CN103382370A - 表面保护膜以及贴合其的光学部件 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种表面保护膜以及贴合其的光学部件。具体地,提供向被粘物的污染少的表面保护膜,没有经时劣化且具有优异的防止剥离带电性能的表面保护膜,以及使用上述表面保护膜的光学部件。在透明基材膜1的一面上形成粘合剂层2、在该粘合剂层2上贴合有剥离膜5的表面保护膜10中,剥离膜5通过在树脂膜3的一面上层压剥离剂层4得到,所述剥离剂层4含有以二甲基聚硅氧烷为主成分的剥离剂和在20℃为液体的硅酮类化合物7。粘合剂层2由共聚或混合含有聚氧化亚烷基团的化合物得到的(甲基)丙烯酸类聚合物形成,并且含有抗静电剂。

Description

表面保护膜以及贴合其的光学部件
技术领域
本发明涉及偏光板、相位差板、显示器用透镜膜等的光学部件(以下也有称为光学膜的情况)的表面上贴合的表面保护膜。本发明提供向被粘物的污染少的表面保护膜,没有经时劣化且具有优异的抗剥离带电性能的表面保护膜,以及使用所述表面保护膜的光学部件。
背景技术
在制造和运送使用偏光板、相位差板、显示器用透镜膜、防反射膜、硬质涂层膜、触摸屏用透明导电性膜等的光学膜的显示器等的光学制品时,在所述光学膜的表面上贴合表面保护膜,来防止在后工序中的表面的污染或损伤。制造光学膜时的外观检查,为了省去剥离表面保护膜、再次贴合的劳力,提高工作效率,也有以将表面保护膜贴合于光学膜的状态进行外观检查的。
一直以来,在光学制品的制造工序中为了防止伤痕或污染物的附着,一般使用在基材膜的一面上设置粘合剂层的表面保护膜。表面保护膜经由微粘合力的粘合剂层被贴合于光学膜上。将粘合剂层的粘合力设为微粘合力是为了使得当将使用完的表面保护膜从光学膜表面剥离除去时能够容易剥离,并且使得粘合剂不附着残留于作为被粘物的制品的光学膜上(即,防止粘合剂残留的发生)。
近年来,在液晶显示面板的生产工序中,由于在剥离除去贴合在光学膜上的表面保护膜时所产生的剥离带电压,尽管发生的件数少但是也发生用于控制液晶显示画面的驱动IC等的电路元件被破坏的现象、液晶分子的取向损坏的现象。
并且,为了减少液晶显示面板的电力消耗,先使液晶材料的驱动电压变低,由此,驱动IC的破坏电压也变低。最近,要求将剥离带电压设定在+0.7kV~-0.7kV的范围内。
因此,为了防止在将表面保护膜从作为被粘物的光学膜剥离时由剥离带电压高而引起的不便,提出使用含有用于降低剥离带电压的抗静电剂的粘合剂层的表面保护膜。
例如,在专利文献1中,公开有使用由烷基三甲基铵盐、含有羟基的丙烯酸类聚合物、聚异氰酸酯形成的粘合剂的表面保护膜。
并且,在专利文献2中,公开有由离子液体和酸值在1.0以下的丙烯酸类聚合物形成的粘合剂组合物,以及使用其的粘合片类。
此外,在专利文献3中,公开有由用丙烯酸类聚合物、聚醚多元醇化合物、阴离子吸附性化合物处理过的碱金属盐形成的粘合剂组合物,以及使用其的表面保护膜。
此外,在专利文献4中,公开有由离子液体、碱金属盐、玻璃化转变温度0℃以下的聚合物形成的粘合剂组合物,以及使用其的表面保护膜。
另外,在专利文献5、6中,示出在表面保护膜的粘合剂层中混合聚醚改性的硅酮。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]特开2005-131957号公报
[专利文献2]特开2005-330464号公报
[专利文献3]特开2005-314476号公报
[专利文献4]特开2006-152235号公报
[专利文献5]特开2009-275128号公报
[专利文献6]特开第4537450号公报
发明内容
[发明要解决的课题]
在上述专利文献1~4中,虽然在粘合剂层的内部添加了抗静电剂,但是随着粘合剂层的厚度变厚,并且随着时间的推移,对于贴合有表面保护膜的被粘物,从粘合剂层向被粘物转移的抗静电剂的量增多。并且,在LR(低反射的)偏光板或AG(防眩光)-LR偏光板等的光学膜上使用的表面保护膜中,由于光学膜的表面用硅酮化合物或氟化合物等进行防污染处理,因此将用于这样的光学膜的表面保护膜从被粘物剥离时的剥离带电压变高。
此外,如专利文献5、6中记载的那样,在粘合剂层中混合聚醚改性的硅酮的情况下,微调表面保护膜的粘合力是困难的。并且,由于在粘合剂层内混合有聚醚改性的硅酮,因此,如果将粘合剂组合物在基材膜上涂布/干燥的条件变化,则形成有表面保护膜的粘合剂层表面的特性会微妙地变化。进一步地,从保护光学膜表面的观点来说,不能够将粘合剂层的厚度制得太薄。因此,根据粘合剂层的厚度,需要增加粘合剂层内混合的聚醚改性的硅酮的添加量,结果是,被粘物表面变得容易污染,经时的粘合力、被粘物的污染性变化。
因此,即使是LR偏光板或AG-LR偏光板等的光学膜上使用的表面保护膜,光学膜的表面用硅酮化合物或氟化合物等进行防污染处理的情况下,也需要降低在将表面保护膜从光学膜剥离时的剥离带电压,并且被粘物的污染少的方法。
本发明人就该课题进行了认真的研究。考虑到叠加物质的摩擦电序(帯電列)离得越远产生的剥离带电压越大,因此尝试在粘合剂层的表面上形成与光学膜的表面材质摩擦电序近的物质。
其结果,发现不是通过形成将聚醚改性的硅酮混合于粘合剂组合物中的粘合剂层,而是通过涂布/干燥粘合剂组合物,层压粘合剂层后,在粘合剂层的表面上赋予适量的聚醚改性的硅酮,能够降低从光学膜剥离表面保护膜时的剥离带电压,完成了本发明。
本发明借鉴上述事实,以下述为课题:提供向被粘物的污染少的表面保护膜,进一步地,提供不经时劣化且具有优异的防剥离带电性能的表面保护膜,以及使用所述表面保护膜的光学部件。
并且,以下述为课题:提供即使对于LR偏光板或AG-LR偏光板等的、表面用硅酮化合物或氟化合物等进行防污染处理的光学膜,也能降低剥离带电压的表面保护膜。
[解决课题的方法]
为解决上述课题,本发明以下述作为技术思想:本发明的表面保护膜为,涂布/干燥粘合剂组合物,层压粘合剂层后,在粘合剂层的表面上赋予适量的20℃为液体的硅酮类化合物,由此降低从光学膜剥离表面保护膜时的剥离带电压。
为了解决上述课题,本发明提供一种表面保护膜,其为在透明基材膜的一面上形成粘合剂层、在该粘合剂层上贴合有剥离膜的表面保护膜,在前述表面保护膜中,前述剥离膜通过在树脂膜的一面上层压剥离剂层得到,所述剥离剂层含有以二甲基聚硅氧烷为主成分的剥离剂和在20℃为液体的硅酮类化合物。
此外,前述硅酮类化合物优选聚醚改性的硅酮。
此外,优选前述粘合剂层由共聚或混合含有聚氧化亚烷基团(ポリオキシアルキレン基)的化合物得到的(甲基)丙烯酸类聚合物形成,并且含有抗静电剂。
此外,前述抗静电剂优选碱金属盐。
此外,前述含有聚氧化亚烷基团的化合物优选含有聚氧化亚烷基团的(甲基)丙烯酸类单体或聚合物。
此外,剥离前述剥离膜后的前述粘合剂层的表面电阻率优选不足1×1013(Ω/□)。
此外,本发明提供贴合有上述表面保护膜的光学部件。
[发明效果]
本发明的表面保护膜即使是LR偏光板或AG-LR偏光板等的表面用硅酮化合物或氟化合物等进行防污染处理的光学膜,也能够降低将表面保护膜从作为被粘物的光学膜剥离时产生的剥离带电压,并且,能够提供向被粘物的污染少的表面保护膜,没有经时劣化且具有优异的防剥离带电性能的表面保护膜,以及使用上述表面保护膜的光学部件。
其结果,如果使用本发明的表面保护膜,能够确实地保护光学膜的表面,谋求生产性能的提高和收率的提高。
附图说明
[图1]为显示本发明的表面保护膜的概念的剖面图。
[图2]为显示从本发明的表面保护膜剥离剥离膜的状态的概念剖面图。
[图3]为显示本发明的光学部件的一个实施例的剖面图。
符号说明
1   基材膜
2    粘合剂层
3   树脂膜
4   剥离剂层
5   剥离膜
7   在20℃为液体的硅酮类化合物
8   被粘物(光学部件)
10  表面保护膜
11  剥离剥离膜的表面保护膜
20  贴合有表面保护膜的光学部件
具体实施方式
以下基于实施方案,详细地说明本发明。
图1为显示本发明的表面保护膜的概念的剖面图。该表面保护膜10在透明基材膜1的一面的表面上形成有粘合剂层2。在该粘合剂层2的表面上贴合有剥离膜5,所述剥离膜5通过在树脂膜3的表面上形成剥离剂层4得到。
作为本发明涉及的表面保护膜10中使用的基材膜1,可以使用具有透明性和挠性的塑料膜。由此,能够以作为被粘物的光学部件上贴合有表面保护膜的状态进行光学部件的外观检查。作为基材膜1使用的塑料膜优选可以使用聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚间苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等的聚酯膜。除了聚酯膜以外,只要是具有需要的强度且具有光学适合性的物质,也可使用其他塑料膜。基材膜1可为非拉伸膜,也可为单轴或双轴拉伸的膜。此外,也可控制拉伸膜的拉伸倍数或伴随拉伸膜的结晶化而形成的轴方法的取向角度为特定值。
本发明涉及的表面保护膜10中使用的基材膜1的厚度,没有特别的限定,例如优选约12~100μm的厚度,约20~50μm的厚度则容易处理而更优选。
并且,根据需要,在基材膜1的与粘合剂层2形成面相反一侧的面上可以设计防止表面污染的防污层、抗静电层、防止划痕的硬质涂层等。并且,还可以在基材膜1的表面上实施通过电晕放电的表面改性、涂覆锚涂剂(アンカーコート剤)等的易粘附处理。
此外,本发明涉及的表面保护膜10中使用的粘合剂层2为由将含有聚氧化亚烷基团的化合物共聚或混合得到的(甲基)丙烯酸类聚合物形成,根据需要添加硬化剂或增粘剂得到的粘合剂。也可以结合使用共聚和混合。
作为(甲基)丙烯酸类聚合物,可以举出,将丙烯酸正丁基酯、丙烯酸2-乙基己基酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸异壬酯等的主要单体与丙烯腈、乙酸乙烯酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯等的共聚单体以及丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸羟乙酯、丙烯酸羟丁酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、N-羟甲基甲基丙烯酰胺等的官能性单体共聚得到的聚合物。
作为在(甲基)丙烯酸类聚合物中可共聚的含有聚氧化亚烷基团的化合物,优选含有聚氧化亚烷基团的(甲基)丙烯酸类单体,例如,可以举出,聚乙二醇(400)单丙烯酸酯、聚乙二醇(400)单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(400)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯、聚丙二醇(400)单丙烯酸酯、聚丙二醇(400)单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(400)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(400)甲基丙烯酸酯等。通过将这些含有聚氧化亚烷基团的单体与前述(甲基)丙烯酸类聚合物的主要单体或官能性单体共聚,能够得到由含有聚氧化亚烷基团的共聚物形成的粘合剂。
作为在(甲基)丙烯酸类聚合物中可混合的含有聚氧化亚烷基团的化合物,优选含有聚氧化亚烷基团的(甲基)丙烯酸类聚合物,更优选含有聚氧化亚烷基团的(甲基)丙烯酸类单体的聚合物,例如,可以举出聚乙二醇(400)单丙烯酸酯、聚乙二醇(400)单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(400)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯、聚丙二醇(400)单丙烯酸酯、聚丙二醇(400)单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(400)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(400)甲基丙烯酸酯等的聚合物。通过将这些含有聚氧化亚烷基团的化合物与前述(甲基)丙烯酸类聚合物混合,能够得到添加含有聚氧化亚烷基团的化合物的粘合剂。
作为粘合剂层2中添加的硬化剂,可以举出异氰酸酯化合物、环氧化合物、三聚氰胺化合物、金属螯合物化合物等。此外,作为增粘剂可以举出松香类、苯并呋喃-茚类、萜烯类、石油类、酚类等。
根据需要,在粘合剂层2中可以混合抗静电剂。作为抗静电剂,优选对于(甲基)丙烯酸类聚合物的分散或相容性好的物质。作为可以使用的抗静电剂的具体例子,可以举出,表面活性剂类、离子液体、碱金属盐、金属氧化物、金属微粒子、导电性聚合物、碳、碳纳米管等,但是从透明性、对于(甲基)丙烯酸类聚合物的亲和性等出发,优选碱金属盐。
作为碱金属盐,可以举出由锂、钠、钾形成的金属盐,具体地,优选可以使用,例如,由Li+、Na+、K+组成的阳离子与由Cl、Br、I、BF4 、PF6 -、SCN、ClO4 、CF3SO3 、(CF3SO2)2N、(C2F5SO2)2N、(CF3SO2)3C组成的阴离子构成的金属盐。其中,特别优选使用LiBr、LiI、LiBF4、LiPF6、LiSCN、LiClO4、LiCF3SO3、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(CF3SO2)3C等锂盐。可以单独使用这些碱金属盐,也可以2种以上混合使用。为了离子性物质的稳定化,还可以添加含有聚氧化烯结构的化合物。
虽然相对于(甲基)丙烯酸类聚合物等的基础聚合物的抗静电剂的添加量根据抗静电剂的种类、与基础聚合物的相容性的程度而不同,但可考虑将表面保护膜从被粘物剥离时的希望的剥离带电压、被粘物的污染性、粘合特性等而设定。
此外,本发明涉及的表面保护膜10中使用的粘合剂层2的厚度没有特别地限定,但例如,优选约5~40μm的厚度,更优选约10~30μm的厚度。自从表面保护膜10剥离剥离膜5时以及从被粘物剥离表面保护膜时的操作性优异出发,优选对于表面保护膜的被粘物表面的剥离强度为约0.03~0.3N/25mm的、具有微粘合力的粘合剂层2。
并且,本发明涉及的表面保护膜10中使用的剥离膜5为,在树脂膜3的一面上形成剥离剂层4,所述剥离剂层4使用以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂和在20℃为液体的硅酮类化合物的混合物。作为树脂膜,可以举出聚酯膜、聚酰胺膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚酰亚胺膜等,但是从透明性优异、价格比较低廉出发,特别优选聚酯膜。
并且,以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂可以举出加成反应型、缩合反应型、阳离子聚合型、自由基聚合型等公知的硅酮类剥离剂。作为加成反应型硅酮类剥离剂,市售的制品中,可以举出例如,KS-776A、KS-847T、KS-779H、KS-837、KS-778、KS-830(信越化学工业(株)制)、SRX-211、SRX-345、SRX-357、SD7333、SD7220、SD7223、LTC-300B、LTC-350G、LTC-310(东レダウコーニング(株)制)等。作为缩合反应型,市售的制品中,可以举出例如SRX-290、SYLOFF-23(东レダウコーニング(株)制)等。作为阳离子聚合型,市售的制品中,可以举出例如TPR-6501、TPR-6500、UV9300、VU9315、UV9430(モメンティブ·パーフォーマンス·マテリアルズ社制)、X62-7622(信越化学工业(株)制)等。作为自由基聚合型,市售的制品中,可以举出例如X62-7205(信越化学工业(株)制)等。
并且,在树脂膜3的一面上形成有以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂层4。使该剥离剂层4含有在20℃为液体的硅酮类化合物7。作为在20℃为液体的硅酮类化合物,优选改性硅酮化合物,可以举出聚醚改性的硅酮、烷基改性的硅酮、甲醇改性的硅酮等。在本发明中,为了提高粘合剂层表面的抗静电性能,可以使用相容于以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂层4中的状态的在20℃为液体的硅酮类化合物7。在本发明的用途中,在改性硅酮化合物中也优选聚醚改性的硅酮。聚醚改性的硅酮中的聚醚链由环氧乙烷、环氧丙烷等构成,例如,通过选择侧链中使用的聚环氧乙烷的分子量、与聚硅氧烷链的重量比等,调节所必要的疏水性等的物理性质。
并且,作为聚醚改性的硅酮,可以举出,聚醚改性的二甲基聚硅氧烷、聚醚改性的甲基烷基聚硅氧烷、聚醚改性的甲基苯基聚硅氧烷等。作为聚醚改性的硅酮,市售的制品中,可以举出例如KF-351A、KF-352A、KF-353、KF-354L、KF-355A、KF-642(信越化学工业(株)制)、SH8400、SH8700、SF8410(东レダウコーニング(株)制)、TSF-4440、TSF-4441、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4450(モメンティブパーフォーマンス·マテリアルズ社制)、BYK-300、BYK-306、BYK-307、BYK-320、BYK-325、BYK-330(ビックケミー社制)等。
以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂和聚醚改性的硅酮等的在20℃为液体的硅酮类化合物的混合方法中,没有特别地限定。向以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂中添加在20℃为液体的硅酮类化合物,混合后添加/混合剥离剂硬化用催化剂的方法;将以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂首先用有机溶剂稀释,然后添加/混合在20℃为液体的硅酮类化合物和剥离剂硬化用的催化剂的方法;将以硅氧烷为主要成分的剥离剂首先稀释于有机溶剂中后,添加/混合催化剂,然后添加/混合在20℃为液体的硅酮类化合物的方法等;可以是任何一种方法。并且,根据需要,还可以添加硅烷偶联剂等的粘附改进剂。
在本发明涉及的表面保护膜10的基材膜1上形成粘合剂层2的方法以及贴合剥离膜5的方法,只要以公知的方法进行即可,没有特别地限定。具体地,可以举出,在基材膜1的一面上涂布为了形成粘合剂层2的树脂组合物,干燥,形成粘合剂层,然后贴合剥离膜5的方法;在剥离膜5的表面上涂布/干燥为了形成粘合剂层2的树脂组合物,形成粘合剂层,然后贴合基材膜1的方法等,可以使用任何一种方法。
并且,在基材膜1的表面上形成粘合剂层2只要以公知的方法进行即可。具体地,能够使用逆向涂布法、逗号涂布法、凹版涂布法、模缝涂布法、迈耶棒涂布法、气刀涂布法等的公知的涂布方法。
并且,同样地,在树脂膜3上形成剥离剂层4只要以公知的方法进行即可。具体地,能够使用凹版涂布法、迈耶棒涂布法、气刀涂布法等的公知的涂布方法。
具有上述构成的本发明涉及的表面保护膜10,从作为被粘物的光学膜剥离时的表面电势优选+0.7kV~-0.7kV。进一步地,更优选表面电势为+0.5kV~-0.5kV,特别优选表面电势为+0.1kV~-0.1kV。通过增减粘合剂层中含有的抗静电剂的种类、含量,以及在剥离膜的剥离剂层中含有的聚醚改性的硅酮的种类、添加量等可以调节该表面电势。
图2为显示从本发明的表面保护膜剥离剥离膜的状态的概念剖面图。
通过从图1所示的表面保护膜10剥离剥离膜5,将在剥离膜5上形成的剥离剂层4中含有的、在20℃为液体的硅酮类化合物7的一部分附着于表面保护膜10的粘合剂层2的表面。因此,在图2中,将附着于表面保护膜的粘合剂层2的表面上的在20℃为液体的硅酮类化合物7以斑点概要显示。
本发明涉及的表面保护膜,将图2所示的剥离剥离膜状态的表面保护膜11贴合于被粘物时,在该粘合剂层2的表面附着的在20℃为液体的硅酮类化合物7接触被粘物的表面。由此,能够再次降低从被粘物剥离表面保护膜时的剥离带电压。
图3为显示本发明的光学部件的实施例的剖面图。
在从本发明的表面保护膜10剥离剥离膜5以露出粘合剂层2的状态,经由该粘合剂层2贴合于作为被粘物的光学部件8上。
即,在图3中,显示贴合有本发明的表面保护膜10的光学部件20。作为光学部件,可以举出,偏光板、相位差板、透镜膜、兼用作相位差板的偏光板、兼用作透镜膜的偏光板等的光学膜。这样的光学部件被作为液晶显示面板等的液晶显示装置、各种计量器类的光学类装置等的构成部件使用。并且,作为光学部件,可以举出防反射膜、硬质涂层膜、触控面板用透明导电性膜等。特别地,优选能够作为表面用硅酮化合物或氟化合物等进行防污染处理的低反射处理偏光板(LR偏光板)或防眩光低反射处理偏光板(AG-LR偏光板)等的光学膜的经防污染处理的表面上贴合的表面保护膜适当地使用。
通过本发明的光学部件,当从作为被粘物的光学部件(光学膜)剥离除去表面保护膜10时,由于能够充分地降低剥离带电压,因此不担心破坏驱动IC、TFT元素、栅极线驱动电路等的电路制品,能够提高在制造液晶显示面板等的工序中的生产效率,保证生产工序的可靠性。
[实施例]
下面,通过实施例进一步说明本发明。
(实施例1)
(粘合剂组合物的制备)
向具备搅拌桨叶、温度计、氮气导管、冷却装置的4口烧瓶中加入丙烯酸2-乙基己酯90重量份、甲氧基聚乙二醇(400)单甲基丙烯酸酯10重量份、丙烯酸2-羟乙基酯3重量份、作为聚合引发剂的2,2’-偶氮二异丁腈0.2重量份、乙酸乙酯154重量份,一边导入氮气一边搅拌内容物并升温至65℃。进一步地,在65℃左右的温度进行6小时的聚合反应,制得由含有聚氧化亚烷基团的丙烯酸类聚合物形成的实施例1的粘合剂组合物(固体成分40%)。
(表面保护膜的制备)
将加成反应型硅酮(东レダウコーニング(株)制,商品名:SRX-345)3重量份、聚醚改性的硅酮(东レダウコーニング(株)制,商品名:SH8400)0.1重量份、甲苯和乙酸乙酯1:1混合溶剂97重量份、铂催化剂(东レダウコーニング(株)制,商品名:SRX-212)0.03重量份混合并搅拌/混合,调节形成实施例1的剥离剂层的涂料。在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面上,用迈耶棒以使得干燥后的厚度为0.1μm的方式涂布实施例1的剥离剂层用涂料,在120°C的热风循环式烘箱中干燥1分钟,得到实施例1的剥离膜。一方面,对于实施例1的粘合剂组合物100重量份,添加HDI类硬化剂(日本ポリウレタン工业(株)制,商品名:コロネートHX)1.2重量份并混合,将由此得到的涂布液以使得干燥后的厚度为20μm的方式涂布于厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面,然后,在100℃的热风循环式烘箱中使其干燥两分钟形成粘合剂层。然后,在该粘合剂层的表面上贴合上述制备的实施例1的剥离膜的剥离剂层(硅酮处理面),得到实施例1的表面保护膜。
(实施例2)
搅拌混合实施例1的粘合剂组合物100重量份、和作为抗静电剂的高氯酸锂0.1重量份,制备含有抗静电剂的实施例2的粘合剂组合物。
除了使用实施例2的粘合剂组合物代替实施例1的粘合剂组合物以外,与实施例1同样地,得到实施例2的表面保护膜。
(实施例3)
搅拌混合实施例1的粘合剂组合物100重量份、和作为抗静电剂的双(三氟甲烷磺酰)亚胺锂1.5重量份,制备具有抗静电剂的实施例3的粘合剂组合物。
除了使用实施例3的粘合剂组合物代替实施例1的粘合剂组合物以外,与实施例1同样地,得到实施例3的表面保护膜。
(实施例4)
将加成反应型硅酮(东レダウコーニング(株)制,商品名:SRX-211)3重量份、聚醚改性的硅酮(信越化学工业(株)制,商品名:KF352A)0.1重量份、甲苯和乙酸乙酯1:1混合溶剂97重量份、铂催化剂(东レダウコーニング(株)制,商品名:SRX-212)0.03重量份搅拌/混合,调节用于形成实施例4的剥离剂层的涂料。在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面上,用迈耶棒以使得干燥后的厚度为0.1μm的方式涂布实施例4的剥离剂层用涂料,然后,在120℃的热风循环式烘箱中干燥1分钟,得到实施例4的剥离膜。
除了使用实施例2的粘合剂组合物代替实施例1的粘合剂组合物,以及,使用实施例4的剥离膜代替实施例1的剥离膜以外,与实施例1同样地,得到实施例4的表面保护膜。
(比较例1)
除了使用丙烯酸丁酯代替实施例1的粘合剂组合物的甲氧基聚乙二醇(400)单甲基丙烯酸酯以外,与实施例1的粘合剂组合物同样地,制备比较例1的粘合剂组合物(固体成分40%)。
除了使用比较例1的粘合剂组合物代替实施例1的粘合剂组合物以外,与实施例1同样地,得到比较例1的表面保护膜。
(比较例2)
将比较例1的粘合剂组合物100重量份与作为抗静电剂的高氯酸锂0.1重量份搅拌混合,制备含有抗静电剂的比较例2的粘合剂组合物。
除了使用比较例2的粘合剂组合物代替实施例1的粘合剂组合物以外,与实施例1同样地,得到比较例2的表面保护膜。
(比较例3)
在制备实施例1的剥离膜时,除了不添加聚醚改性的硅酮(东レダウコーニング(株)制SH8400)以外,与实施例1的剥离膜同样地,得到比较例3的剥离膜。
除了使用实施例2的粘合剂组合物代替实施例1的粘合剂组合物,以及使用比较例3的剥离膜代替实施例1的剥离膜以外,与实施例1同样地,得到比较例3的表面保护膜。
(比较例4)
将实施例1的粘合剂组合物100重量份、和作为抗静电剂的双(三氟甲烷磺酰)亚胺锂1.5重量份、和聚醚改性的硅酮(东レダウコーニング(株)制,商品名:SH8400)0.1重量份搅拌混合,得到比较例4的粘合剂组合物。
除了使用比较例4的粘合剂组合物代替实施例1的粘合剂组合物,以及使用比较例3的剥离膜代替实施例1的剥离膜以外,与实施例1同样地,得到比较例4的表面保护膜。
以下示出评价试验的方法及结果。
<表面保护膜的粘合力的测定方法>
使用贴合机将防眩光低反射处理偏光板(AG-LR偏光板)贴合于玻璃板的表面。然后将裁切成宽度为25mm的表面保护膜贴合于偏光板的表面,然后在23℃×50%RH的试验环境下放置1天。然后,使用拉伸试验机以300mm/分的剥离速度向180°方向剥离表面保护膜时的强度,以此作为粘合力(N/25mm)。
<表面保护膜的剥离带电压的测定方法>
使用贴合机将防眩光低反射处理偏光板(AG-LR偏光板)贴合于玻璃板的表面。然后将裁切成宽度为25mm的表面保护膜贴合于偏光板的表面,然后在23℃×50%RH的试验环境下放置1天。然后,使用高速剥离试验机(テスター产业制)在每分钟40m的剥离速度下剥离表面保护膜的同时,使用表面电位计(キーエンス(株)制)每10ms测定前述偏光板表面的表面电位,将测定时的表面电位的绝对值的最大值定为剥离带电压(kV)
<表面保护膜的表面污染性的确认方法>
使用贴合机将防眩光低反射处理偏光板(AG-LR偏光板)贴合于玻璃板的表面。然后将裁切成宽度为25mm的表面保护膜贴合于偏光板的表面,然后在23℃×50%RH的试验环境下放置3天和30天。然后,剥离表面保护膜,目视观察偏光板的表面的污染性。作为表面污染性的判断标准,将偏光板上没有污染转移的情况设定为“○”,将偏光板上确认污染转移的情况设定为“×”。
<粘合剂的表面电阻率的测定方法>
从表面保护膜剥离剥离膜后,使用电阻率计(三菱化学(株)制,商品名:ハイレスタ-UP),用外加电压100V×测定时间30秒的条件测定粘合剂层的表面电阻率(Ω/□)。
对得到的实施例1~4以及比较例1~4的表面保护膜,在表1和表2中示出测定的测定结果。在表1和表2中,也显示了各表面保护膜中使用的粘合剂组合物和剥离剂的概要。其中下述各自意指:“2EHA”为丙烯酸2-乙基己酯,“#400G”为甲氧基聚乙二醇(400)单甲基丙烯酸酯,“HEA”为丙烯酸2-羟乙酯,“BA”为丙烯酸丁酯,“LiClO4”为高氯酸锂,“Li(CF3SO2)2N”为双(三氟甲烷磺酰)亚胺锂。
[表1]
[表2]
Figure BDA00003124848300142
从表1和表2所示的测定结果可判断如下。
本发明涉及的实施例1~4的表面保护膜具有适当的粘合力,没有被粘物的表面污染,并且从被粘物剥离表面保护膜时的剥离带电压低。
一方面,比较例1和比较例2的表面保护膜,由于在粘合剂层中不包含含有聚氧化亚烷基团的化合物,从被粘物剥离表面保护膜时的剥离带电压变高,剥离后的被粘物污染变多。
并且,比较例3的表面保护膜,在剥离膜的剥离剂层中未添加聚醚改性的硅酮,作为剥离膜仅使用以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂。但是,比较例3中,由于从被粘物剥离表面保护膜时的剥离带电压高,因此恐怕引起驱动IC的破损或液晶分子的取向损失等的不便。
并且,比较例4的表面保护膜,在剥离膜的剥离剂层未添加聚醚改性的硅酮,在粘合剂层添加了聚醚改性的硅酮。但是,比较例4中,尽管从被粘物剥离表面保护膜时的剥离带电压低,但是被粘物污染变多。
[工业上利用的可能性]
本发明的表面保护膜,例如,在偏光板或相位差板、透镜膜等的光学膜、其它各种光学部件等的生产工序等中,可以贴合于该光学部件等的表面,为保护表面而使用。特别地,在作为表面用硅酮化合物或氟化合物等进行防污染处理的LR偏光板或AG-LR偏光板等的光学膜的表面保护膜使用的情况中,能够降低从被粘物剥离时产生的静电量,并且,防剥离带电性能的经时变化和被粘物污染少,能够确实地保护光学部件的表面,使生产工序的收率提高。

Claims (13)

1.一种表面保护膜,其为在透明基材膜的一面上形成粘合剂层、在该粘合剂层上贴合有剥离膜的表面保护膜,在前述表面保护膜中,前述剥离膜通过在树脂膜的一面上层压剥离剂层得到,所述剥离剂层含有以二甲基聚硅氧烷为主成分的剥离剂和在20℃为液体的硅酮类化合物。
2.根据权利要求1所述的表面保护膜,其中前述硅酮类化合物为聚醚改性的硅酮。
3.根据权利要求1或2所述的表面保护膜,其中前述粘合剂层由共聚或混合含有聚氧化亚烷基团的化合物得到的(甲基)丙烯酸类聚合物形成,并且含有抗静电剂。
4.根据权利要求3所述的表面保护膜,其中前述抗静电剂为碱金属盐。
5.根据权利要求3所述的表面保护膜,其中前述含有聚氧化亚烷基团的化合物为含有聚氧化亚烷基团的(甲基)丙烯酸类单体或聚合物。
6.根据权利要求4所述的表面保护膜,其中前述含有聚氧化亚烷基团的化合物为含有聚氧化亚烷基团的(甲基)丙烯酸类单体或聚合物。
7.根据权利要求3所述的表面保护膜,其中剥离前述剥离膜后的前述粘合剂层的表面电阻率不足1×1013(Ω/□)。
8.根据权利要求4所述的表面保护膜,其中剥离前述剥离膜后的前述粘合剂层的表面电阻率不足1×1013(Ω/□)。
9.根据权利要求5所述的表面保护膜,其中剥离前述剥离膜后的前述粘合剂层的表面电阻率不足1×1013(Ω/□)。
10.根据权利要求6所述的表面保护膜,其中剥离前述剥离膜后的前述粘合剂层的表面电阻率不足1×1013(Ω/□)。
11.一种光学部件,其贴合有根据权利要求1或2所述的表面保护膜。
12.一种光学部件,其贴合有根据权利要求3所述的表面保护膜。
13.一种光学部件,其贴合有根据权利要求4所述的表面保护膜。
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