CN101256360A - 放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜、以及它们的制备方法 - Google Patents

放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜、以及它们的制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN101256360A
CN101256360A CNA2008100821455A CN200810082145A CN101256360A CN 101256360 A CN101256360 A CN 101256360A CN A2008100821455 A CNA2008100821455 A CN A2008100821455A CN 200810082145 A CN200810082145 A CN 200810082145A CN 101256360 A CN101256360 A CN 101256360A
Authority
CN
China
Prior art keywords
ester
methyl
nitrine
naphthoquinones
resin composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA2008100821455A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101256360B (zh
Inventor
滨田谦一
花村政晓
饭岛孝浩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JSR Corp filed Critical JSR Corp
Publication of CN101256360A publication Critical patent/CN101256360A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101256360B publication Critical patent/CN101256360B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/32—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing epoxy radicals
    • C08F220/325—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing epoxy radicals containing glycidyl radical, e.g. glycidyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D201/00—Coating compositions based on unspecified macromolecular compounds
    • C09D201/02—Coating compositions based on unspecified macromolecular compounds characterised by the presence of specified groups, e.g. terminal or pendant functional groups
    • C09D201/06—Coating compositions based on unspecified macromolecular compounds characterised by the presence of specified groups, e.g. terminal or pendant functional groups containing oxygen atoms
    • C09D201/08—Carboxyl groups
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/022—Quinonediazides
    • G03F7/023—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0233—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
    • G03F7/0392—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition
    • G03F7/0397—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition the macromolecular compound having an alicyclic moiety in a side chain
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/075—Silicon-containing compounds
    • G03F7/0755—Non-macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

一种放射线敏感性树脂组合物，其含有：下述共聚物、和1，2－二叠氮醌化合物，所述共聚物是不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐、含有环氧基或氧杂环丁烷基的至少一个的不饱和化合物、(甲基)丙烯酰基吗啉和其他不饱和化合物的共聚物。本发明提供放射线敏感性树脂组合物，其具有高放射线敏感度，具有在显影工序中即使超过最佳显影时间仍可以形成良好的图案形状的显影余量，可以容易地形成贴合性优异的图案状薄膜。

Description

放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜、以及它们的制备方法
技术领域
本发明涉及放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的制备方法。
背景技术
薄膜晶体管(以下记为“TFT”)型液晶显示元件、磁头元件、集成电路元件、固体摄像元件等电子部件中，为了使层状配置的布线之间绝缘，通常设置层间绝缘膜。作为形成层间绝缘膜的材料，由于优选为了得到所必需的图案形状的工序数少而且具有足够的平坦性的材料，因此广泛使用放射线敏感性树脂组合物(参照特开2001-354822号公报和特开2001-343743号公报)。
上述电子部件中，例如经过在上述层间绝缘膜之上形成透明电极膜、进而在其上形成液晶取向膜的工序来制备TFT型液晶显示元件，因此层间绝缘膜在透明电极膜的形成工序中暴露于高温条件下，或暴露于电极的图案形成中所使用的抗蚀剂的剥离液中，所以必需对上述条件有足够的耐性。
近年，对于TFT型液晶显示元件而言，有大画面化、高亮度化、高精细化、高速应答化、薄型化等动向，因此要求其中用于形成层间绝缘膜的组合物是高敏感度的，而对于形成的层间绝缘膜在低介电常数、高透射率等方面要求较以往更高的性能。
另一方面，作为传真机、电子复印机、固体摄像元件等的晶载滤色器等成像光学系统或光纤连接器的光学系统材料，使用具有3～100μm左右的透镜直径的微透镜或将这些微透镜规则排列的微透镜阵列。
形成微透镜或微透镜阵列的方法已知有：形成对应于透镜的抗蚀剂图案后，通过加热处理使之熔体流动，由此直接作为透镜而利用的方法；掩蔽熔体流动的透镜图案，通过干蚀刻将透镜形状转印到基底的方法等。上述透镜图案的形成中，放射线敏感性树脂组合物被广泛使用(参照特开平6-18702号公报和特开平6-136239号公报)。
形成如上述的微透镜或微透镜阵列的元件，然后将其供于下述工序：为了除去作为布线形成部分的焊盘上的各种绝缘膜，涂布平坦化膜和蚀刻用抗蚀剂膜，通过所希望的掩模进行曝光、显影，除去焊盘部分的蚀刻抗蚀剂，接着通过蚀刻除去平坦化膜或各种绝缘膜，使焊盘部分露出。因此，在平坦化膜和蚀刻抗蚀剂的涂膜形成工序以及蚀刻工序中，对于微透镜和微透镜阵列，需要耐溶剂性或耐热性。
用于形成这样的微透镜的放射线敏感性树脂组合物是高敏感度的，由其形成的微透镜具有所希望的曲率半径，要求高耐热性、高透射率等。
另外，这样得到的层间绝缘膜或微透镜，在形成其时的显影工序中，显影时间即使仅较最佳时间过剩一点，则在图案与基板之间显影液渗透，而容易发生剥离，因此有必需严格控制显影时间，并且在制品的成品率方面存在问题。
这样，由放射线敏感性树脂组合物形成层间绝缘膜或微透镜时，作为组合物要求高敏感度，另外在形成工序中的显影工序中即使显影时间较规定时间过剩，也不发生图案的剥离而显示良好的贴合性，并且对于由其形成的层间绝缘膜要求高耐热性、高耐溶剂性、低介电常数、高透射率、高贴合性等，另一方面，形成微透镜时，除了作为微透镜的良好的熔体形状(所希望的曲率半径)之外，还要求高耐热性、高耐溶剂性、高透射率，但满足这样的要求的放射线敏感性树脂组合物是以往不知道的。
发明内容
本发明是基于以上情况而完成的。因此本发明的目的在于提供放射线敏感性树脂组合物，其具有高放射线敏感性，并具有如下所述的显影余量(margin)，可以容易地形成贴合性优异的图案状薄膜，所述显影余量是指在显影工序中即使超过最佳显影时间仍可以形成良好的图案形状。
本发明的另一目的在于提供放射线敏感性树脂组合物，其在用于层间绝缘膜的形成时可以形成高耐热性、高耐溶剂性、高透射率、低介电常数、高贴合性的层间绝缘膜，另外在用于微透镜的形成时能够形成具有高透射率和良好的熔体形状的微透镜。
本发明的另一目的在于提供使用上述放射线敏感性树脂组合物形成层间绝缘膜和微透镜的方法。
本发明的另一目的在于提供通过本发明的方法形成的层间绝缘膜和微透镜。
本发明的进一步的其他目的和优点由以下的说明来阐明。
根据本发明，本发明的上述目的和优点是通过如下第1方面实现的，
放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有：(a1)、(a2)、(a3)和(a4)的共聚物[A](有时称为共聚物[A])、以及1，2-二叠氮醌化合物[B](以下，有时称为[B]成分)，
所述(a1)：选自不饱和羧酸和不饱和羧酸酐的至少一种(以下，有时称为“化合物(a1)”)，
所述(a2)：含有环氧基和氧杂环丁烷基的至少任意一个的不饱和化合物(以下，有时称为“化合物(a2)”)
所述(a3)：选自丙烯酰基吗啉和甲基丙烯酰基吗啉的至少一种(以下，有时称为“化合物(a3)”)
所述(a4)：与上述化合物(a1)、(a2)和(a3)的任意一个都不同且选自甲基丙烯酸烷基酯、甲基丙烯酸环烷基酯、丙烯酸烷基酯、丙烯酸环烷基酯、丙烯酸芳基酯、甲基丙烯酸芳基酯、不饱和二羧酸二酯、羟基甲基丙烯酸酯、羟基丙烯酸酯、二环不饱和化合物、马来酰亚胺化合物、不饱和芳香族化合物、共轭二烯、具有四氢呋喃骨架的不饱和化合物、具有呋喃骨架的不饱和化合物、具有四氢吡喃骨架的不饱和化合物、具有吡喃骨架的不饱和化合物、丙烯腈、甲基丙烯腈、氯乙烯、偏二氯乙烯、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺和乙酸乙烯酯的至少一种其他不饱和化合物(以下，有时称为“化合物(a4)”)。
本发明的上述目的和优点是通过如下第2方面实现的：
层间绝缘膜或微透镜的形成方法，其特征在于，按照以下所述的顺序包含以下工序：
(1)在基板上形成上述放射线敏感性树脂组合物的涂膜的工序，
(2)对该涂膜的至少一部分照射放射线的工序，
(3)显影工序，以及
(4)加热工序。
本发明的上述目的和优点是通过如下第3方面实现的：
通过上述方法形成的层间绝缘膜或微透镜。
附图说明
图1是表示微透镜形状的模式图。
具体实施方式
以下对本发明的放射性敏感性树脂组合物进行详细说明。
共聚物[A]
共聚物[A]可以通过在溶剂中，聚合引发剂的存在下，将化合物(a1)、化合物(a2)、化合物(a3)和化合物(a4)进行自由基聚合来制备。
化合物(a1)是选自具有自由基聚合性的不饱和羧酸和不饱和羧酸酐的至少一种，可以举出如一元羧酸、二羧酸、二羧酸的酸酐、多元羧酸的单[(甲基)丙烯酰氧基烷基]酯、两末端具有羧基和羟基的聚合物的单(甲基)丙烯酸酯、具有羧基的多环化合物和其酸酐等。
作为它们的具体例，可以分别举出：作为一元羧酸，例如丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸等；
作为二羧酸，例如马来酸、富马酸、柠康酸、中康酸、衣康酸等；
作为二羧酸的酸酐，例如作为上述二羧酸示例的化合物的酸酐等；
作为多元羧酸的单[(甲基)丙烯酰氧基烷基]酯，例如琥珀酸单[2-(甲基)丙烯酰氧基乙基]酯、邻苯二甲酸单[2-(甲基)丙烯酰氧基乙基]酯等；
作为两末端具有羧基和羟基的聚合物的单(甲基)丙烯酸酯，例如ω-羧基聚己内酯单(甲基)丙烯酸酯等。
作为具有羧基的多环化合物和其酸酐，例如5-羧基二环[2.2.1]庚-2-烯、5，6-二羧基二环[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-5-甲基二环[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-5-乙基二环[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-6-甲基二环[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-6-乙基二环[2.2.1]庚-2-烯、5，6-二羧基二环[2.2.1]庚-2-烯酸酐等。
其中，优选使用一元羧酸、二羧酸的酸酐，从共聚反应性、对于碱水溶液的溶解性和容易得到的角度，特别优选使用丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸酐。这些化合物(a1)可以单独或组合使用。
基于由化合物(a1)、(a2)、(a3)、和(a4)衍生的重复单元的合计，本发明中使用的共聚物[A]优选含有由化合物(a1)衍生的结构单元1～80重量％，特别优选5～40重量％。如果该结构单元小于1重量％时，则得到得层间绝缘膜或微透镜的贴合性存在降低的倾向，另一方面，如果该构成单元的量超过80重量％时，则存在放射线敏感性树脂组合物的保存稳定性降低的倾向。
化合物(a2)是具有自由基聚合性的含有环氧基和氧杂环丁烷基的至少任意一种的不饱和化合物。
作为含有环氧基的不饱和化合物可以举出例如丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、α-乙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丁基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸3，4-环氧丁酯、甲基丙烯酸3，4-环氧丁酯、丙烯酸6，7-环氧庚酯、甲基丙烯酸6，7-环氧庚酯、α-乙基丙烯酸6，7-环氧庚酯、邻乙烯基苄基缩水甘油基醚、间乙烯基苄基缩水甘油基醚、对乙烯基苄基甘油基醚等。其中，从提高共聚反应性和得到的层间绝缘膜或微透镜的耐热性、表明硬度的角度优选使用甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸6，7-环氧庚酯、邻乙烯基苄基缩水甘油基醚、间乙烯基苄基缩水甘油基醚、对乙烯基苄基缩水甘油基醚、甲基丙烯酸3，4-环氧环己基酯等。
作为含有环氧基的不饱和化合物可以举出：例如3-(甲基丙烯酰氧基甲基)氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-3-乙基氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-2-甲基氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-2-三氟甲基氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-2-五氟乙基氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-2-苯基氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-2，2-二氟氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-2，2，4-三氟氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-2，2，4，4-四氟氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基乙基)氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基乙基)-3-乙基氧杂环丁烷、2-乙基-3-(甲基丙烯酰氧基乙基)氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基乙基)-2-三氟甲基氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基乙基)-2-五氟乙基氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基乙基)-2-苯基氧杂环丁烷、2，2-二氟-3-(甲基丙烯酰氧基乙基)氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基乙基)-2，2，4-三氟氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基乙基)-2，2，4，4-四氟氧杂环丁烷等。这些化合物(a2)可以单独使用或组合使用。
基于由化合物(a1)、(a2)、(a3)、和(a4)衍生的重复单元的合计，本发明中使用的共聚物[A]优选含有由化合物(a2)衍生的结构单元5～70重量％，特别优选10～60重量％。如果该结构单元小于5重量％时，则放射线敏感性树脂组合物的耐热性、固化性、表面高度存在降低的倾向，另一方面，如果超过70重量％时，则存在放射线敏感性树脂组合物的保存稳定性降低的倾向。
化合物(a3)是丙烯酰基吗啉和/或甲基丙烯酰基吗啉。
化合物(a3)中，丙烯酰基吗啉通过与化合物(a4)表示的其他的不饱和化合物中的丙烯酸酯共聚可以提高聚合转化率。作为它们的具体例，可以举出例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸仲丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸2-甲基环己酯、丙烯酸三环[5.2.1.02，6]癸烷-8-基酯(以下，称“丙烯酸二环戊基(ペンタニル)酯”)、丙烯酸酯三环[5.2.1.02，6]癸烷-8-基氧基乙酯、丙烯酸异冰片(イソボロニル)酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸四氢糠基酯、3-丙烯酰基氧基四氢呋喃-2-酮、丙烯酸糠酯等。
基于由化合物(a1)、(a2)、(a3)、和(a4)衍生的重复单元的合计，本发明中使用的共聚物[A]优选含有由化合物(a3)衍生的结构单元1～50重量％，特别优选1～30重量％。如果该结构单元超过50重量％时，则放射线敏感性树脂组合物的保存稳定性存在降低的倾向。
化合物(a4)是具有自由基聚合性的不饱和化合物，其是甲基丙烯酸烷基酯、甲基丙烯酸环烷基酯、丙烯酸烷基酯、丙烯酸环烷基酯、丙烯酸芳基酯、甲基丙烯酸芳基酯、不饱和二羧酸二酯、羟基甲基丙烯酸酯、羟基丙烯酸酯、二环不饱和化合物、马来酰亚胺化合物、不饱和芳香族化合物、共轭二烯、具有四氢呋喃骨架、呋喃骨架、四氢吡喃骨架或吡喃骨架的不饱和化合物或其他不饱和化合物。
作为甲基丙烯酸烷基酯，可以举出例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸异癸酯、甲基丙烯酸正月桂基酯、甲基丙烯酸三癸基酯、甲基丙烯酸正硬脂酸酯等；作为甲基丙烯酸的环状酯，可以举出例如甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸2-甲基环己酯、甲基丙烯酸三环[5.2.1.02，6]癸烷-8-基酯(以下称“甲基丙烯酸二环戊基酯”)、甲基丙烯酸三环[5.2.1.02，6]癸烷-8-基氧基乙基酯、甲基丙烯酸异冰片酯等；作为丙烯酸烷基酯，可以举出例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸仲丁酯、丙烯酸叔丁酯等；作为丙烯酸的环状酯，可以举出例如丙烯酸环己酯、丙烯酸2-甲基环己酯、丙烯酸三环[5.2.1.02，6]癸烷-8-基酯(以下称“丙烯酸二环戊基酯”)、丙烯酸三环[5.2.1.02，6]癸烷-8-基氧基乙基酯、丙烯酸异冰片酯等；作为丙烯酸芳基酯，可以举出例如丙烯酸苯酯、丙烯酸苄酯等；作为甲基丙烯酸芳基酯，可以举出例如甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸苄酯等；作为不饱和二羧酸二酯，可以举出例如马来酸二乙酯、富马酸二乙酯、衣康酸二乙酯等；作为羟基甲基丙烯酸酯，可以举出例如甲基丙烯酸羟基甲酯、甲基丙烯酸2-羟基乙酯、甲基丙烯酸3-羟基丙酯、甲基丙烯酸4-羟基丁酯、二甘醇单甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸2，3-二羟基丙酯、2-甲基丙烯氧基乙基葡萄糖苷、甲基丙烯酸4-羟基苯酯等；作为羟基丙烯酸酯，可以举出例如丙烯酸羟基甲酯、丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸3-羟基丙酯、丙烯酸4-羟基丁酯、二甘醇单丙烯酸酯、丙烯酸2，3-二羟基丙酯、2-丙烯氧基乙基葡萄糖苷、丙烯酸4-羟基苯酯等；
作为二环不饱和化合物，可以举出例如二环[2.2.1]庚-2-烯、5-甲基二环[2.2.1]庚-2-烯、5-乙基二环[2.2.1]庚-2-烯、5-羟基二环[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基二环[2.2.1]庚-2-烯、5-羟基甲基二环[2.2.1]庚-2-烯、5-(2-羟基乙基)二环[2.2.1]庚-2-烯、5-甲氧基二环[2.2.1]庚-2-烯、5-乙氧基二环[2.2.1]庚-2-烯、5，6-二羟基二环[2.2.1]庚-2-烯、5，6-二羧基二环[2.2.1]庚-2-烯、5，6-二(羟基甲基)二环[2.2.1]庚-2-烯、5，6-二(2-羟基乙基)二环[2.2.1]庚-2-烯、5，6-二甲氧基二环[2.2.1]庚-2-烯、5，6-二乙氧基二环[2.2.1]庚-2-烯、5-羟基-5-甲基二环[2.2.1]庚-2-烯、5-羟基-5-乙基二环[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-5-甲基二环[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-5-乙基二环[2.2.1]庚-2-烯、5-羟基甲基-5-甲基二环[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-6-甲基二环[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-6-乙基二环[2.2.1]庚-2-烯、5，6-二羧基二环[2.2.1]庚-2-烯无水物(ハイミツク酸酐)、5-叔丁氧基羰基二环[2.2.1]庚-2-烯、5-环己基氧基羰基二环[2.2.1]庚-2-烯、5-苯氧基羰基二环[2.2.1]庚-2-烯、5，6-二(叔丁氧基羰基)二环[2.2.1]庚-2-烯、5，6-二(环己基氧基羰基)二环[2.2.1]庚-2-烯等；
作为马来酰亚胺化合物，可以举出例如N-苯基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺、N-苄基马来酰亚胺、N-(4-羟基苯基)马来酰亚胺、N-(4-羟基苄基)马来酰亚胺、N-琥珀酰亚胺基-3-马来酰亚胺苯甲酸盐、N-琥珀酰亚胺基-4-马来酰亚胺丁酸盐、N-琥珀酰亚胺基-6-马来酰亚胺己酸盐、N-琥珀酰亚胺基-3-马来酰亚胺丙酸盐、N-(9-吖啶基)马来酰亚胺等；
作为不饱和芳香族化合物，可以举出例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、对甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、对甲氧基苯乙烯等；作为共轭二烯，可以举出例如1，3-丁二烯、异戊二烯、2，3-二甲基-1，3-丁二烯等；作为含有四氢呋喃骨架的不饱和化合物，可以举出例如(甲基)丙烯酸四氢糠基酯、2-甲基丙烯酰氧基-丙酸四氢糠基酯、3-(甲基)丙烯酰氧基四氢呋喃-2-酮等；作为含有呋喃骨架的不饱和化合物，可以举出例如2-甲基-5-(3-呋喃基)-1-戊烯-3-酮、(甲基)丙烯酸糠基酯、1-呋喃-2-丁基-3-烯-2-酮、1-呋喃-2-丁基-3-甲氧基-3-烯-2-酮、6-(2-呋喃基)-2-甲基-1-己烯-3-酮、6-呋喃-2-基-己-1-烯-3-酮、丙烯酸2-呋喃-2-基-1-甲基乙酯、6-(2-呋喃基)-6-甲基-1-庚烯-3-酮等；作为含有四氢吡喃骨架的不饱和化合物，可以举出例如甲基丙烯酸(四氢吡喃-2-基)甲酯、2，6-二甲基-8-(四氢吡喃-2-基氧基)-辛-1-烯-3-酮、2-甲基丙烯酸四氢吡喃-2-基酯、1-(四氢吡喃-2-氧基)-丁基-3-烯-2-酮等；作为含有吡喃骨架的不饱和化合物，可以举出例如4-(1，4-二氧杂-5-氧代-6-庚烯基)-6-甲基-2-吡喃酮、4-(1，5-二氧杂-6-氧代-7-辛烯基)-6-甲基-2-吡喃酮等。其他不饱和化合物是丙烯腈、甲基丙烯腈、氯乙烯、偏二氯乙烯、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺或乙酸乙烯酯。
它们之中优选使用甲基丙烯酸烷基酯、甲基丙烯酸环烷基酯、二环不饱和化合物、不饱和芳香族化合物、共轭二烯，从共聚反应性以及对碱水溶液的溶解性的角度，尤其优选苯乙烯、甲基丙烯酸叔丁基酯、甲基丙烯酸三环[5.2.1.02，6]癸烷-8-基酯、对甲氧基苯乙烯、丙烯酸2-甲基环己酯、1，3-丁二烯、二环[2.2.1]庚-2-烯、(甲基)丙烯酸四氢糠基酯、聚乙二醇(n＝2～10)单(甲基)丙烯酸酯、3-(甲基)丙烯酰氧基四氢呋喃-2-酮、1-(四氢呋喃-2-氧基)-丁基-3-烯-2-酮、(甲基)丙烯酸糠基酯。这些化合物(a4)可以单独使用或组合使用。
基于由化合物(a1)、(a2)、(a3)、和(a4)衍生的重复单元的合计，本发明中使用的共聚物[A]优选含有由化合物(a4)衍生的结构单元10～80重量％，特别优选20～70重量％。在该结构单元小于10重量％的情况下，得到的层间绝缘膜或微透镜的耐热性或表面硬度存在降低的倾向，另一方面，该结构单元的量在超过80重量％的情况下，则放射线敏感性树脂组合物的保存稳定性存在降低的倾向。
作为本发明中使用的共聚物[A]的优选具体例子可以举出例如甲基丙烯酸/甲基丙烯酸三环[5.2.1.02，6]癸烷-8-基酯/甲基丙烯酸缩水甘油酯/丙烯酸2-甲基环己酯/N-(3，5-二甲基-4-羟基苄基)甲基丙烯酰胺/丙烯酰基吗啉共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸缩水甘油酯/1-(四氢吡喃-2-氧基)丁基-3-烯-2-酮/N-环己基马来酰亚胺/对甲氧基苯乙烯/3-乙基-3-甲基丙烯酰氧基甲基氧杂环丁烷/N-(3，5-二甲基-4-羟基苄基)甲基丙烯酰胺/丙烯酰基吗啉共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸三环[5.2.1.02，6]癸烷-8-基酯/苯乙烯/N-苯基马来酰亚胺/N-(4-羟基苯基)甲基丙烯酰胺/丙烯酰基吗啉共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸缩水甘油酯/甲基丙烯酸三环[5.2.1.02，6]癸烷-8-基酯/甲基丙烯酸正月桂基酯/3-甲基丙烯酰氧基四氢呋喃-2-酮/N-(4-羟基苯基)甲基丙烯酰胺/丙烯酰基吗啉共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸缩水甘油酯/苯乙烯/丙烯酸2-甲基环己酯/1-(四氢吡喃-2-氧基)-丁基-3-烯-2-酮/甲基丙烯酸4-羟基苄酯/丙烯酰基吗啉共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸缩水甘油酯/甲基丙烯酸三环[5.2.1.02，6]癸烷-8-基酯/对甲氧基苯乙烯/甲基丙烯酸4-羟基苄酯/丙烯酰基吗啉共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸三环[5.2.1.02，6]癸烷-8-基酯/甲基丙烯酸缩水甘油酯/苯乙烯/对乙烯基苄基缩水甘油基醚/甲基丙烯酸四氢糠基酯/甲基丙烯酸4-羟基苯酯/丙烯酰基吗啉共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸缩水甘油酯/N-环己基马来酰亚胺/α-甲基对羟基苯乙烯/甲基丙烯酸四氢糠基酯/丙烯酰基吗啉共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸缩水甘油酯/N-环己基马来酰亚胺/3-乙基-3-甲基丙烯酰氧基甲基氧杂环丁烷/3-甲基丙烯酰氧基四氢呋喃-2-酮/甲基丙烯酸四氢糠基酯/甲基丙烯酸4-羟基苯酯/丙烯酰基吗啉共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸缩水甘油酯/3-乙基-3-甲基丙烯酰氧基甲基氧杂环丁烷/甲基丙烯酸四氢糠基酯/N-苯基马来酰亚胺/α-甲基对羟基苯乙烯/丙烯酰基吗啉共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸缩水甘油酯/3-乙基-3-甲基丙烯酰氧基甲基氧杂环丁烷/甲基丙烯酸三环[5.2.1.02，6]癸烷-8-基酯/N-环己基马来酰亚胺/甲基丙烯酸正月桂酸酯/α-甲基对羟基苯乙烯共聚物/丙烯酰基吗啉等。
本发明中使用的共聚物[A]的聚苯乙烯换算重均分子量(以下称为“Mw”)优选为2×103～1×105，更优选5×103～5×104。Mw小于2×103，则有显影余量变得不充分的情况，得到的被膜的残膜率等降低、或得到的层间绝缘膜或微透镜的图案形状、耐热性等会变差，另一方面，超过1×105，则敏感度降低、图案形状会变差。分子量分布(以下称为“Mw/Mn”)优选5.0以下，更优选3.0以下。Mw/Mn超过5.0，则得到的层间绝缘膜或微透镜的图案形状变差。含有上述共聚物[A]的放射线敏感性树脂组合物，在显影时不会产生显影残留，能够极容易地形成规定图案形状。
可以通过将例如不饱和化合物(a1)、不饱和化合物(a2)、不饱和化合物(a3)和不饱和化合物(a4)，在适当的溶剂中，在自由基聚合引发剂的存在下聚合来合成[A]聚合物。
作为在上述共聚中使用的溶剂，可以举出例如醇、醚、乙二醇醚、乙二醇烷基醚乙酸酯、二甘醇烷基醚、丙二醇单烷基醚、丙二醇烷基醚乙酸酯、丙二醇烷基醚丙酸酯、芳烃、酮、酯等。
作为这些溶剂的具体例子分别如下举出，作为醇，可以举出甲醇、乙醇、苄醇、2-苯基乙醇、3-苯基-1-丙醇等；作为醚，可以举出四氢呋喃等；作为乙二醇醚，可以举出乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚等；作为乙二醇烷基醚乙酸酯，可以举出乙二醇甲基醚乙酸酯、乙二醇乙基醚乙酸酯、乙二醇正丙基醚乙酸酯、乙二醇正丁基醚乙酸酯等；作为二甘醇烷基醚，可以举出二甘醇单甲醚、二甘醇单乙醚、二甘醇二甲醚、二甘醇二乙醚、二甘醇乙基甲基醚等；
作为丙二醇单烷基醚，可以举出丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单正丙醚、丙二醇单正丁醚等；作为丙二醇烷基醚乙酸酯，可以举出丙二醇甲基醚乙酸酯、丙二醇乙基醚乙酸酯、丙二醇正丙基醚乙酸酯、丙二醇正丁基醚乙酸酯等；作为丙二醇烷基醚丙酸酯，可以举出丙二醇甲基醚丙酸酯、丙二醇乙基醚丙酸酯、丙二醇正丙基醚丙酸酯、丙二醇正丁基醚丙酸酯等；作为芳烃，可以举出甲苯、二甲苯等；作为酮，可以举出甲乙酮、环己酮、4-羟基-4-甲基-2-戊酮等；
作为酯，可以举出例如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、2-羟基丙酸乙酯、2-羟基-2-甲基丙酸甲酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、羟基乙酸甲酯、羟基乙酸乙酯、羟基乙酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丙酯、乳酸丁酯、3-羟基丙酸甲酯、3-羟基丙酸乙酯、3-羟基丙酸丙酯、3-羟基丙酸丁酯、2-羟基-3-甲基丁酸甲酯、甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、乙氧基乙酸丙酯、乙氧基乙酸丁酯、丙氧基乙酸甲酯、丙氧基乙酸乙酯、丙氧基乙酸丙酯、丙氧基乙酸丁酯、丁氧基乙酸甲酯、丁氧基乙酸乙酯、丁氧基乙酸丙酯、丁氧基乙酸丁酯、2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-甲氧基丙酸丁酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸丁酯、2-丁氧基丙酸甲酯、2-丁氧基丙酸乙酯、2-丁氧基丙酸丙酯、2-丁氧基丙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸丙酯、3-甲氧基丙酸丁酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸丙酯、3-乙氧基丙酸丁酯、3-丙氧基丙酸甲酯、3-丙氧基丙酸乙酯、3-丙氧基丙酸丙酯、3-丙氧基丙酸丁酯、3-丁氧基丙酸甲酯、3-丁氧基丙酸乙酯、3-丁氧基丙酸丙酯、3-丁氧基丙酸丁酯等酯。
它们之中，优选乙二醇烷基醚乙酸酯、二甘醇、丙二醇单烷基醚、丙二醇烷基醚乙酸酯，特别优选二甘醇二甲醚、二甘醇乙基甲基醚、丙二醇甲基醚、丙二醇甲基醚乙酸酯。
作为在共聚物[A]的制备中使用的聚合引发剂，可以使用通常知道的自由基聚合引发剂。可以举出例如2，2’-偶氮二异丁腈、2，2’-偶氮二(2，4-二甲基戊腈)、2，2’-偶氮二(4-甲氧基-2，4-二甲基戊腈)等偶氮化合物；过氧化苯甲酰、过氧化月桂酰、过氧化新戊酸叔丁酯、1，1’-双-(过氧化叔丁基)环己烷等有机过氧化物；和过氧化氢等。当使用过氧化物作为自由基聚合引发剂时，也可以与还原剂一起使用过氧化物来作为氧化还原型引发剂。
在共聚物[A]的制备中，为了调节分子量，可以使用分子量调节剂。作为其具体例子，可以举出氯仿、四溴化碳等卤代烃；正己硫醇、正辛硫醇、正十二烷基硫醇、叔十二烷基硫醇、巯基乙酸等硫醇；二(甲基黄原酸酯)硫化物、二(异丙基黄原酸酯)二硫化物等黄原酸酯；萜品油烯、α-甲基苯乙烯二聚体等。
[B]成分
本发明中使用的[B]成分的1，2-二叠氮醌化合物，可以举出例如1，2-苯醌二叠氮磺酸酯、1，2-萘醌二叠氮磺酸酯、1，2-苯醌二叠氮磺酰胺、1，2-萘醌二叠氮磺酰胺等。
作为它们的具体例，可以举出2，3，4-三羟基二苯甲酮-1，2-萘醌叠氮-4-磺酸酯、2，3，4-三羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯、2，3，4-三羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-6-磺酸酯、2，3，4-三羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-7-磺酸酯、2，3，4-三羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-8-磺酸酯、2，4，6-三羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-4-磺酸酯、2，4，6-三羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯、2，4，6-三羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-6-磺酸酯、2，4，6-三羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-7-磺酸酯、2，4，6-三羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-8-磺酸酯等三羟基苯醌的1，2-萘醌二叠氮磺酸酯；
2，2’，4，4’-四羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-4-磺酸酯、2，2’，4，4’-四羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯、2，2’，4，4’-四羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-6-磺酸酯、2，2’，4，4’-四羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-7-磺酸酯、2，2’，4，4’-四羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-8-磺酸酯、2，3，4，3’-四羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-4-磺酸酯、2，3，4，3’-四羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯、2，3，4，3’-四羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-6-磺酸酯、2，3，4，3’-四羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-7-磺酸酯、2，3，4，3’-四羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-8-磺酸酯、2，3，4，4’-四羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-4-磺酸酯、2，3，4，4’-四羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯、2，3，4，4’-四羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-6-磺酸酯、2，3，4，4’-四羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-7-磺酸酯、2，3，4，4’-四羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-8-磺酸酯、2，3，4，2’-四羟基-4’-甲基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-4-磺酸酯、2，3，4，2’-四羟基-4’-甲基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯、2，3，4，2’-四羟基-4’-甲基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-6-磺酸酯、2，3，4，2’-四羟基-4’-甲基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-7-磺酸酯、2，3，4，2’-四羟基-4’-甲基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-8-磺酸酯、2，3，4，4’-四羟基-3’-甲氧基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-4-磺酸酯、2，3，4，4’-四羟基-3’-甲氧基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯、2，3，4，4’-四羟基-3’-甲氧基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-6-磺酸酯、2，3，4，4’-四羟基-3’-甲氧基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-7-磺酸酯、2，3，4，4’-四羟基-3’-甲氧基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-8-磺酸酯等四羟基苯醌的1，2-萘醌二叠氮磺酸酯；
2，3，4，2’，6’-五羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-4-磺酸酯、2，3，4，2’，6’-五羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯、2，3，4，2’，6’-五羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-6-磺酸酯、2，3，4，2’，6’-五羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-7-磺酸酯、2，3，4，2’，6’-五羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-8-磺酸酯等五羟基二苯甲酮的1，2-萘醌二叠氮磺酸酯；
2，4，6，3’，4’，5’-六羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-4-磺酸酯、2，4，6，3’，4’，5’-六羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯、2，4，6，3’，4’，5’-六羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-6-磺酸酯、2，4，6，3’，4’，5’-六羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-7-磺酸酯、2，4，6，3’，4’，5’-六羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-8-磺酸酯、3，4，5，3’，4’，5’-六羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-4-磺酸酯、3，4，5，3’，4’，5’-六羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯、3，4，5，3’，4’，5’-六羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-6-磺酸酯、3，4，5，3’，4’，5’-六羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-7-磺酸酯、3，4，5，3’，4’，5’-六羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-8-磺酸酯等六羟基二苯甲酮的1，2-萘醌二叠氮磺酸酯；
双(2，4-二羟基苯基)甲烷-1，2-萘醌二叠氮-4-磺酸酯、双(2，4-二羟基苯基)甲烷-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯、双(2，4-二羟基苯基)甲烷-1，2-萘醌二叠氮-6-磺酸酯、双(2，4-二羟基苯基)甲烷-1，2-萘醌二叠氮-7-磺酸酯、双(2，4-二羟基苯基)甲烷-1，2-萘醌二叠氮-8-磺酸酯、双(对羟基苯基)甲烷-1，2-萘醌二叠氮-4-磺酸酯、双(对羟基苯基)甲烷-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯、双(对羟基苯基)甲烷-1，2-萘醌二叠氮-6-磺酸酯、双(对羟基苯基)甲烷-1，2-萘醌二叠氮-7-磺酸酯、双(对羟基苯基)甲烷-1，2-萘醌二叠氮-8-磺酸酯、三(对羟基苯基)甲烷-1，2-萘醌二叠氮-4-磺酸酯、三(对羟基苯基)甲烷-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯、三(对羟基苯基)甲烷-1，2-萘醌二叠氮-6-磺酸酯、三(对羟基苯基)甲烷-1，2-萘醌二叠氮-7-磺酸酯、三(对羟基苯基)甲烷-1，2-萘醌二叠氮-8-磺酸酯、
1，1，1-三(对羟基苯基)乙烷-1，2-萘醌二叠氮-4-磺酸酯、1，1，1-三(对羟基苯基)乙烷-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯、1，1，1-三(对羟基苯基)乙烷-1，2-萘醌二叠氮-6-磺酸酯、1，1，1-三(对羟基苯基)乙烷-1，2-萘醌二叠氮-7-磺酸酯、1，1，1-三(对羟基苯基)乙烷-1，2-萘醌二叠氮-8-磺酸酯、双(2，3，4-三羟基苯基)甲烷-1，2-萘醌二叠氮-4-磺酸酯、双(2，3，4-三羟基苯基)甲烷-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯、双(2，3，4-三羟基苯基)甲烷-1，2-萘醌二叠氮-6-磺酸酯、双(2，3，4-三羟基苯基)甲烷-1，2-萘醌二叠氮-7-磺酸酯、双(2，3，4-三羟基苯基)甲烷-1，2-萘醌二叠氮-8-磺酸酯、2，2-双(2，3，4-三羟基苯基)丙烷-1，2-萘醌二叠氮-4-磺酸酯、2，2-双(2，3，4-三羟基苯基)丙烷-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯、2，2-双(2，3，4-三羟基苯基)丙烷-1，2-萘醌二叠氮-6-磺酸酯、2，2-双(2，3，4-三羟基苯基)丙烷-1，2-萘醌二叠氮-7-磺酸酯、2，2-双(2，3，4-三羟基苯基)丙烷-1，2-萘醌二叠氮-8-磺酸酯、
1，1，3-三(2，5-二甲基-4-羟基苯基)-3-苯基丙烷-1，2-萘醌二叠氮-4-磺酸酯、1，1，3-三(2，5-二甲基-4-羟基苯基)-3-苯基丙烷-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯、1，1，3-三(2，5-二甲基-4-羟基苯基)-3-苯基丙烷-1，2-萘醌二叠氮-6-磺酸酯、1，1，3-三(2，5-二甲基-4-羟基苯基)-3-苯基丙烷-1，2-萘醌二叠氮-7-磺酸酯、1，1，3-三(2，5-二甲基-4-羟基苯基)-3-苯基丙烷-1，2-萘醌二叠氮-8-磺酸酯、4，4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚-1，2-萘醌二叠氮-4-磺酸酯、4，4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯、4，4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚-1，2-萘醌二叠氮-6-磺酸酯、4，4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚-1，2-萘醌二叠氮-7-磺酸酯、4，4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚-1，2-萘醌二叠氮-8-磺酸酯、
双(2，5-二甲基-4-羟基苯基)-2-羟基苯基甲烷-1，2-萘醌二叠氮-4-磺酸酯、双(2，5-二甲基-4-羟基苯基)-2-羟基苯基甲烷-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯、双(2，5-二甲基-4-羟基苯基)-2-羟基苯基甲烷-1，2-萘醌二叠氮-6-磺酸酯、双(2，5-二甲基-4-羟基苯基)-2-羟基苯基甲烷-1，2-萘醌二叠氮-7-磺酸酯、双(2，5-二甲基-4-羟基苯基)-2-羟基苯基甲烷-1，2-萘醌二叠氮-8-磺酸酯、3，3，3’，3’-四甲基-1，1’-螺二茚-5，6，7，5’，6’，7’-六醇-1，2-萘醌二叠氮-4-磺酸酯、3，3，3’，3’-四甲基-1，1’-螺二茚-5，6，7，5’，6’，7’-六醇-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯、3，3，3’，3’-四甲基-1，1’-螺二茚-5，6，7，5’，6’，7’-六醇-1，2-萘醌二叠氮-6-磺酸酯、3，3，3’，3’-四甲基-1，1’-螺二茚-5，6，7，5’，6’，7’-六醇-1，2-萘醌二叠氮-7-磺酸酯、3，3，3’，3’-四甲基-1，1’-螺二茚-5，6，7，5’，6’，7’-六醇-1，2-萘醌二叠氮-8-磺酸酯、2，2，4-三甲基-7，2′，4′-三羟基黄烷-1，2-萘醌二叠氮-4-磺酸酯、2，2，4-三甲基-7，2′，4′-三羟基黄烷-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸、2，2，4-三甲基-7，2′，4′-三羟基黄烷-1，2-萘醌二叠氮-6-磺酸酯、2，2，4-三甲基-7，2′，4′-三羟基黄烷-1，2-萘醌二叠氮-7-磺酸、2，2，4-三甲基-7，2′，4′-三羟基黄烷-1，2-萘醌二叠氮-8-磺酸等(多羟基苯基)烷的1，2-萘醌二叠氮磺酸酯。
这些1，2-醌二叠氮化合物可以单独使用或组合2种以上使用。
相对于共聚物[A]100重量份，[B]成分的使用比例，优选5～100重量份，更优选10～50重量份。该比例小于5重量份时，由放射线照射生成的酸量少，因此对于作为放射线的照射部分和未照射部分的显影液的碱水溶液的溶解度之差小，有形成图案变得困难的倾向。另外，与共聚物[A]的反应相关的酸的量变少，存在不能得到充分的耐热性和耐溶剂性的情况。另一方面，该比例超过100重量份时，通过短时间的放射线的照射，未反应的[B]成分大量残存，因此对上述碱水溶液的不溶化效果过高，存在显影变得困难的倾向。
其他成分
本发明的放射线敏感性树脂组合物含有上述得共聚物[A]和[B]作为必须成分，另外依据必要可以含有[C]感热性成酸化合物、[D]具有至少一个烯键式不饱和双键的聚合性化合物、[E]与共聚物[A]不同的其他环氧树脂、[F]表面活性剂或[G]粘接助剂。
上述[C]感热性成酸化合物可以用于提高耐热性或硬度。作为其具体例子可以举出锍盐、苯并噻唑鎓盐、铵盐、鏻盐等鎓盐。
作为上述锍盐的具体例子可以举出烷基锍盐、苄基锍盐、二苄基锍盐、取代苄基锍盐等。
作为它们的具体例子可以分别列举，作为烷基锍盐，可以举出例如4-乙酰苯基二甲基锍六氟锑酸盐、4-乙酸基苯基二甲基锍六氟砷酸盐、二甲基-4-(苄氧基羰基氧基)苯基锍六氟锑酸盐、二甲基-4-(苯甲酰氧基)苯基锍六氟锑酸盐、二甲基-4-(苯甲酰氧基)苯基锍六氟砷酸盐、二甲基-3-氯-4-乙酸基苯基锍六氟锑酸盐等；
作为苄基锍盐，可以举出例如苄基-4-羟基苯基甲基锍六氟锑酸盐、苄基-4-羟基苯基甲基锍六氟磷酸盐、4-乙酸基苯基苄基甲基锍六氟锑酸盐、苄基-4-甲氧基苯基甲基锍六氟锑酸盐、苄基-2-甲基-4-羟基苯基甲基锍六氟锑酸盐、苄基-3-氯-4-羟基苯基甲基锍六氟砷酸盐、4-甲氧基苄基-4-羟基苯基甲基锍六氟磷酸盐等；
作为二苄基锍盐，可以举出例如二苄基-4-羟基苯基锍六氟锑酸盐、二苄基-4-羟基苯基锍六氟磷酸盐、4-乙酸基苯基二苄基锍六氟锑酸盐、二苄基-4-甲氧基苯基锍六氟锑酸盐、二苄基-3-氯-4-羟基苯基锍六氟砷酸盐、二苄基-3-甲基-4-羟基-5-叔丁基苯基锍六氟锑酸盐、苄基-4-甲氧基苄基-4-羟基苯基锍六氟磷酸盐等；
作为取代苄基锍盐，可以举出例如对氯苄基-4-羟基苯基甲基锍六氟锑酸盐、对硝基苄基-4-羟基苯基甲基锍六氟锑酸盐、对氯苄基-4-羟基苯基甲基锍六氟磷酸盐、对硝基苄基-3-甲基-4-羟基苯基甲基锍六氟锑酸盐、3，5-二氯苄基-4-羟基苯基甲基锍六氟锑酸盐、邻氯苄基-3-氯-4-羟基苯基甲基锍六氟锑酸盐等。
作为上述苯并噻唑鎓盐的具体例子，可以举出3-苄基苯并噻唑鎓六氟锑酸盐、3-苄基苯并噻唑鎓六氟磷酸盐、3-苄基苯并噻唑鎓四氟硼酸盐、3-(对甲氧基苄基)苯并噻唑鎓六氟锑酸盐、3-苄基-2-甲基苯并噻唑鎓六氟锑酸盐、3-苄基-5-氯苯并噻唑鎓六氟锑酸盐等苄基苯并噻唑鎓盐。
它们之中，优选使用锍盐和苯并噻唑鎓盐，特别优选使用4-乙酸基苯基二甲基锍六氟砷酸盐、苄基-4-羟基苯基甲基锍六氟锑酸盐、4-乙酸基苯基苄基甲基锍六氟锑酸盐、二苄基-4-羟基苯基锍六氟锑酸盐、4-乙酸基苯基苄基锍六氟锑酸盐、3-苄基苯并噻唑鎓六氟锑酸盐。
作为它们的市售品，可以举出サンエイドSI-L85、サンエイドSI-L110、サンエイドSI-L145、サンエイドSI-L150、サンエイドSI-L160(三新化学工业(株)制)等。
相对于共聚物[A]100重量份，[C]成分的使用比例优选20重量份以下，更优选5重量份以下。如果该用量超过20重量份，则在涂膜形成工序中析出析出物，存在给涂膜形成带来障碍的情况。
作为上述[D]成分的具有至少一个烯键式不饱和双键的聚合性化合物(以下，有时称“D成分”)，可以优选举出例如单官能(甲基)丙烯酸酯、双官能(甲基)丙烯酸酯或三官能以上的(甲基)丙烯酸酯。
作为上述单官能(甲基)丙烯酸酯，可以举出例如(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸卡必醇酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-2-羟基丙基邻苯二甲酸酯等。作为它们的市售品，可以举出例如アロニツクスM-101、アロニツクスM-111、アロニツクスM-114(以上，东亚合成(株)制)；KAYARAD TC-110S、KAYARAD TC-120S(以上，日本化药(株)制)；ビスコ一ト158、ビスコ一ト2311(以上，大阪有机化学工业(株)制)等。
作为上述双官能(甲基)丙烯酸酯，可以举出例如乙二醇(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四甘醇二(甲基)丙烯酸酯、二苯氧基乙醇芴二丙烯酸酯、二苯氧基乙醇芴二丙烯酸酯等。作为它们的市售品，可以举出例如アロニツクスM-210、アロニツクスM-240、アロニツクスM-6200(以上，东亚合成(株)制)；KAYARAD HDDA、KAYARAD HX-220、KAYARAD R-604(以上，日本化药(株)制)；ビスコ一ト260、ビスコ一ト312、ビスコ一ト335HP(以上，大阪有机化学工业(株)制)等。
作为上述三官能以上的(甲基)丙烯酸酯，可以举出例如三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三((甲基)丙烯酰氧基乙基)磷酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等，作为其市售品，可以举出例如アロニツクスM-309、アロニツクスM-400、アロニツクスM-405、アロニツクスM-450、アロニツクスM-7100、アロニツクスM-8030、アロニツクスM-8060(以上，东亚合成(株)制)；KAYARAD TMPTA、KAYARAD DPHA、KAYARAD DPCA-20、KAYARAD DPCA-30、KAYARAD DPCA-60、KAYARAD DPCA-120(以上，日本化药(株)制)；ビスコ一ト295、ビスコ一ト300、ビスコ一ト360、ビスコ一トGPT、ビスコ一ト3PA、ビスコ一ト400(以上，大阪有机化学工业(株)制)等。
其中，优选使用三官能以上的(甲基)丙烯酸酯，其中特别优选三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。
这些单官能、双官能或三官能以上的(甲基)丙烯酸酯可以单独或组合使用。相对于共聚物[A]100重量份，[D]成分的使用比例优选50重量份以下，更优选30重量份以下。
通过以这样的比例含有[D]成分，可以使由本发明的放射线敏感性树脂组合物得到的层间绝缘体或微透镜的耐热性和表面硬度等提高。如果该使用量超过50重量份，则在基板上形成放射线敏感性树脂组合物的涂膜的工序中有出现膜粗糙的情况。
作为上述[E]成分的与共聚物[A]不同的其他环氧树脂(以下，有时称“E成分”)，在不影响相容性的限度内不作限定。特别优选双酚A型环氧树脂、苯酚线型酚醛清漆型环氧树脂、甲酚线型酚醛清漆型环氧树脂、脂环族环氧树脂、缩水甘油酯型环氧树脂、缩水甘油胺型环氧树脂、杂环环氧树脂、使甲基丙烯酸缩水甘油酯(共)聚合而得的树脂等。其中特别优选双酚A型环氧树脂、甲酚线型酚醛型环氧树脂、缩水甘油酯型环氧树脂等。
相对于共聚物[A]100重量份，[E]成分的使用比例优选为30重量份以下。通过以这样的比例含有[E]成分，可以进一步提高由本发明的放射线敏感性树脂组合物得到的保护膜或绝缘膜的耐热性和表面硬度等。该比例如果超过30重量份，则在基板上形成放射线敏感性树脂组合物的涂膜时，存在涂膜的膜厚均一性变得不足的情况。
共聚物[A]也可以称为“环氧树脂”，但在具有碱溶性方面与[E]成分不同。[E]成分是碱不溶性的。
在本发明的放射线敏感性树脂组合物中，为了进一步提高涂布性可以使用作为上述[F]成分的表面活性剂。作为在此可以使用的[F]表面活性剂，可以优选使用氟系表面活性剂、硅酮系表面活性剂和非离子型表面活性剂。
作为氟系表面活性剂的具体例子，除了1，1，2，2-四氟辛基(1，1，2，2-四氟丙基)醚、1，1，2，2-四氟辛基己基醚、八甘醇二(1，1，2，2-四氟丁基)醚、六甘醇(1，1，2，2，3，3-六氟戊基)醚、八丙二醇二(1，1，2，2-四氟丁基)醚、六丙二醇二(1，1，2，2，3，3-六氟戊基)醚、全氟十二烷基磺酸钠、1，1，2，2，8，8，9，9，10，10-十氟十二烷、1，1，2，2，3，3-六氟癸烷等之外，还可以举出氟代烷基苯磺酸钠；氟代烷基氧化乙烯醚；氟代烷基碘化铵、氟代烷基聚氧乙烯醚、全氟烷基聚氧乙醇(ポリオキシエタノ一ル)；全氟烷基烷氧化物；氟系烷基酯等。作为它们的市售品可以举出BM-1000、BM-1100(以上为BM Chemie公司制)、メガフアツクF142D、メガフアツクF172、メガフアツクF173、メガフアツクF183、メガフアツクF178、メガフアツクF191、メガフアツクF471(以上为大日本油墨化学工业(株)制)，フロラ一ドFC-170C、FC-171、FC-430、FC-431(以上为住友スリ一エム(株)制，サ一フロンS-112、サ一フロンS-113、サ一フロンS-131、サ一フロンS-141、サ一フロンS-145、サ一フロンS-382、サ一フロンSC-101、サ一フロンS-102、サ一フロンSC-103、サ一フロンSC-104、サフロンSC-05、サ一フンSC-106(旭硝子(株)制)，エフトツプEF301、エフトツプ303、エフトツプ352(新秋田化成(株)制)等。
作为上述硅酮系表面活性剂，可以举出例如：商品名DC3PA、DC7PA、FS-1265、SF-8428、SH11PA、SH21PA、SH28PA、SH29PA、SH30PA、SH-190、SH-193、SZ-6032(以上为东レ·ダウコ一ニング·シリコ一ン(株)制)，TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4460、TSF-4452(以上为GE东芝シリコ一ン(株)制)等市售的产品。
作为上述非离子型表面活性剂，可以使用如聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚等聚氧乙烯烷基醚类；聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚等聚氧乙烯芳基醚类；聚氧乙烯二月桂酸酯、聚氧乙烯二硬脂酸酯等聚氧乙烯二烷基酯等；(甲基)丙烯酸系共聚物ポリフロ一No.57、95(共荣社化学(株)制)等。
这些表面活性剂可以单独使用，或组合2种以上使用。
相对于共聚物[A]100重量份，这些[F]表面活性剂优选使用5重量份以下，更优选使用2重量份以下。[F]表面活性剂的用量如果超过5重量份，则在基板上形成涂膜时，有时变得易于产生涂膜的膜粗糙。
另外，本发明的放射线敏感性树脂组合物中，为了提高与基体的粘接性，可以使用作为[G]成分的粘接助剂。作为这样的[G]粘接助剂，可优选使用官能性硅烷偶联剂，可以举出例如具有羧基、甲基丙烯酰基、异氰酸酯基、环氧基等反应性取代基的硅烷偶联剂。具体可以举出三甲氧基甲硅烷基苯甲酸、γ-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酸基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、γ-异氰酸酯丙基三乙氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷等。相对于共聚物[A]100重量份，这样的[G]粘接助剂优选以20重量份以下使用，更优选以10重量份以下的量使用。当粘接助剂的量超过20重量份时，在显影工序中，有时易于出现显影残留。
放射线敏感性树脂组合物
本发明的放射线敏感性树脂组合物可以通过将上述共聚物[A]和[B]成分以及如上所述任意添加的其他成分均匀混合来制备。本发明的放射线敏感性树脂组合物优选溶解在适当溶剂中以溶液状态使用。例如可以通过把共聚物[A]和[B]成分以及任意添加的其他成分按规定比例进行混合，来调制溶液状态的放射线敏感性树脂组合物。
作为制备本发明的放射线敏感性树脂组合物所用的溶剂，可以使用能够使共聚物[A]和[B]成分以及任意配合的其他成分均匀溶解，并且与各成分不发生反应的溶剂。
作为这样的溶剂，可以举出与作为前述在用于制备共聚物[A]时可以使用的溶剂所示例的溶剂相同的溶剂。
在这样的溶剂当中，从各成分的溶解性、与各成分的反应性、形成涂膜的容易度等观点考虑，优选使用醇、二元醇醚、乙二醇烷基醚乙酸酯、酯和二甘醇。其中，可以特别优选使用苄醇、2-苯基乙基醇、3-苯基-1-丙醇、乙二醇单丁基醚乙酸酯、二甘醇单乙基醚乙酸酯、二甘醇二乙基醚、二甘醇乙基甲基醚、二甘醇二甲醚、丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯、甲氧基丙酸甲酯、乙氧基丙酸乙酯。
为了提高膜厚的面内均匀性，可以进一步与上述溶剂并用高沸点溶剂。作为可以并用的高沸点溶剂，可以举出例如有N-甲基甲酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、N-甲基甲酰苯胺、N-甲基乙酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、苄基乙基醚、二己基醚、丙酮基丙酮、异佛尔酮、己酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、乙酸苄酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、马来酸二乙酯、γ-丁内酯、碳酸亚乙酯、碳酸亚丙酯、苯基乙酸溶纤剂等。其中，优选N-甲基吡咯烷酮、γ-丁内酯、N，N-二甲基乙酰胺。
作为本发明的放射线敏感性树脂组合物的溶剂，并用高沸点溶剂时，相对于溶剂总量其用量优选50重量％以下，更优选40重量％以下，进一步可以优选30重量％以下。高沸点溶剂的用量如果超过该用量，则存在涂膜的膜厚均匀性、敏感度和残膜率降低的情况。
把本发明的放射线敏感性树脂组合物调制成溶液状态时，溶液中除溶剂以外的成分(也就是共聚物[A]和[B]成分以及任意添加的其他成分的总量)所占的比例，可以根据使用目的和所希望的膜厚值等进行任意设定，优选为5～50重量％，更优选10～40重量％，进一步优选15～35重量％。
这样制备的组合物溶液，使用孔径为0.2μm左右的微孔过滤器等进行过滤后，可供使用。
层间绝缘膜、微透镜的形成
下面对使用本发明的放射线敏感性树脂组合物形成本发明的层间绝缘膜、微透镜的方法进行描述。本发明的层间绝缘膜或微透镜的形成方法以下所述的顺序包含以下工序。
(1)在基板上形成本发明的放射线敏感性树脂组合物的涂膜的工序，
(2)对该涂膜的至少一部分照射放射线的工序，
(3)显影工序，以及
(4)加热工序。
(1)在基板上形成本发明的放射线敏感性树脂组合物的涂膜的工序
在上述(1)工序中，在基板表面上涂布本发明的组合物溶液，优选通过进行预烘烤除去溶剂，形成放射线敏感性树脂组合物的涂膜。
作为可以使用的基板的种类，可以举出如玻璃基板、硅晶片、和在它们的表面形成有各种金属的基板。
作为组合物溶液的涂布方法，没有特别限定，可以采用如喷涂法、辊涂法、旋转涂布法(旋涂法)、狭缝口模涂布法、棒涂布法、喷墨涂布法等适宜方法，特别优选旋涂法、狭缝口模涂布法。作为预烘烤的条件，依据各成分的种类、使用比例等而不同。例如，可以是60～110℃下进行30秒～15分钟左右。
作为形成的涂膜的厚度，作为预烘烤后的值，在形成层间绝缘膜时，例如优选为3～6μm，形成微透镜时，例如优选为0.5～3μm。
(2)对该涂膜的至少一部分照射放射线的工序
在上述(2)的工序中，对形成的涂膜通过具有规定图案的掩模照射放射线后，使用显影液进行显影处理通过除去放射线的照射部分来形成图案。作为此时使用的放射线，可以举出例如紫外线、远紫外线、X射线、带电粒子射线等。
作为上述紫外线可以举出例如g线(波长436nm)、i线(波长365nm)等。作为远紫外线可以举出例如KrF激基激光等。作为X射线可以举出例如同步加速器放射线等。作为带电粒子射线可以举出例如电子束等。
在它们中，优选紫外线，其中特别优选含g线和/或i线的放射线。
作为曝光量，形成层间绝缘膜时，优选50～1,500J/m2，形成微透镜时，优选50～2,000J/m2。
(3)显影工序
作为在显影处理中所用的显影液，可以使用例如氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、硅酸钠、正硅酸钠、氨、乙基胺、正丙基胺、二乙基胺、二乙氨基乙醇、二正丙基胺、三乙基胺、甲基二乙基胺、二甲基乙醇胺、三乙醇胺、氢氧化四甲铵、氢氧化四乙铵、吡咯、哌啶、1，8-二氮杂二环[5.4.0]-7-十一碳烯、1，5-二氮杂二环[4.3.0]-5-壬烷等碱(碱性化合物)的水溶液。另外，在上述碱的水溶液中适量添加甲醇、乙醇等水溶性有机溶剂或表面活性剂的水溶液，或溶解本发明的组合物的各种有机溶剂可以用作显影液。进而，作为显影方法，可以利用例如液洼法、浸渍法、摇动浸渍法、喷淋法等适当方法。此时的显影时间随组合物的组成而不同，例如可以设为30～120秒。
对于以往已知的放射线敏感性树脂组合物而言，如果显影时间超过最佳值20～25秒左右，则形成的图案发生剥离，因此有必须严格控制显影时间，对于本发明的放射线敏感性树脂组合物而言，即使超过最佳显影时间30秒以上，也可以形成良好的图案，有在制品的成品率方面的优点。
(4)加热工序
在如上所述实施的(3)显影工序后，对形成图案的薄膜优选进行如用流动水进行清洗的洗涤处理，进而，还优选通过全面照射由高压汞灯等产生的放射线(后曝光)，对该涂膜中残存的1，2-二叠氮醌化合物进行分解处理，然后通过热板、烘箱等加热装置对该薄膜进行加热处理(后烘烤处理)，从而进行该薄膜的固化处理。上述后曝光工序中的曝光量优选为2,000～5,000J/m2左右。另外，该固化处理中的烧结温度例如为120～250℃。加热时间随加热仪器的种类不同而异，如当在热板上进行加热处理时可以设定为5～30分钟；当在烘箱中进行加热处理时，可以设定为30～90分钟。这时也可以采用进行2次以上加热工序的分段式烘烤法等。
这样在基板表面上可以形成与作为目的的层间绝缘膜或微透镜对应的图案状薄膜。
如后述实施例所述，如上所述形成的层间绝缘膜和微透镜在贴合性、耐热性、耐溶剂性、和透明性等方面是优异的。
层间绝缘膜
如上所述形成的本发明的层间绝缘膜对基板的贴合性良好，耐溶剂性和耐热性优异，具有高透射率，介电常数低，优选用作电子部件的层间绝缘膜。
微透镜
如上所述形成的本发明的微透镜对基板的贴合性良好，耐溶剂性和耐热性优异，并且具有高透射率和良好的熔体形状，优选用作固体摄影元件的微透镜。
另外，本发明的微透镜的形状如图1(a)所示，呈半凸透镜形状。
如上，本发明的放射线敏感性树脂组合物具有高放射线敏感度，具有在显影工序中即使超过最佳显影时间时，也具有可以形成良好的图案形状的显影余量，可以容易地形成贴合性优异的图案状薄膜。
由上述组合物形成的本发明的层间绝缘膜，对基板的贴合性良好，耐溶剂性和耐热性优异，具有高透射率，介电常数低，优选用作电子部件的层间绝缘膜。
另外，由上述组合物形成的本发明的微透镜，对基板的贴合性良好，耐溶剂性和耐热性优异，并且具有高透射率和良好的熔体形状，优选用作固体摄影元件的微透镜。
实施例
以下举出合成例、实施例和比较例，更具体地说明本发明，但本发明并不限于下述实施例。
合成例1
在具备冷凝管、搅拌机的烧瓶中加入2，2’-偶氮二(2，4-二甲基戊腈)7重量份和丙二醇单甲基醚乙酸酯220重量份。接着加入甲基丙烯酸22重量份、甲基丙烯酸二环戊基酯23重量份、丙烯酰基吗啉5重量份、3-乙基-3-甲基丙烯酰氧基甲基氧杂环丁烷50重量份和α-甲基苯乙烯二聚体3重量份，一边进行氮置换一边开始缓慢搅拌。使溶液温度上升至70℃，在该温度下加热4小时，得到含有共聚物[A-1]的聚合物溶液。得到的聚合物溶液的固体成分浓度是31.1重量％，聚合物的重均分子量是17,200，分子量分布(重均分子量/数均分子量的比)是1.9。重均分子量和数均分子量是使用GPC(凝胶渗透色谱(东ソ一(株)制HLC-8020)测定得到的聚苯乙烯换算的平均分子量。
合成例2
在具备冷凝管、搅拌机的烧瓶中加入2，2’-偶氮二(2，4-二甲基戊腈)7重量份和二甘醇乙基甲基醚220重量份。接着加入甲基丙烯酸13重量份、甲基丙烯酸缩水甘油酯50重量份、3-乙基-3-甲基丙烯酰氧基甲基氧杂环丁烷10重量份、环己基马来酰亚胺10重量份、丙烯酰基吗啉10重量份和丙烯酸四氢糠基酯7重量份，一边进行氮置换一边开始缓慢搅拌。使溶液温度上升至70℃，在该温度下加热4小时，得到含有共聚物[A-2]的聚合物溶液。得到的聚合物溶液的固体成分浓度是32.1重量％，聚合物的重均分子量是18,200，分子量分布是1.8。
合成例3
在具备冷凝管、搅拌机的烧瓶中加入2，2’-偶氮二(2，4-二甲基戊腈)7重量份和二甘醇乙基甲基醚200重量份。接着加入甲基丙烯酸11重量份、环己基马来酰亚胺12重量份、α-甲基-对羟基苯乙烯9重量份、甲基丙烯酸缩水甘油酯50重量份、3-乙基-3-甲基丙烯酰氧基甲基氧杂环丁烷10重量份、丙烯酰基吗啉5重量份、甲基丙烯酸四氢糠基酯3重量份和α-甲基苯乙烯二聚体3重量份，一边进行氮置换一边开始缓慢搅拌。使溶液温度上升至70℃，在该温度下加热5小时，得到含有共聚物[A-3]的聚合物溶液。得到的聚合物溶液的固体成分浓度是32.4重量％，聚合物的重均分子量是21,200，分子量分布是2.1。
合成例4
在具备冷凝管、搅拌机的烧瓶中加入2，2’-偶氮二(2，4-二甲基戊腈)8重量份和二甘醇乙基甲基醚220重量份。接着加入苯乙烯10重量份、甲基丙烯酸20重量份、3-乙基-3-甲基丙烯酰氧基甲基氧杂环丁烷20重量份、甲基丙烯酸缩水甘油酯30重量份、丙烯酰基吗啉8重量份、丙烯酸四氢糠基酯12重量份和α-甲基苯乙烯二聚体4.0重量份，一边进行氮置换一边开始缓慢搅拌。使溶液温度上升至70℃，在该温度下加热5小时，得到含有共聚物[A-4]的聚合物溶液。得到的聚合物溶液的固体成分浓度是32.0重量％，聚合物的重均分子量是20,100，分子量分布是1.9。
比较合成例1
在具备冷凝管、搅拌机的烧瓶中加入2，2’-偶氮二(2，4-二甲基戊腈)7重量份和二甘醇甲基乙基醚220重量份。接着加入甲基丙烯酸23重量份、甲基丙烯酸二环戊基酯47重量份、甲基丙烯酸缩水甘油酯20重量份、α-甲基苯乙烯二聚体2.0重量份，一边进行氮置换，一边开始缓慢搅拌。使溶液温度上升至70℃，保持该温度5小时，得到含有共聚物[A-1R]的聚合物溶液。得到的聚合物溶液的固体成分浓度是32.8重量％，聚合物的重均分子量是24,000，分子量分布是2.3。
比较合成例2
在具备冷凝管、搅拌机的烧瓶中加入2，2’-偶氮二(2，4-二甲基戊腈)7重量份和二甘醇甲基乙基醚220重量份。接着加入甲基丙烯酸25重量份、甲基丙烯酸二环戊基酯35重量份、甲基丙烯酸2-羟基乙基酯40重量份和α-甲基苯乙烯二聚体2.0重量份，并一边进行氮置换，一边开始缓慢搅拌。使溶液温度上升至70℃，保持该温度5小时，得到含有共聚物[A-2R]的聚合物溶液。得到的聚合物溶液的固体成分浓度是32.8重量％，聚合物的重均分子量是25,000，分子量分布是2.4。
实施例1
放射线敏感性树脂组合物的制备
将含有由合成例1得到的共聚物[A-1]的聚合物溶液(相当于共聚物[A-1]100重量份(固体成分))、作为成分[B]的4，4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚(1摩尔)与1，2-萘醌二叠氮-5-磺酰氯(2摩尔)的缩合物(4，4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯)20重量份和γ-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基硅烷5重量份混合，溶解至丙二醇单甲基醚乙酸酯以使固体成分浓度是30重量％后，用孔径0.5μm的微孔过滤器过滤，调制放射性敏感性组合物的溶液(S-1)。
层间绝缘膜的评价
(I)图案状薄膜的形成
在玻璃基板上使用旋涂器涂布上述组合物溶液(S-1)之后，在80℃在热板上预烘烤3分钟，形成涂膜。
对上述得到的涂膜用规定图案掩模照射在365nm处强度为10mW/cm2的紫外线15秒钟。之后用0.5重量％氢氧化四甲铵水溶液在25℃下显影1分钟后，用纯水洗涤1分钟。通过这些操作，除去不要的部分。
对上述形成的图案照射在365nm处强度为10mW/cm2的紫外线30秒钟之后，通过在220℃的烘箱中加热固化60分钟，得到膜厚3μm的图案状薄膜。
另外，除了将预烘烤温度改为90℃、100℃以外，进行与上述相同的操作，形成预烘烤温度不同的3种图案状薄膜。
(II)分辨率的评价
对由上述(I)得到的图案状薄膜，以冲压图案(5μm×5μm孔)可以分辨的情况为“O”、不能分辨的情况为“×”。结果示于表1。
(III)耐热尺寸稳定性的评价
在上述(I)中，将在预烘烤温度80℃下形成的薄膜图案在烘箱中在220℃下加热60分钟。加热前后的膜厚的变化率示于表2。此时的尺寸变化率是加热前后的5％以内时，可以说耐热尺寸稳定性良好，尺寸变化率超过5％时，可以说不好。
(IV)透明性的评价
在上述(I)中，使用分光光度计(150-20型双光束(日立制作所(株)制))测定在预烘烤温度80℃下形成的图案状薄膜的400nm的透射率，进行透明性的评价。结果示于表2中。此时透射率为90％以上的情况可以说透明性良好，小于90％的情况可以说不好。
(V)耐热变色性的评价
在上述(I)中，将具有在预烘烤温度80℃下形成的图案状薄膜的基板在250℃的烘箱中加热1小时，通过加热前后的图案状薄膜的透射率的变化来评价耐热变色性。此时的评价结果示于表2中。变化率小于5％时，可以说耐热变色性良好，超过5％时可以说不好。透射率与(IV)透明性的评价同样地求出。
(VI)贴合性的评价
在上述(I)中，通过加压蒸煮器试验(120℃，湿度100％，4小时)后的棋盘格剥离试验评价在预烘烤温度80℃下形成的图案状薄膜的贴合性。此时的评价结果示于表2。评价结果表示棋盘格100个之中剩余的棋盘格数目。
(VII)保存稳定性的评价
将上述组合物溶液用40℃的烘箱加热1周，通过加热前后粘度的变化评价保存稳定性。此时的粘度变化率示于表1中。变化率小于5％时可以说保存稳定性良好，5％以上时可以说保存稳定性不好。
微透镜的评价
(I)微透镜的形成
在6英寸硅基板上旋涂上述组合物溶液(S-1)以使达到2.5μm的膜厚，在70℃下在热板上预烘烤3分钟，形成涂膜。
对如上述得到的涂膜用规定图案掩模照射在436nm处强度为10mW/cm2的紫外线。之后利用2.38重量％氢氧化四甲铵水溶液在25℃下进行1分钟显影后，通过纯水洗涤1分钟。通过这些操作，除去不要的部分，形成图案。
对上述形成的图案以200mJ/cm2照射在436nm处强度为10mW/cm2的紫外线之后，通过在160℃下加热10分钟后，进而在230℃下加热10分钟，使图案熔体流动来形成微透镜。
(II)敏感度的评价
可以分辩由上述(I)得到的熔体流动后的微透镜图案的0.8μm线条和间隔图案(10比1)的间隔线宽的最低照射量示于表3。该值为100mJ/cm2以下时，可以说分辨率良好，敏感度超过100mJ/cm2时，可以说分辨率不好。
(III)透明性的评价
在玻璃基板上与上述(I)同样地形成图案状薄膜。
对形成熔体流动后的微透镜图案的玻璃基板，使用分光光度计(150-20型双光束(日立制作所(株)制)测定400nm的透射率，进行透明性评价。此时的400nm下的透射率示于表3。透射率为90～100％时，可以说透射率良好，小于90％时，可以说透射率不好。
(IV)耐热透明性的评价
将上述(III)中形成的具有图案状薄膜的玻璃基板用250℃的烘箱加热1小时，通过加热前后的图案状薄膜的透射率变化来评价耐热透明性。此时的透射率变化率示于表3。变化率小于5％时可以说耐热透明性良好，超过5％时，可以说不好。透射率与(III)透明性的评价同样地求出。
(V)贴合性的评价
通过加压蒸煮器试验(120℃，湿度100％，4小时)后的棋盘格剥离试验评价在上述(I)中形成的图案状薄膜的贴合性。此时的评价结果示于表3。评价结果表示棋盘格100个之中剩余的棋盘格数目。
(VII)耐溶剂性的评价
将与上述(III)同样地形成的具有图案状薄膜的玻璃基板浸渍于50℃的异丙醇中10分钟，评价膜厚变化。此时的变化率示于表3。变化率是0～5％时，可以说耐溶剂性良好，超过5％时和由于溶解膜厚降低时，可以说耐溶剂性不好。
实施例2
混合含有合成例2中得到的共聚物[A-2]的聚合物溶液(相当于共聚物[A-2]100重量份(固体成分))、和作为成分[B]的4，4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚(1摩尔)与1，2-萘醌二叠氮-5-磺酰氯(2摩尔)的缩合物(4，4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯)20重量份、和γ-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基硅烷5重量份，溶解至丙二醇单甲基醚乙酸酯以使固体成分浓度是31重量％后，用孔径0.5μm的微孔过滤器过滤，调制放射性敏感性组合物的溶液(S-2)，进行评价，结果示于表1～3。
实施例3
混合含有合成例3中得到的共聚物[A-3]的聚合物溶液(相当于共聚物[A-3]100重量份(固体成分))、和作为成分[B]的4，4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚(1摩尔)与1，2-萘醌二叠氮-5-磺酰氯(2摩尔)的缩合物(4，4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯)18重量份、和γ-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基硅烷5重量份，溶解至丙二醇单甲基醚乙酸酯以使固体成分浓度是30重量％后，用孔径0.5μm的微孔过滤器过滤，调制放射性敏感性组合物的溶液(S-3)，进行评价，结果示于表1～3。
实施例4
混合含有合成例4中得到的共聚物[A-4]的聚合物溶液(相当于共聚物[A-4]100重量份(固体成分))、和作为成分[B]的4，4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚(1摩尔)与1，2-萘醌二叠氮-5-磺酰氯(2摩尔)的缩合物(4，4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯)30重量份、4，4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚5重量份和γ-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基硅烷5重量份，溶解至丙二醇单甲基醚乙酸酯以使固体成分浓度是31重量％后，用孔径0.5μm的微孔过滤器过滤，调制放射性敏感性组合物的溶液(S-4)，进行评价，结果示于表1～3。
比较例1
混合含有比较例合成1中得到的共聚物[A-1R]的聚合物溶液(相当于共聚物[A-1R]100重量份(固体成分))、和作为成分[B]的4，4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚(1摩尔)与1，2-萘醌二叠氮-5-磺酰氯(2摩尔)的缩合物(4，4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯)30重量份、和γ-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基硅烷5重量份，溶解至丙二醇单甲基醚乙酸酯以使固体成分浓度是31重量％后，用孔径0.5μm的微孔过滤器过滤，调制放射性敏感性组合物的溶液(S-1R)，并进行评价。结果示于表1～3。
比较例2
混合含有比较例合成2中得到的共聚物[A-2R]的聚合物溶液(相当于共聚物[A-2R]100重量份(固体成分))、和作为成分[B]的4，4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚(1摩尔)与1，2-萘醌二叠氮-5-磺酰氯(2摩尔)的缩合物(4，4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯)18重量份、和γ-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基硅烷5重量份，溶解至丙二醇单甲基醚乙酸酯以使固体成分浓度是31重量％后，用孔径0.5μm的微孔过滤器过滤，制备放射性敏感性组合物的溶液(S-2R)，并进行评价。结果示于表1～3。
表1
Figure A20081008214500331
表2
Figure A20081008214500332
表3
Figure A20081008214500333

Claims (7)

1.一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有：(a1)、(a2)、(a3)和(a4)的共聚物[A]，以及1，2-二叠氮醌化合物[B]，
所述(a1)：选自不饱和羧酸和不饱和羧酸酐的至少一种，
所述(a2)：含有环氧基和氧杂环丁烷基的至少任意一个的不饱和化合物，
所述(a3)：选自丙烯酰基吗啉和甲基丙烯酰基吗啉的至少一种，
所述(a4)：与上述化合物(a1)、(a2)和(a3)的任意一个都不同且选自甲基丙烯酸烷基酯、甲基丙烯酸环烷基酯、丙烯酸烷基酯、丙烯酸环烷基酯、丙烯酸芳基酯、甲基丙烯酸芳基酯、不饱和二羧酸二酯、羟基甲基丙烯酸酯、羟基丙烯酸酯、二环不饱和化合物、马来酰亚胺化合物、不饱和芳香族化合物、共轭二烯、具有四氢呋喃骨架的不饱和化合物、具有呋喃骨架的不饱和化合物、具有四氢吡喃骨架的不饱和化合物、具有吡喃骨架的不饱和化合物、丙烯腈、甲基丙烯腈、氯乙烯、偏二氯乙烯、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺和乙酸乙烯酯的至少一种其他不饱和化合物。
2.权利要求1所述的放射线敏感性树脂组合物，其用于形成层间绝缘膜。
3.一种层间绝缘膜的形成方法，其特征在于，按照以下所述的顺序包含以下工序：
(1)在基板上形成权利要求1所述的放射线敏感性树脂组合物的涂膜的工序，
(2)对该涂膜的至少一部分照射放射线的工序，
(3)显影工序，以及
(4)加热工序。
4.一种层间绝缘膜，其由权利要求3所述的方法形成。
5.权利要求1所述的放射线敏感性树脂组合物，其用于形成微透镜。
6.一种微透镜的形成方法，其特征在于，按照以下所述的顺序包含以下工序：
(1)在基板上形成权利要求1所述的放射线敏感性树脂组合物的涂膜的工序，
(2)对该涂膜的至少一部分照射放射线的工序，
(3)显影工序，以及
(4)加热工序。
7.一种微透镜，其由权利要求6的方法形成。
CN2008100821455A 2007-03-01 2008-03-03 放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜、以及它们的制备方法 Active CN101256360B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007051870 2007-03-01
JP2007051870A JP4748323B2 (ja) 2007-03-01 2007-03-01 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法
JP2007-051870 2007-03-01

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101256360A true CN101256360A (zh) 2008-09-03
CN101256360B CN101256360B (zh) 2012-06-20

Family

ID=39836625

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2008100821455A Active CN101256360B (zh) 2007-03-01 2008-03-03 放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜、以及它们的制备方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP4748323B2 (zh)
KR (1) KR101355223B1 (zh)
CN (1) CN101256360B (zh)
TW (1) TWI430026B (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103703074A (zh) * 2012-06-01 2014-04-02 Lg化学株式会社 树脂组合物、使用该组合物形成的光学膜以及包括该光学膜的偏光板和液晶显示器
US20200411868A1 (en) * 2018-03-23 2020-12-31 Zeon Corporation Binder composition for non-aqueous secondary battery electrode, conductive material paste composition for non-aqueous secondary battery electrode, slurry composition for non-aqueous secondary battery electrode, electrode for non-aqueous secondary battery, and non-aqueous secondary battery
CN113214588A (zh) * 2020-01-21 2021-08-06 达兴材料股份有限公司 可雷射离型的组成物、其积层体和雷射离型方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101872123B (zh) * 2009-04-27 2013-07-24 Jsr株式会社 放射线敏感性树脂组合物、液晶显示用隔片或保护膜及其形成方法
KR101229960B1 (ko) * 2011-01-28 2013-02-06 한양대학교 산학협력단 광산발생제를 포함하는 테트라 폴리머 레지스트 및 이의 제조 방법
CN109467079B (zh) * 2018-11-19 2020-11-24 华南理工大学 一种有机功能化石墨烯材料及其制备方法和应用

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06172676A (ja) * 1992-12-03 1994-06-21 Nippon Oil & Fats Co Ltd 紫外線硬化型防曇剤組成物
JPH07261391A (ja) * 1994-03-22 1995-10-13 Nippon Oil & Fats Co Ltd 光硬化性樹脂組成物
JP3543286B2 (ja) * 1996-03-08 2004-07-14 日本化薬株式会社 樹脂組成物、レジストインキ樹脂組成物及びこれらの硬化物
WO2000040632A1 (fr) * 1998-12-28 2000-07-13 Daicel Chemical Industries, Ltd. Composition de resine durcissable, copolymere modifie et composition de resine, et pate de verre photodurcissable pour developpement de type alcalin
JP2003043685A (ja) * 2001-08-03 2003-02-13 Showa Denko Kk 着色組成物及びカラーフィルター用感光性着色組成物
AU2002255353A1 (en) * 2001-05-15 2002-11-25 Showa Denko K. K. Photosensitive coloring compositon, color filter using the compositon and method of producing the same
TWI300795B (en) * 2001-08-21 2008-09-11 Mitsubishi Chem Corp Curable resin composition for die coating and process for producing color filter
JP4492393B2 (ja) * 2005-03-08 2010-06-30 チッソ株式会社 感光性組成物およびそれを用いた表示素子

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103703074A (zh) * 2012-06-01 2014-04-02 Lg化学株式会社 树脂组合物、使用该组合物形成的光学膜以及包括该光学膜的偏光板和液晶显示器
US9323102B2 (en) 2012-06-01 2016-04-26 Lg Chem, Ltd. Resin composition, optical film formed using the same, polarizing plate and liquid crystal display device including the same
CN103703074B (zh) * 2012-06-01 2016-07-06 Lg化学株式会社 树脂组合物、使用该组合物形成的光学膜以及包括该光学膜的偏光板和液晶显示器
US20200411868A1 (en) * 2018-03-23 2020-12-31 Zeon Corporation Binder composition for non-aqueous secondary battery electrode, conductive material paste composition for non-aqueous secondary battery electrode, slurry composition for non-aqueous secondary battery electrode, electrode for non-aqueous secondary battery, and non-aqueous secondary battery
US11673984B2 (en) * 2018-03-23 2023-06-13 Zeon Corporation Binder composition for non-aqueous secondary battery electrode, conductive material paste composition for non-aqueous secondary battery electrode, slurry composition for non-aqueous secondary battery electrode, electrode for non-aqueous secondary battery, and non-aqueous secondary battery
CN113214588A (zh) * 2020-01-21 2021-08-06 达兴材料股份有限公司 可雷射离型的组成物、其积层体和雷射离型方法
US11794381B2 (en) 2020-01-21 2023-10-24 Daxin Materials Corporation Laser-debondable composition, laminate thereof, and laser-debonding method

Also Published As

Publication number Publication date
TW200900857A (en) 2009-01-01
JP4748323B2 (ja) 2011-08-17
JP2008216491A (ja) 2008-09-18
KR101355223B1 (ko) 2014-01-24
TWI430026B (zh) 2014-03-11
CN101256360B (zh) 2012-06-20
KR20080080453A (ko) 2008-09-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101308327B (zh) 放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的形成方法
CN102549496B (zh) 放射线敏感性树脂组合物以及层间绝缘膜的形成方法
CN101226329B (zh) 放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜及微透镜以及它们的制备方法
CN101206401A (zh) 射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的形成方法
TW201730678A (zh) 正型感光性樹脂組成物
JP2004264623A (ja) 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの形成方法
JP2001330953A (ja) 感放射線性樹脂組成物
CN101546127B (zh) 感射线性树脂组合物以及层间绝缘膜和微透镜的制造方法
CN101256360B (zh) 放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜、以及它们的制备方法
JP2005049691A (ja) 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法
CN101324755A (zh) 感放射线性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜及其形成方法
KR20080086390A (ko) 감방사선성 수지 조성물, 층간 절연막 및 마이크로렌즈, 및이들의 제조 방법
JP2007101762A (ja) 感放射線性樹脂組成物ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成
CN101359174B (zh) 放射线敏感性树脂组合物、以及层间绝缘膜和微透镜及它们的制备方法
CN101154041B (zh) 放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜的形成
CN1841197B (zh) 放射线敏感性树脂组合物、由该组合物形成的突起和分隔物及其形成方法、及液晶显示元件
CN1898605B (zh) 辐射敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的制备方法
CN101727002B (zh) 感射线性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的制造方法
JP4687359B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成
CN102364397B (zh) 放射线敏感性树脂组合物、固化膜、固化膜的形成方法和显示元件
JP2008225162A (ja) 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法
JP4670568B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成
JP4581810B2 (ja) 層間絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物およびマイクロレンズ形成用感放射線性組成物
JP2008175889A (ja) 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法
JP2007114244A (ja) 感放射線性樹脂組成物ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant