CN106189894B - 表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件 - Google Patents

表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件 Download PDF

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Abstract

本发明提供对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘附体的污染少、且对被粘附体的低污染性无经时变化，并具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜和使用了该表面保护膜的光学部件。表面保护膜(10)在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，该剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)包含以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂和由不与该剥离剂发生反应的离子性化合物构成的抗静电剂，抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，减少将粘结剂层(2)从被粘附体剥离时的剥离静电压。

Description

表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件
技术领域
本发明涉及一种贴合于偏光板、相位差板、显示器用透镜膜等光学部件(下面，有时也称“光学用膜”)的表面的表面保护膜。更详细而言，提供一种对被粘附体的污染少的表面保护膜，进而提供无经时劣化(不随着时间推移而发生劣化)且具有优良的抗剥离静电性能的表面保护膜、以及贴合有该表面保护膜的光学部件。
背景技术
目前，当制造、搬运偏光板、相位差板、显示器用透镜膜、防反射膜、硬涂膜、触摸面板用透明导电膜等的光学用膜、以及使用了它们的显示器等光学产品时，通过在该光学用膜的表面贴合表面保护膜而防止后续工序中的表面污染和刮伤。为了节省对表面保护膜进行剥离后再进行贴合的劳力和时间从而提高作业效率，对作为产品的光学用膜的外观检查而言，有时也在光学用膜上贴合着表面保护膜的状态下直接实施。
以往以来，为了在光学产品的制造工序中防止伤痕和污垢的附着，通常使用在基材膜的单面设置了粘结剂层的表面保护膜。表面保护膜是通过微粘结力的粘结剂层被贴合于光学用膜上。将粘结剂层设定为微粘结力的原因在于，为了将使用完毕的表面保护膜从光学用膜表面剥离而去除时，能够容易地进行剥离，并且为了防止粘结剂附着并残留在作为被粘附体的产品的光学用膜上(所谓的防止粘结剂残留的发生)的现象。
近年来，在液晶显示面板的生产工序中，由于将贴合于光学用膜上的表面保护膜剥离而去除时产生的剥离静电压，会破坏用于控制液晶显示器的显示画面的驱动IC等电路部件，还有液晶分子的取向会损伤，虽然这些现象发生的件数少但也在发生。
另外，为了减少液晶显示面板的电耗，液晶材料的驱动电压趋于降低，随之驱动IC的击穿电压也趋于降低。最近，要求将剥离静电压控制在+0.7kV～－0.7kV的范围内。
另外，近年来，伴随着3D显示器(立体视觉显示器)的普及，有在偏光板等光学用膜的表面贴合FPR(图案相位差膜，Film Patterned Retarder)膜的情况。剥离在偏光板等光学用膜的表面所贴合的表面保护膜后，贴合FPR膜。但是，当偏光板等的光学用膜表面被表面保护膜使用的粘结剂、抗静电剂所污染时，存在难以粘接FPR膜的问题。因此，对该用途上使用的表面保护膜而言，要求其对被粘附体的污染少。
另一方面，在一些液晶面板制造厂商中，作为表面保护膜对被粘附体的污染性的评价方法，是采用如下方法：先对偏光板等的光学用膜上贴合的表面保护膜进行剥离，在混入了气泡的状态下进行再贴合，对再贴合后的物件在规定条件下加热处理，然后剥离表面保护膜并观察被粘附体的表面。在这种评价方法中，即使被粘附体的表面污染是微量的，若在混入气泡的部分与表面保护膜的粘结剂相接触的部分之间存在被粘附体表面污染的差异，则会作为气泡痕迹(有时也称作“气泡污痕”)残留。因此，作为对被粘附体表面的污染性的评价方法，会是非常严格的评价方法。近年来，即使是以这种严格的评价方法进行判定的结果，也需要对被粘附体的表面污染性方面没有问题的表面保护膜。
为了防止从作为被粘附体的光学用膜上剥离表面保护膜时因剥离静电压高而引起的缺陷，有人提出了一种表面保护膜，其使用了含有用于降低剥离静电压的抗静电剂的粘结剂层。
例如，在专利文献1中，公开了一种使用由烷基三甲基铵盐、含羟基的丙烯酸类聚合物、聚异氰酸酯组成的粘结剂的表面保护膜。
另外，在专利文献2中，公开了一种由离子性液体和酸值为1.0以下的丙烯酸聚合物组成的粘结剂组合物、以及使用了该组合物的粘结片类。
另外，在专利文献3中，公开了一种由丙烯酸聚合物、聚醚多元醇化合物、通过阴离子吸附性化合物处理过的碱金属盐组成的粘结剂组合物、以及使用了该组合物的表面保护膜。
另外，在专利文献4中，公开了一种由离子性液体、碱金属盐、玻璃化转变温度为0℃以下的聚合物组成的粘结剂组合物、以及使用了该组合物的表面保护膜。
上述专利文献1～4中，在粘结剂层内部添加有抗静电剂。但是，粘结剂层的厚度越厚，并且随着贴合于被粘附体之后的时间推移，从粘结剂层向表面保护膜所贴合的被粘附体移动的抗静电剂量会越多。若向被粘附体移动的抗静电剂量多，则存在作为被粘附体的光学用膜的外观品位降低、或者在贴合FPR膜时FPR膜的粘接性降低的可能性。
若为了减少抗静电剂从粘结剂层向被粘附体移动的经时变化而减少粘结剂的厚度，则会产生其它问题。例如，当使用于为了防眩目而施加了防眩光处理的偏光板等表面上具有凹凸的光学用膜时，会存在如下问题：粘结剂无法追随光学用膜表面的凹凸而混入气泡，或者，由于减少光学用膜与粘结剂的粘接面积而使粘结力降低，在使用中表面保护膜浮起或剥落。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2005-131957号公报
专利文献2：日本特开2005-330464号公报
专利文献3：日本特开2005-314476号公报
专利文献4：日本特开2006-152235号公报
发明内容
发明要解决的课题
本发明就是鉴于上述情况而完成的，其课题在于，提供一种对表面上具有凹凸的光学用膜也可使用且对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性随着时间推移不发生变化的表面保护膜，并具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。
解决课题的方法
本发明人等对该课题进行了精心研究。
为了减少对被粘附体的污染并且也减少污染性的经时变化，需要降低被推测对被粘附体造成污染的抗静电剂的量。但是，当降低抗静电剂的量时，会导致从被粘附体上剥离表面保护膜时的剥离静电压变高。本发明人等研究了在不增加抗静电剂的绝对量的情况下较低地抑制从被粘附体上剥离表面保护膜时的剥离静电压的方法。
其结果发现，不在粘结剂中添加抗静电剂并进行混合而形成粘结剂层，而是涂布不包含抗静电剂的粘结剂组合物并进行干燥而层叠粘结剂层，然后以使粘结剂层与剥离剂层接触的方式贴合具有含抗静电剂的剥离剂层的剥离膜，从剥离膜侧转移适量的抗静电剂而赋予粘结剂层的表面，由此获得了能够抑制剥离时的带电量的表面保护膜，并基于上述发现完成了本发明。
即，本发明提供一种表面保护膜，其是在由具有透明性的树脂构成的基材膜的单面上形成有粘结剂层，并在该粘结剂层上贴合了具有剥离剂层的剥离膜的表面保护膜，其中，该剥离膜是在树脂膜的单面上层叠剥离剂层而成，前述剥离剂层包含以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂和由不与该剥离剂发生反应的离子性化合物构成的抗静电剂，前述抗静电剂成分从前述剥离膜向前述粘结剂层的表面转移，减少从被粘附体剥离前述粘结剂层时的剥离静电压。
另外，优选前述粘结剂层是使(甲基)丙烯酸酯共聚物交联而成。
另外，从作为被粘附体的光学用膜上剥离时的表面电位优选为+0.7kV～－0.7kV。
另外，优选从前述粘结剂层剥下时的前述剥离膜的剥离力为0.005～0.3N/50mm。
另外，本发明提供一种光学部件，其贴合有上述表面保护膜。
发明效果
本发明的表面保护膜对被粘附体的污染少，且对被粘附体的低污染性无经时变化(不会随着时间推移而发生变化)。另外，基于本发明，即使是被粘附体为AG偏光板等在表面具有凹凸的光学用膜也能够使用。另外，基于本发明的表面保护膜，可提供一种能够较低地抑制从作为被粘附体的光学用膜上剥离时产生的剥离静电压、并具有无经时劣化且优良的抗剥离静电性能的表面保护膜、以及使用了该表面保护膜的光学部件。
基于本发明的表面保护膜，能够可靠地保护光学用膜表面，因此能够实现生产效率的提高和成品率的提高。
附图说明
图1是表示本发明的表面保护膜的概念的剖面图。
图2是表示从本发明的表面保护膜剥下剥离膜后的状态的剖面图。
图3是表示本发明的光学部件的一实施例的剖面图。
附图标记的说明
1……基材膜；2……粘结剂层；3……树脂膜；4……剥离剂层；
5……剥离膜；7……抗静电剂；8……被粘附体(光学部件)；
10……表面保护膜；11……剥下剥离膜后的表面保护膜；
20……贴合了表面保护膜的光学部件。
具体实施方式
下面，基于实施方式详细说明本发明。
图1是表示本发明的表面保护膜的示意剖面图。该表面保护膜10，是在透明基材膜1的单面的表面形成有粘结剂层2。在该粘结剂层2的表面上贴合有剥离膜5，该剥离膜5是在树脂膜3的表面形成剥离剂层4而成。
作为在本发明的表面保护膜10中使用的基材膜1，使用由具有透明性和挠性的树脂构成的基材膜。由此，能够在将表面保护膜贴合于作为被粘附体的光学部件的状态下实施光学部件的外观检查。用作基材膜1的由具有透明性的树脂构成的膜，优选使用聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚间苯二甲酸乙二醇酯(polyethyleneisophthalate)、聚对苯二甲酸丁二醇酯等聚酯膜。作为该基材膜只要具有所需强度且具有光学适应性即可，除了聚酯膜以外也可以使用由其它树脂构成的膜。基材膜1既可以是未拉伸膜，也可以是被施以单轴拉伸或双轴拉伸的膜。另外，也可以将拉伸膜的拉伸倍率、拉伸膜的伴随着晶体化所形成的轴方向的取向角度控制在特定值。
对本发明的表面保护膜10中使用的基材膜1的厚度而言，并没有特别的限定，例如，优选为12～100μm左右的厚度；若为20～50μm左右的厚度则易于操作，因此更优选。
另外，根据需要，可在基材膜1的与形成有粘结剂层2的面相反侧的面上，设置用于防止表面污染的防污层、抗静电层、防止刮伤的硬涂层等。另外，在基材膜1的表面，也可以实施基于电晕放电进行的表面改性、底涂剂的涂抹等易粘接化处理。
另外，对本发明的表面保护膜10中使用的粘结剂层2而言，只要是在被粘附体的表面上进行粘接、使用完毕后可简单地剥下并且难以污染被粘附体的粘结剂层即可，并没有特别限定，但考虑到在光学用膜上贴合后的耐久性等，通常采用使(甲基)丙烯酸酯共聚物交联而成的粘结剂。
作为(甲基)丙烯酸酯共聚物，可以举出将主要单体与共聚用单体、官能性单体进行共聚而成的共聚物，其中，所述主要单体可举出丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸异壬酯等；所述共聚用单体可举出丙烯腈、醋酸乙烯酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯等；所述官能性单体可举出丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸羟乙酯、丙烯酸羟丁酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、N-羟甲基甲基丙烯酰胺等。(甲基)丙烯酸酯共聚物中，主要单体和其它单体均可以为(甲基)丙烯酸酯，也可以作为主要单体以外的单体含有一种或两种以上的除了(甲基)丙烯酸酯以外的单体。
另外，也可以使(甲基)丙烯酸酯共聚物与含有聚氧化亚烷基(polyoxyalkylene)的化合物进行共聚或者进行混合。作为可共聚的含有聚氧化亚烷基的化合物，可以举出：聚乙二醇(400)单丙烯酸酯、聚乙二醇(400)单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(400)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯、聚丙二醇(400)单丙烯酸酯、聚丙二醇(400)单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(400)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(400)甲基丙烯酸酯等。通过将这些含有聚氧化亚烷基的单体与前述(甲基)丙烯酸酯共聚物的主要单体、官能性单体进行共聚，能够获得由含有聚氧化亚烷基的共聚物所组成的粘结剂。
作为可与(甲基)丙烯酸酯共聚物进行混合的含有聚氧化亚烷基的化合物，优选为含有聚氧化亚烷基的(甲基)丙烯酸酯共聚物，更优选为含有聚氧化亚烷基的(甲基)丙烯酸类单体的聚合物，例如，可以举出聚乙二醇(400)单丙烯酸酯、聚乙二醇(400)单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(400)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯、聚丙二醇(400)单丙烯酸酯、聚丙二醇(400)单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(400)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(400)甲基丙烯酸酯等的聚合物。通过将这些含有聚氧化亚烷基的化合物与前述(甲基)丙烯酸酯共聚物进行混合，能够获得添加了含有聚氧化亚烷基的化合物的粘结剂。
对添加于粘结剂层2中的固化剂而言，作为使(甲基)丙烯酸酯共聚物交联的交联剂，可以举出异氰酸酯化合物、环氧化合物、三聚氰胺化合物、金属螯合物等。另外，作为增粘剂，可以举出松香类、香豆酮-茚类、萜烯类、石油类、酚类等。
对本发明的表面保护膜10中使用的粘结剂层2的厚度，并没有特别的限定，例如，优选为5～40μm左右的厚度，更优选为10～30μm左右的厚度。当为表面保护膜对被粘附体表面的剥离强度(粘结力)为0.03～0.3N/25mm左右的、具有微粘结力的粘结剂层2时，从被粘附体上剥离表面保护膜时的操作性优良，因此优选。另外，基于从表面保护膜10剥下剥离膜5时的操作性优良的观点，优选从粘结剂层2上剥下剥离膜5的剥离力在以剥离速度0.3m/min、剥离角度180°的条件测定时为0.005～0.3N/50mm。
另外，对本发明的表面保护膜10中使用的剥离膜5而言，是在树脂膜3的单面上层叠剥离剂层4而成，该剥离剂层4含有以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂和由不与该剥离剂发生反应的离子性化合物构成的抗静电剂。
作为树脂膜3，可以举出聚酯膜、聚酰胺膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚酰亚胺膜等，从透明性优良和价格比较低廉的观点出发，特别优选为聚酯膜。树脂膜既可以是未拉伸膜，也可以是单轴拉伸膜或双轴拉伸膜。另外，也可以将拉伸膜的拉伸倍率、拉伸膜的伴随着晶体化所形成的轴方向的取向角度控制在特定值。
对树脂膜3的厚度并没有特别的限定，例如，优选为12～100μm左右的厚度；若为16～50μm左右的厚度则易于操作，因此更优选。
另外，在树脂膜3的表面，也可以根据需要实施基于电晕放电进行的表面改性、底涂剂的涂抹等易粘接化处理。
作为构成剥离剂层4的、以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂，可以举出：含长链烷基的氨基醇酸树脂、含长链烷基的丙烯酸树脂、长链脂肪族侧基型树脂(选自聚乙烯醇、乙烯/乙烯醇共聚物、聚乙烯亚胺和含羟基的纤维素衍生物中的至少一种含活性氢的聚合物、与含长链烷基的异氰酸酯之间的反应生成物)等公知的含长链烷基的剥离剂。既可以是添加固化剂、紫外线引发剂而进行固化反应的剥离剂，也可以是使溶剂挥发而进行固化的剥离剂。
作为“长链烷基”，优选为碳原子数为8～30的烷基，碳原子数也可以是10以上、12以上、18以下、24以下等，其中，优选为直链状烷基。作为具体例子，可以举出选自癸基、十一烷基、月桂酰基、十二烷基、十三烷基、肉豆蔻基、十四烷基、十五烷基、鲸蜡基、棕榈基、十六烷基、十七烷基、硬脂酰基、十八烷基、十九烷基、二十烷基、二十二烷基等中的一种或两种以上的烷基。
作为含长链烷基的树脂系剥离剂市售的产品，例如，可以举出：ASHIO CO.,LTD.(アシオ产业株式会社)制造的ASHIO RESIN(アシオレジン)(注册商标)RA－30；一方社油脂工业株式会社制造的Piroiru(ピーロイル)(注册商标)1010、Piroiru 1010S、Piroiru1050、Piroiru HT；中京油脂株式会社制造的Resem(レゼム)N－137；花王株式会社制造的Exceparl(エキセパール)(注册商标)PS－MA；日立化成株式会社制造的Tess Fine(テスファイン)(注册商标)303等。
作为构成剥离剂层4的由离子性化合物形成的抗静电剂，优选对于以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂溶液的分散性良好，并且不阻碍以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂的固化的抗静电剂。另外，为了从剥离剂层4向粘结剂层2的表面移动而对粘结剂层赋予抗静电效果，优选是不与以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂发生反应的抗静电剂。
作为离子性化合物，是具有阳离子和阴离子的离子性化合物，其中，作为阳离子可以举出：吡啶鎓阳离子、咪唑鎓阳离子、嘧啶鎓阳离子、吡唑鎓阳离子、吡咯鎓阳离子、铵阳离子等的含氮鎓阳离子，鏻阳离子，锍阳离子等。含氮鎓阳离子也可以具有烷基等的有机基、取代基。优选为季氮鎓阳离子，可以举出：1-烷基吡啶鎓(2～6位的碳原子既可以具有取代基也可以不具有取代基)等的季吡啶鎓阳离子、1,3-二烷基咪唑鎓(2、4、5位的碳原子既可以具有取代基也可以不具有取代基)等的季咪唑鎓阳离子、N－烷基嘧啶鎓(2位和4～6位的碳原子既可以具有取代基也可以不具有取代基)等的季嘧啶鎓阳离子、1,2－二烷基吡唑鎓(3～5位的碳原子既可以具有取代基也可以不具有取代基)等的季吡唑鎓阳离子、1,1－二烷基吡咯鎓(2～5位的碳原子既可以具有取代基也可以不具有取代基)等的季吡咯鎓阳离子、四烷基铵等的季铵阳离子等。作为磷鎓阳离子，可以举出四烷基磷等具有有机基的磷鎓阳离子。作为硫鎓阳离子，可以举出三烷基锍等具有有机基的硫鎓阳离子。
另外，作为阴离子，可以举出CnH2n+1COO-、CnF2n+1COO-、NO3 -、CnF2n+1SO3 -、(CnF2n+1SO2)2N-、(CnF2n+1SO2)3C-、RC6H4SO3 -、PO4 3-、AlCl4 -、Al2Cl7 -、ClO4 -、BF4 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、SCN-等。这些离子性化合物既可以单独使用，也可以混合两种以上使用。为了离子性物质的稳定化，也可以添加含有聚氧化亚烷基结构的化合物。
抗静电剂相对于以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂的添加量，是根据抗静电剂的种类、与剥离剂的亲和性程度的不同而不同，可考虑从被粘附体上剥离表面保护膜时所需的剥离静电压、对被粘附体的污染性、粘结特性等而进行设定。
对于构成剥离剂层4的以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂和抗静电剂的混合方法并没有特别的限定。可以采用下列混合方法中的任一种方法：在以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂中，添加抗静电剂进行混合后，添加剥离剂固化用催化剂并加以混合的方法；预先采用有机溶剂稀释以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂后，添加抗静电剂以及剥离剂固化用催化剂并加以混合的方法；预先采用有机溶剂稀释以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂后，添加催化剂而进行混合，然后添加抗静电剂并加以混合的方法等。另外，根据需要，也可以添加硅烷偶联剂等粘合促进剂、含有聚氧化亚烷基的化合物等的辅助抗静电效果的材料。
对于以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂和抗静电剂的混合比率而言，并没有特别的限定，但相对于以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂的固体成分100，优选抗静电剂以固体成分计为5～150左右的比例。相对于以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂的固体成分100，若抗静电剂的以固体成分换算的添加量小于5的比例，则抗静电剂对粘结剂层表面的转移量也变少，难以使粘结剂层发挥抗静电的功能。另外，相对于以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂的固体成分100，若抗静电剂的以固体成分换算的添加量超过150的比例，则导致与抗静电剂一起以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂也会被转移至粘结剂层表面，因此，可能会降低粘结剂层的粘结特性。
本发明中在表面保护膜10的基材膜1上形成粘结剂层2的方法以及贴合剥离膜5的方法，均可采用公知的方法来进行，没有特别的限定。具体而言，可以举出：(1)将用于形成粘结剂层2的树脂组合物，涂布于基材膜1的单面上并进行干燥，形成粘结剂层后贴合剥离膜5的方法；(2)将用于形成粘结剂层2的树脂组合物涂布于剥离膜5的表面上并进行干燥，形成粘结剂层后，贴合基材膜1的方法等。可以采用其中的任一种方法。
另外，当将粘结剂层2形成于基材膜1的表面时，可采用公知的方法来进行。具体而言，能够使用逆转涂布、逗号刮刀涂布、凹版涂布、狭缝式挤压涂布、麦勒棒(Mayer bar)涂布、气刀涂布等公知的涂布方法。
另外，同样地，当将剥离剂层4形成于树脂膜3时，可以采用公知的方法来进行。具体而言，能够采用凹版涂布、麦勒棒涂布、气刀涂布等公知的涂布方法。
对具有上述构成的本发明表面保护膜10而言，从作为被粘附体的光学用膜上剥离时的表面电位优选为+0.7kV～－0.7kV。并且，更优选表面电位为+0.5kV～－0.5kV，特别优选表面电位为+0.3kV～－0.3kV。该表面电位能够通过改变剥离剂层中所含的抗静电剂的种类、添加量等来进行调整。
图2是表示从本发明的表面保护膜上剥下剥离膜的状态的剖面图。
通过将剥离膜5从如图1所示的表面保护膜10上剥下，剥离膜5的剥离剂层4所含的抗静电剂(附图标记7)的一部分，被转移(附着)至表面保护膜10的粘结剂层2的表面。因此，在图2中，以附图标记7的斑点示意性地示出了附着在表面保护膜的粘结剂层2表面的抗静电剂。通过将抗静电剂7的成分从剥离膜5转移至粘结剂层2的表面，与转移前的粘结剂层2相比，减少从被粘附体剥下粘结剂层2时的剥离静电压。此外，从被粘附体上剥下粘结剂层时的剥离静电压，可采用公知的方法进行测定。例如，在将表面保护膜贴合于偏光板等被粘附体后，在使用高速剥离试验机(TESTER产业株式会社(TESTER Sangyo Co.,Ltd.)制造)以每分钟40m的剥离速度剥离表面保护膜的同时，使用表面电位计(株式会社基恩士(KeyenceCorporation)制造)每10ms测定被粘附体表面的表面电位，并将此时的表面电位绝对值的最大值作为剥离静电压(kV)。
对本发明的表面保护膜而言，当将图2所示的剥下了剥离膜的状态的表面保护膜11贴合于被粘附体上时，被转移至该粘结剂层2表面的抗静电剂与被粘附体表面进行接触。通过该操作，能够较低地抑制再次从被粘附体上剥下表面保护膜时的剥离静电压。
图3是表示本发明的光学部件的实施例的剖面图。
将在将剥离膜5从本发明的表面保护膜10上剥下从而粘结剂层2外露的状态下，通过该粘结剂层2贴合于作为被粘附体的光学部件8上。
即，在图3中示出了贴合有本发明的表面保护膜10的光学部件20。作为光学部件，可以举出偏光板、相位差板、透镜膜、兼用作相位差板的偏光板、兼用作透镜膜的偏光板等光学用膜。这种光学部件被用作液晶显示面板等液晶显示装置、各种计量仪器类光学系统装置等的构成部件。另外，作为光学部件，还可以举出防反射膜、硬涂膜、触摸面板用透明导电膜等光学用膜。
基于本发明的光学部件，当将表面保护膜10从作为被粘附体的光学部件(光学用膜)上剥离去除时，能够充分地将剥离静电压抑制在低水平。因此，不用担心会破坏驱动IC、TFT元件、栅极线驱动电路等的电路部件，能够提高制造液晶显示面板等工序中的生产效率，确保生产工序的可靠性。
实施例
下面，通过实施例进一步说明本发明。
(表面保护膜的制造)
(实施例1)
将3.125重量份的以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂(产品名称为“TessFine 303”，日立化成株式会社制造)、0.5重量份的三正丁基甲铵双(三氟甲磺酰)亚胺(FC－4400，3M Company(スリーエム社)制造)、96.875重量份的甲苯与醋酸乙酯为50：50的混合溶剂、0.09重量份的催化剂(产品名称为“Dryer(ドライヤー)900”，日立化成株式会社制造)混合在一起并进行搅拌混合，配制了用于形成实施例1的剥离剂层的涂料。采用麦勒棒，将实施例1的剥离剂层用的涂料，以使干燥后的厚度成为0.2μm的方式，涂布在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面，并在120℃的热风循环式烘炉中干燥1分钟，获得了实施例1的剥离膜。另一方面，将丙烯酸2-乙基己酯和丙烯酸2-羟乙酯以100:4的重量比进行共聚而获得重均分子量为47万的丙烯酸酯共聚物，将该丙烯酸酯共聚物30重量份溶解于70重量份的醋酸乙酯中而获得粘结剂(固体成分含量为30％的醋酸乙酯溶液)，并相对于100重量份的该粘结剂，添加并混合了1.2重量份的HDI类固化剂(产品名称为“Coronate(コロネート、注册商标)HX”，日本聚氨酯工业株式会社(Nippon Polyurethane Industry Co.,Ltd.)制造)而形成涂抹液，将该涂抹液以使干燥后的厚度成为20μm的方式涂布于厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面，然后通过100℃的热风循环式烘炉干燥2分钟，从而形成了粘结剂层。然后，在该粘结剂层的表面，贴合了上述制造的实施例1的剥离膜的剥离剂层(剥离剂处理面)。在40℃的环境下将所得到的粘结膜保温5天，以使粘结剂固化，获得了实施例1的表面保护膜。
(实施例2)
将1.5重量份的以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂(产品名称为“Piroiru 1010S”，一方社油脂工业株式会社制造)、0.5重量份的三正丁基甲铵双(三氟甲磺酰)亚胺(FC－4400，3M Company(スリーエム社)制造)、98重量份的甲苯与醋酸乙酯与异丙醇为50:40:10的混合溶剂混合在一起并进行搅拌混合，配制了用于形成实施例2的剥离剂层的涂料。采用麦勒棒，将实施例2的剥离剂层用的涂料，以使干燥后的厚度成为0.2μm的方式，涂布在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面，并在120℃的热风循环式烘炉中干燥1分钟，获得了实施例2的剥离膜。除了使用实施例2的剥离膜代替实施例1的剥离膜以外，与实施例1同样地进行操作，获得了实施例2的保护膜。
(比较例1)
将3.125重量份的以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂(产品名称为“TessFine 303”，日立化成株式会社制造)、96.875重量份的甲苯与醋酸乙酯为50：50的混合溶剂、0.09重量份的催化剂(产品名称为“Dryer(ドライヤー)900”，日立化成株式会社制造)混合在一起并进行搅拌混合，配制了形成比较例1的剥离剂层的涂料。采用麦勒棒，将比较例1的剥离剂层用的涂料，以使干燥后的厚度成为0.2μm的方式，涂布在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面，并在120℃的热风循环式烘炉中干燥1分钟，获得了实施例1的剥离膜。另一方面，相对于100重量份实施例1的粘结剂(固体成分含量为30％的醋酸乙酯溶液)，添加并混合了1.5重量份的三正丁基甲铵双(三氟甲磺酰)亚胺(FC－4400，3M Company(スリーエム社)制造)、1.2重量份的HDI类固化剂(产品名称为“Coronate(コロネート)(注册商标)HX”，日本聚氨酯工业株式会社(Nippon Polyurethane Industry Co.,Ltd.)制造)而形成涂抹液，并将该涂抹液以使干燥后的厚度成为20μm的方式涂布于厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面，然后通过100℃的热风循环式烘炉干燥2分钟，从而形成了粘结剂层。然后，在该粘结剂层的表面，贴合了上述所制造的比较例1的剥离膜的剥离剂层(聚硅氧烷处理面)。将所得到的粘着膜在40℃的环境下保温5天，以使粘结剂固化，获得了比较例1的表面保护膜。
(比较例2)
除了在剥离剂层中不添加三正丁基甲铵双(三氟甲磺酰)亚胺以外，与实施例2同样地进行操作，获得了比较例2的表面保护膜。
下面，示出评价试验的方法和结果。
(粘结剂层的表面电阻率的测定方法)
采用三菱化学株式会社制造的Hiresta(ハイレスタ，注册商标)-UP，在外加电压100V、测定时间30秒的条件下，测定了表面保护膜的粘结剂层的表面电阻率。测定时，将贴合了粘结剂层和剥离剂层而成的粘结膜在40℃的环境下保温5天，然后从粘结膜上剥下剥离膜，测定了粘结膜的粘结剂层的表面电阻率。
〈剥离膜的剥离力的测定方法〉
以宽度50mm、长度150mm的尺寸切割表面保护膜的试样。在23℃×50％RH的试验环境下，使用拉伸试验机以300mm/分钟的剥离速度向180°方向剥掉剥离膜，测定此时的强度，并将其作为剥离膜的剥离力(N/50mm)。
〈表面保护膜的粘结力的测定方法〉
采用贴合机在玻璃板表面贴合了防眩低反射处理过的偏光板(AG-LR偏光板)。然后，将切割成宽度为25mm的表面保护膜贴合于偏光板的表面后，在23℃×50％RH的试验环境下保管1天。然后，使用拉伸试验机以300mm/分钟的剥离速度向180°方向剥离表面保护膜，测定此时的强度，并将其作为粘结力(N/25mm)。
〈表面保护膜的剥离静电压的测定方法〉
采用贴合机在玻璃板表面贴合了防眩低反射处理过的偏光板(AG-LR偏光板)。然后，将切割成宽度为25mm的表面保护膜贴合于偏光板的表面后，在23℃×50％RH的试验环境下保管1天。然后，在使用高速剥离试验机(TESTER产业株式会社(TESTER Sangyo Co.,Ltd.)制造)以每分钟40m的剥离速度剥离表面保护膜的同时，使用表面电位计(株式会社基恩士(Keyence Corporation)制造)每10ms测定前述偏光板表面的表面电位，并将此时的表面电位绝对值的最大值作为剥离静电压(kV)。
〈表面保护膜的表面污染性的确认方法〉
采用贴合机在玻璃板表面贴合了防眩低反射处理过的偏光板(AG-LR偏光板)。然后，将切割成宽度为25mm的表面保护膜贴合于偏光板的表面后，在23℃×50％RH的试验环境下保管3天和30天。然后，剥下表面保护膜，通过目测观察了偏光板表面上有无污染，确认了表面污染性。作为表面污染性的判定基准，当偏光板上无污染转移时判定为(○)，当确认偏光板上有污染的转移时判定为(×)。
对所得到的实施例1～2和比较例1～2的表面保护膜进行测定，并将测定结果示于表1中。其中，“2EHA”是指丙烯酸2-乙基己酯，“HEA”是指丙烯酸-2-羟乙酯，“303”是指TessFine 303，“AS剂”是指三正丁基甲铵双(三氟甲磺酰)亚胺，“Dryer”是指Dryer 900，“1010S”是指Piroiru 1010S。
另外，表中的表面电阻率的OR是“Over Range(超出额定范围)”的简写，是指超出了表面电阻仪(Hiresta(ハイレスタ)－UP)的测定范围，意思是表面电阻率为1E+13Ω/□以上。另外，表面电阻率是通过JIS X 0210规定的指数记数法进行了表记。例如，2.0E+12是指2.0×10的12次乘方。
表1
表面电阻率：单位是Ω/□，2.0E+12的表记是指2.0×10的12次乘方。
根据表1所示的测定结果，可知下述情况。
本发明的实施例1～2的表面保护膜具有适当的粘结力，并对被粘附体表面没有污染，且从被粘附体上剥离表面保护膜时的剥离静电压低。另一方面，对于粘结剂层中添加了抗静电剂的比较例1的表面保护膜而言，虽然从被粘附体上剥离表面保护膜时的剥离静电压低而良好，但剥离后对被粘附体的污染多。另外，在未使用抗静电剂的比较例2中，虽改善了对被粘附体的污染性，但从被粘附体上剥离表面保护膜时的剥离静电压高。
工业实用性
本发明的表面保护膜，例如，能够应用于偏光板、相位差板、透镜膜等的光学用膜中，此外，在各种光学部件等的生产工序等中，贴合于该光学部件等而用于保护其表面。另外，本发明的表面保护膜，能够减少从被粘附体上剥离时产生的静电量，并且，抗剥离静电性能无经时变化且对被粘附体的污染少，能够提高生产工序的成品率，在产业上的利用价值大。

Claims (5)

1.一种表面保护膜，其是在由具有透明性的树脂构成的基材膜的单面上形成有粘结剂层，并在该粘结剂层上贴合了具有剥离剂层的剥离膜的表面保护膜，其中，
该剥离膜是在树脂膜的单面上层叠剥离剂层而成，所述剥离剂层包含以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂和由不与该剥离剂发生反应的离子性化合物构成的抗静电剂，
通过将所述剥离膜从所述表面保护膜上剥下，所述抗静电剂成分的一部分从所述剥离膜向所述粘结剂层的表面转移，减少将所述粘结剂层从被粘附体剥离时的剥离静电压。
2.如权利要求1所述的表面保护膜，其中，所述粘结剂层是使(甲基)丙烯酸酯共聚物交联而成。
3.如权利要求1或2所述的表面保护膜，其中，从作为被粘附体的光学用膜剥离时的表面电位是+0.7kV～－0.7kV。
4.如权利要求1或2所述的表面保护膜，其中，从所述粘结剂层剥离时的所述剥离膜的剥离力为0.005～0.3N/50mm。
5.一种光学部件，其贴合有权利要求1～4中任一项所述的表面保护膜。
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