CN103176374A - 电子照相感光体 - Google Patents

Abstract

本发明提供耐磨损性优异、不产生感光体周期所导致的图像浓度差（图像记忆）、耐磨损性和图像特性的稳定性优异的电子照相感光体。该电子照相感光体，在导电性支撑体上依次层叠至少感光层和保护层而成，其特征在于，该保护层含有p型半导体粒子。

Description

电子照相感光体

技术领域

本发明涉及电子照相感光体，更详细而言涉及利用了电子照相方式的图像形成装置中使用的电子照相感光体。

背景技术

近年来，电子照相感光体广泛使用含有有机光导性物质的有机感光体。有机感光体与无机系的感光体相比具有容易开发与从可见光到红外光的各种曝光光源相对应的材料、可以选择无环境污染的材料、制造成本低等优点。

另一方面，由于电子照相感光体（以下也称为感光体）通过带电、曝光、显影、转印、清洁等而直接接受电气或者机械外力，所以对其要求即便反复进行图像形成也可稳定地维持带电稳定性、电位保持性等的耐久性。

特别是近年来随着数字化的流行，对高精细、高画质的图像的要求增高，溶解悬浮调色剂、乳化聚合凝聚调色剂等利用聚合法的小粒径的调色剂成为主流。这些小粒径的调色剂对感光体表面的附着力大，附着在感光体表面的转印残余调色剂等残留调色剂的除去容易变得不充分。在使用了橡胶刮板的清洁方式中，容易产生调色剂通过刮板的“调色剂滑过”、刮板逆转的“刮板翻卷”、或者产生感光体与刮板的擦过音即所谓的“刮板鸣”之类的现象。为了解决上述“调色剂滑过”需要增大刮板对感光体的抵接压力，但产生因反复使用而有机感光体的表面磨损，耐久性不足的问题。另外，要求对带电时产生的臭氧、氮氧化物所导致的劣化也具有充分的耐久性。

由于上述原因，提出了在感光体表面设置保护层（以下也称为表面层）来提高机械强度的技术。

具体而言，在日本特开平11-288121号公报和日本特开2009-69241号公报中提出了通过在感光体保护层中使用通常被称为固化性化合物的聚合性化合物，涂布后进行固化反应，从而制作对由清洁刮板等的摩擦引起的表面磨损、划伤的产生耐久性高的感光体的技术。另外，在日本特开2002-333733号公报中提出了使二氧化硅等无机微粒分散在保护层中来提高机械强度的技术。

近年来，电子照相方式的图像形成装置向轻印刷领域的应用急剧扩大，对电子照相感光体要求进一步的高耐久化、高画质化。但是，对于这些要求，现有技术无法得到充分满足耐久性、画质的电子照相感光体，电子照相感光体需求更进一步的高耐久、高画质化技术。

但是，由于保护层的电荷输送性能差，所以存在如下问题，即，通过设置保护层，与无保护层的电子照相感光体相比，作为电子照相感光体的灵敏度特性降低。为了解决该问题，通过使保护层中含有电荷输送物质从而能够具有电荷输送性能。但是，由于有机化合物的电荷输送物质通常具有塑化效果，所以通过添加电荷输送物质，保护层的强度降低。因此，公开了获得保护层具有电荷输送功能且耐磨损性优异的保护层的技术。例如，在日本特开2010-164646号公报中公开了使具有电荷输送功能的自由基聚合性化合物、不具有电荷输送功能的自由基聚合性化合物以及用具有聚合性官能团的表面处理剂处理过的填充剂进行固化反应而成的保护层的技术。

发明内容

但是，这些技术得不到充分的电荷输送性能，无法充分满足耐磨损性。

另外，在此，添加了氧化硅、氧化铝、或者二氧化钛等金属氧化物粒子作为填充剂，虽然可以在某种程度上期待这些金属氧化物粒子提高耐磨损性的效果，但空穴输送性能不充分，产生感光体周期所导致的图像浓度差即所谓的图像记忆（image memory）等，无法充分兼得耐磨损性和图像特性。

本发明是鉴于上述问题和状况而进行的，其目的在于提供耐磨损性优异、不产生感光体周期所导致的图像浓度差（图像记忆）、耐磨损性和图像特性的稳定性优异的电子照相感光体。

本发明人为了实现上述目的，在对上述问题的原因等进行研究的过程中发现，通过使电子照相感光体的保护层中含有p型半导体粒子，从而能够解决耐磨损性和图像特性，完成了本发明。

即，为了实现本发明涉及的上述目的中的至少一个，反映了本发明的一方面的电子照相感光体是在导电性支撑体上依次层叠至少感光层和保护层而成的电子照相感光体，该保护层含有p型半导体粒子。

另外，在上述电子照相感光体中，优选上述p型半导体粒子为下述通式（1）表示的化合物。

通式（1）：CuMO₂

（其中，式中M表示元素周期表第ⅢA族的元素。）

另外，在上述电子照相感光体中，优选上述p型半导体粒子为选自CuAlO₂、CuGaO₂或CuInO₂中的粒子。

另外，在上述电子照相感光体中，优选上述保护层含有上述p型半导体粒子和使固化性化合物固化而得的成分。

另外，在上述电子照相感光体中，优选上述p型半导体粒子是用具有反应性有机基团的表面处理剂处理后的粒子。

另外，在上述电子照相感光体中，优选上述固化性化合物为在分子中具有丙烯酰基或甲基丙烯酰基中的至少任一种基团的聚合性单体。

另外，在上述电子照相感光体中，优选上述p型半导体粒子的数均一次粒径在1nm～300nm的范围内。

另外，在上述电子照相感光体中，优选上述p型半导体粒子为通过等离子体法制作的粒子。

附图说明

本发明可以通过以下所示的详细的说明和附图更完全地理解。但是，这些并不限定本发明。其中，

图1是表示本发明涉及的感光体的层结构的一个例子的示意图。

图2是表示使用本发明涉及的感光体的图像形成装置的一个例子的剖面的简图。

符号说明

1   导电性支撑体

2   感光层

3   中间层

4   电荷产生层

5   电荷输送层

6   保护层

7表面处理p型半导体粒子

1Y、1M、1C、1Bk   感光体鼓

2Y、2M、2C、2Bk   带电机构

3Y、3M、3C、3Bk   图像曝光机构

4Y、4M、4C、4Bk   显影机构

6Y、6M、6C、6Bk   清洁机构

10Y、10M、10C、10Bk   图像形成单元

具体实施方式

本发明的电子照相感光体，在导电性支撑体上依次层叠至少感光层和保护层而成，其特征在于，该保护层含有p型半导体粒子。该特征是从技术方案1到技术方案8的技术方案涉及的发明中共同的技术特征。

进而，在本发明中，由于上述p型半导体粒子为下述通式（1）表示的化合物时能够得到高的空穴输送性能、图像记忆改善效果优异，所以优选。

通式（1）：CuMO₂

（其中，式中M表示元素周期表第ⅢA族的元素。）

进而，在本发明中，由于上述p型半导体粒子为选自CuAlO₂、CuGaO₂或CuInO₂中的粒子时能够得到更高的空穴输送性能、图像记忆的改善效果优异，所以优选。

另外，在本发明中，由于上述保护层含有上述p型半导体粒子和使固化性化合物固化而得的成分能够提高耐磨损性、得到高耐久性的电子照相感光体，所以优选。

另外，在本发明中，由于上述p型半导体粒子用具有反应性有机基团的表面处理剂处理后能够提高耐磨损性、得到高耐久性的电子照相感光体，所以优选。

另外，在本发明中，由于上述固化性化合物为在分子中具有丙烯酰基或甲基丙烯酰基中的至少任一种基团的聚合性单体时能够进一步提高耐磨损性、得到高耐久性的电子照相感光体，所以优选。

另外，在本发明中，优选上述半导体粒子的数均一次粒径在1nm～300nm的范围内。

另外，优选上述半导体粒子为通过等离子体法制作的粒子。

作为本发明的上述实施方式的效果，能够提供耐磨损性优异、不产生感光体周期所导致的图像浓度差（图像记忆）、耐磨损性和图像特性的稳定性优异的电子照相感光体。

对于本发明的实施方式的效果的表现机制和作用机制虽不明确，但推测为如下。

电子照相感光体中使用的电荷输送物质通常为有机化合物，空穴输送性优异，但由于也具有塑化效果，所以使用了有机化合物的电子照相感光体的耐磨损性通常不充分。另一方面，也进行了以下尝试，即，以提高耐磨损性为目的而在感光层上设置保护层，在该保护层中添加氧化硅、氧化铝或氧化钛等金属氧化物粒子，利用金属氧化物粒子的填充效果来提高耐磨损性，但这些金属氧化物粒子得不到充分的空穴输送性能，另外，在保护层中电荷（载流子）被捕获，因此产生图像记忆。

因此，推测为了形成兼得耐磨损性和图像特性的感光体，在感光体的保护层中添加p型半导体粒子，由此利用p型半导体粒子的硬度高的效果提高耐磨损性，且由于p型半导体粒子具有空穴输送性能，所以即便在保护层中也能够确保充分的空穴输送性能，另外，由于电荷不会被捕获，所以也能够改善图像记忆，能够兼得耐磨损性和图像特性。

以下对本发明的构成要素、以及用于实施本发明的形态和方式进行详细说明。应予说明，在本申请中，“以上”、“以下”意味着包含其前面记载的数值作为下限值和上限值。

（本发明的电子照相感光体的概要）

本发明的电子照相感光体，在导电性支撑体上依次层叠至少感光层和保护层而成，其特征在于，该保护层含有p型半导体粒子。

（p型半导体粒子）

对本发明的电子照相感光体的保护层中使用的p型半导体粒子进行说明。

p型半导体粒子是使用空穴（hole）作为输送电荷的载流子的半导体粒子。即，是空穴成为多数载流子的半导体。

作为本发明中使用的p型半导体粒子，优选由下述通式（1）表示的化合物。

通式（1）：CuMO₂

（其中，式中M表示元素周期表第ⅢA族的元素。）

作为第ⅢA族的元素，具体而言，可举出硼（B）、铝（Al）、镓（Ga）、铟（In）以及铊（Tl）。作为本发明中优选使用的第ⅢA族元素，为铝、镓和铟，作为由通式（1）表示的优选的p型半导体粒子，例如，可举出CuAlO₂、CuGaO₂以及CuInO₂。通过将这些p型半导体粒子添加到电子照相感光体的保护层中，能够形成耐磨损性优异、不产生图像记忆的高画质的电子照相感光体。

上述p型半导体粒子的数均一次粒径优选为1nm～300nm的范围。特别优选为3nm～100nm。

本发明的p型半导体粒子可以通过例如等离子体法来制作。作为等离子体法，可举出直流电弧等离子体法、高频等离子体法以及等离子体喷射等方法。

直流电弧等离子体法中，以金属合金为阳极消耗电极。而且，从阴极电极产生等离子体火焰。接着，加热阳极侧的金属合金，使其蒸发，将金属合金的蒸气氧化、冷却，由此可以得到p型半导体粒子。

高频等离子体法中，利用在大气压力下通过高频感应放电加热气体时产生的热等离子体。其中，等离子体蒸发法中，向惰性气体等离子体中心注入固体粒子，在通过等离子体中的期间蒸发，对该高温蒸气进行急冷凝结，由此可以制作超微粒。

等离子体法是在惰性气体的氩气和作为双原子分子气体的氢气、氮气、氧气的气氛中进行电弧放电，于是得到氩等离子体、氢等离子体等，特别是双原子分子气体热解离而产生的氢（氮、氧）等离子体与分子状气体相比极富反应性，因此与惰性气体的等离子体相区别，也被称为反应性电弧等离子体。其中，氧等离子体法作为制作p型半导体粒子的方法是有效的。

上述p型半导体粒子的数均一次粒径可以通过如下方式算出，即，利用扫描式电子显微镜（例如日本电子制：JSM-7500F）拍摄100000倍的放大照片，对利用扫描仪随机获取了300个粒子的照片图像（除去凝聚粒子）使用自动图像处理解析装置（例如NIRECO株式会社制“LUZEX（注册商标）AP”软件Ver.1.32）算出数均一次粒径。

相对于固化性化合物100质量份，保护层中的p型半导体粒子的添加量优选为30质量份～300质量份，更优选为50质量份～200质量份。p型半导体粒子可以单独或组合二种以上使用。

《保护层的构成》

本发明的电子照相感光体以提高耐磨损性和改善图像记忆为课题，是在导电性支撑体上依次层叠至少感光层和保护层的构成。在该保护层中含有p型半导体粒子。另外在保护层中优选含有粘结剂树酯。优选含有使固化性化合物固化而得的成分作为粘结剂树脂。

作为可在本发明涉及的保护层中使用的粘结剂树脂，优选使固化性化合物固化而得的成分，但除固化性化合物以外，还可举出聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚氨酯树脂以及有机硅树脂等公知的树脂。另外，可以并用固化性化合物和除固化性化合物以外的树脂来使用。

（固化性化合物）

作为可在本发明的保护层中使用的固化性化合物，可举出自由基聚合性的化合物，作为自由基聚合性化合物，优选具有丙烯酰基或甲基丙烯酰基中的至少任一种作为自由基聚合性反应基团的聚合性单体。

作为这些聚合性单体，例如可例示以下的化合物，但可在本发明中使用的聚合性单体并不限于这些。

上述自由基聚合性化合物为公知化合物，另外可以作为市售品获得。

其中，R表示下述丙烯酰基，R’表示下述甲基丙烯酰基。

（表面处理p型半导体粒子）

本发明涉及的保护层中使用的p型半导体粒子优选是用表面处理剂处理后的粒子，更优选用具有反应性有机基团的表面处理剂进行了表面处理。

（表面处理剂）

作为本发明的表面处理剂，优选与在p型半导体粒子表面存在的羟基等反应的表面处理剂，作为这些表面处理剂，可举出硅烷偶联剂和钛偶联剂等。另外，在本发明中，为了进一步提高保护层的硬度，优选具有反应性有机基团的表面处理剂，作为具有反应性有机基团的表面处理剂，优选具有自由基聚合性反应基团的表面处理剂。这些自由基聚合性反应基团也可以与本发明的固化性化合物反应而形成牢固的保护膜。作为具有自由基聚合性反应基团的表面处理剂，优选具有乙烯基或丙烯酰基等自由基聚合性反应基团的硅烷偶联剂，作为具有这样的自由基聚合性反应基团的表面处理剂，例示如下述中记载的公知的化合物。

S-1：CH₂＝CHSi（CH₃）（OCH₃）₂

S-2：CH₂＝CHSi（OCH₃）₃

S-3：CH₂＝CHSiCl₃

S-4：CH₂＝CHCOO（CH₂）₂Si（CH₃）（OCH₃）₂

S-5：CH₂＝CHCOO（CH₂）₂Si（OCH₃）₃

S-6：CH₂＝CHCOO（CH₂）₂Si（OC₂H₅）（OCH₃）₂

S-7：CH₂＝CHCOO（CH₂）₃Si（OCH₃）₃

S-8：CH₂＝CHCOO（CH₂）₂Si（CH₃）Cl₂

S-9：CH₂＝CHCOO（CH₂）₂SiCl₃

S-10：CH₂＝CHCOO（CH₂）₃Si（CH₃）Cl₂

S-11：CH₂＝CHCOO（CH₂）₃SiCl₃

S-12：CH₂＝C（CH₃）COO（CH₂）₂Si（CH₃）（OCH₃）₂S-13：CH₂＝C（CH₃）COO（CH₂）₂Si（OCH₃）₃

S-14：CH₂＝C（CH₃）COO（CH₂）₃Si（CH₃）（OCH₃）₂

S-15：CH₂＝C（CH₃）COO（CH₂）₃Si（OCH₃）₃

S-16：CH₂＝C（CH₃）COO（CH₂）₂Si（CH₃）Cl₂

S-17：CH₂＝C（CH₃）COO（CH₂）₂SiCl₃

S-18：CH₂＝C（CH₃）COO（CH₂）₃Si（CH₃）Cl₂

S-19：CH₂＝C（CH₃）COO（CH₂）₃SiCl₃

S-20：CH₂＝CHSi（C₂H₅）（OCH₃）₂

S-21：CH₂＝C（CH₃）Si（OCH₃）₃

S-22：CH₂＝C（CH₃）Si（OC₂H₅）₃

S-23：CH₂＝CHSi（OCH₃）₃

S-24：CH₂＝C（CH₃）Si（CH₃）（OCH₃）₂

S-25：CH₂＝CHSi（CH₃）Cl₂

S-26：CH₂＝CHCOOSi（OCH₃）₃

S-27：CH₂＝CHCOOSi（OC₂H₅）₃

S-28：CH₂＝C（CH₃）COOSi（OCH₃）₃

S-29：CH₂＝C（CH₃）COOSi（OC₂H₅）₃

S-30：CH₂＝C（CH₃）COO（CH₂）₃Si（OC₂H₅）₃

S-31：CH₂＝CHCOO（CH₂）₂Si（CH₃）₂（OCH₃）

S-32：CH₂＝CHCOO（CH₂）₂Si（CH₃）（OCOCH₃）₂

S-33：CH₂＝CHCOO（CH₂）₂Si（CH₃）（ONHCH₃）₂

S-34：CH₂＝CHCOO（CH₂）₂Si（CH₃）（OC₆H₅）₂

S-35：CH₂＝CHCOO（CH₂）₂Si（C₁₀H₂₁）（OCH₃）₂

S-36：CH₂＝CHCOO（CH₂）₂Si（CH₂C₆H₅）（OCH₃）₂

另外，作为表面处理剂，除上述S-1到S-36以外，也可以使用具有能自由基聚合的反应性有机基团的硅烷化合物。这些表面处理剂可以单独或者混合二种以上使用。

（表面处理p型半导体粒子的制作方法）

在进行表面处理时，优选相对于100质量份粒子使用0.1质量份～100质量份的表面处理剂、50质量份～5000质量份的溶剂，使用湿式介质分散型装置进行处理。另外，也可以用干式介质分散型装置进行处理。

以下，对制造用表面处理剂均匀地进行了表面处理的金属氧化物粒子的表面处理方法进行说明。

即，通过对含有p型半导体粒子和表面处理剂的浆料（固体粒子的悬浮液）进行湿式粉碎，在使p型半导体粒子微细化的同时进行粒子的表面处理。其后，除去溶剂进行粉末化，由此可以得到利用表面处理剂均匀地进行了表面处理的p型半导体粒子。

作为本发明中使用的表面处理装置的湿式介质分散型装置是指具有粉碎·分散工序的装置，该粉碎·分散工序是指向容器内填充微珠作为介质，然后使与旋转轴垂直安装的搅拌圆盘高速旋转，由此将p型半导体的凝聚粒子粉碎的工序，作为其构成，只要是在对p型半导体粒子进行表面处理时能够使p型半导体粒子充分分散且能够进行表面处理的形式就没有问题，例如，可以采用立式·卧式、连续式·间歇式等各种样式。具体而言，可以使用砂磨机、Ultra Visco Mill、珠磨机（pearlmill）、谷物磨粉机（grain mill）、Dyno Mill、搅拌研磨机以及动态研磨机（Dynamic Mill）等。这些分散型装置使用球或微珠等粉碎介质（media）通过冲击压坏、摩擦、剪切、剪切应力等进行微粉碎、分散。

作为上述湿式介质分散型装置中使用的微珠，可以使用以玻璃、氧化铝、锆石、氧化锆、钢、或者燧石等为原材料的微珠，特别优选氧化锆制、锆石制的微珠。另外，作为微珠的大小，通常使用直径1mm～2mm左右的微珠，本发明中优选使用0.1mm～1.0mm左右的微珠。

对于湿式介质分散型装置中使用的圆盘、容器内壁，可以使用不锈钢制、尼龙制、或者陶瓷制等各种材料的圆盘、容器内壁，本发明中特别优选氧化锆或碳化硅之类的陶瓷制的圆盘、容器内壁。

通过如上所述的湿式处理，能够得到利用表面处理剂进行了表面处理的p型半导体粒子。

在本发明的保护层中，除上述物质以外可以根据需要含有聚合引发剂、或者润滑剂粒子等而形成。

（聚合引发剂）

作为使可在本发明的保护层中使用的固化性化合物发生固化反应的方法，可以通过利用电子束开裂反应的方法、在自由基聚合引发剂的存在下利用光、热的方法等进行固化反应。使用自由基聚合引发剂进行固化反应时，可以使用光聚合引发剂、或者热聚合引发剂中的任一种作为聚合引发剂。另外，也可以并用光和热双方的引发剂。

作为可在本发明中使用的聚合引发剂，可举出2,2’-偶氮二异丁腈、2,2’-偶氮双（2,4-二甲基偶氮二戊腈）、2,2’-偶氮双（2-甲基丁腈）等偶氮化合物，过氧化苯甲酰（BPO）、二叔丁基过氧化氢、叔丁基过氧化氢、过氧化氯苯甲酰、过氧化二氯苯甲酰、过氧化溴甲基苯甲酰以及过氧化月桂酰等过氧化物等的热聚合引发剂。

另外，作为光聚合引发剂，可举出二乙氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、1-羟基-环己基-苯基-酮、4-（2-羟乙氧基）苯基-（2-羟基-2-丙基）酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-（4-吗啉基苯基）丁酮-1（IRGACURE369：BASF Japan公司制）、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、2-甲基-2-吗啉基（4-甲基硫苯基）丙烷-1-酮以及1-苯基-1,2-丙二酮-2-（O-乙氧基羰基）肟等苯乙酮系或者缩酮系光聚合引发剂，苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丁醚以及苯偶姻异丙醚等苯偶姻醚系光聚合引发剂，二苯甲酮、4-羟基二苯甲酮、邻苯甲酰基苯甲酸甲酯、2-苯甲酰基萘、4-苯甲酰基联苯、4-苯甲酰基苯基醚、丙烯酰化二苯甲酮以及1,4-二苯甲酰基苯等二苯甲酮系光聚合引发剂，2-异丙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2,4-二甲基噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮以及2,4-二氯噻吨酮等噻吨酮系光聚合引发剂。

作为其他的光聚合引发剂，可举出乙基蒽醌、2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、2,4,6-三甲基苯甲酰基苯基乙氧基氧化膦、双（2,4,6-三甲基苯甲酰基）苯基氧化膦（IRGACURE819：BASF Japan公司制）、双（2,4-二甲氧基苯甲酰基）-2,4,4-三甲基戊基氧化膦、苯甲酰甲酸甲酯、9,10-菲、吖啶系化合物、三嗪系化合物以及咪唑系化合物。另外，可以单独使用具有光聚合促进效果的物质或者与上述光聚合引发剂并用。例如，可举出三乙醇胺、甲基二乙醇胺、4-二甲基氨基苯甲酸乙酯、4-二甲基氨基苯甲酸异戊酯、苯甲酸（2-二甲基氨基）乙酯以及4,4’-二甲基氨基二苯甲酮等。

作为本发明中使用的聚合引发剂优选光聚合引发剂，优选烷基苯酮系化合物和氧化膦系化合物，进一步优选具有α-羟基苯乙酮结构、或者酰基氧化膦结构的引发剂。

这些聚合引发剂可以使用一种或者混合二种以上使用。相对于聚合性化合物100质量份，聚合引发剂的含量为0.1质量份～40质量份，优选为0.5质量份～20质量份。

（润滑剂粒子）

另外，也可以使保护层中含有各种润滑剂粒子。例如，可以加入含氟原子的树脂粒子。作为含氟原子的树脂粒子，优选从四氟化乙烯树脂、三氟化氯化乙烯树脂、六氟化氯化乙烯丙烯树脂、氟化乙烯树脂、偏氟乙烯树脂、二氟化二氯化乙烯树脂以及它们的共聚物中适当选择一种或二种以上，特别优选四氟化乙烯树脂和偏氟乙烯树脂。

（溶剂）

作为在保护层的形成中使用的溶剂，可举出甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、2-丁醇、2-甲基-2-丙醇、苄醇、甲基异丙酮、甲基异丁酮、甲乙酮、环己烷、甲苯、二甲苯、二氯甲烷、乙酸乙酯、乙酸丁酯、2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、四氢呋喃、1,4-二

烷、1,3-二氧戊环、吡啶以及二乙基胺等，但并不限于这些。

（保护层的形成）

保护层可以通过如下方式制作，即，添加自由基聚合性的固化性化合物、进行了表面处理的p型半导体粒子、根据需要添加的公知树脂、聚合引发剂、润滑剂粒子、抗氧化剂等而制备涂布液，将所制备的涂布液利用公知的方法涂布在感光层表面，进行自然干燥或者热干燥，其后进行固化处理。保护层的膜厚优选为0.2μm～10μm，更优选为0.5μm～6μm。

本发明中，保护层的固化优选对涂布膜照射光化射线而产生自由基来进行聚合，且在分子间和分子内通过交联反应形成交联键而固化，生成固化树脂。作为光化射线，优选紫外线、可见光等光、电子束，从容易使用的观点出发，特别优选紫外线。

作为紫外线光源，只要是产生紫外线的光源就可以无限制地使用。例如，可以使用低压汞灯、中压汞灯、高压汞灯、超高压汞灯、碳弧灯、金属卤化物灯、氙气灯、闪光（脉冲）氙气灯、或者紫外线LED等。照射条件根据各种灯而不同，但光化射线的照射量通常为1mJ/cm²～20mJ/cm²，优选为5mJ/cm²～15mJ/cm²。光源的输出电压优选为0.1kW～5kW，特别优选为0.5kW～3kW。

作为电子束源，对电子束照射装置没有特别的限制，一般而言，作为这种电子束照射用的电子束加速器，可有效地使用以较低价得到大输出的电子帘（curtain beam）方式的加速器。电子束照射时的加速电压优选为100kV～300kV。作为吸收剂量，优选0.005Gy～100kGy（0.5rad～10Mrad）。

光化射线的照射时间是得到光化射线的必要照射量的时间，具体而言优选为0.1秒～10分钟，从固化效率或工作效率的观点出发，更优选为1秒～5分钟。

本发明中，可以在光化射线的照射前后和照射光化射线中对保护层进行干燥处理，进行干燥的时机可以与光化射线的照射条件组合而进行适当地选择。保护层的干燥条件可以根据涂布液中使用的溶剂的种类、保护层的膜厚等进行适当地选择。另外，干燥温度优选在室温以上180℃以下，特别优选80℃～140℃。另外，干燥时间优选为1分钟～200分钟，特别优选为5分钟～100分钟。在本发明中，通过以上述干燥条件干燥保护层，从而能够将保护层中含有的溶剂量控制在20ppm～75ppm的范围。

《感光体的构成》

（感光体的层构成）

本发明的感光体是在导电性支撑体上形成感光层和保护层而成的。对于感光层而言，其层构成没有特别限制，作为包括保护层的具体的层构成，例如如下所示。

（1）在导电性支撑体上依次层叠电荷产生层、电荷输送层以及保护层而成的层构成

（2）在导电性支撑体上依次层叠含有电荷输送物质和电荷产生材料的单层以及保护层而成的层构成

（3）在导电性支撑体上依次层叠中间层、电荷产生层、电荷输送层以及保护层而成的层构成

（4）在导电性支撑体上依次层叠中间层、含有电荷输送物质和电荷产生材料的单层以及保护层而成的层构成

本发明的感光体可以为上述（1）～（4）中的任一种层构成，其中，特别优选在导电性支撑体上依次设置中间层、电荷产生层、电荷输送层以及保护层而制成的层构成。

图1是表示本发明的感光体的层构成的一个例子的示意图。在图1中，1表示导电性支撑体、2表示感光层、3表示中间层、4表示电荷产生层、5表示电荷输送层、6表示保护层、7表示表面处理p型半导体粒子。

接下来，对构成本发明的感光体的导电性支撑体、中间层、感光层（电荷产生层、电荷输送层）以及构成感光层的部件进行说明。

（导电性支撑体）

本发明中使用的支撑体只要是具有导电性的物质，任何物质均可，例如，可举出将铝、铜、铬、镍、锌以及不锈钢等金属成型为鼓形或者片状而得的支撑体；将铝、铜等金属箔层压在塑料膜上而成的支撑体；将铝、氧化铟以及氧化锡等蒸镀在塑料膜上而成的支撑体；将导电性物质单独或者与粘结剂树脂一起涂布而设置导电层而得的金属、塑料膜以及纸等。

（中间层）

本发明中，可以在导电性支撑体和感光层中间设置具有阻隔功能和粘接功能的中间层。中间层可以通过使粘结剂树脂溶解在公知的溶剂中并进行浸渍涂布等来形成，所述粘结剂树脂例如酪蛋白、聚乙烯醇、硝化纤维素、乙烯-丙烯酸共聚物、聚酰胺、聚氨酯以及明胶等。在上述粘结剂树脂中，优选醇溶性的聚酰胺树脂。

另外，为了调整电阻，可以使中间层中含有各种导电性微粒、金属氧化物粒子。例如，氧化铝、氧化锌、氧化钛、氧化锡、氧化锑、氧化铟以及氧化铋等各种金属氧化物粒子。可以使用掺杂了锡的氧化铟、掺杂了锑的氧化锡以及氧化锆等超微粒。可以将这些金属氧化物粒子使用1种或两种以上混合使用。两种以上混合使用的情况下，可以采用固熔体或者熔合的形态。这种金属氧化物粒子的数均一次粒径优选为0.3μm以下，更优选为0.1μm以下。

作为可在中间层的形成中使用的溶剂，优选可使上述导电性微粒、金属氧化物粒子等无机微粒良好地分散，且溶解以聚酰胺树脂为代表的粘结剂树脂的溶剂。具体而言，乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、叔丁醇以及仲丁醇等碳原子数为2～4的醇类对优选作为粘结剂树脂的聚酰胺树脂呈现出良好的溶解性和涂布性能，所以优选。另外，为了提高保存性、无机微粒的分散性，可以在上述溶剂中并用如下的助溶剂。作为得到优选的效果的助溶剂，例如，可举出甲醇、苄醇、甲苯、环己酮以及四氢呋喃等。

涂布液形成时的粘结剂树脂浓度可以根据中间层的膜厚、涂布方式而进行适当地选择。另外，分散无机微粒等时，无机微粒相对于粘结剂树脂的混合比例，优选相对于粘结剂树脂100质量份使无机微粒为20质量份～400质量份，更优选为50质量份～200质量份。

无机微粒的分散机构可举出超声波分散机、球磨机、砂磨机以及均相混合机等，但并不限于这些。

另外，中间层的干燥方法可以根据溶剂的种类、形成的膜厚适当地选择公知的干燥方法，特别优选热干燥。

中间层的膜厚优选为0.1μm～15μm，更优选为0.3μm～10μm。

（感光层）

如上所述，构成本发明的感光体的感光层除可以为将电荷产生功能和电荷输送功能赋予给一个层的单层结构外，更优选为使感光层的功能分离给电荷产生层（CGL）和电荷输送层（CTL）的层构成。这样，通过形成功能分离型的层构成，从而具有可以将伴随着反复使用而产生的残余电位的上升控制到较小，并且容易控制各种电子照相特性使其符合目的的优点。负带电性感光体采用在中间层上设置电荷产生层（CGL）、在电荷产生层上设置电荷输送层（CTL）的构成，正带电性感光体采用在中间层上设置电荷输送层（CTL）、在电荷输送层上设置电荷产生层（CGL）的构成。优选的感光层的层构成为具有上述功能分离结构的负带电感光体。

以下，对作为感光层的具体例的功能分离型的负带电感光体的感光层的各层进行说明。

（电荷产生层）

优选本发明中形成的电荷产生层含有电荷产生物质和粘结剂树脂，涂布使电荷产生物质分散在粘结剂树脂溶液中而成的涂布液而形成。

电荷产生物质有苏丹红、Diane Blue等偶氮原料，芘醌、蒽酮垛蒽酮等醌颜料，喹啉菁颜料，苝颜料，靛蓝和硫靛等靛蓝颜料，酞菁颜料等，但并不限于这些。这些电荷产生物质可以单独或者以分散在公知的粘结剂树脂中的形态来使用。

作为形成电荷产生层的粘结剂树脂，可以使用公知的树脂，例如，可举出聚苯乙烯树脂、聚乙烯树脂、聚丙烯树脂、丙烯酸树脂、甲基丙烯树脂、氯化乙烯树脂、乙酸乙烯酯树脂、聚乙烯醇缩丁醛树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂、酚醛树脂、聚酯树脂、醇酸树脂、聚碳酸酯树脂、有机硅树脂、蜜胺树脂以及含有这些树脂中2个以上的共聚物树脂（例如，氯化乙烯-乙酸乙烯酯共聚物树脂、氯化乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐共聚物树脂）以及聚乙烯咔唑树脂等，但并不限于这些。

电荷产生层的形成优选通过如下方式制作，即，在将粘结剂树脂溶解于溶剂而成的溶液中使用分散机分散电荷产生物质而制备涂布液，用涂布机以恒定的膜厚涂布涂布液，并对涂布膜进行干燥而制作。

作为用于溶解电荷产生层中使用的粘结剂树脂以进行涂布的溶剂，例如，可举出甲苯、二甲苯、甲乙酮、环己烷、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、四氢呋喃、1,4-

二

烷、1,3-二氧戊环、吡啶以及二乙胺等，但并不限于这些。

作为电荷产生物质的分散机构，可以使用超声波分散机、球磨机，砂磨机以及均相混合机等，但并不限于这些。

电荷产生物质相对于粘结剂树脂的混合比例，优选相对于粘结剂树脂100质量份，电荷产生物质为1质量份～600质量份，更优选为50质量份～500质量份。电荷产生层的膜厚根据电荷产生物质的特性、粘结剂树脂的特性以及混合比例等而不同，但优选为0.01μm～5μm，更优选为0.05μm～3μm。应予说明，电荷产生层用的涂布液通过在涂布前过滤异物、凝聚物可以防止图像缺陷的产生。也可以通过对上述颜料进行真空蒸镀来形成。

（电荷输送层）

本发明中形成的电荷输送层至少在层内含有电荷输送物质和粘结剂树脂，是将电荷输送物质溶解在粘结剂树脂溶液中并进行涂布而形成的。

电荷输送物质可以使用公知的化合物，例如，可举出以下化合物。即，咔唑衍生物、

唑衍生物、

二唑衍生物、噻唑衍生物、噻二唑衍生物、三唑衍生物、咪唑衍生物、咪唑酮衍生物、咪唑烷衍生物、双咪唑烷衍生物、苯乙烯基化合物、腙化合物、吡唑啉化合物、

唑酮衍生物、苯并咪唑衍生物、喹唑啉衍生物、苯并呋喃衍生物、吖啶衍生物、吩嗪衍生物、氨基茋衍生物、三芳胺衍生物、苯二胺衍生物、茋衍生物、联苯胺衍生物、聚-N-乙烯基咔唑、聚-1-乙烯基芘以及聚-9-乙烯基蒽等。可以将这些化合物单独或者二种以上混合使用。

另外，电荷输送层用的粘结剂树脂可以使用公知的树脂，例如，可举出以下树脂。即，可举出聚碳酸酯树脂、聚丙烯酸酯树脂、聚酯树脂、聚苯乙烯树脂、苯乙烯-丙烯腈共聚物树脂、聚甲基丙烯酸酯树脂以及苯乙烯-甲基丙烯酸酯共聚物树脂等。其中，优选聚碳酸酯树脂，从耐破裂性、耐磨损性以及带电特性的观点考虑，更优选双酚A（BPA）、双酚Z（BPZ）、二甲基BPA以及BPA-二甲基BPA共聚物等类型的聚碳酸酯树脂。

电荷输送层可以用涂布法中代表的公知方法来形成，例如，涂布法中，可以通过溶解粘结剂树脂和电荷输送物质来制备涂布液，以恒定的膜厚涂布涂布液后，进行干燥处理来形成所希望的电荷输送层。

作为溶解上述粘结剂树脂和电荷输送物质的溶剂，例如，可举出甲苯、二甲苯、甲乙酮、环己酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、四氢呋喃、1,4-二

烷以及1,3-二氧戊环等。应予说明，制作电荷输送层形成用的涂布液时使用的溶剂并不限定于上述溶剂。

粘结剂树脂和电荷输送物质的混合比率，优选相对于粘结剂树脂100质量份，使电荷输送物质为10质量份～500质量份，更优选为20质量份～100质量份。

电荷输送层的厚度根据电荷输送物质、粘结剂树脂的特性以及它们的混合比等而不同，但优选为5μm～40μm，更优选为10μm～30μm。

在电荷输送层中，可以添加公知的抗氧化剂，例如可以使用日本特开2000-305291号公报记载的抗氧化剂。

（感光体的涂布方法）

构成本发明的感光体的中间层、电荷产生层、电荷输送层以及保护层等各层可以利用公知的涂布方法来形成。具体而言，可举出浸渍涂布法、喷涂法、旋转涂布法、液滴涂布（bead coating）法、刮刀涂布法、电子束涂布(beam coating)法、或者圆形量限制式涂布法（円形量規制型塗布法）等。应予说明，关于圆形量限制式涂布方法，例如，在日本特开昭58-189061号公报、日本特开2005-275373号公报中有记载。

《图像形成装置》

对本发明涉及的图像形成装置进行说明。

实现本发明的效果的图像形成装置具有：（1）至少具有本发明的保护层的电子照相感光体，（2）使上述电子照相感光体表面带电的带电机构，（3）对通过带电机构而带电的电子照相感光体表面进行图像曝光，进行潜像形成的曝光机构，（4）使通过曝光机构形成的潜像显影化，形成调色剂图像的显影机构以及（5）将通过显影机构形成在电子照相感光体表面上的调色剂图像转印到用纸等转印介质或者转印带上的转印机构。

应予说明，使电子照相感光体带电的带电机构中优选使用非接触带电装置。作为非接触带电装置，可以举出电晕带电装置、电晕管带电装置以及栅格电极（scorotron）带电装置。

图2是对表示本发明的一个实施方式的彩色图像形成装置的一个例子进行说明的剖面简图。

该彩色图像形成装置被称为串联式彩色图像形成装置，包含：4组图像形成部（图像形成单元）10Y、10M、10C和10Bk，环形带状中间转印体单元7，供纸传送机构21以及定影机构24。在图像形成装置的主体A的上部配置有原稿图像读取装置SC。

形成黄色图像的图像形成部10Y具有配置在作为第1像担载体的鼓状的感光体1Y周围的带电机构（带电工序）2Y、曝光机构（曝光工序）3Y、显影机构（显影工序）4Y、作为一次转印机构（一次转印工序）的一次转印辊5Y以及清洁机构6Y。形成品红色图像的图像形成部10M具有作为第1像担载体的鼓状的感光体1M、带电机构2M、曝光机构3M、显影机构4M、作为一次转印机构的一次转印辊5M以及清洁机构6M。形成青色图像的图像形成部10C具有作为第1像担载体的鼓状的感光体1C、带电机构2C、曝光机构3C、显影机构4C、作为一次转印机构的一次转印辊5C以及清洁机构6C。形成黑色图像的图像形成部10Bk具有作为第1像担载体的鼓状的感光体1Bk、带电机构2Bk、曝光机构3Bk、显影机构4Bk、作为一次转印机构的一次转印辊5Bk以及清洁机构6Bk。

上述4组图像形成单元10Y、10M、10C和10Bk以感光体鼓1Y、1M、1C或者1Bk为中心，由带电机构2Y、2M、2C或者2Bk，图像曝光机构3Y、3M、3C或者3Bk，显影机构4Y、4M、4C或者4Bk以及清洁感光体鼓1Y、1M、1C或者1Bk的清洁机构6Y、6M、6C或者6Bk构成。

上述图像形成单元10Y、10M、10C和10Bk只是在感光体1Y、1M、1C或者1Bk上分别形成的调色剂图像的颜色不同，为相同的构成，以图像形成单元10Y为例进行详细说明。

图像形成单元10Y在作为图像形成体的感光体鼓1Y的周围配置带电机构2Y（以下，简称为带电机构2Y、或者带电器2Y）、曝光机构3Y、显影机构4Y以及清洁机构6Y（以下，简称为清洁机构6Y、或者清洁刮板6Y），在感光体鼓1Y上形成黄色（Y）的调色剂图像。另外，在本实施方式中，该图像形成单元10Y中，以至少使感光体鼓1Y、带电机构2Y、显影机构4Y以及清洁机构6Y一体化的方式设置。

带电机构2Y是对感光体鼓1Y赋予相同的电位的机构，在本实施方式中，对感光体鼓1Y使用电晕放电型的带电器2Y。

图像曝光机构3Y是在通过带电器2Y赋予了相同电位的感光体鼓1Y上，基于图像信号（黄色）进行曝光，形成与黄色图像相对应的静电潜像的机构，作为该曝光机构3Y，可使用由在感光体鼓1Y的轴向以阵列状排列发光元件而成的LED和成像元件（商品名：SELFOC（注册商标）透镜）构成的曝光机构、或者激光光学系统等。

作为本发明的图像形成装置，可以使上述感光体、显影器、清洁器等构成要素作为处理盒（图像形成单元）一体结合而构成，该图像形成单元可对装置主体自由装卸地构成。另外，也可以使带电器、图像曝光器、显影器、转印或者分离器以及清洁器中的至少一个与感光体一起一体支撑地形成处理盒（图像形成单元），成为对装置主体自由装卸的单一图像形成单元，成为使用装置主体的导轨等引导机构而自由装卸的构成。

环形带状中间转印体单元7具有半导电性环形带状的作为第2图像担载体的环形带状中间转印体70，该环形带状中间转印体70被多个辊卷绕并可转动地支撑。

由图像形成单元10Y、10M、10C和10Bk形成的各色图像通过作为一次转印机构的一次转印辊5Y、5M、5C和5Bk被依次转印到转动的环形带状中间转印体70上，形成合成的彩色图像。作为收容在供纸盒20内的转印材料（担载定影的最终图像的支撑体：例如普通纸、透明片材等）的转印材料P通过供纸机构21供纸，经由多个中间辊22A、22B、22C、22D以及阻挡辊23被传送到作为二次转印机构的二次转印辊5b，在转印材料P上进行二次转印而彩色图像被一并转印。转印有彩色图像的转印材料P通过定影机构24被定影处理，被排纸辊25夹持而载置于机外的排纸托盘26上。在此，将在中间转印体、转印材料等的感光体上形成的调色剂图像的转印支撑体通称为转印介质。

另一方面，通过作为二次转印机构的二次转印辊5b将彩色图像转印到转印材料P后，与转印材料P发生了曲率分离的环形带状中间转印体70通过清洁机构6b除去残留调色剂。

图像形成处理中，一次转印辊5Bk保持与感光体1Bk抵接。其他的一次转印辊5Y、5M以及5C仅在彩色图像形成时分别与对应的感光体1Y、1M或者1C抵接。

二次转印辊5b仅在转印材料P通过此处进行二次转印时与环形带状中间转印体70抵接。

另外，可以介由支撑导轨82L和82R将框体8从装置主体A引出。

框体8由图像形成部10Y、10M、10C、10Bk以及环形带状中间转印体单元7形成。

图像形成部10Y、10M、10C和10Bk在垂直方向纵列配置。在感光体1Y、1M、1C、1Bk的图示左侧方配置环形带状中间转印体单元7。环形带状中间转印体单元7由卷绕辊71、72、73和74的可转动的环形带状中间转印体70、一次转印辊5Y、5M、5C、5Bk以及清洁机构6b形成。

实施例

以下举出实施例对本发明进行具体说明，但本发明并不限于这些实施例。

＜表面处理粒子的制作＞

（表面处理粒子1的制作）

将100质量份的作为p型半导体粒子的数均一次粒径20nm的“CuAlO₂”、10质量份的作为表面处理剂的“甲基氢聚硅氧烷（KF-99：信越化学株式会社制）”、1000质量份的甲乙酮加入到湿式砂磨机（直径0.5mm的氧化铝微珠）中，在30℃混合6小时，其后，滤除甲乙酮和氧化铝微珠，在60℃干燥，制备“表面处理粒子1”。

（表面处理粒子2的制作）

在表面处理粒子1的制作中，使用“六甲基二硅氮烷”作为表面处理剂，除此之外，与表面处理粒子1同样地制作“表面处理粒子2”。

（表面处理粒子3的制作）

在表面处理粒子1的制作中，使用数均一次粒径30nm的“CuAlO₂”作为p型半导体粒子，使用“例示化合物S-15”作为表面处理剂，除此之外，与表面处理粒子1同样地制作“表面处理粒子3”。

（表面处理粒子4的制作）

在表面处理粒子1的制作中，使用数均粒径30nm的“CuInO₂”作为p型半导体粒子，使用“例示化合物S-15”作为表面处理剂，除此之外，与表面处理粒子1同样地制作“表面处理粒子4”。

（表面处理粒子5的制作）

在表面处理粒子1的制作中，使用数均粒径50nm的“CuInO₂”作为p型半导体粒子，使用“例示化合物S-15”作为表面处理剂，除此之外，与表面处理粒子1同样地制作“表面处理粒子5”。

（表面处理粒子6的制作）

在表面处理粒子1的制作中，使用数均粒径100nm的“CuGaO₂”作为p型半导体粒子，使用“例示化合物S-30”作为表面处理剂，除此之外，与表面处理粒子1同样地制作“表面处理粒子6”。

（表面处理粒子7的制作）

在表面处理粒子1的制作中，使用数均粒径100nm的“CuGaO₂”作为p型半导体粒子，使用“例示化合物S-35”作为表面处理剂，除此之外，与表面处理粒子1同样地制作“表面处理粒子7”。

（比较用表面处理粒子8（比较用）的制作）

在表面处理p型半导体粒子1的制作中，使用数均粒径20nm的“SnO₂”作为金属氧化物粒子，使用“例示化合物S-15”作为表面处理剂，除此之外，与表面处理粒子1同样地制作“表面处理粒子8”（比较用）。

（比较用表面处理粒子9（比较用）的制作）

在表面处理粒子1的制作中，使用100质量份的数均粒径50nm的“SiO₂”作为金属氧化物粒子，使用100质量份的“二甲基聚硅氧烷（KF-96-10cs：信越化学株式会社制）”作为表面处理剂，除此之外，与表面处理粒子1同样地制作“表面处理粒子9”（比较用）。

将如上制作的表面处理粒子的构成示于表1。

[表1]

KF-99：甲基氢聚硅氧烷(信越化学)

KF-96-10cs：-二甲基聚硅氧烷(信越化学)

HMDS：六甲基二硅氮烷

＜感光体1的制作＞

如下所述地制作感光体1。

对直径60mm的圆筒形铝支撑体的表面进行切削加工，准备表面粗糙度Rz＝1.5（μm）的导电性支撑体。

〈中间层〉

将下述组成的分散液用相同的混合溶剂稀释成二倍，静置一夜后过滤（过滤器：使用日本Pall公司制Rigimesh5μm过滤器），制备中间层涂布液。

聚酰胺树脂CM8000（TORAY公司制）        1质量份

氧化SMT500SAS（TAYCA公司制）           3质量份

甲醇            10质量份

使用砂磨机作为分散机，以间歇式进行10小时的分散。

用浸渍涂布法使用上述涂布液在上述支撑体上以干燥膜厚成为2μm的方式进行涂布。

〈电荷产生层〉

将上述成分混合，使用砂磨机分散10小时，制备电荷产生层涂布液。将该涂布液用浸渍涂布法涂布在上述中间层上，形成干燥膜厚0.3μm的电荷产生层。

〈电荷输送层〉

将上述成分混合，溶解，制备电荷输送层涂布液。将该涂布液用浸渍涂布法涂布在上述电荷产生层上，形成干燥膜厚20μm的电荷输送层。

〈保护层〉

将上述成分混合搅拌，充分溶解·分散，制备保护层涂布液。使用圆形滑动漏斗式涂布机将该涂布液涂布在之前制作到电荷输送层为止的感光体上。涂布后，使用氙气灯照射紫外线1分钟，得到干燥膜厚2.0μm的保护层。这样操作，制作“感光体1”。

＜感光体2和感光体10的制作＞

如表2所示地变更感光体1的保护层，同样地进行涂布。涂布后，在120℃进行70分钟干燥，得到干燥膜厚2.0μm的保护层。这样操作，制作“感光体2”和“感光体10”。在此，在保护层中不使用固化性化合物，而是使用聚碳酸酯Z300（三菱瓦斯化学公司制）作为粘结剂。另外，在感光体10的保护层中，添加50质量份的下述结构式的CTM-1作为电荷输送物质。

＜感光体3～9的制作＞

如表2所示地变更感光体1的保护层，除此之外，同样地制作感光体3～9。另外，在感光体8的保护层中，不添加表面处理粒子，而是添加100质量份的下述结构式的RCTM作为电荷输送物质。

在此，感光体1～7为本发明的感光体，感光体8～10为比较用的感光体。

＜感光体的评价＞

使用基本具有图1的构成的Konica Minolta Business Technologies公司制“bizhub PRO C6501”作为评价机，将各感光体搭载于该评价机，进行评价。

在23℃·50%RH环境下，实施耐久试验，即，将图像比率6%的文字图像以A4横向供给、各300000张双面连续的方式进行打印，在耐久试验中或耐久试验后，进行感光体的耐磨损特性、残余电位以及图像记忆的评价。应予说明，评价是根据以下所示的指标实施的。

〔耐磨损特性的评价〕

测定上述耐久试验前后的感光层的膜厚，算出膜厚耗减量进行评价。

感光层的膜厚是随机测定10处均匀膜厚部分（将涂布的前端部以及后端部的膜厚变动部分作成膜厚侧高而除去），将其平均值作为感光层的膜厚。膜厚测定器是使用涡流方式的膜厚测定器“EDDY560C”（HELMUT FISCHER GMBTE CO公司制）进行的，将实际打印试验前后的感光层膜厚之差作为膜厚耗减量。将每100krot（10万转）的耗减量（μm）作为α值（μm/10万转）记载于表3中。

〔图像记忆的评价〕

在上述耐久试验后，连续印刷10张混合了实地黑和实地白的图像，持续印刷均匀的半色调图像，判定在该半色调图像中是否显现上述实地黑和实地白的痕迹（是：产生记忆）（否：不产生记忆）。

○：不产生记忆

×：产生记忆

〔曝光后电位的评价〕

测定曝光后的电位作为感光体的电位特性的指标。评价如下进行，即，使用GENTEC公司制的“CYNTHIA59”，在20℃、65%RH的条件下，在暗处通过栅格电极带电器使感光体带电以使得表面电位变成-500V，在33msec后进行强度148μW/cm²的白色曝光，测定感光体表面上的曝光后的电位（残余电位）。

将以上的评价结果示于表3。

[表3]

从以上结果可知，本发明的感光体1～7与比较用的感光体8～10相比，是在耐磨损性、图像记忆、残余电位的各特性方面均具有优异特性的感光体。

在2011年12月20日提出的特愿2011-278006号的全部公开内容完全引入到本申请中。

Claims (8)

1.一种电子照相感光体，在导电性支撑体上依次层叠至少感光层和保护层而成，其特征在于，该保护层含有p型半导体粒子。

2.根据权利要求1所述的电子照相感光体，其特征在于，所述p型半导体粒子为下述通式（1）表示的化合物，

通式（1）：CuMO₂

其中，式中M表示元素周期表第ⅢA族的元素。

3.根据权利要求1或2所述的电子照相感光体，其特征在于，所述p型半导体粒子为选自CuAlO₂、CuGaO₂或CuInO₂中的粒子。

4.根据权利要求1所述的电子照相感光体，其特征在于，所述保护层含有所述p型半导体粒子和使固化性化合物固化而得的成分。

5.根据权利要求1所述的电子照相感光体，其特征在于，所述p型半导体粒子是用具有反应性有机基团的表面处理剂处理后的粒子。

6.根据权利要求4所述的电子照相感光体，其特征在于，所述固化性化合物为在分子中具有丙烯酰基或甲基丙烯酰基中的至少任一种基团的聚合性单体。

7.根据权利要求1所述的电子照相感光体，其特征在于，所述p型半导体粒子的数均一次粒径在1nm～300nm的范围内。

8.根据权利要求1所述的电子照相感光体，其特征在于，所述p型半导体粒子为通过等离子体法制作的粒子。

Images