜のパターニングは不要のため、現像工程は省略し、塗膜形成工程、耐光性試験および加熱工程のみ行い評価を行った。
上記耐光性の評価と同様に、シリコン基板上に、実施例1〜実施例5および比較例1で調製したそれぞれの表示素子用感放射線性樹脂組成物((S−1)〜(S−5)および(s−1))の塗膜を形成した。このシリコン基板をクリーンオーブン内にて220℃で1時間加熱して硬化膜を形成した。得られた各硬化膜について、波長400nmにおける透過率を、分光光度計(日立製作所社製の「150−20型ダブルビーム」)を用いて測定して評価した。このとき、90%未満の場合に透明性が不良と言える。
上記耐光性の評価と同様に、ガラス基板上に、実施例1〜実施例5および比較例1で調製したそれぞれの表示素子用感放射線性樹脂組成物((S−1)〜(S−5)および(s−1))の塗膜を形成した。この基板をクリーンオーブン内にて220℃で1時間加熱して硬化膜を形成した。得られた硬化膜を有する基板のぞれぞれについて、1cm角に切断し、昇温脱離分析装置(電気科学製 TDS1200)にて230℃に加熱し、30分間保持した際に発生したガス量を測定した。比較例の表示素子用感放射線性樹脂組成物(s−1)から形成された硬化膜から発生するガス量を100とし、相対的な値を用いて、実施例の表示素子用感放射線性樹脂組成物((S−1)〜(S−5))から形成された硬化膜から発生するガス量を評価する。尚、評価結果をまとめた下記の表1には、熱重量減少量として上述の相対的な値を示す。そして、この相対的な値が70以下のとき、熱重量減少が少ないと判断でき、硬化膜からの発生ガス量が少ないと判断できる。
調製直後の硬化膜形成用組成物について、「(1)放射線感度の評価」と同様に形成された硬化膜の膜厚を測定した(下記式において、「調製直後の膜厚」と称する)。
2、2’ 塗膜
3 マスク
4 放射線
5 露光部
6、15、110、113 硬化膜
11 半導体素子
12、106 半導体層
13、107 第1のソース−ドレイン電極
14、108 第2のソース−ドレイン電極
16、112 スルーホール
21、104 ゲート電極
22、105 ゲート絶縁膜
101 有機EL表示素子
103 TFT
111 陽極
114 有機発光層
115 陰極
116 パッシベーション膜
117 封止層
119 無機絶縁膜
120 封止基板
Claims (11)
- [A]下記式(1)で示される基および下記式(2)で示される基の少なくとも一方を有し、さらに架橋性基を有するポリシロキサン、並びに
[B]光酸発生剤
を含有することを特徴とする表示素子用感放射線性樹脂組成物。
式(2)中、R4〜R10は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜12の炭化水素基である。nは1または2の整数である。) - 前記架橋性基が、オキシラニル基およびオキシラニル基からなる群より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1に記載の表示素子用感放射線性樹脂組成物。
- さらに、[C]環状エーテル基を有する化合物([A]成分を除く)を含有することを特徴とする請求項1または2に記載の表示素子用感放射線性樹脂組成物。
- さらに、[D]酸化防止剤を含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の表示素子用感放射線性樹脂組成物。
- [A]下記式(1)で示される基および下記式(2)で示される基の少なくとも一方を有するポリシロキサン、並びに
[B]光酸発生剤
を含有し、
[B]光酸発生剤が、下記式(3)で表されるオキシムスルホネート基を含有する化合物であることを特徴とする表示素子用感放射線性樹脂組成物。
式(2)中、R 4 〜R 10 は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜12の炭化水素基である。nは1または2の整数である。)
の基の水素原子の一部または全部が置換基で置換されていてもよい。) - [A]下記式(1)で示される基および下記式(2)で示される基の少なくとも一方を有するポリシロキサン、並びに
[B]光酸発生剤
を含有し、さらに、[D]酸化防止剤を含有することを特徴とする表示素子用感放射線性樹脂組成物。
式(2)中、R 4 〜R 10 は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜12の炭化水素基である。nは1または2の整数である。) - 請求項1〜6のいずれか1項に記載の表示素子用感放射線性樹脂組成物を用いて得られることを特徴とする硬化膜。
- [1]請求項1〜6のいずれか1項に記載の表示素子用感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
[2]前記表示素子用感放射線性樹脂組成物の塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
[3]前記放射線が照射された塗膜を現像する工程、および
[4]前記現像された塗膜を加熱して硬化する工程
を有することを特徴とする硬化膜の製造方法。 - 請求項7に記載の硬化膜を有することを特徴とする半導体素子。
- 請求項7に記載の硬化膜を有することを特徴とする表示素子。
- 請求項9に記載の半導体素子をアクティブ素子として用いることを特徴とする請求項10に記載の表示素子。
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