TWI430026B - Sensitive linear resin composition, interlayer insulating film and microlens, and the like - Google Patents

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Description

敏輻射線性樹脂組成物，層間絕緣膜及微透鏡，及此等之製造方法
本發明係關於敏輻射線性樹脂組成物，層間絕緣膜及微透鏡，以及其製造方法。
在薄膜電晶體(以下略記為「TFT」)型液晶顯示元件或磁頭元件，積體電路元件，固體成像(imaging)元件等的電子零件中，一般而言，為了使層狀配置的配線間絕緣，設置有層間絕緣膜。形成層間絕緣膜的材料方面，由於欲獲得必要的圖型形狀，以步驟數少且具有充分平坦性之物為佳，因此敏輻射線性樹脂組成物被廣泛的使用(參照日本特開2001-354822號公報及日本特開2001-343743號公報)。
上述電子零件之中，例如TFT型液晶顯示元件，由於係經由在上述的層間絕緣膜上，形成透明電極膜，進而於其上形成液晶配向膜的步驟而製造，層間絕緣膜，在透明電極膜的形成步驟中，高溫條件下被曝光，也就是在形成電極圖型所使用的光阻剝離液中曝光，所以對該等必須具備充分的耐性。
又近年，在TFT型液晶顯示元件中，有大畫面化，高亮度化，高精細化，高速應答化，薄型化等的傾向，該等所使用之層間絕緣膜形成用組成物方面為高感度，所形成的層間絕緣膜在低介電率，高透過率等之中，比習知增加 的高性能被尋求著。
另一方面，傳真機，影印機，固體成像(imaging)元件等的晶片上(onchip)濾色片的成像光學系或光纖連接器的光學系材料方面，係使用具3~100μm左右透鏡徑的微透鏡，或規則配列該等微透鏡的微透鏡陣列。
形成微透鏡或微透鏡陣列時，已知有於形成相當於透鏡的光阻圖型後，以加熱處理的方式使其熔融，維持原樣作為透鏡使用的方法，或將熔融的透鏡圖型作為光罩，以乾蝕刻方式，於底層轉印透鏡形狀的方法等。形成該透鏡圖型時，廣泛使用敏輻射線性樹脂組成物(參照日本特開平6-18702號公報及日本特開平6-136239號公報)。
然而，如上述的微透鏡或微透鏡陣列所形成之元件，其後，為了去除配線形成部分的結合墊(bonding pad)上之各種絕緣膜，有塗佈平坦化膜及蝕刻用光阻膜，使用所期望的光罩進行曝光，顯影去除連結部分的蝕刻光阻，接著，藉由蝕刻去除平坦化膜或各種絕緣膜，露出連結墊部分的步驟。因此，在微透鏡或微透鏡陣列中，形成平坦化膜及蝕刻光阻塗膜的步驟以及蝕刻步驟中，必須具有耐溶劑性或耐熱性。
用於形成此種微透鏡所使用的敏輻射線性樹脂組成物為高感度，且由此所形成的微透鏡具有所期望的曲率半徑，具備高耐熱性，高透過率等者被尋求著。
又，如此一來所得的層間絕緣膜或微透鏡，在形成該等時的顯影步驟中，顯影時間一旦比最適時間只多一點也 是過多，此時，圖型與基板之間就會浸透顯影液，變成容易剝離，故有必要嚴格控制顯影時間，對製品的生產率有所影響。
換言之，如此一來，由敏輻射線性樹脂組成物形成層間絕緣膜或微透鏡時，組成物方面必須為高感度，又在形成步驟的顯影步驟中，即使在顯影時間比設定的時間更多的情況下，亦能顯現出圖型不產生剝離之良好的密接性，且由此所形成的層間絕緣膜必須具備高耐熱性，高耐溶劑性，低介電率，高透過率，高密接性等，另一方面，形成微透鏡時，微透鏡必須具有良好的熔體(melt)形狀(所期望的曲率半徑)，高耐熱性，高耐溶劑性，高透過率，但滿足該要求的敏輻射線性樹脂組成物一直為習所不知。
 發明揭示
本發明係根據以上的理由而提出者。因此，本發明的目的，係提供具有高敏輻射線感度，具有顯影步驟中即使超過最適顯影時間，尚可形成良好圖型形狀的顯影界限，易形成密接性優異的圖型狀薄膜的敏輻射線性組成物。
本發明的其他目的，係提供在用於形成層間絕緣膜時，可形成高耐熱性，高耐溶劑性，高透過率，低介電率，高密接性的層間絕緣膜，又在用於形成微透鏡時，可形成具有高透過率與良好熔體形狀的微透鏡之敏輻射線性樹脂組成物。
進而，本發明的其他目的，係提供使用上述敏輻射線性樹脂組成物，形成層間絕緣膜及微透鏡的方法。
進而，本發明的其他目的，係提供藉由本發明的方法所形成之層間絕緣膜及微透鏡。
由以下的說明，可進而明瞭本發明的其他目的及優點。
根據本發明，本發明的上述目的及優點，第1為，藉由以含有[A](a1)選自不飽和羧酸及不飽和羧酸酐所成群之至少1種(以下稱為「化合物(a1)」)，(a2)含有環氧基及氧雜環丁烷基之至少一個的之不飽和化合物(以下稱為「化合物(a2)」)，(a3)選自丙烯醯基嗎啉及甲基丙烯甲基丙烯醯基嗎啉所成群之至少1種(以下稱為「化合物(a3)」)，(a4)異於上述化合物(a1)、(a2)及(a3)的任一種，且選自甲基丙烯酸烷基酯，甲基丙烯酸環狀烷基酯，丙烯酸烷基酯，丙烯酸環狀烷基酯，丙烯酸芳基酯，甲基丙烯酸芳基酯，不飽和二羧酸二酯，羥基甲基丙烯酸酯，羥基丙烯酸酯，雙環不飽和化合物，順丁烯二醯亞胺化合物，不飽和芳香族化合物，共軛二烯，具四氫呋喃骨架的不飽和化合物，具呋喃骨架的不飽和化合物，具四氫哌喃骨架的不飽和化合物，具哌喃骨架的不飽和化合物，丙烯腈，甲基丙烯睛，氯化乙烯，氯化亞乙烯，丙烯醯胺，甲基丙烯醯胺及乙酸乙烯所成群之至少1種其他的不飽 和化合物(以下稱為「化合物(a4)」)的共聚物(以下稱為「共聚物[A]」)，以及[B]1,2-醌二疊氮基化合物(以下稱為「[B]成分」)為特徵之敏輻射線性樹脂組成物而達成者。
本發明的目的及優點，第2為，藉由以下列記載的順序含有以下記載的步驟為特徵之層間絕緣膜或微透鏡的形成方法而達成者。
(1)於基板上形成上述敏輻射線性組成物的塗膜之步驟，(2)將該塗膜的至少一部分照射輻射線的步驟，(3)顯影步驟，及(4)加熱步驟。
進而本發明的目的及優點，第3為，藉由以上述的方法所形成之層間絕緣膜或微透鏡而達成者。
實施發明之最佳形態
關於本發明的敏輻射線性樹脂組成物詳述如下。
共聚物[A]
共聚物[A]，可藉由在溶劑中，聚合引發劑的存在下，使化合物(a1)，化合物(a2)，化合物(a3)及化合物(a4)自由基聚合而製造。
化合物(a1)為選自具有自由基聚合性的不飽和羧酸 及不飽和羧酸酐所成群的至少1種，可例舉單羧酸，二羧酸，二羧酸的酐，多價羧酸的單[(甲基)丙烯醯氧烷基]酯，兩末端具有羧基與羥基的聚合物之單(甲基)丙烯酸酯，具有羧基的多環式化合物及其酐等。
該等的具體例方面，單羧酸中，可例舉丙烯酸，甲基丙烯酸，巴豆酸等；二羧酸方面，可例舉順丁烯二酸，反丁烯二酸，檸康酸，中康酸，伊康酸等；二羧酸的酐方面，可例舉上述二羧酸所例示的化合物之酐等；多價羧酸的單[(甲基)丙烯醯氧烷基]酯方面，可例舉琥珀酸單[2-(甲基)丙烯醯氧乙基]，酞酸單[2-(甲基)丙烯醯氧乙基]等；兩末端具有羧基與羥基的聚合物的單(甲基)丙烯酸酯方面，可例舉ω一羧聚己內酯單(甲基)丙烯酸酯等；具有羧基的多環式化合物及其酐方面，可例舉5-羧雙環[2.2.1]庚-2-烯，5,6-二羧雙環[2.2.1]庚-2-烯，5-羧-5-甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯，5-羧-5-乙基雙環[2.2.1]庚-2-烯，5-羧-6-甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯，5-羧-6-乙基雙環[2.2.1]庚-2-烯，5,6-二羧雙環[2.2.1]庚-2-烯酐等。
該等之中，以使用單羧酸，二羧酸的酐為佳，就共聚合反應性，對鹼水溶液的溶解性及取得容易的觀點而言，以使用丙烯酸，甲基丙烯酸，順丁烯二酸酐為特佳。該等化合物(a1)可單獨使用或組合使用。
本發明所使用的共聚物[A]，根據由化合物(a1)所衍生的構成單位，與由化合物(a1)、(a2)，(a3)及(a4)所衍生的重覆單位的合計，較佳為含有1~80重量%，特佳為含有5~40重量%。該構成單位不足1重量%時，所得層間絕緣膜或微透鏡的密接性有降低的傾向，另一方面，該構成單位的量若超過80重量%時，敏輻射線性樹脂組成物的保存穩定性有降低的傾向。
化合物(a2)為至少含有具自由基聚合性的環氧基及氧雜環丁烷基的的任一方之不飽和化合物。
含有環氧基的不飽和化合物方面，可例舉丙烯酸環氧丙酯，甲基丙烯酸環氧丙酯，α-乙基丙烯酸環氧丙酯，α-n-丙基丙烯酸環氧丙酯，α-n-丁基丙烯酸環氧丙酯，丙烯酸-3,4-環氧基丁酯，甲基丙烯酸-3,4-環氧基丁酯，丙烯酸-6,7-環氧基庚酯，甲基丙烯酸-6,7-環氧基庚酯，α-乙基丙烯酸-6,7-環氧基庚酯，o-乙烯苄基環氧丙基醚，m-乙烯苄基環氧丙基醚，p-乙烯苄基環氧丙基醚等。該等之中，就共聚合反應性及所得層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性，提高表面硬度的觀點而言，以使用甲基丙烯酸環氧丙酯，甲基丙烯酸-6,7-環氧基庚酯，0-乙烯苄基環氧丙基醚，m-乙烯苄基環氧丙基醚，p-乙烯苄基環氧丙基醚，3,4-環氧基環己基甲基丙烯酸酯等為佳。
含有環氧基的不飽和化合物方面，可例舉3-(甲基丙烯醯基氧甲基)氧雜環丁烷，3-(甲基丙烯醯基氧甲基)-3-乙基氧雜環丁烷，3-(甲基丙烯醯基氧甲基)-2-甲基氧 雜環丁烷，3-(甲基丙烯醯基氧甲基)-2-三氟甲基氧雜環丁烷，3-(甲基丙烯醯基氧甲基)-2-五氟乙基氧雜環丁烷，3-(甲基丙烯醯基氧甲基)-2-苯基氧雜環丁烷，3-(甲基丙烯醯基氧甲基)-2,2-二氟氧雜環丁烷，3-(甲基丙烯醯基氧甲基)-2,2,4-三氟氧雜環丁烷，3-(甲基丙烯醯基氧甲基)-2,2,4,4-四氟氧雜環丁烷，3-(甲基丙烯醯基氧乙基)氧雜環丁烷，3-(甲基丙烯醯基氧乙基)-3-乙基氧雜環丁烷，2-乙基-3-(甲基丙烯醯基氧乙基)氧雜環丁烷，3-(甲基丙烯醯基氧乙基)-2-三氟甲基氧雜環丁烷，3-(甲基丙烯醯基氧乙基)-2-五氟乙基氧雜環丁烷，3-(甲基丙烯醯基氧乙基)-2-苯基氧雜環丁烷，2,2-二氟-3-(甲基丙烯醯基氧乙基)氧雜環丁烷，3-(甲基丙烯醯基氧乙基)-2,2,4-三氟氧雜環丁烷，3-(甲基丙烯醯基氧乙基)-2,2,4,4-四氟氧雜環丁烷等。該等化合物(a2)可單獨使用或組合使用。
本發明所使用的共聚物[A]，根據由化合物(a2)所衍生的構成單位，與由化合物(a1)、(a2)，(a3)及(a4)所衍生之重覆單位的合計，較佳為含有5~70重量%，特佳為含有10~60重量%。該構成單位若不足5重量%時，敏輻射線性樹脂組成物的耐熱性及硬化性，表面高度有降低的傾向，另一方面，若超過70重量%時，敏輻射線性樹脂組成物的保存穩定性有降低的傾向。
化合物(a3)為丙烯醯基嗎啉及/或甲基丙烯醯基嗎啉。
化合物(a3)之中，丙烯醯基嗎啉，與化合物(a4)所示之其他的不飽和化合物之中的丙烯酸酯共聚合，可使聚合轉化比(conversion ratio)提高。該等的具體例方面，可例舉甲基丙烯酸酯，乙基丙烯酸酯，n-丙基丙烯酸酯，i-丙基丙烯酸酯，n-丁基丙烯酸酯，sec-丁基丙烯酸酯，t-丁基丙烯酸酯，環己基丙烯酸酯，2-甲基環己基丙烯酸酯，三環[5.2.1.02,6 ]癸烷-8-基丙烯酸酯(以下稱為「二環戊基丙烯酸酯」)，三環[5.2.1.02,6 ]癸烷-8-基氧乙基丙烯酸酯，異基丙烯酸酯，苯基丙烯酸酯，苄基丙烯酸酯，四氫糠基丙烯酸酯，3-丙烯醯基氧四氫呋喃-2-酮，糠基丙烯酸酯等。
本發明所使用的共聚物[A]，根據由化合物(a1)、(a2)，(a3)及(a4)所衍生之重覆單位的合計，由化合物(a3)所衍生的構成單位，較佳為含有1~50重量%，特佳為含有1~30重量%。該構成單位若超過50重量%時，敏輻射線性樹脂組成物的保存穩定性有降低的傾向。
化合物(a4)為具有自由基聚合性的不飽和化合物，然後，為甲基丙烯酸烷基酯，甲基丙烯酸環狀烷基酯，丙烯酸烷基酯，丙烯酸環狀烷基酯，丙烯酸芳基酯，甲基丙烯酸芳基酯，不飽和二羧酸二酯，羥基甲基丙烯酸酯，羥基丙烯酸酯，雙環不飽和化合物，順丁烯二醯亞胺化合物，不飽和芳香族化合物，共軛二烯，具四氫呋喃骨架，呋喃骨架，四氫哌喃骨架或者哌喃骨架的不飽和化合物或其他的不飽和化合物。
甲基丙烯酸烷基酯方面，可例舉甲基甲基丙烯酸酯，乙基甲基丙烯酸酯，n-丁基甲基丙烯酸酯，sec-丁基甲基丙烯酸酯，t-丁基甲基丙烯酸酯，2-乙基己基甲基丙烯酸酯，異癸基甲基丙烯酸酯，n-月桂基甲基丙烯酸酯，十三基甲基丙烯酸酯，n-硬脂醯基甲基丙烯酸酯等；甲基丙烯酸的環狀酯方面，可例舉環己基甲基丙烯酸酯，2-甲基環己基甲基丙烯酸酯，三環[5.2.1.02,6 ]癸烷-8-基甲基丙烯酸酯(以下稱為「二環戊基甲基丙烯酸酯」)，三環[5.2.1.02,6 ]癸烷-8-基氧乙基甲基丙烯酸酯，異基甲基丙烯酸酯等；丙烯酸烷基酯方面，可例舉甲基丙烯酸酯，乙基丙烯酸酯，n-丙基丙烯酸酯，i-丙基丙烯酸酯，n-丁基丙烯酸酯，sec-丁基丙烯酸酯，t-丁基丙烯酸酯等；丙烯酸的環狀酯方面，可例舉環己基丙烯酸酯，2-甲基環己基丙烯酸酯，三環[5.2.1.02,6 ]癸烷-8-基丙烯酸酯(以下稱為「二環戊基丙烯酸酯」)，三環[5.2.1.02,6 ]癸烷-8-基氧乙基丙烯酸酯，異基丙烯酸酯等；丙烯酸芳基酯方面，可例舉苯基丙烯酸酯，苄基丙烯酸酯等；甲基丙烯酸芳基酯方面，可例舉苯基甲基丙烯酸酯，苄基甲基丙烯酸酯等；不飽和二羧酸二酯方面，可例舉順丁烯二酸二乙酯，反丁烯二酸二乙酯，伊康酸二乙酯等；羥基甲基丙烯酸酯方面，可例舉羥基甲基甲基丙烯酸酯，2-羥基乙基甲基丙烯酸酯，3-羥基丙基甲基丙烯酸酯，4-羥基丁基甲基丙烯酸酯，二乙二醇單甲基丙烯酸酯，2,3-二羥基丙基甲基丙烯酸酯，2-甲基丙烯醯氧基乙基苷，4-羥基苯基甲基丙烯酸酯 等；羥基丙烯酸酯方面，可例舉羥基甲基丙烯酸酯，2-羥基乙基丙烯酸酯，3-羥基丙基丙烯酸酯，4-羥基丁基丙烯酸酯，二乙二醇單丙烯酸酯，2,3-二羥基丙基丙烯酸酯，2-丙烯醯氧基乙基苷，4-羥基苯基丙烯酸酯等；
雙環不飽和化合物方面，可例舉雙環[2.2.1]庚-2-烯，5-甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯，5-乙基雙環[2.2.1]庚-2-烯，5-羥基雙環[2.2.1]庚-2-烯，5-羧雙環[2.2.1]庚-2-烯，5-羥基甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯，5-(2-羥基乙基)雙環[2.2.1]庚-2-烯，5-甲氧基雙環[2.2.1]庚-2-烯，5-乙氧基雙環[2.2.1]庚-2-烯，5,6-二羥基雙環[2.2.1]庚-2-烯，5,6-二羧雙環[2.2.1]庚-2-烯，5,6-二(羥基甲基)雙環[2.2.1]庚-2-烯，5,6-二(2-羥基乙基)雙環[2.2.1]庚-2-烯，5,6-二甲氧基雙環[2.2.1]庚-2-烯，5,6-二乙氧基雙環[2.2.1]庚-2-烯，5-羥基-5-甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯，5-羥基-5-乙基雙環[2.2.1]庚-2-烯，5-羧-5-甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯，5-羧-5-乙基雙環[2.2.1]庚-2-烯，5-羥基甲基-5-甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯，5-羧-6-甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯，5-羧-6-乙基雙環[2.2.1]庚-2-烯，5,6-二羧雙環[2.2.1]庚-2-烯酐(himic酸酐)，5-t-丁氧基羰雙環[2.2.1]庚-2-烯，5-環己基氧羰雙環[2.2.1]庚-2-烯，5-苯氧基羰雙環[2.2.1]庚-2-烯，5,6-二(t-丁氧基羰)雙環[2.2.1]庚-2-烯，5,6-二(環己基氧羰)雙環[2.2.1]庚-2-烯等；
順丁烯二醯亞胺化合物方面，可例舉N-苯基順丁烯二醯亞胺，N-環己基順丁烯二醯亞胺，N-苄基順丁烯二醯 亞胺，N-(4-羥基苯基)順丁烯二醯亞胺，N-(4-羥基苄基)順丁烯二醯亞胺，N-琥珀醯亞胺基-3-順丁烯二醯亞胺苯甲酸酯，N-琥珀醯亞胺基-4-順丁烯二醯亞胺丁酸酯，N-琥珀醯亞胺基-6-順丁烯二醯亞胺己酸酯，N-琥珀醯亞胺基-3-順丁烯二醯亞胺丙酸酯，N-(9-吖啶)順丁烯二醯亞胺等；不飽和芳香族化合物方面，可例舉苯乙烯，α-甲基苯乙烯，m-甲基苯乙烯，p-甲基苯乙烯，乙烯甲苯，p-甲氧基苯乙烯等；共軛二烯方面，可例舉1,3-丁二烯，異戊二烯，2,3-二甲基-1,3-丁二烯等；具四氫呋喃骨架的不飽和化合物方面，可例舉四氫糠基(甲基)丙烯酸酯，2-甲基丙烯醯基氧-丙酸四氫糠基酯，3-(甲基)丙烯醯基氧四氫呋喃-2-酮等；具呋喃骨架的不飽和化合物方面，可例舉2-甲基-5-(3-呋喃基)-1-戊烯-3-酮，糠基(甲基)丙烯酸酯，1-呋喃-2-丁基-3-烯-2-酮，1-呋喃-2-丁基-3-甲氧基-3-烯-2-酮，6-(2-呋喃基)-2-甲基-1-己烯-3-酮，6-呋喃-2-基-己-1-烯-3-酮，丙烯酸2-呋喃-2-基-1-甲基-乙基酯，6-(2-呋喃基)-6-甲基-1-庚烯-3-酮等；具四氫哌喃骨架的不飽和化合物方面，可例舉(四氫哌喃-2-基)甲基甲基丙烯酸酯，2,6-二甲基-8-(四氫哌喃-2-基氧)-辛-1-烯-3-酮，2-甲基丙烯酸四氫哌喃-2-基酯，1-(四氫哌喃-2-氧)-丁基-3-烯-2-酮等；具哌喃骨架的不飽和化合物方面，可例舉4-(1,4-二氧雜-5-羰基(oxo)-6-庚烯基)-6-甲基-2-二吡咯甲酮(pyrrone)，4-(1,5-二氧雜-6-羰基- 7-辛烯基)-6-甲基-2-二吡咯甲酮(pyrrone)等。
其他的不飽和化合物為丙烯腈，甲基丙烯腈，氯化乙烯，氯化亞乙烯，丙烯醯胺，甲基丙烯醯胺或乙酸乙烯。
該等中，以使用甲基丙烯酸烷基酯，甲基丙烯酸環狀烷基酯，雙環不飽和化合物，不飽和芳香族化合物，共軛二烯為佳，特別是就共聚合反應性及對鹼水溶液的溶解性的觀點而言，以使用苯乙烯，t-丁基甲基丙烯酸酯，三環[5.2.1.02,6 ]癸烷-8-基甲基丙烯酸酯，p-甲氧基苯乙烯，2-甲基環己基丙烯酸酯，1,3-丁二烯，雙環[2.2.1]庚-2-烯，四氫糠基(甲基)丙烯酸酯，聚乙二醇(n=2~10)單(甲基)丙烯酸酯，3-(甲基)丙烯醯基氧四氫呋喃-2-酮，1-(四氫哌喃-2-氧)-丁基-3-烯-2-酮，糠基(甲基)丙烯酸酯為更佳。該等的化合物(a4)，可單獨使用或組合使用。
本發明所使用的共聚物[A]，根據由化合物(a1)、(a2)，(a3)及(a4)衍生之重覆單位的合計，由化合物(a4)所衍生的構成單位，較佳為含有10~80重量%，特佳為含有20~70重量%。該構成單位若不足10重量%時，所得層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性或表面硬度有降低的傾向，另一方面，該構成單位的量若超過80重量%時，敏輻射線性樹脂組成物的保存穩定性有降低的傾向。
本發明所使用的共聚物[A]，較佳的具體例方面，可例舉甲基丙烯酸/三環[5.2.1.02,6 ]癸烷-8-基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸環氧丙酯/2-甲基環己基丙烯酸酯/N-(3,5-二 甲基-4-羥基苄基)甲基丙烯醯胺/丙烯醯基嗎啉共聚物，甲基丙烯酸/甲基丙烯酸環氧丙酯/1-(四氫哌喃-2-氧)-丁基-3-烯-2-酮/N-環己基順丁烯二醯亞胺/p-甲氧基苯乙烯/3-乙基-3-甲基丙烯醯基氧甲基氧雜環丁烷/N-(3,5-二甲基-4-羥基苄基)甲基丙烯醯胺/丙烯醯基嗎啉共聚物，甲基丙烯酸/三環[5.2.1.02,6 ]癸烷-8-基甲基丙烯酸酯/苯乙烯/N-苯基順丁烯二醯亞胺/N-(4-羥基苯基)甲基丙烯醯胺/丙烯醯基嗎啉共聚物，甲基丙烯酸/甲基丙烯酸環氧丙酯/三環[5.2.1.02,6 ]癸烷-8-基甲基丙烯酸酯/n-月桂基甲基丙烯酸酯/3-甲基丙烯醯基氧四氫呋喃-2-酮/N-(4-羥基苯基)甲基丙烯醯胺/丙烯醯基嗎啉共聚物，甲基丙烯酸/甲基丙烯酸環氧丙酯/苯乙烯/2-甲基環己基丙烯酸酯/1-(四氫哌喃-2-氧)-丁基-3-烯-2-酮/4-羥基苄基甲基丙烯酸酯/丙烯醯基嗎啉共聚物，甲基丙烯酸/甲基丙烯酸環氧丙酯/三環[5.2.1.02,6 ]癸烷-8-基甲基丙烯酸酯/p-甲氧基苯乙烯/4-羥基苄基甲基丙烯酸酯/丙烯醯基嗎啉共聚物，甲基丙烯酸/三環[5.2.1.02,6 ]癸烷-8-基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸環氧丙酯/苯乙烯/p-乙烯苄基環氧丙基醚/四氫糠基甲基丙烯酸酯/4-羥基苯基甲基丙烯酸酯/丙烯醯基嗎啉共聚物，甲基丙烯酸/甲基丙烯酸環氧丙酯/N-環己基順丁烯二醯亞胺/α-甲基-p-羥基苯乙烯/四氫糠基甲基丙烯酸酯/丙烯醯基嗎啉共聚物，甲基丙烯酸/甲基丙烯酸環氧丙酯/N-環己基順丁烯二醯亞胺/3-乙基-3-甲基丙烯醯基氧甲基氧雜環丁烷/3-甲基丙烯醯基氧四氫呋喃-2-酮/四氫糠基甲基丙烯酸酯 /4-羥基苯基甲基丙烯酸酯/丙烯醯基嗎啉共聚物，甲基丙烯酸/甲基丙烯酸環氧丙酯/3-乙基-3-甲基丙烯醚基氧甲基氧雜環丁烷/四氫糠基甲基丙烯酸酯/N-苯基順丁烯二醯亞胺/α-甲基-p-羥基苯乙烯/丙烯醯基嗎啉共聚物，甲基丙烯酸/甲基丙烯酸環氧丙酯/3-乙基-3-甲基丙烯醯基氧甲基氧雜環丁烷/三環[5.2.1.02,6 ]癸烷-8-基甲基丙烯酸酯/N-環己基順丁烯二醯亞胺/n-月桂基甲基丙烯酸酯/α-甲基-p-羥基苯乙烯共聚物/丙烯醯基嗎啉等。
本發明所使用的共聚物[A]的聚苯乙烯換算重量平均分子量(以下稱為「Mw」)，較佳為2×103 ~1×105 ，更佳為5×103 ~5×104 。Mw若不足2×103 時，顯影界限將有不充分的情形，所得被膜的殘膜率等降低，又所得層間絕緣膜或微透鏡的圖型形狀，耐熱性等不佳，另一方面，若超過1×105 時，感度降低，圖型形狀不佳。
又，分子量分布(以下稱為「Mw/Mn」)較佳為5.0以下，更佳為3.0以下為所望。Mw/Mn若超過5.0時，所得層間絕緣膜或微透鏡的圖型形狀不佳。含上述共聚物[A]的敏輻射線性樹脂組成物，於顯影之際，無顯影殘留，可容易形成設定的圖型形狀。
[A]共聚物，例如可藉由將不飽和化合物(a1)，不飽和化合物(a2)，不飽和化合物(a3)及不飽和化合物(a4)，在適當的溶劑中，自由基聚合引發劑的存在下，聚合而合成。
該聚合所使用的溶劑方面，可例舉醇，醚，乙二醇醚 ，乙二醇烷基醚乙酸酯，二乙二醇烷基醚，丙二醇單烷基醚，丙二醇烷基醚乙酸酯，丙二醇烷基醚丙酸酯，芳香族烴，酮，酯等。
該等溶劑的具體例，醇方面可例舉甲醇，乙醇，苄基醇，2-苯基乙醇，3-苯基-1-丙醇等；醚方面，可例舉四氫呋喃等；乙二醇醚方面，可例舉乙二醇單甲基醚，乙二醇單乙基醚等；乙二醇烷基醚乙酸酯方面，可例舉乙二醇甲基醚乙酸酯，乙二醇乙基醚乙酸酯，乙二醇n-丙基醚乙酸酯，乙二醇n-丁基醚乙酸酯等；二乙二醇烷基醚方面，可例舉二乙二醇單甲基醚，二乙二醇單乙基醚，二乙二醇二甲基醚，二乙二醇二乙基醚，二乙二醇乙基甲基醚等；丙二醇單烷基醚方面，可例舉丙二醇單甲基醚，丙二醇單乙基醚，丙二醇單-n-丙基醚，丙二醇單-n-丁基醚等；丙二醇烷基醚乙酸酯方面，可例舉丙二醇甲基醚乙酸酯，丙二醇乙基醚乙酸酯，丙二醇n-丙基醚乙酸酯，丙二醇n-丁基醚乙酸酯等；丙二醇烷基醚丙酸酯方面，可例舉丙二醇甲基醚丙酸酯，丙二醇乙基醚丙酸酯，丙二醇n-丙基醚丙酸酯，丙二醇n-丁基醚丙酸酯等；芳香族烴方面，可例舉甲苯，二甲苯等；酮方面，可例舉甲基乙基酮，環己酮，4-羥基-4-甲基-2-戊酮等；酯方面，可例舉乙酸甲酯，乙酸乙酯，乙酸丙酯，乙酸丁酯，2-羥基丙酸乙酯，2-羥基-2-甲基丙酸甲酯，2-羥基-2-甲基丙酸乙酯，羥基乙酸甲酯，羥基乙酸乙酯，羥基乙酸丁酯，乳酸甲酯，乳酸乙酯，乳酸丙酯，乳酸丁酯， 3-羥基丙酸甲酯，3-羥基丙酸乙酯，3-羥基丙酸丙酯，3-羥基丙酸丁酯，2-羥基-3-甲基丁烷酸甲酯，甲氧基乙酸甲酯，甲氧基乙酸乙酯，甲氧基乙酸丙酯，甲氧基乙酸丁酯，乙氧基乙酸甲酯，乙氧基乙酸乙酯，乙氧基乙酸丙酯，乙氧基乙酸丁酯，丙氧基乙酸甲酯，丙氧基乙酸乙酯，丙氧基乙酸丙酯，丙氧基乙酸丁酯，丁氧基乙酸甲酯，丁氧基乙酸乙酯，丁氧基乙酸丙酯，丁氧基乙酸丁酯，2-甲氧基丙酸甲酯，2-甲氧基丙酸乙酯，2-甲氧基丙酸丙酯，2-甲氧基丙酸丁酯，2-乙氧基丙酸甲酯，2-乙氧基丙酸乙酯，2-乙氧基丙酸丙酯，2-乙氧基丙酸丁酯，2-丁氧基丙酸甲酯，2-丁氧基丙酸乙酯，2-丁氧基丙酸丙酯，2-丁氧基丙酸丁酯，3-甲氧基丙酸甲酯，3-甲氧基丙酸乙酯，3-甲氧基丙酸丙酯，3-甲氧基丙酸丁酯，3-乙氧基丙酸甲酯，3-乙氧基丙酸乙酯，3-乙氧基丙酸丙酯，3-乙氧基丙酸丁酯，3-丙氧基丙酸甲酯，3-丙氧基丙酸乙酯，3-丙氧基丙酸丙酯，3-丙氧基丙酸丁酯，3-丁氧基丙酸甲酯，3-丁氧基丙酸乙酯，3-丁氧基丙酸丙酯，3-丁氧基丙酸丁酯等的酯。
該等之中，以乙二醇烷基醚乙酸酯，二乙二醇，丙二醇單烷基醚，丙二醇烷基醚乙酸酯為佳，其中以二乙二醇二甲基醚，二乙二醇乙基甲基醚，丙二醇甲基醚，丙二醇甲基醚乙酸酯為特佳。
共聚物[A]的製造中所使用的聚合引發劑方面，一般可使用已知的自由基聚合引發劑。可例舉2,2'-偶氮雙異丁 腈，2,2'-偶氮雙-(2,4-二甲基戊腈)，2,2'-偶氮雙-(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)等的偶氮化合物；苯醯基過氧化物，月桂醯過氧化物，t-丁基過氧三甲基乙酸酯，1,1'-雙-(t-丁基過氧)環己烷等的有機過氧化物；及過氧化氫。使用過氧化物的自由基聚合引發劑時，亦可將過氧化物與還原劑一起使用，作為氧化還原型引發劑。
在共聚物[A]的製造中，可使用分子量調整劑來調整分子量。其具體例方面，可例舉氯仿，四溴化碳等的鹵化烴；n-己基硫醇，n-辛基硫醇，n-十二基硫醇，三級十二基硫醇，硫代羥乙酸等的硫醇；二甲基黃原酸基(xanthogen)硫化物，二異丙基黃原酸基(xanthogen)二硫化物等的黃原酸基(xanthogen)；蔥品油烯，α-甲基苯乙烯二聚物等。
[B]成分
本發明所使用的[B]成分之1,2-醌二疊氮基化合物方面，可例舉1,2-苯醌二疊氮基磺酸酯，1,2-萘醌二疊氮基磺酸酯，1,2-苯醌二疊氮基磺酸醯胺，1,2-萘醌二疊氮基磺酸醯胺等。
該等具體例方面，可例舉2,3,4-三羥基二苯基酮-1,2-萘醌疊氮基-4-磺酸酯，2,3,4-三羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯，2,3,4-三羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-6-磺酸酯，2,3,4-三羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-7-磺酸酯，2,3,4-三羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-8-磺酸 酯，2,4,6-三羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-4-磺酸酯，2,4,6-三羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯，2,4,6-三羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-6-磺酸酯，2,4,6-三羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-7-磺酸酯，2,4,6-三羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-8-磺酸酯等的三羥基二苯基酮的1,2-萘醌二疊氮基磺酸酯；2,2',4,4'-四羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-4-磺酸酯，2,2',4,4'-四羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯，2,2',4,4'-四羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-6-磺酸酯，2,2',4,4'-四羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-7-磺酸酯，2,2',4,4'-四羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-8-磺酸酯，2,3,4,3'-四羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-4-磺酸酯，2,3,4,3'-四羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯，2,3,4,3'-四羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-6-磺酸酯，2,3,4,3'-四羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-7-磺酸酯，2,3,4,3'-四羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-8-磺酸酯，2,3,4,4'-四羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-4-磺酸酯，2,3,4,4'-四羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯，2,3,4,4'-四羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-6-磺酸酯，2,3,4,4'-四羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-7-磺酸酯，2,3,4,4'-四羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-8-磺酸酯，2,3,4,2'-四羥基-4'-甲基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-4-磺酸酯，2,3,4,2'-四羥基-4'-甲基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯，2,3,4,2'-四羥基-4'-甲基二苯基酮-1,2-萘醌 二疊氮基-6-磺酸酯，2,3,4,2'-四羥基-4'-甲基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-7-磺酸酯，2,3,4,2'-四羥基-4'-甲基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-8-磺酸酯，2,3,4,4'-四羥基-3'-甲氧基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-4-磺酸酯，2,3,4,4'-四羥基-3'-甲氧基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯，2,3,4,4'-四羥基-3'-甲氧基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-6-磺酸酯，2,3,4,4'-四羥基-3'-甲氧基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-7-磺酸酯，2,3,4,4'-四羥基-3'-甲氧基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-8-磺酸酯等的四羥基二苯基酮的1,2-萘醌二疊氮基磺酸酯；2,3,4,2',6'-五羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-4-磺酸酯，2,3,4,2',6'-五羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯，2,3,4,2',6'-五羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-6-磺酸酯，2,3,4,2',6'-五羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-7-磺酸酯，2,3,4,2',6'-五羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-8-磺酸酯等的五羥基二苯基酮的1,2-萘醌二疊氮基磺酸酯；2,4,6,3',4',5'-六羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-4-磺酸酯，2,4,6,3',4',5'-六羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯，2,4,6,3',4',5'-六羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-6-磺酸酯，2,4,6,3',4',5'-六羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-7-磺酸酯，2,4,6,3',4',5'-六羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-8-磺酸酯，3,4,5,3',4',5'-六羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-4-磺酸酯，3,4,5,3',4',5'-六羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯，3,4,5,3',4',5'-六羥基二苯基酮-1,2- 萘醌二疊氮基-6-磺酸酯，3,4,5,3',4',5'-六羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-7-磺酸酯，3,4,5,3',4',5'-六羥基二苯基酮-1,2-萘醌二疊氮基-8-磺酸酯等的六羥基二苯基酮的1,2-萘醌二疊氮基磺酸酯；雙(2,4-二羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮基-4-磺酸酯，雙(2,4-二羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯，雙(2,4-二羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮基-6-磺酸酯，雙(2,4-二羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮基-7-磺酸酯，雙(2,4-二羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮基-8-磺酸酯，雙(p-羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮基-4-磺酸酯，雙(p-羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯，雙(p-羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮基-6-磺酸酯，雙(p-羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮基-7-磺酸酯，雙(p-羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮基-8-磺酸酯，三(p-羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮基-4-磺酸酯，三(p-羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯，三(p-羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮基-6-磺酸酯，三(p-羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮基-7-磺酸酯，三(P-羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮基-8-磺酸酯，1,1,1-三(p-羥基苯基)乙烷-1,2-萘醌二疊氮基-4-磺酸酯，1,1,1-三(p-羥基苯基)乙烷-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯，1,1,1-三(p-羥基苯基)乙烷-1,2-萘醌二疊氮基-6-磺酸酯，1,1,1-三(p-羥基苯基)乙烷-1,2-萘醌二疊氮基-7-磺酸酯，1,1,1-三(p-羥基苯基)乙烷-1,2-萘醌二疊氮基-8-磺酸酯，雙(2,3,4-三羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二 疊氮基-4-磺酸酯，雙(2,3,4-三羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯，雙(2,3,4-三羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮基-6-磺酸酯，雙(2,3,4-三羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮基-7-磺酸酯，雙(2,3,4-三羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮基-8-磺酸酯，2,2-雙(2,3,4-三羥基苯基)丙烷-1,2-萘醌二疊氮基-4-磺酸酯，2,2-雙(2,3,4-三羥基苯基)丙烷-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯，2,2-雙(2,3,4-三羥基苯基)丙烷-1,2-萘醌二疊氮基-6-磺酸酯，2,2-雙(2,3,4-三羥基苯基)丙烷-1,2-萘醌二疊氮基-7-磺酸酯，2,2-雙(2,3,4-三羥基苯基)丙烷-1,2-萘醌二疊氮基-8-磺酸酯，1,1,3-三(2,5-二甲基-4-羥基苯基)-3-苯基丙烷-1,2-萘醌二疊氮基-4-磺酸酯，1,1,3-三(2,5-二甲基-4-羥基苯基)-3-苯基丙烷-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯，1,1,3-三(2,5-二甲基-4-羥基苯基)-3-苯基丙烷-1,2-萘醌二疊氮基-6-磺酸酯，1,1,3-三(2,5-二甲基-4-羥基苯基)-3-苯基丙烷-1,2-萘醌二疊氮基-7-磺酸酯，1,1,3-三(2,5-二甲基-4-羥基苯基)-3-苯基丙烷-1,2-萘醌二疊氮基-8-磺酸酯，4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚-1,2-萘醌二疊氮基-4-磺酸酯，4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯，4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚-1,2-萘醌二疊氮基-6-磺酸酯，4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基 ]苯基]亞乙基]雙酚-1,2-萘醌二疊氮基-7-磺酸酯，4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚-1,2-萘醌二疊氮基-8-磺酸酯，雙(2,5-二甲基-4-羥基苯基)-2-羥基苯基甲烷-1,2-萘醌二疊氮基-4-磺酸酯，雙(2,5-二甲基-4-羥基苯基)-2-羥基苯基甲烷-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯，雙(2,5-二甲基-4-羥基苯基)-2-羥基苯基甲烷-1,2-萘醌二疊氮基-6-磺酸酯，雙(2,5-二甲基-4-羥基苯基)-2-羥基苯基甲烷-1,2-萘醌二疊氮基-7-磺酸酯，雙(2,5-二甲基-4-羥基苯基)-2-羥基苯基甲烷-1,2-萘醌二疊氮基-8-磺酸酯，3,3,3',3'-四甲基-1,1'-螺旋雙茚-5,6,7,5',6',7'-己醇-1,2-萘醌二疊氮基-4-磺酸酯，3,3,3',3'-四甲基-1,1'-螺旋雙茚-5,6,7,5',6',7'-己醇-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯，3,3,3',3'-四甲基-1,1'-螺旋雙茚-5,6,7,5',6',7'-己醇-1,2-萘醌二疊氮基-6-磺酸酯，3,3,3',3'-四甲基-1,1'-螺旋雙茚-5,6,7,5',6',7'-己醇-1,2-萘醌二疊氮基-7-磺酸酯，3,3,3',3'-四甲基-1,1'-螺旋雙茚-5,6,7,5',6',7'-己醇-1,2-萘醌二疊氮基-8-磺酸酯，2,2,4-三甲基-7,2',4'-三羥基黃烷-1,2-萘醌二疊氮基-4-磺酸酯，2,2,4-三甲基-7,2',4'-三羥基黃烷-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸，2,2,4-三甲基-7,2',4'-三羥基黃烷-1,2-萘醌二疊氮基-6-磺酸酯，2,2,4-三甲基-7,2',4'-三羥基黃烷-1,2-萘醌二疊氮基-7-磺酸，2,2,4-三甲基-7,2',4'-三羥基黃烷-1,2-萘醌二疊氮基-8-磺酸等的(聚羥基苯基)鏈烷的1,2-萘醌二疊氮基磺酸酯。
該等的1,2-醌二疊氮基化合物可單獨使用或組合2種類以上使用。
[B]成分的使用比率，相對於共聚物[A]100重量份，較佳為5~100重量份，更佳為10~50重量份。該比率若不足5重量份時，由於因輻射線的照射產生的酸量少，對成為輻射線的照射部分與未照射部分的顯影液之鹼水溶液，溶解度的差異小，圖型化有困難的傾向。又，由於參與與共聚物[A]的反應之酸量變少，有無法獲得充分的耐熱性及耐溶劑性的情形。另一方面，該比率若超過100重量份時，在短時間的輻射線照射下，由於未反應的[B]成分大量殘存，對該鹼水溶液的不溶效果過高，顯影有困難的傾向。
其他成分
本發明的敏輻射線性樹脂組成物，含有上述共聚物[A]及[B]成分的必須成分，但其他可因應需要含有：[C]感熱性酸生成化合物，[D]具有至少1個乙烯性不飽和雙鍵的聚合性化合物，[E]異於共聚物[A]之其他的環氧基樹脂，[F]界面活性劑或[G]黏接助劑。
上述[C]感熱性酸生成化合物，可用來提高耐熱性或硬度。其具體例方面，可例舉鎏鹽，苯并唑鎓鹽，銨鹽，鏻鹽等的鎓鹽。
上述鎏鹽的具體例方面，可例舉烷基鎏鹽，苄基鎏鹽，二苄基鎏鹽，取代苄基鎏鹽等。
該等具體例方面，烷基鎏鹽可例舉4-乙醯苯基二甲基鎏六氟銻酸鹽，4-乙醯氧基苯基二甲基鎏六氟砷酸鹽，二甲基-4-(苄基氧羰氧)苯基鎏六氟銻酸鹽，二甲基-4-(苯醯基氧)苯基鎏六氟銻酸鹽，二甲基-4-(苯醯基氧)苯基鎏六氟砷酸鹽，二甲基-3-氯-4-乙醯氧基苯基鎏六氟銻酸鹽等；苄基鎏鹽可例舉苄基-4-羥基苯基甲基鎏六氟銻酸鹽，苄基-4-羥基苯基甲基鎏六氟磷酸鹽，4-乙醯氧基苯基苄基甲基鎏六氟銻酸鹽，苄基-4-甲氧基苯基甲基鎏六氟銻酸鹽，苄基-2-甲基-4-羥基苯基甲基鎏六氟銻酸鹽，苄基-3-氯-4-羥基苯基甲基鎏六氟砷酸鹽，4-甲氧基苄基-4-羥基苯基甲基鎏六氟磷酸鹽等；二苄基鎏鹽可例舉二苄基-4-羥基苯基鎏六氟銻酸鹽，二苄基-4-羥基苯基鎏六氟磷酸鹽，4-乙醯氧基苯基二苄基鎏六氟銻酸鹽，二苄基-4-甲氧基苯基鎏六氟銻酸鹽，二苄基-3-氯-4-羥基苯基鎏六氟砷酸鹽，二苄基-3-甲基-4-羥基-5-三級丁基苯基鎏六氟銻酸鹽，苄基-4-甲氧基苄基-4-羥基苯基鎏六氟磷酸鹽等；取代苄基鎏鹽可例舉p-氯苄基-4-羥基苯基甲基鎏六氟銻酸鹽，p-硝基苄基-4-羥基苯基甲基鎏六氟銻酸鹽，p-氯苄基-4-羥基苯基甲基鎏六氟磷酸鹽，p-硝基苄基-3-甲基-4-羥基苯基甲基鎏六氟銻酸鹽，3,5-二氯苄基-4-羥基苯基甲基鎏六氟銻酸鹽，o-氯苄基-3-氯-4-羥基苯基甲基鎏六氟銻酸鹽等。
上述苯并唑鎓鹽的具體例方面，可例舉3-苄基苯并唑鎓六氟銻酸鹽，3-苄基苯并唑鎓六氟磷酸鹽，3-苄基苯并唑鎓四氟硼酸酯，3-(p-甲氧基苄基)苯并唑鎓六氟銻酸鹽，3-苄基-2-甲基硫代苯并唑鎓六氟銻酸鹽，3-苄基-5-氯苯并唑鎓六氟銻酸鹽等的苄基苯并唑鎓鹽。
該等之中，以使用鎏鹽及苯并唑鎓鹽為佳，特別以使用4-乙醯氧基苯基二甲基鎏六氟砷酸鹽，苄基-4-羥基苯基甲基鎏六氟銻酸鹽，4-乙醯氧基苯基苄基甲基鎏六氟銻酸鹽，二苄基-4-羥基苯基鎏六氟銻酸鹽，4-乙醯氧基苯基苄基鎏六氟銻酸鹽，3-苄基苯并噻唑鎓六氟銻酸鹽為佳。
該等的市售品方面，可例舉sun aid SI-L85，同SI-L110，同SI-L145，同SI-L150，同SI-L160(三新化學工業公司製)等。
[C]成分的使用比率，相對於共聚物[A]100重量份，較佳為20重量份以下，更佳為5重量份以下。該使用量若超過20重量份時，在塗膜形成步驟中析出物將析出，導致塗膜形成故障。
上述[D]成分之具有至少1個乙烯性不飽和雙鍵的聚合性化合物(以下稱為「D成分」)方面，可例舉較佳的單官能(甲基)丙烯酸酯，2官能(甲基)丙烯酸酯或3官能以上的(甲基)丙烯酸酯。
上述單官能(甲基)丙烯酸酯方面，可例舉2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯，卡必醇(甲基)丙烯酸酯，異基(甲基)丙烯酸酯，3-甲氧基丁基(甲基)丙烯酸酯，2- (甲基)丙烯醯基氧乙基-2-羥基丙基鄰苯二酸酯等。該等的市售品方面，可例舉aronix M-101，同M-111，同M-114(以上，東亞合成公司製)，KAYARAD TC-110S，同TC-120S(以上，日本化藥公司製)，bisuko-to158，同2311(以上，大阪有機化學工業公司製)等。
上述2官能(甲基)丙烯酸酯方面，可例舉乙二醇(甲基)丙烯酸酯，1,6-己烷二醇二(甲基)丙烯酸酯，1,9-壬烷二醇二(甲基)丙烯酸酯，聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯，四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯，雙苯氧基乙醇茀丙烯酸酯，雙苯氧基乙醇茀丙烯酸酯等。該等的市售品方面，可例舉aronix M-210，同M-240，同M-6200(以上，東亞合成公司製)，KAYARAD HDDA，同HX-220，同R-604(以上，日本化藥公司製)，bisuko-to260，同312，同335HP(以上，大阪有機化學工業公司製)等。
上述3官能以上的(甲基)丙烯酸酯方面，可例舉三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯，新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯，三((甲基)丙烯醯氧乙基)磷酸酯，新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯，二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯，二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等，其市售品方面，可例舉aronix M-309，同M-400，同M-405，同M-450，同M-7100，同M-8030，同M-8060(以上，東亞合成公司製)，KAYARAD TMPTA，同DPHA，同DPCA-20，同DPCA-30，同DPCA-60，同DPCA-120(以上，日本化藥公司製)，bisuko-to 295，同300，同360，同GPT，同3PA， 同400(以上，大阪有機化學工業公司製)等。
該等之中，以使用3官能以上的(甲基)丙烯酸酯為佳，其中，以三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯，新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯，二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯為特佳。
該等的單官能，2官能或3官能以上的(甲基)丙烯酸酯，可單獨使用或組合使用。[D]成分的使用比率，相對於共聚物[A]100重量份，較佳為50重量份以下，更佳為30重量份以下。
藉由含有此種比率的[D]成分，可使由本發明的敏輻射線性樹脂組成物所得的層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性及表面硬度等提高。該使用量若超過50重量份時，在基板上形成敏輻射線性樹脂組成物的塗膜之步驟中，將會產生膜乾斑。
上述[E]成分之異於共聚物[A]之其他的環氧基樹脂(以下稱為「E成分」)方面，只要不影響相溶性，並無特別限定。較佳可例舉雙酚A型環氧基樹脂，苯酚酚醛清漆型環氧基樹脂，甲酚酚醛清漆型環氧基樹脂，環狀脂肪族環氧基樹脂，環氧丙基酯型環氧基樹脂，環氧丙基胺型環氧基樹脂，雜環式環氧基樹脂，將環氧丙基甲基丙烯酸酯(共)聚合的樹脂等。該等之中，以雙酚A型環氧基樹脂，甲酚酚醛清漆型環氧基樹脂，環氧丙基酯型環氧基樹脂等為特佳。
[E]成分的使用比率，相對於共聚物[A]100重量份， 較佳為30重量份以下。藉由含有此種比率的[E]成分，可進而提高由本發明的敏輻射線性樹脂組成物所得之保護膜或絕緣膜的耐熱性及表面硬度等。該比率若超過30重量份時，於基板上形成敏輻射線性樹脂組成物的塗膜之際，塗膜的膜厚均一性將變得不充分。
此外，共聚物[A]亦可稱為「環氧基樹脂」，但在具鹼可溶性這一點與[E]成分相異。[E]成分為鹼不溶性。
本發明的敏輻射線性樹脂組成物中，進而可使用上述[F]成分的界面活性劑以提高塗佈性。在此可使用的[F]界面活性劑方面，較佳為使用氟系界面活性劑，聚矽氧系界面活性劑及非離子系界面活性劑。
氟系界面活性劑的具體例方面，除了1,1,2,2-四氟辛基(1,1,2,2-四氟丙基)醚，1,1,2,2-四氟辛基己基醚，八乙二醇二(1,1,2,2-四氟丁基)醚，六乙二醇(1,1,2,2,3,3-六氟戊基)醚，八丙二醇二(1,1,2,2-四氟丁基)醚，六丙二醇二(1,1,2,2,3,3-六氟戊基)醚，全氟十二基磺酸鈉，1,1,2,2,8,8,9,9,10,10-十氟十二烷，1,1,2,2,3,3-六氟癸烷等之外，可例舉氟烷基苯磺酸鈉；氟烷基氧乙烯醚；氟烷基銨碘化物，氟烷基聚氧乙烯醚，全氟烷基聚氧乙醇；全氟烷基烷氧化物；氟系烷基酯等。該等的市售品方面，可例舉BM-1000，BM-1100(以上，BM Chemie公司製)，megafuck F142D，同F172，同F173，同F183，同F178，同F191，同F471(以上，大日本油墨化學工業公司製)，Fluorad FC-170，FC-171，FC-430，FC-431 (以上，住友3M公司製)，Safron S-112，同S-113，同S-131，同S-141，同S-145，同S-382，同SC-101，同SC-102，同SC-103，同SC-104，同SC-105，同SC-106(旭硝子公司製)，f-topEF301，同303，同352(新秋田化成公司製)等。
上述聚矽氧系界面活性劑方面，可例舉商品名DC3PA，DC7PA，FS-1265，SF-8428，SH11PA，SH21PA，SH28PA，SH29PA，SH30PA，SH-190，SH-193，SZ-6032(以上，Toray‧Dow Corning‧聚矽氧公司製)，TSF-4440，TSF-4300，TSF-4445，TSF-4446，TSF-4460，TSF-4452(以上，GE東芝聚矽氧公司製)等的的市售品。
上述非離子系界面活性劑方面，可使用聚氧乙烯月桂基醚，聚氧乙烯硬脂醯基醚，聚氧乙烯油基醚等的聚氧乙烯烷基醚；聚氧乙烯辛基苯基醚，聚氧乙烯壬基苯基醚等的聚氧乙烯芳基醚；聚氧乙烯二月桂酸酯，聚氧乙烯二硬脂酸酯等的聚氧乙烯二烷基酯等；(甲基)丙烯酸系共聚物polyflow No.57，95(共榮公司化學公司製)等。
該等界面活性劑可單獨使用，或組合2種以上使用。
該等[F]界面活性劑，相對於共聚物[A]100重量份，較佳為使用5重量份以下，更佳為使用2重量份以下。[F]界面活性劑的使用量若超過5重量份時，於基板上形成塗膜之際，易產生塗膜的膜乾斑。
本發明的敏輻射線性樹脂組成物中，又，可使用[G]成分的黏接助劑以提高與基體的黏接性。此種[G]黏接助 劑方面，以使用官能性矽烷偶合劑為佳，可例舉具有羧基，甲基丙烯醯基，異氰酸酯基，環氧基等反應性取代基的矽烷偶合劑。具體言之，可例舉三甲氧基矽烷基苯甲酸，γ-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷，乙烯三乙醯氧基矽烷，乙烯三甲氧基矽烷，γ-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷，γ-環氧丙基丙基三甲氧基矽烷，β-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷等。此種[G]黏接助劑，相對於共聚物[A]100重量份，較佳為使用20重量份以下，更佳為使用10重量份以下的量。黏接助劑的量若超過20重量份時，顯影步驟中，易有顯影殘留的情形。
敏輻射線性樹脂組成物
本發明的敏輻射線性樹脂組成物，可藉由平均混合上述的共聚物[A]及[B]成分，以及任意添加如上述的其他成分而調製。較佳為將本發明的敏輻射線性樹脂組成物溶解於適當的溶劑中，成為溶液狀態而使用。例如可將共聚物v[A]及[B]成分，以及任意添加的其他成分，以設定的比率混合，調製溶液狀態的敏輻射線性樹脂組成物。
調製本發明敏輻射線性樹脂組成物所使用的溶劑方面，可使用能平均溶解共聚物[A]及[B]成分以及任意配合的其他成分，且與各成分不產生反應之物。
此種溶劑方面，可例舉同於用來製造上述共聚物[A]之可使用的溶劑所例示之物。
此種溶劑之中，就各成分的溶解性，與各成分的反應 性，易形成塗膜等的觀點而言，以使用醇，乙二醇醚，乙二醇烷基醚乙酸酯，酯及二乙二醇為佳。該等之中，以使用苄基醇，2-苯基乙基醇，3-苯基-1-丙醇，乙二醇單丁基醚乙酸酯，二乙二醇單乙基醚乙酸酯，二乙二醇二乙基醚，二乙二醇乙基甲基醚，二乙二醇二甲基醚，丙二醇單甲基醚，丙二醇單甲基醚乙酸酯，甲氧基丙酸甲基，乙氧基丙酸乙基為特佳。
進而為了提高膜厚面內的均一性，該溶劑可同時併用高沸點溶劑。可併用的高沸點溶劑方面，可例舉N-甲基甲醯胺，N,N-二甲基甲醯胺，N-甲基N-甲醯苯胺，N-甲基乙醯胺，N,N-二甲基乙醯胺，N-甲基吡咯啶酮，二甲基亞碸，苄基乙基醚，二己基醚，丙酮基丙酮，異佛爾酮，己酸，辛酸，1-辛醇，1-壬醇，乙酸苄酯，苯甲酸乙酯，草酸二乙酯，順丁烯二酸二乙酯，γ-丁內酯，碳酸乙烯酯，碳酸丙烯酯，苯基溶纖劑乙酸酯等。該等之中，以N-甲基吡咯啶酮，γ-丁內酯，N,N-二甲基乙醯胺為佳。
本發明敏輻射線性樹脂組成物的溶劑併用高沸點溶劑時，其使用量，相對於溶劑全量，較佳為50重量%以下，更佳為40重量%以下，進而更佳為30重量%以下。高沸點溶劑的使用量若超過該使用量時，塗膜的膜厚均一性，感度及殘膜率有降低的情形。
將本發明的敏輻射線性樹脂組成物調製成溶液狀態時，在溶液中所佔，溶劑以外的成分(亦即共聚物[A]及[B]成分以及任意添加的其他成分的合計量)的比率，依照使 用目的或所期望膜厚的值等可任意設定，但較佳為5~50重量%，更佳為10~40重量%，進而更佳為15~35重量%。
如此一來調製的組成物溶液，使用孔徑0.2μm左右的微孔過濾器等過濾之後，亦可供使用。
層間絕緣膜，微透鏡的形成
接著說明使用本發明的敏輻射線性樹脂組成物，形成本發明的層間絕緣膜，微透鏡的方法。本發明的層間絕緣膜或微透鏡的形成方法，係依照下列記載的順序含有以下的步驟。
(1)於基板上形成本發明敏輻射線性樹脂組成物的塗膜之步驟，(2)在該塗膜的至少一部分照射輻射線的步驟，(3)顯影步驟，及(4)加熱步驟。
(1)於基板上形成本發明敏輻射線性樹脂組成物的塗膜之步驟
在上述(1)的步驟中，將本發明的組成物溶液塗佈於基板表面，較佳為藉由預烘烤去除溶劑，形成敏輻射線性樹脂組成物的塗膜。
可使用的基板種類方面，可例舉玻璃基板，矽晶圓及在該等表面上，各種金屬所形成的基板。
組成物溶液的塗佈方法方面，並無特別限定，可採用噴灑法，輥塗佈法，旋轉塗佈法，縫模塗佈法，棒塗佈法，噴墨法等適宜的方法，特別以旋轉塗佈法，縫模塗佈法為佳。預烘烤的條件方面，亦依各成分的種類，使用比率等而有所不同。例如，可在60~110℃下預烘烤30秒～15分鐘左右。
形成塗膜的膜厚方面，預烘烤後的值方面，形成層間絕緣膜時，例如以3~6μm為佳，形成微透鏡時，例如以0.5~3μm為佳。
(2)將該塗膜的至少一部分照射輻射線的步驟
上述(2)的步驟中，介由具有設定圖型的光罩，於所形成之塗膜上照射，輻射線後，藉由以顯影液顯影處理，去除輻射線的照射部分，進行圖型化。此時，所使用的輻射線方面，可例舉紫外線，遠紫外線，X線，荷電粒子線等。
上述紫外線方面，可例舉g線(波長436nm)，i線(波長365nm)等。遠紫外線方面，可例舉KrF準分子雷射等。X線方面，可例舉同步加速器輻射線等。荷電粒子線方面，可例舉電子束等。
該等之中，以紫外線為佳，其中尤以含g線及/或i線的輻射線為特佳。
曝光量方面，於形成層間絕緣膜時，以50~1,500J/m2 為佳，於形成微透鏡時，以50~2,000J/m2 為佳 。
(3)顯影步驟
顯影處理所使用的顯影液方面，可使用氫氧化鈉，氫氧化鉀，碳酸鈉，矽酸鈉，偏矽酸鈉，氨，乙基胺，n-丙基胺，二乙基胺，二乙基胺基乙醇，二-n-丙基胺，三乙基胺，甲基二乙基胺，二甲基乙醇胺，三乙醇胺，氫氧化四甲基銨，氫氧化四乙基銨，吡咯，哌啶，1,8-雙氮雜二環[5.4.0]-7-十一烯，1,5-雙氮雜二環[4.3.0]-5-壬烷等的鹼(鹼性化合物)水溶液。又，可將在在上述的鹼水溶液中，適當添加甲醇，乙醇等的水溶性有機溶劑或界面活性劑的水溶液，或溶解本發明的組成物之各種有機溶劑作為顯影液使用。進而，顯影方法方面，可使用盛液法，浸漬法，搖動浸漬法，沖洗法等適宜的方法。此時的顯影時間，依照組成物的組成而有所不同，例如可顯影30~120秒。
此外，習知的敏輻射線性樹脂組成物，由於顯影時間若超過最適值20~25秒左右時，易產生形成之圖型剝離的現象，故必須嚴格控制顯影時間，但本發明的敏輻射線性樹脂組成物時，即使超過最適的顯影時間30秒以上，亦可形成良好的圖型，具有製品生產率上的優點。
(4)加熱步驟
如上述實施之(3)的顯影步驟後，對圖型化的薄膜 ，較佳為例如進行流水洗淨的沖洗處理，進而，更佳為藉由高壓水銀燈的輻射線全面照射(後曝光)，進行該當薄膜中殘存1,2-醌二疊氮化合物的分解處理後，藉由以熱板，烤箱等的加熱裝置，將薄膜加熱處理(事後烘烤處理)，進行該當薄膜的硬化處理。上述後曝光步驟中，曝光量較佳為2,000~5,000J/m2 左右。又，該硬化處理中，燒成溫度例如為120~250℃。加熱時間依加熱機器的種類而異，但例如在熱板上進行加熱處理時，可為5~30分鐘，在烤箱中進行加熱處理時，可為30~90分鐘。此時，可使用進行2次以上加熱步驟的步進烘焙(step bake)法等。
如此一來，對應目的的層間絕緣膜或微透鏡，可於基板表面上形成圖型狀薄膜。
如上述所形成之層間絕緣膜及微透鏡，如同後述實施例所得知者，其密接性，耐熱性，耐溶劑性，及透明性等均為優異。
層間絕緣膜
如上述所形成之本發明的層間絕緣膜，與基板的密接性良好，耐溶劑性及耐熱性優異，具有高透過率，介電率低，可適用於電子零件的層間絕緣膜。
微透鏡
如上述所形成之本發明的微透鏡，與基板的密接性良好，耐溶劑性及耐熱性優異，且具備高透過率與良好的熔 體形狀，可適用於固體成像(imaging)元件的微透鏡。
此外，本發明之微透鏡的形狀，如第1圖(a)所示，為半凸的透鏡形狀。
如上述，本發明之敏輻射線性樹脂組成物，具有高敏輻射線感度，在顯影步驟中，具有即使超過最適顯影時間，亦可形成良好圖型形狀的顯影界限，容易形成密接性優異的圖型狀薄膜。
由上述組成物所形成之本發明的層間絕緣膜，與基板的密接性良好，耐溶劑性及耐熱性優異，具有高透過率，介電率低，可適用於電子零件的層間絕緣膜。
又，由上位組成物所形成之本發明的微透鏡，與基板的密接性良好，耐溶劑性及耐熱性優異，且具備高透過率與良好的熔體形狀，可適用於固體成像(imaging)元件的微透鏡。
 實施例
以下例示合成例，實施例及比較例，進而具體說明本發明，但本發明並不限定於以下的實施例。
合成例1
在備有冷卻管，攪拌機的燒瓶內，放入2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)7重量份及丙二醇單甲基醚乙酸酯220重量份。接著，放入甲基丙烯酸22重量份，二環戊基甲 基丙烯酸酯23重量份，丙烯醯基嗎啉5重量份，3-乙基-3-甲基丙烯醯基氧甲基氧雜環丁烷50重量份及α-甲基苯乙烯二聚物3重量份，一面氮取代，一面開始慢慢攪拌。使溶液的溫度上升至70℃，以該溫度加熱4小時，獲得含共聚物[A-1]的聚合物溶液。所得聚合物溶液的固形成分濃度為31.1重量%，聚合物的重量平均分子量為17,200，分子量分布(重量平均分子量/數平均分子量的比)為1.9。此外，重量平均分子量及數平均分子量，係使用GPC(凝膠滲透層析術(Tosoh公司製HLC-8020)測定的聚苯乙烯換算平均分子量。
合成例2
在備有冷卻管，攪拌機的燒瓶內，放入2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)7重量份及二乙二醇乙基甲基醚220重量份。接著，放入甲基丙烯酸13重量份，環氧丙基甲基丙烯酸酯50重量份，3-乙基-3-甲基丙烯醯基氧甲基氧雜環丁烷10重量份，環己基順丁烯二醯亞胺10重量份，丙烯醯基嗎啉10重量份及四氫糠基丙烯酸酯7重量份，一面氮取代，一面開始慢慢攪拌。使溶液的溫度上升至70℃，以該溫度加熱4小時，獲得含共聚物[A-2]的聚合物溶液。所得之聚合物溶液的固形成分濃度為32.1重量%，聚合物的重量平均分子量為18,200，分子量分布為1.8。
合成例3
在備有冷卻管，攪拌機的燒瓶內，放入2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)7重量份及二乙二醇乙基甲基醚200重量份。接著，放入甲基丙烯酸11重量份，環己基順丁烯二醯亞胺12重量份，α-甲基-p-羥基苯乙烯9重量份，環氧丙基甲基丙烯酸酯50重量份，3-乙基-3-甲基丙烯醯基氧甲基氧雜環丁烷10重量份，丙烯醯基嗎啉5重量份，四氫糠基甲基丙烯酸酯3重量份及α-甲基苯乙烯二聚物3重量份，一面氮取代，一面開始慢慢攪拌。使溶液的溫度上升至70℃，以該溫度加熱5小時，獲得含共聚物[A-3]的聚合物溶液。所得聚合物溶液的固形成分濃度為32.4重量%，聚合物的重量平均分子量為21,200，分子量分布為2.1。
合成例4
在備有冷卻管，攪拌機的燒瓶內，放入2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)8重量份及二乙二醇乙基甲基醚220重量份。接著，放入苯乙烯10重量份，甲基丙烯酸20重量份，3-乙基-3-甲基丙烯醯基氧甲基氧雜環丁烷20重量份，環氧丙基甲基丙烯酸酯30重量份，丙烯醯基嗎啉8重量份，四氫糠基丙烯酸酯12重量份及α-甲基苯乙烯二聚物4.0重量份，一面氮取代，一面開始慢慢攪拌。使溶液的溫度上升至70℃，以該溫度加熱5小時，獲得含共聚物[A-4]的聚合物溶液。所得聚合物溶液的固形成分濃度為32.0重量%，聚合物的重量平均分子量為20,100，分子量 分布為1.9。
比較合成例1
在備有冷卻管，攪拌機的燒瓶內，放入2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊睛)7重量份及二乙二醇甲基乙基醚220重量份。接著，放入甲基丙烯酸23重量份，二環戊基甲基丙烯酸酯47重量份，甲基丙烯酸環氧丙酯20重量份及α-甲基苯乙烯二聚物2.0重量份，一面氮取代，一面開始慢慢攪拌。使溶液的溫度上升至70℃，保持溫度5小時，獲得含共聚物[A-1R]的聚合物溶液。所得聚合物溶液的固形成分濃度為32.8重量%，聚合物的重量平均分子量為24,000，分子量分布為2.3。
比較合成例2
在備有冷卻管，攪拌機的燒瓶內，放入2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)7重量份及二乙二醇甲基乙基醚220重量份。接著裝入甲基丙烯酸25重量份，二環戊基甲基丙烯酸酯35重量份，2-羥基乙基甲基丙烯酸酯40重量份及α-甲基苯乙烯二聚物2.0重量份，一面氮取代，一面開始慢慢攪拌。使溶液的溫度上升至70℃，保持該溫度5小時，獲得含共聚物[A-2R]的聚合物溶液。所得之聚合物溶液的固形成分濃度為32.8重量%，聚合物的重量平均分子量為25,000，分子量分布為2.4。
實施例1 敏輻射線性樹脂組成物的調製
混合合成例1所得之含共聚物[A-1]的聚合物溶液(相當於共聚物[A-1]100重量份(固形成分))，與成分[B]的4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚(1莫耳)與1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸氯化物(2莫耳)的縮合物(4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯)20重量份，及γ-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷5重量份，使固形成分濃度成為30重量%，在溶解於丙二醇單甲基醚乙酸酯後，以孔徑0.5μm的微孔過濾器過濾，調製敏輻射線性樹脂組成物的溶液(S-1)。
層間絕緣膜的評價 (I)圖型狀薄膜的形成
使用旋轉器，於玻璃基板上塗佈上述組成物溶液(S-1)後，於熱板上80℃下預烘烤3分鐘，形成塗膜。
使用設定的圖型光罩，在上述所得的塗膜上，以365nm下強度為10mW/cm2 的紫外線照射15秒。接著，在氫氧化四甲基銨0.5重量%水溶液中，25℃下顯影1分鐘後，以純水沖洗1分鐘。藉由該等操作，去除不要的部分。
在上述所形成的圖型上，照射365nm下強度為10mW/cm2 的紫外線30秒後，在烤箱中220℃下，加熱60 分鐘使其硬化，獲得膜厚3μm的圖型狀薄膜。
又，除了預烘烤溫度為90℃，100℃之外，其他與上述一樣，進行操作，形成預烘烤溫度相異的3種圖型狀薄膜。
(II)解像度的評價
在上述(I)所得之圖型狀薄膜中，抽出圖型(5μm×5μm電洞)能解像時以○表示，不能解像時以×表示。結果如表1所示。
(III)耐熱尺寸穩定性的評價
上述(I)中，將預烘烤溫度80℃下形成的薄膜圖型於烤箱中，220℃下加熱60分。加熱前後膜厚的變化率如表2所示。此時，加熱前後的尺寸變化率在5%以內的時，耐熱尺寸穩定性良好，尺寸變化率超過5%時，可謂不良。
(IV)透明性的評價
上述(I)中，使用分光光度計(150-20型double beam(日立製作所公司製))測定預烘烤溫度80℃下形成之圖型狀薄膜的400nm的透過率，進行透明性評價。該結果如表2所示。此時，透過率超過90%以上時，透明性良好，不足90%時，可謂不良。
(V)耐熱變色性的評價
上述(I)中，將預烘烤溫度80℃下形成的具有圖型狀薄膜的基板，於250℃的烤箱中加熱1小時，以加熱前後圖型狀薄膜透過率的變化評價耐熱變色性。此時評價結果如表2所示。變化率不足5%時，耐熱變色性良好，超過5%時，可謂不良。此外透過率係以同於(IV)透明性的評價之方式而求得。
(VI)密接性的評價
藉由壓力鍋試驗(120℃，濕度100%，4小時)後的棋盤眼剝離試驗，對上述(I)中預烘烤溫度80℃下形成的圖型狀薄膜的密接性進行評價。此時，評價結果如表2所示。評價結果以棋盤眼100個中，殘留棋盤眼的數目表示。
(VII)保存穩定性的評價
將上述組成物溶液於40℃的烤箱中加熱1週，以加熱前後黏度的變化進行保存穩定性的評價。此時，黏度變化率如表1所示。變化率不足5%時，保存穩定性良好，5%以上時，保存穩定性可謂不良。
微透鏡的評價 (I)微透鏡的形成
在6英吋矽基板上，旋轉塗佈上述組成物溶液(S-1 )成為2.5μm的膜厚，於熱板上70℃下預烘烤3分鐘，形成塗膜。
使用設定之圖型光罩，在上述所得之塗膜上，照射436nm下強度為10mW/cm2 的紫外線。接著，以氫氧化四甲基銨2.38重量%水溶液25℃下顯影1分鐘後，以純水沖洗1分鐘。藉由該等操作，去除不要的部分，形成圖型。
在上述所形成之圖型上，照射436nm下強度為10mW/cm2 的紫外線200mJ/cm2 後，160℃下加熱10分鐘，進而230℃下加熱10分鐘，使圖型熔融，形成微透鏡。
(II)感度的評價
將上述(I)所得之熔融後的微透鏡圖型的0.8μm線與間距圖型(10對1)之可解像間距線寬的最低照射量如表3所示。該值低於100mJ/cm2 時，解像度良好，感度超過100mJ/cm2 時，解像度可謂不良。
(III)透明性的評價
同於上述(I)，於玻璃基板上形成圖型狀薄膜。
使用分光光度計(150-20型double beam(日立製作所公司製))，對熔融後形成微透鏡圖型的玻璃基板測定400nm的透過率，進行透明性評價。此時，400nm的透過率如表3所示。透過率為90~100%時，表示透過率良好，不足90%時，表示透過率不良。
(IV)耐熱透明性的評價
將上述(III)中形成的具有圖型狀薄膜的玻璃基板於250℃的烤箱中加熱1小時，以加熱前後圖型狀薄膜透過率的變化進行耐熱透明性的評價。此時透過率的變化率如表3所示。變化率不足5%時，表示耐熱透明性良好，超過5%時，可謂不良。
此外透過率係以同於(III)透明性的評價之作法而求得。
(V)密接性的評價
藉由壓力鍋試驗(120℃，濕度100%，4小時)後的棋盤眼剝離試驗，對上述(I)形成之圖型狀薄膜的密接性進行評價。此時，評價結果如表3所示。評價結果以棋盤眼100個中，殘留棋盤眼的數目表示。
(VII)耐溶劑性的評價
將同於上述(III)之作法形成的具有圖型狀薄膜的玻璃基板，浸漬於50℃中的異丙基醇中10分鐘，評價膜厚的變化。此時的變化率如表3所示。變化為0~5%時，表示耐溶劑性良好，超過5%時，及因溶解使膜厚降低時，表示耐溶劑性不良。
實施例2
混合合成例2所得之含共聚物[A-2]的聚合物溶液( 相當於共聚物[A-2]100重量份(固形成分))，與成分[B]的4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚(1莫耳)與1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸氯化物(2莫耳)的縮合物(4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯)20重量份，及γ-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷5重量份予以混合，使固形成分濃度成為31重量%，溶解於丙二醇單甲基醚乙酸酯後，以孔徑0.5μm的微孔過濾器過濾，調製敏輻射線性樹脂組成物的溶液(S-2)，進行評價。結果如表1~3所示。
實施例3
混合合成例3所得之含共聚物[A-3]的聚合物溶液(相當於共聚物[A-3]100重量份(固形成分))，與成分[B]的4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚(1莫耳)與1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸氯化物(2莫耳)的縮合物(4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯)18重量份，及γ-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷5重量份，使固形成分濃度成為30重量%，溶解於丙二醇單甲基醚乙酸酯後，以孔徑0.5μm的微孔過濾器過濾，調製敏輻射線性樹脂組成物的溶液(S-3)，進行評價。結果如表1~3所示。
實施例4
混合合成例4所得之含共聚物[A-4]的聚合物溶液(相當於共聚物[A-4]100重量份(固形成分))，與成分[B]的4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚(1莫耳)與1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸氯化物(2莫耳)的縮合物(4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯)30重量份，4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚5重量份，及γ-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷5重量份予以混合，使固形成分濃度成為31重量%，溶解於丙二醇單甲基醚乙酸酯後，以孔徑0.5μm的微孔過濾器過濾，調製敏輻射線性樹脂組成物的溶液(S-4)，進行評價。結果如表1~3所示。
比較例1
混合比較合成例1所得之含共聚物[A-1R]的聚合物溶液(相當於共聚物[A-1R]100重量份(固形成分))，與成分[B]的4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚(1莫耳)與1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸氯化物(2莫耳)的縮合物(4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯)30重量份，及γ-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷5重量份予以混合，使固形成分濃度成為31重量%，溶解於丙二醇單甲基醚乙酸酯後，以孔徑0.5μm的微孔過濾器過 濾，調製敏輻射線性樹脂組成物的溶液(S-1R)，進行評價。結果如表1~3所示。
比較例2
混合比較合成例2所得之含共聚物[A-2R]的聚合物溶液(相當於共聚物[A-2R]100重量份(固形成分))，與成分[B]的4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚(1莫耳)與1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸氯化物(2莫耳)的縮合物(4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯)18重量份，及γ-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷5重量份予以混合，使固形成分濃度成為31重量%，溶解於丙二醇單甲基醚乙酸酯後，以孔徑0.5μm的微孔過濾器過濾，調製敏輻射線性樹脂組成物的溶液(S-2R)，進行評價。結果如表1~3所示。
第1圖係表示微透鏡形狀的模式圖。

Claims (7)

  1. 一種敏輻射線性樹脂組成物，其特徵為含有：[A](a1)選自不飽和羧酸及不飽和羧酸酐所成群之至少1種，(a2)含有環氧基及氧雜環丁烷基之至少一個的不飽和化合物，(a3)選自丙烯醯基嗎啉及甲基丙烯醯基嗎啉所成群之至少1種，(a4)異於上述化合物(a1)、(a2)及(a3)的任一種，且選自甲基丙烯酸烷基酯、甲基丙烯酸環狀烷基酯、丙烯酸烷基酯、丙烯酸環狀烷基酯、丙烯酸芳基酯、甲基丙烯酸芳基酯、不飽和二羧酸二酯、羥基甲基丙烯酸酯、羥基丙烯酸酯、雙環不飽和化合物、順丁烯二醯亞胺化合物、不飽和芳香族化合物、共軛二烯、具四氫呋喃骨架的不飽和化合物、具呋喃骨架的不飽和化合物、具四氫哌喃骨架的不飽和化合物、具哌喃骨架的不飽和化合物、丙烯睛、甲基丙烯腈、氯化乙烯、氯化亞乙烯、丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺及乙酸乙烯酯所成群之至少1種的其他不飽和化合物的共聚物，以及[B]1,2-醌二疊氮基化合物。
  2. 如申請專利範圍第1項之敏輻射線性樹脂組成物，其為層間絕緣膜形成用者。
  3. 一種層間絕緣膜的形成方法，其特徵為，以下列記載的順序含有以下的步驟者， (1)於基板上形成如申請專利範圍第1項之敏輻射線性樹脂組成物的塗膜之步驟，(2)將該塗膜的至少一部分照射輻射線的步驟，(3)顯影步驟，及(4)加熱步驟。
  4. 一種層間絕緣膜，其特徵為，藉由如申請專利範圍第3項之方法所形成者。
  5. 如申請專利範圍第1項之敏輻射線性樹脂組成物，其為微透鏡形成用者。
  6. 一種微透鏡的形成方法，其特徵為，以下列的順序含有以下的步驟，(1)於基板上形成如申請專利範圍第1項之敏輻射線性組成物的塗膜之步驟，(2)將該塗膜的至少一部分照射輻射線的步驟，(3)顯影步驟，及(4)加熱步驟。
  7. 一種微透鏡，其特徵為，藉由如申請專利範圍第6項的方法所形成者。
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