TWI634015B - 防靜電表面保護膜用剝離膜、防靜電表面保護膜及被貼合在上述的光學組件 - Google Patents

防靜電表面保護膜用剝離膜、防靜電表面保護膜及被貼合在上述的光學組件 Download PDF

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Abstract

本發明提供一種表面保護膜、以及使用該表面保護膜的光學組件，對被黏附體的污染少、不會經時劣化且具有優異的防剝離靜電性能。在透明基材膜(1)的單面形成有黏結劑層(2)，在該黏結劑層(2)上貼合有剝離膜(5)的表面保護膜(10)中，黏結劑層(2)含有防靜電劑，剝離膜(5)是在樹脂膜(3)的單面層疊剝離劑層(4)而成，該剝離劑層(4)包含以二甲基聚矽氧烷作為主要成分的剝離劑和20℃溫度下是液體的矽氧樹脂類化合物(7)。黏結劑層(2)由與含有聚氧化烯基的化合物共聚合的(甲基)丙烯酸類聚合物所形成、或者由混合了含有聚氧化烯基的化合物的(甲基)丙烯酸類聚合物所形成。

Description

防靜電表面保護膜用剝離膜、防靜電表面保護膜及被貼合在上述的光 學組件
本發明涉及貼合在偏光板、相位差板、顯示器用透鏡膜等光學組件(下面，也稱為“光學用膜”)的表面的表面保護膜。更詳細而言，本發明提供一種對被黏附體污染少、不會經時劣化且具有優異的防剝離靜電性能的表面保護膜、以及使用該表面保護膜的光學組件。
在製造和搬送使用了偏光板、相位差板、顯示器用透鏡膜、防反射膜、硬塗膜、觸控面板用透明導電性膜等光學用膜的顯示器等光產學品時，通過在上述光學用膜的表面貼合表面保護膜，來防止後續步驟中的表面污染或劃痕。在製造光學用膜時的外觀檢查中，為了省略剝掉表面保護膜並再次貼合的時間而提高作業效率，有時還會在光學用膜上貼合表面保護膜的狀態下作業。
以往，在光學產品的製造步驟中，為了防止損傷或污染物的附著，通常使用在基材膜的單面設有黏結劑層的表面保護膜。表面保護膜通過具有微黏結力的黏結劑層貼合在光學用膜上。之所以使用具有微黏結力的黏結劑層，是因為當將已經用完的表面保護膜從光學用膜的表面剝離並去除時，能夠容易地 進行剝離，且能夠防止黏結劑附著並殘留在作為被黏附體的光學用膜產品(所謂的防止殘膠的產生)。
近年來，在液晶顯示器面板的生產步驟中，由於在剝離並去除貼合在光學用膜上的表面保護膜時所產生的剝離靜電壓，用於控制液晶顯示畫面的驅動積體電路(driver integrated circuit)等電路組件受損的現象、或液晶分子的配向受損的現象，雖然發生的件數少，但畢竟還是在發生。
另外，為了減少液晶顯示器面板的耗電，液晶材料的驅動電壓變低，驅動積體電路的擊穿電壓(breakdown voltage)也隨之變低。最近，還要求將剝離靜電壓控制在+0.5kV~-0.5kV的範圍內。
另一方面，在移動電話或智慧手機等移動終端中，為了觀看動畫或在戶外使用，要求高精細化、高對比度化的顯示器。並且，在電視機等大型顯示器中，由於追求大螢幕化或現場感，因而也要求高精細化、高對比度化。隨著顯示器的高精細化、高對比度化，對顯示器面板所使用的組件的外觀品質(異物、缺點的管理)的要求內容也變高。例如，以往，是在普通螢光燈下，通過肉眼來進行外觀檢查，但現在是通過在暗室使用三波長螢光燈、或手電筒、特定波長的燈來進行檢查等，從而檢測出在以往的外觀檢查中無法確認的污染或缺點。
隨著顯示器的高精細化、高對比度化，所使用的偏光板等光學膜的規格也正在變化。從以往的表面經過透明硬塗膜處理的偏光板或表面經過防眩光(Anti Glare，AG)處理 的偏光板，到現在的表面為低反射處理品的低反射(Low Reflective，LR)偏光板或防眩光-低反射(AG-LR)偏光板的使用比例增加。在低反射偏光板或防眩光-低反射偏光板中，在剝離表面保護膜時的靜電壓與以往的表面經過硬塗處理的偏光板或表面經過防眩光處理的偏光板相比，有變高的傾向。並且，與以往的表面經過硬塗處理的偏光板或表面經過防眩光處理的偏光板相比，具有容易觀察對被黏附體的表面造成的污染的傾向。即使在以往使用表面經過硬塗處理的偏光板或表面經過防眩光處理的偏光板時不成問題的表面保護膜，在使用於低反射偏光板或防眩光-低反射偏光板的情況下，也存在產生剝離時的靜電壓或對被黏附體的表面造成污染的問題。
如此地，隨著顯示器面板所使用的組件的變更或所要求的外觀特性的高度化，對貼合在光學組件的表面保護膜的要求性能也正在變化。
最近，要求一種如下的表面保護膜：在從作為被黏附體的光學用膜剝離表面保護膜時，能夠抑制剝離靜電壓變得較低，且對光學膜等被黏附體的污染非常小的表面保護膜。為了在從作為被黏附體的光學用膜(光學組件)剝離表面保護膜時，防止因剝離靜電壓高而導致缺陷，提出了一種將包含用於抑制剝離靜電壓變得較低的防靜電劑的黏結劑層加以層疊成而的表面保護膜。
例如，在專利文獻1中，公開了使用由烷基三甲基銨鹽、含羥基丙烯酸類聚合物、聚異氰酸酯構成的黏結劑的表面保護膜。
另外，在專利文獻2中，公開了由離子性液體和酸價為1.0以下的丙烯酸聚合物構成的黏結劑組合物、以及使用了該黏結劑組合物的黏結片類。
另外，在專利文獻3中，公開了由丙烯酸聚合物、聚醚多元醇化合物、用陰離子吸附性化合物進行處理的鹼金屬鹽構成的黏結組合物、以及使用了該黏結組合物的表面保護膜。
另外，在專利文獻4中，公開了由離子性液體、鹼金屬鹽、玻璃轉移溫度為0℃以下的聚合物構成的黏結劑組合物、以及使用了該黏結劑組合物的表面保護膜。
另外，在專利文獻5和專利文獻6中，公開了在表面保護膜的黏結劑層中混合聚醚改質矽氧樹脂的內容。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1：日本特開2005-131957號公報
專利文獻2：日本特開2005-330464號公報
專利文獻3：日本特開2005-314476號公報
專利文獻4：日本特開2006-152235號公報
專利文獻5：日本特開2009-275128號公報
專利文獻6：日本專利第4537450號公報
在上述專利文獻1~專利文獻4中，雖然在黏結劑層的內部添加有防靜電劑，但是，隨著黏結劑層的厚度變厚，且隨著時間的經過，相對於貼合有表面保護膜的被黏附體，從 黏結劑層向被黏附體移動的防靜電劑的量變多。並且，在低反射偏光板或防眩光-低反射偏光板等光學用膜所使用的表面保護膜中，由於利用矽氧樹脂化合物或氟化合物等對光學用膜的表面進行了防污染處理，因此，從被黏附體剝離這種光學用膜所使用的表面保護膜時，剝離靜電壓會變高。
另外，如專利文獻5和專利文獻6所述，在黏結劑層中混合有聚醚改質矽氧樹脂的情況下，難以對表面保護膜的黏結力進行微調整。並且，由於黏結劑層內混合有聚醚改質矽氧樹脂，因而若在基材膜上塗佈/乾燥黏結劑組合物的條件發生變化，則形成於表面保護膜的黏結劑層的表面特性發生微妙的變化。進而，從保護光學用膜表面的觀點來看，無法使黏結劑層的厚度變得極薄。
為此，必須根據黏結劑層的厚度，增加混合在黏結劑層內的聚醚改質矽氧樹脂的添加量。其結果，容易對被黏附體的表面造成污染，且經時黏結力、對被黏附體的污染性發生變化。
為此，需要如下所述的表面保護膜：一種在低反射偏光板或防眩光-低反射偏光板等光學用膜中使用的表面保護膜，即使光學用膜的表面經過了由矽氧樹脂化合物或氟化合物等進行的防污染處理，也能夠抑制從光學用膜剝離表面保護膜時的剝離靜電壓變得較低，且對被黏附體的污染少。
為了解決上述問題，本發明人等進行了深入的研究。考慮到從光學用膜剝離表面保護膜時所產生的剝離靜電壓是隨著重疊物質的摩擦電序(triboelectric series)離得越遠就越大，因此，試著在黏結劑層的表面形成摩擦電序與光學用膜 的表面材質相近的物質。
其結果發現，並非形成將聚醚改質矽氧樹脂(polyether-modified polysiloxane(s))混合在黏結劑組合物的黏結劑層，而是在塗佈黏結劑組合物並使其乾燥而層疊黏結劑層後，在黏結劑層的表面賦予適量的聚醚改質矽氧樹脂，基於此，能夠抑制從光學用膜剝離表面保護膜時的剝離靜電壓變得較低，由此完成了本發明。
本發明是鑑於上述背景提出的，其課題在於提供對被黏附體污染少、不會產生經時劣化且具有優秀的防剝離靜電性能的表面保護膜、以及使用了該表面保護膜的光學組件。
另外，本發明的課題在於提供一種表面保護膜，其對即使是低反射偏光板、防眩光-低反射偏光板等利用矽化合物或氟化合物等對表面進行防污染處理的光學用膜，也能夠抑制剝離靜電壓變得較低。
為了解決上述課題，本發明的表面保護膜，在基材膜的單面塗佈含有防靜電劑的黏結劑組合物並使其乾燥而層疊黏結劑層之後，在黏結劑層的表面賦予適量的20℃溫度下是液體的矽氧樹脂類化合物，由此抑制從光學用膜剝離表面保護膜時的剝離靜電壓變得較低。
為了解決上述課題，本發明提供一種表面保護膜，其在透明基材膜的單面形成有黏結劑層，在該黏結劑層上貼合有剝離膜，其中，上述黏結劑層含有防靜電劑，上述剝離膜是在樹脂膜的單面層疊剝離劑層而成，該剝離劑層含有以二甲基聚矽氧烷作為主要成分的剝離劑和20℃溫度下是液體的 矽氧樹脂類化合物。
另外，優選地，上述矽氧樹脂類化合物為聚醚改質矽氧樹脂。
另外，優選地，上述黏結劑層由與含有聚氧化烯(polyoxyalkylene)基的化合物共聚合的(甲基)丙烯酸類聚合物形成、或者由混合有含有聚氧化烯基的化合物的(甲基)丙烯酸類聚合物形成。
另外，優選地，上述防靜電劑為鹼金屬鹽。
另外，優選地，上述含有聚氧化烯基的化合物是含有聚氧化烯基的(甲基)丙烯酸類單體或聚合物。
另外，優選地，將上述剝離膜剝離之後的上述黏結劑層的表面電阻率小於1×1013(Ω/□)。
另外，本發明提供貼合有上述表面保護膜的光學部組件。
發明效果
對本發明的表面保護膜而言，即使是低反射偏光板或防眩光-低反射偏光板等利用矽氧樹脂化合物或氟化合物等對表面進行防污染處理的光學膜，也能夠將從作為被黏附體的光學用膜剝離表面保護膜時所產生的剝離靜電壓抑制為較低。另外，能夠提供對被黏附體污染少、不會產生經時劣化且具有優異的防剝離靜電性能的表面保護膜、以及使用了該表面保護膜的光學部件。
其結果，若使用本發明的表面保護膜，能夠可靠地保護光學用膜的表面，從而提高生產率和成品率。
1‧‧‧基材膜
2‧‧‧黏結劑層
3‧‧‧樹脂膜
4‧‧‧剝離劑層
5‧‧‧剝離膜
7‧‧‧20℃溫度下是液體的矽氧樹脂類化合物
8‧‧‧被黏附體(光學組件)
10‧‧‧表面保護膜
11‧‧‧剝掉剝離膜的表面保護膜
20‧‧‧貼合有表面保護膜的光學組件
第1圖是本發明的表面保護膜的示意剖面圖。
第2圖是表示從本發明的表面保護膜剝掉剝離膜的狀態的示意剖面圖。
第3圖是表示本發明的光學組件的一個實施例的剖面圖。
下面，根據實施方式，對本發明進行詳細的說明。
第1圖是本發明的表面保護膜的示意剖面圖。上述表面保護膜10中，在透明基材膜1的單表面形成有黏結劑層2。在該黏結劑層2的表面貼合有剝離膜5，該剝離膜5是在樹脂膜3的表面形成有剝離劑層4的剝離膜。
作為本發明的表面保護膜10所使用的基材膜1，使用具有透明性和可撓性的塑膠膜。基於此，可以在將表面保護膜貼合在作為被黏附體的光學組件的狀態下進行光學組件的外觀檢查。優選作為基材膜1使用的塑膠膜是聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚間苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯等的聚酯膜。除了聚酯膜以外，只要具有所需的強度和光學適應性，也可以使用其他塑膠膜。基材膜1可以是未拉伸的膜，也可以是單軸拉伸膜或雙軸拉伸膜。另外，也可以將拉伸膜的拉伸倍率、隨著拉伸膜的結晶化而形成的軸向的配向角控制為特定值。
對本發明的表面保護膜10所使用的基材膜1的厚度並沒有特別的限制，但是，例如優選為12μm~100μm左右的厚度， 更優選為20μm~50μm左右的厚度，此時，更便於操作。
另外，根據需要，可以在基材膜1的與形成有黏結劑層2的一面相反側的面上，設置用於防止表面污染的防污層、防靜電層、用於防止劃痕的硬塗層等。並且，也可以在基材膜1的表面進行諸如基於電暈放電進行的表面改質、塗佈增粘塗劑等易黏接處理。
另外，本發明的表面保護膜10所使用的黏結劑層2，是由與含有聚氧化烯基的化合物共聚合的(甲基)丙烯酸類聚合物形成、或者由混合有含有聚氧化烯基的化合物的(甲基)丙烯酸類聚合物形成，並根據需要，添加了固化劑、增粘劑的黏結劑。也可以並用共聚合和混合。
作為(甲基)丙烯酸類聚合物，通常可以使用由丙烯酸正丁酯、丙烯酸-2-乙基己酯、丙烯酸異辛酯、丙烯酸異壬酯等主單體，和丙烯腈、乙酸乙烯酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯等共聚用單體，丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸羥乙酯、丙烯酸羥丁酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、N-羥甲基甲基丙烯醯胺等官能性單體進行共聚合而成的聚合物。
作為可以與(甲基)丙烯酸類聚合物進行共聚合的含有聚氧化烯基的化合物，優選為含有聚氧化烯基的(甲基)丙烯酸類單體，例如，可舉出聚乙二醇(400)單丙烯酸酯、聚乙二醇(400)單甲基丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(400)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯、聚丙二醇(400)單丙烯酸酯、聚丙二醇(400)單甲基丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(400)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(400)甲基丙烯酸酯 等。通過將這些含有聚氧化烯基的單體與上述(甲基)丙烯酸類聚合物的主單體或官能性單體進行共聚合，能夠得到由含有聚氧化烯基的共聚物形成的黏結劑。
作為可以與(甲基)丙烯酸類聚合物進行混合的含有聚氧化烯基的化合物，優選為含有聚氧化烯基的(甲基)丙烯酸類聚合物，更優選為含有聚氧化烯基的(甲基)丙烯酸類單體的聚合物，例如，可舉出聚乙二醇(400)單丙烯酸酯、聚乙二醇(400)單甲基丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(400)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯、聚丙二醇(400)單丙烯酸酯、聚丙二醇(400)單甲基丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(400)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(400)甲基丙烯酸酯等聚合物。通過將這些含有聚氧化烯基的化合物與上述(甲基)丙烯酸類聚合物進行混合，能夠得到添加了含有聚氧化烯基的化合物的黏結劑。
本發明的表面保護膜的黏結劑層2含有防靜電劑。作為防靜電劑，優選為相對於(甲基)丙烯酸類聚合物具有優秀的分散性或相溶性的防靜電劑。作為可以使用的防靜電劑的具體例，可例舉表面活性劑類、離子性液體、鹼金屬鹽、金屬氧化物、金屬微粒子、導電性聚合物、碳、奈米碳管等，考慮到透明性、對(甲基)丙烯酸類聚合物的親和性等，優選使用鹼金屬鹽。
作為鹼金屬鹽，可例舉由鋰、鈉、鉀形成的金屬鹽，具體而言，例如，優選使用由Li+、Na+、K+的陽離子和Cl-、Br-、I-、BF4 -、PF6 -、SCN-、ClO4 -、CF3SO3 -、(CF3SO2) 2N-、(C2F5SO2)2N-、(CF3SO2)3C-的陰離子形成的金屬鹽。其中，特別優選使用LiBr、LiI、LiBF4、LiPF6、LiSCN、LiClO4、LiCF3SO3、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(CF3SO2)3C等鋰鹽。這些鹼金屬鹽可以單獨使用或者混合兩種以上而使用。為了離子性物質的穩定化，也可以添加含有聚氧化烯結構的化合物。
防靜電劑相對於(甲基)丙烯酸類聚合物等基礎聚合物(base polymer)的添加量，是根據防靜電劑的種類、與基礎聚合物的相溶性的程度而有所不同，可以考慮從被黏附體剝離表面保護膜時所希望的剝離靜電壓、對被黏附體的污染性、黏結特性等而設定。
作為向黏結劑層2添加的固化劑，可例舉異氰酸酯化合物、環氧化合物、三聚氰胺化合物、金屬螯合物等。另外，作為增粘劑，可例舉如松香類、香豆酮-茚類、萜烯類、石油類、酚類等。
另外，對本發明的表面保護膜10所使用的黏結劑層2的厚度並沒有特別的限制，但是，例如，優選為5μm~40μm左右的厚度，更優選為10μm~30μm左右的厚度。當表面保護膜相對於被黏附體表面的剝離強度為0.03N/25mm~0.3N/25mm左右的、具有微黏結力的黏結劑層2時，從表面保護膜10剝掉剝離膜5時和從被黏附體剝掉表面保護膜時的操作性優秀，因而優選。
另外，本發明的表面保護膜10所使用的剝離膜5中，在樹脂膜3的單面形成有剝離劑層4，該剝離劑層4是使 用以二甲基聚矽氧烷為主要成分的剝離劑和20℃溫度下是液體的矽氧樹脂類化合物的混合物形成。作為樹脂膜，可例舉聚酯膜、聚醯胺膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚醯亞胺膜等，考慮到透明性優秀、價格相對低廉，特別優選為聚酯膜。
另外，作為將二甲基聚矽氧烷用作主要成分的剝離劑，可例舉加成反應型、縮合反應型、陽離子聚合型、自由基聚合型等公知的矽氧樹脂類剝離劑。作為加成反應型矽氧樹脂類剝離劑的市售品，可例舉KS-776A、KS-847T、KS-779H、KS-837、KS-778、KS-830(信越化學工業股份有限公司製)；SRX-211、SRX-345、SRX-357、SD7333、SD7220、SD7223、LTC-300B、LTC-350G、LTC-310(東麗道康寧股份有限公司製)等。作為縮合反應型的市售品，可例舉SRX-290、SYLOFF-23(東麗道康寧股份有限公司製)等。作為陽離子聚合型的市售品，可例舉TPR-6501、TPR-6500、UV9300、UV9315、UV9430(邁圖高新材料集團公司製)；X62-7622(信越化學工業股份有限公司製)等。作為自由基聚合型的市售品，可例舉X62-7205(信越化學工業股份有限公司製)等。
另外，在樹脂膜3的單面形成有以二甲基聚矽氧烷作為主要成分的剝離劑層4。上述剝離劑層4中含有20℃溫度下是液體的矽氧樹脂類化合物7。作為20℃溫度下是液體的矽氧樹脂類化合物，優選為改質矽氧樹脂化合物，可例舉聚醚改質矽氧樹脂、烷基改質矽氧樹脂、甲醇改質矽氧樹脂等。在本發明中，為了提高黏結劑層表面的抗靜電性能，使用相溶在以二甲基聚矽氧烷作為主要成分的剝離劑層4中的、20℃溫度 下是的液體的矽氧樹脂類化合物7。考慮到本發明的用途，在改質矽氧樹脂化合物中優選使用聚醚改質矽氧樹脂。聚醚改質矽氧樹脂中的聚醚鏈由環氧乙烷(氧化乙烯、ethylene oxide)、環氧丙烷(氧化丙烯、propylene oxide)等構成，例如，通過選擇用於側鏈的聚氧化乙烯(polyethylene oxide)的分子量、與聚矽氧烷鏈的重量比等，來調整所需的疏水性等物理性質。
另外，作為聚醚改質矽氧樹脂，可例舉聚醚改質二甲基聚矽氧烷、聚醚改質甲基烷基聚矽氧烷、聚醚改質甲基苯基聚矽氧烷等。作為聚醚改質矽氧樹脂的市售品，可例舉KF-351A、KF-352A、KF-353、KF-354L、KF-355A、KF-642(信越化學工業股份有限公司製)；SH8400、SH8700、SF8410(東麗道康寧股份有限公司製)；TSF-4440、TSF-4441、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4450(邁圖高新材料公司製)；BYK-300、BYK-306、BYK-307、BYK-320、BYK-325、BYK-330(畢克化學公司製)等。
以二甲基聚矽氧烷作為主要成分的剝離劑與聚醚改質矽氧樹脂等20℃溫度下是液體的矽氧樹脂類化合物的混合方法並沒有特別的限制。作為該混合方法，可採用下述方法中的任一種：在以二甲基聚矽氧烷作為主要成分的剝離劑中添加20℃溫度下是液體的矽氧樹脂類化合物並加以混合後，添加剝離劑固化用催化劑並進行混合的方法；預先用有機溶劑稀釋以二甲基聚矽氧烷作為主要成分的剝離劑之後，添加20℃溫度下是的液體的矽氧樹脂類化合物和剝離劑固化用催化劑並進行混合的方法；預先用有機溶劑稀釋以二甲基聚矽氧烷作為主要成 分的剝離劑之後，添加催化劑並加以混合，然後添加20℃溫度下是液體的矽氧樹脂類化合物並進行混合的方法等。並且，根據需要，也可以添加矽烷耦合劑等黏結增強劑。
作為在本發明的表面保護膜10的基材膜1上形成黏結劑層2的方法以及貼合剝離膜5的方法，可以使用公知的方法，並沒有特別的限制。具體而言，可例舉如下方法：在基材膜1的單面塗佈用於形成黏結劑層2的樹脂組合物並使其乾燥而形成黏結劑層之後，貼合剝離膜5的方法；在剝離膜5的表面塗佈用於形成黏結劑層2的樹脂組合物並使其乾燥而形成黏結劑層之後，貼合基材膜1的方法等，可採用這些方法中的任一種。
另外，可以使用公知的方法在基材膜1的表面形成黏結劑層2。具體而言，可以使用反向塗佈、逗點塗佈、凹版塗佈、狹縫擠壓式塗佈、線棒式塗佈、氣刀塗佈等公知的塗佈方法。
同樣地，可以使用公知的方法在樹脂膜3上形成剝離劑層4。具體而言，可以使用凹版塗佈、線棒式塗佈、氣刀塗佈等公知的塗佈方法。
具有上述構成的本發明的表面保護膜10在從作為被黏附體的光學用膜剝離時的表面電位優選為+0.5kV~-0.5kV。進而，表面電位更優選為+0.3kV~-0.3kV，表面電位特別優選為+0.1kV~-0.1kV。通過增加或減少黏結劑層中所包含的防靜電劑的種類或含量、以及剝離膜的剝離劑層中所包含的聚醚改質矽氧樹脂的種類、添加量等，可調整上述表面 電位。
第2圖是表示從本發明的表面保護膜剝掉剝離膜的狀態的示意性剖面圖。
通過從第1圖所示的表面保護膜10剝掉剝離膜5，形成於剝離膜5的剝離劑層4中所包含的20℃溫度下是液體的矽氧樹脂類化合物7的一部分，附著在表面保護膜10的黏結劑層2的表面。因此，在第2圖中利用斑點示意性地示出了附著在表面保護膜的黏結劑層2表面的、20℃溫度下是液體的矽氧樹脂類化合物7。
在本發明的表面保護膜中，當將第2圖所示的剝掉了剝離膜的狀態的表面保護膜11貼合在被黏附體時，附著在該黏結劑層2表面的20℃溫度下是液體的矽氧樹脂類化合物7與被黏附體的表面相接觸。由此，可以再次將從被黏附體剝掉表面保護膜時的剝離靜電壓抑制為較低。
第3圖是表示本發明的光學組件的實施例的剖面圖。
在從本發明的表面保護膜10剝掉剝離膜5從而黏結劑層2露出的狀態下，通過該黏結劑層2貼合在作為被黏附體的光學組件8上。
即，第3圖示出了貼合有本發明的表面保護膜10的光學組件20。作為光學組件，可例舉偏光板、相位差板、透鏡膜、相位差板兼用偏光板、透鏡膜兼用偏光板等光學膜。這種光學組件可作為液晶顯示器面板等液晶顯示裝置、各種儀器類的光學裝置等的構成組件使用。另外，作為光學組件，還可以例舉 防反射膜、硬塗膜、觸控面板用透明導電性膜等。特別是，優選作為貼合在光學膜的經過防污染處理的面上的表面保護膜來使用，該光學膜是表面經過了由矽氧樹脂化合物或氟化合物等進行的防污染處理的低反射處理偏光板(LR偏光板)或防眩光-低反射處理偏光板(AG-LR偏光板)等的光學膜。
根據本發明的光學組件，在從作為被黏附體的光學組件(光學膜)剝離去除表面保護膜10時，能夠抑制剝離靜電壓充分低，因此，不存在損壞驅動積體電路、TFT(Thin Film Transistor，薄膜場效應電晶體)元件、柵極線驅動電路等電路組件之虞，能夠提高製造液晶顯示器面板等的步驟中的生產效率，能夠確保生產步驟的可靠性。
實施例
下面，通過實施例，進一步說明本發明。
實施例1
黏結劑組合物的製造
在具有攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器的四口燒瓶中，加入丙烯酸-2-乙基己酯90重量份、甲氧基聚乙二醇(400)單甲基丙烯酸酯10重量份、丙烯酸-2-羥乙酯3重量份、作為聚合引發劑的2,2'-偶氮二異丁腈0.2重量份、乙酸乙酯154重量份，邊導入氮氣邊攪拌內容物，升溫至65℃。進而，在65℃左右的溫度下進行6小時的聚合反應，由此得到含有聚氧化烯基的丙烯酸聚合物。將所得到的含有聚氧化烯基的丙烯酸聚合物100重量份與作為防靜電劑的過氯酸鋰0.1重量份攪拌混合，由此製造出實施例1的黏結劑組合物(固體成分40%)。
表面保護膜的製造
將加成反應型的矽氧樹脂(東麗道康寧股份有限公司製，商品名：SRX-345)3重量份、聚醚改質矽氧樹脂(東麗道康寧股份有限公司製，商品名：SH8400)0.1重量份、甲苯與乙酸乙酯的1：1混合溶劑97重量份、鉑催化劑(東麗道康寧股份有限公司製，商品名：SRX-212)0.03重量份進行攪拌混合，來調配用於形成實施例1的剝離劑層的塗料。在厚度為38μm的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜的表面，以使乾燥後的厚度達到0.1μm的方式，用線棒塗佈實施例1的剝離劑層用塗料，通過120℃的熱風迴圈式烘箱乾燥1分鐘，由此得到實施例1的剝離膜。另一方面，將相對於實施例1的黏結劑組合物100重量份添加HDI類固化劑(日本聚氨酯工業股份有限公司製，商品名：CORONATEHX)1.2重量份並加以混合而成的塗佈液，以使乾燥後的厚度達到20μm的方式，塗佈在厚度為38μm的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜的表面後，利用100℃的熱風迴圈式烘箱乾燥2分鐘，由此形成黏結劑層。然後，在該黏結劑層的表面貼合上述製造的實施例1的剝離膜的剝離劑層(矽氧樹脂處理面)，由此得到實施例1的表面保護膜。
實施例2
使用雙(三氟甲烷磺醯)亞胺鋰1.5重量份來代替實施例1的黏結劑組合物的過氯酸鋰0.1重量份，由此製造出實施例2的黏結劑組合物(固體成分40%)。
除了利用實施例2的黏結劑組合物來代替實施例1的黏結劑組合物之外，通過與實施例1相同的方法，得到了實施例2 的表面保護膜。
實施例3
將加成反應型的矽氧樹脂(東麗道康寧股份有限公司製，商品名：SRX-211)3重量份、聚醚改質矽氧樹脂(信越化學工業股份有限公司製，商品名：KF352A)0.1重量份、甲苯與乙酸乙酯的1：1混合溶劑97重量份、鉑催化劑(東麗道康寧股份有限公司製，商品名：SRX-212)0.03重量份進行攪拌混合，來調配用於形成實施例3的剝離劑層的塗料。在厚度為38μm的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜的表面，以使乾燥後的厚度達到0.1μm方式，利用線棒塗佈實施例3的剝離劑層用塗料後，通過120℃的熱風迴圈式烘箱乾燥1分鐘，由此得到了實施例3的剝離膜。
除了使用實施例3的剝離膜來代替實施例1的剝離膜之外，通過與實施例1相同的方法，得到了實施例3的表面保護膜。
比較例1
除了在實施例1的黏結劑組合物中沒有添加過氯酸鋰之外，通過與實施例1相同的方法，得到了比較例1的表面保護膜。
比較例2
除了用丙烯酸丁酯來代替實施例1的黏結劑組合物中的甲氧基聚乙二醇(400)單甲基丙烯酸酯之外，通過與實施例1相同的方法，製造出比較例2的黏結劑組合物(固體成分40%)。
除了使用比較例2的黏結劑組合物來代替實施例1的黏結 劑組合物以外，通過與實施例1相同的方法，得到了比較例2的表面保護膜。
比較例3
除了在製造實施例1的剝離膜時不添加聚醚改質矽氧樹脂(東麗道康寧股份有限公司製SH8400)之外，通過與實施例1的剝離膜的製造方法相同的方法，來得到比較例3的剝離膜。
除了利用比較例3的剝離膜來代替實施例1的剝離膜之外，通過與實施例1相同的方法，來得到比較例3的表面保護膜。
比較例4
將實施例2的黏結劑組合物100重量份與聚醚改質矽氧樹脂(東麗道康寧股份有限公司製，商品名：SH8400)0.1重量份進行攪拌混合，由此得到了比較例4的黏結劑組合物。
除了使用比較例4的黏結劑組合物來代替實施例1的黏結劑組合物、並使用比較例3的剝離膜來代替實施例1的剝離膜之外，通過與實施例1相同的方法，來得到比較例4的表面保護膜。
下面，示出了評價試驗的方法和結果。
表面保護膜的黏結力的測定方法
利用貼合機，在玻璃板的表面貼合經過了基於防眩光的低反射處理後的偏光板(防眩光-低反射偏光板即AG-LR偏光板)。然後，在偏光板的表面貼合剪切成寬度為25mm的表面保護膜之後，在23℃×50%RH的試驗環境下保管一天。然後，測定利用拉伸試驗機以300mm/分鐘的剝離速度按180°方向剝 離表面保護膜時的強度，並將其作為黏結力(N/25mm)。
表面保護膜的剝離靜電壓的測定方法
利用貼合機，在玻璃板的表面貼合經過了基於防眩光的低反射處理後的偏光板(防眩光-低反射偏光板即AG-LR偏光板)。然後，在偏光板的表面貼合剪切成寬度為25mm的表面保護膜之後，在23℃×50%RH的試驗環境下保管一天。然後，一邊利用高速剝離試驗機(試驗產業股份有限公司(TESTER SANGYOCO,.LTD)製)以每分鐘40m的剝離速度剝離表面保護膜，一邊利用表面電位計(基恩士股份有限公司(Keyence Corporation)製)每隔10mS測定上述偏光板表面的表面電位，將此時表面電位絕對值的最大值作為剝離靜電壓(kV)。
表面保護膜的表面污染性的確認方法
利用貼合機，在玻璃板的表面貼合經過了基於防眩光的低反射處理後的偏光板(防眩光-低反射偏光板即AG-LR偏光板)。然後，在偏光板的表面貼合剪切成寬度為25mm的表面保護膜之後，在23℃×50%RH的試驗環境下保管3天和30天。然後，剝掉表面保護膜，通過肉眼來觀察對偏光板表面的污染性。作為表面污染性的判斷基準，將偏光板上無污染轉移的情況標記為“○”，而確認偏光板上有污染轉移的情況標記為“×”。
黏結劑的表面電阻率的測定方法
從表面保護膜剝掉剝離膜之後，利用電阻率計(三菱化學股份有限公司製，商品名：Hiresta-UP)，在外加電壓100V×測定時間30秒鐘的條件下，測定黏結劑層的表面電阻率(Ω/□)。
將對所得到的實施例1~實施例3及比較例1~比較例4的表面保護膜進行測定的測定結果示於表1和表2中。表1和表2示出了用於各個表面保護膜的黏結劑組合物和剝離劑的概要。其中，“2EHA”表示丙烯酸-2-乙基己酯，“#400G”表示甲氧基聚乙二醇(400)單甲基丙烯酸酯，“HEA”表示丙烯酸2-羥乙酯，“BA”表示丙烯酸丁酯，“LiClO4”表示過氯酸鋰，“Li(CF3SO2)2N”表示雙(三氟甲烷磺醯)亞胺鋰。
由表1和表2所示的測定結果可知如下情況。
本發明的實施例1~實施例3的表面保護膜具有適度的黏結力，對被黏附體表面的污染少，且從被黏附體剝離表面保護膜時的剝離靜電壓低。
另一方面，在比較例1的表面保護膜中，由於黏結劑層不包含防靜電劑，因而從被黏附體剝離表面保護膜時的剝離靜電壓變高。
另外，在比較例2的表面保護膜中，由於黏結劑層不包含含有聚氧化烯基的化合物，因而從被黏附體剝離表面保護膜時的剝離靜電壓高，且剝離之後對被黏附體的污染多。
另外，在比較例3的表面保護膜中，未向剝離膜的剝離劑層添加聚醚改質矽氧樹脂，僅使用了以二甲基聚矽氧烷作為主要成分的剝離劑。但是，在比較例3中，由於從被黏附體剝離 表面保護膜時的剝離靜電壓高，因而存在導致驅動積體電路的破損或液晶分子的配向損壞等缺陷的擔憂。
另外，在比較例4的表面保護膜中，未向剝離膜的剝離劑層添加聚醚改質矽氧樹脂，而是向黏結劑層添加了聚醚改質矽氧樹脂。但在比較例4中，雖然從被黏附體剝離表面保護膜時的剝離靜電壓低，然而對黏附體的污染變多。
產業利用性
在例如偏光板、相位差板、透鏡膜等光學用膜、以及其他各種光學組件等的生產步驟等中，本發明的表面保護膜能夠貼合在上述光學組件等的表面以保護表面。特別是，在作為表面由矽氧樹脂化合物或氟化合物等進行過防污染處理的低反射偏光板或防眩光-低反射偏光板等光學膜的表面保護膜來使用的情況下，能夠減少從被黏附體剝離時所產生的靜電量，且防止剝離靜電性能的經時變化以及對被黏附體的污染少，能夠可靠地保護光學組件的表面，從而能夠提高生產步驟的成品率。

Claims (6)

  1. 一種防靜電表面保護膜用剝離膜，係在防靜電表面保護膜的基材膜的單面形成有含有防靜電劑的黏結劑層，在上述黏著劑層的表面能轉寫聚醚改質矽氧樹脂的防靜電表面保護膜用剝離膜，其中，上述防靜電表面保護膜用剝離膜係在樹脂膜的單面層疊剝離劑層而成，上述剝離劑層係由含有二甲基聚矽氧烷作為主要成分的剝離劑和在20℃溫度下是液體的矽氧樹脂類化合物之聚醚改質矽氧樹脂的樹脂組成物所形成，上述防靜電表面保護膜用剝離膜經由上述剝離劑層而貼合在上述黏著劑層的表面，其中，藉由將上述剝離劑層的聚醚改質矽氧樹脂轉寫至上述黏著劑層的表面，使上述防靜電表面保護膜貼合至被黏附體後，從上述被黏附體剝離上述防靜電表面保護膜時，抑制剝離靜電壓變得較低。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的防靜電表面保護膜用剝離膜，其中，上述黏結劑層由與含有聚氧化烯基的化合物共聚合的(甲基)丙烯酸類聚合物形成、或者由混合有含有聚氧化烯基的化合物的(甲基)丙烯酸類聚合物形成。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的防靜電表面保護膜用剝離膜，其中，上述防靜電劑為鹼金屬鹽。
  4. 一種光學用膜用的防靜電表面保護膜，係由貼合如申請專利範圍第1-3項任一項所述的防靜電表面保護膜用剝離膜而成。
  5. 如申請專利範圍第4項所述的防靜電表面保護膜，其中，將上述防靜電表面保護膜用剝離膜剝離之後的上述黏結劑層的表面電阻率小於1×1013Ω/□。
  6. 一種光學組件，貼合上述防靜電表面保護膜用剝離膜剝離之後的如申請專利範圍第4項所述的防靜電表面保護膜。
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