CN104342044B - 表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件 - Google Patents

表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种对被粘附体的污染少，并且对被粘附体的低污染性随着时间推移不发生变化的表面保护膜，并具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。表面保护膜(10)在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)，并在该粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，其中，所述剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面形成剥离剂层(4)而成，该剥离剂层(4)是通过含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂、20℃下是液体的聚硅氧烷类化合物和熔点为30～80℃的离子性化合物的树脂组合物来形成；所述粘结剂层(2)是丙烯酸类粘结剂层。

Description

表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件
技术领域
本发明涉及一种贴合于偏光板、相位差板、显示器用透镜膜等光学部件(下面，有时也称“光学用膜”)的表面的表面保护膜。更详细而言，本发明提供一种对被粘附体的污染少、无经时劣化且具有优良的抗剥离静电性能的表面保护膜、以及贴合有该表面保护膜的光学部件。
背景技术
目前，当制造、搬运偏光板、相位差板、显示器用透镜膜、防反射膜、硬涂膜、触摸面板用透明导电膜等的光学用膜、以及使用了它们的显示器等光学产品时，通过在该光学用膜的表面贴合表面保护膜而防止后续工序中的表面污染、刮伤。为了节省对表面保护膜进行剥离后再进行贴合的劳力和时间从而提高作业效率，对作为产品的光学用膜的外观检查而言，有时也在光学用膜上贴合着表面保护膜的状态下直接实施。
以往以来，为了在光学产品的制造工序中防止伤痕和污垢的附着，通常使用在基材膜的单面设置了粘结剂层的表面保护膜。表面保护膜是通过微粘结力的粘结剂层被贴合于光学用膜上。将粘结剂层设定为微粘结力的原因在于，为了将使用完毕的表面保护膜从光学用膜表面剥离而去除时，能够容易地进行剥离，并且为了防止粘结剂附着并残留在作为被粘附体的产品的光学用膜上(所谓的防止粘结剂残留的发生)的现象。
近年来，在液晶显示面板的生产工序中，由于将贴合于光学用膜上的表面保护膜剥离而去除时产生的剥离静电压，会破坏用于控制液晶显示器的显示画面的驱动IC等电路部件，还有液晶分子的取向会损伤，虽然这些现象发生的件数少但也在发生。
另外，为了减少液晶显示面板的电耗，液晶材料的驱动电压趋于降低，随之驱动IC的击穿电压也趋于降低。最近，要求将剥离静电压控制在+0.7kV～－0.7kV的范围内。
因此，为了防止从作为被粘附体的光学用膜上剥离表面保护膜时因剥离静电压高所引起的缺陷，有人提出了一种表面保护膜，其使用了含有用于降低剥离静电压的抗静电剂的粘结剂层。
例如，在专利文献1中，公开了一种使用由烷基三甲基铵盐、含羟基的丙烯酸类聚合物、聚异氰酸酯组成的粘结剂的表面保护膜。
另外，在专利文献2中，公开了一种由离子性液体和酸值为1.0以下的丙烯酸聚合物组成的粘结剂组合物、以及使用了该组合物的粘结片类。
另外，在专利文献3中，公开了一种由丙烯酸聚合物、聚醚多元醇化合物、通过阴离子吸附性化合物处理过的碱金属盐组成的粘结剂组合物、以及使用了该组合物的表面保护膜。
另外，在专利文献4中，公开了一种由离子性液体、碱金属盐、玻璃化转变温度为0℃以下的聚合物组成的粘结剂组合物、以及使用了该组合物的表面保护膜。
另外，在专利文献5、6中，公开了在表面保护膜的粘结剂层中混合聚醚改性聚硅氧烷的技术内容。
上述专利文献1～4中，在粘结剂层内部添加有抗静电剂，但粘结剂层的厚度越厚，并且随着时间的推移，抗静电剂从粘结剂层向表面保护膜所贴合的被粘附体移动的量会越多。另外，在LR(Low Reflective)偏光板、AG(AntiGlare)-LR偏光板等的光学用膜中，由于采用聚硅氧烷化合物或氟化物等对光学用膜表面施加了防污染处理，因此，当从作为被粘附体的光学用膜上剥离该光学用膜所使用的表面保护膜时，剥离静电压变高。
另外，如专利文献5、6所述，当在粘结剂层中混合了聚醚改性聚硅氧烷时，难以对表面保护膜的粘结力进行微调。另外，由于在粘结剂层内混合有聚醚改性聚硅氧烷，因此，当在基材膜上涂布、干燥粘结剂组合物的条件发生变化时，表面保护膜上形成的粘结剂层表面的特性微妙地发生变化。并且，从保护光学用膜表面的观点出发，无法使粘结剂层的厚度设定为极薄。因此，根据粘结剂层的厚度，需要增加粘结剂层内混合的聚醚改性聚硅氧烷的添加量，结果容易污染被粘附体表面，随时间的粘结力和对被粘附体的污染性发生变化。
近年来，伴随着3D显示器(立体视觉显示器)的普及，有在偏光板等光学用膜的表面贴合FPR(图案相位差膜，Film Patterned Retarder)膜的情况。剥离在偏光板等光学用膜的表面所贴合的表面保护膜后，贴合FPR膜。但是，当偏光板等的光学用膜表面被表面保护膜使用的粘结剂、抗静电剂所污染时，存在难以粘接FPR膜的问题。因此，对该用途上使用的表面保护膜而言，要求其对被粘附体的污染少。
另一方面，在一些液晶面板制造厂商中，作为表面保护膜对被粘附体的污染性的评价方法，是采用如下方法：对偏光板等的光学用膜上贴合的表面保护膜进行一次剥离，在混入了气泡的状态下进行再贴合，对再贴合后的物件在规定条件下加热处理，然后剥离表面保护膜并观察被粘附体的表面。在这种评价方法中，即使被粘附体的表面污染是微量的，若在混入气泡的部分与表面保护膜的粘结剂相接触的部分之间存在被粘附体表面污染的差异，则会作为气泡痕迹(有时也称作“气泡污痕”)残留。因此，作为对被粘附体表面的污染性的评价方法，会是非常严格的评价方法。近年来，即使是以这种严格的评价方法进行判定的结果，也需要对被粘附体的表面污染性方面没有问题的表面保护膜。但目前的状况是，在以往所提出的使用了含有抗静电剂的粘结剂层的表面保护膜中，难以解决该要求。
因此，需要一种在光学用膜中使用的表面保护膜，其对被粘附体的污染非常少、且对被粘附体的污染性没有经时变化(不随着时间推移发生变化)。并且，还能够较低地抑制在剥离表面保护膜时的剥离静电压的表面保护膜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2005-131957号公报
专利文献2：日本特开2005-330464号公报
专利文献3：日本特开2005-314476号公报
专利文献4：日本特开2006-152235号公报
专利文献5：日本特开2009-275128号公报
专利文献6：日本特许第4537450号公报
发明内容
发明要解决的课题
本发明人等对该课题进行了精心研究。
为了减少对被粘附体的污染并且也减少污染性的经时变化，需要降低被推测对被粘附体造成污染的抗静电成分的量。但是，当降低抗静电成分的量时，会导致从被粘附体上剥离表面保护膜时的剥离静电压变高。本发明人等研究了在不增加抗静电成分的绝对量的情况下较低地抑制从被粘附体上剥离表面保护膜时的剥离静电压的方法。
其结果发现，不在粘结剂中添加抗静电剂并进行混合而形成粘结剂层，而是涂布粘结剂组合物并进行干燥而层叠粘结剂层后，通过对粘结剂层表面赋予适量的抗静电成分，能够较低地抑制从作为被粘附体的光学用膜上剥离表面保护膜时的剥离静电压，并基于上述发现完成了本发明。。
本发明就是鉴于上述情况而完成的，其课题在于，提供一种对被粘附体的污染少，并且对被粘附体的低污染性随着时间推移不发生变化的表面保护膜，并具有无经时劣化(随着时间推移不发生劣化)的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。
另外，本发明的课题在于提供一种表面保护膜，其对于LR偏光板、AG-LR偏光板等的表面通过聚硅氧烷化合物、氟化物等进行过防污染处理的光学用膜，也能够较低地抑制剥离静电压。
解决课题的方法
为了解决上述课题，本发明的表面保护膜的技术思想在于，在涂布粘结剂组合物并进行干燥而层叠粘结剂层后，对该粘结剂层的表面赋予适量的20℃下是液体的聚硅氧烷(silicone)类化合物和抗静电剂，由此，能够较低地抑制对被粘附体的污染性，而且能够较低地抑制从作为被粘附体的光学用膜上剥离时的剥离静电压。
为了解决上述课题，本发明提供一种表面保护膜，其是在由具有透明性的树脂构成的基材膜的单面上形成有粘结剂层，并在该粘结剂层上贴合了具有剥离剂层的剥离膜的表面保护膜，其中，前述剥离膜是在树脂膜的单面上形成剥离剂层而成，该剥离剂层是通过含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂、20℃下是液体的聚硅氧烷(silicone)类化合物和熔点为30～80℃的离子性化合物的树脂组合物来形成；前述粘结剂层是丙烯酸类粘结剂层。
另外，优选前述聚硅氧烷类化合物为聚醚改性聚硅氧烷。
另外，优选前述丙烯酸类粘结剂层是使(甲基)丙烯酸酯共聚物交联而成。
另外，优选前述剥离膜从前述丙烯酸类粘结剂层上剥下时的剥离力为0.2N/50mm以下。
另外，本发明提供一种光学部件，其贴合有上述表面保护膜。
发明效果
本发明的表面保护膜对被粘附体的污染少，并且对被粘附体的低污染性随着时间推移不发生变化。另外，基于本发明能够提供一种表面保护膜以及使用该表面保护膜的光学部件，其中，即使是LR偏光板、AG-LR偏光板等的被粘附体的表面通过聚硅氧烷化合物、氟化物等进行过防污染处理的光学用膜，该表面保护膜也能够较低地抑制从被粘附体上剥离表面保护膜时发生的剥离静电压，并具有无经时劣化且优良的抗剥离静电性能。
基于本发明的表面保护膜，能够可靠地保护光学用膜表面，因此能够实现生产效率的提高和成品率的提高。
附图说明
图1是表示本发明的表面保护膜的概念的剖面图。
图2是表示从本发明的表面保护膜上剥下剥离膜的状态的剖面图。
图3是表示本发明的光学部件的一实施例的剖面图。
附图标记的说明
1……基材膜；2……粘结剂层；3……树脂膜；
4……剥离剂层；5……剥离膜；
7……20℃下是液体的聚硅氧烷类化合物和抗静电剂；
8……被粘附体(光学部件)；10……表面保护膜；
11……已剥下剥离膜的表面保护膜；
20……贴合了表面保护膜的光学部件。
具体实施方式
下面，基于实施方式详细说明本发明。
图1是表示本发明的表面保护膜的概念的剖面图。该表面保护膜10，是在透明的基材膜1单面的表面形成有粘结剂层2。在该粘结剂层2的表面上贴合有剥离膜5，该剥离膜5是在树脂膜3的表面形成剥离剂层4而成。
作为在本发明的表面保护膜10中使用的基材膜1，使用由具有透明性和挠性的树脂构成的基材膜。由此，能够在将表面保护膜贴合于作为被粘附体的光学部件的状态下实施光学部件的外观检查。用作基材膜1的由具有透明性的树脂构成的膜，优选使用聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚间苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene isophthalate)、聚对苯二甲酸丁二醇酯等聚酯膜。作为该膜只要具有所需强度且具有光学适应性即可，除了聚酯膜以外也可以使用由其它树脂构成的膜。基材膜1既可以是未拉伸膜，也可以是被施以单轴拉伸或双轴拉伸的膜。另外，也可以将拉伸膜的拉伸倍率、拉伸膜的伴随晶体化所形成的轴方向的取向角度控制在特定值上。
对本发明的表面保护膜10中使用的基材膜1的厚度而言，并没有特别的限定，例如，优选为12～100μm左右的厚度；若为20～50μm左右的厚度则易于操作，因此更优选。
另外，根据需要，可在基材膜1的与形成有粘结剂层2的面相反侧的面上，设置用于防止表面污染的防污层、抗静电层、防止刮伤的硬涂层等。另外，在基材膜1的表面，也可以实施基于电晕放电进行的表面改性、底涂剂的涂抹等易粘接化处理。
另外，对本发明的表面保护膜10中使用的粘结剂层2而言，只要是在被粘附体的表面上进行粘接、使用完毕后可简单地剥下并且难以污染被粘附体的粘结剂层即可，并没有特别限定，但考虑到在光学用膜上贴合后的耐久性等，通常采用使(甲基)丙烯酸酯共聚物交联而成的丙烯酸类粘结剂层。
作为(甲基)丙烯酸酯共聚物，可以举出将主要单体与共聚用单体、官能性单体、含有聚氧化亚烷基的单体进行共聚而成的共聚物，其中，所述主要单体可举出丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸异壬酯等；所述共聚用单体可举出丙烯腈、醋酸乙烯酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯等；所述官能性单体可举出丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸羟乙酯、丙烯酸羟丁酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、N-羟甲基甲基丙烯酰胺等；所述含有聚氧化亚烷基的单体可举出甲氧基聚乙二醇甲基丙烯酸酯等。(甲基)丙烯酸酯共聚物中，主要单体和共聚用单体均可以为(甲基)丙烯酸酯，也可以作为共聚用单体含有一种或两种以上的除了(甲基)丙烯酸酯以外的单体。除了主要单体以外的单体，可从上述共聚用单体、官能性单体、含有聚氧化亚烷基的单体等中选择，并没有特别的限定。
对添加于粘结剂层2中的固化剂而言，作为使(甲基)丙烯酸酯共聚物交联的交联剂，可以举出异氰酸酯化合物、环氧化合物、三聚氰胺化合物、金属螯合物等。另外，作为增粘剂，可以举出松香类、香豆酮-茚类、萜烯类、石油类、酚类等。
对本发明的表面保护膜10中使用的粘结剂层2的厚度，并没有特别的限定，例如，优选为5～40μm左右的厚度，更优选为10～30μm左右的厚度。当为表面保护膜对被粘附体表面的剥离强度(粘结力)为0.03～0.3N/25mm左右的、具有微粘结力的粘结剂层2时，从被粘附体上剥离表面保护膜时的操作性优良，因此优选。另外，基于从表面保护膜10剥下剥离膜5时的操作性优良的观点，优选剥离膜5从丙烯酸类粘结剂层2剥下的剥离力为0.2N/50mm以下。
另外，对本发明的表面保护膜10中使用的剥离膜5而言，是在树脂膜3的单面上形成有剥离剂层4，该剥离剂层4是通过含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂、20℃下是液体的聚硅氧烷类化合物以及熔点为30～80℃的离子性化合物的树脂组合物来形成。
作为树脂膜3，可以举出聚酯膜、聚酰胺膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚酰亚胺膜等，从透明性优良或价格比较低廉的观点出发，特别优选为聚酯膜。树脂膜既可以是未拉伸膜，也可以是单轴拉伸膜或双轴拉伸膜。另外，也可以将拉伸膜的拉伸倍率、拉伸膜的伴随着晶体化所形成的轴方向的取向角度控制在特定值。
对树脂膜3的厚度并没有特别的限定，例如，优选为12～100μm左右的厚度；若为20～50μm左右的厚度则易于操作，因此更优选。
另外，在树脂膜3的表面，也可以根据需要实施基于电晕放电进行的表面改性、底涂剂的涂抹等易粘接化处理。
作为构成剥离剂层4的、以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂，可以举出加成反应型、缩合反应型、阳离子聚合型、自由基聚合型等的公知的聚硅氧烷类剥离剂。作为加成反应型聚硅氧烷类剥离剂市售的产品，例如，可以举出：KS-776A、KS-847T、KS-779H、KS-837、KS-778、KS-830(信越化学工业株式会社制造)；SRX-211、SRX-345、SRX-357、SD7333、SD7220、SD7223、LTC-300B、LTC-350G、LTC-310(陶氏康宁东丽株式会社(DowCorning Toray Co.,Ltd.)制造)等。作为缩合反应型市售的产品，例如，可以举出SRX-290、SYLOFF-23(陶氏康宁东丽株式会社制造)等。作为阳离子聚合型市售的产品，例如，可以举出TPR-6501、TPR-6500、UV9300、UV9315、UV9430(迈图高新材料公司(Momentive Performance Materials Inc.)制造)、X62-7622(信越化学工业株式会社制造)等。作为自由基聚合型市售的产品，例如，可以举出X62-7205(信越化学工业株式会社制造)等。
作为构成剥离剂层4的20℃下是液体的聚硅氧烷类化合物，可以举出聚醚改性聚硅氧烷、烷基改性聚硅氧烷、甲醇高级脂肪酸酯改性聚硅氧烷等。在本发明中，为了提高粘结剂层表面的抗静电性，使用在以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂层中相溶的状态的20℃下是液体的聚硅氧烷类化合物。从本发明的用途而言，优选为改性聚硅氧烷化合物中的聚醚改性聚硅氧烷。聚醚改性聚硅氧烷中的聚醚链是由氧化乙烯(环氧乙烷)、氧化丙烯(环氧丙烷)等构成，例如，通过选择侧链中使用的聚氧化乙烯的分子量，能够调整与聚硅氧烷剥离剂的相溶性、抗静电效果等物理性质。
另外，作为聚醚改性聚硅氧烷市售的产品，例如，可以举出：KF-351A、KF-352A、KF-353、KF-354L、KF-355A、KF-642(信越化学工业株式会社制造)；SH8400、SH8700、SF8410(陶氏康宁东丽株式会社制造)；TSF-4440、TSF-4441、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4450(迈图高新材料公司(MomentivePerformance Materials Inc.)制造)；BYK-300、BYK-306、BYK-307、BYK-320、BYK-325、BYK-330(BYK-Chemie公司社制造)等。
20℃下是液体的聚硅氧烷类化合物相对于以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂的添加量，是根据聚硅氧烷化合物的种类、与剥离剂的相溶性程度的不同而不同，只要考虑到从被粘附体上剥离表面保护膜时所需的剥离静电压、对被粘附体的污染性、粘结特性等而进行设定即可。
作为构成剥离剂层4的抗静电剂，优选相对于以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂溶液的分散性良好，并且不阻碍以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂的固化的抗静电剂。作为这样的抗静电剂，优选熔点为30～80℃的离子性化合物。
作为熔点为30～80℃的离子性化合物，是具有阳离子和阴离子的离子化合物，可以举出：阳离子为吡啶鎓阳离子、咪唑鎓阳离子、嘧啶鎓阳离子、吡唑鎓阳离子、吡咯鎓阳离子、铵阳离子等的含氮鎓阳离子，或者为磷鎓阳离子、硫鎓阳离子等；阴离子为六氟化磷酸根(PF6 -)、硫氰酸根(SCN-)、烷基苯磺酸根(RC6H4SO3 -)、高氯酸根(ClO4 -)、四氟化硼酸根(BF4 -)等的无机或有机阴离子的化合物。通过选择烷基的链长、取代基的位置、个数等，能够得到熔点为30～80℃的化合物。优选阳离子为季氮鎓阳离子，可以举出：1-烷基吡啶鎓(2～6位的碳原子既可以具有取代基也可以不具有取代基)等的季吡啶鎓阳离子、1,3-二烷基咪唑鎓(2、4、5位的碳原子既可以具有取代基也可以不具有取代基)等的季咪唑鎓阳离子、四烷基铵等的季铵阳离子等。
抗静电剂相对于以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂的添加量，是根据抗静电剂的种类、与剥离剂的亲和性程度的不同而不同，只要考虑到从被粘附体上剥离表面保护膜时所需的剥离静电压、对被粘附体的污染性、粘结特性等而进行设定即可。
对于以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂与聚醚改性聚硅氧烷和抗静电剂的混合方法而言，并没有特别的限定。可以采用下列混合方法中的任一种方法：在以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂中，添加聚醚改性聚硅氧烷和抗静电剂进行混合后，添加剥离剂固化用催化剂并加以混合的方法；预先采用有机溶剂稀释以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂后，添加聚醚改性聚硅氧烷和抗静电剂以及剥离剂固化用催化剂并加以混合的方法；预先将以聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂稀释于有机溶剂后，添加催化剂而进行混合，然后，添加聚醚改性聚硅氧烷和抗静电剂并加以混合的方法等。另外，根据需要，也可以添加硅烷偶联剂等粘合促进剂、含有聚氧化亚烷基的化合物等的辅助抗静电效果的材料。
对于以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂与聚醚改性聚硅氧烷和抗静电剂的混合比率而言，并没有特别的限定，但相对于以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂的固体成分100，优选聚醚改性聚硅氧烷和抗静电剂以固体成分计为5～100左右的比例。相对于以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂的固体成分100，若聚醚改性聚硅氧烷和抗静电剂的以固体成分换算的添加量小于5的比例，则抗静电剂对粘结剂层表面的转移量也变少，难以使粘结剂层发挥抗静电的功能。另外，相对于以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂的固体成分100，若聚醚改性聚硅氧烷和抗静电剂的以固体成分换算的添加量超过100的比例，则导致与聚醚改性聚硅氧烷和抗静电剂一起以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂也会被转移至粘结剂层表面，因此，可能会降低粘结剂层的粘结特性。
本发明中在表面保护膜10的基材膜1上形成粘结剂层2的方法以及贴合剥离膜5的方法，均可采用公知的方法来进行，没有特别的限定。具体而言，可以举出：(1)将用于形成粘结剂层2的树脂组合物涂布于基材膜1的单面上并进行干燥，形成粘结剂层后贴合剥离膜5的方法；(2)将用于形成粘结剂层2的树脂组合物涂布于剥离膜5表面上并进行干燥，形成粘结剂层后，贴合基材膜1的方法等。可以采用其中的任一种方法。
另外，当将粘结剂层2形成于基材膜1表面时，可采用公知的方法来进行。具体而言，能够使用逆转涂布、逗号刮刀涂布、凹版涂布、狭缝式挤压涂布、麦勒棒(Mayer bar)涂布、气刀涂布等公知的涂布方法。
另外，同样地，当将剥离剂层4形成于树脂膜3时，可以采用公知的方法来进行。具体而言，能够采用凹版涂布、麦勒棒涂布、气刀涂布等公知的涂布方法。
对具有上述构成的本发明表面保护膜10而言，从作为被粘附体的光学用膜上剥离时的表面电位优选为+0.7kV～－0.7kV。并且，更优选表面电位为+0.5kV～－0.5kV，特别优选表面电位为+0.1kV～－0.1kV。该表面电位能够通过改变剥离剂层中所含有的聚醚改性聚硅氧烷和抗静电剂的种类、添加量等来进行调整。
图2是表示从本发明的表面保护膜上剥下剥离膜的状态的剖面图。
通过将剥离膜5从如图1所示的表面保护膜10上剥下，剥离膜5的剥离剂层4所含的、20℃下是液体的聚硅氧烷类化合物和抗静电剂(附图标记7)的一部分，被转移(附着)至表面保护膜10的粘结剂层2的表面。因此，在图2中，以附图标记7的斑点示意性地示出了被转移至表面保护膜的粘结剂层2表面的、20℃下是液体的聚硅氧烷类化合物和抗静电剂。
对本发明的表面保护膜而言，当将图2所示的剥下了剥离膜的状态的表面保护膜11贴合于被粘附体上时，被转移至该粘结剂层2表面的、20℃下是液体的聚硅氧烷类化合物和抗静电剂，与被粘附体表面进行接触。通过该操作，能够较低地抑制再次从被粘附体上剥下表面保护膜时的剥离静电压。
图3是表示本发明的光学部件的实施例的剖面图。
在将剥离膜5从本发明的表面保护膜10上剥下从而粘结剂层2外露的状态下，通过该粘结剂层2贴合于作为被粘附体的光学部件8上。
即，在图3中示出了贴合有本发明表面保护膜10的光学部件20。作为光学部件，可以举出偏光板、相位差板、透镜膜、兼用作相位差板的偏光板、兼用作透镜膜的偏光板等光学用膜。这种光学部件被用作液晶显示面板等液晶显示装置、各种计量仪器类光学系统装置等的构成部件。另外，作为光学部件，还可以举出防反射膜、硬涂膜、触摸面板用透明导电膜等光学用膜。特别是，能够优选用作贴合于表面已用聚硅氧烷化合物、氟化合物等进行过防污染处理的低反射处理偏光板(LR偏光板)、防眩低反射处理偏光板(AG-LR偏光板)等光学用膜的施加了防污染处理的面上的表面保护膜。
基于本发明的光学部件，当将表面保护膜10从作为被粘附体的光学部件(光学用膜)上剥离去除时，能够充分地将剥离静电压抑制在低水平，因此，不用担心会破坏驱动IC、TFT元件、栅极线驱动电路等的电路部件，能够提高制造液晶显示面板等工序中的生产效率，确保生产工序的可靠性。
实施例
下面，通过实施例进一步说明本发明。
(实施例1)
(表面保护膜的制造)
将5重量份的加成反应型聚硅氧烷(产品名称为SRX-345，陶氏康宁东丽株式会社(Dow Corning Toray Co.,Ltd.)制造)、0.3重量份的聚醚改性聚硅氧烷(产品名称为SH8400，陶氏康宁东丽株式会社制造)、1重量份的熔点为48℃的作为离子性化合物的N-丁基-4-甲基吡啶鎓六氟磷酸盐、95重量份的甲苯与醋酸乙酯为1:1的混合溶剂、0.05重量份的铂催化剂(产品名称为SRX-212，陶氏康宁东丽株式会社制造)混合在一起并进行搅拌混合，配制了形成实施例1的剥离剂层的涂料。采用麦勒棒，将形成实施例1的剥离剂层的涂料，以使干燥后的厚度成为0.2μm的方式，涂布在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面，并在120℃的热风循环式烘炉中干燥1分钟，获得了实施例1的剥离膜。另一方面，将由丙烯酸2-乙基己酯与丙烯酸2-羟乙酯以100:4的重量比进行共聚而成的、重均分子量为47万的丙烯酸酯共聚物30重量份，溶解于70重量份的醋酸乙酯中而获得粘结剂(固体成分含量为30％的醋酸乙酯溶液)，相对于100重量份的该粘结剂，添加1.2重量份的HDI类固化剂(产品名称为Coronate HX，日本聚氨酯工业株式会社(Nippon Polyurethane Industry Co.,Ltd.)制造)并进行混合而形成涂抹液，并将该涂抹液以使干燥后的厚度成为20μm的方式涂布于厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面，然后通过100℃的热风循环式烘炉干燥2分钟，从而形成了粘结剂层。然后，在该粘结剂层的表面，贴合了上述制造的实施例1的剥离膜的剥离剂层(聚硅氧烷处理面)。将所得到的粘着膜在40℃的环境下保温5天，以使粘结剂固化，获得了实施例1的表面保护膜。
(实施例2)
除了将形成实施例1的剥离剂层的涂料的干燥后的厚度设定为0.1μm以外，与实施例1同样地进行操作，获得了实施例2的表面保护膜。
(实施例3)
作为实施例1的加成反应型聚硅氧烷使用了陶氏康宁东丽株式会社(DowCorning Toray Co.,Ltd.)制造的名称为SRX-211的产品，作为聚醚改性聚硅氧烷使用了信越化学工业株式会社制造的名称为KS-352A的产品，使用熔点为62℃的作为离子性化合物的1-甲基-3-乙基咪唑鎓六氟磷酸盐来代替N-丁基-4-甲基吡啶鎓六氟磷酸盐，除上述以外与实施例1同样地进行操作，获得了实施例3的表面保护膜。
(比较例1)
将5重量份的加成反应型聚硅氧烷(产品名称为SRX-345，陶氏康宁东丽株式会社制造)、95重量份的甲苯与醋酸乙酯为1:1的混合溶剂、0.05重量份的铂催化剂(产品名称为SRX-212，陶氏康宁东丽株式会社制造)混合在一起并进行搅拌混合，配制了形成比较例1的剥离剂层的涂料。采用麦勒棒，将形成比较例1的剥离剂层的涂料，以使干燥后的厚度成为0.2μm的方式，涂布在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面，并在120℃的热风循环式烘炉中干燥1分钟，获得了比较例1的剥离膜。另一方面，相对于100重量份的实施例1的粘结剂(固体成分含量为30％的醋酸乙酯溶液)，添加并混合了0.6重量份的聚醚改性聚硅氧烷(产品名称为SH8400，陶氏康宁东丽株式会社制造)、2重量份的N-丁基-4-甲基吡啶鎓六氟磷酸盐、1.2重量份的HDI类固化剂(产品名称为Coronate HX，日本聚氨酯工业株式会社制造)而形成涂抹液，并将该涂抹液以使干燥后的厚度成为20μm的方式涂布于厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面，然后通过100℃的热风循环式烘炉干燥2分钟，从而形成了粘结剂层。然后，在该粘结剂层的表面，贴合了上述制造的比较例1的剥离膜的剥离剂层(聚硅氧烷处理面)。将所得到的粘着膜在40℃的环境下保温5天，以使粘结剂固化，获得了比较例1的表面保护膜。
(比较例2)
除了使用0.06重量份的聚醚改性硅氧烷(产品名称为SH8400，陶氏康宁东丽株式会社制造)、0.2重量份的N-丁基-4-甲基吡啶鎓六氟磷酸盐以外，与比较例1同样地进行操作，获得了比较例2的表面保护膜。
(实施例4)
将丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸丁酯和丙烯酸2-羟乙酯以60:40:4的重量比进行共聚而成的重均分子量为48万的丙烯酸酯共聚物30重量份，溶解于70重量份的醋酸乙酯中形成粘结剂(固体成分含量为30％的醋酸乙酯溶液)，相对于100重量份的该粘结剂添加并混合1.2重量份的HDI类固化剂(产品名称为Coronate HX，日本聚氨酯工业株式会社制造)而获得涂抹液，使用该涂抹液来代替实施例1的涂抹液，除此以外，与实施例1同样地进行操作，获得了实施例4的表面保护膜。
(实施例5)
将丙烯酸2-乙基己酯、甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯和丙烯酸2-羟乙酯以90:10:4的重量比进行共聚而成的重均分子量为38万的丙烯酸酯共聚物30重量份，溶解于70重量份的醋酸乙酯中形成粘结剂(固体成分含量为30％的醋酸乙酯溶液)，相对于100重量份的该粘结剂添加并混合1.2重量份的HDI类固化剂(产品名称为Coronate HX，日本聚氨酯工业株式会社制造)而获得涂抹液，使用该涂抹液来代替实施例1的涂抹液，除此以外，与实施例1同样地进行操作，获得了实施例5的表面保护膜。
(实施例6)
将丙烯酸2-乙基己酯与丙烯酸以100:4的重量比进行共聚而成的重均分子量为52万的丙烯酸酯共聚物30重量份，溶解于70重量份的醋酸乙酯中形成粘结剂(固体成分含量为30％的醋酸乙酯溶液)，相对于100重量份的该粘结剂添加并混合1.0重量份的环氧类固化剂(产品名称为TETRAD-C，三菱瓦斯化学株式会社(Mitsubishi Gas Chemical Company Inc.)制造)而获得涂抹液，使用该涂抹液来代替实施例1的涂抹液，除此以外与实施例1同样地进行操作，获得了实施例6的表面保护膜。
下面，示出评价试验的方法和结果。
〈剥离膜的剥离力的测定方法〉
以宽度50mm、长度150mm的尺寸切割表面保护膜的试样。在23℃×50％RH的试验环境下，使用拉伸试验机以300mm/分钟的剥离速度向180°方向剥掉剥离膜，测定此时的强度，并将其作为剥离膜的剥离力(N/50mm)。
〈表面保护膜的粘结力的测定方法〉
采用贴合机在玻璃板表面贴合了防眩低反射处理偏光板(AG-LR偏光板)。然后，将切割成宽度为25mm的表面保护膜贴合于偏光板的表面后，在23℃×50％RH的试验环境下保管1天。然后，使用拉伸试验机以300mm/分钟的剥离速度向180°方向剥离掉表面保护膜，测定此时的强度，并将其作为粘结力(N/25mm)。
〈表面保护膜的剥离静电压的测定方法〉
采用贴合机在玻璃板表面贴合了防眩低反射处理偏光板(AG-LR偏光板)。然后，将切割成宽度为25mm的表面保护膜贴合于偏光板的表面后，在23℃×50％RH的试验环境下保管1天。然后，在使用高速剥离试验机(TESTER产业株式会社(TESTER Sangyo Co.,Ltd.)制造)以每分钟40m的剥离速度剥离表面保护膜的同时，使用表面电位计(株式会社基恩士(Keyence Corporation)制造)每10ms测定前述偏光板表面的表面电位，并将此时的表面电位绝对值的最大值作为剥离静电压(kV)。
〈表面保护膜的表面污染性的确认方法〉
采用贴合机在玻璃板表面贴合了防眩低反射处理偏光板(AG-LR偏光板)。然后，将切割成宽度为25mm的表面保护膜贴合于偏光板的表面后，在23℃×50％RH的试验环境下保管3天和30天。然后，剥下表面保护膜，通过目测观察了偏光板表面的污染性。作为表面污染性的判定基准，当偏光板上无污染转移时判定为(○)，当确认偏光板上有污染转移时判定为(×)。
对所得到的实施例1～6和比较例1～2的表面保护膜进行测定，并将测定结果示于表1～2中。其中，“2EHA”是指丙烯酸2-乙基己酯，“HEA”是指丙烯酸2-羟乙酯，“BA”是指丙烯酸丁酯，“#400G”是指甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯，“AA”是指丙烯酸，“AS-a”是指N-丁基-4-甲基吡啶鎓六氟磷酸盐，“AS-b”是指1-甲基-3-乙基咪唑鎓六氟磷酸盐。
表1
表2
根据表1和表2所示的测定结果，可知下述情况。
本发明的实施例1～6的表面保护膜具有适当的粘结力，并对被粘附体表面没有污染，且从被粘附体上剥离表面保护膜时的剥离静电压低。
另一方面，对于粘结剂层中添加了聚硅氧烷化合物和抗静电剂的比较例1的表面保护膜而言，虽然从被粘附体上剥离表面保护膜时的剥离静电压低而良好，但剥离后对被粘附体的污染多。另外，在减少了抗静电剂和聚硅氧烷化合物的量的比较例2中，虽改善了对被粘附体的污染性，但从被粘附体上剥离表面保护膜时的剥离静电压高。在粘结剂中混合聚硅氧烷化合物和抗静电剂的方法中，难以兼备剥离静电压的降低和对被粘附体污染性的改善。另一方面，在将聚硅氧烷化合物和抗静电剂添加于剥离剂层后转移至粘结剂层表面的本发明的方法，具有能够以少的添加量降低剥离静电压的效果，因此对被粘附体也没有污染，获得了良好的表面保护膜。
工业实用性
本发明的表面保护膜，例如，能够应用于偏光板、相位差板、透镜膜等的光学用膜中，此外，在各种光学部件等的生产工序等中，贴合于该光学部件等的表面而用于保护其表面。特别是，当作为表面已用聚硅氧烷化合物、氟化合物等进行过防污染处理的LR偏光板、AG-LR偏光板等光学用膜的表面保护膜来使用的情况下，能够减少从被粘附体上剥离时产生的静电量，并且，抗剥离静电性能无经时劣化(不随着时间推移而发生劣化)且对被粘附体的污染少，能够可靠地保护光学部件的表面，提高生产工序的成品率。

Claims (5)

1.一种表面保护膜，在由具有透明性的树脂构成的基材膜的单面形成有粘结剂层，并在该粘结剂层上贴合了具有剥离剂层的剥离膜，其中，
所述剥离膜是在树脂膜的单面上形成所述剥离剂层而成，该剥离剂层是通过含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂、20℃下是液体的聚硅氧烷类化合物和熔点为30～80℃的离子性化合物的树脂组合物来形成，
所述粘结剂层是丙烯酸类粘结剂层，
所述剥离剂层所含的所述聚硅氧烷类化合物及所述离子性化合物被转移至所述粘结剂层的表面。
2.如权利要求1所述的表面保护膜，其中，
所述聚硅氧烷类化合物是聚醚改性聚硅氧烷。
3.如权利要求1或2所述的表面保护膜，其中，
所述丙烯酸类粘结剂层是使(甲基)丙烯酸酯共聚物交联而成。
4.如权利要求1或2所述的表面保护膜，其中，
从所述丙烯酸类粘结剂层剥离时的所述剥离膜的剥离力为0.2N/50mm以下。
5.一种光学部件，其贴合有权利要求1～4中任一项所述的表面保护膜。
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