TWI457703B

TWI457703B - 感放射線性樹脂組成物、有機ｅｌ顯示元件用隔壁及絕緣膜、以及其形成方法

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Publication number: TWI457703B
Application number: TW099109302A
Authority: TW
Inventors: Masaaki Hanamura; Hiroyuki Maruyama
Original assignee: Jsr Corp
Priority date: 2009-03-30
Filing date: 2010-03-29
Publication date: 2014-10-21
Also published as: JP5343664B2; JP2010237310A; KR101579775B1; TW201100956A; KR20100109390A

Description

感放射線性樹脂組成物、有機EL顯示元件用隔壁及絶緣膜、以及其形成方法

本發明係關於隔壁及絕緣膜形成用之感放射線性樹脂組成物、有機EL顯示元件用隔壁及絕緣膜、及其形成方法。再詳言之，本發明係關於利用紫外線、遠紫外線、X線等放射線，適於隔壁及絕緣膜之形成的感放射線性樹脂組成物，由該等所形成之有機EL顯示元件用隔壁及絕緣膜、及該隔壁及絕緣膜的形成方法。

有機EL顯示元件因自行發光，則無視角依存性(view angle dependence)，又，因係固體元件，故耐衝擊性優異、低電壓驅動、低消耗電力及低溫區域之動作穩定性高等，相較於液晶顯示元件而有各種優點。有機EL顯示元件，由於具有該等優點，尤其是對可移動終端或車內機器等行動式用途之可適用性的期待很高，硏究非常盛行。

此種有機EL顯示元件，一般係以下列方法製造。首先，在基板上形成錫摻雜氧化銦(ITO)等透明電極(電洞注入電極)及電洞輸送層之圖形。接著、在被動型有機EL顯示元件的情況下，在形成絕緣膜之圖形及陰極隔壁之圖形後，使有機EL層、電子輸送層及陰極(電子注入電極)藉由蒸鍍而圖形化。又，在主動型有機EL顯示元件的情況下，在形成被用作ITO圖形、有機EL層之隔壁的絕緣膜之圖形後，藉由掩罩(masking)法或噴墨法等而形成有機EL層之圖形，接著形成電子輸送層及陰極(電子注入電極)。在此，有機EL層方面，係使用如Alq₃ 、BeBq₃ 般之摻雜喹吖酮(quinacridone)或香豆素於基材母體的材料，在陰極材料方面，係使用如鎂或銀般之以低功函數之金屬作為主體的材料。

近年，為因應高精細化之要求，吾人正研討開口率更高的有機EL顯示元件。但是，因下述理由，對開口率之提高則有一定之界限。亦即，在被動型有機EL顯示元件中，要提高開口率，就必須減少絕緣膜及陰極隔壁之圖形寬，不過在該等之部分，由於吾人要求一定強度，及從解像度之點觀之，圖形寬之減少有其界限，故無法充分獲得高開口率。又，在主動型有機EL顯示元件中，為了避免每一像素之ITO圖形之短路，故有必要在像素間設置一定之間隔，故對開口率之提高有其界限。

最近，吾人正研討可實現更高開口率的構造之主動型有機EL顯示元件。此種主動型有機EL顯示元件，可以例如下列方法來製造。首先，在玻璃等基板上形成驅動用端子，在其上形成兼有平坦化膜的第一絕緣膜。接著，在其上，形成ITO等透明電極(電洞注入電極)之圖形。此時之圖形形成，通常係依照濕蝕刻法。再者在其上，藉由掩罩法來形成電洞輸送層之圖形。接著，以被用作ITO圖形及有機EL層之隔壁的第二絕緣膜之圖形、以及有機EL層之圖形係藉由掩罩法或噴墨法等而形成，接著依順序形成電子輸送層及陰極(電子注入電極)。此時，為了取得ITO電極(電洞注入電極)與驅動用端子之導通，則在第一絕緣膜有必要形成1至15μm左右之貫穿孔或者形的凹處。

然而，周知是有機EL發光層，即使在低分子發光層中，或高分子發光層中，一與水分接觸則迅速劣化，而使其發光狀態受到阻礙。吾人認為此種水分，有自環境滲入之情形，和有在吸附水等之形態，絕緣膜材料所含的微量水分緩緩地滲入有機EL層之情形。

直至目前為止，並無提案可形成具有以下性質之絕緣膜的材料：為實現更高開口率而可形成必要的貫穿孔或者形凹處，且具有充分解像度、平坦化性能優異，同時對透明電極形成時所使用之光阻剝離液具有高耐性，再者，可防止阻礙發光的雜質(主為水分)之滲入。

一方面，以提高使用有機EL顯示元件的顯示裝置中的對比，並提高可見度為目的，吾人嘗試使遮光性保持於絕緣膜及/或元件分離構造體之基部(參照例如日本特開平11-273870號公報、日本特開2002-116536號公報)。但是，在該等感放射線性樹脂組成物中，為了充分提高遮光性硬化膜或黑色矩陣之遮光性，則有必要使用相當量的著色劑。在使用此種多量著色劑之情形，由於已曝光的放射線係被著色劑所吸收，故會有使塗膜中放射線之有效強度降低，且使圖形形成用之放射線感度(曝光感度)降低等之不適合之處。

在不使放射線感度降低，並賦予隔壁或絕緣膜遮光性的具體方法，則有添加感熱性材料與顯色劑於酚醛清漆樹脂等含鹼可溶性樹脂與重氮醌的正型光阻之方法(參照例如日本特開平10-170715號公報、日本特開2008-122501號公報)。在該方法中，藉由加熱，而可使用預先將黑色發色的感熱性材料與顯色劑添加於內的正型感放射線性樹脂組成物。此種感放射線性樹脂組成物中，在曝光前感熱性材料在未反應之狀態，由於並不呈現黑色，故樹脂組成物本身不具遮光性，放射線感度不會惡化。

但是，在有機EL顯示元件中的圖形，或隔壁或者絕緣膜形成所必需的溫度，一般在200℃附近。因此，在日本特開平10-170715號公報或日本特開2008-122501號公報所揭示之顯色劑與發色劑中，被指摘對該溫度之耐熱性並不充分，不只是無法獲得滿意的遮光性，而且在圖形形成時進行昇華，有燒成爐污染等之危險性。

先行技術文獻

專利文獻

專利文獻1日本特開平11-273870號公報

專利文獻2日本特開2002-116536號公報

專利文獻3日本特開平10-170715號公報

專利文獻4日本特開2008-122501號公報

本發明係根據上述情事而完成者，其目的係提供一種感放射線性樹脂組成物，具有可形成絕緣膜之貫穿孔或者形凹處的充分解像度，平坦化性能優異，同時對於透明電極形成時所使用光阻剝離液具有高耐性、且兼具優異放射線感度與加熱時之高遮光性，係用以形成有機EL顯示元件之隔壁及絕緣膜用的感放射線性樹脂組成物

為解決上述課題所完成之本發明，係一種感放射線性樹脂組成物，其含有：

[A]鹼可溶性樹脂，其係將含有(a1)選自不飽和羧酸及不飽和羧酸酐之至少一者、以及(a2)選自下述式(I)所示含酚骨架不飽和化合物、下述式(II)所示化合物及下述式(III)所示化合物構成群組之化合物的單體予以共聚而成之共聚物，

[B]1,2-醌二疊氮基化合物，及

[C]感熱色素，

(式(I)中，R¹ 為氫原子或碳數1至4之烷基；R² ~R⁶ 係相同或相異，為氫原子、羥基或碳數1至4之烷基；B為單鍵、-COO-、或-CONH-；m為0至3之整數，但R² 至R⁶ 之至少1個為羥基；式(II)中，R¹ 為氫原子或碳數1至4之烷基；Y¹ 及Y² 係相同或相異，為氫原子或碳數1至6之烷基；X¹ 至X⁴ 係相同或相異，為氫原子、碳數1至4之烷基或鹵素原子；Z為單鍵或-O(CH₂ )_w -，w為1至6之整數；式(III)中，R¹ 為氫原子或碳數1至4之烷基；Z為單鍵或-O(CH₂ )_w -，w為1至6之整數)。

該隔壁及絕緣膜形成用感放射線性樹脂組成物，因含有：作為鹼可溶性樹脂及顯色劑兩者作用的不飽和羧酸等以及含酚骨架不飽和化合物等之共聚物與感熱色素，故具有在隔壁及絕緣膜形成時對高溫的耐熱性，可防止顯色劑之昇華，同時，可獲得除了優異放射線感度及顯影性，再加上加熱時之高遮光性。

該感放射線性樹脂組成物中的[A]成分之鹼可溶性樹脂宜為除了含有：(a1)成分及(a2)成分，再加上(a3)含環氧基不飽和化合物的單體予以共聚而成共聚物。作為[A]成分之鹼可溶性樹脂的共聚物之成分，係藉由使用此種含環氧基不飽和化合物，而可進一步提高由該感放射線性樹脂組成物所形成之隔壁及絕緣膜之耐熱性及表面硬度。

相對於[A]成分之鹼可溶性樹脂100質量份，該感放射線性樹脂組成物中的[C]成分之感熱色素之含量宜為0.1質量份以上、30質量份以下。藉由設定[C]成分之感熱色素之含量於此種範圍，可使對熱的吸收感度，或放射線感度、耐熱性、及耐溶劑性保持於適切的等級。

又，本發明之有機EL顯示元件用隔壁及有機EL顯示元件用絕緣膜之形成方法，包含：(1)使該感放射線性樹脂組成物之塗膜形成於基板上之步驟；

(2)在步驟(1)形成的塗膜之至少一部分，照射放射線之步驟；

(3)使於步驟(2)照射放射線之塗膜予以顯影之步驟；及

(4)使於步驟(3)顯影之塗膜予以加熱之步驟。

使用該感放射線性.樹脂組成物，藉由上述步驟，製造有機EL顯示元件之隔壁及絕緣膜之情形，由於在曝光前組成物所含的感熱色素呈未反應之狀態，故無法顯現遮光性，不過在曝光後經加熱時，則顯示高遮光性，具備具該隔壁及絕緣膜的有機EL顯示元件的顯示裝置之對比極為良好。

如上述說明，本發明之感放射線性樹脂組成物，由於係將預定之共聚物的鹼可溶性樹脂作為顯色劑使用，故在隔壁及絕緣膜形成時具有對高溫的耐熱性，可防止顯色劑之昇華，同時可獲得除了優異放射線感度、顯影性之外，再加上加熱時之高遮光性。

實施發明之形態

本發明之隔壁及絕緣膜形成用感放射線性樹脂組成物含有：[A]成分之鹼可溶性樹脂、[B]成分之1,2-醌二疊氮基化合物、[C]成分之感熱色素、及其他任意成分。茲就各成分說明如下。

[A]成分

[A]成分係將含有(a1)選自不飽和羧酸及不飽和羧酸酐之至少一者；以及(a2)選自上述式(1)所示含酚骨架不飽和化合物、上述式(11)所示化合物、及上述式(111)所示化合物，所構成群組之化合物的單體予以共聚而成之共聚物。以下，該共聚物稱為「共聚物[A]」。共聚物[A]，係將除了含有：該化合物(a1)及化合物(a2)之外，再加上含有：(a3)含環氧基不飽和化合物及/或(a4)該等化合物(a1)至(a3)以外之具有自由基聚合性的不飽和化合物的單體予以共聚而成之共聚物。共聚物[A]雖為鹼可溶性樹脂，不過在感放射線性樹脂組成物中亦作用為顯色劑。根據含有共聚物[A]的感放射線性樹脂組成物，可得除了隔壁及絕緣膜形成時的高耐熱性、高放射線感度、高顯影性之外，再加上加熱時優異的遮光性。

共聚物[A]係可藉由在溶劑中、聚合引發劑之存在下，使化合物(a1)及(a2)、以及任意之化合物(a3)及(a4)予以自由基聚合而製造。共聚物[A]，根據化合物(a1)、(a2)、(a3)及(a4)所衍生之構成單位之合計，由化合物(a1)所衍生之構成單位較佳含有5至40質量%、特佳含有10至30質量%。藉由使由化合物(a1)所衍生之構成單位於此種比率使用，而可在共聚物[A]之顯影步驟中使相對於鹼水溶液的溶解性控制於適切的範圍。

化合物(a1)係具有自由基聚合性的不飽和羧酸及/或不飽和羧酸酐。化合物(a1)方面，有例如單羧酸、二羧酸、二羧酸之酐、多價羧酸之單[(甲基)丙烯醯氧烷基]酯、兩末端具有羧基與羥基的聚合物之單(甲基)丙烯酸酯、具有羧基之多環式化合物及其酐等。

該等化合物(a1)之具體例方面，單羧酸有例如丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸等；二羧酸有例如順丁烯二酸、反丁烯二酸、檸康酸、中康酸、伊康酸等；二羧酸之酐有例如上述二羧酸所例示的化合物之酐等；多價羧酸之單[(甲基)丙烯醯氧烷基]酯，有例如琥珀酸單[2-(甲基)丙烯醯氧乙基]酯、酞酸單[2-(甲基)丙烯醯氧乙基]酯等；兩末端具有羧基與羥基的聚合物之單(甲基)丙烯酸酯，有例如ω-羧聚己內酯單(甲基)丙烯酸酯等；具有羧基的多環式化合物及其酐有例如5-羧雙環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二羧雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-5-甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-5-乙基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-6-甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-6-乙基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二羧雙環[2.2.1]庚-2-烯酐等。

該等化合物(a1)中，宜為使用單羧酸、二羧酸之酐。其中尤其是丙烯酸、甲基丙烯酸、順丁烯二酸酐，由與其它化合物之共聚反應性、對鹼水溶液的溶解性、及取得容易性之觀點而言，可適當使用。該等化合物(a1)可單獨或者組合使用。

共聚物[A]根據化合物(a1)、(a2)、(a3)及(a4)所衍生之構成單位之合計，化合物(a2)所衍生之構成單位較佳為含有1至50質量%、特佳為含有3至40質量%。藉由使用化合物(a2)所衍生之構成單位1質量%以上，而可提高感放射線性樹脂組成物之放射線感度。一方面藉由使該構成單位之量設為50質量%以下，而在隔壁及絕緣膜之形成中的顯影步驟中，可防止對鹼水溶液的溶解性過剩。

化合物(a2)係選自上述式(I)所示含酚骨架不飽和化合物、上述式(II)所示之化合物、及上述式(III)所示之化合物所構成群組的化合物。

含有上述式(I)所示酚骨架的不飽和化合物，依照B與m之定義，而可分類成下述式(IV)至(VIII)所示化合物。

(式(IV)中，n係1至3之整數，R¹ 、R² 、R³ 、R⁴ 、R⁵ 、及R⁶ 之定義同於式(I))。

(式(V)中，R¹ 、R² 、R³ 、R⁴ 、R⁵ 、及R⁶ 之定義同於上述式(I))。

(式(VI)中，p係1至3之整數。R¹ 、R² 、R³ 、R⁴ 、R⁵ 、及R⁶ 之定義則同於上述式(I))。

(式(VII)中，R¹ 、R² 、R³ 、R⁴ 、R⁵ 、及R⁶ 之定義同於上述式(I))。

(式(VIII)中，R¹ 、R² 、R³ 、R⁴ 、R⁵ 、及R⁶ 之定義同於上述式(I))。

在該等之含酚骨架不飽和化合物中，以N-(3,5-二甲基-4-羥苄基)(甲基)丙烯醯胺、N-(4-羥苯基)(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸4-羥苄酯、(甲基)丙烯酸4-羥基苯酯、鄰羥苯乙烯、間羥苯乙烯、對羥苯乙烯、α-甲基鄰羥苯乙烯、α-甲基間羥苯乙烯、α-甲基對羥苯乙烯，由於可提高感放射線性樹脂組成物之放射線感度，加大顯影裕度(顯影時間之容許範圍)，同時就可提高所得隔壁及絕緣膜之耐熱性這點觀之可合適的使用。

上述式(II)所示之化合物係在雙酚型化合物一方之羥基導入聚合性不飽和基的化合物。在上述式(II)所示之化合物方面，有例如、4,4'-異亞丙二酚、4,4'-異亞丙雙(2-氯酚)、4,4'-異亞丙雙(2,6-二溴酚)、4,4'-異亞丙雙(2,6-二氯酚)、4,4'-異亞丙雙(2-甲酚)、4,4'-異亞丙雙(2,6-二甲酚)、4,4'-異亞丙雙(2-三級丁酚)、4,4'-二級亞丁二酚、4,4'-s-亞丁雙(2-甲酚)等之雙酚型化合物一方之羥基導入(甲基)丙烯醯基的化合物。在其中，由可提高所形成[A]成分之化合物的顯色性能之觀點觀之，特佳為在4,4'-異亞丙二酚一方之羥基導入(甲基)丙烯醯基的化合物。

上述式(III)所示之化合物，係在萘二醇一方之羥基導入聚合性不飽和基的化合物。萘二醇可為1,2-體、1,3-體、1,4-體、1,5-體、2,3-體及2,6-體之任意的異構物，亦可為該等混合物。上述式(III)所示化合物之具體例方面，有1-丙烯醯氧-4-萘酚、1-丙烯醯氧-5-萘酚、2-丙烯醯氧-6-萘酚、1-甲基丙烯醯氧-間萘酚、1-甲基丙烯醯氧-5-萘酚、2-甲基丙烯醯氧-6-萘酚等。該等化合物中，由所形成[A]成分之化合物之顯色性能提高與共聚性之觀點觀之，特佳為1-甲基丙烯醯氧-4-萘酚。

共聚物[A]係根據化合物(a1)、(a2)、(a3)及(a4)所衍生構成單位之合計，具有自由基聚合性的含環氧基不飽和化合物的化合物(a3)所衍生之構成單位，較佳為含有10至80質量%、特佳為含有20至70質量%。藉由設定該化合物(a3)所衍生構成單位之量為10質量%以上，而可提高所得隔壁及絕緣膜之耐熱性或表面硬度。一方面，藉由設定該構成單位之量為80質量%以下，而可高度保持感放射線性樹脂組成物之保存穩定性。

化合物(a3)方面，有例如丙烯酸環氧丙酯、甲基丙烯酸環氧丙酯，α-乙基丙烯酸環氧丙酯、α-正丙基丙烯酸環氧丙酯、α-正丁基丙烯酸環氧丙酯、丙烯酸-3,4-環氧丁酯、甲基丙烯酸-3,4-環氧丁酯、丙烯酸-6,7-環氧庚酯、甲基丙烯酸-6,7-環氧庚酯、α-乙基丙烯酸-6,7-環氧庚酯、鄰乙烯苄基環氧丙醚、間乙烯苄環氧丙醚、對乙烯苄環氧丙醚、甲基丙烯酸3,4-環氧環己酯等。該等化合物(a3)中，以甲基丙烯酸環氧丙酯、甲基丙烯酸-6,7-環氧庚酯、對乙烯苄環氧丙醚、間乙烯苄環氧丙醚、對乙烯苄環氧丙醚、甲基丙烯酸3,4-環氧環己酯等，因與其它化合物之共聚反應性、及可提高所得隔壁及絕緣膜之耐熱性或表面硬度之點觀之，可適當使用。該等化合物(a3)可單獨使用或者組合使用。

共聚物[A]係根據化合物(a1)、(a2)、(a3)及(a4)所衍生之構成單位之合計，使上述化合物(a1)、(a2)及(a3)以外之具有自由基聚合性的不飽和化合物的化合物(a4)所衍生之構成單位，較佳為含有5至70質量%、特佳為含有5至50質量%。藉由使該化合物(a4)所衍生之構成單位為5質量%以上，而可提高感放射線性樹脂組成物之保存穩定性。一方面，藉由設定構成單位之量為70質量%以下，而在隔壁及絕緣膜之形成中的顯影步驟中，可促進組成物之對鹼水溶液的溶解性。

化合物(a4)方面，有例如甲基丙烯酸鏈狀烷酯、丙烯酸鏈狀烷酯、甲基丙烯酸環狀烷酯、具有羥基的甲基丙烯酸酯、丙烯酸環狀烷酯、甲基丙烯酸芳酯、丙烯酸芳酯、不飽和二羧酸二酯、雙環不飽和化合物、順丁烯二醯亞胺化合物、不飽和芳香族化合物、共軛二烯、具有四氫呋喃骨架的不飽和化合物、具有呋喃骨架的不飽和化合物、具有四氫哌喃骨架的不飽和化合物、具有哌喃骨架的不飽和化合物、具有下述式(IX)所示骨架的不飽和化合物、及其他不飽和化合物。

(式(IX)中，R⁷ 為氫原子或甲基。q為1以上之整數)。

該等具體例方面，作為甲基丙烯酸鏈狀烷酯有例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸二級丁酯、甲基丙烯酸三級丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸異癸酯、甲基丙烯酸正月桂酯、甲基丙烯酸三癸酯、甲基丙烯酸正硬脂醯酯等；丙烯酸鏈狀烷酯，有例如丙烯酸甲酯、丙烯酸異丙酯等；甲基丙烯酸環狀烷酯，有例如甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸2-甲基環己酯、甲基丙烯酸三環[5.2.1.0^2,6 ]癸烷-8-基酯、甲基丙烯酸三環[5.2.1.0^2,6 ]癸烷-8-基氧乙酯、甲基丙烯酸異冰片酯等；具有羥基的甲基丙烯酸酯，有例如甲基丙烯酸羥甲酯、甲基丙烯酸2-羥乙酯、甲基丙烯酸3-羥丙酯、甲基丙烯酸4-羥丁酯、單甲基丙烯酸二乙二醇酯、甲基丙烯酸2,3-二羥丙酯、2-甲基丙烯醯氧乙基糖苷(glycoside)等；丙烯酸環狀烷酯有例如丙烯酸環己酯、丙烯酸2-甲基環己酯、丙烯酸三環[5.2.1.0^2,6 ]癸烷-8酯、丙烯酸三環[5.2.1.0^2,6 ]癸烷-8氧乙酯、丙烯酸異冰片酯等；甲基丙烯酸芳酯，有例如甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸苄酯等；丙烯酸芳酯，有例如丙烯酸苯酯、丙烯酸苄酯等；不飽和二羧酸二酯有例如順丁烯二酸二乙酯、反丁烯二酸二乙酯、伊康酸二乙酯等；雙環不飽和化合物，有例如雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-乙基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-甲氧雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-乙氧雙環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二甲氧雙環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二乙氧雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-三級丁氧羰雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-環己氧羰雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-苯氧羰雙環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二(三級丁氧羰)雙環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二(環己氧羰)雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-(2'-羥乙基)雙環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二羥雙環[2.2.1]庚-2-烯、5,6一二(羥甲基)雙環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二(2'-羥乙基)雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羥基-5-甲雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羥基-5-乙雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羥甲基-5-甲雙環[2.2.1]庚-2-烯等；順丁烯二醯亞胺化合物，有例如N-苯基順丁烯二醯亞胺、N-環己基順丁烯二醯亞胺、N-苄基順丁烯二醯亞胺、N-(4-羥苯基)順丁烯二醯亞胺、N-(4-羥苄基)順丁烯二醯亞胺、N-琥珀醯亞胺基-3-順丁烯二醯亞胺苯甲酸酯、N-琥珀醯亞胺基-4-順丁烯二醯亞胺丁酸酯、N-琥珀醯亞胺基-6-順丁烯二醯亞胺己酯、N-琥珀醯亞胺基-3-順丁烯二醯亞胺丙酯、N-(間吖啶)順丁烯二醯亞胺等；不飽和芳香族化合物，有例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、間甲基苯乙烯、對甲基苯乙烯、乙烯甲苯、對甲氧苯乙烯等；共軛二烯，有例如1,3-丁二烯、異戊二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯等；具有四氫呋喃骨架的不飽和化合物，有例如(甲基)丙烯酸四氫糠酯、2-甲基丙烯醯氧基-丙酸四氫糠酯、3-(甲基)丙烯醯氧四氫呋喃-2-酮等；含有呋喃骨架的不飽和化合物，有例如2-甲基-5-(3-呋喃基)-1-戊烯-3-酮、(甲基)丙烯酸糠酯、1-呋喃-2-丁基-3-烯-2-酮、1-呋喃-2-丁基-3-甲氧基-3-烯-2-酮、6-(2-呋喃基)-2-甲基-1-己烯-3-酮、6-呋喃-2-基-己-1-烯-3-酮、丙烯酸-2-呋喃-2-基-1-甲基-乙酯、6-(2-呋喃基)-6-甲基-1-庚烯-3-酮等；含有四氫哌喃骨架的不飽和化合物，有例如(四氫哌喃-2-基)甲基甲基丙烯酸酯、2,6-二甲基-8-(四氫哌喃-2基氧)-辛-1-烯-3-酮、2-甲基丙烯酸四氫哌喃-2酯、1-(四氫哌喃-2-氧)-丁基-3-烯-2-酮等；含有哌喃骨架的不飽和化合物有例如4-(1,4-二氧雜-5-側氧-6-庚烯基)-6-甲基-2-哌喃、4-(1,5-二氧雜-6-側氧基-7-辛烯基)-6-甲基-2-哌喃等；含有上述式(IX)所示骨架的不飽和化合物，有例如聚乙二醇(n=2至10)單(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(n=2至10)單(甲基)丙烯酸酯等；其他不飽和化合物，可各自例舉例如丙烯腈、甲基丙烯腈、氯乙烯、氯化亞乙烯、丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、乙酸乙烯酯。

該等化合物(a4)中宜為使用甲基丙烯酸鏈狀烷酯、甲基丙烯酸環狀烷酯、丙烯酸環狀烷酯、不飽和二羧酸二酯、雙環不飽和化合物、順丁烯二醯亞胺化合物、不飽和芳香族化合物、共軛二烯、含有四氫呋喃骨架的不飽和化合物、含有四氫哌喃骨架的不飽和化合物、含有上述式(IX)所示骨架的不飽和化合物。該等中，尤其是苯乙烯、甲基丙烯酸三級丁酯、甲基丙烯酸三環[5.2.1.0^2,6 ]癸烷-8酯、對甲氧苯乙烯、丙烯酸2-甲基環己酯、1,3-丁二烯、雙環[2.2.1]庚-2-烯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、聚乙二醇(n=2至10)單(甲基)丙烯酸酯、3-(甲基)丙烯醯氧四氫呋喃-2-酮、1-(四氫哌喃-2-氧)-丁基-3-烯-2-酮、(甲基)丙烯酸糠酯、N-環己基順丁烯二醯亞胺，由與其它化合物之共聚反應性、及對鹼水溶液之溶解性之點觀之為佳。該等化合物(a4)可單獨使用或者組合使用。

本發明所使用的共聚物[A]中，為單體之化合物群之組合之較佳具體例方面，有甲基丙烯酸/甲基丙烯酸三環[5.2.1.0^2,6 ]癸烷-8-基酯/甲基丙烯酸環氧丙酯/丙烯酸2-甲基環己酯/N-(3,5-二甲基-4-羥苄基)甲基丙烯醯胺共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸環氧丙酯/1-(四氫哌喃-2-氧)-丁基-3-烯-2-酮/N-環己基順丁烯二醯亞胺/對甲氧苯乙烯/N-(3,5-二甲基-4-羥苄基)甲基丙烯醯胺共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸環氧丙酯/甲基丙烯酸三環[5.2.1.0^2,6 ]癸烷-8酯/苯乙烯/N-苯基順丁烯二醯亞胺/N-(4-羥苯基)甲基丙烯醯胺共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸環氧丙酯/甲基丙烯酸三環[5.2.1.0^2,6 ]癸烷-8-基酯/甲基丙烯酸正月桂酯/3-甲基丙烯醯氧四氫呋喃-2-酮/N-(4-羥苯基)甲基丙烯醯胺共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸環氧丙酯/甲基丙烯酸三環[5.2.1.0^2,6 ]癸烷-8酯/對甲氧苯乙烯/甲基丙烯酸4-羥苄酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸三環[5.2.1.0^2,6 ]癸烷-8酯/甲基丙烯酸環氧丙酯/苯乙烯/對乙烯苄環氧丙醚/甲基丙烯酸四氫糠酯/甲基丙烯酸4-羥苯酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸環氧丙酯/N-環己基順丁烯二醯亞胺/3-甲基丙烯醯氧四氫呋喃-2-酮/甲基丙烯酸四氫糠酯/甲基丙烯酸4-羥苯酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸環氧丙酯/甲基丙烯酸四氫糠酯/N-苯基順丁烯二醯亞胺/α-甲基-對羥苯乙烯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸環氧丙酯/甲基丙烯酸三環[5.2.1.0^2,6 ]癸烷-8酯/N-環己基順丁烯二醯亞胺/甲基丙烯酸正月桂酯/α-甲基-對羥苯乙烯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸環氧丙酯/甲基丙烯酸四氫糠酯/N-環己基順丁烯二醯亞胺/甲基丙烯酸正月桂酯/α-甲基-對羥苯乙烯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸三環[5.2.1.0^2,6 ]癸烷-8酯/甲基丙烯酸環氧丙酯/丙烯酸2-甲基環己酯/4,4'-異亞丙基-二酚一方之羥基導入甲基丙烯醯基的化合物之共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸三環[5.2.1.0^2,6 ]癸烷-8酯/甲基丙烯酸環氧丙酯/丙烯酸2-甲基環己酯/1-甲基丙烯醯氧-4-萘酚共聚物。

共聚物[A]之換算聚苯乙烯重量平均分子量(以下稱為「Mw」)，較佳為2×10³ 至1x10⁵ 、更佳為5x10³ 至5x10⁴ 。藉由設定共聚物[A]之Mw為2×10³ 以上，而可得感放射線樹脂組成物之充分顯影裕度，同時可防止所形成塗膜之殘膜率(圖形狀薄膜適當地殘存之比率)之降低，再者可良好保持所得隔壁及絕緣膜之圖形形狀或耐熱性等。一方面，藉由設定共聚物[A]之Mw為1×10⁵ 以下，而可保持高度放射線感度，獲得良好的圖形形狀。又，共聚物[A]之分子量分布(以下稱為「Mw/Mn」)較佳為5.0以下、更佳為3.0以下。藉由設定共聚物[A]之Mw/Mn為5.0以下，而可良好保持所得隔壁及絕緣膜之圖形形狀。又，含有上述般之具有較佳範圍之Mw及Mw/Mn的共聚物[A]的感放射線性樹脂組成物，由於具有高度的顯影性，故在顯影步驟中，不致產生顯影殘留，可容易地形成預定之圖形形狀。

用以製造共聚物[A]之聚合反應所使用之溶劑方面，有例如醇類、醚類、乙二醇醚、乙二醇烷醚乙酸酯、二乙二醇烷醚、丙二醇單烷醚、丙二醇單烷醚乙酸酯、丙二醇單烷醚丙酸酯、芳香族烴類、酮類、其它酯類等。

該等溶劑方面，在醇類有例如甲醇、乙醇、苄醇、2-苯乙醇、3-苯基-1-丙醇等；醚類有例如四氫呋喃等；乙二醇醚，有例如乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚等；乙二醇烷醚乙酸酯，有例如甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、乙二醇單丁醚乙酸酯、乙二醇單乙醚乙酸酯等；二乙二醇烷醚，有例如二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇乙甲醚等；丙二醇單烷醚有例如丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單丙醚、丙二醇單丁醚等；丙二醇單烷醚乙酸酯，有例如丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯、丙二醇單丁醚乙酸酯等；丙二醇單烷醚丙酸酯，有例如伸丙基單乙二醇甲醚丙酸酯、丙二醇單乙醚丙酸酯、丙二醇單丙醚丙酸酯、丙二醇單丁醚丙酸酯等；芳香族烴類有例如甲苯、二甲苯等；酮類，有例如甲乙酮、環己酮、4-羥基-4-甲基-2-戊酮等；其它酯類可例舉乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、2-羥丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸甲酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、羥乙酸甲酯、羥乙酸乙酯、羥乙酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丙酯、乳酸丁酯、3-羥丙酸甲酯、3-羥丙酸乙酯、3-羥丙酸丙酯、3-羥丙酸丁酯、2-羥基-3-甲基丁烷酸甲酯、甲氧乙酸甲酯、甲氧乙酸乙酯、甲氧乙酸丙酯、甲氧乙酸丁酯、乙氧乙酸甲酯、乙氧乙酸乙酯、乙氧乙酸丙酯、乙氧乙酸丁酯、丙氧乙酸甲酯、丙氧乙酸乙酯、丙氧乙酸丙酯、丙氧乙酸丁酯、丁氧乙酸甲酯、丁氧乙酸乙酯、丁氧乙酸丙酯、丁氧乙酸丁酯、2-甲氧丙酸甲酯、2-甲氧丙酸乙酯、2-甲氧丙酸丙酯、2-甲氧丙酸丁酯、2-乙氧丙酸甲酯、2-乙氧丙酸乙酯、2-乙氧丙酸丙酯、2-乙氧丙酸丁酯、2-丁氧丙酸甲酯、2-丁氧丙酸乙酯、2-丁氧丙酸丙酯、2-丁氧丙酸丁酯、3-甲氧丙酸甲酯、3-甲氧丙酸乙酯、3-甲氧丙酸丙酯、3-甲氧丙酸丁酯、3-乙氧丙酸甲酯、3-乙氧丙酸乙酯、3-乙氧丙酸丙酯、3-乙氧丙酸丁酯、3-丙氧丙酸甲酯、3-丙氧丙酸乙酯、3-丙氧丙酸丙酯、3-丙氧丙酸丁酯、3-丁氧丙酸甲酯、3-丁氧丙酸乙酯、3-丁氧丙酸丙酯、3-丁氧丙酸丁酯等之酯類。

該等溶劑中，宜為乙二醇烷醚乙酸酯、二乙二醇烷醚、丙二醇單烷醚、丙二醇烷醚乙酸酯，特宜為二乙二醇二甲醚、二乙二醇乙甲醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯。

在用以製造共聚物[A]之聚合反應所使用之聚合引發劑方面，一般可使用周知作為自由基聚合引發劑之物。有例如2,2'-偶氮雙異丁腈、2,2'-偶氮雙-(2,4-二甲戊腈)、2,2'-偶氮雙-(4-甲氧基-2,4-二甲戊腈)等偶氮化合物；苯甲醯過氧化物、月桂醯過氧化物、三級丁基過氧三甲基乙酸酯、1,1'-雙-(三級丁基過氧基)環己烷等有機過氧化物；及過氧化氫。在使用過氧化物作為自由基聚合引發劑之情形，使過氧化物與還原劑共同使用作為氧化還原型引發劑亦可。

在用以製造共聚物[A]之聚合反應中，為了調整分子量，可使用分子量調整劑。分子量調整劑之具體例方面，有氯仿、四溴化碳等鹵化烴類；正己硫醇、正辛硫醇、正十二硫醇、三級十二硫醇、硫代羥乙酸等硫醇類；二甲黃原酸(xanthogen)硫化物、二異丙黃原酸二硫化物等黃原酸類；葱品油烯(terpinolene)、α-甲基苯乙烯二聚物等。

[B]成分

本發明之感放射線性樹脂組成物所使用之[B]成分係藉由放射線之照射，而產生羧酸的1,2-醌二疊氮基化合物。1,2-醌二疊氮基化合物可使用酚性化合物或醇性化合物(以下稱為「母核」)與1,2-萘醌二疊氮基磺酸鹵化物之縮合物。

上述母核方面，有例如三羥二苯酮、四氫羥二苯酮、五羥二苯酮、六氫羥二苯酮、(聚羥苯基)鏈烷、其他之母核。

該等母核方面，在三羥二苯酮，有例如2,3,4-三羥二苯酮、2,4,6-三羥二苯酮等；四氫羥二苯酮，有例如2,2',4,4'-四氫羥二苯酮、2,3,4,3'-四氫羥二苯酮、2,3,4,4'-四氫羥二苯酮、2,3,4,2'-四氫羥基-4'-甲二苯酮、2,3,4,4'-四氫羥基-3'-甲氧二苯酮等；五羥二苯酮，有例如2,3,4,2',6'-五羥二苯酮等；六氫羥二苯酮，有例如2,4,6,3',4',5'-六氫羥二苯酮、3,4,5,3',4',5'-六氫羥二苯酮等；(聚羥苯基)鏈烷，有例如雙(2,4-二羥苯基)甲烷、雙(對羥苯基)甲烷、參(對羥苯基)甲烷、1,1,1-參(對羥苯基)乙烷、雙(2,3,4-三羥苯基)甲烷、2,2-雙(2,3,4-三羥苯基)丙烷、1,1,3-參(2,5-二甲基-4-羥苯基)-3-苯丙烷、4,4'-[1-[4-[1-[4-羥苯基]-1-甲乙基]苯基]亞乙基]雙酚、雙(2,5-二甲基-4-羥苯基)-2-羥苯甲烷、3,3,3',3'-四甲基-1,1'-螺旋雙茚-5,6,7,5',6',7'-己醇、2,2,4-三甲基-7,2',4'-三羥黃烷(fravane)等；其他之母核，有例如2-甲基-2-(2,4-二羥苯基)-4-(4-羥苯基)-7-羥色滿(chroman)、2-[雙{(5-異丙基-4-羥基-2-甲基)苯基}甲基]、1-[1-(3-{1-(4-羥苯基)-1-甲乙基}-4,6-二羥苯基)-1-甲乙基]-3-(1-(3-{1-(4-羥苯基)-1-甲乙基}-4,6-二羥苯基)-1-甲乙基)苯、4,6-雙{1-(4-羥苯基)-1-甲乙基}-1,3-二羥苯。

該等母核中，宜為2,3,4,4'-四氫羥二苯酮、1,1,1-參(對羥苯基)乙烷、4,4'-[1-[4-[1-[4-羥苯基]-1-甲乙基]苯基]亞乙基]雙酚。

又，1,2-萘醌二疊氮基磺酸鹵方面，宜為1,2-萘醌二疊氮基磺酸氯。1,2-萘醌二疊氮基磺酸氯之具體例方面，可例舉1,2-萘醌二疊氮基-4-磺酸氯及1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸氯。其中特佳為使用1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸氯。

在酚性化合物或醇性化合物(母核)與1,2-萘醌二疊氮基磺酸鹵之縮合反應中，相對於酚性化合物或醇性化合物中之OH基數，較佳為使用30至85莫耳%、更佳為使用相當於50至70莫耳%的1,2-萘醌二疊氮基磺酸鹵。縮合反應可以周知之方法實施。

又，在1,2-醌二疊氮基化合物方面，亦可適當使用上述例示的變更母核之酯鍵成為醯胺鍵的1,2-萘醌二疊氮基磺酸醯胺類，例如2,3,4-三羥二苯酮-1,2-萘醌二疊氮基-4-磺酸醯胺等。

該等[B]成分可單獨或組合二種以上使用。相對於共聚物[A]100質量份，感放射線樹脂組成物中[B]成分之使用比率較佳為5至100質量份，更佳為10至50質量份。藉由設定感放射線樹脂組成物中[B]成分之比率為5質量份以上，而可使相對於為顯影液之鹼水溶液的放射線之照射部分與未照射部分之溶解度差變大，使圖形化容易，同時可良好的保持所得隔壁及絕緣膜之耐熱性及耐溶劑性。一方面，藉由設定[B]成分之比率為100質量份以下，而可使放射線照射部分中的對鹼水溶液之溶解度保持於充分高的等級，而可容易地進行顯影。

[C]成分

[C]成分係感熱色素。在此所謂的「感熱色素」，係在接受電子受體性化合物(例如酸等質子)的狀態下，藉由加熱而具有發色之性質的化合物之意。感熱色素方面，特佳為具有內酯、內醯胺、磺內酯(sultone)、螺旋哌喃、酯、醯胺等之部分骨架，宜為在與電子受體性化合物接觸時，迅速地使該等部分骨架開環或者裂開之無色化合物。

此種感熱色素之例方面，有3,3-雙(4-二甲胺苯基)-6-二甲胺基酞內酯(phthalide)(稱為「結晶紫內酯」)、3,3-雙(4-二甲胺苯基)酞內酯、3-(4-二甲胺苯基)-3-(4-二乙胺基-2-甲苯基)-6-二甲胺基酞內酯、3-(4-二甲胺苯基)-3-(1,2-二甲吲哚-3-基)酞內酯、3-(4-二甲胺苯基)-3-(2-甲吲哚-3-基)酞內酯、3,3-雙(1,2-二甲吲哚-3-基)-5-二甲胺基酞內酯、3,3-雙(1,2-二甲吲哚-3-基)-6-二甲胺基酞內酯、3,3-雙(9-乙咔唑-3-基)-6-二甲胺基酞內酯、3,3-雙(2-苯吲哚-3-基)-6-二甲胺基酞內酯、3-(4-二甲胺苯基)-3-(1-甲基吡咯-3-基)-6-二甲胺基酞內酯；3,3-雙[1,1-雙(4-二甲胺苯基)乙烯-2-基]-4,5,6,7-四氯酞內酯、3,3-雙[1,1-雙(4-吡咯烷并苯基)乙烯-2-基]-4,5,6,7-四溴酞內酯、3,3-雙[1-(4-二甲胺苯基)-1-(4-甲氧苯基)乙烯-2-基]-4,5,6,7-四氯酞內酯、3,3-雙[1-(4-吡咯烷并苯基)-1-(4-甲氧苯基)乙烯-2-基]-4,5,6,7-四氯酞內酯、3-[1,1-二(1-乙基-2-甲吲哚-3-基)乙烯-2-基]-3-(4-二乙胺苯基)酞內酯、3-[1,1-二(1-乙基-2-甲基吲哚-3基)乙烯-2-基]-3-(4-N-乙基-N-苯胺苯基)酞內酯、3-(2-乙氧基-4-二乙胺苯基)-3-(1-正辛基-2-甲吲哚-3-基)-酞內酯、3,3-雙(1-正辛基-2-甲吲哚-3-基)-酞內酯、3-(2-甲基-4-二乙胺苯基)-3-(1-正辛基-2-甲吲哚-3基)-酞內酯等酞內酯類；4,4-雙-二甲胺基苯并丙醇(hydrin)苄醚、N-鹵苯基-無色金黃胺(leuco-auramine)、N-2,4,5-三氯苯基無色金黃胺、羅丹明-B-苯胺基內醯胺、羅丹明-(4-硝苯胺基)內醯胺；羅丹明-B-(4-氯苯胺基)內醯胺、3,7-雙(二乙胺基)-10-苯甲醯基啡嗪、苯甲醯基無色亞甲藍、4-硝基苯甲醯基亞甲藍；3,6-二甲氧螢光黃母體(fluoran)、3-二甲胺基-7-甲氧螢光黃母體、3-二乙胺基-6-甲氧螢光黃母體、3-二乙胺基-7-甲氧螢光黃母體、3-二乙胺基-7-氯螢光黃母體、3-二乙胺基-6-甲基-7-氯螢光黃母體、3-二乙胺基-6,7-二甲螢光黃母體、3-N-環己基-N-正丁胺基-7-甲基螢光黃母體、3-二乙胺基-7-二苄胺螢光黃母體、3-二乙胺基-7-辛胺螢光黃母體、3-二乙胺基-7-二-正己胺螢光黃母體、3-二乙胺基-7-苯胺螢光黃母體、3-二乙胺基-7-(2'-氟苯胺基)螢光黃母體、3-二乙胺基-7-(2'-氯苯胺基)螢光黃母體、3-二乙胺基-7-(3'-氯苯胺基)螢光黃母體、3-二乙胺基-7-(2',3'-二氯苯胺基)螢光黃母體、3-二乙胺基-7-(3'-三氟甲基苯胺基)螢光黃母體、3-二-正丁胺基-7-(2'-氟苯胺基)螢光黃母體、3-二-正丁胺基-7-(2'-氯苯胺基)螢光黃母體、3-N-異戊基-N-乙胺基-7-(2'-氯苯胺基)螢光黃母體；3-N-正己基-N-乙胺基-7-(2'-氯苯胺基)螢光黃母體、3-二乙胺基-6-氯-7-苯胺螢光黃母體、3-二-正丁胺基-6-氯-7-苯胺螢光黃母體、3-二乙胺基-6-甲氧基-7-苯胺螢光黃母體、3-二-正丁胺基-6-乙氧基-7-苯胺螢光黃母體、3-吡咯烷并-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-N-六氫吡啶基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-嗎啉基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-二甲胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-二乙胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-二-正丁胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-二-正戊胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-N-乙基-N-甲胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-N-正丙基-N-甲胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-N-正丙基-N-乙胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-N-正丁基-N-甲胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-N-正丁基-N-乙胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-N-異丁基-N-甲胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-N-異丁基-N-乙胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-N-異戊基-N-乙胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-N-正己基-N-甲胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-N-環己基-N-乙胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-N-環己基-N-正丙胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-N-環己基-N-正丁胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-N-環己基-N-正己胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-N-環己基-N-正辛胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體；3-N-(2'-甲氧乙基)-N-甲胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-N-(2'-甲氧乙基)-N-乙胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-N-(2'-甲氧乙基)-N-異丁胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-N-(2'-乙氧乙基)-N-甲胺基-6-甲基-7-苯胺基螢光黃母體、3-N-(2'-乙氧乙基)-N-乙胺基-6-甲基-7-苯胺基螢光黃母體、3-N-(3'-甲氧丙基)-N-甲胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-N-(3'-甲氧丙基)-N-乙胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-N-(3'-乙氧丙基)-N-甲胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-N-(3'-乙氧丙基)-N-乙胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-N-(2'-四氫糠基)-N-乙胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-N-(4'-甲苯基)-N-乙胺基-6-甲基-7-苯胺螢光黃母體、3-二乙胺基-6-乙基-7-苯胺螢光黃母體、3-二乙胺基-6-甲基-7-(3'-甲苯胺基)螢光黃母體、3-二乙胺基-6-甲基-7-(2',6'-二甲苯胺基)螢光黃母體、3-二-正丁胺基-6-甲基-7-(2',6'-二甲苯胺基)螢光黃母體、3-二-正丁胺基-7-(2',6'-二甲苯胺基)螢光黃母體、2,2-雙[4'-(3-N-環己基-N-甲胺基-6-甲基螢光黃母體)-7基胺苯基]丙烷、3-[4'-(4-苯胺苯基)胺苯基]胺基-6-甲基-7-氯螢光黃母體、3-[4'-(二甲胺苯基)]胺基-5,7-二甲螢光黃母體等之螢光黃母體類；3-(2-甲基-4-二乙胺苯基)-3-(1-乙基-2-甲基吲哚-3-基)-4-氮雜酞內酯、3-(2-正丙氧羰胺基-4-二-正丙胺苯基)-3-(1-乙基-2-甲吲哚-3-基)-4-氮雜酞內酯、3-(2-甲胺基-4-二-正丙胺苯基)-3-(1-乙基-2-甲吲哚-3-基)-4-氮雜酞內酯、3-(2-甲基-4-二正己胺苯基)-3-(1-正辛基-2-甲吲哚-3-基)-4,7-二氮雜酞內酯、3,3-雙(2-乙氧基-4-二乙胺苯基)-4-氮雜酞內酯、3,3-雙(1-正辛基-2-甲基吲哚-3-基)-4-氮雜酞內酯、3-(2-乙氧基-4-二乙胺苯基)-3-(1-乙基-2-甲吲哚-3-基)-4-氮雜酞內酯、3-(2-乙氧基-4-二乙胺苯基)-3-(1-辛基-2-甲吲哚-3-基)-4或7-氮雜酞內酯、3-(2-乙氧基-4-二乙胺苯基)-3-(1-乙基-2-甲吲哚-3-基)-4或7-氮雜酞內酯、3-(2-己氧基-4-二乙胺苯基)-3-(1-乙基-2-甲吲哚-3-基)-4或7-氮雜酞內酯、3-(2-乙氧基-4-二乙胺苯基)-3-(1-乙基-2-苯吲哚-3-基)-4或7-氮雜酞內酯、3-(2-丁氧基-4-二乙胺苯基)-3-(1-乙基-2-苯吲哚-3-基)-4或7-氮雜酞內酯3-甲基-螺旋-二萘并哌喃、3-乙基-螺旋-二萘并哌喃、3-苯基-螺旋-二萘并哌喃、3-苄基-螺旋-二萘并哌喃、3-甲基-萘并-(3-甲氧苯并)螺旋哌喃、3-丙基-螺旋-二苯并哌喃-3,6-雙(二甲胺基)茀-9-螺旋-3'-(6'-二甲胺基)酞內酯、3,6-雙(二乙胺基)茀-9-螺旋-3'-(6'-二甲胺基)酞內酯等之酞內酯類；其他有2'-苯胺基-6'-(N-乙基-N-異戊基)胺基-3'-甲基螺旋[異苯并呋喃-1(3H),9'-(9H)]-3-酮、2'-苯胺基-6'-(N-乙基-N-(4-甲苯基))胺基-3'-甲螺旋[異苯并呋喃-1(3H),9'-(9H)]-3-酮、3'-N,N-二苄胺基-6'-N,N-二乙胺基螺旋[異苯并呋喃-1(3H),9'-(9H)]-3-酮、2'-(N-甲基-N-苯基)胺基-6'-(N-乙基-N-(4-甲苯基))胺基螺旋[異苯并呋喃-1(3H),9'-(9H)]-3-酮等。

該等感熱色素之市售品方面，有ETAC、RED500、RED520、CVL、S-205、BLACK305、BLACK400、BLACK100、BLACK500、H-7001、GREEN300、NIR BLACK78、BLUE220、H-3035、BLUB203、ATP，H-1046、H-2114(山田化學工業(股)公司製)、ORANGE-DCF、Vermilion-DCF、PINK-DCF、RED-DCF、BLMB、CVL、GREEN-DCF、TH-107(Hodogaya化學(股)公司製)等。該等市售品中，以ETAC、S-205、BLACK305、BLACK400，BLACK100、BLACK500、H-7001、GREEN300、NIR BLACK78、H-3035、ATP、H-1046、H-2114、GREEN-DCF，由於所形成膜之可視光吸收率良好，故佳。

該等感熱色素係藉由隔壁及絕緣膜所謀求的可視光光譜，可組合二種以上之成分使用。相對於共聚物[A]100質量份，感放射線樹脂組成物中[C]成分之使用比率較佳為0.1至30質量份、更佳為0.5至15質量份。藉由設定[C]成分之比率為0.1質量份以上，而可有效率地吸收所期望之光線，並顯現遮光性。一方面，藉由設定[C]成分之比率為30質量份以下，而可良好的保持感放射線樹脂組成物之放射線感度、及所得隔壁及絕緣膜之耐溶劑性或耐熱性。

其他任意成分

本發明之感放射線性樹脂組成物係含有上述[A]、[B]及[C]成分作為必須成分，不過其他可因應需要含有：[D]感熱性酸生成化合物、[E]具有至少1個烯性不飽和雙鍵的聚合性化合物、[F]共聚物[A]以外之環氧樹脂、[G]界面活性劑、[H]密接助劑。

[D]成分之感熱性酸生成化合物係用以提高所得隔壁及絕緣膜之耐熱性或表面硬度所使用。感熱性酸生成化合物方面，可例舉鋶鹽、苯并噻唑鎓鹽、銨鹽、鏻鹽等之鎓鹽。

上述鋶鹽之例方面，有烷鋶鹽、苄鋶鹽、二苄鋶鹽、取代苄基鋶鹽等。

該等鋶鹽方面，烷鋶鹽有例如4-乙醯氧苯基二甲鋶六氟銻酸鹽、4-乙醯氧苯基二甲鋶六氟砷酸鹽、二甲-4-(苄氧羰氧)苯基鋶六氟銻酸鹽、二甲-4-(苯甲醯氧)苯基鋶六氟銻酸鹽、二甲-4-(苯甲醯氧)苯基鋶六氟砷酸鹽、二甲-3-氯-4-乙醯氧苯基鋶六氟銻酸鹽等；苄鋶鹽有例如苄基-4-羥苯甲鋶六氟銻酸鹽、苄基-4-羥苯甲鋶六氟磷酸鹽、4-乙醯氧苯苄甲鋶六氟銻酸鹽、苄基-4-甲氧苯甲鋶六氟銻酸鹽、苄基-2-甲基-4-羥苯甲鋶六氟銻酸鹽、苄基-3-氯-4-羥苯甲鋶六氟砷酸鹽、4-甲氧苄基-4-羥苯甲鋶六氟磷酸鹽等；二苄鋶鹽，有例如二苄基-4-羥苯鋶六氟銻酸鹽、二苄基-4-羥苯鋶六氟磷酸鹽、4-乙醯氧苯二苄鋶六氟銻酸鹽、二苄基-4-甲氧苯鋶六氟銻酸鹽、二苄基-3-氯-4-羥苯鋶六氟砷酸鹽、二苄基-3-甲基-4-羥基-5-三級丁苯鋶六氟銻酸鹽、苄基-4-甲氧苄基-4-羥苯鋶六氟磷酸鹽等；取代苄鋶鹽可例舉例如對氯苄基-4-羥苯甲基鋶六氟銻酸鹽、對硝苄基-4-羥苯甲鋶六氟銻酸鹽、對氯苄基-4-羥苯甲鋶六氟磷酸鹽、對硝苄基-3-甲基-4-羥苯甲鋶六氟銻酸鹽、3,5-二氯苄基-4-羥苯甲鋶六氟銻酸鹽、鄰氯苄基-3-氯-4-羥苯甲鋶六氟銻酸鹽等。

上述苯并噻唑鎓鹽之例方面，可例舉3-苄苯并噻唑鎓六氟銻酸鹽、3-苄苯并噻唑鎓六氟磷酸鹽、3-苄苯并噻唑鎓四氟硼酸酯、3-(對甲氧苄基)苯并噻唑鎓六氟銻酸鹽、3-苄基-2-甲基硫代苯并噻唑鎓六氟銻酸鹽、3-苄基-5-氯苯并噻唑鎓六氟銻酸鹽等。

該等感熱性酸生成化合物中，宜為使用鋶鹽及苯并噻唑鎓鹽。其中尤佳為4-乙醯氧苯二甲鋶六氟砷酸鹽、苄基-4-羥苯甲鋶六氟銻酸鹽、4-乙醯氧苯苄甲鋶六氟銻酸鹽、二苄基-4-羥苯鋶六氟銻酸鹽、4-乙醯氧苯苄鋶六氟銻酸鹽、3-苄苯并噻唑鎓六氟銻酸鹽。

該等感熱性酸生成化合物之市售品方面，有Sunaid SI-L85、Sunaid SI-L110、Sunaid SI-L145、Sunaid SI-L150、Sunaid SI-L160(三新化學工業(股)公司製)等。

相對於共聚物[A]100質量份，感放射線樹脂組成物中[D]成分之使用比率較佳為0.1至20質量份，更佳為1至1O質量份。藉由設定[D]成分之混合量為0.1至20質量份，而可在形成具有充分強度的硬化膜之同時，可防止塗膜形成步驟中析出物之發生。

[E]成分之具有至少1個烯性不飽和雙鍵的聚合性化合物方面，可適當使用例如單官能(甲基)丙烯酸酯、2官能(甲基)丙烯酸酯、3官能以上之(甲基)丙烯酸酯。

單官能(甲基)丙烯酸酯方面，有例如(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸卡必醇酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧丁酯、2-鄰苯二酸(甲基)丙烯醯氧乙基-2-羥丙酯等。該等單官能(甲基)丙烯酸酯之市售品之例，可例舉Aronics M-101、Aronics M-111、Aronics M-114(以上為東亞合成(股)公司製)、KAYARAD TC-110S、KAYARAD TC-120S(以上為日本化藥(股)公司製)、Viscoat 158、Viscoat 2311(以上為大阪有機化學工業(股)公司製)等。

2官能(甲基)丙烯酸酯方面，有例如二(甲基)丙烯酸乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸1,6-己二醇酯、二(甲基)丙烯酸1,9-壬二醇酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸四乙二醇酯、二丙烯酸雙苯氧乙醇茀酯、丙烯酸雙苯氧乙醇茀酯等。該等2官能(甲基)丙烯酸酯之市售品方面，可例舉例如Aronics M-210、Aronics M-240、Aronics M-6200(以上為東亞合成(股)公司製)、KAYARAD HDDA、同HX-220、同R-604(以上為日本化藥(股)公司製)、Viscoat 260、Viscoat 312，Viscoat 335HP(以上為大阪有機化學工業(股)公司製)等。

3官能以上(甲基)丙烯酸酯方面，有例如三(甲基)丙烯酸三羥甲丙酯、三(甲基)丙烯酸新戊四醇酯、參((甲基)丙烯醯氧乙基)磷酸酯、四(甲基)丙烯酸新戊四醇酯、五(甲基)丙烯酸二新戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸二新戊四醇酯等。該等3官能以上之(甲基)丙烯酸酯之市售品方面，有例如Aronics M-309、Aronics M-400、Aronics M-405、Aronics M-450、Aronics M-7100、Aronics M-8030、Aronics M-8060(以上為東亞合成(股)公司製)、KAYARAD TMPTA、KAYARAD DPHA、KAYARAD DPCA-20、KAYARAD DPCA-30、KAYARAD DPCA-60、KAYARAD DPCA-120(以上為日本化藥(股)公司製)、Viscoat 295、Viscoat 300、Viscoat 360、Viscoat GPT、Viscoat 3PA、Viscoat 400(以上為大阪有機化學工業(股)公司製)等。

該等甲基(丙烯酸酯)類中，由所形成之隔壁及絕緣膜之耐熱性及表面硬度之改善之觀點觀之，宜為使用3官能以上之(甲基)丙烯酸酯。其中特佳為三(甲基)丙烯酸三羥甲丙酯、四(甲基)丙烯酸新戊四醇酯、二六(甲基)丙烯酸新戊四醇酯。該等單官能、2官能或3官能以上之(甲基)丙烯酸酯可單獨使用或者組合使用。

相對於共聚物[A]100質量份，感放射線樹脂組成物中[E]成分之使用比率較佳為1至50質量份，更佳為3至30質量份。

藉由設定[E]成分之混合量為1至50質量份，而可提高所得隔壁及絕緣膜之耐熱性及表面硬度等，同時可抑制對基板上之塗膜形成步驟中膜皸裂之發生。

為[F]成分之共聚物[A]以外之環氧樹脂，只要對感放射線樹脂組成物所含各成分之互溶(compatible)性無不良影響，則無特別限定。此種環氧樹脂之例，較佳為雙酚A型環氧樹脂、酚系酚醛清漆型環氧樹脂、甲酚系酚醛清漆型環氧樹脂、環狀脂肪族環氧樹脂、環氧丙酯型環氧樹脂、環氧丙胺型環氧樹脂、雜環式環氧樹脂、使甲基丙烯酸環氧丙酯(共)聚合的樹脂等。該等中，特佳為雙酚A型環氧樹脂、甲酚系酚醛清漆型環氧樹脂、環氧丙酯型環氧樹脂等。

相對於共聚物[A]100質量份，感放射線樹脂組成物中[F]成分之使用比率較佳為30質量份以下。藉由以此種比率使用[F]成分，可進一步提高自感放射線性樹脂組成物所得隔壁及絕緣膜之耐熱性及表面硬度等，同時，在基板上形成感放射線性樹脂組成物之塗膜時，可獲得高度的膜厚均一性。此外，雖共聚物[A]亦可稱為「環氧樹脂」，不過就具有鹼可溶性之觀點觀之，則與[F]成分不同。

[F]成分為鹼不溶性。

在感放射線性樹脂組成物，為了進一步提高塗膜形成時之塗佈性，[G]成分可使用界面活性劑。可適當使用之界面活性劑方面，可例舉氟系界面活性劑、聚矽氧系界面活性劑及非離子系界面活性劑。

氟系界面活性劑之例方面，有1,1,2,2-四氟辛基(1,1,2,2-四氟丙基)醚、1,1,2,2-四氟辛己醚、八乙二醇二(1,1,2,2-四氟丁基)醚、六乙二醇(1,1,2,2,3,3-六氟戊基)醚、八丙二醇二(1,1,2,2-四氟丁基)醚、六丙二醇二(1,1,2,2,3,3-六氟戊基)醚等之氟醚類；全氟十二基磺酸鈉；1,1,2,2,8,8,9,9,10,10-十氟十二烷、1,1,2,2,3,3-六氟癸烷等之氟鏈烷類；氟烷苯磺酸鈉類；氟烷氧乙烯醚類；碘化氟烷銨類；氟烷聚氧乙烯醚類；全氟烷聚氧乙醇類；全氟烷烷氧化物類；氟系烷酯類等。

該等氟系界面活性劑之市售品方面，有BM-1000、BM-1100(以上為BM Chemie公司製)、megafac F142D、megafac F172、megafac F173、megafac F183、megafac F178、megafac F191、megafac F471(以上為大日本油墨化學工業(股)公司製)、Fluorad FC-170C、FC-171、FC-430、FC-431(以上為住友3M(股)公司製)、Surflon S-112、Surflon S-113、Surflon S-131、Surflon S-141、Surflon S-145、Surflon S-382、Surflon SC-101、Surflon SC-102、Surflon SC-103、Surflon SC-104、Surflon SC-105、Surflon SC-106(旭玻璃公司製)、EFTOP EF301、EFTOP 303、EFTOP 352(新秋田化成(股)公司製)等。

聚矽氧系界面活性劑之具體例方面，以市售之商品名則有DC3PA、DC7PA、FS-1265、SF-8428、SH11PA、SH21PA、SH28PA、SH29PA、SH30PA、SH-190、SH-193、SZ-6032(以上為Toray‧Dow Corning‧聚矽氧(股)公司製)、TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4460、TSF-4452(以上為GE東芝聚矽氧(股)公司製)等。

非離子系界面活性劑方面，有例如聚氧乙烯月桂醚、聚氧乙烯硬脂醯醚、聚氧乙烯油醚等之聚氧乙烯烷醚類；聚氧乙烯辛苯醚、聚氧乙烯壬苯醚等之聚氧乙烯芳醚類；聚氧乙烯二月桂酸酯、聚氧乙烯二硬脂酸酯等之聚氧乙烯二烷酯類；(甲基)丙烯酸系共聚物類等。非離子系界面活性劑之代表性市售品方面，有polyflow No.57、95(共榮社化學(股)製)。該等界面活性劑可單獨使用或組合二種以上使用。

在感放射線樹脂組成物中，相對於共聚物[A]100質量份，[G]成分之界面活性劑較佳為0.01至5質量份、更佳為0.05至3質量份。藉由設定界面活性劑之混合量於0.01至5質量份，而可抑制在基板上形成塗膜時之膜皸裂之發生。

本發明之感放射線性樹脂組成物中，為了提高與基板之接著性，則可使用為[H]成分的密接助劑。此種密接助劑方面，宜為使用官能性矽烷偶合劑。官能性矽烷偶合劑之例方面，可例舉羧基、甲基丙烯醯基、異氰酸酯基、環氧基等之具有反應性取代基的矽烷偶合劑等。官能性矽烷偶合劑之具體例方面，可例舉苯甲酸三甲氧矽烷酯、γ-甲基丙烯醯氧丙基三甲氧矽烷、乙烯三乙醯氧矽烷、乙烯三甲氧矽烷、γ-異氰酸酯丙基三乙氧矽烷、γ-環氧丙氧丙基三甲氧矽烷、β-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧矽烷等。感放射線樹脂組成物中，相對於共聚物[A]100質量份，此種密接助劑較佳為0.1至30質量份、更佳為1至25質量份。藉由設定[H]成分之密接助劑之混合量為0.1至20質量份，而可在顯影步驟中不致產生顯影殘留，相對於基板顯現充分密接性，可容易地形成圖形。

感放射線性樹脂組成物

本發明之感放射線性樹脂組成物係藉由使上述[A]、[B]及[C]成分、以及任意成分([D]至[H]成分)均一地混合，而調製。通常，感放射線性樹脂組成物，較佳為溶解於適當的溶劑中，在溶液狀態下保存，並使用。例如，在溶劑中藉由使[A]、[B]及[C]成分、以及任意成分以預定之比率混合，而可調製溶液狀態之感放射線性樹脂組成物。

感放射線性樹脂組成物之調製所使用之溶劑方面，只要可使上述[A]、[B]及[C]成分，以及任意成分([D]至[H]成分)之各成分均一地溶解，且不與各成分反應之物，則並無特別限定。此種溶劑方面，可例舉與例示作為用以製造共聚物[A]可使用的溶劑相同之物。

此種溶劑中，由各成分之溶解性、與各成分之非反應性、塗膜形成之容易性等觀點觀之，宜為使用醇類、乙二醇醚、乙二醇烷醚乙酸酯、酯類及二乙二醇烷醚。

該等溶劑中，特佳為使用苄醇、2-苯乙醇、3-苯基-1-丙醇、乙二醇單丁醚乙酸酯、二乙二醇單乙醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇乙甲醚、二乙二醇二甲醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、2-或3-甲氧丙酸甲酯、2-或3-乙氧丙酸乙酯。

再者，為了提高所形成塗膜之膜厚的面內均一性，亦可與該溶劑一起倂用高沸點溶劑。可倂用的高沸點溶劑方面，有例如N-甲基甲醯胺、N,N-二甲甲醯胺、N-甲基N-甲醯苯胺、N-甲基乙醯胺、N,N-二甲乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮、二甲亞碸、苄乙醚、二己醚、丙酮基丙酮、異佛爾酮、己酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、乙酸苄酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、順丁烯二酸二乙酯、γ-丁內酯、碳酸乙烯酯、碳酸伸丙酯、苯基溶纖劑乙酸酯等。該等高沸點溶劑中，宜為N-甲基吡咯啶酮、γ-丁內酯、N,N-二甲乙醯胺。

作為感放射線性樹脂組成物之溶劑，在倂用高沸點溶劑之情形，相對於全溶劑量，其使用量較佳為1至40質量%、更佳為3至30質量%。藉由設定為1至40質量%，而可使塗膜形成時之塗膜性進一步良好，再者可抑制放射線感度及殘膜率之降低。

在調製感放射線性樹脂組成物成為溶液狀態之情形，溶液中占有溶劑以外之成分(亦即，共聚物[A]、[B]及[C]成分，以及其他任意成分之合計量)之比率，雖可因應使用目的或所期望之膜厚等而任意地設定，不過較佳為5至50質量%、更佳為10至40質量%、更佳為15至35質量%。如此一來，所調製的感放射線性樹脂組成物之溶液，係使用孔徑0.2μm左右之微孔過濾器等經過濾後，而供使用。

隔壁及絕緣膜之形成

接著，關於使用上述之感放射線性樹脂組成物，形成本發明之隔壁及絕緣膜之方法詳細敘述如後。該方法係以下列記載順序，包含以下步驟。

(1)使本發明之感放射線性樹脂組成物之塗膜形成於基板上的步驟；

(2)對在步驟(1)形成的塗膜之至少一部分照射放射線的步驟；

(3)將在步驟(2)照射放射線之塗膜予以顯影的步驟；及

(4)將在步驟(3)顯影的塗膜予以加熱的步驟。

(1)使感放射線性樹脂組成物之塗膜形成於基板上的步驟

在上述(1)之步驟中，係將本發明之感放射線樹脂組成物之溶液塗布於基板表面，較佳為藉由進行預烘烤，而除去溶劑，並形成感放射線性樹脂組成物之塗膜。在可使用之基板種類方面，可舉例如玻璃基板、矽晶圓及在該等表面形成各種金屬的基板。

組成物溶液之塗佈方法方面，並無特別限定，可採用例如噴灑法、輥塗佈法、旋轉塗佈法(旋轉塗佈法)、縫模塗佈法、棒塗佈法、噴墨法等適宜方法。該等塗佈方法中，特佳為旋轉塗佈法、縫模塗佈法。預烘烤之條件方面，雖因各成分種類、使用比率等而異，不過可設定於例如在60至110℃，30秒至15分鐘左右。在所形成之塗膜之膜厚方面，預烘烤後之值可設為3至6μm。

(2)在塗膜之至少一部分照射放射線之步驟

在上述(2)之步驟中，經由在所形成之塗膜具有預定之圖形的光罩，以照射放射線。此時所使用的放射線方面，有例如紫外線、遠紫外線、X線、帶電粒子線等。

上述紫外線方面，可舉例如g線(波長436nm)、i線(波長365nm)等。遠紫外線方面，有例如KrF準分子雷射等。X線方面，有例如同步加速器放射線等。帶電粒子線方面，有例如電子束等。該等放射線中，宜為紫外線，在紫外線之中，特佳為含有g線及/或i線的放射線。在曝光量方面，宜為50至1,500J/m² 。

(3)顯影步驟

(3)在顯影步驟中，相對於以上述(2)步驟照射放射線之塗膜，進行顯影，除去放射線之照射部分，而可形成所期望之圖形。

顯影處理所使用之顯影液方面，可使用例如氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、矽酸鈉、甲基矽酸鈉、氨、乙胺、正丙胺、二乙胺、二乙胺乙醇、二-正丙胺、三乙胺、甲基二乙胺、二甲乙醇胺、三乙醇胺、氫氧化四甲銨、氫氧化四乙銨、吡咯、哌啶、1,8-二氮雜二環[5,4,0]-7-十一烯、1,5-二氮雜二環[4,3,0]-5-壬烷等之鹼(鹼性化合物)之水溶液。又，將在上述鹼之水溶液添加適當量甲醇、乙醇等之水溶性有機溶劑或界面活性劑水溶液；或將少量含有溶解有感放射線樹脂組成物之各種有機溶劑之鹼水溶液，可作為顯影液使用。再者，顯影方法方面，可利用例如盛液法、浸漬法、搖動浸漬法、沖洗法等適宜之方法。顯影時間因感放射線樹脂組成物之組成而異，而例如可設定為30至120秒。

此外，周知的感放射線性樹脂組成物，顯影時間自最適值超過20至25秒左右時，由於在形成的圖形產生剝離，故必須嚴密地控制顯影時間。對此，本發明之感放射線性樹脂組成物，由於顯影裕度高，故即使自最適顯影時間之超過時間有30秒以上，亦可形成良好的圖形，在製品生產率上之優點非常大。

(4)加熱步驟

(4)在加熱步驟中，在上述(3)顯影步驟後，相對於經圖形化的薄膜，較佳為進行流水洗淨所致漂洗處理，接著，藉由較佳為高壓汞燈等所致放射線予以全面照射(後曝光)，而可進行殘存於薄膜中的1,2-醌二疊氮基化合物之分解處理。接著，使用熱板、烤爐等加熱裝置，藉由將該薄膜進行加熱處理(事後烘烤處理)，而可進行薄膜之硬化處理。上述之後曝光中的曝光量，較佳為2,000至5,000J/m² 左右。又，在該硬化處理中的燒成溫度為例如120至250℃。加熱時間因加熱機器之種類而異，不過例如在熱板上進行加熱處理之情形可設為5至30分鐘，在烤爐中進行加熱處理之情形則設為30至90分鐘。此時，亦可使用進行2次以上加熱步驟的步驟烘焙法等。如此一來，可在基板表面上形成為目的之隔壁或者對應於絕緣膜的圖形狀薄膜。

以上述方式所形成之隔壁或者絕緣膜，如後述之實施例所可明瞭，在全部之放射線感度、顯影裕度(顯影性之尺度)、耐溶劑性、耐熱性、全透光率(遮光性之尺度)及介電常數(介電特性之尺度)之點，顯示極優異特性。

實施例

茲例示合成例、實施例如下，進一步具體說明本發明，不過本發明並非限於以下之實施例。

自以下各合成例及比較合成例所得共聚物之重量平均分子量(Mw)及數平均分子量(Mn)可依照下述規格之凝膠滲透層析術(GPC)來測定。

裝置：GPC-101(昭和電工(股)公司製)

柱：結合GPC-KF-801、GPC-KF-802、GPC-KF-803及GPC-KF-804(昭和電工(股)公司製)之物

移動相：含磷酸0.5質量%之四氫呋喃

共聚物之合成例

[合成例1]

在具備冷卻管、攪拌機之燒瓶，裝入2,2'-偶氮雙-(2,4-二甲戊腈)7質量份、二乙二醇乙甲醚200質量份。接著裝入甲基丙烯酸14質量份、甲基丙烯酸三環[5.2.1.0^2,6 ]癸烷-8酯16質量份、丙烯酸2-甲環己酯20質量份、甲基丙烯酸環氧丙酯40質量份、N-(3,5-二甲-4-羥苄基)甲基丙烯醯胺10質量份及α-甲基苯乙烯二聚物3質量份，以氮取代後開始緩緩地攪拌。使溶液溫度上升至70℃，保持此溫度4小時，獲得含有共聚物[A-1]的聚合物溶液。該共聚物[A-1]之換算聚苯乙烯重量平均分子量(Mw)為8,000，分子量分布(Mw/Mn)為2.3。又，在此所得聚合物溶液之固形物濃度為34.4質量%。

[合成例2]

在具備冷卻管、攪拌機之燒瓶，裝入2,2'-偶氮雙-(2,4-二甲戊腈)9質量份、二乙二醇乙甲醚220質量份。接著裝入甲基丙烯酸12質量份、對甲氧苯乙烯12質量份、1-(四氫哌喃-2-氧)-丁基-3-烯-2-酮15質量份、甲基丙烯酸環氧丙酯40質量份、N-環己順丁烯二醯亞胺10質量份、N-(3,5-二甲基-4-羥苄基)甲基丙烯醯胺10質量份、及α-甲基苯乙烯二聚物3質量份，以氮取代後，開始緩緩地攪拌。使溶液之溫度上升至70℃，保持此溫度4小時，獲得含有共聚物[A-2]的聚合物溶液。共聚物[A-2]之換算聚苯乙烯重量平均分子量(Mw)為8,100、分子量分布(Mw/Mn)為2.4。又，在此所得聚合物溶液之固形物濃度為32.7質量%。

[合成例3]

在具備冷卻管、攪拌機之燒瓶，裝入2,2'-偶氮雙-(2,4-二甲戊腈)7質量份、二乙二醇乙甲醚200質量份。接著裝入甲基丙烯酸14質量份、甲基丙烯酸三環[5.2.1.0^2,6 ]癸烷-8酯16質量份、對甲氧苯乙烯10質量份、甲基丙烯酸環氧丙酯40質量份、甲基丙烯酸間羥苄酯20質量份及α-甲基苯乙烯二聚物3質量份，以氮取代後，開始緩緩地攪拌。使溶液之溫度上升至70℃，保持此溫度4小時，獲得含有共聚物[A-3]之聚合物溶液。共聚物[A-3]之換算聚苯乙烯重量平均分子量(Mw)為8,500，分子量分布(Mw/Mn)為2.3。又，在此所得聚合物溶液之固形物濃度為34.1質量%。

[合成例4]

在具備冷卻管、攪拌機之燒瓶，裝入2,2'-偶氮雙-(2,4-二甲戊腈)8質量份及二乙二醇乙甲醚220質量份。接著裝入甲基丙烯酸11質量份、甲基丙烯酸四氫糠酯12質量份、甲基丙烯酸環氧丙酯40質量份、N-環己基順丁烯二醯亞胺15質量份、甲基丙烯酸正月桂酯10質量份、α-甲基-對羥苯乙烯10質量份、及α-甲基苯乙烯二聚物3質量份，以氮取代後開始緩緩地攪拌。使溶液溫度上升至70℃，使該溫度保持5小時，獲得含有共聚物[A-4]之聚合物溶液。共聚物[A-4]之換算聚苯乙烯重量平均分子量(Mw)為8,000，分子量分布(Mw/Mn)為2.3。又，在此所得合體溶液之固形物濃度為31.9質量%。

[合成例5]

在具備冷卻管、攪拌機之燒瓶，裝入2,2'-偶氮雙-(2,4-二甲戊腈)7質量份、二乙二醇乙甲醚200質量份。接著裝入甲基丙烯酸14質量份、甲基丙烯酸三環[5.2.1.0^2,6 ]癸烷-8酯16質量份、丙烯酸2-甲基環己酯20質量份、甲基丙烯酸環氧丙酯40質量份、4,4'-異亞丙二酚一方之羥基導入甲基丙烯醯基的化合物10質量份及α-甲基苯乙烯二聚物3質量份，以氮取代後開始緩緩地攪拌。使溶液之溫度上升至70℃，保持此溫度4小時，獲得含有共聚物[A-5]的聚合物溶液。該共聚物[A-5]之換算聚苯乙烯重量平均分子量(Mw)為7,000、分子量分布(Mw/Mn)為2.5。又，在此所得聚合物溶液之固形物濃度為34.8質量%。

[合成例6]

在具備冷卻管、攪拌機之燒瓶，裝入2,2'-偶氮雙-(2,4-二甲戊腈)7質量份、二乙二醇乙甲醚200質量份。接著裝入甲基丙烯酸14質量份、甲基丙烯酸三環[5.2.1.0^2,6 ]癸烷-8酯16質量份、丙烯酸2-甲環己酯20質量份、甲基丙烯酸環氧丙酯40質量份、1-甲基丙烯醯氧-4-萘酚10質量份及α-甲基苯乙烯二聚物3質量份，以氮取代後開始緩緩地攪拌。使溶液之溫度上升至70℃，保持此溫度4小時，獲得含有共聚物[A-6]的聚合物溶液。該共聚物[A-6]之換算聚苯乙烯重量平均分子量(Mw)為8,000、分子量分布(Mw/Mn)為2.5。又，在此所得聚合物溶液之固形物濃度為34.6質量%。

[比較合成例1]

在具備冷卻管、攪拌機之燒瓶，裝入2,2'-偶氮雙-(2,4-二甲戊腈)8質量份、二乙二醇乙甲醚220質量份。接著裝入甲基丙烯酸12質量份、對甲氧苯乙烯12質量份、1-(四氫哌喃-2-氧)-丁基-3-烯-2-酮15質量份、甲基丙烯酸環氧丙酯40質量份、N-環己基順丁烯二醯亞胺10質量份、甲基丙烯酸三環[5.2.1.0^2,6 ]癸烷-8酯10質量份、及α-甲基苯乙烯二聚物3質量份，以氮取代後開始緩緩地攪拌。使溶液之溫度上升至70℃，保持此溫度4小時，獲得含共聚物[a-1]的聚合物溶液。共聚物[a-1]之換算聚苯乙烯重量平均分子量(Mw)為8,900，分子量分布(Mw/Mn)為2.5。又，在此所得聚合物溶液之固形物濃度為32.9質量%。

<感放射線性樹脂組成物之調製>

[實施例1]

將[A]成分係含有合成例1之共聚物[A-1]的溶液，相當於共聚物100質量份(固形物)之量；及[B]成分係4,4'-[1-[4-[1-[4-羥苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚(1.0莫耳)與1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸氯(2.0莫耳)之縮合物(B-1)30質量份；及[C]成分係2'-苯胺基-6'-(N-乙基-N-異戊基)胺基-3'-甲基螺旋[異苯并呋喃-1(3H),9'-(9H)]-3-酮(C-1)5質量份予以混合，在溶解於二乙二醇乙甲醚，以使固形物濃度成為30質量%後，以口徑0.2μm之膜過濾器過濾,來調製感放射線性樹脂組成物之溶液(S-1)。

[實施例2至5、7至10、比較例1至4]

除了[A]、[B]及[C]成分係使用如表1記載之種類、量之外其它則同於實施例1，來調製感放射線性樹脂組成物之溶液(S-2)至(S-5)、(S-7)至(S-10)、及(s-1)至(s-4)。

[實施例6]

除了溶解於二乙二醇乙甲醚/丙二醇單甲醚乙酸酯=6/4(莫耳比)，以使固形物濃度成為20質量%以外，其他則與實施例1相同，來調製感放射線性樹脂組成物之溶液(S-6)。

表1中，成分之簡稱表示下列化合物。

(B-1)：4,4'-[1-[4-[1-[4-羥苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚(1.0莫耳)與1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸氯(2.0莫耳)之縮合物

(B-2)：1,1,1-參(對羥苯基)乙烷(1.0莫耳)與1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸氯(2.0莫耳)之縮合物

(C-1)：2'-苯胺基-6'-(N-乙基-N-異戊基)胺基-3'-甲基螺旋[異苯并呋喃-1(3H),9'-(9H)]-3-酮(山田化學工業(股)公司製，商品名S205)

(C-2)2'-苯胺基-6'-(N-乙基-N-(4-甲苯基))胺基-3'-甲基螺旋[異苯并呋喃-1(3H),9'-(9H)]-3-酮(山田化學工業(股)公司製，商品名ETAC)

(C-3)3'-N,N-二苄胺基-6'-N,N-二乙胺螺旋[異苯并呋喃-1(3H),9'-(9H)]-3-酮(Hodogaya化學(股)公司製，商品名GREEN DCF)

(C-4)2'-(N-甲基-N-苯基)胺基-6'-(N-乙基-N-(4-甲苯基))胺基螺旋[異苯并呋喃-1(3H),9'-(9H)]-3-酮(山田化學工業(股)公司製，商品名ATP)

(G)界面活性劑：SH28PA(Toray‧Dow Corning‧聚矽氧(股)公司製)

(H)密接助劑：β-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧矽烷

(X-1)低分子顯色劑：BONJET BLACK0052(東方化學工業(股)公司製)

(X-2)低分子顯色劑：4-苯酚

<作為隔壁及絕緣膜之性能評價>

[實施例11至20、比較例5至8]

使用如上述調製的感放射線性樹脂組成物，以下列方式，評價作為隔壁及絕緣膜之各種特性。

[放射線感度之評價]

關於實施例11至15、17至20、及比較例5至8，係使用旋轉器，而關於實施例16係使用縫模塗佈機，在矽基板上塗布表2記載之組成物後，在90℃，於熱板上預烘烤2分鐘，形成膜厚3.0μm之塗膜。相對於所得之塗膜，使用佳能(股)公司製PLA-501F曝光機(超高壓汞燈)，經由具有預定之圖形的圖形光罩，改變曝光時間，進行曝光後，利用表2記載濃度之氫氧化四甲銨水溶液以25℃、80秒盛液法予以顯影。接著，以超純水進行1分鐘流水洗淨，予以乾燥，在晶圓上形成圖形。測定為使3.0μm之線與空間(10對1)之空間‧圖形完全溶解所需曝光量。使該值作為放射線感度(曝光感度)如表2所示。該值在1000J/m² 以下之情形可謂感度良好。

[顯影裕度之評價]

與上述[放射線感度之評價]相同，在矽基板上形成塗膜。使用佳能(股)公司製PLA-501F曝光機(超高壓汞燈)，經由具有3.0μm之線與空間(10對1)之圖形的光罩，在所得之塗膜上，以相當於利用上述[放射線感度之評價]測定的放射線感度之值的曝光量進行曝光，利用表2記載的濃度之氫氧化四甲銨水溶液，在25℃、改變顯影時間，以盛液法予以顯影。接著，以超純水進行1分鐘流水洗淨，予以乾燥，在晶圓上形成圖形。此時，為了使線的線寬為3.0μm，所需顯影時間作為最適顯影時間則如表2所示。又，自最適顯影時間進一步持續顯影時，測定3.0μm之線‧圖形剝離為止之時間，作為顯影裕度(顯影時間之容許範圍)而如表2所示。該值為30秒以上時，可謂顯影裕度為良好。

[耐溶劑性之評價]

與上述[放射線感度之評價]相同，在矽基板上形成塗膜。將所得塗膜在潔淨烤爐內，於220℃，加熱1小時，獲得硬化膜。測定所得硬化膜之膜厚(T1)。接著，將該硬化膜所形成之矽基板，浸漬於控制於70℃溫度的二甲亞碸中20分鐘後，測定該硬化膜之膜厚(t1)，計算浸漬所致膜厚變化率{∣t1-T1∣/T1}x100[%]。膜厚變化率之結果如表2所示。該值在4%以下時，耐溶劑性可謂良好。此外，在耐溶劑性之評價中由於形成之膜的圖形化並不需要，故省略放射線照射步驟及顯影步驟，而僅進行塗膜形成步驟及加熱步驟，並供評價。

[耐熱性之評價]

與上述耐溶劑性之評價相同，形成硬化膜，測定所得硬化膜之膜厚(T2)。接著，將該硬化膜所形成之矽基板，在潔淨烤爐內，於240℃，追加烘烤1小時後，測定該硬化膜之膜厚(t2)，計算追加烘烤所致膜厚變化率{∣t2-T2∣/T2}x100[%]。

耐熱性之結果如表2所示。該值為1%以下時，耐熱性可謂良好。

[全透光率(遮光性)之評價]

除了使用玻璃基板「Corning 7059(Corning公司製)」以替代矽基板以外，其他則與上述[耐溶劑性之評價]相同，在玻璃基板上形成硬化膜。

使用分光光度計「150-20型Double-beam(日立製作所(股)公司製)」，將具有該硬化膜的玻璃基板之全透光率以380至780nm之範圍之波長測定。全透光率之值如表2所示。該值小於50%時，遮光性可謂良好。

[介電常數之評價]

在已研磨的SUS304製基板上，關於實施例11至15、17至20、及比較例5至8係使用旋轉器，而關於實施例16，係使用縫模塗佈機，在塗布表2記載之組成物後，於90℃，在熱板上預烘烤2分鐘，形成膜厚3.0μm之塗膜。藉由將所得之塗膜在潔淨烤爐內，以220℃燒成1小時，獲得硬化膜。關於該硬化膜，藉由蒸鍍法形成Pt/Pd電極圖形，以製成介電常數測定用樣本。

使用橫河‧Hewlett-Packard(股)公司製HP16451B電極及HP4284A精密LCR測量器，以頻率10kHz之頻率，藉由CV法測定樣本之介電常數。介電常數之結果如表2所示。該值為3.7以下時，介電率可謂良好。此外，在介電率之評價中，由於形成之膜之圖形化並不需要，故可省略放射線照射步驟及顯影步驟，而僅進行塗膜形成步驟及加熱步驟，以供評價。

由表2所示結果可知，在使用實施例1至10所調製的感放射線樹脂組成物的實施例11至20中，放射線感度(曝光感度)、顯影裕度、耐溶劑性、耐熱性、全透光率及介電常數全部之特點均衡性良好，極其優異。尤其是在所有實施例中，不使用其他途徑顯色劑，即可獲得45%以下之全透光率，可達成顯著良好的遮光性。一方面，在使用不含含酚骨架不飽和化合物之組成物作為共聚物之構成化合物的比較例5，或使用不含感熱色素及顯色劑之組成物的比較例6中，並無法獲得小於50%之全透光率，尤其是後者之全透光率成為70%之非常高的值。又，在使用不含感熱色素，而含有低分子顯色劑的組成物之比較例7中，雖可獲得小於50%之全透光率，但是放射線感度則為極度不良的值。再者，在使用不含有含酚骨架不飽和化合物，又不含感熱色素，而含有低分子顯色劑的組成物作為共聚物之構成化合物的比較例8(相當於專利文獻3及4之情形)，則無法獲得小於50%之全透光率。

由該等實施例及比較例之結果可知，本發明之感放射線樹脂組成物，具有可形成絕緣膜之貫穿孔或者形之凹處程度之充分顯影性，同時具有對溶劑之高耐性，且兼具優異放射線感度與高遮光性，故作為隔壁及絕緣膜可適當地使用。

產業上之可利用性

本發明之感放射線樹脂組成物，由於係使用預定之鹼可溶性樹脂作為顯色劑，故具有隔壁及絕緣膜形成時對高溫之耐熱性，可防止顯色劑之昇華，同時可得除了優異放射線感度、顯影性以外，再加上加熱時的高遮光性。因此，具備自此等感放射線樹脂組成物所形成之隔壁及絕緣膜的有機EL元件，顯示良好的對比，作為顯示裝置之電子零件可適當使用。

Claims

一種感放射線性樹脂組成物，其含有：[A]鹼可溶性樹脂，其係將含有(a1)選自不飽和羧酸及不飽和羧酸酐之至少一者、以及(a2)選自下述式(I)所示含酚骨架不飽和化合物、下述式(II)所示化合物及下述式(III)所示化合物所構成的群組之化合物的單體予以共聚而成之共聚物，[B]1,2-醌二疊氮基化合物，及[C]感熱色素，其中相對於[A]成分之鹼可溶性樹脂100質量份，[B]成分之1,2-醌二疊氮基化合物之含量為5質量份以上100質量份以下；相對於[A]成分之鹼可溶性樹脂100質量份，[C]成分之感熱色素之含量為0.1質量份以上30質量份以下； (式(I)中，R¹ 為氫原子或碳數1至4之烷基；R² ~R⁶ 係相同或相異，為氫原子、羥基或碳數1至4之烷基；B為單鍵、-COO-、或-CONH-；m為0至3之整數，但R² 至R⁶ 之至少1個為羥基；式(II)中，R¹ 為氫原子或碳數1至4之烷基；Y¹ 及Y² 係相同或相異，為氫原子或碳數1至6之烷基；X¹ 至X⁴ 係相同或相異，為氫原子、碳數1至4之烷基或鹵素原子；Z為單鍵或-O(CH₂ )_w -，w為1至6之整數；式(III)中，R¹ 為氫原子或碳數1至4之烷基；Z為單鍵或-O(CH₂ )_w -，w為1至6之整數)。
如申請專利範圍第1項之感放射線性樹脂組成物，其中[A]成分之鹼可溶性樹脂，係使除了(a1)成分及(a2)成分，尚有(a3)含有含環氧基不飽和化合物之單體共聚而成之共聚物。
一種有機EL顯示元件用隔壁，其係由如申請專利範圍第1或2項之感放射線性樹脂組成物所形成。
一種有機EL顯示元件用絕緣膜，其係由如申請專利範圍第1或2項之感放射線性樹脂組成物所形成。
一種有機EL顯示元件用隔壁之形成方法，其包含： (1)使如申請專利範圍第1或2項之感放射線性樹脂組成物之塗膜形成於基板上之步驟；(2)在步驟(1)形成的塗膜之至少一部分，照射放射線之步驟；(3)使於步驟(2)照射放射線之塗膜予以顯影之步驟；及(4)使於步驟(3)顯影之塗膜予以加熱之步驟。
一種有機EL顯示元件用絕緣膜之形成方法，其包含：(1)使如申請專利範圍第1或2項之感放射線性樹脂組成物之塗膜形成於基板上之步驟；(2)使於步驟(1)形成的塗膜之至少一部分照射放射線之步驟；(3)使於步驟(2)照射放射線之塗膜予以顯影之步驟；及(4)使於步驟(3)顯影的塗膜予以加熱之步驟。