TWI425315B - Sensitive radiation linear resin composition, interlayer insulating film and microlens, and the like - Google Patents

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TWI425315B TW097101656A TW97101656A TWI425315B TW I425315 B TWI425315 B TW I425315B TW 097101656 A TW097101656 A TW 097101656A TW 97101656 A TW97101656 A TW 97101656A TW I425315 B TWI425315 B TW I425315B
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Takahiro Iijima
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Description

敏輻射線性樹脂組成物、層間絕緣膜及微透鏡、以及此等之製造方法
本發明係有關敏輻射線性樹脂組成物、層間絕緣膜及微透鏡及這些之製造方法。
對於薄膜電晶體(以下稱為「TFT」)型液晶顯示元件或磁頭元件、積體電路元件、固體攝影元件等電子零件，一般為了使層狀配置之配線間產生絕緣而設置層間絕緣膜。形成層間絕緣膜之材料係以製得所需之圖案形狀之步驟數較少，且具有充分平坦性者較佳，因此可廣泛使用敏輻射線性樹脂組成物(參照日本特開2001－354822號公報及日本特開2001－343743號公報)。
上述電子零件中，例如TFT型液晶顯示元件係經由在上述層間絕緣膜上形成透明電極膜，再於其上形成液晶配向膜之步驟來製造，因此，層間絕緣膜在形成透明電極膜之步驟中處於高溫條件，或處於形成電極之圖案所使用之光阻之剝離液中，因此對於這些情況必須具有充分之耐用性。
近年，TFT型液晶顯示元件之趨勢為大畫面化、高亮度化、高精細化、高速應答化、薄型化等，這些所用之形成層間絕緣膜用組成物必須為高感度，形成之層間絕緣膜之低介電率、高透過率等必須優於以往的高性能。
另外，傳真機、電子影印機、固體攝影元件等在晶片 上之彩色濾光片(on chip color filter)之成像光學體系或光纖連結器之光學系材料使用具有3~100μm之透鏡直徑之微透鏡，或這些微透鏡以規則性排列之微透鏡陣列。
形成微透鏡或微透鏡陣列時，形成與透鏡相當之光阻圖案後，藉由加熱處理使之熔融流動，該狀態下作為透鏡使用的方法，或使熔融流動的透鏡圖案形成光罩，利用乾蝕刻將透鏡形狀轉印至基底上的方法等為人所知。形成前述透鏡圖案時，廣泛使用敏輻射線性樹脂組成物(參照日本特開平6－18702號公報及日本特開平6－136239號公報)。
但是形成如上述之微透鏡或微透鏡陣列之元件係被供給其後為了除去配線形成部份之接合墊上之各種絕緣膜，而塗佈平坦化膜及蝕刻用光阻膜，使用所要之光罩進行曝光、顯影去除接合墊部份之蝕刻光阻，接著藉由蝕刻去除平坦化膜及各種絕緣膜，使接合墊部份露出的步驟。因此微透鏡或微透鏡陣列在形成平坦化膜及蝕刻光阻塗膜之步驟及蝕刻步驟中，必須為耐溶劑性及耐熱性。
形成這種微透鏡用之敏輻射線性樹脂組成物必須為高感度，且由該組成物所形成之微透鏡具有所要之彎曲率半徑，必須具有高耐熱性、高透過率等。
如上述製得之層間絕緣膜或微透鏡在形成這些之顯影步驟中，顯影時間稍微超過最佳時間時，顯影液會滲透至圖案與基板之間，容易產生剝離，因此，必須嚴控顯影時間，有產品良率的問題。
如此由敏輻射線性樹脂組成物形成層間絕緣膜或微透鏡時，組成物被要求為高感度，且在形成步驟之顯影步驟中，顯影時間即使超過所設定之時間時，也不會產生圖案剝離，顯示良好密著性，且該組成物所形成之層間絕緣膜被要求高耐熱性、高耐溶劑性、低介電率、高透過率，形成微透鏡時，要求微透鏡具有良好之熔融形狀(所要之彎曲率半徑)，具有高耐熱性、高耐溶劑性、高透過率，但是滿足這種要求之敏輻射線性樹脂組成物在以往仍未為人所知。
 〔發明之揭示］
本發明係根據上述問題所完成者。因此本發明之目的係提供具高輻射線感度，具有在顯影步驟中即使超過最佳顯影時間也可形成良好的圖案形狀之顯影安全係數，且容易形成密著性優異之圖案狀薄膜之敏輻射線性樹脂組成物。
本發明之另外的目的係提供用於形成層間絕緣膜時，可形成高耐熱性、高耐溶劑性、高透過率、低介電率之層間絕緣膜，另外用於形成微透鏡時，可具有高透過率及良好之熔融形狀之微透鏡之敏輻射線性樹脂組成物。
本發明之另外的目的係提供使用上述敏輻射線性樹脂組成物形成層間絕緣膜及微透鏡的方法。
本發明之另外的目的係提供藉由本發明之方法所形成 之層間絕緣膜及微透鏡。
本發明之其他目的及優點係由下述說明可知。
依據本發明時，本發明之目的及優點係第1藉由一種敏輻射線性樹脂組成物來達成。該組成物之特徵係含有：[A](a1)不飽和羧酸及/或不飽和羧酸酐、(a2)含有環氧基及/或氧環丁基之不飽和化合物，及(a3)選自甲基丙烯酸烷酯、丙烯酸烷酯、甲基丙烯酸環狀烷酯、具有羥基之甲基丙烯酸酯、丙烯酸環狀烷酯、甲基丙烯酸芳酯、丙烯酸芳酯、不飽和二羧酸二酯、雙環不飽和化合物、馬來醯亞胺化合物、不飽和芳香族化合物、共軛二烯、四氫呋喃骨架、呋喃骨架、四氫吡喃骨架、吡喃骨架或具有下述式(3)表示之骨架之不飽和化合物及下述式(I)表示之含酚性羥基之不飽和化合物所成群，與(a1)成分及(a2)成分不同之至少1種之其他不飽和化合物的共聚物 (式(3)中，R7 係氫原子或甲基，n係1以上的整數)
其中R1 係氫原子或碳數1~4之烷基，R2 ~R6 係可相同或不同、氫原子、羥基或碳數1~4之烷基，B係表示單鍵、－COO－、或－CONH－，m係0~3的整數，但是R2 ~R6 之至少一個為羥基， [B]1,2－醌二疊氮化合物，及 含有與[A]成分藉由熱產生交聯反應之官能基的矽氧烷低聚物。
本發明之目的及優點係第2藉由一種層間絶緣膜或微透鏡之形成方法來達成。其特徵係含有以下記載順序之以下步驟， (1)基板上形成申請專利範圍第1項之敏輻射線性樹脂組成物之塗膜的步驟、(2)對該塗膜之至少一部份照射輻射線的步驟、(3)顯影步驟及(4)加熱步驟。
本發明之目的及優點係第3藉由上述方法形成之層間絶緣膜或微透鏡來達成。
實施發明之最佳形態
以下詳述本發明之敏輻射線性樹脂組成物。
共聚物[A]
共聚物[A]係將化合物(a1)、化合物(a2)及化合 物(a3)在溶劑中，聚合引發劑之存在下，藉由自由基聚合來製造。本發明所用之共聚物[A]係將化合物(a1)所衍生之構成單元，於化合物(a1)、(a2)及(a3)所衍生之重複單位之合計下，較佳為含有5~40重量%，特佳為5~25重量%。使用此構成單元未達5重量%之共聚物時，在顯影步驟時難以溶解於鹼水溶液中，而超過40重量%之共聚物有對於鹼水溶液之溶解性過高的傾向。
化合物(a1)係具有自由基聚合性之不飽和羧酸及/或不飽和羧酸酐，例如有單羧酸、二羧酸、二羧酸酐、多元羧酸之單〔(甲基)丙烯醯氧基烷基］酯、在兩末端具有羧基與羥基之聚合物之單(甲基)丙烯酸酯、具有羧基之多環化合物及其酐等。
這些之具體例，單羧酸例如有丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸等；二羧酸例如有順丁烯二酸、反式丁烯二酸、檸康酸、中康酸、衣康酸等；二羧酸之酐例如有上述二羧酸例示之化合物之酐等；多元羧酸之單〔(甲基)丙烯醯氧基烷基］酯例如有琥珀酸單〔2－(甲基)丙烯醯氧基乙基］酯、苯二甲酸單〔2－(甲基)丙烯醯氧基乙基］酯等；在兩末端具有羧基與羥基之聚合物之單(甲基)丙烯酸酯例如有ω－羧基聚己內酯單(甲基)丙烯酸酯等；具有羧基之多環化合物及其酐，例如有5－羧基雙環[2.2.1]庚－2－烯、5,6－二羧基雙環[2.2.1]－庚－2－烯、5－羧基－ 5－甲基雙環[2.2.1]－庚－2－烯、5－羧基－5－乙基雙環[2.2.1]庚－2－烯、5－羧基－6－甲基雙環[2.2.1]－庚－2－烯、5－羧基－6－乙基雙環[2.2.1]庚－2－烯、5.6－二羧基雙環[2.2.1]－庚－2－烯酐等。
這些中，在共聚反應性、對於鹼水溶液之溶解性及取得容易性的觀點，較佳為使用單羧酸、二羧酸之酐，尤其是丙烯酸、甲基丙烯酸、順丁烯二酸酐。這些可單獨或者組合使用。
本發明所用之共聚物[A]係將化合物(a2)所衍生之構成單元，根據化合物(a1)、(a2)及(a3)所衍生之重覆單元合計，較佳為含有10~80重量%，特佳為30~80重量%。此構成單元未達10重量%時，所得之層間絶緣膜或微透鏡之耐熱性或表面硬度會有降低的傾向，若此構成單元之含量超過80重量%時，敏輻射線性樹脂組成物之保存安定性會有降低的傾向。
化合物(a2)係具有自由基聚合性之含環氧基及/或氧環丁基之不飽和化合物，其中含環氧基之不飽和化合物，例如有丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、α－乙基丙烯酸縮水甘油酯、α－正丙基丙烯酸縮水甘油酯、α－正丁基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸－3,4－環氧丁酯、甲基丙烯酸－3,4－環氧丁酯、丙烯酸－6,7－環氧庚酯、甲基丙烯酸－6,7－環氧庚酯、α－乙基丙烯酸－6,7－環氧庚酯、o－乙烯基苄基縮水甘油醚、m－乙烯基苄基縮水甘油醚、p－乙烯基苄基縮水甘油醚等。這些中，在共聚反應性、及提高所得之層 間絶緣膜或微透鏡之耐熱性、表面硬度的觀點，較佳為以甲基丙烯酸縮水甘油酯，甲基丙烯酸－6,7－環氧庚酯，o－乙烯基苄基縮水甘油醚，m－乙烯基苄基縮水甘油醚，p－乙烯基苄基縮水甘油醚、3,4－環氧基環己基甲基丙烯酸酯等。含有氧環丁基之不飽和化合物，例如有3－(丙烯醯氧基甲基)氧環丁烷、3－(丙烯醯氧基甲基)－2－甲基氧環丁烷、3－(丙烯醯氧基甲基)－3－乙基氧環丁烷、3－(丙烯醯氧基甲基)－2－三氟甲基氧環丁烷、3－(丙烯醯氧基甲基)－2－五氟乙基氧環丁烷、3－(丙烯醯氧基甲基)－2－苯基氧環丁烷、3－(丙烯醯氧基甲基)－2,2－二氟氧環丁烷、3－(丙烯醯氧基甲基)－2,2,4－三氟氧環丁烷、3－(丙烯醯氧基甲基)－2,2,4,4－四氟氧環丁烷、3－(2－丙烯醯氧基乙基)氧環丁烷、3－(2－丙烯醯氧基乙基)－2－乙基氧環丁烷、3－(2－丙烯醯氧基乙基)－3－乙基氧環丁烷、3－(2－丙烯醯氧基乙基)－2－三氟甲基氧環丁烷、3－(2－丙烯醯氧基乙基)－2－五氟乙基氧環丁烷、3－(2－丙烯醯氧基乙基)－2－苯基氧環丁烷、3－(2－丙烯醯氧基乙基)－2,2－二氟氧環丁烷、3－(2－丙烯醯氧基乙基)－2,2,4－三氟氧環丁烷、3－(2－丙烯醯氧基乙基)－2,2,4,4－四氟氧環丁烷等之丙烯酸酯；3－(甲基丙烯醯氧基甲基)氧環丁烷、3－(甲基丙烯醯氧基甲基)－2－甲基氧環丁烷、3－(甲基丙烯醯氧基甲基)－3－乙基氧環丁烷、3－(甲基丙烯醯氧基甲基)－2－三氟甲基氧環丁烷、3－(甲基丙烯醯氧基甲基)－2－五氟乙基氧環丁烷、3－(甲基丙烯醯氧基甲基)－2－苯基氧環丁烷、3－(甲基丙烯 醯氧基甲基)－2,2－二氟氧環丁烷、3－(甲基丙烯醯氧基甲基)－2,2,4－三氟氧環丁烷、3－(甲基丙烯醯氧基甲基)－2,2,4,4－四氟氧環丁烷、3－(2－甲基丙烯醯氧基乙基)氧環丁烷、3－(2－甲基丙烯醯氧基乙基)－2－乙基氧環丁烷、3－(2－甲基丙烯醯氧基乙基)－3－乙基氧環丁烷、3－(2－甲基丙烯醯氧基乙基)－2－三氟甲基氧環丁烷、3－(2－甲基丙烯醯氧基乙基)－2－五氟乙基氧環丁烷、3－(2－甲基丙烯醯氧基乙基)－2－苯基氧環丁烷、3－(2－甲基丙烯醯氧基乙基)－2,2－二氟氧環丁烷、3－(2－甲基丙烯醯氧基乙基)－2,2,4－三氟氧環丁烷、3－(2－甲基丙烯醯氧基乙基)－2,2,4,4－四氟氧環丁烷等之甲基丙烯酸酯等。這些化合物(a2)可單獨或組合二種以上來使用。
化合物(a3)係與化合物(a1)、(a2)不同之具有自由基聚合性之之不飽和化合物。化合物(a3)係甲基丙烯酸烷酯、丙烯酸烷酯、甲基丙烯酸環狀烷酯、具有羥基之甲基丙烯酸酯、丙烯酸環狀烷酯、甲基丙烯酸芳酯、丙烯酸芳酯、不飽和二羧酸二酯、雙環不飽和化合物、馬來醯亞胺化合物、不飽和芳香族化合物、共軛二烯、四氫呋喃骨架、呋喃骨架、四氫吡喃骨架、吡喃骨架或具有下述式(3)表示之骨架之不飽和化合物或下述式(I)表示之含酚性羥基之不飽和化合物。
(式(3)中，R7 係氫原子或甲基，n係1以上的整數)
其中R1 係氫原子或碳數1~4之烷基，R2 ~R6 係可相同或不同、氫原子、羥基或碳數1~4之烷基，B係表示單鍵、－COO－、或－CONH－，m係0~3的整數，但是R2 ~R6 之至少一個為羥基。
這些具體例，其中甲基丙烯酸烷酯例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸第二丁酯、甲基丙烯酸第三丁酯、2－乙基己基甲基丙烯酸酯、異癸基甲基丙烯酸酯、正月桂基甲基丙烯酸酯、十三烷基甲基丙烯酸酯、正十八烷基甲基丙烯酸酯等；丙烯酸烷酯例如甲基丙烯酸酯、丙烯酸異丙酯等；甲基丙烯酸環狀烷酯例如環己基甲基丙烯酸酯、2－甲基環己基甲基丙烯酸酯、三環[5.2.1.02.6 ]癸烷－8－基甲基丙烯酸酯、三環[5.2.1.02.6 ]癸烷－8－基氧乙基甲基丙烯酸酯、異冰片基甲基丙烯酸酯等；具有羥基之甲基丙烯酸酯例如有羥甲基甲基丙烯酸酯、2－羥乙基丙烯酸酯、3－羥丙基甲基丙烯酸酯、4－羥丁基甲基丙烯酸酯、二甘醇單甲基丙烯酸酯、2,3－二羥丙基甲基丙烯酸酯、2－甲基丙烯氧基乙基糖苷、4－羥苯基甲基丙 烯酸酯等；丙烯酸環狀烷酯例如環己基丙烯酸酯、2－甲基環己基丙烯酸酯、三環[5.2.1.02.6 ]癸烷－8－基丙烯酸酯、三環[5.2.1.02.6 ]癸烷－8－基氧乙基丙烯酸酯、異冰片基丙烯酸酯等；甲基丙烯酸芳酯例如苯基甲基丙烯酸酯、苄基甲基丙烯酸酯等；丙烯酸芳酯例如苯基丙烯酸酯、苄基丙烯酸酯等；不飽和二羧酸二酯例如馬來酸二乙酯、富馬酸二乙酯、衣康酸二乙酯等；雙環不飽和化合物例如雙環[2.2.1]庚－2－烯、5－甲基雙環[2.2.1]庚－2－烯、5－乙基雙環[2.2.1]庚－2－烯、5－甲氧基雙環[2.2.1]庚－2－烯、5－乙氧基雙環[2.2.1]庚－2－烯、5,6－二甲氧基雙環[2.2.1]庚－2－烯、5,6－二乙氧基雙環[2.2.1]庚－2－烯、5－第三丁氧基羰基雙環[2.2.1]庚－2－烯、5－環己氧基羰基雙環[2.2.1]庚－2－烯、5－苯氧基羰基雙環[2.2.1]庚－2－烯、5,6－二(第三丁氧基羰基)雙環[2.2.1]庚－2－烯、5,6－二(環己氧基羰基)雙環[2.2.1]庚－2－烯、5－(2’－羥乙基)雙環[2.2.1]庚－2－烯、5，6－二羥基雙環[2.2.1]庚－2－烯、5,6－二(羥甲基)雙環[2.2.1]庚－2－烯、5,6－二(2’－羥甲基)雙環[2.2.1]庚－2－烯、5－羥基－5－甲基雙環[2.2.1]庚－2－烯、5－羥基－5－乙基雙環[2.2.1]庚－2－烯、5－羥甲基－5－甲基雙環[2.2.1]庚－2－烯等；馬來醯亞胺化合物例如N－苯基馬來醯亞胺、N－環己 基馬來醯亞胺、N－苄基馬來醯亞胺、N－(4－羥苯基)馬來醯亞胺、N－(4－羥基苄基)馬來醯亞胺、N－琥珀醯亞胺基－3－馬來醯亞胺苯甲酸酯、N－琥珀醯亞胺基－4－馬來醯亞胺丁酸酯、N－琥珀醯亞胺基－6－馬來醯亞胺己酸酯、N－琥珀醯亞胺基－3－馬來醯亞胺丙酸酯、N－(9－吖啶基)馬來醯亞胺等；不飽和芳香族化合物例如苯乙烯、α－甲基苯乙烯、間－甲基苯乙烯、對－甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、對－甲氧基苯乙烯等；共軛二烯例如有1,3－丁二烯、異戊烯、2,3－二甲基－1,3－丁二烯等；具有四氫呋喃骨架之不飽和化合物例如有四氫糠基(甲基)丙烯酸酯、2－甲基丙醯氧基－丙酸四氫糠酯、3－(甲基)丙醯氧基四氫呋喃－2－酮等；具有呋喃骨架之不飽和化合物例如有2－甲基－5－(3－呋喃基)－1－戊烯－3－酮、糠基(甲基)丙烯酸酯、1－呋喃－2－丁基－3－烯－2－酮、1－呋喃－2－丁基－3－甲氧基－3－烯－2－酮、6－(2－呋喃基)－2－甲基－1－己烯－3－酮、6－呋喃－2－基－己－1－烯－3－酮、丙烯酸2－呋喃－2－基－1－甲基－乙酯、6－(2－呋喃基)－6－甲基－1－庚烯－3－酮等；具有四氫吡喃骨架之不飽和化合物，例如有(四氫吡喃－2－基)甲基丙烯酸甲酯、2,6－二甲基－8－(四氫吡喃－2－基氧基)－辛－1－烯－3－酮、2－甲基丙烯酸四氫吡喃－2－基酯、1－(四氫吡喃－2－氧)－丁基－3－烯－2－酮等；具有吡喃骨架之不飽和化合物例如有4－(1,4－二氧雜－ 5－氧代－6－庚烯基)－6－甲基－2－吡喃酮、4－(1,5－二氧雜－6－氧代－7－辛烯基)－6－甲基－2－吡喃酮等；含有上述式(3)表示之骨架之不飽和化合物例如有聚乙二醇(n＝2~10)單(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(n＝2~10)單(甲基)丙烯酸酯等；含有酚骨架之不飽和化合物例如由上述式(I)表示之化合物，以B與m之定義，並以下述式(4)~(8)表示之化合物等； (式(4)中，n係1至3的整數，R1 、R2 、R3 、R4 、R5 及R6 之定義係與式(I)相同) (式(5)中，R1 、R2 、R3 、R4 、R5 及R6 之定義係與式( I)相同) (式(6)中，n係1至3的整數。R1 、R2 、R3 、R4 、R5 及R6 之定義係與式(I)相同) (式(7)中，R1 、R2 、R3 、R4 、R5 及R6 之定義係與式(I)相同) (式(8)中，R1 、R2 、R3 、R4 、R5 及R6 之定義係與式(I)相同)
其他不飽和化合物例如有丙烯腈、甲基丙烯腈、氯化乙烯基、氯化次乙烯基、丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、乙酸乙烯酯。
這些當中，較佳為使用甲基丙烯酸烷酯、甲基丙烯酸環狀烷酯、馬來醯亞胺化合物、具有四氫呋喃骨架、呋喃骨架、四氫吡喃骨架、吡喃骨架、上述式(3)表示之骨架之不飽和化合物、下述式(I)表示之含酚性羥基之不飽和化合物，從共聚反應性及對於鹼水溶液之溶解性的觀點，較佳為甲基丙烯酸第三丁酯、三環[5.2.1.02.6 ]癸烷－8－基甲基丙烯酸酯、對甲氧基苯乙烯、2－甲基環己基丙烯酸酯、N－苯基馬來醯亞胺、N－環己基馬來醯亞胺、四氫糠基(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇(n＝2~10)單(甲基)丙烯酸酯、3－(甲基)丙醯氧基四氫呋喃－2－酮、4－羥基苄基(甲基)丙烯酸酯、4－羥苯基(甲基)丙烯酸酯、鄰羥基苯乙烯、對羥基苯乙烯、α－甲基－對羥基苯乙烯。這些化合物(a3)可單獨或組合使用。
本發明用之共聚物〔A］之較佳例有甲基丙烯酸/三環[5.2.1.02.6 ]癸烷－8－基甲基丙烯酸酯/2－甲基環己基丙烯酸酯/甲基丙烯酸苄酯/N－(3,5－二甲基－4－羥基苄基)甲基丙烯醯胺、甲基丙烯酸/四氫糠基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸縮水甘油酯/N－環己基馬來醯亞胺/月桂基甲基丙烯酸酯/α－甲基－對羥基苯乙烯、苯乙烯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸縮水甘油酯/(3－乙基氧環丁烷－3－基)甲基丙烯酸酯/三環[5.2.1.02.6 ]癸烷－8－基甲基丙烯酸酯。
本發明用之共聚物[A]之聚苯乙烯換算重量平均分子量(以下稱為「Mw」)，較佳為2×103 ~1×105 ，更佳為5×103 ~5×104 。Mw未達2×103 時，有時顯影安全係數不足，所得之被膜之殘膜率等降低或所得之層間絶緣膜或微透鏡之圖案形狀、耐熱性等可能不佳，而超過1×105 時，有時感度降低或圖案形狀差。分子量分布(以下稱為「Mw/Mn」)較佳為5.0以下，更佳為3.0以下。Mw/Mn超過5.0時，所得之層間絶緣膜或微透鏡之圖案形狀可能不佳。含有上述之共聚物[A]之敏輻射線性樹脂組成物在顯影時，不會產生顯影殘留，可容易形成所定圖案形狀。
共聚物[A]製造時所使用之溶劑，例如有醇、醚、乙二醇醚、乙二醇烷醚乙酸酯、二甘醇、丙二醇單烷醚、丙二醇烷醚乙酸酯、丙二醇烷醚丙酸酯、芳香族烴、酮、酯等。
這些具體例，上述醇例如有甲醇、乙醇、苄醇、2－苯基乙醇、3－苯基－1－丙醇等；醚例如有四氫呋喃等；乙二醇醚例如有乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚等；乙二醇烷醚乙酸酯例如有甲基乙二醇乙醚乙酸酯、乙基乙二醇乙醚乙酸酯、乙二醇單丁醚乙酸酯、乙二醇單乙醚乙酸酯等；二甘醇醚例如二甘醇單甲醚、二甘醇單乙醚、二甘醇二甲醚、二甘醇二乙醚、二甘醇乙基甲醚等；丙二醇單烷醚乙酸酯例如丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二 醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯、丙二醇單丁醚乙酸酯等；丙二醇烷醚丙酸酯例如丙二醇甲醚丙酸酯、丙二醇乙醚丙酸酯、丙二醇丙醚丙酸酯、丙二醇丁醚丙酸酯等；丙二醇烷醚乙酸酯例如丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇乙醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯、丙二醇丁醚乙酸酯等；芳香族烴例如甲苯、二甲苯等；酮例如甲基乙酮、環己酮、4－羥基－4－甲基－2－戊酮等；酯例如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、2－羥基丙酸乙酯、2－羥基－2－甲基丙酸甲酯、2－羥基－2－甲基丙酸乙酯、羥基乙酸甲酯、羥基乙酸乙酯、羥基乙酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丙酯、乳酸丁酯、3－羥基丙酸甲酯、3－羥基丙酸乙酯、3－羥基丙酸丙酯、3－羥基丙酸丁酯、2－羥基－3－甲基丁酸甲酯、甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、乙氧基乙酸丙酯、乙氧基乙酸丁酯、丙氧基乙酸甲酯、丙氧基乙酸乙酯、丙氧基乙酸丙酯、丙氧基乙酸丁酯、丁氧基乙酸甲酯、丁氧基乙酸乙酯、丁氧基乙酸丙酯、丁氧基乙酸丁酯、2－甲氧基丙酸甲酯、2－甲氧基丙酸乙酯、2－甲氧基丙酸丙酯、2－甲氧基丙酸丁酯、2－乙氧基丙酸甲酯、2－乙氧基丙酸乙酯、2－乙氧基丙酸丙酯、2－乙氧基丙酸丁酯、2－丁氧基丙酸甲酯、2－丁氧基丙酸乙酯、2－丁氧基丙酸丙酯、2－丁氧基丙酸丁酯、 3－甲氧基丙酸甲酯、3－甲氧基丙酸乙酯、3－甲氧基丙酸丙酯、3－甲氧基丙酸丁酯、3－乙氧基丙酸甲酯、3－乙氧基丙酸乙酯、3－乙氧基丙酸丙酯、3－乙氧基丙酸丁酯、3－丙氧基丙酸甲酯、3－丙氧基丙酸乙酯、3－丙氧基丙酸丙酯、3－丙氧基丙酸丁酯、3－丁氧基丙酸甲酯、3－丁氧基丙酸乙酯、3－丁氧基丙酸丙酯、3－丁氧基丙酸丁酯等之酯。
其中較佳者為乙二醇烷醚乙酸酯、二甘醇、丙二醇單烷醚、丙二醇烷醚乙酸酯等，特別理想為二甘醇二甲醚、二甘醇乙基甲醚、丙二醇甲醚、丙二醇乙醚、丙二醇甲醚乙酸酯、3－甲氧基丙酸甲酯。
製造共聚物〔A］所用之聚合引發劑一般可使用自由基聚合引發劑。例如2,2’－偶氮雙異丁腈、2,2’－偶氮雙(2.4－二甲基戊腈)、2,2’－偶氮雙－(4－甲氧基－2,4－二甲基戊腈)等之偶氮化合物；苯甲醯基過氧化物、月桂醯基過氧化物、第三丁基過氧化戊酸酯、1,1’－雙－(第三丁基過氧化)環己烷等之有機過氧化物；過氧化氫。使用過氧化物作為自由基聚合引發劑時，過氧化物與還原劑共同使用也可作為氧化還原型引發劑。
製造共聚物〔A］時，為了調整分子量，可使用分子量調整劑。分子量調整劑之具體例如氯仿、四溴化碳等之鹵化烴；正己基硫醇、正辛基硫醇、正十二烷基硫醇、tert－十二烷基硫醇、巰基乙酸等之硫醇；二甲基乙黃原硫醚、二－異丙基乙黃原二硫醚等之乙黃原；蔥品油烯、α－甲基苯乙烯二聚物等。
[B]成分
本發明使用之[B]成分係藉由輻射線照射產生羧酸之1,2－醌二疊氮化合物，可使用酚性化合物或醇性化合物(以下稱為「母核」)與1,2－萘醌二疊氮磺酸鹵化物之縮合物。
上述母核例如有三羥基二苯甲酮、四羥基二苯甲酮、五羥基二苯甲酮、六羥基二苯甲酮、(聚羥基苯基)鏈烷、其他的母核。
這些之具體例，其中三羥基二苯甲酮例如有2,3,4－三羥基二苯甲酮、2,4,6－三羥基二苯甲酮等；四羥基二苯甲酮例如有2,2’,4,4’－四羥基二苯甲酮、2,3,4,3’－四羥基二苯甲酮、2,3,4,4’－四羥基二苯甲酮、2,3,4,2’－四羥基－4’－甲基二苯甲酮、2,3,4,4’－四羥基－3’－甲氧基二苯甲酮等；五羥基二苯甲酮例如2,3,4,2’,6’－五羥基二苯甲酮等；六羥基二苯甲酮例如2,4,6,3’,4’,5’－六羥基二苯甲酮、3,4,5,3’,4’,5’－六羥基二苯甲酮等；(聚羥基苯基)鏈烷例如雙(2,4－二羥基苯基)甲烷、雙(對羥基苯基)甲烷、三(對羥基苯基)甲烷、1,1,1－參(對羥基苯基)乙烷、雙(2,3,4－三羥基苯基)甲烷、2,2－雙(2,3,4－三羥基苯基)丙烷、1,1,3－參(2,5－二甲基－4－羥基苯基)－3－苯基丙烷、4,4’－[1－[4－[1－[4－羥基苯基]－1－甲基乙基]苯基]次乙基]雙酚、雙(2,5－二甲基－4－羥 基苯基)－2－羥基苯基甲烷、3,3,3’,3’－四甲基－1,1’－螺旋二茚－5,6,7,5’,6’,7’－己醇、2,2,4－三甲基－7,2’,4’－三羥基黃烷等；其他之母核例如有2－甲基－2－(2,4－二羥基苯基)－4－(4－羥基苯基)－7－羥基色滿、2－[雙{(5－異丙基－4－羥基－2－甲基)苯基}甲基]、1－[1－(3－{1－(4－羥基苯基)－1－甲基乙基}－4,6－二羥基苯基)－1－甲基乙基]－3－(1－(3－{1－(4－羥基苯基)－1－甲基乙基}－4,6－二羥基苯基)－1－甲基乙基)苯、4,6－雙{1－(4－羥基苯基)－1－甲基乙基}－1,3－二羥基苯。
也可使用將上述例示之母核之酯鍵改為醯胺鍵之1,2－萘醌二疊氮磺酸醯胺，例如有2,3,4－三羥基二苯甲酮－1,2－萘醌二疊氮－4－磺酸醯胺等。
這些之母核中，較佳為2,3,4,4’－四羥基二苯甲酮、4,4’－〔1－〔4－〔1－〔4－羥基苯基］－1－甲基乙基］苯基］次亞基］雙酚。
又，1,2－萘醌二疊氮磺酸鹵化物較佳為1,2－萘醌二疊氮磺酸氯，其具體例有1,2－萘醌二疊氮－4－磺酸氯及1,2－萘醌二疊氮－5－磺酸氯，其中較佳為使用1,2－萘醌二疊氮－5－磺酸氯。
縮合反應係對於酚性化合物或醇性化合物中之OH基數，較佳為使用相當於30~85莫耳%，更較佳為50~70莫耳%之1,2－萘醌二疊氮磺酸鹵化物。
縮合反應可使用公知的方法。
這些[B]成分可單獨或組合2種以上使用。
[B]成分之使用比例係對於共聚物[A]100重量份，使用5~100重量份，更佳為10~50重量份。比例未達5重量份時，對於成為顯影液之鹼水溶液之輻射線之照射部份與未照射部份之溶解度差較小，有時圖型化困難，有時所得之層間絕緣膜或微透鏡之耐熱性或耐溶劑性不佳。另外，比例超過100重量份時，輻射線照射部份中，對於前述記鹼水溶液之溶解度不佳，顯影困難。
[C]成分
本發明所使用之[C]成分係含有與前述[A]成分藉由熱產生交聯反應之官能基的矽氧烷低聚物，較佳為下述式(1)及下述式(2)之各自表示之烷氧基矽烷經共水解製造之矽氧烷低聚物(以下有時稱為矽氧烷低聚物I)或下述式(9)表示之矽氧烷低聚物，即氧環丁基矽化物的縮合物(以下有時稱為矽氧烷低聚物II)。
Si(R8 )s (R9 )t (OR10 )u (1)
式中，R8 係表示含有環氧基、氧環丁基、環硫基、乙烯基、烯丙基、(甲基)丙烯醯基、羧基、羥基、氫硫基、異氰酸酯基、胺基、脲基或苯乙烯基得取代基，R9 、R10 係可相同或不同，各為1價有機基，s係1~3的整數，t係0~2的整數，u係1~3的整數，但是s＋t＋u＝4。
Si(R11 )x (OR12 )4－x (2)
式中R11 、R12 係可相同或不同，各為1價有機基，x 係0~2的整數。
上述共水解物應係包含原料中可被水解之部份的全部被水解者及其一部份被水解，一部份未被水解，而殘留者。
含有環氧基之化合物(1)之具體例，例如有3－環氧丙氧基甲基三甲氧基矽烷、3－環氧丙氧基甲基三乙氧基矽烷、3－環氧丙氧基甲基三－n－丙氧基矽烷、3－環氧丙氧基甲基三－i－丙氧基矽烷、3－環氧丙氧基甲基三乙醯氧基矽烷、3－環氧丙氧基甲基甲基二甲氧基矽烷、3－環氧丙氧基甲基甲基二乙氧基矽烷、3－環氧丙氧基甲基甲基二－n－丙氧基矽烷、3－環氧丙氧基甲基甲基二－i－丙氧基矽烷、3－環氧丙氧基甲基甲基二乙醯氧基矽烷、3－環氧丙氧基甲基乙基二甲氧基矽烷、3－環氧丙氧基甲基乙基二乙氧基矽烷、3－環氧丙氧基甲基乙基二－n－丙氧基矽烷、3－環氧丙氧基甲基乙基二－i－丙氧基矽烷、3－環氧丙氧基甲基乙基二乙醯氧基矽烷、3－環氧丙氧基甲基苯基二甲氧基矽烷、3－環氧丙氧基甲基苯基二乙氧基矽烷、3－環氧丙氧基甲基苯基二－n－丙氧基矽烷、3－環氧丙氧基甲基苯基二－i－丙氧基矽烷、3－環氧丙氧基甲基苯基二乙醯氧基矽烷、3－環氧丙氧基乙基三甲氧基矽烷、3－環氧丙氧基乙基三乙氧基矽烷、3－環氧丙氧基乙基三－n－丙氧基矽烷、3－環氧丙氧基乙基三－i－丙氧基矽烷、3－環氧丙氧基乙基三乙醯氧基矽烷、3－環氧丙氧基乙基甲基二甲氧基矽烷、3－環氧丙氧基乙基甲基二乙氧基矽烷、3－環氧丙氧基乙基甲基二－n－丙氧基矽烷、3－環氧丙氧基 乙基甲基二－i－丙氧基矽烷、3－環氧丙氧基乙基甲基二乙醯氧基矽烷、3－環氧丙氧基乙基乙基二甲氧基矽烷、3－環氧丙氧基乙基乙基二乙氧基矽烷、3－環氧丙氧基乙基乙基二－n－丙氧基矽烷、3－環氧丙氧基乙基乙基二－i－丙氧基矽烷、3－環氧丙氧基乙基乙基二乙醯氧基矽烷、3－環氧丙氧基乙基苯基二甲氧基矽烷、3－環氧丙氧基乙基苯基二乙氧基矽烷、3－環氧丙氧基乙基苯基二－n－丙氧基矽烷、3－環氧丙氧基乙基苯基二－i－丙氧基矽烷、3－環氧丙氧基乙基苯基二乙醯氧基矽烷、3－環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3－環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3－環氧丙氧基丙基三－n－丙氧基矽烷、3－環氧丙氧基丙基三－i－丙氧基矽烷、3－環氧丙氧基丙基三乙醯氧基矽烷、3－環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3－環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3－環氧丙氧基丙基甲基二－n－丙氧基矽烷、3－環氧丙氧基丙基甲基二－i－丙氧基矽烷、3－環氧丙氧基丙基甲基二乙醯氧基矽烷、3－環氧丙氧基丙基乙基二甲氧基矽烷、3－環氧丙氧基丙基乙基二乙氧基矽烷、3－環氧丙氧基丙基乙基二－n－丙氧基矽烷、3－環氧丙氧基丙基乙基二－i－丙氧基矽烷、3－環氧丙氧基丙基乙基二乙醯氧基矽烷、3－環氧丙氧基丙基苯基二甲氧基矽烷、3－環氧丙氧基丙基苯基二乙氧基矽烷、3－環氧丙氧基丙基苯基二－n－丙氧基矽烷、3－環氧丙氧基丙基苯基二－i－丙氧基矽烷、3－環氧丙氧基丙基苯基二乙醯氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)甲基三甲氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)甲基三乙氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)甲 基三－n－丙氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)甲基三乙醯氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)甲基甲基二甲氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)甲基甲基二乙氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)甲基甲基二－n－丙氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)甲基甲基二乙醯氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)甲基乙基二甲氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)甲基乙基二乙氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)甲基乙基二－n－丙氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)甲基乙基二乙醯氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)甲基苯基二甲氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)甲基苯基二乙氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)甲基苯基二－n－丙氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)甲基苯基二乙醯氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)乙基三乙氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)乙基三－n－丙氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)乙基三乙醯氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)乙基甲基二甲氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)乙基甲基二乙氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)乙基甲基二－n－丙氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)乙基甲基二乙醯氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)乙基乙基二甲氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)乙基乙基二乙氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)乙基乙基二－n－丙氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)乙基乙基二乙醯氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)乙基苯基二甲氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)乙基苯基 二乙氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)乙基苯基二－n－丙氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)乙基苯基二乙醯氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)丙基三甲氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)丙基三乙氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)丙基三－n－丙氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)丙基三乙醯氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)丙基甲基二甲氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)丙基甲基二乙氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)丙基甲基二－n－丙氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)丙基甲基二乙醯氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)丙基乙基二甲氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)丙基乙基二乙氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)丙基乙基二－n－丙氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)丙基乙基二乙醯氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)丙基苯基二甲氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)丙基苯基二乙氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)丙基苯基二－n－丙氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)丙基苯基二乙醯氧基矽烷等；含有環硫基之化合物(1)之具體例，例如有2,3－環硫丙氧基甲基三甲氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基甲基三乙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基甲基三－n－丙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基甲基三－i－丙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基甲基三乙醯氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基甲基甲基二甲氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基甲基甲基二乙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基甲基甲基二－n－丙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基甲基甲基二－i－丙氧 基矽烷、2,3－環硫丙氧基甲基甲基二乙醯氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基甲基乙基二甲氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基甲基乙基二乙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基甲基乙基二－n－丙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基甲基乙基二－i－丙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基甲基乙基二乙醯氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基甲基苯基二甲氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基甲基苯基二乙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基甲基苯基二－n－丙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基甲基苯基二－i－丙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基甲基苯基二乙醯氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基乙基三甲氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基乙基三乙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基乙基三－n－丙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基乙基三－i－丙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基乙基三乙醯氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基乙基甲基二甲氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基乙基甲基二乙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基乙基甲基二－n－丙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基乙基甲基二－i－丙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基乙基甲基二乙醯氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基乙基乙基二甲氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基乙基乙基二乙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基乙基乙基二－n－丙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基乙基乙基二－i－丙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基乙基乙基二乙醯氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基乙基苯基二甲氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基乙基苯基二乙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基乙基苯基二－n－丙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基乙基苯基二－i－丙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基乙基苯基二乙醯氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基丙基三甲氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基丙基三乙氧基 矽烷、2,3－環硫丙氧基丙基三－n－丙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基丙基三－i－丙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基丙基三乙醯氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基丙基甲基二－n－丙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基丙基甲基二－i－丙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基丙基甲基二乙醯氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基丙基乙基二甲氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基丙基乙基二乙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基丙基乙基二－n－丙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基丙基乙基二－i－丙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基丙基乙基二乙醯氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基丙基苯基二甲氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基丙基苯基二乙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基丙基苯基二－n－丙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基丙基苯基二－i－丙氧基矽烷、2,3－環硫丙氧基丙基苯基二乙醯氧基矽烷等；含有氧環丁基之化合物(1)之具體例，例如有(氧環丁烷－3－基)甲基三甲氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基三乙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基三－n－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基三－i－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基三乙醯氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基甲基二甲氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基甲基二乙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基甲基二－n－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基甲基二－i－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基甲基二乙醯氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基乙基二甲氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基乙 基二乙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基乙基二－n－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基乙基二－i－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基乙基二乙醯氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基苯基二甲氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基苯基二乙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基苯基二－n－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基苯基二－i－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基苯基二乙醯氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)乙基三甲氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)乙基三乙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)乙基三－n－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)乙基三－i－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)乙基三乙醯氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)乙基甲基二甲氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)乙基甲基二乙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)乙基甲基二－n－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)乙基甲基二－i－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)乙基甲基二乙醯氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)乙基乙基二甲氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)乙基乙基二乙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)乙基乙基二－n－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)乙基乙基二－i－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)乙基乙基二乙醯氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)乙基苯基二甲氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)乙基苯基二乙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)乙基苯基二－n－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)乙基苯基二－i－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)乙基苯基二乙醯氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)丙基三甲氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)丙基三乙氧基矽烷、(氧環 丁烷－3－基)丙基三－n－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)丙基三－i－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)丙基三乙醯氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)丙基甲基二甲氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)丙基甲基二乙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)丙基甲基二－n－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)丙基甲基二－i－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)丙基甲基二乙醯氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)丙基乙基二甲氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)丙基乙基二乙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)丙基乙基二－n－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)丙基乙基二－i－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)丙基乙基二乙醯氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)丙基苯基二甲氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)丙基苯基二乙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)丙基苯基二－n－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)丙基苯基二－i－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)丙基苯基二乙醯氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)甲基三甲氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)甲基三乙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)甲基三－n－丙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)甲基三－i－丙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)甲基三乙醯氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)甲基甲基二甲氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)甲基甲基二乙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)甲基甲基二－n－丙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)甲基甲基二－i－丙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)甲基甲基二乙醯氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)甲基乙基二甲氧基矽烷、(3－甲 基氧環丁烷－3－基)甲基乙基二乙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)甲基乙基二－n－丙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)甲基乙基二－i－丙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)甲基乙基二乙醯氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)甲基苯基二甲氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)甲基苯基二乙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)甲基苯基二－n－丙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)甲基苯基二－i－丙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)甲基苯基二乙醯氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)乙基三甲氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)乙基三乙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)乙基三－n－丙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)乙基三－i－丙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)乙基三乙醯氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)乙基甲基二甲氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)乙基甲基二乙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)乙基甲基二－n－丙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)乙基甲基二－i－丙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)乙基甲基二乙醯氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)乙基乙基二甲氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)乙基乙基二乙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)乙基乙基二－n－丙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)乙基乙基二－i－丙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)乙基乙基二乙醯氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)乙基苯基二甲氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)乙基苯基二乙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)乙基苯基二－n－ 丙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)乙基苯基二－i－丙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)乙基苯基二乙醯氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)丙基三甲氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)丙基三乙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)丙基三－n－丙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)丙基三－i－丙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)丙基三乙醯氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)丙基甲基二甲氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)丙基甲基二乙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)丙基甲基二－n－丙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)丙基甲基二－i－丙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)丙基甲基二乙醯氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)丙基乙基二甲氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)丙基乙基二乙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)丙基乙基二－n－丙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)丙基乙基二－i－丙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)丙基乙基二乙醯氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)丙基苯基二甲氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)丙基苯基二乙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)丙基苯基二－n－丙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)丙基苯基二－i－丙氧基矽烷、(3－甲基氧環丁烷－3－基)丙基苯基二乙醯氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)甲基三甲氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)甲基三乙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)甲基三－n－丙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)甲基三－i－丙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)甲基三乙醯 氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)甲基甲基二甲氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)甲基甲基二乙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)甲基甲基二－n－丙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)甲基甲基二－i－丙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)甲基甲基二乙醯氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)甲基乙基二甲氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)甲基乙基二乙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)甲基乙基二－n－丙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)甲基乙基二－i－丙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)甲基乙基二乙醯氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)甲基苯基二甲氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)甲基苯基二乙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)甲基苯基二－n－丙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)甲基苯基二－i－丙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)甲基苯基二乙醯氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)乙基三甲氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)乙基三乙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)乙基三－n－丙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)乙基三－i－丙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)乙基三乙醯氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)乙基甲基二甲氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)乙基甲基二乙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)乙基甲基二－n－丙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)乙基甲基二－i－丙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)乙基甲基二乙醯氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)乙基乙基二甲氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－ 基)乙基乙基二乙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)乙基乙基二－n－丙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)乙基乙基二－i－丙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)乙基乙基二乙醯氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)乙基苯基二甲氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)乙基苯基二乙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)乙基苯基二－n－丙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)乙基苯基二－i－丙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)乙基苯基二乙醯氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)丙基三甲氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)丙基三乙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)丙基三－n－丙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)丙基三－i－丙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)丙基三乙醯氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)丙基甲基二甲氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)丙基甲基二乙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)丙基甲基二－n－丙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)丙基甲基二－i－丙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)丙基甲基二乙醯氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)丙基乙基二甲氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)丙基乙基二乙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)丙基乙基二－n－丙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)丙基乙基二－i－丙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)丙基乙基二乙醯氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)丙基苯基二甲氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)丙基苯基二乙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)丙基苯基二－n－丙氧基矽烷 、(3－乙基氧環丁烷－3－基)丙基苯基二－i－丙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)丙基苯基二乙醯氧基矽烷等；含有乙烯基之化合物(1)之具體例，例如有乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三－n－丙氧基矽烷、乙烯基三－i－丙氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、乙烯基三(甲氧基乙氧基)矽烷、乙烯基甲基二甲氧基矽烷、乙烯基甲基二乙氧基矽烷、乙烯基甲基二－n－丙氧基矽烷、乙烯基甲基二－i－丙氧基矽烷、乙烯基甲基二乙醯氧基矽烷、乙烯基乙基二甲氧基矽烷、乙烯基乙基二乙氧基矽烷、乙烯基乙基二－n－丙氧基矽烷、乙烯基乙基二－i－丙氧基矽烷、乙烯基乙基二乙醯氧基矽烷、乙烯基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、乙烯基苯基二甲氧基矽烷、乙烯基苯基二乙氧基矽烷、乙烯基苯基二－n－丙氧基矽烷、乙烯基苯基二－i－丙氧基矽烷、乙烯基苯基二乙醯氧基矽烷、乙烯基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷等；含有烯丙基之化合物(1)之具體例，例如有烯丙基三甲氧基矽烷、烯丙基三乙氧基矽烷、烯丙基三－n－丙氧基矽烷、烯丙基三－i－丙氧基矽烷、烯丙基三乙醯氧基矽烷、烯丙基三(甲氧基乙氧基)矽烷、烯丙基甲基二甲氧基矽烷、烯丙基甲基二乙氧基矽烷、烯丙基甲基二－n－丙氧基矽烷、烯丙基甲基二－i－丙氧基矽烷、烯丙基甲基二乙醯氧基矽烷、烯丙基乙基二甲氧基矽烷、烯丙基乙基二乙氧基矽烷、烯丙基乙基二－n－丙氧基矽烷、烯丙基乙基二－i－丙氧基矽烷、烯丙基乙基二乙醯氧基矽烷、烯丙基乙基二(甲 氧基乙氧基)矽烷、烯丙基苯基二甲氧基矽烷、烯丙基苯基二乙氧基矽烷、烯丙基苯基二－n－丙氧基矽烷、烯丙基苯基二－i－丙氧基矽烷、烯丙基苯基二乙醯氧基矽烷、烯丙基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷等；含有(甲基)丙烯醯基之化合物(1)之具體例有3－(甲基)丙烯醯氧基甲基三甲氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基甲基三乙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基甲基三－n－丙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基甲基三－i－丙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基甲基三乙醯氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基甲基甲基二甲氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基甲基甲基二乙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基甲基甲基二－n－丙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基甲基甲基二－i－丙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基甲基甲基二乙醯氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基甲基乙基二甲氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基甲基乙基二乙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基甲基乙基二－n－丙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基甲基乙基二－i－丙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基甲基乙基二乙醯氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基甲基苯基二甲氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基甲基苯基二乙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基甲基苯基二－n－丙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基甲基苯基二－i－丙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基甲基苯基二乙醯氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基乙基三甲氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基乙基三乙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基乙基三－n－丙氧 基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基乙基三－i－丙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基乙基三乙醯氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基乙基甲基二甲氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基乙基甲基二乙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基乙基甲基二－n－丙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基乙基甲基二－i－丙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基乙基甲基二乙醯氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基乙基乙基二甲氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基乙基乙基二乙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基乙基乙基二－n－丙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基乙基乙基二－i－丙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基乙基乙基二乙醯氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基乙基苯基二甲氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基乙基苯基二乙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基乙基苯基二－n－丙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基乙基苯基二－i－丙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基乙基苯基二乙醯氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基丙基三－n－丙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基丙基三－i－丙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基丙基三乙醯氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基丙基甲基二－n－丙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基丙基甲基二－i－丙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基丙基甲基二乙醯氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基丙基乙基二甲氧基矽烷、3－(甲基) 丙烯醯氧基丙基乙基二乙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基丙基乙基二－n－丙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基丙基乙基二－i－丙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基丙基乙基二乙醯氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基丙基苯基二甲氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基丙基苯基二乙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基丙基苯基二－n－丙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基丙基苯基二－i－丙氧基矽烷、3－(甲基)丙烯醯氧基丙基苯基二乙醯氧基矽烷等；含有羧基之化合物(1)之具體例，例如有羧甲基三甲氧基矽烷、羧甲基三乙氧基矽烷、羧甲基三－n－丙氧基矽烷、羧甲基三－i－丙氧基矽烷、羧甲基三乙醯氧基矽烷、羧甲基三(甲氧基乙氧基)矽烷、羧甲基甲基二甲氧基矽烷、羧甲基甲基二乙氧基矽烷、羧甲基甲基二－n－丙氧基矽烷、羧甲基甲基二－i－丙氧基矽烷、羧甲基甲基二乙醯氧基矽烷、羧甲基乙基二甲氧基矽烷、羧甲基乙基二乙氧基矽烷、羧甲基乙基二－n－丙氧基矽烷、羧甲基乙基二－i－丙氧基矽烷、羧甲基乙基二乙醯氧基矽烷、羧甲基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、羧甲基苯基二甲氧基矽烷、羧甲基苯基二乙氧基矽烷、羧甲基苯基二－n－丙氧基矽烷、羧甲基苯基二－i－丙氧基矽烷、羧甲基苯基二乙醯氧基矽烷、羧甲基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷、2－羧乙基三甲氧基矽烷、2－羧乙基三乙氧基矽烷、2－羧乙基三－n－丙氧基矽烷、2－羧乙基三－i－丙氧基矽烷、2－羧乙基三乙醯氧基矽烷、2－羧乙基三(甲氧基乙氧基)矽烷、2－羧乙基甲基二甲氧基矽烷、 2－羧乙基甲基二乙氧基矽烷、2－羧乙基甲基二－n－丙氧基矽烷、2－羧乙基甲基二－i－丙氧基矽烷、2－羧乙基甲基二乙醯氧基矽烷、2－羧乙基乙基二甲氧基矽烷、2－羧乙基乙基二乙氧基矽烷、2－羧乙基乙基二－n－丙氧基矽烷、2－羧乙基乙基二－i－丙氧基矽烷、2－羧乙基乙基二乙醯氧基矽烷、2－羧乙基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、2－羧乙基苯基二甲氧基矽烷、2－羧乙基苯基二乙氧基矽烷、2－羧乙基苯基二－n－丙氧基矽烷、2－羧乙基苯基二－i－丙氧基矽烷、2－羧乙基苯基二乙醯氧基矽烷、2－羧乙基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷等；含有羥基之化合物(1)之具體例，例如有羥甲基三甲氧基矽烷、羥甲基三乙氧基矽烷、羥甲基三－n－丙氧基矽烷、羥甲基三－i－丙氧基矽烷、羥甲基三乙醯氧基矽烷、羥甲基三(甲氧基乙氧基)矽烷、羥甲基甲基二甲氧基矽烷、羥甲基甲基二乙氧基矽烷、羥甲基甲基二－n－丙氧基矽烷、羥甲基甲基二－i－丙氧基矽烷、羥甲基甲基二乙醯氧基矽烷、羥甲基乙基二甲氧基矽烷、羥甲基乙基二乙氧基矽烷、羥甲基乙基二－n－丙氧基矽烷、羥甲基乙基二－i－丙氧基矽烷、羥甲基乙基二乙醯氧基矽烷、羥甲基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、羥甲基苯基二甲氧基矽烷、羥甲基苯基二乙氧基矽烷、羥甲基苯基二－n－丙氧基矽烷、羥甲基苯基二－i－丙氧基矽烷、羥甲基苯基二乙醯氧基矽烷、羥甲基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷、2－羥乙基三甲氧基矽烷、2－羥乙基三乙氧基矽烷、2－羥乙基三－n－丙氧基矽烷、2－羥乙 基三－i－丙氧基矽烷、2－羥乙基三乙醯氧基矽烷、2－羥乙基三(甲氧基乙氧基)矽烷、2－羥乙基甲基二甲氧基矽烷、2－羥乙基甲基二乙氧基矽烷、2－羥乙基甲基二－n－丙氧基矽烷、2－羥乙基甲基二－i－丙氧基矽烷、2－羥乙基甲基二乙醯氧基矽烷、2－羥乙基乙基二甲氧基矽烷、2－羥乙基乙基二乙氧基矽烷、2－羥乙基乙基二－n－丙氧基矽烷、2－羥乙基乙基二－i－丙氧基矽烷、2－羥乙基乙基二乙醯氧基矽烷、2－羥乙基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、2－羥乙基苯基二甲氧基矽烷、2－羥乙基苯基二乙氧基矽烷、2－羥乙基苯基二－n－丙氧基矽烷、2－羥乙基苯基二－i－丙氧基矽烷、2－羥乙基苯基二乙醯氧基矽烷、2－羥乙基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷、3－羥丙基三甲氧基矽烷、3－羥丙基三乙氧基矽烷、3－羥丙基三－n－丙氧基矽烷、3－羥丙基三－i－丙氧基矽烷、3－羥丙基三乙醯氧基矽烷、3－羥丙基三(甲氧基乙氧基)矽烷、3－羥丙基甲基二甲氧基矽烷、3－羥丙基甲基二乙氧基矽烷、3－羥丙基甲基二－n－丙氧基矽烷、3－羥丙基甲基二－i－丙氧基矽烷、3－羥丙基甲基二乙醯氧基矽烷、3－羥丙基乙基二甲氧基矽烷、3－羥丙基乙基二乙氧基矽烷、3－羥丙基乙基二－n－丙氧基矽烷、3－羥丙基乙基二－i－丙氧基矽烷、3－羥丙基乙基二乙醯氧基矽烷、3－羥丙基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、3－羥丙基苯基二甲氧基矽烷、3－羥丙基苯基二乙氧基矽烷、3－羥丙基苯基二－n－丙氧基矽烷、3－羥丙基苯基二－i－丙氧基矽烷、3－羥丙基苯基二乙醯氧基矽烷、3－羥丙基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷、4－羥基－(p－羥苯基羰 氧基)苄基三甲氧基矽烷、4－羥基－(p－羥苯基羰氧基)苄基三乙氧基矽烷、4－羥基－(p－羥苯基羰氧基)苄基三－n－丙氧基矽烷、4－羥基－(p－羥苯基羰氧基)苄基三－i－丙氧基矽烷、4－羥基－(p－羥苯基羰氧基)苄基三乙醯氧基矽烷、4－羥基－(p－羥苯基羰氧基)苄基三(甲氧基乙氧基)矽烷、4－羥基－(p－羥苯基羰氧基)苄基甲基二甲氧基矽烷、4－羥基－(p－羥苯基羰氧基)苄基甲基二乙氧基矽烷、4－羥基－(p－羥苯基羰氧基)苄基甲基二－n－丙氧基矽烷、4－羥基－(p－羥苯基羰氧基)苄基甲基二－i－丙氧基矽烷、4－羥基－(p－羥苯基羰氧基)苄基甲基二乙醯氧基矽烷、4－羥基－(p－羥苯基羰氧基)苄基乙基二甲氧基矽烷、4－羥基－(p－羥苯基羰氧基)苄基乙基二乙氧基矽烷、4－羥基－(p－羥苯基羧氧基)苄基乙基二－n－丙氧基矽烷、4－羥基－(p－羥苯基羰氧基)苄基乙基二－i－丙氧基矽烷、4－羥基－(p－羥苯基羰氧基)苄基乙基二乙醯氧基矽烷、4－羥基－(p－羥苯基羰氧基)苄基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、4－羥基－(p－羥苯基羰氧基)苄基苯基二甲氧基矽烷、4－羥基－(p－羥苯基羰氧基)苄基苯基二乙氧基矽烷、4－羥基－(p－羥苯基羰氧基)苄基苯基二－n－丙氧基矽烷、4－羥基－(p－羥苯基羰氧基)苄基苯基二－i－丙氧基矽烷、4－羥基－(p－羥苯基羰氧基)苄基苯基二乙醯氧基矽烷、4－羥基－(p－羥苯基羰氧基)苄基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷等；含有氫硫基之化合物(1)之具體例，例如有氫硫基甲基三甲氧基矽烷、氫硫基甲基三乙氧基矽烷、氫硫基甲 基三－n－丙氧基矽烷、氫硫基甲基三－i－丙氧基矽烷、氫硫基甲基三乙醯氧基矽烷、氫硫基甲基三(甲氧基乙氧基)矽烷、氫硫基甲基甲基二甲氧基矽烷、氫硫基甲基甲基二乙氧基矽烷、氫硫基甲基甲基二－n－丙氧基矽烷、氫硫基甲基甲基二－i－丙氧基矽烷、氫硫基甲基甲基二乙醯氧基矽烷、氫硫基甲基乙基二甲氧基矽烷、氫硫基甲基乙基二乙氧基矽烷、氫硫基甲基乙基二－n－丙氧基矽烷、氫硫基甲基乙基二－i－丙氧基矽烷、氫硫基甲基乙基二乙醯氧基矽烷、氫硫基甲基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、氫硫基甲基苯基二甲氧基矽烷、氫硫基甲基苯基二乙氧基矽烷、氫硫基甲基苯基二－n－丙氧基矽烷、氫硫基甲基苯基二－i－丙氧基矽烷、氫硫基甲基苯基二乙醯氧基矽烷、氫硫基甲基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷、2－氫硫基乙基三甲氧基矽烷、2－氫硫基乙基三乙氧基矽烷、2－氫硫基乙基三－n－丙氧基矽烷、2－氫硫基乙基三－i－丙氧基矽烷、2－氫硫基乙基三乙醯氧基矽烷、2－氫硫基乙基三(甲氧基乙氧基)矽烷、2－氫硫基乙基甲基二甲氧基矽烷、2－氫硫基乙基甲基二乙氧基矽烷、2－氫硫基乙基甲基二－n－丙氧基矽烷、2－氫硫基乙基甲基二－i－丙氧基矽烷、2－氫硫基乙基甲基二乙醯氧基矽烷、2－氫硫基乙基乙基二甲氧基矽烷、2－氫硫基乙基乙基二乙氧基矽烷、2－氫硫基乙基乙基二－n－丙氧基矽烷、2－氫硫基乙基乙基二－i－丙氧基矽烷、2－氫硫基乙基乙基二乙醯氧基矽烷、2－氫硫基乙基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、2－氫硫基乙基苯基二甲氧基矽烷、2－氫硫基乙基苯基二乙氧基 矽烷、2－氫硫基乙基苯基二－n－丙氧基矽烷、2－氫硫基乙基苯基二－i－丙氧基矽烷、2－氫硫基乙基苯基二乙醯氧基矽烷、2－氫硫基乙基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷、3－氫硫基丙基三甲氧基矽烷、3－氫硫基丙基三乙氧基矽烷、3－氫硫基丙基三－n－丙氧基矽烷、3－氫硫基丙基三－i－丙氧基矽烷、3－氫硫基丙基三乙醯氧基矽烷、3－氫硫基丙基三(甲氧基乙氧基)矽烷、3－氫硫基丙基甲基二甲氧基矽烷、3－氫硫基丙基甲基二乙氧基矽烷、3－氫硫基丙基甲基二－n－丙氧基矽烷、3－氫硫基丙基甲基二－i－丙氧基矽烷、3－氫硫基丙基甲基二乙醯氧基矽烷、3－氫硫基丙基乙基二甲氧基矽烷、3－氫硫基丙基乙基二乙氧基矽烷、3－氫硫基丙基乙基二－n－丙氧基矽烷、3－氫硫基丙基乙基二－i－丙氧基矽烷、3－氫硫基丙基乙基二乙醯氧基矽烷、3－氫硫基丙基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、3－氫硫基丙基苯基二甲氧基矽烷、3－氫硫基丙基苯基二乙氧基矽烷、3－氫硫基丙基苯基二－n－丙氧基矽烷、3－氫硫基丙基苯基二－i－丙氧基矽烷、3－氫硫基丙基苯基二乙醯氧基矽烷、3－氫硫基丙基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷等；含有異氰酸酯基之化合物(1)之具體例，例如有異氰酸酯甲基三甲氧基矽烷、異氰酸酯甲基三乙氧基矽烷、異氰酸酯甲基三－n－丙氧基矽烷、異氰酸酯甲基三－i－丙氧基矽烷、異氰酸酯甲基三乙醯氧基矽烷、異氰酸酯甲基三(甲氧基乙氧基)矽烷、異氰酸酯甲基甲基二甲氧基矽烷、異氰酸酯甲基甲基二乙氧基矽烷、異氰酸酯甲基甲基 二－n－丙氧基矽烷、異氰酸酯甲基甲基二－i－丙氧基矽烷、異氰酸酯甲基甲基二乙醯氧基矽烷、異氰酸酯甲基乙基二甲氧基矽烷、異氰酸酯甲基乙基二乙氧基矽烷、異氰酸酯甲基乙基二－n－丙氧基矽烷、異氰酸酯甲基乙基二－i－丙氧基矽烷、異氰酸酯甲基乙基二乙醯氧基矽烷、異氰酸酯甲基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、異氰酸酯甲基苯基二甲氧基矽烷、異氰酸酯甲基苯基二乙氧基矽烷、異氰酸酯甲基苯基二－n－丙氧基矽烷、異氰酸酯甲基苯基二－i－丙氧基矽烷、異氰酸酯甲基苯基二乙醯氧基矽烷、異氰酸酯甲基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷、2－異氰酸酯乙基三甲氧基矽烷、2－異氰酸酯乙基三乙氧基矽烷、2－異氰酸酯乙基三－n－丙氧基矽烷、2－異氰酸酯乙基三－i－丙氧基矽烷、2－異氰酸酯乙基三乙醯氧基矽烷、2－異氰酸酯乙基三(甲氧基乙氧基)矽烷、2－異氰酸酯乙基甲基二甲氧基矽烷、2－異氰酸酯乙基甲基二乙氧基矽烷、2－異氰酸酯乙基甲基二－n－丙氧基矽烷、2－異氰酸酯乙基甲基二－i－丙氧基矽烷、2－異氰酸酯乙基甲基二乙醯氧基矽烷、2－異氰酸酯乙基乙基二甲氧基矽烷、2－異氰酸酯乙基乙基二乙氧基矽烷、2－異氰酸酯乙基乙基二－n－丙氧基矽烷、2－異氰酸酯乙基乙基二－i－丙氧基矽烷、2－異氰酸酯乙基乙基二乙醯氧基矽烷、2－異氰酸酯乙基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、2－異氰酸酯乙基苯基二甲氧基矽烷、2－異氰酸酯乙基苯基二乙氧基矽烷、2－異氰酸酯乙基苯基二－n－丙氧基矽烷、2－異氰酸酯乙基苯基二－i－丙氧基矽烷、2－異氰酸酯乙基苯基二乙醯氧基矽烷 、2－異氰酸酯乙基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷、3－異氰酸酯丙基三甲氧基矽烷、3－異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、3－異氰酸酯丙基三－n－丙氧基矽烷、3－異氰酸酯丙基三－i－丙氧基矽烷、3－異氰酸酯丙基三乙醯氧基矽烷、3－異氰酸酯丙基三(甲氧基乙氧基)矽烷、3－異氰酸酯丙基甲基二甲氧基矽烷、3－異氰酸酯丙基甲基二乙氧基矽烷、3－異氰酸酯丙基甲基二－n－丙氧基矽烷、3－異氰酸酯丙基甲基二－i－丙氧基矽烷、3－異氰酸酯丙基甲基二乙醯氧基矽烷、3－異氰酸酯丙基乙基二甲氧基矽烷、3－異氰酸酯丙基乙基二乙氧基矽烷、3－異氰酸酯丙基乙基二－n－丙氧基矽烷、3－異氰酸酯丙基乙基二－i－丙氧基矽烷、3－異氰酸酯丙基乙基二乙醯氧基矽烷、3－異氰酸酯丙基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、3－異氰酸酯丙基苯基二甲氧基矽烷、3－異氰酸酯丙基苯基二乙氧基矽烷、3－異氰酸酯丙基苯基二－n－丙氧基矽烷、3－異氰酸酯丙基苯基二－i－丙氧基矽烷、3－異氰酸酯丙基苯基二乙醯氧基矽烷、3－異氰酸酯丙基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷等；含有胺基之化合物(1)之具體例，例如有胺基甲基三甲氧基矽烷、胺基甲基三乙氧基矽烷、胺基甲基三－n－丙氧基矽烷、胺基甲基三－i－丙氧基矽烷、胺基甲基三乙醯氧基矽烷、胺基甲基三(甲氧基乙氧基)矽烷、胺基甲基甲基二甲氧基矽烷、胺基甲基甲基二乙氧基矽烷、胺基甲基甲基二－n－丙氧基矽烷、胺基甲基甲基二－i－丙氧基矽烷、胺基甲基甲基二乙醯氧基矽烷、胺基甲基乙基二甲氧基矽 烷、胺基甲基乙基二乙氧基矽烷、胺基甲基乙基二－n－丙氧基矽烷、胺基甲基乙基二－i－丙氧基矽烷、胺基甲基乙基二乙醯氧基矽烷、胺基甲基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、胺基甲基苯基二甲氧基矽烷、胺基甲基苯基二乙氧基矽烷、胺基甲基苯基二－n－丙氧基矽烷、胺基甲基苯基二－i－丙氧基矽烷、胺基甲基苯基二乙醯氧基矽烷、胺基甲基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷、2－胺基乙基三甲氧基矽烷、2－胺基乙基三乙氧基矽烷、2－胺基乙基三－n－丙氧基矽烷、2－胺基乙基三－i－丙氧基矽烷、2－胺基乙基三乙醯氧基矽烷、2－胺基乙基三(甲氧基乙氧基)矽烷、2－胺基乙基甲基二甲氧基矽烷、2－胺基乙基甲基二乙氧基矽烷、2－胺基乙基甲基二－n－丙氧基矽烷、2－胺基乙基甲基二－i－丙氧基矽烷、2－胺基乙基甲基二乙醯氧基矽烷、2－胺基乙基乙基二甲氧基矽烷、2－胺基乙基乙基二乙氧基矽烷、2－胺基乙基乙基二－n－丙氧基矽烷、2－胺基乙基乙基二－i－丙氧基矽烷、2－胺基乙基乙基二乙醯氧基矽烷、2－胺基乙基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、2－胺基乙基苯基二甲氧基矽烷、2－胺基乙基苯基二乙氧基矽烷、2－胺基乙基苯基二－n－丙氧基矽烷、2－胺基乙基苯基二－i－丙氧基矽烷、2－胺基乙基苯基二乙醯氧基矽烷、2－胺基乙基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷、3－胺基丙基三甲氧基矽烷、3－胺基丙基三乙氧基矽烷、3－胺基丙基三－n－丙氧基矽烷、3－胺基丙基三－i－丙氧基矽烷、3－胺基丙基三乙醯氧基矽烷、3－胺基丙基三(甲氧基乙氧基)矽烷、3－胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、3－胺基丙基甲基 二乙氧基矽烷、3－胺基丙基甲基二－n－丙氧基矽烷、3－胺基丙基甲基二－i－丙氧基矽烷、3－胺基丙基甲基二乙醯氧基矽烷、3－胺基丙基乙基二甲氧基矽烷、3－胺基丙基乙基二乙氧基矽烷、3－胺基丙基乙基二－n－丙氧基矽烷、3－胺基丙基乙基二－i－丙氧基矽烷、3－胺基丙基乙基二乙醯氧基矽烷、3－胺基丙基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、3－胺基丙基苯基二甲氧基矽烷、3－胺基丙基苯基二乙氧基矽烷、3－胺基丙基苯基二－n－丙氧基矽烷、3－胺基丙基苯基二－i－丙氧基矽烷、3－胺基丙基苯基二乙醯氧基矽烷、3－胺基丙基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷、N－2－(胺基乙基)－3－胺基丙基三甲氧基矽烷、N－2－(胺基乙基)－3－胺基丙基三乙氧基矽烷、N－2－(胺基乙基)－3－胺基丙基三－n－丙氧基矽烷、N－2－(胺基乙基)－3－胺基丙基三－i－丙氧基矽烷、N－2－(胺基乙基)－3－胺基丙基三乙醯氧基矽烷、N－2－(胺基乙基)－3－胺基丙基三(甲氧基乙氧基)矽烷、N－2－(胺基乙基)－3－胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N－2－(胺基乙基)－3－胺基丙基甲基二乙氧基矽烷、N－2－(胺基乙基)－3－胺基丙基甲基二－n－丙氧基矽烷、N－2－(胺基乙基)－3－胺基丙基甲基二－i－丙氧基矽烷、N－2－(胺基乙基)－3－胺基丙基甲基二乙醯氧基矽烷、N－2－(胺基乙基)－3－胺基丙基乙基二甲氧基矽烷、N－2－(胺基乙基)－3－胺基丙基乙基二乙氧基矽烷、N－2－(胺基乙基)－3－胺基丙基乙基二－n－丙氧基矽烷、N－2－(胺基乙基)－3－胺基丙基乙基二－i－丙氧基矽烷、N－2－(胺基乙基)－3－胺基丙基乙基二乙醯氧基矽烷、N－2－(胺 基乙基)－3－胺基丙基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、N－2－(胺基乙基)－3－胺基丙基苯基二甲氧基矽烷、N－2－(胺基乙基)－3－胺基丙基苯基二乙氧基矽烷、N－2－(胺基乙基)－3－胺基丙基苯基二－n－丙氧基矽烷、N－2－(胺基乙基)－3－胺基丙基苯基二－i－丙氧基矽烷、N－2－(胺基乙基)－3－胺基丙基苯基二乙醯氧基矽烷、N－2－(胺基乙基)－3－胺基丙基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷、N－苯基－3－胺基丙基三甲氧基矽烷、N－苯基－3－胺基丙基三乙氧基矽烷、N－苯基－3－胺基丙基三－n－丙氧基矽烷、N－苯基－3－胺基丙基三－i－丙氧基矽烷、N－苯基－3－胺基丙基三乙醯氧基矽烷、N－苯基－3－胺基丙基三(甲氧基乙氧基)矽烷、N－苯基－3－胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N－苯基－3－胺基丙基甲基二乙氧基矽烷、N－苯基－3－胺基丙基甲基二－n－丙氧基矽烷、N－苯基－3－胺基丙基甲基二－i－丙氧基矽烷、N－苯基－3－胺基丙基甲基二乙醯氧基矽烷、N－苯基－3－胺基丙基乙基二甲氧基矽烷、N－苯基－3－胺基丙基乙基二乙氧基矽烷、N－苯基－3－胺基丙基乙基二－n－丙氧基矽烷、N－苯基－3－胺基丙基乙基二－i－丙氧基矽烷、N－苯基－3－胺基丙基乙基二乙醯氧基矽烷、N－苯基－3－胺基丙基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、N－苯基－3－胺基丙基苯基二甲氧基矽烷、N－苯基－3－胺基丙基苯基二乙氧基矽烷、N－苯基－3－胺基丙基苯基二－n－丙氧基矽烷、N－苯基－3－胺基丙基苯基二－i－丙氧基矽烷、N－苯基－3－胺基丙基苯基二乙醯氧基矽烷、N－苯基－3－胺基丙基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷、3－三甲氧基甲矽烷基－N－(1,3－ 二甲基－亞丁基)丙基胺、3－三乙氧基甲矽烷基－N－(1,3－二甲基－亞丁基)丙基胺、3－三－n－丙氧基甲矽烷基－N－(1,3－二甲基－亞丁基)丙基胺等；含有脲基之化合物(1)之具體例，例如有脲基甲基三甲氧基矽烷、脲基甲基三乙氧基矽烷、脲基甲基三－n－丙氧基矽烷、脲基甲基三－i－丙氧基矽烷、脲基甲基三乙醯氧基矽烷、脲基甲基三(甲氧基乙氧基)矽烷、脲基甲基甲基二甲氧基矽烷、脲基甲基甲基二乙氧基矽烷、脲基甲基甲基二－n－丙氧基矽烷、脲基甲基甲基二－i－丙氧基矽烷、脲基甲基甲基二乙醯氧基矽烷、脲基甲基乙基二甲氧基矽烷、脲基甲基乙基二乙氧基矽烷、脲基甲基乙基二－n－丙氧基矽烷、脲基甲基乙基二－i－丙氧基矽烷、脲基甲基乙基二乙醯氧基矽烷、脲基甲基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、脲基甲基苯基二甲氧基矽烷、脲基甲基苯基二乙氧基矽烷、脲基甲基苯基二－n－丙氧基矽烷、脲基甲基苯基二－i－丙氧基矽烷、脲基甲基苯基二乙醯氧基矽烷、脲基甲基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷、2－脲基乙基三甲氧基矽烷、2－脲基乙基三乙氧基矽烷、2－脲基乙基三－n－丙氧基矽烷、2－脲基乙基三－i－丙氧基矽烷、2－脲基乙基三乙醯氧基矽烷、2－脲基乙基三(甲氧基乙氧基)矽烷、2－脲基乙基甲基二甲氧基矽烷、2－脲基乙基甲基二乙氧基矽烷、2－脲基乙基甲基二－n－丙氧基矽烷、2－脲基乙基甲基二－i－丙氧基矽烷、2－脲基乙基甲基二乙醯氧基矽烷、2－脲基乙基乙基二甲氧基矽烷、2－脲基乙基乙基二乙氧基矽烷、2－脲基乙基乙基 二－n－丙氧基矽烷、2－脲基乙基乙基二－i－丙氧基矽烷、2－脲基乙基乙基二乙醯氧基矽烷、2－脲基乙基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、2－脲基乙基苯基二甲氧基矽烷、2－脲基乙基苯基二乙氧基矽烷、2－脲基乙基苯基二－n－丙氧基矽烷、2－脲基乙基苯基二－i－丙氧基矽烷、2－脲基乙基苯基二乙醯氧基矽烷、2－脲基乙基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷、3－脲基丙基三甲氧基矽烷、3－脲基丙基三乙氧基矽烷、3－脲基丙基三－n－丙氧基矽烷、3－脲基丙基三－i－丙氧基矽烷、3－脲基丙基三乙醯氧基矽烷、3－脲基丙基三(甲氧基乙氧基)矽烷、3－脲基丙基甲基二甲氧基矽烷、3－脲基丙基甲基二乙氧基矽烷、3－脲基丙基甲基二－n－丙氧基矽烷、3－脲基丙基甲基二－i－丙氧基矽烷、3－脲基丙基甲基二乙醯氧基矽烷、3－脲基丙基乙基二甲氧基矽烷、3－脲基丙基乙基二乙氧基矽烷、3－脲基丙基乙基二－n－丙氧基矽烷、3－脲基丙基乙基二－i－丙氧基矽烷、3－脲基丙基乙基二乙醯氧基矽烷、3－脲基丙基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、3－脲基丙基苯基二甲氧基矽烷、3－脲基丙基苯基二乙氧基矽烷、3－脲基丙基苯基二－n－丙氧基矽烷、3－脲基丙基苯基二－i－丙氧基矽烷、3－脲基丙基苯基二乙醯氧基矽烷、3－脲基丙基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷等；含有苯乙烯基之化合物(1)之具體例，例如有苯乙烯基三甲氧基矽烷、苯乙烯基三乙氧基矽烷、苯乙烯基三－n－丙氧基矽烷、苯乙烯基三－i－丙氧基矽烷、苯乙烯基三乙醯氧基矽烷、苯乙烯基三(甲氧基乙氧基)矽烷、苯 乙烯基甲基二甲氧基矽烷、苯乙烯基甲基二乙氧基矽烷、苯乙烯基甲基二－n－丙氧基矽烷、苯乙烯基甲基二－i－丙氧基矽烷、苯乙烯基甲基二乙醯氧基矽烷、苯乙烯基乙基二甲氧基矽烷、苯乙烯基乙基二乙氧基矽烷、苯乙烯基乙基二－n－丙氧基矽烷、苯乙烯基乙基二－i－丙氧基矽烷、苯乙烯基乙基二乙醯氧基矽烷、苯乙烯基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、苯乙烯基苯基二甲氧基矽烷、苯乙烯基苯基二乙氧基矽烷、苯乙烯基苯基二－n－丙氧基矽烷、苯乙烯基苯基二－i－丙氧基矽烷、苯乙烯基苯基二乙醯氧基矽烷、苯乙烯基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷等。
這些中，較佳為使用含有環氧基、氧環丁基、羥基、氫硫基之化合物(1)，從與[A]成分之反應性及保存安定性的觀點，特佳為3－環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3－環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3－環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3－環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、2－(3,4－環氧基環己基)乙基三乙氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)丙基三甲氧基矽烷、(3－乙基氧環丁烷－3－基)丙基三乙氧基矽烷、3－氫硫基丙基三甲氧基矽烷、3－氫硫基丙基三乙氧基矽烷。
化合物(2)之具體例如四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷(通稱TEOS)、四－n－丙氧基矽烷、四異丙氧基矽烷、四－n－丁氧基矽烷之四烷氧基矽烷；如甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、甲基三－n－丙氧基矽烷、乙基三乙氧基 矽烷、環己基三乙氧基矽烷之單烷基三烷氧基矽烷；如苯基三乙氧基矽烷、萘基三乙氧基矽烷、4－氯苯基三乙氧基矽烷、4－氰苯基三乙氧基矽烷、4－胺基苯基三乙氧基矽烷、4－硝基苯基三乙氧基矽烷、4－甲基苯基三乙氧基矽烷、4－羥苯基三乙氧基矽烷之單芳基三烷氧基矽烷；如苯氧基三乙氧基矽烷、萘氧基三乙氧基矽烷、4－氯苯氧基三乙氧基矽烷、4－氰基苯基三氧基乙氧基矽烷、4－胺基苯基氧基三乙氧基矽烷、4－硝基苯基氧基三乙氧基矽烷、4－甲基苯基氧基三乙氧基矽烷、4－羥苯基氧基三乙氧基矽烷之單芳氧基三烷氧基矽烷；如單羥基三甲氧基矽烷、單羥基三乙氧基矽烷、單羥基三－n－丙氧基矽烷之單羥基三烷氧基矽烷；如二甲基二甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、二甲基二－n－丙氧基矽烷、甲基(乙基)二乙氧基矽烷、甲基(環己基)二乙氧基矽烷之二烷基二烷氧基矽烷；如甲基(苯基)二乙氧基矽烷之單烷基單芳基二烷氧基矽烷；如二苯基二乙氧基矽烷之二芳基二烷氧基矽烷；如二苯氧基二乙氧基矽烷之二芳氧基二烷氧基矽烷；如甲基(苯氧基)二乙氧基矽烷之單烷基單芳氧基二烷氧基矽烷；如苯基(苯氧基)二乙氧基矽烷之單芳基單芳氧基二烷氧基矽烷；如二羥基二甲氧基矽烷、二羥基二乙氧基矽烷、二羥基二－n－丙氧基矽烷之二羥基二烷氧基矽烷；如甲基(羥基)二甲氧基矽烷之單烷基單羥基二烷氧基矽烷；如苯基(羥基)二甲氧基矽烷之單芳基單羥基二烷氧基矽烷；如三甲基甲氧基矽烷、三甲基乙氧基矽烷、三甲基－n－丙氧基矽烷、二 甲基(乙基)乙氧基矽烷、二甲基(環己基)乙氧基矽烷之三烷基單烷氧基矽烷；如二甲基(苯基)乙氧基矽烷之二烷基單芳基單烷氧基矽烷；如甲基(二苯基)乙氧基矽烷之單烷基二芳基單烷氧基矽烷；如三苯氧基乙氧基矽烷之三芳氧基單烷氧基矽烷；如甲基(二苯氧基)乙氧基矽烷之單烷基二芳氧基單烷氧基矽烷；如苯基(二苯氧基)乙氧基矽烷之單芳基二芳氧基單烷氧基矽烷；如二甲基(苯氧基)乙氧基矽烷之二烷基單芳氧基單烷氧基矽烷；如二苯基(苯氧基)乙氧基矽烷之二芳基單芳氧基單烷氧基矽烷；如甲基(苯基)(苯氧基)乙氧基矽烷之單烷基單芳基單芳氧基單烷氧基矽烷；如三羥基甲氧基矽烷、三羥基乙氧基矽烷、三羥基－n－丙氧基矽烷之三羥基單烷氧基矽烷。
這些中，從反應性、對基板之密著性的觀點，較佳為四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、二苯基二甲氧基矽烷、二苯基二乙氧基矽烷。
這些化合物可以任意組成併用任意之多種化合物。
將上述化合物付諸於共水解反應，可形成本發明使用之[C]成分的矽氧烷低聚物I。
水解反應較佳為在適當之溶劑中進行。這種溶劑例如有甲醇、乙醇、n－丙醇、異丙醇、n－丁醇、異丁醇、t－丁醇、丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁酮、丙二醇單甲醚、丙 二醇甲醚乙酸酯、四氫呋喃、二噁烷、乙腈之水溶性溶劑或這些之水溶液。
這些之水溶性溶劑係在其後之步驟中被除去，因此較佳為甲醇、乙醇、n－丙醇、異丙醇、丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁酮、四氫呋喃等較低沸點者，從原料之溶解性的觀點，更佳為丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁酮等之酮類，最佳為甲基異丁酮。
合成〔C］成分之矽氧烷低聚物I之水解反應較佳為在酸觸媒或鹼觸媒的存在下進行。酸觸媒例如有鹽酸、硫酸、硝酸、甲酸、草酸、乙酸、三氟乙酸、三氟甲烷磺酸、酸性離子交換樹脂、各種路易斯酸等。鹼觸媒例如有氨、一級胺、二級胺、三級胺類、吡啶等含氮芳香族化合物、鹼性離子交換樹脂、氫氧化鈉等氫氧化物、碳酸鉀等碳酸鹽、乙酸鈉等羧酸鹽、各種路易斯鹼等。水的使用量、反應溫度、反應時間係適當設定。例如可採用下述條件。
水的使用量係對於下述上述式(1)或(2)表示之化合物中之烷氧基與鹵原子之合計量1莫耳，使用1.5莫耳以下，較佳為1莫耳以下，更佳為0.9莫耳以下的量。
反應溫度係40~200℃，較佳為50~150℃。
反應時間係30分鐘~24小時，更佳為1~12小時。
上述矽氧烷低聚物II係下述式(9)表示。
式中R21 ~R24 係相互獨立表示氫原子、烷基、環烷基、或下述式(10)表示之氧環丁基，m係1~10之整數。 但是R21 ~R24 之至少1個係下述式(10)表示之氧環丁基。
式中R25 、R13 、R14 、R15 及R16 係相互獨立表示氫原子、氟原子、碳數1~4之烷基、苯基或碳數1~4之全氟烷基，1係1~6之整數。
這些矽氧烷低聚物可藉由將下述式(11)及(12)表示之烷氧基矽烷經水解來製造。
Si(R17 )p (OR18 )q ………(11) 式中R17 係表示含有氧環丁基之取代基，R18 係表示氫原子或1價有機基，p係1~3之整數，q各自為0~3之整 數。但是p＋q＝4。
Si(R19 )x (OR20 )4－x ………(12) 式中R19 、R20 係表示不含氧環丁基之取代基，可相同或不同，各自為氫原子或1價有機基，x係0~3之整數。
上述式(11)及(12)之化合物係反應性矽氧烷低聚物。反應性矽氧烷低聚物係在具有氧環丁烷環與倍半矽氧烷構造之聚矽氧烷中導入聚矽氧構造者，降低該聚矽氧烷中之氧環丁基濃度，在不降低倍半矽氧烷化合物之分子量的情況下，為了降低黏度，或藉由降低交聯密度使硬化收縮率下降，對於硬化物賦予密著性、耐藥品性，或對於硬化物賦予柔軟性所導入的。本發明之反應性矽氧烷低聚物較佳為具有直鏈狀或分支之線狀聚矽氧。
具有氧環丁基之化合物(11)的具體例，當p＝1時，例如有(氧環丁烷－3－基)甲基三甲氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基三乙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基三－n－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基三－i－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基三乙醯氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基甲基二甲氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基甲基二乙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基甲基二－n－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基甲基二－i－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基甲基二乙醯氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基乙基二甲氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基乙基二乙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基乙基二－n－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基乙基二－i－丙氧基矽烷、 (氧環丁烷－3－基)甲基乙基二乙醯氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基苯基二甲氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基苯基二乙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基苯基二－n－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基苯基二－i－丙氧基矽烷、(氧環丁烷－3－基)甲基苯基二乙醯氧基矽烷等。
p＝2時，例如有二(氧環丁烷－3－基)甲基二甲氧基矽烷、二(氧環丁烷－3－基)甲基二乙氧基矽烷、二(氧環丁烷－3－基)甲基二－n－丙氧基矽烷、二(氧環丁烷－3－基)甲基二－i－丙氧基矽烷、二(氧環丁烷－3－基)甲基二乙醯氧基矽烷、二(氧環丁烷－3－基)甲基甲基甲氧基矽烷、二(氧環丁烷－3－基)甲基甲基乙氧基矽烷、二(氧環丁烷－3－基)甲基甲基－n－丙氧基矽烷、二(氧環丁烷－3－基)甲基甲基－i－丙氧基矽烷、二(氧環丁烷－3－基)甲基甲基乙醯氧基矽烷、二(氧環丁烷－3－基)甲基乙基甲氧基矽烷、二(氧環丁烷－3－基)甲基乙基乙氧基矽烷、二(氧環丁烷－3－基)甲基乙基－n－丙氧基矽烷、二(氧環丁烷－3－基)甲基乙基－i－丙氧基矽烷、二(氧環丁烷－3－基)甲基乙基乙醯氧基矽烷、二(氧環丁烷－3－基)甲基苯基甲氧基矽烷、二(氧環丁烷－3－基)甲基苯基乙氧基矽烷、二(氧環丁烷－3－基)甲基苯基－n－丙氧基矽烷、二(氧環丁烷－3－基)甲基苯基－i－丙氧基矽烷、二(氧環丁烷－3－基)甲基苯基乙醯氧基矽烷等。
p＝3時，例如有三(氧環丁烷－3－基)甲基甲氧基矽烷、三(氧環丁烷－3－基)甲基乙氧基矽烷、三(氧環丁烷－ 3－基)甲基－n－丙氧基矽烷、三(氧環丁烷－3－基)甲基－i－丙氧基矽烷、三(氧環丁烷－3－基)甲基乙醯氧基矽烷等。
具有氧環丁基之化合物(12)的具體例，例如有四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、甲基三丙氧基矽烷、甲基三異丙氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷、丙基三乙氧基矽烷、丁基三甲氧基矽烷、環乙基三甲氧基矽烷、三乙氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、二乙基二甲氧基矽烷、二乙基二乙氧基矽烷、二苯基二甲氧基矽烷、二苯基二乙氧基矽烷、甲基苯基二甲氧基矽烷、甲基苯基二乙氧基矽烷、三甲基矽烷醇、三乙基矽烷醇、三丙基矽烷醇、三丁基矽烷醇、三苯基矽烷醇、三甲基甲氧基矽烷、三甲基乙氧基矽烷、三乙基甲氧基矽烷、三乙基乙氧基矽烷、三丙基甲氧基矽烷、三丙基乙氧基矽烷、三甲基甲矽烷基乙酸酯、三甲基甲矽烷基苯酸酯、三乙基甲矽烷基乙酸酯、三乙基甲矽烷基苯酸酯、苄基二甲基甲氧基矽烷、苄基二甲基乙氧基矽烷、二苯基甲氧基甲基矽烷、二苯基乙氧基甲基矽烷、乙醯基三苯基矽烷、乙氧基三苯基矽烷、六甲基二矽氧烷、六乙基二甲基二矽氧烷、六丙基二矽氧烷、1,3－二丁基－1,1,3,3－四甲基二矽氧烷、1,3－二苯基－1,1,3,3－四甲基二矽氧烷、1,3－二甲基－1,1,3,3－四苯基二矽氧烷等。
其他成分
本發明之敏輻射線性樹脂組成物係含有上述共聚物[A]、[B]及[C]成分為必須成分，但是必要時可含有[D]感熱性酸生成化合物、[E]具有至少一個乙烯性不飽和雙鍵之聚合性化合物、[F]與共聚物[A]不同之其他之環氧樹脂、[G]界面活性劑、或[H]黏著助劑。
上述[D]感熱性酸生成化合物可用於提高耐熱性或硬度。其具體例如鋶鹽、苯并噻唑鎓鹽、銨鹽、鏻鹽等之鎓鹽。
上述鋶鹽之具體例如烷基鋶鹽、苄基鋶鹽、二苄基鋶鹽、取代苄基鋶鹽等。
這些之具體例，烷基鋶鹽例如有4－乙醯基苯基二甲基鋶六氟銻酸鹽、4－乙醯羥基苯基二甲基鋶六氟砷酸鹽、二甲基－4－(苄氧基羰氧基)苯基鋶六氟銻酸鹽、二甲基－4－(苯甲醯氧基)苯基鋶六氟銻酸鹽、二甲基－4－(苯甲醯氧基)苯基鋶六氟砷酸鹽、二甲基－3－氯－4－乙醯氧基苯基鋶六氟銻酸鹽等；苄基鋶鹽例如有苄基－4－羥基苯基甲基鋶六氟銻酸鹽、苄基－4－羥苯基甲基鋶六氟磷酸鹽、4－乙醯氧基苯基苄基甲基鋶六氟銻酸鹽、苄基－4－甲氧基苯基甲基鋶六氟銻酸鹽、苄基－2－甲基－4－羥苯基甲基鋶六氟銻酸鹽、苄基－3－氯－4－羥苯基甲基鋶六氟砷酸鹽、4－甲氧基苄基－4－羥苯基甲基鋶六氟磷酸鹽等；二苄基鋶鹽例如二苄基－4－羥苯基鋶六氟銻酸鹽、二苄 基－4－羥苯基鋶六氟磷酸鹽、4－乙醯氧基苯基二苄基鋶六氟銻酸鹽、二苄基－4－甲氧基苯基鋶六氟銻酸鹽、二苄基－3－氯－4－羥苯基鋶六氟砷酸鹽、二苄基－3－甲基－4－羥基－5－tert－丁基苯基鋶六氟銻酸鹽、苄基－4－甲氧基苄基－4－羥苯基鋶六氟磷酸鹽等；取代苄基鋶鹽例如對氯苄基－4－羥苯基甲基鋶六氟銻酸鹽、對硝基苄基－4－羥苯基甲基鋶六氟銻酸鹽、對氯苄基－4－羥苯基甲基鋶六氟磷酸鹽、對硝基苄基－3－甲基－4－羥苯基甲基鋶六氟銻酸鹽、3,5－二氯苄基－4－羥苯基甲基鋶六氟銻酸鹽、鄰－氯苄基－3－氯－4－羥苯基甲基鋶六氟銻酸鹽等。
上述苯并噻唑鎓鹽之具體例有3－苄基苯并噻唑鎓六氟銻酸鹽、3－苄基苯并噻唑鎓六氟磷酸鹽、3－苄基苯并噻唑鎓四氟硼酸鹽、3－(對－甲氧基苄基)苯并噻唑鎓六氟銻酸鹽、3－苄基－2－甲基硫代苯并噻唑鎓六氟銻酸鹽、3－苄基－5－氯苯并噻唑鎓六氟銻酸鹽等之苄基苯并噻唑鎓。
這些當中，較佳為使用鋶鹽及苯并噻唑鎓，特別是4－乙醯氧基苯基二甲基鋶六氟砷酸鹽、苄基－4－羥苯基甲基鋶六氟銻酸鹽、4－乙醯氧基苯基苄基甲基鋶六氟銻酸鹽、二苄基－4－羥苯基鋶六氟銻酸鹽、4－乙醯氧基苯基苄基鋶六氟銻酸鹽、3－苄基苯并噻唑鎓六氟銻酸鹽。
這些市售品例如有San－Aid SI－L85、SI－L110、SI－L145、SI－L150、SI－L160(三新化學工業(股)製造)等。
〔D］成分之使用比例係對於共聚物〔A］100重量份 時，理想為使用20重量份以下，更理想為5重量份以下。使用量超過20重量份時，在塗膜形成步驟中，有時會有析出物析出，影響塗膜形成的情形。
上述〔E］成分之具有至少1個乙烯性不飽和雙鍵之聚合性化合物，例如有單官能(甲基)丙烯酸酯、二官能(甲基)丙烯酸酯或三官能(甲基)丙烯酸酯。
上述單官能(甲基)丙烯酸酯，例如有2－羥乙基(甲基)丙烯酸酯、卡必醇(甲基)丙烯酸酯、異冰片基(甲基)丙烯酸酯、3－甲氧基丁基(甲基)丙烯酸酯、2－(甲基)丙烯醯氧基乙基－2－羥丙基苯二甲酸酯等。這些市售品，例如有Aronix M－101、M－111、M－114(東亞合成(股)製)、KAYARAD TC－110S、TC－120S(日本化藥(股)製造)、Viscoat 158、2311(大阪有機化學工業(股)製造)等。
上述二官能(甲基)丙烯酸酯例如有：乙二醇(甲基)丙烯酸酯、1,6－己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9－壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙苯氧基甲醇芴二丙烯酸酯、雙苯氧基乙醇芴二丙烯酸酯等。這些的市售品例如有：Aronix M－210、M－240、M－6200(東亞合成(股)製造)、KAYARAD HDDA、HX－220、R－604(日本化藥(股)製造)、Viscoat 260、312、335HP(大阪有機化學工業(股)製造)等。
上述三官能以上之(甲基)丙烯酸酯例如有：三羥甲 基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三((甲基)丙烯醯氧基乙基)磷酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等，其市售品例如有Aronix M－309、M－400、M－405、M－450、M－7100、M－8030、M－8060(東亞合成(股)製)、KAYARAD TMPTA、DPHA、DPCA－20、DPCA－30、DPCA－60、DPCA－120(日本化藥(股)製造)、Viscoat 295、300、360、GPT、3PA、400(大阪有機化學工業(股)製造)等。
這些較佳為使用三官能以上之(甲基)丙烯酸酯，其中特別理想為三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。
這些之單官能、二官能或三官能以上之(甲基)丙烯酸酯可單獨使用或組合使用。〔E］成分之使用比例係對於共聚物〔A］100重量份時，理想為使用50重量份以下，更理想為30重量份以下。
藉由含有此比例之〔E］成分，可提高由本發明之敏輻射線性樹脂組成物所製得之層間絕緣膜或微透鏡之耐熱性及表面硬度等。使用量超過50重量份時，在基板上形成敏輻射線性樹脂組成物之塗膜之步驟中，有時會產生塗膜粗糙的情形。
與上述〔F］成分之共聚物〔A］不同之其他的環氧樹脂只要不影響相溶性，則無特別限定。較佳為雙酚A型環 氧樹脂、酚酚醛清漆型環氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環氧樹脂、環狀脂肪族環氧樹脂、縮水甘油酯型環氧樹脂、縮水甘油基胺型環氧樹脂、雜環環氧樹脂、甲基丙烯酸縮水甘油酯之(共)聚合之樹脂等。其中較佳為雙酚A型環氧樹脂、甲酚型酚醛清漆環氧樹脂、縮水甘油基酯型環氧樹脂等。
〔F］成分之使用比例係對於共聚物〔A］100重量份，理想為使用30重量份以下。含有此比例之〔F］成分，可提高由本發明之敏輻射線性樹脂組成物所製得之保護膜或絕緣膜之耐熱性及表面硬度等。使用量超過30重量份時，在基板上形成敏輻射線性樹脂組成物之塗膜時，有時會產生塗膜之膜厚不均勻的情形。
共聚物〔A］也稱為「環氧樹脂」，但是在具有鹼可溶性方面，與〔F］成分不同。〔F］成分為鹼不溶性。
為了提高塗佈性，在本發明之敏輻射線性樹脂組成物中可使用〔G］界面活性劑。可使用之〔G］界面活性劑例如氟系界面活性劑、聚矽氧系界面活性劑及非離子界面活性劑。
氟系界面活性劑之具體例，例如1,1,2,2－四氟辛基(1,1,2,2－四氟丙基)醚、1,1,2,2－四氟辛基己醚、八甘醇二(1,1,2,2－四氟丁基)醚、六甘醇二(1,1,2,2,3,3－六氟戊基)醚、八丙二醇二(1,1,2,2－四氟丁基)醚、六丙二醇二(1,1,2,2,3,3－六氟戊基)醚、全氟十二烷基磺酸鈉、1,1,2,2,8,8,9,9,10,10－十氟十二烷、1,1,2,2,3,3－六氟癸烷 等，除此之外有氟烷基苯磺酸鈉；氟烷氧乙醚；氟烷基銨碘鎓、氟烷基聚氧乙醚、全氟烷基聚氧乙醇；全氟烷基烷氧醇酸酯；氟系烷酯類等。這些之市售品，例如有：BM－1000、BM－1100(BM Chemie公司)製造)、Megafac F142D、F172、F173、F183、F178、F191、F471(大日本油墨化學工業(股)製造)、Fulorad FC－170C、FC－171、FC－430、FC－431(住友3M(股)製造)、Surflon S－112、S－113、S－131、S－141、S－145、S－382、SC－101、SC－102、SC－103、SC－104、SC－105、SC－106(旭玻璃(股)製造)、F－TOP EF301、303、352(新秋田化成(股)製造)等。
上述聚矽氧系界面活性劑例如有DC－3PA、DC－7PA、FS－1265、SF－8428、SH11PA、SH21PA、SH28PA、SH29PA、SH30PA、SH－190、SH－193、SZ－6032(東麗．Dowcorning．Silicone(股)製造)、TSF－4440、TSF－4300、TSF－4445、TSF－4446、TSF－4460、TSF－4452(GE東芝Silicone(股)製造)等之商品名販售者。
上述非離子性系界面活性劑例如可使用聚氧乙烯月桂醚、聚氧乙烯硬脂醚、聚氧乙烯油醚等之聚氧乙烯烷醚類；聚氧乙烯辛基苯醚、聚氧乙烯壬基苯醚等之聚氧乙烯芳醚類；聚氧乙烯二月桂酯、聚氧乙烯二硬脂酯等之聚氧乙烯二烷酯類等；(甲基)丙烯酸系共聚物Polyflow No.57、95(共榮公司油脂化學工業(股)製造)等。
這些界面活性劑可單獨使用或組合兩種以上使用。
這些之〔G］界面活性劑係對於共聚物〔A］100重量份時，理想為使用5重量份以下，更理想為2重量份以下。〔G］界面活性劑之使用量超過5重量份時，在基板上形成塗膜時，有時容易生成塗膜之膜粗糙的情形。
本發明之敏輻射線性樹脂組成物中，為了提高與基體之黏著性，也可使用〔H］成份之黏著助劑。此種黏著助劑可使用官能性矽烷偶合劑，例如具有羧基、甲基丙烯醯基、異氰酸酯基、環氧基等之反應性取代基之矽烷偶合劑。具體而言，例如有三甲氧基甲矽烷基苯甲酸、γ－甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、γ－異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、γ－環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、β－(3,4－環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷等。此種〔H］成份之黏著助劑係對共聚物〔A］100重量份，理想為使用20重量份以下，更理想為10重量份以下。黏著助劑之使用量超過20重量份時，有時在顯影步驟中，容易產生顯影殘留的情形。
敏輻射線性樹脂組成物
本發明之敏輻射線性樹脂組成物係藉由均勻混合上述共聚物〔A］、〔B］成分及(C)及上述任意添加之其他成分來製備。通常，本發明之敏輻射線性樹脂組成物係溶解於適當的溶劑，以溶液狀態來使用。例如以所定比例混合共聚物〔A］、〔B］成分及(C)及任意添加之其他成分，可製備溶液狀態之敏輻射線性樹脂組成物。
製備本發明之敏輻射線性樹脂組成物所用的溶劑係使用可均勻溶解共聚物〔A］、〔B］成分及(C)及如上述任意添加之其他成分之各成分.，且不與各成分反應者。
這種溶媒例如有與製造上述共聚物〔A］使用之溶媒所例示者相同的溶媒。
這種溶媒中，從各成分之溶解性、與各成分之反應性、塗膜形成之容易度的觀點，可使用例如醇、乙二醇醚、乙二醇烷基醚乙酯、酯及二甘醇。其中特別理想為苄醇、2－苯基乙醇、3－苯基－1－丙醇、乙二醇單丁醚乙酸酯、二甘醇單乙醚乙酸酯、二甘醇二乙醚、二甘醇乙基甲醚、二甘醇二甲醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、甲氧基丙酸甲酯、乙氧基丙酸乙酯。
為了提高前述溶媒及膜厚之面內均勻性，因此可併用高沸點溶媒。可併用之高沸點溶媒例如有N－甲基甲醯胺、N,N－二甲基甲醯胺、N－甲基醯苯胺、N－甲基乙醯胺、N,N－二甲基乙醯胺、N－甲基吡咯烷酮、二甲基亞、苄基乙醚、二己醚、乙醯基丙酮、異佛爾酮、己酸、庚酸、1－辛醇、1－壬醇、乙酸苄酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、順丁烯二酸二乙酯、γ－丁內酯、碳酸乙烯酯、碳酸丙烯酯、苯基乙二醇乙醚乙酸酯等。其中較佳者為N－甲基吡咯烷酮、γ－丁內酯、N,N－二甲基乙醯胺。
本發明之敏輻射線性樹脂組成物之溶媒併用高沸點溶媒時，高沸點溶媒之使用量係對於全溶媒時，使用50重量%以下，理想為40重量%以下，更理想為30重量%以下 。高沸點溶媒之使用量超過此使用量時，有時塗膜之膜均勻性、感度及殘膜率會降低。
本發明之敏輻射線性樹脂組成物以溶液狀態製備時，溶液中所佔有之溶媒以外的成分(即共聚物〔A］、〔B］成分及〔C］成分及上述任意添加之其他成分之合計量)之比例可配合使用之目的或所要之膜厚之數值等任意設定，通常為5~50重量%，理想為10~40重量%，更理想為15~35重量%。
上述製備之組成物溶液係使用孔徑0.2μm左右之微孔過濾器等過濾後，可供使用。
層間絕緣膜、微透鏡之形成
其次說明使用本發明之敏輻射線性樹脂組成物，形成本發明之層間絕緣膜、微透鏡的形成方法。本發明之層間絕緣膜或微透鏡的形成方法係含有以下順序之下述步驟者，(1)基板上形成本發明之敏輻射線性樹脂組成物之塗膜的步驟，(2)將輻射線照射於該塗膜之至少一部份的步驟，(3)顯影步驟，(4)加熱步驟。
(1)基板上形成本發明之敏輻射線性樹脂組成物之塗膜的步驟 上述(1)之步驟中，在基板表面上塗佈本發明之組 成物溶液，較佳為藉由預烘烤去除溶劑，形成敏輻射線性樹脂組成物之塗膜。
可使用之基板的種類，例如有玻璃基板、矽晶圓及在這些之表面形成各種金屬的基板。
組成物溶液之塗佈方法無特別限定，例如可使用噴塗法、輥塗法、旋轉塗佈法、狹縫模具式塗佈法(Slit Die Coat)、棒塗法、噴墨法等各種方法。預烘烤之條件係因各成分之種類、使用比例而異，但通常為60~110℃、30秒~15分鐘。
所形成之塗膜之膜厚在預烘烤之數值，例如形成層間絕緣膜時為3~6μm，形成微透鏡時為0.5~3μm。
(2)將輻射線照射於該塗膜之至少一部份的步驟 上述(2)之步驟中，對於形成後之塗膜介由具有所定圖案之光罩，照射輻射線後，使用顯影液進行顯影處理去除輻射線之照射部份，形成圖案化。此時所用的輻射線，例如有紫外線、遠紫外線、X射線、荷電粒子線等。
上述紫外線例如有g射線(波長436nm)、i射線(波長365nm)等。遠紫外線例如有KrF準分子雷射等。X射線例如有同步加速器輻射線等。荷電粒子線例如有電子線等。
其中較理想為紫外線，特別理想為含有g射線及/或i射線之輻射線者。
形成層間絕緣膜時之曝光量較佳為50~1,500J/m2 ， 形成微透鏡時之曝光量較佳為50~2,000J/m2 。
(3)顯影步驟 顯影處理所用的顯影液例如可使用氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉、氨、乙胺、正丙胺、二乙胺、二乙基胺基乙醇、二正丙胺、三乙胺、甲基二乙胺、二甲基乙醇胺、三乙醇胺、氫氧化四甲銨、氫氧化四乙銨、吡咯、六氫化吡啶、1,8－二氮雜雙環〔5.4.0］－7－十一烯、1,5－二氮雜雙環〔4.3.0］－5－壬烷等之鹼(鹼性化合物)之水溶液。又上述鹼水溶液中添加適量之甲醇、乙醇等之水溶性有機溶劑或界面活性劑之水溶液，或溶解本發明之組成物之各種有機溶劑可作為顯影液使用。顯影方法可使用攪拌法、浸漬法、搖動浸漬法、噴灑法等之適當方法。此時之顯影時間係因組成物之組成而異，通常為30~120秒。
以往之敏輻射線性樹脂組成物，當顯影時間超過最適當顯影時間20~25秒時，所形成之圖案會產生剝離，因此必須嚴密控管顯影時間，但是本發明之敏輻射線性樹脂組成物，即使超過最適當顯影時間30秒以上，也可形成良好圖案，具有提高良率的優點。
(4)加熱步驟 如上述實施之(3)顯影步驟後，對於形成圖案後之薄膜，理想為進行例如利用流水清洗之清洗處理，更理想 為全面照射(後曝光)高壓水銀燈等之輻射線，對於各該薄膜中殘留之1,2－萘醌二疊氮化合物進行分解處理後，此薄膜利用加熱板、烘箱等加熱裝置對此薄膜實施加熱處理(後烘烤處理)，對該薄膜進行硬化處理。上述後曝光步驟之曝光量理想為2,000~5,000J/m2 。此硬化處理之燒結溫度，例如120~250℃。加熱時間係因加熱機器之種類而異，例如在熱板上進行加熱處理時，加熱時間為5~30分鐘，在烘箱進行加熱處理時，加熱時間為30~90分鐘。此時可使用2次以上之加熱步驟之階段烘烤法等。
如此可在基板表面上形成與目的之層間絕緣膜或微透鏡對應之圖案狀薄膜。
上述形成之層間絕緣膜及微透鏡由下述之實施例得知為密著性、耐熱性、耐溶劑性及透明性等優異者。
層間絕緣膜
如上述形成之本發明之層間絕緣膜對基板之密著性良好，且耐溶劑性及耐熱性優異，具有高穿透率，低介電率，適用於電子零件之層間絕緣膜。
微透鏡
如上述形成之本發明之微透鏡對基板之密著性良好，且耐溶劑性及耐熱性優異，具有高透過率及良好之熔融形狀，適用於固體攝影元件之微透鏡。
本發明之微透鏡的形狀如圖1(a)所示，為半凸透鏡 形狀。
本發明之敏輻射線性樹脂組成物係具高輻射線感度，具有在顯影步驟中即使超過最佳顯影時間，也可形成良好的圖案形狀之顯影安全係數，且容易形成密著性優異之圖案狀薄膜。
由上述組成物所形成之本發明之層間絕緣膜時係對基板之密著性良好，耐溶劑性及耐熱性優異，具有高透過率，低介電率者，適用於電子零件之層間絕緣膜。
由上述組成物所形成之本發明之微透鏡係對基板之密著性良好，耐溶劑性及耐熱性優異，具有高透過率與良好之熔融形狀者，適用於固體攝影元件之微透鏡。
 〔實施例］
以下以合成例、實施例更具體說明本發明，本發明不限於此以下之實施例。
共聚物〔A］之合成例 合成例1
將2,2’－偶氮雙(2,4－二甲基戊腈)7重量份、二甘醇乙基甲醚200重量份投入具備冷卻管、攪拌器之燒瓶中。接著添加甲基丙烯酸16重量份、甲基丙烯酸三環〔5.2.1.02,6 ］癸烷－8－基酯16重量份、2－甲基環己基丙烯酸酯20重量份、甲基丙烯酸縮水甘油酯40重量份、苯乙烯 10重量份及α－甲基苯乙烯二聚物3重量份，進行氮取代後，開始緩慢攪拌。將溶液之溫度上升至70℃，保持此溫度4小時，得到含共聚物[A－1]的聚合物溶液。
聚合物之重量平均分子量為8,000，分子量分布(重量平均分子量/數量平均分子量之比)為2.3。所得之聚合物溶液的固形份濃度為34.4重量%。
重量平均分子量及數量平均分子量係使用GPC(凝膠滲透色層分析法)(東曹(股)製HLC－8020)所測定的聚苯乙烯換算平均分子量。
合成例2
將2,2’－偶氮雙(2,4－二甲基戊腈)8重量份及二甘醇乙基甲醚220重量份投入具備冷卻管、攪拌器之燒瓶中。接著添加甲基丙烯酸11重量份、四氫糠基甲基丙烯酸酯12重量份、甲基丙烯酸縮水甘油酯40重量份、N－環己基馬來醯亞胺15重量份、月桂基甲基丙烯酸酯10重量份、α－甲基－p－羥基苯乙烯10重量份及α－甲基苯乙烯二聚物3重量份，進行氮取代後，開始緩慢攪拌。將溶液之溫度上升至70℃，保持此溫度5小時，得到含共聚物[A－2]的聚合物溶液。
聚合物之重量平均分子量為8,000，分子量分布(重量平均分子量/數量平均分子量之比)為2.3。所得之聚合物溶液的固形份濃度為31.9重量%。
合成例3
將2,2’－偶氮雙(2,4－二甲基戊腈)8重量份及二甘醇乙基甲醚220重量份投入具備冷卻管、攪拌器之燒瓶中。接著添加苯乙烯10重量份、甲基丙烯酸20重量份、甲基丙烯酸縮水甘油酯40重量份、(3－乙基氧環丁烷－3－基)甲基丙烯酸酯10重量份及甲基丙烯酸三環〔5.2.1.02,6 ］癸烷－8－基酯20重量份，進行氮取代後，開始緩慢攪拌。將溶液之溫度上升至70℃，保持此溫度5小時，得到含共聚物[A－3]的聚合物溶液。
聚合物之重量平均分子量為7,900，分子量分布(重量平均分子量/數量平均分子量之比)為2.4。所得之聚合物溶液的固形份濃度為31.6重量%。
合成例4
將2,2’－偶氮雙(2,4－二甲基戊腈)8重量份及二甘醇乙基甲醚220重量份投入具備冷卻管、攪拌器之燒瓶中。接著添加苯乙烯5重量份、甲基丙烯酸16重量份、甲基丙烯酸縮水甘油酯40重量份及N－(4－羥基苯基)甲基丙烯醯胺10重量份，進行氮取代後，添加1,3－丁二烯5重量份，開始緩慢攪拌。將溶液之溫度上升至70℃，保持此溫度5小時，得到含共聚物[A－4]的聚合物溶液。
聚合物之重量平均分子量為7,900，分子量分布(重量平均分子量/數量平均分子量之比)為2.4。所得之聚合物溶液的固形份濃度為31.5重量%。
合成例5
將2,2’－偶氮雙(2,4－二甲基戊腈)7重量份、丙二醇單甲醚乙酸酯220重量份投入具備冷卻管、攪拌器之燒瓶中。接著添加甲基丙烯酸22重量份、甲基丙烯酸縮水甘油酯40重量份、二環戊基甲基丙烯酸酯28重量份、3－乙基－3－甲基丙烯醯氧基甲基氧環丁烷10重量份、α－甲基苯乙烯二聚物3重量份，進行氮取代後，開始緩慢攪拌。將溶液之溫度上升至70℃，保持此溫度4小時，得到含共聚物[A－5]的聚合物溶液。所得之聚合物溶液的固形份濃度為31.8重量%，聚合物之重量平均分子量為17,900，分子量分布(重量平均分子量/數量平均分子量之比)為1.8。
合成例6
將2,2’－偶氮雙(2,4－二甲基戊腈)7重量份、二甘醇乙基甲醚220重量份投入具備冷卻管、攪拌器之燒瓶中。接著添加苯乙烯5重量份、甲基丙烯酸22重量份、甲基丙烯酸縮水甘油酯40重量份、3－乙基－3－甲基丙烯醯氧基甲基氧環丁烷5重量份、二環戊基甲基丙烯酸酯28重量份，進行氮取代後，開始緩慢攪拌。將溶液之溫度上升至70℃，保持此溫度4小時，得到含共聚物[A－6]的聚合物溶液。所得之聚合物溶液的固形份濃度為31.9重量%，聚合物之重量平均分子量為20,200，分子量分布(重量平均分子量/數量平均分子量之比)為1.9。
合成例7
將2,2’－偶氮雙(2,4－二甲基戊腈)7重量份、二甘醇乙基甲醚200重量份投入具備冷卻管、攪拌器之燒瓶中。接著添加甲基丙烯酸12重量份、環己基馬來醯亞胺12重量份、α－甲基－p－羥基苯乙烯9重量份、甲基丙烯酸縮水甘油酯50重量份、3－乙基－3－甲基丙烯醯氧基甲基氧環丁烷10重量份、四氫糠基甲基丙烯酸酯7重量份、α－甲基苯乙烯二聚物3重量份，進行氮取代後，開始緩慢攪拌。將溶液之溫度上升至70℃，保持此溫度5小時，得到含共聚物[A－7]的聚合物溶液。所得之聚合物溶液的固形份濃度為32.7重量%，聚合物之重量平均分子量為21,500，分子量分布(重量平均分子量/數量平均分子量之比)為2.2。
合成例8
將2,2’－偶氮雙(2,4－二甲基戊腈)8重量份、二甘醇乙基甲醚220重量份投入具備冷卻管、攪拌器之燒瓶中。接著添加苯乙烯20重量份、甲基丙烯酸30重量份、3－乙基－3－甲基丙烯醯氧基甲基氧環丁烷20重量份、甲基丙烯酸縮水甘油酯30重量份、α－甲基苯乙烯二聚物4.0重量份，進行氮取代後，開始緩慢攪拌。將溶液之溫度上升至70℃，保持此溫度5小時，得到含共聚物[A－8]的聚合物溶液。所得之聚合物溶液的固形份濃度為31.0重量%，聚合物之重量平均分子量為19,000，分子量分布(重量平均分 子量/數量平均分子量之比)為1.7。
比較合成例1
將2,2’－偶氮雙(2,4－二甲基戊腈)7重量份、二甘醇甲基乙醚220重量份投入具備冷卻管、攪拌器之燒瓶中。接著添加甲基丙烯酸23重量份、二環戊基甲基丙烯酸酯47重量份、甲基丙烯酸縮水甘油酯20重量份、α－甲基苯乙烯二聚物2.0重量份，進行氮取代後，開始緩慢攪拌。將溶液之溫度上升至70℃，保持此溫度5小時，得到含共聚物[A－1R]的聚合物溶液。所得之聚合物溶液的固形份濃度為32.8重量%，聚合物之重量平均分子量為24,000，分子量分布(重量平均分子量/數量平均分子量之比)為2.3。
比較合成例2
將2,2’－偶氮雙(2,4－二甲基戊腈)7重量份、二甘醇甲基乙醚220重量份投入具備冷卻管、攪拌器之燒瓶中。接著添加甲基丙烯酸25重量份、二環戊基甲基丙烯酸酯35重量份、2－羥乙基甲基丙烯酸酯40重量份、α－甲基苯乙烯二聚物2.0重量份，進行氮取代後，開始緩慢攪拌。將溶液之溫度上升至70℃，保持此溫度5小時，得到含共聚物[A－2R]的聚合物溶液。所得之聚合物溶液的固形份濃度為32.8重量%，聚合物之重量平均分子量為25,000，分子量分布(重量平均分子量/數量平均分子量之比)為2.4 。
矽氧烷低聚物〔C］之合成例 合成例1
將苯基三甲氧基矽烷39.6g、(3－乙基氧環丁烷－3－基)丙基三乙氧基矽烷64.0g投入500mL之三口燒瓶中，接著添加甲基異丁酮100g，經溶解所得之混合溶液以磁鐵攪拌子攪拌，加熱至60℃。以1小時連續添加含有1重量%之草酸之8.6g的離子交換水於上述混合溶液中。以60℃反應4小時後，所得之反應液冷卻至室溫。其後，將反應副產物之醇份由反應液中減壓蒸餾除去。此聚合物〔C－1］之重量平均分子量為1,600。
合成例2
將二甲氧基矽烷48.8g、2－(3,4－環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷49.2g投入500mL之三口燒瓶中，接著添加丙二醇甲醚乙酸酯100g，經溶解所得之混合溶液以磁鐵攪拌子攪拌，加熱至60℃。以1小時連續添加含有1重量%之草酸之8.6g的離子交換水於上述混合溶液中。以60℃反應4小時後，所得之反應液冷卻至室溫。其後，將反應副產物之醇份由反應液中減壓蒸餾除去。此聚合物〔C－2］之重量平均分子量為2,000。
合成例3
將四甲氧基矽烷30.4g、3－環氧丙基丙基三甲氧基矽烷47.2g投入500mL之三口燒瓶中，接著添加丙二醇甲醚100g，經溶解所得之混合溶液以磁鐵攪拌子攪拌，加熱至60℃。以1小時連續添加含有1重量%之草酸之8.6g的離子交換水於上述混合溶液中。以60℃反應4小時後，所得之反應液冷卻至室溫。其後，將反應副產物之醇份由反應液中減壓蒸餾除去。此聚合物〔C－3］之重量平均分子量為1,400。
合成例4
將甲基三甲氧基矽烷27.2g、3－氫硫基三甲氧基矽烷39.2g投入500mL之三口燒瓶中，接著添加丙二醇甲醚100g，經溶解所得之混合溶液以磁鐵攪拌子攪拌，加熱至60℃。以1小時連續添加含有1重量%之草酸之8.6g的離子交換水於上述混合溶液中。以60℃反應4小時後，所得之反應液冷卻至室溫。其後，將反應副產物之醇份由反應液中減壓蒸餾除去。此聚合物〔C－4］之重量平均分子量為1,900。
實施例1
〔敏輻射線性樹脂組成物之製備］ 將含有上述合成例1合成之〔A］成分之聚合物[A－1]的溶液以相當於共聚物〔A－1］100重量份的量(固形份)與[B]成分之4,4’－[1－(4－(1－[4－羥苯基]－1－甲基乙基) 苯基)次乙基]雙酚(1.0莫耳)與1,2－萘醌二疊氮－5－磺酸氯(2.0莫耳)之縮合物(B－1)30重量份及聚合物[C－1]3重量份(固形份)予以混合，溶解於二甘醇乙基甲醚，使固形份濃度成為30重量%後，以孔徑0.2μm之薄膜過濾器過濾，製備敏輻射線性樹脂組成物之溶液(S－1)。
實施例2~16、比較例1
〔敏輻射線性樹脂組成物之製備］ 除了將實施例1中之〔A］成分及〔B］成分使用表1所示之種類、量外，其餘與實施例1相同製備組成物溶液(S－2)~(S－16)及(s－1)。
實施例2、6、10、14中，〔B］成分之記載係表示分別併用2種之1,2－萘醌二疊氮化合物。
實施例17
實施例1中，溶解於二甘醇乙基甲醚/丙二醇單甲醚乙酸酯＝6/4，使固形份濃度成為20重量%及添加(F)外，與實施例1相同製備組成物，製備敏輻射線性樹脂組成物之溶液(S－17)。
表1中，成分之簡稱係表示下述之化合物。
(B－1)：4,4’－[1－(4－(1－[4－羥苯基]－1－甲基乙基)苯基)次乙基]雙酚(1.0莫耳)與1,2－萘醌二疊氮－5－磺酸氯(2.0莫耳)之縮合物 (B－2)：4,4’－[1－(4－(1－[4－羥苯基]－1－甲基乙基) 苯基)次乙基]雙酚(1.0莫耳)與1,2－萘醌二疊氮－5－磺酸氯(1.0莫耳)之縮合物 (B－3)：2,3,4,4’－四羥基二苯甲酮(1.0莫耳)與1,2－萘醌二疊氮－5－磺酸酯(2.44莫耳) (F)SH－28PA(東麗Dowcornig Silicone(股)製)
實施例18~34、比較例2
<層間絕緣膜之性能評價> 使用上述製備之敏輻射線性樹脂組成物，如下述評價層間絕緣膜之各種特性。
〔感度之評價］ 實施例18~33、比較例2使用旋轉塗佈機將表2所示之組成物塗佈於矽基板上後，在加熱板上以90℃進行2分鐘預烘烤，形成膜厚3.0μm之塗膜。對於實施例34使用狹縫模具式塗佈機塗佈，以0.5Torr進行真空乾燥後，在加熱板上以90℃進行2分鐘預烘烤，形成膜厚3.0μm之塗膜。對於製得之塗膜經由具有所定圖案之圖案光罩以Canon(股)製PLA－501F曝光機(超高壓水銀燈)，改變曝光時間進行曝光後，以表2之濃度之四甲基氫氧化銨水溶液，以25℃使用0.4%之濃度的顯影液時，進行80秒鐘，使用2.38%之濃度的顯影液時，進行50秒之盛液法顯影。然後使用超純水以流水清洗1分鐘，經乾燥後，在晶圓上形成圖案。為了使3.0μm之線與空間(10：1)之空間圖案完全溶解，而測定必要之曝光量。此數值為感度，如表2所示。此數值為1,000J/m2 以下時，表示感度良好。
〔顯影安全係數之評價］ 實施例18~33、比較例2使用旋轉塗佈機將表2所示 之組成物塗佈於矽基板上後，在加熱板上以90℃進行2分鐘預烘烤，形成3.0μm之塗膜。對於實施例34使用狹縫模具式塗佈機塗佈，以0.5Torr進行真空乾燥後，在加熱板上以90℃進行2分鐘預烘烤，形成膜厚3.0μm之塗膜。對於製得之塗膜經由具有3.0μm之線與空間(line and space)(10：1)之圖案之光罩，使用Canon(股)製PLA－501F曝光機(超高壓水銀燈)，以相當於上述〔感度之評價］所測定之感度值之曝光量進行曝光，在以表2之濃度之四甲基氫氧化銨水溶液，在25℃下，改變顯影時間，進行盛液法顯影。然後使用超純水進行1分鐘之流水清洗，經乾燥後，在晶圓上形成圖案。此時為了使線寬幅成為3.0μm所需之顯影時間為最佳顯影時間，如表2所示。測定由最佳顯影時間再繼續顯影時，3.0μm之線圖案產生剝離為止的時間，顯影安全係數如表2所示。此數值為30秒以上時，表示顯影安全係數佳。
〔耐溶劑性之評價］ 實施例18~33、比較例2使用旋轉塗佈機將表2所示之組成物塗佈於矽基板上後，在加熱板上以90℃進行2分鐘預烘烤，形成塗膜。對於實施例34使用狹縫模具式塗佈機塗佈，以0.5Torr進行真空乾燥後，在加熱板上以90℃進行2分鐘預烘烤，形成塗膜。對於製得之塗膜使用Canon(股)製PLA－501F曝光機(超高壓水銀燈)進行曝光使累積曝光量成為3,000J/m2 ，在潔淨烘箱內，以220℃ 加熱此矽基板1小時，得到3.0μm的硬化膜。測定製得之硬化膜之膜厚(T1)。將形成此硬化膜之矽基板浸漬於溫度控制在70℃之二甲基亞中20分鐘後，測定各該硬化膜之膜厚(t1)，計算由浸漬所產生之膜厚變化率{|t1－T1|/T1}×100〔%］。結果如表2所示。此數值為5%以下時，表示耐溶劑性良好。
耐溶劑性之評價係形成之膜不需要形成圖案化，因此省略輻射線照射步驟及顯影步驟，僅以塗膜形成步驟、後烘烤步驟及加熱步驟進行評價。
〔耐熱性之評價］ 與上述耐溶劑性之評價相同形成硬化膜，測定製得之硬化膜之膜厚(T2)。將此硬化膜基板在潔淨烘箱內以240℃追加烘烤1小時後，測定各該硬化膜之膜厚(t2)，計算追加烘烤所產生之膜厚變化率{|t2－T2|/T2}×100〔%］。結果如表2所示。此數值為5%以下時，表示耐熱性良好。
〔硬化膜密著性之評價］ 與上述耐溶劑性之評價相同形成硬化膜，將預先塗佈環氧樹脂之具有直徑0.27cm之圓形接著面之鋁製柱螺栓銷(stud pin)(QUAD公司製)對於基板時，栓銷成垂直狀接著於硬化膜上，在潔淨烘箱內以150℃烘烤1小時，使環氧樹脂硬化。然後，使用拉伸試驗機「Motorized Stand SDMS－0201－100SL(股)今田製作所製」拉伸柱螺栓銷，測定基板與硬化膜剝離時的力量。此時力的數值如表2所示。此數值為150N以上時，表示對基板之密著性良好。
〔透明性之評價］ 除了使用玻璃基板「Corning 7059(Corning公司)製造」取代上述耐溶劑性之評價中之矽基板外，其餘同樣在玻璃基板上形成硬化膜。使用分光光度計「150－20型double beam(日立製作所製)」以400~800nm之範圍之波長測定具有此硬化膜之玻璃基板之光線透過率。此時之最低透過率值如表2所示。此數值為90%以上時，表示透明性良好。
〔比介電率之評價］ 實施例18~34、比較例2使用旋轉塗佈機將表2所示之組成物塗佈於研磨後之SUS304製基板上後，在加熱板上以90℃進行2分鐘預烘烤，形成3.0μm之塗膜。對於實施例35使用狹縫模具式塗佈機塗佈，以0.5Torr進行真空乾燥後，在加熱板上以90℃進行2分鐘預烘烤，形成膜厚3.0μm之塗膜。對於製得之塗膜使用Canon(股)製PLA－501F曝光機(超高壓水銀燈)進行曝光使累積曝光量成為3,000J/m2 ，在潔淨烘箱內，以220℃燒結此基板1小時，得到硬化膜。對此硬化膜藉由蒸鍍法形成Pt/Pd電極圖 案，作成介電率測定用試片。以頻率10kHz之頻率使用橫河．Huletpakad(股)製HP16451B電極及HP4284A軸承LCR測定計，藉由CV法測定該基板之比介電率。結果如表2所示。此數值為3.9以下時，表示介電率良好。
介電率之評價中，形成之膜不需要形成圖案化，因此省略輻射線照射步驟及顯影步驟，僅以塗膜形成步驟、後烘烤步驟及加熱步驟進行評價。
實施例35~50、比較例3
<微透鏡之性能評價> 使用上述製備之敏輻射線性樹脂組成物，如下述評價微透鏡之各種特性。耐熱性之評價、透明性之評價及密著性之評價可參照上述層間絕緣膜之性能評價的結果。
〔感度之評價］ 實施例35~50、比較例3使用旋轉塗佈機將表3所示 之組成物塗佈於矽基板上後，在加熱板上以90℃進行2分鐘預烘烤，形成2.0μm之塗膜。對於製得之塗膜經由具有所定圖案之圖案光罩以NIKON(股)製NSR1755i7A縮小投影曝光機(NA＝0.50，λ＝365nm)，改變曝光時間進行曝光，使用表3之濃度之四甲基氫氧化銨水溶液，以25℃、進行1分鐘之盛液顯影。然後以水清洗乾燥，在晶圓上形成圖案。測定0.8μm之線與空間圖案(1：1)之空間線寬成為0.8μm所需要之曝光時間。此數值為感度，如表3所示。此數值為2,000J/m2 以下時，表示感度良好。
〔顯影安全係數之評價］ 實施例35~50、比較例3使用旋轉塗佈機將表3所示之組成物塗佈於矽基板上後，在加熱板上以90℃進行2分鐘預烘烤，形成2.0μm之塗膜。對於製得之塗膜經由具有所定圖案之圖案光罩以NIKON(股)製NSR1755i7A縮小投影曝光機(NA＝0.50，λ＝365nm)，以相當於上述「〔感度之評價］」所測定之感度值的曝光量進行曝光，在以表3之濃度之四甲基氫氧化銨水溶液，以25℃進行1分鐘之盛液顯影。然後以水進行1分鐘之水清洗，使之乾燥，在晶圓上形成圖案。測定0.8μm之線空間圖案(1：1)之空間線寬成為0.8μm所需要之顯影時間為最佳顯影時間，如表3所示。測定由最佳顯影時間後，再繼續顯影時，0.8μm之圖案產生剝離為止的時間(顯影安全係數)，顯影安全係數如表3所示。此數值為30秒以上時，表示顯 影安全係數佳。。
〔微透鏡之形成］ 實施例35~50、比較例3使用旋轉塗佈機將表3所示之組成物塗佈於矽基板上後，在加熱板上以90℃進行2分鐘預烘烤，形成2.0μm之塗膜。對於製得之塗膜經由具有4.0μm點．2.0μm空間圖案之圖案光罩，以NIKON(股)製NSR1755i7A縮小投影曝光機(NA＝0.50，λ＝365nm)，以相當於上述「〔感度之評價］」所測定之感度值之曝光量進行曝光，使用表3之感度之評價之顯影液濃度之四甲基氫氧化銨水溶液，以25℃、進行1分鐘之盛液顯影。然後用水清洗，經乾燥在晶圓上形成圖案。然後使用Canon(股)製PLA－501F曝光機(超高壓水銀燈)進行曝光使累積曝光量成為3,000J/m2 。然後再使用加熱板以160℃加熱10分鐘後，再以230℃加熱10分鐘，使圖案熔融，形成微透鏡。
形成之微透鏡之底部(接觸基板的面)之尺寸(直徑)及斷面形狀如表3所示。微透鏡之底部之尺寸超過4.0μm，且未達5.0μm時，表示良好。此尺寸超過5.0μm時，相鄰之透鏡為彼此接觸的狀態，不理想。斷面形狀如圖1所示之模式圖中，如(a)之半凸透鏡形狀時，表示良好，又如(b)之略台形狀時表示不佳。
實施例51
〔敏輻射線性樹脂組成物之製備］ 將含有上述合成例5合成之〔A－5］之聚合物溶液(相當於共聚物〔A5］100重量份(固形份)與[B]成分之4,4’－[1－(4－(1－[4－羥苯基]－1－甲基乙基)苯基)次乙基]雙酚(1莫耳)與1,2－萘醌二疊氮－5－磺酸氯(2莫耳)之縮合物(4,4’－[1－(4－(1－[4－羥苯基]－1－甲基乙基)苯基)次乙基]雙酚－1,2－萘醌二疊氮－5－磺酸酯)20重量份、四〔(3－乙基氧雜環基烷－3－基)甲基］矽酸酯之縮合物2重量份及γ－甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷5重量份予以混合，溶解於丙二醇單甲醚乙酸酯，使固形份濃度成為30重量%後，以孔徑0.5μm之微孔過濾器過濾，製備敏輻射線性樹脂組成物之溶液(S－51)。
層間絕緣膜之評價 (I)圖案狀薄膜之形成 使用旋轉器在玻璃基板上塗佈上述組成物溶液(S－51)後，以80℃在加熱板上預烘烤3分鐘，形成塗膜。
然後，使用所定圖案光罩，對於製得之塗膜照射波長365nm之強度為10mW/cm2 的紫外線15秒。其次，藉由0.5重量%氫氧化四甲銨物水溶液，在25℃下顯影1分鐘後，以純水洗淨1分鐘，藉此除去不需要的部份。
對於上述形成的圖案照射波長365nm之強度為10mW/cm2 的紫外線30秒後，在烤箱中以220℃加熱60分 鐘，製得膜厚3μm之圖案狀薄膜。
另外，除了預烘烤溫度為90℃、100℃外，與上述相同操作，形成預烘烤溫度不同之3種圖案狀薄膜。
(II)解像度之評價 上述(I)所得之圖案狀薄膜中，擷取圖案(5μmx5μm孔)可解像時評價為「○」，無法解像時評價為「×」。結果如表4所示。
(III)耐熱尺寸安定性之評價 上述(I)中，將預烘烤溫度80℃所形成的薄膜圖案於烤箱中以220℃加熱60分鐘。加熱前後之膜厚之變化率如表5所示。此時之尺寸變化率在加熱前後，在5%以內時，耐熱尺寸安定性良好，尺寸變化率超過5%時，表示不良。
(IV)透明性之評價 上述(I)中，將預烘烤溫度80℃所形成的圖案狀薄膜之400nm之透過率使用分光光度計(150－20型雙光束(股)日立製作所製)測定，進行透明性之評價。結果如表5所示。此時透過率為90%以上時，表示透過性良好，未達90%時，表示透過性不良。
(V)耐熱變色性之評價 將上述(I)中具有預烘烤溫度80℃所形成之圖案狀薄膜之基板，藉由在250℃之烤箱中加熱1小時，加熱前後之圖案狀薄膜之透過率之變化，評價耐熱變色性。此時結果如表5所示。變化率未達5%時，表示耐熱變色性良好，超過5%時，表示不良。又，透過率係與(IV)透明性之評價相同。
(VI)密著性之評價 將上述(I)中具有預烘烤溫度80℃所形成之圖案狀薄膜之密著性藉由壓力鍋試驗(120℃、濕度100%、4小時)後之棋盤格子剝離試驗來評價。此時結果如表5所示。評價結果係以100個棋盤格子中，殘留的棋盤格數來表示。
(VII)保存安定性之評價 將上述組成物溶液在40℃之烤箱中加熱1週，藉由加熱前後之黏度變化評價保存安定性。此時之黏度變化率如表4所示。變化率未達5%時，表示保存安定性良好，超過5%時，表示保存安定性不良。
微透鏡之評價 (I)微透鏡之形成 使用旋轉塗佈機於6英寸矽基板上塗佈上述組成物溶液(S－51)，形成2.5μm的膜厚，以70℃在加熱板上預烘 烤3分鐘，形成塗膜。
然後，使用所定圖案光罩，對於製得之塗膜照射436nm之強度為10mW/cm2 的紫外線。其次，藉由2.38重量%氫氧化四甲銨物水溶液，在25℃下顯影1分鐘後，以純水洗淨1分鐘，藉此除去不需要的部份，形成圖案。
對於上述形成的圖案照射436nm之強度為10mW/cm2 的紫外線200mJ/cm2 後，以160℃加熱10分鐘後，再以230℃加熱10分鐘，使圖案熔融，形成微透鏡。
(II)感度之評價 上述(I)所得之熔融後之微透鏡圖案之0.8μm線與空間圖案(10比1)之空間線寬可解像之最低照射量如表6所示。此值為100mJ/cm2 以下時，表示解像度良好，感度超過100mJ/cm2 時，表示解像度不良。
(III)透明性之評價 與上述(I)相同，在玻璃基板上形成圖案狀薄膜。
對於形成熔融後之微透鏡圖案之玻璃基板，其400nm之透過率使用分光光度計(150－20型雙光束(股)日立製作所製)測定，進行透明性之評價。此時400nm之透過率如表6所示。透過率為90~100%時，表示透過率良好，未達90%時，表示透過率不良。
(IV)耐熱透明性之評價 將具有上述(III)中所形成之圖案狀薄膜之玻璃基板，藉由在250℃之烤箱中加熱1小時，加熱前後之圖案狀薄膜之透過率之變化，評價耐熱透明性。此時透過率之變化率如表6所示。變化率未達5%時，表示耐熱透明性良好，超過5%時，表示不良。又，透過率係與(III)透明性之評價相同。
(V)密著性之評價 將上述(I)中所形成之圖案狀薄膜之密著性藉由壓力鍋試驗(120℃、濕度100%、4小時)後之棋盤格子剝離試驗來評價。此時結果如表6所示。評價結果係以100個棋盤格子中，殘留的棋盤格數來表示。
(VI)耐溶劑性之評價 將具有與上述(I11)同樣形成之圖案狀薄膜之玻璃基板浸漬於溫度50℃之異丙醇中10分鐘，評價膜厚變化。此時之變化率如表6所示。變化率為0~5%時，表示耐溶劑性良好，超過5%時，表示耐溶劑性不良。
實施例52
將含有合成例6所得之共聚物〔A－6］之聚合物溶液(相當於共聚物〔A－6］100重量份(固形份)與[B]成分之4,4’－[1－(4－(1－[4－羥苯基]－1－甲基乙基)苯基)次乙基]雙酚(1莫耳)與1,2－萘醌二疊氮－5－磺酸氯(2莫耳) 之縮合物(4,4’－[1－(4－(1－[4－羥苯基]－1－甲基乙基)苯基)次乙基]雙酚－1,2－萘醌二疊氮－5－磺酸酯)20重量份、四〔(3－乙基氧雜環基烷－3－基)甲基］矽酸酯之縮合物2重量份及γ－甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷5重量份予以混合，溶解於丙二醇單甲醚乙酸酯，使固形份濃度成為31重量%後，以孔徑0.5μm之微孔過濾器過濾，製備敏輻射線性樹脂組成物之溶液(S－52)。結果如表4~6所示。
實施例53
將含有合成例7所得之共聚物〔A－7］之聚合物溶液(相當於共聚物〔A－7］100重量份(固形份)與[B]成分之4,4’－[1－(4－(1－[4－羥苯基]－1－甲基乙基)苯基)次乙基]雙酚(1莫耳)與1,2－萘醌二疊氮－5－磺酸氯(2莫耳)之縮合物(4,4’－[1－(4－(1－[4－羥苯基]－1－甲基乙基)苯基)次乙基]雙酚－1,2－萘醌二疊氮－5－磺酸酯)18重量份、四〔(3－乙基氧雜環基烷－3－基)甲基］矽酸酯之縮合物2重量份及γ－甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷5重量份予以混合，溶解於丙二醇單甲醚乙酸酯，使固形份濃度成為30重量%後，以孔徑0.5μm之微孔過濾器過濾，製備敏輻射線性樹脂組成物之溶液(S－53)。結果如表4~6所示。
實施例54
將含有合成例8所得之共聚物〔A－8］之聚合物溶液(相當於共聚物〔A－8］100重量份(固形份)與[B]成分 之4,4’－[1－(4－(1－[4－羥苯基]－1－甲基乙基)苯基)次乙基]雙酚(1莫耳)與1,2－萘醌二疊氮－5－磺酸氯(2莫耳)之縮合物(4,4’－[1－(4－(1－[4－羥苯基]－1－甲基乙基)苯基)次乙基]雙酚－1,2－萘醌二疊氮－5－磺酸酯)30重量份、四〔(3－乙基氧雜環基烷－3－基)甲基］矽酸酯之縮合物2重量份及γ－甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷5重量份予以混合，溶解於丙二醇單甲醚乙酸酯，使固形份濃度成為31重量%後，以孔徑0.5μm之微孔過濾器過濾，製備敏輻射線性樹脂組成物之溶液(S－54)。結果如表4~6所示。
比較例4
將含有比較合成例1所得之共聚物〔A－1R］之聚合物溶液(相當於共聚物〔A－1R］100重量份(固形份)與[B]成分之4,4’－[1－(4－(1－[4－羥苯基]－1－甲基乙基)苯基)次乙基]雙酚(1莫耳)與1,2－萘醌二疊氮－5－磺酸氯(2莫耳)之縮合物(4,4’－[1－(4－(1－[4－羥苯基]－1－甲基乙基)苯基)次乙基]雙酚－1,2－萘醌二疊氮－5－磺酸酯)30重量份及γ－甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷5重量份予以混合，溶解於丙二醇單甲醚乙酸酯，使固形份濃度成為31重量%後，以孔徑0.5μm之微孔過濾器過濾，製備敏輻射線性樹脂組成物之溶液(S－1R)。結果如表4~6所示。
比較例5
將含有比較合成例2所得之共聚物〔A－2R］之聚合物 溶液(相當於共聚物〔A－2R］100重量份(固形份)與[B]成分之4,4’－[1－(4－(1－[4－羥苯基]－1－甲基乙基)苯基)次乙基]雙酚(1莫耳)與1,2－萘醌二疊氮－5－磺酸氯(2莫耳)之縮合物(4,4’－[1－(4－(1－[4－羥苯基]－1－甲基乙基)苯基)次乙基]雙酚－1,2－萘醌二疊氮－5－磺酸酯)18重量份及γ－甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷5重量份予以混合，溶解於丙二醇單甲醚乙酸酯，使固形份濃度成為31重量%後，以孔徑0.5μm之微孔過濾器過濾，製備敏輻射線性樹脂組成物之溶液(S－2R)。結果如表4~6所示。
圖1係微透鏡之剖面形狀之模式圖。

Claims (8)

  1. 一種敏輻射線性樹脂組成物，其特徵係含有：[A](a1)不飽和羧酸及/或不飽和羧酸酐、(a2)含有環氧基及/或氧環丁基之不飽和化合物，及(a3)選自甲基丙烯酸烷酯、丙烯酸烷酯、甲基丙烯酸環狀烷酯、具有羥基之甲基丙烯酸酯、丙烯酸環狀烷酯、甲基丙烯酸芳酯、丙烯酸芳酯、不飽和二羧酸二酯、雙環不飽和化合物、馬來醯亞胺化合物、不飽和芳香族化合物、共軛二烯、具有四氫呋喃骨架、呋喃骨架、四氫吡喃骨架、吡喃骨架或下述式(3)表示之骨架之不飽和化合物及下述式(I)表示之含酚性羥基之不飽和化合物所成群之與(a1)成分及(a2)成分不同之至少1種之其他不飽和化合物的共聚物， (式(3)中，R7 係氫原子或甲基，n係1以上的整數) 其中R1 係氫原子或碳數1~4之烷基，R2 ~R6 係相同或不同、氫原子、羥基或碳數1~4之烷基，B係表示單鍵、-COO-、或-CONH-，m係0~3的整數，但是R2 ~R6 之至少一個為羥基，[B]1,2-醌二疊氮化合物及[C]含有與[A]成分藉由熱產生交聯反應之官能基的矽氧烷低聚物，其中前述[C]成分為下述式(1)及下述式(2)之各自表示之烷氧基矽烷經共水解後之矽氧烷低聚物，Si(R8 )s (R9 )t (OR10 )u (1)式中，R8 係表示含有環氧基、氧環丁基、環硫基、乙烯基、烯丙基、(甲基)丙烯醯基、羧基、羥基、氫硫基、異氰酸酯基、胺基、脲基或苯乙烯基的取代基，R9 、R10 係可相同或不同，各為1價有機基，s係1~3的整數，t係0~2的整數，u係1~3的整數，但是s+t+u=4，Si(R11 )x (OR12 )4-x (2)式中R11 、R12 係可相同或不同，各為1價有機基，x係0~2的整數。
  2. 一種敏輻射線性樹脂組成物，其特徵係含有：[A](a1)不飽和羧酸及/或不飽和羧酸酐、(a2)含有環氧基及/或氧環丁基之不飽和化合物，及(a3)選自甲基丙烯酸烷酯、丙烯酸烷酯、甲基丙烯 酸環狀烷酯、具有羥基之甲基丙烯酸酯、丙烯酸環狀烷酯、甲基丙烯酸芳酯、丙烯酸芳酯、不飽和二羧酸二酯、雙環不飽和化合物、馬來醯亞胺化合物、不飽和芳香族化合物、共軛二烯、具有四氫呋喃骨架、呋喃骨架、四氫吡喃骨架、吡喃骨架或下述式(3)表示之骨架之不飽和化合物及下述式(I)表示之含酚性羥基之不飽和化合物所成群之與(a1)成分及(a2)成分不同之至少1種之其他不飽和化合物的共聚物， (式(3)中，R7 係氫原子或甲基，n係1以上的整數) 其中R1 係氫原子或碳數1~4之烷基，R2 ~R6 係相同或不同、氫原子、羥基或碳數1~4之烷基，B係表示單鍵、-COO-、或-CONH-，m係0~3的整數，但是R2 ~R6 之至少一個為羥基，[B]1,2-醌二疊氮化合物及 [C]含有與[A]成分藉由熱產生交聯反應之官能基的矽氧烷低聚物，其中前述(C)成分為下述式(9)表示之矽氧烷低聚物， 式中R21 ~R24 係相互獨立表示氫原子、烷基、環烷基、或下述式(10)表示之氧環丁基，m係1~10之整數，但是R21 ~R24 之至少1個係下述式(10)表示之氧環丁基， 式中R25 、R13 、R14 、R15 及R16 係相互獨立表示氫原子、氟原子、碳數1~4之烷基、苯基或碳數1~4之全氟烷基，1係1~6之整數。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之敏輻射線性樹脂組成物，其係層間絶緣膜形成用。
  4. 一種層間絶緣膜之形成方法，其特徵係含有以下記 載順序之以下步驟，(1)基板上形成申請專利範圍第1或2項之敏輻射線性樹脂組成物之塗膜的步驟、(2)對該塗膜之至少一部份照射輻射線的步驟、(3)顯影步驟及(4)加熱步驟。
  5. 一種層間絶緣膜，其特徵係藉由申請專利範圍第4項之方法所形成。
  6. 如申請專利範圍第1或2項之敏輻射線性樹脂組成物，其係微透鏡形成用。
  7. 一種微透鏡之形成方法，其特徵係含有以下記載順序之以下步驟，(1)基板上形成申請專利範圍第1或2項之敏輻射線性樹脂組成物之塗膜的步驟、(2)對該塗膜之至少一部份照射輻射線的步驟、(3)顯影步驟及(4)加熱步驟。
  8. 一種微透鏡，其特徵係藉由申請專利範圍第7項之方法所形成。
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