CN106520001A - 表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件 - Google Patents

表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种表面保护膜及使用了该保护膜的光学部件，其中，该表面保护膜即使对于表面具有凹凸的光学用膜也可进行贴合，对被粘物的污染少，且在对被粘物的低污染性不会经时变化，具有不会经时劣化的优异的抗剥离静电性能。一种表面保护膜10，其是在由具有透明性的树脂所构成的基材膜1的一个面上形成粘着剂层2，并在粘着剂层2上，经由剥离剂层4贴合了在树脂膜3的一个面上形成剥离剂层4的剥离膜5而成，剥离剂层4含有碱金属盐、含有至少一个以上醚键的酯类增塑剂、硅酮类剥离剂，剥离剂层4中所含的所述碱金属盐成分只存在于粘着剂层2的表面上。

Description

表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件
技术领域
本发明涉及一种贴合于光学部件(以下有时称作光学用膜)的表面的表面保护膜。更具体而言，提供一种对被粘物的污染少、且对被粘物的污染性不发生经时改变的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。此外，本发明还提供一种即使更换作为光学部件的偏振片的构成材料(将TAC膜变更为丙烯酸膜或聚酯膜，或将水性粘着剂变更为紫外线固化型粘着剂)，也能较低地抑制在剥离表面保护膜时所产生的剥离静电压的表面保护膜以及使用了该表面保护膜的光学部件。
此外，本发明中的光学部件是指偏振片、相位差板、以及显示器用镜片膜等。
背景技术
在制造、搬运偏振片、相位差板、显示器用镜片膜、防反射膜、硬涂层膜、触摸面板用透明导电性膜等光学用膜，以及使用这些膜的显示器等光学产品时，通过在该光学用膜的表面上贴合表面保护膜，可以防止在后续工序中表面的污垢和伤痕。为了提高工作效率，节省剥离并再次贴合表面保护膜的工序，在表面保护膜贴合于光学用膜上的状态下直接进行作为产品的光学用膜的外观检查。
以往，在光学产品的制备工序中，为了防止伤痕或污垢的附着，通常使用在基材膜的单面上设有粘着剂层的表面保护膜。表面保护膜经由微粘合力的粘着剂层贴合在光学用膜上。使粘着剂层为微粘着力的原因在于，在将使用后的表面保护膜从光学用膜表面上剥离去除时，能够轻松地进行剥离并使粘着剂不附着残留(即防止残胶的产生)在作为被粘物的产品的光学用膜上。
近年来，在液晶显示面板的生产工序中，虽然产生的件数少，但仍发生了由于将贴合于光学用膜上的表面保护膜剥离除去时所产生的剥离静电压，引起用于控制液晶显示器的显示画面的驱动IC等电路部件遭到破坏、或是液晶分子的取向受到损害的现象。
此外，为了降低液晶显示器所消耗的电力，随着液晶材料的驱动电压的变低，驱动IC的破坏电压也在变低。在最近，要求使剥离静电压在+0.7kV～-0.7kV范围之内。
此外，以往的偏振片为，在由含浸有碘的聚乙烯醇(PVA)构成的起偏镜的两侧，用水性的粘接剂粘接用于保护起偏镜的三乙酰纤维素膜(TAC膜)，制造偏振片。但在近年来，作为代替TAC膜，采用了使用有丙烯酸膜、环状聚烯烃膜或聚酯膜的偏振片，或是使用紫外线固化型粘接剂以代替水性粘接剂的偏振片。由于改变了偏振片的构成材料而出现了如下问题：剥离表面保护膜时所产生的剥离静电压比起使用以往构造的偏振片时更高。
此外，近年来随着3D显示器(立体显示器)的普及，有时在偏振片等光学用膜的表面上贴合FPR(Film Patterned Retarder)膜。剥离贴合在偏振片等光学用膜的表面上的表面保护膜后，贴合FPR膜。但是，如果偏振片的光学用膜的表面被表面保护膜中所使用的粘着剂或抗静电剂污染时，会存在难粘贴FPR膜的问题。因此，则要求用于该用途的表面保护膜对被粘物的污染要小。
另一方面，在若干个液晶显示器厂商中，作为表面保护膜对被粘物的污染性的评价方法，采用以下方法：通过暂时剥离贴合在偏振片等光学用膜上的表面保护膜，以混入气泡的状态下再一次贴合，并在规定条件下对其进行加热处理，之后剥离表面保护膜并观察被粘物的表面的方法。在该评价方法中，即使被粘物表面的污染为微量，则也会在混入气泡的部分与表面保护膜的粘着剂粘接的部分之间存在差异，作为气泡的痕迹(也被称为气泡渗透)而残留下来。因此，作为评价对被粘物表面的污染性的方法，该方法为非常严格的评价方法。近年来，谋求一种通过该严格的评价方法可判定为合格、对被粘物表面的污染极其少的表面保护膜。
将表面保护膜贴合在作为被粘物的光学用膜上后，为了防止因将表面保护膜从被粘物上剥离时所产生的高剥离静电压所造成的不良状况，提出了一种用于较低抑制剥离静电压的使用含有抗静电剂的粘着剂层的表面保护膜。
例如，专利文献1公开了一种使用了由烷基三甲胺盐、含羟基的丙烯酸类聚合物以及聚异氰酸酯所构成的粘着剂的表面保护膜。
此外，专利文献2公开了一种由离子性液体及酸值在1.0以下的丙烯酸聚合物所构成的粘着剂组合物以及使用了该粘着剂组合物的粘着片类。
此外，专利文献3公开了一种由丙烯酸聚合物、聚醚多元醇化合物、阴离子吸附化合物所处理的碱金属盐所构成的粘着剂组成物以及使用了该粘着剂组合物的表面保护膜。
此外，专利文献4公开了一种由离子性液体、碱金属盐和玻璃化转变温度为0℃以下的聚合物所组成的粘着剂组成物以及使用了该粘着剂组合物的表面保护膜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2005-131957号公报
专利文献2：日本特开2005-330464号公报
专利文献3：日本特开2005-314476号公报
专利文献4：日本特开2006-152235号公报
发明内容
本发明要解决的技术问题
在所述的专利文献1～4中所记载的表面保护膜中，在粘着剂层的内部添加有抗静电剂。因此，粘着剂层的厚度越厚，或者贴合在被粘物后经过的时间越久，则相对于贴合了表面保护膜的被粘物，抗静电剂从粘着剂层转移到被粘物的量越多。此外，若转移到被粘物的抗静电剂的量增多，则有可能作为被粘物的光学用膜的外观品质降低、在贴合FPR膜时FPR膜的粘合性降低。
为了减少从粘着剂层向被粘物转移的抗静电剂的经时变化而减少粘着剂层的厚度时，则会产生其他问题。例如，在用于为了防眩而经防眩处理的偏振片等表面具有凹凸的光学用膜时，存在以下问题：由于粘着剂层难以追随光学用膜表面的凹凸而混入气泡，由于光学用膜与粘着剂层之间的粘合面积减少而造成粘着力降低，使用中表面保护膜产生浮起或脱落。
此外，若为了减少从粘着剂层向被粘物转移的抗静电剂的经时变化，减少在粘着剂层中所添加的抗静电剂的添加量，则将表面保护膜从被粘物上剥离除去时所产生的剥离静电压增大，会存在产生驱动IC等电路部件受到破坏的现象或液晶分子的取向受到损害的现象的危险。
本发明是鉴于以上情况而成的，其技术问题在于提供一种表面保护膜及使用了该表面保护膜的光学部件，所述表面保护膜贴合在光学用膜的表面，即使在表面具有凹凸的光学用膜上也可贴合，对被粘物的污染非常少，且对被粘物的污染性不发生经时变化。
此外，本发明的技术课题在于提供一种即使作为光学部件的偏振片的构成部件(由TAC膜变更为丙烯酸膜或聚酯膜，或由水性粘接剂变更为紫外线固化型粘接剂)发生替代，也能将剥离表面保护膜时的剥离静电压抑制得较低的表面保护膜、及使用了该表面保护膜的光学部件。
解决技术问题的技术手段
本申请的发明人等为了解决这些问题进行了深入研究。为了对被粘物的污染少及污染性的经时变化小，需要减少推测为污染被粘物原因的抗静电剂的含量。但是，在减少抗静电剂的含量的情况下，将表面保护膜从被粘物剥离时的剥离静电压会增高。
在此，本申请的发明人等对于在不增加抗静电剂含量的状态下较低抑制将表面保护膜从被粘物剥离时的剥离静电压的方法进行了研究。
首先，本申请的发明人等将不含有抗静电剂的粘着剂组合物涂布在基材的一个面上并使其干燥，从而制备层叠有粘着剂层的表面保护膜。之后，在该粘着剂层的表面上贴合在剥离剂层中含有抗静电剂的剥离膜，将剥离膜的剥离剂层中所含有的抗静电剂转印到粘着剂层的表面上。由此发现，可较低地抑制将表面保护膜从被粘物剥离时的剥离静电压，且难以污染被粘物，进而完成了本发明。
本发明的表面保护膜，是在基材的一面上涂布不含抗静电剂的粘着剂组合物使其干燥从而层叠粘着剂层后，在该粘着剂层的表面上贴合在剥离剂层中含有抗静电剂的剥离膜，通过将剥离膜的剥离剂层中所含有的抗静电剂转印到该粘着剂层的表面上而获得。本发明的发明构思在于，通过以上方法，在将已剥离掉剥离膜状态的表面保护膜贴合在被粘物上时，较低地抑制对被粘物的污染性，同时较低地抑制将表面保护膜从作为被粘物的光学用膜上剥离时的剥离静电压。
为了解决所述问题，本发明提供了一种表面保护膜。其特征在于：其是在由具有透明性的树脂所构成的基材膜的一个面上形成粘着剂层、并在所述粘着剂层上经由所述剥离剂层贴合了在树脂膜的一个面上形成剥离剂层的剥离膜而成的表面保护膜，所述剥离剂层含有碱金属盐、含有至少一个以上醚键的酯类增塑剂及硅酮类剥离剂，所述剥离剂层中所含的所述碱金属盐成分只存在于所述粘着剂层的表面。
此外，所述硅酮类剥离剂优选为以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂。
此外，所述粘着剂层优选为含有经交联的(甲基)丙烯酸酯共聚物的丙烯酸类粘着剂层。
此外，将所述粘着剂层从作为被粘物的光学用膜上剥离时的表面电位优选为+0.7kV～-0.7kV。
此外，将所述剥离膜从所述粘着剂层上剥离时的剥离力优选为0.005～0.3N/50mm。
此外，本发明提供了一种光学部件，其是在剥离掉所述剥离膜的状态下经由所述粘着剂层贴合所述表面保护膜而成。
发明效果
本发明的表面保护膜为贴合在光学用膜表面的表面保护膜，所述表面保护膜即使对表面具有凹凸的光学用膜也能够贴合。
此外，根据本发明，能够提供一种表面保护膜及使用了该表面保护膜的光学部件，所述表面保护膜对被粘物的污染非常少、且对被粘物的污染性不发生经时变化。
此外，根据本发明，能够提供一种表面保护膜及使用了该表面保护膜的光学部件，所述表面保护膜即使在作为光学部件的偏振片的构成材料(将TAC膜变更为丙烯酸膜、环状聚烯烃膜或聚酯膜，将水性粘着剂变更为紫外线固化型粘着剂)发生变化的情况下，也可以较低地抑制剥离表面保护膜时的剥离静电压。
此外，本申请发明的表面保护膜具有以下特征：其是在由具有透明性的树脂所构成的基材膜的一面上形成粘着剂层，并在所述粘着剂层上，经由剥离剂层贴合了在树脂膜的一个面上形成剥离剂层的剥离膜而成，所述剥离剂层中所含的碱金属盐的成分从所述剥离剂层转印到所述粘着剂层的表面，将所述粘着剂层从被粘物剥离时的剥离静电压降低。
此外，根据本发明的表面保护膜，将剥离掉剥离膜状态下的表面保护膜贴合在被粘物上后，能够减小将表面保护膜从被粘物剥离时的剥离静电压，并且防剥离静电性能的经时变化以及对被粘物的污染小，因此可以谋求通过作为被粘物的光学部件的生产性及提高生产率。
附图说明
图1为本发明的表面保护膜的概念截面图；
图2为表示将剥离膜从本发明的表面保护膜上剥离后的状态的截面图；
图3为表示将本发明的表面保护膜以剥离掉剥离膜的状态贴合在光学部件上的一个实施例的截面图。
附图标记说明
1…基材膜；2…粘着剂层；3…树脂膜；4…剥离剂层；5…剥离膜；7…抗静电剂；8…被粘物(光学部件)，10…表面保护膜；11…剥离掉剥离膜状态的表面保护膜；20…贴合有表面保护膜的光学部件。
具体实施方式
以下通过实施方式对本发明进行详细的说明。
图1为发明的表面保护膜的概念截面图。该表面保护膜10在透明的基材膜1的一个面的表面上，形成有粘着剂层2。在该粘着剂层2的表面上，贴合有在树脂膜3的表面形成有剥离剂层4的剥离膜5。
此外，剥离剂层4含有碱金属盐、含有至少一个以上醚键的酯类增塑剂、硅酮类剥离剂。
作为本发明的表面保护膜10中所使用的基材膜1，使用由具有透明性以及可挠性的树脂所构成的基材膜。由此，能够以将表面保护膜贴合在作为被粘物的光学部件上的状态，进行光学部件的外观检测。用作基材膜1的由具有透明性的树脂所组成的膜，适宜使用聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚间苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等聚酯膜。除了聚酯膜以外，只要具有所需强度且具有光学适应性，则也可使用由其他树脂构成的膜。基材膜1可以是无拉伸膜，也可以是经单轴或双轴拉伸的膜。此外，也可以将拉伸膜的拉伸倍率或伴随拉伸膜的结晶化所形成的轴方向的取向角度控制在特定的值。
本发明的表面保护膜10中所使用的基材膜1的厚度并没有特别限定，但优选12～100μm左右的厚度，若为20～75μm左右的厚度则更容易操作，因而更优选。
此外，可根据需要，在基材膜1的形成粘着剂层2一面的相反面上设置防止表面污垢的防污层、抗静电层、防伤痕的硬涂层等。此外，也可以在基材膜1的表面上实施基于电晕放电的表面改性、涂布锚固剂等易粘合处理。
在本发明的表面保护膜10中所形成的粘着剂层2中，剥离剂层4(详细如后所述)中所含的抗静电剂(碱金属盐)的成分并不存在于粘着剂层2的内部(表面以外)，而是只存在于粘着剂层2的表面(参照图2及图3的符号7)。因此，可以抑制表面保护膜10的抗剥离静电性能的经时变化及对被粘物的污染。
此外，本发明的表面保护膜10中所形成的粘着剂层2只要是贴合在被粘物的表面上，使用后可以简单地剥离，并且难以污染被粘物的粘着剂，则无特别限定。本发明的表面保护膜10，若考虑要求贴合在光学用膜上之后的耐久性等，则优选使(甲基)丙烯酸酯共聚物交联而成的丙烯酸类粘着剂层。
作为(甲基)丙烯酸酯共聚物，可列举出丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基已酯，丙烯酸异辛酯、丙烯酸异壬酯等主单体与丙烯腈、醋酸乙烯酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯等共聚单体、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸羟乙酯、丙烯酸羟丁酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、N-羟甲基甲基丙烯酰胺等官能性单体进行共聚的共聚物。(甲基)丙烯酸酯共聚物的主单体以及其他单体可以均为(甲基)丙烯酸酯，作为主单体之外的单体，也可以含有一种或两种以上除(甲基)丙烯酸酯之外的单体。
此外，可以向(甲基)丙烯酸酯共聚物中共聚或混合含有聚氧亚烷基的化合物。作为含有可共聚的聚氧亚烷基的化合物，可列举出聚乙二醇(400)单丙烯酸酯、聚乙二醇(400)单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(400)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯、聚丙二醇(400)单丙烯酸酯、聚丙二醇(400)单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(400)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(400)甲基丙烯酸酯等。通过使这些含有聚氧亚烷基的单体与所述(甲基)丙烯酸酯共聚物的主单体或官能性单体进行共聚，可以获得由含有聚氧亚烷基的共聚物所构成的粘着剂。
作为可以与(甲基)丙烯酸酯共聚物混合的含有聚氧亚烷基的化合物，优选含有聚氧亚烷基的(甲基)丙烯共聚物，更优选含有聚氧亚烷基的(甲基)丙烯类单体的聚合物，例如，聚乙二醇(400)单丙烯酸酯、聚乙二醇(400)单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(400)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯、聚丙二醇(400)单丙烯酸酯、聚丙二醇(400)单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(400)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(400)甲基丙烯酸酯等聚合物。通过将这些含有聚氧亚烷基的化合物与所述(甲基)丙烯酸酯共聚物进行混合，可以获得添加有含有聚氧亚烷基的化合物的粘着剂。
作为粘着剂层2中所添加的固化剂，使(甲基)丙烯酸酯共聚物交联的交联剂，可列举出异氰酸酯化合物、环氧化合物、三聚氰胺化合物、金属螯合化合物等。此外，作为增粘剂，可列举出松香类、香豆酮-茚类、萜烯类、石油类、酚类等。
本发明的表面保护膜10中所形成的粘着剂层2的厚度没有特别限定，优选5～40μm左右的厚度，更优选10～30μm左右的厚度。由于从被粘物上剥离表面保护膜时的操作性优异，故而优选表面保护膜的对被粘物表面的剥离强度(粘着力)为0.03～0.3N/25mm左右的具有微粘合力的粘着剂层2。此外，由于从表面保护膜10剥离掉剥离膜5时的操作性优异，因此优选从粘着剂层2剥离剥离膜5时的剥离力为0.005～0.3N/50mm。
此外，本发明的表面保护膜10中所使用的剥离膜5，是在树脂膜3的一面上层叠剥离剂层4而成，该剥离剂层4含有硅酮类剥离剂、不与该剥离剂反应的抗静电剂7、分子中至少含有一个以上醚键的酯类增塑剂。
作为树脂膜3，可列举出聚脂膜、聚酰胺膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚酰亚胺膜等，由于具有优异的透明性及低廉的价格，因此特别优选聚脂膜。树脂膜可以是无拉伸膜，也可以是单轴或双轴拉伸膜。此外，可以将拉伸膜的拉伸倍率、伴随拉伸膜的结晶化所形成的轴方向的取向角度控制在特定的值。
树脂膜3的厚度没有特别限制，例如优选12～100μm左右的厚度，若为20～50μm左右的厚度，则容易操作，故而更优选。
此外，可根据需要，在树脂膜3的表面上实施基于电晕放电的表面改性、涂布锚固剂等易粘合处理。
作为构成剥离剂层4的硅酮类剥离剂，优选以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂，可列举出加成反应型、缩合反应型、阳离子聚合型、自由基聚合型等公知的硅酮类剥离剂。作为加成反应型硅酮类剥离剂市售的产品，例如可列举出KS-776A、KS-847T、KS-779H、KS-837、KS-778、KS-830(信越化学工业(株)制)、SRX-211、SRX-345、SRX-357、SD7333、SD7220、SD7223、LTC-300B、LTC-350G、LTC-310(Dow Corning Toray(株)制)等。作为缩合反应型市售的产品，例如可列举出SRX-290、SYLOFF-23(Dow Corning Toray(株)制)等。作为阳离子聚合型市售的产品，例如可列举出有TPR-6501、TPR-6500、UV9300、VU9315、UV9430(Momentive Performance Materials制)、X62-7622(信越化学工业(株)制)等。作为自由基聚合型市售的产品有X62-7205(信越化学工业(株)制)等。
作为剥离剂层4中所含的抗静电剂，优选对以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂溶液的分散性良好且不会阻碍以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂的固化的抗静电剂。此外，由于从剥离剂层4转移至粘着剂层2的表面赋予粘着剂层抗静电效果，因此不与以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂反应者为佳。碱性金属盐非常适合作为这样的抗静电剂来使用。
作为碱性金属盐可例举由锂、钠、钾所组成的金属盐。具体而言，例如适合使用选自Li+、Na+、K+的阳离子与选自Cl—、Br—、I—、BF4 —、PF6 —、SCN—、ClO4 —、CF3SO3 —、(CF3SO2)2N—、(C2F5SO2)2N—、(CF3SO2)3C—的阴离子所构成的金属盐。其中特别优选使用LiBr、LiI、LiBF4、LiPF6、LiSCN、LiClO4、LiCF3SO3、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(CF3SO2)3C等的锂盐。这些碱金属盐既可以单独使用，也可以两种以上进行混合使用。为了离子性物质的稳定化，可以添加含有聚氧亚烷基结构的化合物。
抗静电剂相对于以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂的添加量，根据抗静电剂的种类或与剥离剂之间的亲和度而不同，但可考虑从被粘物上剥离表面保护膜时所期待的剥离静电压、对被粘物的污染性以及粘合特性等来设定。
作为剥离剂层4中所含有的增塑剂，优选对以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂溶液的分散性好且不会阻碍以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂溶液的固化的增塑剂。此外，增塑剂起到辅助使剥离剂层4中所含有的抗静电剂从剥离剂层4转移至粘着剂层2表面的作用。因此，增塑剂最好是不与以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂进行反应的物质。作为这样的增塑剂，适宜的是分子中至少含有一个以上醚键的酯类增塑剂。
酯类增塑剂中的、分子中存在的至少一个以上的醚键需要容易与碱金属盐配位。此外，在本发明的表面保护膜中，剥离剂层与粘着剂层相接触时，为了使抗静电剂成分高效率地从剥离剂层转印到粘着剂层的表面上，使用了增塑剂。本发明中为了提高剥离剂层与粘着剂层的亲和度，适宜使用含有酯基的增塑剂。
作为所述分子中含有至少一个以上醚键的酯类增塑剂，可列举出二亚烷基二醇至聚亚烷基二醇(具有2个或3个以上亚烷基的二醇类)的二酯类增塑剂。作为具体例，可列举出有二乙二醇二-2-乙基己酸酯、三乙二醇二-2-乙基己酸酯、四乙二醇二-2-乙基己酸酯、六乙二醇二-2-乙基己酸酯、三乙二醇二乙基丁酸酯、聚乙二醇二乙基丁酸酯、三乙二醇二已酸酯、四乙二醇二已酸酯、三乙二醇二庚酸酯、四乙二醇二庚酸酯、聚丙二醇二乙基己酸酯、二乙二醇二苯甲酸酯、三乙二醇二苯甲酸酯、四乙二醇二苯甲酸酯、聚乙二醇二苯甲酸酯、二丙二醇二苯甲酸酯、聚丙二醇二苯甲酸酯、或聚乙二醇-2-乙基己酸苯甲酸酯等。
作为其他例子，可列举出羧酸的烷氧基烷基酯类。作为其具体例，可列举出有苯二甲酸二(2-丁氧基乙酯)、己二酸二(2-丁氧基乙酯)、己二酸二(丁氧基乙氧基乙酯)等。
可从所述酯类增塑剂中选择一种或者混合两种以上进行使用。在此，乙基己酸酯也被称作乙基己酸酯(ethylhexanoate)、乙基己酸酯(ethylhexoate)、乙基己酸酯(ethylhexane acid ester)等。苯甲酸酯(benzoate)则指安息香酸酯。
酯类增塑剂相对于以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂的添加量，因可塑剂的种类、与剥离剂之间的亲和度而不同，但可考虑从被粘物上剥离表面保护膜时所期望的剥离静电压、对被粘物的污染性、粘合特性等来设定。
剥离剂层4由以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂、不与该剥离剂反应的抗静电剂、酯类增塑剂的混合物构成。以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂与抗静电剂及酯类增塑剂之间的混合方法无特别的限定。可使用以下任一方法：向以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂中添加并混合抗静电剂及酯类增塑剂之后，添加并混合剥离剂固化用催化剂的方法；使用有机溶剂预先稀释以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂之后，添加并混合抗静电剂及酯类增塑剂以及剥离剂固化用催化剂的方法；将以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂预先稀释于有机溶剂后，添加并混合催化剂，然后添加并混合抗静电剂及酯类增塑剂的方法等。此外，根据需要，可以添加硅烷偶联剂等贴付性改善剂、含有聚氧亚烷基的化合物等的辅助抗静电效果的材料。
以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂与抗静电剂的混合比例(重量比)并无特别限定，但相对于为主要成分的剥离剂的固体成分100份，以固体成分计抗静电剂优选5～100份左右的比例。相对于以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂的固体成分100份抗静电剂的固体成分换算的添加量小于5份的比例时，抗静电剂向粘着剂层表面的转印量减少，难以发挥赋予粘着剂的抗静电功能。此外，相对于以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂的固体成分100份抗静电剂的固体成分换算的添加量超过100份的比例时，抗静电剂与以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂同时被转印到粘着剂层的表面上，因此可能会降低粘着剂的粘着特性。
以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂与酯类增塑剂的混合比例(重量比)并无特别限定，但相对于以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂的固体成分100份，以固体成分计酯类增塑剂优选5～300份左右的比例。相对于以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂的固体成分100份酯类增塑剂的固体成分换算的添加量小于5份的比例时，缺乏容易使抗静电剂向粘着剂层表面转印的效果，难以发挥赋予粘着剂的抗静电功能。此外，相对于以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂的固体成分100份酯类增塑剂的固体成分换算的添加量超过300份的比例时，剥离膜的剥离性能可能会变差。此外，抗静电剂、酯类增塑剂与以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂一起转印到粘着剂层的表面上，因此可能会降低粘着剂的粘合性。
在本发明的表面保护膜10的基材膜1上形成粘着剂层2的方法、以及贴合剥离膜5的方法可以通过公知的方法来进行，并无特别限定。具体的可列举出以下方法：(1)在基材膜1的一面上涂布用于形成粘着剂层2的树脂组合物使其干燥，形成粘着剂层之后，贴合剥离膜5的方法；(2)在剥离膜5的表面上涂布用于形成粘着剂层2的树脂组合物并使其干燥，形成粘着剂层之后，贴合基材膜1的方法等，使用其中任何一种均可。
此外，在基材膜1的表面上形成粘着剂层2的方法可以为公知的方法。具体而言，可以使用反向涂布、刮刀式涂布、凹印涂布、夹缝式挤压型涂布、迈耶棒涂布、气刀涂布等公知的涂布方法。
此外，同样地，在树脂膜3上形成剥离剂层4时所使用的方法可以为公知的方法。具体而言，可以使用凹印涂布、迈耶棒涂布、气刀涂布等公知的涂布方法。
具有所述构造的本发明的表面保护膜10，从作为被粘物的光学用膜上剥离粘着剂层时的表面电位优选为+0.7kV～-0.7kV。更进一步，表面电位更优选为+0.5kV～-0.5kV，特别优选为+0.2kV～-0.2kV。该表面电位可以通过加减剥离剂层4中所含的抗静电剂7以及酯类增塑剂的种类、添加量等来进行调整。可以考虑将表面保护膜10从作为被粘物的光学用膜上剥离之后的作为被粘物的光学用膜的表面污染性，来调整剥离剂层4的抗静电剂7以及酯类增塑剂的种类、添加量。
图2为表示剥离掉剥离膜状态下的表面保护膜11的截面图，表示从图1中的本发明的表面保护膜10上剥离掉剥离膜5的状态。
通过从图1所示的表面保护膜10上剥离掉剥离膜5，使剥离膜5的剥离剂层4中所含有的抗静电剂(符号7)的一部分转印(附着)到表面保护膜10的粘着剂层2的表面。因此，在图2的剥离掉剥离膜的表面保护膜11中，表面保护膜11的粘着剂层2表面上附着的抗静电剂以符号7的斑点(圆形)表示。通过使抗静电剂7的成分从剥离膜5的剥离剂层4转印到粘着剂层2的表面，与转印抗静电剂7的成分之前的粘着剂层2相比，将图2的表面保护膜11贴合在被粘物后，将表面保护膜11从被粘物上剥离时的剥离静电压降低。此外，将图2的表面保护膜11从被粘物上剥离时的剥离静电压可以通过公知的方法来进行测定。例如，将图2的表面保护膜11贴合在偏振片等被粘物上后，使用高速剥离试验机(TESTER产业制)以每分钟40m的剥离速度剥离表面保护膜，同时使用表面电位计(Keyence有限公司制)以每10ms测定被粘物表面的表面电位，并将此时的表面电位的绝对值的最大值作为剥离静电压(kV)。
本发明的表面保护膜中，当将图2的剥离掉剥离膜的状态的表面保护膜11贴合在被粘物上时，转印到粘着剂层2的表面上的抗静电剂与被粘物的表面进行接触。由此，可以较低地抑制再次将表面保护膜11从被粘物上剥离时的剥离静电压。
此外，在本发明的表面保护膜10上所形成的粘着剂层2的表面上，可以存在也可不存在在分子中至少含有一个以上醚键的酯类增塑剂。所述的酯类增塑剂可以从剥离膜5的剥离剂层4中转印到粘着剂层2的表面上，也可以不转印。所述酯类增塑剂从剥离剂层4转印到粘着剂层2的表面的情况下，剥离剂层4中所含的酯类增塑剂不存在于粘着剂层2的内部(表面以外)而仅存在于粘着剂层2的表面上。
图3表示将本发明的表面保护膜以剥离掉剥离膜的状态贴合在光学部件上的一个实施例的截面图。
将剥离膜5从本发明的表面保护膜10上剥离，以露出粘着剂层2(图2的表面保护膜11)的状态，经由粘着剂层2贴合在作为被粘物的光学部件8上。
即图3表示一种贴合了从本发明的表面保护膜10上剥离掉剥离膜5的状态下的表面保护膜11的光学部件20。作为光学部件可列举出偏振片、相位差板、镜片膜、相位差板兼用的偏振片、镜片膜兼用的偏振片等光学用膜。上述光学部件可用作液晶显示器等液晶显示装置、各种计量仪器类的光学系统装置等构成部件。此外，作为光学部件，可列举出有防反射膜、硬涂膜、触摸面板用透明导电性膜等光学用膜。
本发明的表面保护膜10，将剥离掉剥离膜5状态下的表面保护膜11贴合在作为被粘物的光学部件(光学用膜)后，可以充分较低抑制将表面保护膜11从被粘物上剥离去除时的剥离静电压。因此，不需担忧损坏驱动IC、TFT元件、栅极线驱动电路等电路部件，可以提高液晶显示器等制造工序的生产效率，保持生产工序的可靠性。
实施例
接下来根据实施列来对本发明进行进一步详细的说明。
(实施例1)
(表面保护膜的制作)
将5重量份加成反应型硅酮(Dow Corning Toray(有株)制，商品名：SRX-345)、0.75重量份的双氟磺酰基亚胺锂、0.75重量份的四乙二醇二-2-乙基己酸酯、95重量份的甲苯与醋酸乙酯的1:1混合溶剂、0.05重量份的铂催化剂(Dow Corning Toray(株)制，商品名：SRX-212)混合，进行搅拌混合，制备形成实施例1的剥离剂层的涂料。在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂膜的表面上使用迈耶棒涂布形成实施例1的剥离剂层的涂料，使干燥后的厚度为0.2μm，使用120℃的热风循环式烘箱进行1分钟的干燥，得到实施例1的剥离膜。
另一方面，相对于由90重量份丙烯酸2-乙基己酯、7重量份的甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯、3重量份丙烯酸2-羟乙酯的共聚物所构成的粘着剂的40％醋酸乙酯溶液100重量份，搅拌并混合2重量份异氰酸酯类固化剂(东曹有限公司制CORONATE(注册商标)HX)，配制实施例1的粘着剂组合物。
在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜表面上以使干燥后的厚度为20μm的方式涂布制备的粘着剂组合物后，使用100℃的热风循环烘箱进行2分钟的干燥，形成粘着剂层。之后，在该粘着剂层的表面上，经由剥离剂层(硅酮处理面)贴合所述制备的实施例1的剥离膜。将所得的粘合膜在40℃的环境下保温5天，使粘着剂层固化，得到实施例1的表面保护膜。
(实施例2)
除了使形成实施例1的剥离剂层涂料的干燥后厚度为0.1μm之外，以与实施例1相同的方式得到实施例2的表面保护膜。
(实施例3)
除了将实施例1的加成反应型硅酮变更为Dow Corning Toray(株)制商品名：SRX-211，将双氟磺酰基亚胺锂变更为双三氟甲烷磺酰亚胺锂之外，以与实施例1相同的方式得到实施例3的表面保护膜。
(比较例1)
将5重量份加成反应型硅酮(Dow Corning Toray(株)制，商品名：SRX-345)，95重量份的甲苯与醋酸乙酯的1:1混合溶剂、0.05重量份的铂催化剂(Dow Corning Toray(株)制，商品名：SRX-212)进行搅拌混合，制备形成比较例1的剥离剂层的涂料。在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面上，使用迈耶棒将形成比较例1的剥离剂层的涂料以干燥后的厚度为0.2μm的方式涂布，使用120℃的热风循环烘箱进行1分钟的干燥，以此获取比较例1的剥离膜。
另一方面，在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜表面上以使干燥后的厚度为20μm的方式涂布实施例1的粘着剂后，使用100℃的热风循环干燥箱进行2分钟的干燥，形成粘着剂层。之后，在该粘着剂层的表面上，经由剥离剂层(硅酮处理面)贴合所述制备的比较例1的剥离膜。将所得的粘合膜在40℃的环境下保温5天，使粘着剂层固化，以此获取比较例1的表面保护膜。
(比较例2)
除未向剥离剂层添加四乙二醇二-2-乙基己酸酯以外，以与实施例1相同的方式得到比较例2的表面保护膜。
(比较例3)
除了在粘着剂侧相对于100重量份40％醋酸乙酯溶液添加0.67重量份双氟磺酰基亚胺锂来替代向剥离剂中添加双氟磺酰基亚胺锂以外，以与实施例1相同的方式得到比较例3的表面保护膜。
以下表示了评价试验的方法及结果
<剥离膜的剥离力的测定方法>
将表面保护膜的样品剪切为宽50mm、长150mm。在23℃×50％RH的试验环境下，使用拉伸试验机以300mm/分钟的剥离速度在180°的方向上测定剥离剥离膜时的强度，并以此作为剥离膜的剥离力(N/50mm)。
(粘着剂层的表面电阻率)
从表面保护膜样品上剥离剥离膜后，使用高性能高电阻率计(三菱化学Analytech社制Hiresta(注册商标)-UP)在施加电压为100V、测定时间为30秒的条件下测定粘合剂层的表面电阻率(Ω/□)。
<表面保护膜的粘合力的测定方法>
将使用紫外线固化型粘合剂在起偏镜(含有碘元素的聚乙烯醇膜)上贴合丙烯酸膜并经过防眩光处理的偏振片(AG-LR)作为被粘物。使用贴合机用双面粘着胶带将该偏振片贴合在玻璃板的表面上。然后在偏振片表面的丙烯酸膜上，贴合剪切成宽25mm的表面保护膜，然后在23℃×50％RH的试验环境下保存一天。之后使用拉伸试验机以300mm/分钟的剥离速度，在180°的方向上测定剥离表面保护膜时的强度，并以此作为剥离力(N/25mm)。
<表面保护膜的剥离静电压的测定方法>
将通过使用紫外线固化型粘着剂，在起偏镜(含有碘元素的聚乙烯醇膜)上贴合丙烯酸膜并经过防眩光处理的偏振片(AG-LR)作为被粘物。使用贴合机用双面粘着胶带将该偏振片贴合在玻璃板的表面上。然后在偏振片表面的丙烯酸膜上，贴合剪切成宽25mm的表面保护膜，然后在23℃×50％RH的试验环境下保存一天。之后使用高速剥离试验机(TESTER产业制)以每分钟40m的剥离速度剥离表面保护膜，同时使用表面电位计(Keyence(株)制)每10ms测定前述偏振片表面的表面电位，并将此时表面电位的绝对值的最大值作为剥离静电压(kV)。
<表面保护膜的表面污染性的确定方法>
将通过使用紫外线固化型粘着剂在起偏镜(含有碘元素的聚乙烯醇膜)上贴合丙烯酸膜并经过防眩光处理的偏振片(AG-LR)作为被粘物。使用贴合机用双面粘着胶带将该偏振片贴合在玻璃板的表面上。然后在偏振片表面的丙烯酸膜上，贴合剪切成宽25mm的表面保护膜，然后在23℃×50％RH的试验环境下保存3天及30天。之后剥离表面保护膜，通过目测观察偏振片表面上是否存在污染，确认表面污染性。作为表面污染性的判定标准，将偏振片上无污染转移的情况评价为(○)，确认到偏振片上有污染的转移的情况评价为(×)。
对于得到的实施例1～3及比较例1～3的表面保护膜，其测定结果如表1所示。“2EHA”为丙烯酸2-乙基已酯、“HEA”为丙烯酸羟乙酯，“#400G”为甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯、“AS剂(1)”为双氟磺酰基亚胺锂、“AS剂(2)”为双三氟甲烷磺酰亚胺锂、“SRX-345”为SRX-345、“SRX-211”为SRX-211、「SRX-212」为铂催化剂SRX-212、“增塑剂”为四乙二醇二-2-乙基己酸酯。此外，表面电阻率的“3.2E10”为3.2×1010、“超量程”意为超出了测定机的测定范围，即意为1.0×1013Ω/□以上。
[表1]
根据表1所示测定结果可以得到以下结论。
本发明的实施例1～3的表面保护膜具有适度的粘着力，并对被粘物表面没有污染。并且，即使被粘物为使用了丙烯酸膜的偏振片，将表面保护膜从被粘物所剥离时的剥离静电压低。
另一方面，在剥离剂层中未添加抗静电剂的比较例1的表面保护膜、以及在剥离剂层中未添加酯类增塑剂的比较例2的表面保护膜，其将表面保护膜从被粘物上剥离时的剥离静电压增大。此外，在粘着剂层中使用抗静电剂来替代在剥离剂层中使用抗静电剂的比较例3的表面保护膜，将表面保护膜从被粘物上剥离时的剥离静电压小，呈良好，但是在剥离后对被粘物的污染增多。
即，比较例1～3的表面保护膜难以兼顾降低剥离静电压与对被粘物的低污染性。另一方面，在剥离剂层中添加了抗静电剂和酯类增塑剂的实施例1～3的表面保护膜，剥离静电压的降低效果高，并且对被粘物没有污染，良好兼顾降低剥离静电压与对被粘物的低污染性。
工业实用性
本发明的表面保护膜在例如偏振片、相位差板、镜片膜、防反射膜、硬涂层膜、透明导电性膜等光学用膜及其他各种光学部件的生产工序中，能够贴合于这些光学部件等的表面以保护表面。此外，本发明的表面保护膜在剥离掉剥离膜的状态下贴合于作为被粘物的光学部件(光学用膜)上后，可以较低地抑制将表面保护膜从被粘物上剥离时所产生的剥离静电压，并且抗剥离静电性能的经时变化以及对被粘物的污染少，可以提高生产工序的成品率，在产业上的利用价值大。

Claims (6)

1.一种表面保护膜，其特征在于，其是在由具有透明性的树脂所构成的基材膜的一个面上形成粘着剂层，并在所述粘着剂层上，经由剥离剂层贴合了在树脂膜的一个面上形成剥离剂层的剥离膜而成，
所述剥离剂层含有碱金属盐、含有至少一个以上醚键的酯类增塑剂、硅酮类剥离剂，
所述剥离剂层中所含的所述碱金属盐成分只存在于所述粘着剂层的表面上。
2.根据权利要求1所述的表面保护膜，其特征在于，所述硅酮类剥离剂为以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂。
3.根据权利要求1或2所述的表面保护膜，其特征在于，所述粘着剂层为含有经交联的(甲基)丙烯酸酯共聚物的丙烯酸类粘着剂层。
4.根据权利要求1或2所述的表面保护膜，其特征在于，将所述粘着剂层从作为被粘物的光学用膜上剥离时的表面电位为+0.7kV～-0.7kV。
5.根据权利要求1或2所述的表面保护膜，其特征在于，将所述剥离膜从所述粘着剂层上剥离时的剥离力为0.005～0.3N/50mm。
6.一种光学部件，其是以剥离掉所述剥离膜的状态经由所述粘着剂层贴合权利要求1～5中任一项所述的表面保护膜而成。
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