CN103421436B - 表面保护膜、以及贴合有该表面保护膜的光学部件 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种对被粘附体的污染少、不会经时劣化且具有优异的防剥离静电性能的表面保护膜、以及使用该表面保护膜的光学部件。在透明基材膜（1）的单面形成有粘结剂层（2），在该粘结剂层（2）上贴合有剥离膜（5）的表面保护膜（10）中，粘结剂层（2）含有防静电剂，剥离膜（5）是在树脂膜（3）的单面层叠剥离剂层（4）而成，所述剥离剂层（4）包含以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂和20℃温度下是液体的有机硅类化合物（7）。粘结剂层（2）由与含有聚氧化烯基的化合物共聚合的（甲基）丙烯酸类聚合物形成、或者由混合了含有聚氧化烯基的化合物的（甲基）丙烯酸类聚合物形成。

Description

表面保护膜、以及贴合有该表面保护膜的光学部件

技术领域

本发明涉及贴合在偏光板、相位差板、显示器用透镜膜等光学部件（下面，也称为“光学用膜”）的表面的表面保护膜。更详细而言，本发明提供一种对被粘附体污染少、不会经时劣化且具有优异的防剥离静电性能的表面保护膜、以及使用该表面保护膜的光学部件。

背景技术

在制造和搬送使用了偏光板、相位差板、显示器用透镜膜、防反射膜、硬涂膜、触控面板用透明导电性膜等光学用膜的显示器等光产学品时，通过在上述光学用膜的表面贴合表面保护膜，来防止后续工序中的表面污染或划痕。在制造光学用膜时的外观检查中，为了省略剥掉表面保护膜并再次贴合的时间而提高作业效率，有时还会在光学用膜上贴合表面保护膜的状态下作业。

以往，在光学产品的制造工序中，为了防止损伤或污染物的附着，通常使用在基材膜的单面设有粘结剂层的表面保护膜。表面保护膜通过具有微粘结力的粘结剂层贴合在光学用膜上。之所以使用具有微粘结力的粘结剂层，是因为当将已经用完的表面保护膜从光学用膜的表面剥离并去除时，能够容易地进行剥离，且能够防止粘结剂附着并残留在作为被粘附体的光学用膜产品（所谓的防止残胶的产生）。

近年来，在液晶显示器面板的生产工序中，由于在剥离并去除贴合在光学用膜上的表面保护膜时所产生的剥离静电压，用于控制液晶显示画面的驱动集成电路（driverintegratedcircuit）等电路部件受损的现象、或液晶分子的取向受损的现象，虽然发生的件数少，但毕竟还是在发生。

另外，为了减少液晶显示器面板的耗电，液晶材料的驱动电压变低，驱动集成电路的击穿电压（breakdownvoltage）也随之变低。最近，还要求将剥离静电压控制在＋0.5kV～－0.5kV的范围内。

另一方面，在移动电话或智能手机等移动终端中，为了观看动画或在户外使用，要求高精细化、高对比度化的显示器。并且，在电视机等大型显示器中，由于追求大屏幕化或现场感，因而也要求高精细化、高对比度化。随着显示器的高精细化、高对比度化，对显示器面板所使用的部件的外观品质（异物、缺点的管理）的要求内容也变高。例如，以往，是在普通荧光灯下，通过肉眼来进行外观检查，但现在是通过在暗室使用三波长荧光灯、或手电筒、特定波长的灯来进行检查等，从而检测出在以往的外观检查中无法确认的污染或缺点。

随着显示器的高精细化、高对比度化，所使用的偏光板等光学膜的规格也正在变化。从以往的表面经过透明硬涂膜处理的偏光板或表面经过防眩光（AntiGlare，AG）处理的偏光板，到现在的表面为低反射处理品的低反射（LowReflective，LR）偏光板或防眩光-低反射（AG-LR）偏光板的使用比例增加。在低反射偏光板或防眩光-低反射偏光板中，在剥离表面保护膜时的静电压与以往的表面经过硬涂处理的偏光板或表面经过防眩光处理的偏光板相比，有变高的倾向。并且，与以往的表面经过硬涂处理的偏光板或表面经过防眩光处理的偏光板相比，具有容易观察对被粘附体的表面造成的污染的倾向。即使在以往使用表面经过硬涂处理的偏光板或表面经过防眩光处理的偏光板时不成问题的表面保护膜，在使用于低反射偏光板或防眩光-低反射偏光板的情况下，也存在产生剥离时的静电压或对被粘附体的表面造成污染的问题。

如此地，随着显示器面板所使用的部件的变更或所要求的外观特性的高度化，对贴合在光学部件的表面保护膜的要求性能也正在变化。

最近，要求一种如下的表面保护膜：在从作为被粘附体的光学用膜剥离表面保护膜时，能够抑制剥离静电压较低，且对光学膜等被粘附体的污染非常小的表面保护膜。为了在从作为被粘附体的光学用膜（光学部件）剥离表面保护膜时，防止因剥离静电压高而导致缺陷，提出了一种将包含用于抑制剥离静电压较低的防静电剂的粘结剂层加以层叠成而的表面保护膜。

例如，在专利文献1中，公开了使用由烷基三甲基铵盐、含羟基丙烯酸类聚合物、聚异氰酸酯构成的粘结剂的表面保护膜。

另外，在专利文献2中，公开了由离子性液体和酸价为1.0以下的丙烯酸聚合物构成的粘结剂组合物、以及使用了该粘结剂组合物的粘结片类。

另外，在专利文献3中，公开了由丙烯酸聚合物、聚醚多元醇化合物、用阴离子吸附性化合物进行处理的碱金属盐构成的粘结组合物、以及使用了该粘结组合物的表面保护膜。

另外，在专利文献4中，公开了由离子性液体、碱金属盐、玻璃化转变温度为0℃以下的聚合物构成的粘结剂组合物、以及使用了该粘结剂组合物的表面保护膜。

另外，在专利文献5和专利文献6中，公开了在表面保护膜的粘结剂层中混合聚醚改性有机硅的内容。

在上述专利文献1～专利文献4中，虽然在粘结剂层的内部添加有防静电剂，但是，随着粘结剂层的厚度变厚，且随着时间的经过，相对于贴合有表面保护膜的被粘附体，从粘结剂层向被粘附体移动的防静电剂的量变多。并且，在低反射偏光板或防眩光-低反射偏光板等光学用膜所使用的表面保护膜中，由于利用有机硅化合物或氟化合物等对光学用膜的表面进行了防污染处理，因此，从被粘附体剥离这种光学用膜所使用的表面保护膜时，剥离静电压变高。

另外，如专利文献5和专利文献6所述，在粘结剂层中混合有聚醚改性有机硅的情况下，很难对表面保护膜的粘结力进行微调整。并且，由于粘结剂层内混合有聚醚改性有机硅，因而若在基材膜上涂布/干燥粘结剂组合物的条件发生变化，则形成于表面保护膜的粘结剂层的表面特性发生微妙的变化。进而，从保护光学用膜表面的观点来看，无法使粘结剂层的厚度变得极薄。为此，必须根据粘结剂层的厚度，增加混合在粘结剂层内的聚醚改性有机硅的添加量。其结果，容易对被粘附体的表面造成污染，且经时粘结力、对被粘附体的污染性发生变化。

为此，需要如下所述的表面保护膜：一种在低反射偏光板或防眩光-低反射偏光板等光学用膜中使用的表面保护膜，即使光学用膜的表面经过了由有机硅化合物或氟化合物等进行的防污染处理，也能够抑制从光学用膜剥离表面保护膜时的剥离静电压较低，且对被粘附体的污染少。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2005-131957号公报

专利文献2：日本特开2005-330464号公报

专利文献3：日本特开2005-314476号公报

专利文献4：日本特开2006-152235号公报

专利文献5：日本特开2009-275128号公报

专利文献6：日本专利第4537450号公报

发明内容

为了解决上述问题，本发明人等进行了深入的研究。考虑到从光学用膜剥离表面保护膜时所产生的剥离静电压是随着重叠物质的摩擦电序（triboelectricseries）离得越远就越大，因此，试着在粘结剂层的表面形成摩擦电序与光学用膜的表面材质相近的物质。

其结果发现，不形成将聚醚改性聚硅氧烷（polyether-modifiedpolysiloxane(s)）混合在粘结剂组合物的粘结剂层，而是在涂布粘结剂组合物并使其干燥而层叠粘结剂层后，在粘结剂层的表面赋予适量的聚醚改性聚硅氧烷，基于此，能够抑制从光学用膜剥离表面保护膜时的剥离静电压较低，由此完成了本发明。

本发明是鉴于上述背景提出的，其课题在于提供对被粘附体污染少、不会产生经时劣化且具有优秀的防剥离静电性能的表面保护膜、以及使用了该表面保护膜的光学部件。

另外，本发明的课题在于提供一种表面保护膜，其对即使是低反射偏光板、防眩光-低反射偏光板等利用硅化合物或氟化合物等对表面进行防污染处理的光学用膜，也能够抑制剥离静电压较低。

为了解决上述课题，本发明的表面保护膜，在基材膜的单面涂布含有防静电剂的粘结剂组合物并使其干燥而层叠粘结剂层之后，在粘结剂层的表面赋予适量的20℃温度下是液体的有机硅类化合物，由此抑制从光学用膜剥离表面保护膜时的剥离静电压较低。

为了解决上述课题，本发明提供一种表面保护膜，其在透明基材膜的单面形成有粘结剂层，在该粘结剂层上贴合有剥离膜，其中，上述粘结剂层含有防静电剂，上述剥离膜是在树脂膜的单面层叠剥离剂层而成，该剥离剂层含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂和20℃温度下是液体的有机硅类化合物。

另外，优选地，上述有机硅类化合物为聚醚改性聚硅氧烷。

另外，优选地，上述粘结剂层由与含有聚氧化烯（polyoxyalkylene）基的化合物共聚合的（甲基）丙烯酸类聚合物形成、或者由混合有含有聚氧化烯基的化合物的（甲基）丙烯酸类聚合物形成。

另外，优选地，上述防静电剂为碱金属盐。

另外，优选地，上述含有聚氧化烯基的化合物是含有聚氧化烯基的（甲基）丙烯酸类单体或聚合物。

另外，优选地，将上述剥离膜剥离之后的上述粘结剂层的表面电阻率小于1×10¹³（Ω/□）。

另外，本发明提供贴合有上述表面保护膜的光学部件。

发明效果

对本发明的表面保护膜而言，即使是低反射偏光板或防眩光-低反射偏光板等利用有机硅化合物或氟化合物等对表面进行防污染处理的光学膜，也能够将从作为被粘附体的光学用膜剥离表面保护膜时所产生的剥离静电压抑制为较低。另外，能够提供对被粘附体污染少、不会产生经时劣化且具有优异的防剥离静电性能的表面保护膜、以及使用了该表面保护膜的光学部件。

其结果，若使用本发明的表面保护膜，能够可靠地保护光学用膜的表面，从而提高生产率和成品率。

附图说明

图1是本发明的表面保护膜的示意剖面图。

图2是表示从本发明的表面保护膜剥掉剥离膜的状态的示意剖面图。

图3是表示本发明的光学部件的一个实施例的剖面图。

其中，附图标记说明如下：

1：基材膜

2：粘结剂层

3：树脂膜

4：剥离剂层

5：剥离膜

7：20℃温度下是液体的有机硅类化合物

8：被粘附体（光学部件）

10：表面保护膜

11：剥掉剥离膜的表面保护膜

20：贴合有表面保护膜的光学部件

具体实施方式

下面，根据实施方式，对本发明进行详细的说明。

图1是本发明的表面保护膜的示意剖面图。上述表面保护膜10中，在透明基材膜1的单表面形成有粘结剂层2。在该粘结剂层2的表面贴合有剥离膜5，所述剥离膜5是在树脂膜3的表面形成有剥离剂层4的剥离膜。

作为本发明的表面保护膜10所使用的基材膜1，使用具有透明性和可挠性的塑料膜。基于此，可以在将表面保护膜贴合在作为被粘附体的光学部件的状态下进行光学部件的外观检查。优选作为基材膜1使用的塑料膜是聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚间苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等的聚酯膜。除了聚酯膜以外，只要具有所需的强度和光学适应性，也可以使用其他塑料膜。基材膜1可以是未拉伸的膜，也可以是单轴拉伸膜或双轴拉伸膜。另外，也可以将拉伸膜的拉伸倍率、随着拉伸膜的结晶化而形成的轴向的取向角控制为特定值。

对本发明的表面保护膜10所使用的基材膜1的厚度并没有特别的限制，但是，例如优选为12μm～100μm左右的厚度，更优选为20μm～50μm左右的厚度，此时，更便于操作。

另外，根据需要，可以在基材膜1的与形成有粘结剂层2的一面相反侧的面上，设置用于防止表面污染的防污层、防静电层、用于防止划痕的硬涂层等。并且，也可以在基材膜1的表面进行诸如基于电晕放电进行的表面改性、涂布增粘涂剂等易粘接处理。

另外，本发明的表面保护膜10所使用的粘结剂层2，是由与含有聚氧化烯基的化合物共聚合的（甲基）丙烯酸类聚合物形成、或者由混合有含有聚氧化烯基的化合物的（甲基）丙烯酸类聚合物形成，并根据需要，添加了固化剂、增粘剂的粘结剂。也可以并用共聚合和混合。

作为（甲基）丙烯酸类聚合物，通常可以使用由丙烯酸正丁酯、丙烯酸-2-乙基己酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸异壬酯等主单体，和丙烯腈、乙酸乙烯酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯等共聚用单体，丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸羟乙酯、丙烯酸羟丁酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、N-羟甲基甲基丙烯酰胺等官能性单体进行共聚合而成的聚合物。

作为可以与（甲基）丙烯酸类聚合物进行共聚合的含有聚氧化烯基的化合物，优选为含有聚氧化烯基的（甲基）丙烯酸类单体，例如，可举出聚乙二醇（400）单丙烯酸酯、聚乙二醇（400）单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇（400）丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇（400）甲基丙烯酸酯、聚丙二醇（400）单丙烯酸酯、聚丙二醇（400）单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇（400）丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇（400）甲基丙烯酸酯等。通过将这些含有聚氧化烯基的单体与上述（甲基）丙烯酸类聚合物的主单体或官能性单体进行共聚合，能够得到由含有聚氧化烯基的共聚物形成的粘结剂。

作为可以与（甲基）丙烯酸类聚合物进行混合的含有聚氧化烯基的化合物，优选为含有聚氧化烯基的（甲基）丙烯酸类聚合物，更优选为含有聚氧化烯基的（甲基）丙烯酸类单体的聚合物，例如，可举出聚乙二醇（400）单丙烯酸酯、聚乙二醇（400）单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇（400）丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇（400）甲基丙烯酸酯、聚丙二醇（400）单丙烯酸酯、聚丙二醇（400）单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇（400）丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇（400）甲基丙烯酸酯等聚合物。通过将这些含有聚氧化烯基的化合物与上述（甲基）丙烯酸类聚合物进行混合，能够得到添加了含有聚氧化烯基的化合物的粘结剂。

本发明的表面保护膜的粘结剂层2含有防静电剂。作为防静电剂，优选为相对于（甲基）丙烯酸类聚合物具有优秀的分散性或相溶性的防静电剂。作为可以使用的防静电剂的具体例，可例举表面活性剂类、离子性液体、碱金属盐、金属氧化物、金属微粒子、导电性聚合物、碳、碳纳米管等，考虑到透明性、对（甲基）丙烯酸类聚合物的亲和性等，优选使用碱金属盐。

作为碱金属盐，可例举由锂、钠、钾形成的金属盐，具体而言，例如，优选使用由Li⁺、Na⁺、K⁺的阳离子和Cl^-、Br^-、I^-、BF₄ ^-、PF₆ ^-、SCN^-、ClO₄ ^-、CF₃SO₃ ^-、（CF₃SO₂）₂N^-、（C₂F₅SO₂）₂N^-、（CF₃SO₂）₃C^-的阴离子形成的金属盐。其中，特别优选使用LiBr、LiI、LiBF₄、LiPF₆、LiSCN、LiClO₄、LiCF₃SO₃、Li（CF₃SO₂）₂N、Li（C₂F₅SO₂）₂N、Li（CF₃SO₂）₃C等锂盐。这些碱金属盐可以单独使用或者混合两种以上而使用。为了离子性物质的稳定化，也可以添加含有聚氧化烯结构的化合物。

防静电剂相对于（甲基）丙烯酸类聚合物等基础聚合物（basepolymer）的添加量，是根据防静电剂的种类、与基础聚合物的相溶性的程度而有所不同，可以考虑从被粘附体剥离表面保护膜时所希望的剥离静电压、对被粘附体的污染性、粘结特性等而设定。

作为向粘结剂层2添加的固化剂，可例举异氰酸酯化合物、环氧化合物、三聚氰胺化合物、金属螯合物等。另外，作为增粘剂，可例举如松香类、香豆酮-茚类、萜烯类、石油类、酚类等。

另外，对本发明的表面保护膜10所使用的粘结剂层2的厚度并没有特别的限制，但是，例如，优选为5μm～40μm左右的厚度，更优选为10μm～30μm左右的厚度。当表面保护膜相对于被粘附体表面的剥离强度为0.03N/25mm～0.3N/25mm左右的、具有微粘结力的粘结剂层2时，从表面保护膜10剥掉剥离膜5时和从被粘附体剥掉表面保护膜时的操作性优秀，因而优选。

另外，本发明的表面保护膜10所使用的剥离膜5中，在树脂膜3的单面形成有剥离剂层4，该剥离剂层4是使用以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂和20℃温度下是液体的有机硅类化合物的混合物形成。作为树脂膜，可例举聚酯膜、聚酰胺膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚酰亚胺膜等，考虑到透明性优秀、价格相对低廉，特别优选为聚酯膜。

另外，作为将二甲基聚硅氧烷用作主要成分的剥离剂，可例举加成反应型、缩合反应型、阳离子聚合型、自由基聚合型等公知的有机硅类剥离剂。作为加成反应型有机硅类剥离剂的市售品，可例举KS-776A、KS-847T、KS-779H、KS-837、KS-778、KS-830（信越化学工业株式会社制）；SRX-211、SRX-345、SRX-357、SD7333、SD7220、SD7223、LTC-300B、LTC-350G、LTC-310（东丽道康宁株式会社制）等。作为缩合反应型的市售品，可例举SRX-290、SYLOFF-23（东丽道康宁株式会社制）等。作为阳离子聚合型的市售品，可例举TPR-6501、TPR-6500、UV9300、UV9315、UV9430（迈图高新材料集团公司制）；X62-7622（信越化学工业株式会社制）等。作为自由基聚合型的市售品，可例举X62-7205（信越化学工业株式会社制）等。

另外，在树脂膜3的单面形成有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂层4。上述剥离剂层4中含有20℃温度下是液体的有机硅类化合物7。作为20℃温度下是液体的有机硅类化合物，优选为改性有机硅化合物，可例举聚醚改性聚硅氧烷、烷基改性有机硅、甲醇改性有机硅等。在本发明中，为了提高粘结剂层表面的抗静电性能，使用相溶在以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂层4中的、20℃温度下是的液体的有机硅类化合物7。考虑到本发明的用途，在改性有机硅化合物中优选使用聚醚改性聚硅氧烷。聚醚改性聚硅氧烷中的聚醚链由环氧乙烷（氧化乙烯、ethyleneoxide）、环氧丙烷（氧化丙烯、propyleneoxide）等构成，例如，通过选择用于侧链的聚氧化乙烯（polyethyleneoxide）的分子量、与聚硅氧烷链的重量比等，来调整所需的疏水性等物理性质。

另外，作为聚醚改性聚硅氧烷，可例举聚醚改性二甲基聚硅氧烷、聚醚改性甲基烷基聚硅氧烷、聚醚改性甲基苯基聚硅氧烷等。作为聚醚改性聚硅氧烷的市售品，可例举KF-351A、KF-352A、KF-353、KF-354L、KF-355A、KF-642（信越化学工业株式会社制）；SH8400、SH8700、SF8410（东丽道康宁株式会社制）；TSF-4440、TSF-4441、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4450（迈图高新材料公司制）；BYK-300、BYK-306、BYK-307、BYK-320、BYK-325、BYK-330（毕克化学公司制）等。

以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂与聚醚改性聚硅氧烷等20℃温度下是液体的有机硅类化合物的混合方法并没有特别的限制。作为该混合方法，可采用下述方法中的任一种：在以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂中添加20℃温度下是液体的有机硅类化合物并加以混合后，添加剥离剂固化用催化剂并进行混合的方法；预先用有机溶剂稀释以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂之后，添加20℃温度下是的液体的有机硅类化合物和剥离剂固化用催化剂并进行混合的方法；预先用有机溶剂稀释以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂之后，添加催化剂并加以混合，然后添加20℃温度下是液体的有机硅类化合物并进行混合的方法等。并且，根据需要，也可以添加硅烷偶联剂等粘结增强剂。

作为在本发明的表面保护膜10的基材膜1上形成粘结剂层2的方法以及贴合剥离膜5的方法，可以使用公知的方法，并没有特别的限制。具体而言，可例举如下方法：在基材膜1的单面涂布用于形成粘结剂层2的树脂组合物并使其干燥而形成粘结剂层之后，贴合剥离膜5的方法；在剥离膜5的表面涂布用于形成粘结剂层2的树脂组合物并使其干燥而形成粘结剂层之后，贴合基材膜1的方法等，可采用这些方法中的任一种。

另外，可以使用公知的方法在基材膜1的表面形成粘结剂层2。具体而言，可以使用反向涂布、逗点涂布、凹版涂布、狭缝挤压式涂布、线棒式涂布、气刀涂布等公知的涂布方法。

同样地，可以使用公知的方法在树脂膜3上形成剥离剂层4。具体而言，可以使用凹版涂布、线棒式涂布、气刀涂布等公知的涂布方法。

具有上述构成的本发明的表面保护膜10在从作为被粘附体的光学用膜剥离时的表面电位优选为＋0.5kV～－0.5kV。进而，表面电位更优选为＋0.3kV～－0.3kV，表面电位特别优选为＋0.1kV～－0.1kV。通过增加或减少粘结剂层中所包含的防静电剂的种类或含量、以及剥离膜的剥离剂层中所包含的聚醚改性聚硅氧烷的种类、添加量等，可调整上述表面电位。

图2是表示从本发明的表面保护膜剥掉剥离膜的状态的示意性剖面图。

通过从图1所示的表面保护膜10剥掉剥离膜5，形成于剥离膜5的剥离剂层4中所包含的20℃温度下是液体的有机硅类化合物7的一部分，附着在表面保护膜10的粘结剂层2的表面。因此，在图2中利用斑点示意性地示出了附着在表面保护膜的粘结剂层2表面的、20℃温度下是液体的有机硅类化合物7。

在本发明的表面保护膜中，当将图2所示的剥掉了剥离膜的状态的表面保护膜11贴合在被粘附体时，附着在该粘结剂层2表面的20℃温度下是液体的有机硅类化合物7与被粘附体的表面相接触。由此，可以再次将从被粘附体剥掉表面保护膜时的剥离静电压抑制为较低。

图3是表示本发明的光学部件的实施例的剖面图。

在从本发明的表面保护膜10剥掉剥离膜5从而粘结剂层2露出的状态下，通过该粘结剂层2贴合在作为被粘附体的光学部件8上。

即，图3示出了贴合有本发明的表面保护膜10的光学部件20。作为光学部件，可例举偏光板、相位差板、透镜膜、相位差板兼用偏光板、透镜膜兼用偏光板等光学膜。这种光学部件可作为液晶显示器面板等液晶显示装置、各种仪器类的光学装置等的构成部件使用。另外，作为光学部件，还可以例举防反射膜、硬涂膜、触控面板用透明导电性膜等。特别是，优选作为贴合在光学膜的经过防污染处理的面上的表面保护膜来使用，所述光学膜是表面经过了由有机硅化合物或氟化合物等进行的防污染处理的低反射处理偏光板（LR偏光板）或防眩光-低反射处理偏光板（AG-LR偏光板）等的光学膜。

根据本发明的光学部件，在从作为被粘附体的光学部件（光学膜）剥离去除表面保护膜10时，能够抑制剥离静电压充分低，因此，不存在损坏驱动集成电路、TFT（ThinFilmTransistor，薄膜场效应晶体管）器件、栅极线驱动电路等电路部件的担忧，能够提高制造液晶显示器面板等的工序中的生产效率，能够确保生产工序的可靠性。

实施例

下面，通过实施例，进一步说明本发明。

实施例1

粘结剂组合物的制造

在具有搅拌叶片、温度计、氮气导入管、冷却器的四口烧瓶中，加入丙烯酸-2-乙基己酯90重量份、甲氧基聚乙二醇（400）单甲基丙烯酸酯10重量份、丙烯酸-2-羟乙酯3重量份、作为聚合引发剂的2,2′-偶氮二异丁腈0.2重量份、乙酸乙酯154重量份，边导入氮气边搅拌内容物，升温至65℃。进而，在65℃左右的温度下进行6小时的聚合反应，由此得到含有聚氧化烯基的丙烯酸聚合物。将所得到的含有聚氧化烯基的丙烯酸聚合物100重量份与作为防静电剂的高氯酸锂0.1重量份搅拌混合，由此制造出实施例1的粘结剂组合物（固体成分40%）。

表面保护膜的制造

将加成反应型的有机硅（东丽道康宁株式会社制，商品名：SRX-345）3重量份、聚醚改性聚硅氧烷（东丽道康宁株式会社制，商品名：SH8400）0.1重量份、甲苯与乙酸乙酯的1：1混合溶剂97重量份、铂催化剂（东丽道康宁株式会社制，商品名：SRX-212）0.03重量份进行搅拌混合，来调配用于形成实施例1的剥离剂层的涂料。在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面，以使干燥后的厚度达到0.1μm的方式，用线棒涂布实施例1的剥离剂层用涂料，通过120℃的热风循环式烘箱干燥1分钟，由此得到实施例1的剥离膜。另一方面，将相对于实施例1的粘结剂组合物100重量份添加HDI类固化剂（日本聚氨酯工业株式会社制，商品名：CORONATEHX）1.2重量份并加以混合而成的涂布液，以使干燥后的厚度达到20μm的方式，涂布在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面后，利用100℃的热风循环式烘箱干燥2分钟，由此形成粘结剂层。然后，在该粘结剂层的表面贴合上述制造的实施例1的剥离膜的剥离剂层（有机硅处理面），由此得到实施例1的表面保护膜。

实施例2

使用双（三氟甲烷磺酰）亚胺锂1.5重量份来代替实施例1的粘结剂组合物的高氯酸锂0.1重量份，由此制造出实施例2的粘结剂组合物（固体成分40%）。

除了利用实施例2的粘结剂组合物来代替实施例1的粘结剂组合物之外，通过与实施例1相同的方法，得到了实施例2的表面保护膜。

实施例3

将加成反应型的有机硅（东丽道康宁株式会社制，商品名：SRX-211）3重量份、聚醚改性聚硅氧烷（信越化学工业株式会社制，商品名：KF352A）0.1重量份、甲苯与乙酸乙酯的1：1混合溶剂97重量份、铂催化剂（东丽道康宁株式会社制，商品名：SRX-212）0.03重量份进行搅拌混合，来调配用于形成实施例3的剥离剂层的涂料。在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面，以使干燥后的厚度达到0.1μm方式，利用线棒涂布实施例3的剥离剂层用涂料后，通过120℃的热风循环式烘箱干燥1分钟，由此得到了实施例3的剥离膜。

除了使用实施例3的剥离膜来代替实施例1的剥离膜之外，通过与实施例1相同的方法，得到了实施例3的表面保护膜。

比较例1

除了在实施例1的粘结剂组合物中没有添加高氯酸锂之外，通过与实施例1相同的方法，得到了比较例1的表面保护膜。

比较例2

除了用丙烯酸丁酯来代替实施例1的粘结剂组合物中的甲氧基聚乙二醇（400）单甲基丙烯酸酯之外，通过与实施例1相同的方法，制造出比较例2的粘结剂组合物（固体成分40%）。

除了使用比较例2的粘结剂组合物来代替实施例1的粘结剂组合物以外，通过与实施例1相同的方法，得到了比较例2的表面保护膜。

比较例3

除了在制造实施例1的剥离膜时不添加聚醚改性聚硅氧烷（东丽道康宁株式会社制SH8400）之外，通过与实施例1的剥离膜的制造方法相同的方法，来得到比较例3的剥离膜。

除了利用比较例3的剥离膜来代替实施例1的剥离膜之外，通过与实施例1相同的方法，来得到比较例3的表面保护膜。

比较例4

将实施例2的粘结剂组合物100重量份与聚醚改性聚硅氧烷（东丽道康宁株式会社制，商品名：SH8400）0.1重量份进行搅拌混合，由此得到了比较例4的粘结剂组合物。

除了使用比较例4的粘结剂组合物来代替实施例1的粘结剂组合物、并使用比较例3的剥离膜来代替实施例1的剥离膜之外，通过与实施例1相同的方法，来得到比较例4的表面保护膜。

下面，示出了评价试验的方法和结果。

表面保护膜的粘结力的测定方法

利用贴合机，在玻璃板的表面贴合经过了基于防眩光的低反射处理后的偏光板（防眩光-低反射偏光板即AG-LR偏光板）。然后，在偏光板的表面贴合剪切成宽度为25mm的表面保护膜之后，在23℃×50%RH的试验环境下保管一天。然后，测定利用拉伸试验机以300mm/分钟的剥离速度按180°方向剥离表面保护膜时的强度，并将其作为粘结力（N/25mm）。

表面保护膜的剥离静电压的测定方法

利用贴合机，在玻璃板的表面贴合经过了基于防眩光的低反射处理后的偏光板（防眩光-低反射偏光板即AG-LR偏光板）。然后，在偏光板的表面贴合剪切成宽度为25mm的表面保护膜之后，在23℃×50%RH的试验环境下保管一天。然后，一边利用高速剥离试验机（试验产业（TESTERSANGYOCO,.LTD）制）以每分钟40m的剥离速度剥离表面保护膜，一边利用表面电位计（基恩士株式会社（KeyenceCorporation）制）每隔10mS测定上述偏光板表面的表面电位，将此时表面电位绝对值的最大值作为剥离静电压（kV）。

表面保护膜的表面污染性的确认方法

利用贴合机，在玻璃板的表面贴合经过了基于防眩光的低反射处理后的偏光板（防眩光-低反射偏光板即AG-LR偏光板）。然后，在偏光板的表面贴合剪切成宽度为25mm的表面保护膜之后，在23℃×50%RH的试验环境下保管3天和30天。然后，剥掉表面保护膜，通过肉眼来观察对偏光板表面的污染性。作为表面污染性的判断基准，将偏光板上无污染转移的情况标记为“○”，而确认偏光板上有污染转移的情况标记为“×”。

粘结剂的表面电阻率的测定方法

从表面保护膜剥掉剥离膜之后，利用电阻率计（三菱化学株式会社制，商品名：Hiresta-UP），在外加电压100V×测定时间30秒钟的条件下，测定粘结剂层的表面电阻率（Ω/□）。

将对所得到的实施例1～实施例3及比较例1～比较例4的表面保护膜进行测定的测定结果示于表1和表2中。表1和表2示出了用于各个表面保护膜的粘结剂组合物和剥离剂的概要。其中，“2EHA”表示丙烯酸-2-乙基己酯，“#400G”表示甲氧基聚乙二醇（400）单甲基丙烯酸酯，“HEA”表示丙烯酸2-羟乙酯，“BA”表示丙烯酸丁酯，“LiClO₄”表示高氯酸锂，“Li（CF₃SO₂）₂N”表示双（三氟甲烷磺酰）亚胺锂。

表1

表2

由表1和表2所示的测定结果可知如下情况。

本发明的实施例1～实施例3的表面保护膜具有适度的粘结力，对被粘附体表面的污染少，且从被粘附体剥离表面保护膜时的剥离静电压低。

另一方面，在比较例1的表面保护膜中，由于粘结剂层不包含防静电剂，因而从被粘附体剥离表面保护膜时的剥离静电压变高。

另外，在比较例2的表面保护膜中，由于粘结剂层不包含含有聚氧化烯基的化合物，因而从被粘附体剥离表面保护膜时的剥离静电压高，且剥离之后对被粘附体的污染多。

另外，在比较例3的表面保护膜中，未向剥离膜的剥离剂层添加聚醚改性聚硅氧烷，仅使用了以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂。但是，在比较例3中，由于从被粘附体剥离表面保护膜时的剥离静电压高，因而存在导致驱动集成电路的破损或液晶分子的取向损坏等缺陷的担忧。

另外，在比较例4的表面保护膜中，未向剥离膜的剥离剂层添加聚醚改性聚硅氧烷，而是向粘结剂层添加了聚醚改性聚硅氧烷。但在比较例4中，虽然从被粘附体剥离表面保护膜时的剥离静电压低，然而对粘附体的污染变多。

工业实用性

在例如偏光板、相位差板、透镜膜等光学用膜、以及其他各种光学部件等的生产工序等中，本发明的表面保护膜能够贴合在上述光学部件等的表面以保护表面。特别是，在作为表面由有机硅化合物或氟化合物等进行过防污染处理的低反射偏光板或防眩光-低反射偏光板等光学膜的表面保护膜来使用的情况下，能够减少从被粘附体剥离时所产生的静电量，且防止剥离静电性能的经时变化以及对被粘附体的污染少，能够可靠地保护光学部件的表面，从而能够提高生产工序的成品率。

Claims (6)

1.一种表面保护膜，在透明基材膜的单面形成有粘结剂层，在该粘结剂层上贴合有剥离膜，其中，

上述粘结剂层含有防静电剂，

上述剥离膜是在具有透明性的聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂膜的单面层叠剥离剂层而成，该剥离剂层含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂和20℃温度下是液体的有机硅类化合物，

上述粘结剂层由与含有聚氧化烯基的化合物共聚合的(甲基)丙烯酸类聚合物形成、或者由混合有含有聚氧化烯基的化合物的(甲基)丙烯酸类聚合物形成，

在上述粘结剂层的表面赋予上述剥离剂层的有机硅类化合物。

2.根据权利要求1所述的表面保护膜，其中，上述有机硅类化合物为聚醚改性聚硅氧烷。

3.根据权利要求1或2所述的表面保护膜，其中，上述防静电剂为碱金属盐。

4.根据权利要求1或2所述的表面保护膜，其中，上述含有聚氧化烯基的化合物为含有聚氧化烯基的(甲基)丙烯酸类单体或聚合物。

5.根据权利要求1或2所述的表面保护膜，其中，将上述剥离膜剥离之后的上述粘结剂层的表面电阻率小于1×10¹³Ω/□，从作为被粘附体的光学用膜剥离时的表面电位为+0.5kV～－0.5kV。

6.一种光学部件，其中，贴合有权利要求1～5中任一项所述的表面保护膜。