CN102639686A - 清洁组成物及使用该组成物清洁面板的方法 - Google Patents

清洁组成物及使用该组成物清洁面板的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN102639686A
CN102639686A CN2010800384389A CN201080038438A CN102639686A CN 102639686 A CN102639686 A CN 102639686A CN 2010800384389 A CN2010800384389 A CN 2010800384389A CN 201080038438 A CN201080038438 A CN 201080038438A CN 102639686 A CN102639686 A CN 102639686A
Authority
CN
China
Prior art keywords
cleaning composition
group
piperazine
flat
straight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN2010800384389A
Other languages
English (en)
Other versions
CN102639686B (zh
Inventor
洪亨杓
洪宪杓
金泰熙
朴勉奎
尹嚆重
金炳默
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dongwoo Fine Chem Co Ltd
Original Assignee
Dongwoo Fine Chem Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from KR1020090069505A external-priority patent/KR20110011995A/ko
Priority claimed from KR1020090069506A external-priority patent/KR20110011996A/ko
Priority claimed from KR1020090073683A external-priority patent/KR20110016136A/ko
Application filed by Dongwoo Fine Chem Co Ltd filed Critical Dongwoo Fine Chem Co Ltd
Publication of CN102639686A publication Critical patent/CN102639686A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102639686B publication Critical patent/CN102639686B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/16—Organic compounds
    • C11D3/26—Organic compounds containing nitrogen
    • C11D3/28—Heterocyclic compounds containing nitrogen in the ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22—Organic compounds
    • C11D7/32—Organic compounds containing nitrogen
    • C11D7/3281—Heterocyclic compounds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

本发明涉及一种用于平板显示器的清洁组成物，其按组成物的总量计，包括：(a)0.05-5重量％的胺化合物；(b)0.01-10重量％的添加剂，该添加剂包括选自由唑系化合物、烷醇胺盐与还原剂所构成群组中的一种或更多种；及(c)其余为水。

Description

清洁组成物及使用该组成物清洁面板的方法
技术领域
本发明涉及一种清洁组成物及一种使用该组成物的清洁方法。
本申请主张2009年7月29日提出的韩国专利申请第10-2009-0069505号与第10-2009-0069506号、及2009年8月11日提出的韩国专利申请第10-2009-0073683号(其全文在此借引用方式并入本申请)的权益。
背景技术
平板显示器(以下称为‘FPD’)，典型实施例为液晶显示器(LCD)，如同半导体装置一样，是借膜形成、曝光、蚀刻等程序制造。然而在实行这些程序时，各种大小为1微米或更小的有机或无机粒子(Particle)可黏附在基板表面。因此，在粒子黏附下实行后续程序时，在膜中形成针孔或坑(pit)并且切割或桥接(Bridge)配线，因而降低产物良率。
因此在各程序间实行清洁以去除粒子。现已提出各种用以去除粒子的清洁溶液。例如日本未审查专利申请第2005-154558号公开了一种包括H3PO4、HF、氨及/或胺的清洁溶液。然而这种清洁溶液无法用于清洁FPD用基板，因为其包括严重蚀刻(Etching)玻璃基板(典型的FPD用基板)及铝(Al)(典型的配线用原料)的HF。此外，日本未审查专利申请第2000-232063号公开了一种其中使用磷酸或磷酸铵作为抗腐蚀剂的清洁溶液。然而这种清洁溶液用以去除残留光阻，且具有酸范围的pH。因此在清洁阶段初期，此清洁溶液难以去除大小为1微米或更小的有机或无机粒子(Particle)且同时防止铝配线被腐蚀。此外韩国注册专利第10-0574607号公开了一种在酸性pH范围中，包括去离子水、有机化合物及铵化合物的清洁溶液。然而这种清洁溶液也难以在清洁阶段初期去除大小为1微米或更小的有机或无机粒子(Particle)，因为其为酸性溶液。此外韩国注册专利第10-0599849号公开了一种包括尿素及/或亚乙基脲、碱成分(如氢氧化四级铵、氨等)、有机酸(如柠檬酸(CITRIC ACID)、苹果酸(MALICACID)、酒石酸(TARTARIC ACID)等及/或其盐)，其余为去离子水的清洁溶液。然而此清洁溶液在长时间使用下，因尿素或亚乙基脲沉积而成问题。
发明内容
因而本发明已构想解决上述问题，而且本发明的一个目的为提供一种适用于去除残留在用于平板显示器的基板上的有机或无机粒子的清洁组成物。
本发明的另一个目的为提供一种不腐蚀用于平板显示器的含铜配线或含铝配线的清洁组成物。
本发明的一个方面是提供一种清洁组成物，其按组成物的总量计，包含：(a)0.05-5重量％的由下式1至5任一表示的胺化合物；(b)0.01-10重量％的添加剂，包括选自由唑系化合物、烷醇胺盐与还原剂所构成群组中的一种或更多种；及(c)其余为水：
<式1>
Figure BDA0000139116210000021
<式2>
<式3>
Figure BDA0000139116210000023
<式4>
Figure BDA0000139116210000031
<式5>
Figure BDA0000139116210000032
其中R1、R4与R5各自独立地为C1-C10的直链或支链亚烃基；
R2、R3与R6各自独立地为氢、或C1-C10的直链或支链烷基；
R7、R8与R10各自独立地为氢、C1-C10的直链或支链烷基、C6-C10的芳基、C1-C10的直链或支链烷基胺基、C1-C10的直链或支链羟烷基、C1-C10的直链或支链烷基苯、或胺基；
R9与R11各自独立地为氢、C1-C10的直链或支链烷基、C6-C10的芳基、C1-C10的直链或支链烷基胺基、或胺基；
R12为C1-C4的直链或支链羟烷基、或C1-C4的直链或支链硫烷基；
R13与R14各自独立地为C1-C5的直链或支链烷基、C1-C4的直链或支链羟烷基、C6-C10的芳基、或C1-C4的烷氧基烷基，而且R13与R14彼此键结形成杂环；及
n1与n3各自独立地为0或1，n2与n4各自独立地为0至4的整数，n5为1或2，n6为1至4的整数，n7为0至4的整数，X1为S、O或N，X2为N，X3为CH或N，及Y为羟基或胺基。
本发明的另一个方面是提供一种使用该清洁组成物清洁平板显示器的方法。
如上所述，本发明的清洁组成物具有优良的去除残留在用于平板显示器的基板上的有机或无机粒子的能力。此外，本发明的清洁组成物具有优良的防止配置在基板上的含铜配线或含铝配线腐蚀的效果。此外，本发明的清洁组成物易于处理且环境友善，因为其包括大量的水。
附图说明
图1为玻璃基板的照片，该玻璃基板被毛毡笔迹(其为有机污染物之一)所污染；
图2为使用实施例16的清洁组成物去除图1的毛毡笔迹的玻璃基板的照片；
图3为玻璃基板的照片，该玻璃基板被指纹(其为有机污染物之一)所污染；
图4为使用实施例16的清洁组成物去除图3的指纹的玻璃基板的照片；
图5为玻璃基板的照片，该玻璃基板被毛毡笔迹(其为有机污染物之一)所污染；
图6为使用实施例32的清洁组成物去除图5的毛毡笔迹的玻璃基板的照片；
图7为玻璃基板的照片，该玻璃基板被指纹(其为有机污染物之一)所污染；
图8为使用实施例32的清洁组成物去除图7的指纹的玻璃基板的照片；
图9为玻璃基板的照相，该玻璃基板被毛毡笔迹(其为有机污染物之一)所污染；
图10为使用实施例51的清洁组成物去除图9的毛毡笔迹的玻璃基板的照片；
图11为玻璃基板的照片，该玻璃基板被指纹(其为有机污染物之一)所污染；及
图12为使用实施例51的清洁组成物去除图11的指纹的玻璃基板的照片。
具体实施方式
以下详述本发明。
根据本发明的用于平板显示器的清洁组成物包括：(a)胺化合物，(b)添加剂，及(c)水。
包括在清洁组成物中的胺化合物(a)由下式1至5任一表示：
<式1>
<式2>
Figure BDA0000139116210000052
<式3>
Figure BDA0000139116210000053
<式4>
Figure BDA0000139116210000054
<式5>
Figure BDA0000139116210000055
其中R1、R4与R5各自独立地为C1-C10的直链或支链亚烃基；
R2、R3与R6各自独立地为氢、或C1-C10的直链或支链烷基；
R7、R8与R10各自独立地为氢、C1-C10的直链或支链烷基、C6-C10的芳基、C1-C10的直链或支链烷基胺基、C1-C10的直链或支链羟烷基、C1-C10的直链或支链烷基苯、或胺基；
R9与R11各自独立地为氢、C1-C10的直链或支链烷基、C6-C10的芳基、C1-C10的直链或支链烷基胺基、或胺基；
R12为C1-C4的直链或支链羟烷基、或C1-C4的直链或支链硫烷基；
R13与R14各自独立地为C1-C5的直链或支链烷基、C1-C4的直链或支链羟烷基、C6-C10的芳基、或C1-C4的烷氧基烷基，而且R13与R14彼此键结形成杂环；及
n1与n3各自独立地为0或1，n2与n4各自独立地为0至4的整数，n5为1或2，n6为1至4的整数，n7为0至4的整数，X1为S、O或N，X2为N，X3为CH或N，及Y为羟基或胺基。
胺化合物(a)按清洁组成物的总量计，可包括0.05-5重量％，较佳为0.1-3重量％的量。在胺化合物的量低于0.05重量％时不能实现充分的清洁效果。此外在其量高于3重量％时，清洁组成物的活性劣化，使得粒子去除效果降低，或含铜配线或含铝配线渐被腐蚀。
由上式1表示的胺化合物可选自由N-(2-羟乙基)哌嗪、N-(2-羟丙基)哌嗪、N-(2-羟丁基)哌嗪、1-(2-羟乙基)-4-甲基哌嗪、1-(2-羟丙基)-4-甲基哌嗪、1-(2-羟丁基)-4-甲基哌嗪、1-(2-羟乙基)-4-乙基哌嗪、1-(2-羟乙基)-4-丙基哌嗪、1-(2-羟乙基)-4-丁基哌嗪、1-(2-羟丙基)-4-甲基哌嗪、1-(2-羟丙基)-4-乙基哌嗪、1-(2-羟丙基)-4-丙基哌嗪、1-(2-羟丙基)-4-丁基哌嗪、1-(2-羟丁基)-4-甲基哌嗪、1-(2-羟丁基)-4-乙基哌嗪、1-(2-羟丁基)-4-丙基哌嗪、1-(2-羟丁基)-4-丁基哌嗪、N-(2-羟乙基)吗啉、N-(2-羟丙基)吗啉、N-胺基丙基吗啉、羟乙基哌嗪、羟丙基哌嗪、与1-(N-甲基哌嗪)乙醇所构成群组。
由上式2表示的胺化合物可选自由1，4-哌嗪二乙醇(1，4-Piperazinediethanol)与1，4-哌嗪二甲醇(1，4-Piperazinedimethanol)所构成群组。
由上式3表示的胺化合物可选自由N-(2-羟乙基)亚乙基脲、N-(3-羟丙基)-2-吡咯酮、羟甲基吡咯酮、与1-(2-羟乙基)-2-吡咯酮所构成群组。
由上式4表示的胺化合物可选自由N-(2-羟乙基)哌啶、N-(2-羟丙基)哌啶、与N-(2-羟丁基)哌啶所构成群组。
由上式5表示的胺化合物可选自由胺基乙氧基乙醇、胺基丙氧基乙醇、胺基丁氧基乙醇、二甲胺基乙氧基硫醇、二乙胺基乙氧基硫醇、二丙胺基乙氧基硫醇、二丁胺基乙氧基硫醇、二甲胺基乙氧基乙醇、二乙胺基乙氧基乙醇、二丙胺基乙氧基乙醇、二丁胺基乙氧基乙醇、二甲胺基乙氧基乙硫醇、二乙胺基乙氧基丙硫醇、二丙胺基乙氧基丁硫醇、二丁胺基乙氧基乙醇、N-(甲氧基甲基)吗啉、N-(乙氧基甲基)吗啉、N-(2-甲氧基乙醇)吗啉、N-(2-乙氧基乙醇)吗啉、与N-(2-丁氧基乙醇)吗啉所构成群组。
本发明清洁剂组成物所包括的添加剂(b)，包括选自由唑系化合物、烷醇胺盐与还原剂所构成群组中的一种或更多种。
添加剂(b)用以使含铜配线与含铝配线的腐蚀最小。
添加剂按清洁组成物的总量计，可包括0.01-10重量％，较佳为0.1-3重量％的量。在添加剂的量符合上述范围时，其可使由铝、铜、铝合金、铜合金等制成的金属膜的损坏最小，因此增加经济效率。
唑系化合物可包括三唑环。在此情形，存在于三唑环中的氮原子的未共享电子对与铜电子地键结，如此防止铜腐蚀。唑系化合物可为选自由甲苯基三唑、1，2，3-苯并三唑、1，2，3-三唑、1，2，4-三唑、3-胺基-1，2，4-三唑、4-胺基-4H-1，2，4-三唑、1-羟基苯并三唑、1-甲基苯并三唑、2-甲基苯并三唑、5-甲基苯并三唑、苯并三唑-5-碳酸酯、硝基苯并三唑、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4，6-二叔丁基酚、与2，2’-[[[乙基-1H-苯并三唑-1基]甲基]亚胺基]二乙醇所构成群组中的一种或更多种。
烷醇胺盐用以在清洁具有金属图案与氧化物膜的基板的程序期间，防止金属被腐蚀，且防止氧化物膜被过度地蚀刻，及用以借由控制清洁组成物的pH变化而使清洁组成物呈现pH缓冲效果。制备烷醇胺盐的反应温度可维持在90℃或更低。
烷醇胺盐可为具有C1-C5烷基的低碳烷醇胺盐。此外，可使用如二甲基甲醇胺盐的其它低碳烷醇胺盐作为烷醇胺盐，因为若其它取代基具有一个或多个羟基，则其可存在于胺基中。烷醇胺盐的实施例可包括单乙醇胺盐、二乙醇胺盐、三乙醇胺盐、单异丙醇胺盐、二异丙醇胺盐、三异丙醇胺盐等。此外可使用市售产品作为烷醇胺盐。烷醇胺盐的市售产品的实施例可包括AB RUST CM(由LABEMA Co.制造)、AB RUST A4(由LABEMA Co.制造)、EMADOX-NA(由LABEMA Co.制造)、EMADOX-NB(由LABEMA Co.制造)、EMADOX-NCAL(由LABEMA Co.制造)、EMADOX-102(由LABEMA Co.制造)、EMADOX-103(由LABEMA Co.制造)、EMADOX-D520(由LABEMACo.制造)、AB Rust at(由LABEMA Co.制造)等。
还原剂用以借由在金属配线上抑制氧化物膜形成而防止金属配线被腐蚀。还原剂可包括选自由异抗坏血酸、维生素C与α-生育酚所构成群组中的一种或更多种。
本发明清洁组成物所包括的水(c)可为去离子水，较佳为去离子蒸馏水。水(c)用以制备经济及环境友善的清洁组成物。水(c)的使用量为，使得本发明清洁组成物的总量为100重量％的余量。
本发明的清洁组成物可进一步包括选自由链形烷醇胺、多羧酸共聚物、计量(quantal)亚烷基二醇单烷醚化合物、及表面活性剂所构成群组中的至少一种。
多羧酸共聚物用以借由在金属表面上形成保护层，以抑制金属与碱离子的过度反应而防止金属被腐蚀，且多羧酸共聚物用作pH调整剂。多羧酸共聚物可包括由下式6表示的单元结构：
<式6>
其中R15至R17各自独立地为氢原子、C1-C3的直链或支链烷基、或(CH2)m2COOM2；M1与M2各自独立地为氢原子、碱金属、碱土金属、或C1-C10的未取代或经取代烷基铵基(alkylammonium group)；及m1与m2各自独立地为0至2的整数。
多羧酸共聚物可包括一种具有由上式6表示的单元结构的单体。具有由上式6表示的单元结构的单体可选自由丙烯酸、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、三甲基丙烯酸、顺丁烯二酸、反丁烯二酸、伊康酸、巴豆酸、柠康酸、乙烯基乙酸、4-戊烯酸、与其盐所构成群组。就高速研磨金属方面来说，这些单体中更佳为丙烯酸、(甲基)丙烯酸甲酯与顺丁烯二酸。
此外，多羧酸共聚物可进一步包括一种或更多种其它单体，其可与具有由上式6表示的单元结构的单体共聚合。此多羧酸共聚物的实施例可包括聚丙烯酸聚合物(PAA)、聚(甲基)丙烯酸甲酯共聚物(PMAA)、聚丙烯酸顺丁烯二酸共聚物(PAMA)、聚丙烯酸(甲基)丙烯酸甲酯共聚物(PAMAA)、聚顺丁烯二酸共聚物(PMA)、聚(甲基)丙烯酸甲酯顺丁烯二酸共聚物(PMAMA)、与其盐。
多羧酸共聚物可包括0.01-10重量％，较佳为0.05-5重量％，更佳为0.1-1重量％的量。
计量亚烷基二醇单烷醚化合物用以溶解有机污染物的溶剂。此外，计量亚烷基二醇单烷醚化合物用以改良清洁力，因为其降低清洁组成物的表面张力，因此增加清洁组成物对玻璃基板的润湿力。
计量亚烷基二醇单烷醚化合物可选自由乙二醇单丁醚(BG)、二乙二醇单甲醚(MDG)、二乙二醇单乙醚(Carbitol)、二乙二醇单丁醚(BDG)、二丙二醇单甲醚(DPM)、二丙二醇单乙醚(MFDG)、三乙二醇单丁醚(BTG)、三乙二醇单乙醚(MTG)、与丙二醇单甲醚(MFG)所构成群组。
计量亚烷基二醇单烷醚化合物按清洁组成物的总量计，可包括0.05-20重量％，较佳为0.5-10重量％的量。在计量亚烷基二醇单烷醚化合物的量低于0.05重量％时，无法期待增进清洁组成物溶解有机污染物的能力。此外，在其量高于20重量％时，无法期待增进清洁组成物对玻璃基板的润湿力。
表面活性剂用以借由增进清洁组成物对基板的润湿力而使基板被均匀地清洁，及用以在清洁具有金属图案与氧化物膜的基板的程序期间，防止金属被腐蚀且防止氧化物膜被过度地蚀刻。表面活性剂可选自由阴离子型表面活性剂、阳离子型表面活性剂、与非离子型表面活性剂所构成群组中的一种或更多种。特定言之，这些表面活性剂中较佳为使用非离子型表面活性剂，其具有优良的润湿力且产生少量气泡。
非离子型表面活性剂可包括选自由聚氧乙烯/聚氧丙烯二醇共聚物、聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯烷基苯基醚、聚氧乙烯/聚氧丙烯烷基醚、聚氧乙烯/聚氧丁烯烷基醚、聚氧乙烯烷基胺基醚、聚氧乙烯烷基酰胺醚、聚乙二醇脂肪酸酯、山梨醇酐脂肪酸酯、脂肪酸酯、甘油脂肪酸酯、聚甘油脂肪酸酯、甘油酯、烷基酰胺、脂肪酸酰胺、与添加氧乙烯的脂肪酸酰胺所构成群组中的一种或更多种。这些非离子型表面活性剂中较佳为使用具有氧乙烯(EO)作为亲水性基，且具有氧丙烯(PO)及/或氧丁烯(BO)作为疏水性基的聚氧乙烯/聚氧丁烯烷基醚共聚物。在此氧乙烯(EO)由-CH2-CH2-O-表示，氧丙烯(PO)由-CH(CH3)-CH2-O-或-CH2-CH(CH3)-O-表示，及氧丁烯(BO)由-CH2-CH2-CH2-CH2-O-、-CH(CH3)-CH2-CH2-O-、-CH2-CH(CH3)-CH2-O-、或-CH2-CH2-CH(CH3)2-O-表示。氧乙烯(EO)、氧丙烯(PO)或氧丁烯(BO)的共聚合部分可为嵌段共聚物、无规共聚物、或嵌段-无规共聚物。此外，其共聚合分子可为氧乙烯(EO)与氧丙烯(PO)的共聚物、氧乙烯(EO)与氧丁烯(BO)的共聚物、或氧乙烯(EO)、氧丙烯(PO)与氧丁烯(BO)的共聚物。在此，在将氧乙烯(EO)的总摩尔数用X表示，及将氧丙烯(PO)或氧丁烯(BO)的总摩尔数用Y表示时，氧乙烯(EO)对氧丙烯(PO)或氧丁烯(BO)的摩尔比例(由X/(X+Y)表示)可为0.05至0.7的范围。
此外，非离子型表面活性剂的末端可为选自由氢原子、羟基、烷基、与烯基所构成群组中的一种或更多种。此外非离子型表面活性剂的末端可具有乙二胺或甘油。非离子型表面活性剂的实施例可包括聚氧乙烯/聚氧丙烯缩合物、聚氧乙烯/聚氧丁烯缩合物、聚氧乙烯/聚氧丙烯癸基醚缩合物、聚氧乙烯/聚氧丙烯十一碳基醚缩合物、聚氧乙烯/聚氧丙烯十二碳基醚缩合物、聚氧乙烯/聚氧丙烯十四碳基醚缩合物、聚氧乙烯/聚氧丁烯癸基醚缩合物、聚氧乙烯/聚氧丁烯十一碳基醚缩合物、聚氧乙烯/聚氧丁烯十二碳基醚缩合物、聚氧乙烯/聚氧丁烯十四碳基醚缩合物、聚氧乙烯/聚氧丙烯2-乙基己基醚、聚氧乙烯/聚氧丙烯月桂基醚、聚氧乙烯/聚氧丙烯硬脂基醚、添加甘油的聚氧乙烯/聚氧丙烯缩合物、添加甘油的聚氧乙烯/聚氧丁烯缩合物、添加乙二胺的聚氧乙烯/聚氧丙烯缩合物、添加乙二胺的聚氧乙烯/聚氧丁烯缩合物、聚氧乙烯/聚氧丁烯2-乙基己基醚、聚氧乙烯/聚氧丁烯月桂基醚、聚氧乙烯/聚氧丁烯硬脂基醚等。
非离子型表面活性剂较佳可为聚氧乙烯/聚氧丙烯缩合物、聚氧乙烯/聚氧丁烯缩合物、添加甘油的聚氧乙烯/聚氧丙烯缩合物、或添加乙二胺的聚氧乙烯/聚氧丙烯缩合物。非离子型表面活性剂更佳可为聚氧乙烯/聚氧丙烯缩合物、或添加乙二胺的聚氧乙烯/聚氧丙烯缩合物。
表面活性剂按清洁组成物的总量计，可包括0.001-1.0重量％，较佳为0.01-0.5重量％的量。在表面活性剂的总量低于0.001重量％时，玻璃基板的清洁均匀性效果不明显。此外，在其量高于1.0重量％时，尽管确保一致的清洁均匀性，玻璃基板的清洁均匀性不再增加，且清洁均匀性的改良限于特定值。
使用依照本发明的清洁组成物清洁平板显示器的方法可使用本领域内周知的方式实行。可使用选自由喷洒(spray)、旋转(spin)、浸泡(dipping)、与超音波浸泡所构成群组中的一种或更多种实行方法。此外，可在20至80℃，较佳为20至50℃的温度实行方法，在此温度呈现最优良的清洁效果。此外，可实行方法30秒至10分钟。
下面参考以下实施例而更详细地叙述本发明。然而本发明的范围不受其限制。
实施例1至19及比较例1至3：清洁组成物的制备
借由以下表1所示的组成比例混合成分，然后搅拌混合物而制备清洁组成物。
【表1】
Figure BDA0000139116210000111
注)NHEP1：N-(2-羟乙基)哌嗪
HEMP：1-(2-羟乙基)-4-甲基哌嗪
NHEM：N-(2-羟乙基)吗啉
TMAH：氢氧化四甲铵
NH4OH：氢氧化铵
MEA：单乙醇胺
*1)：2，2’-[[[乙基-1H-苯并三唑-1-基]甲基]亚胺基]二乙醇
*2)：EMADOX-NA(商品名，由LABEMA Co.制造)
*3)：异抗坏血酸
*GE：计量亚烷基二醇单烷醚
*4)：二乙二醇单甲醚
*5)：二乙二醇单丁醚
*6)：三乙二醇单乙醚
*7)：聚丙烯酸聚合物(PAA)
*8)：聚(甲基)丙烯酸甲酯共聚物(PMAA)
*9)：聚氧乙烯/聚氧丙烯二醇
*10)：添加乙二胺的聚氧乙烯/聚氧丙烯缩合物
测试例1：清洁组成物的特征评估
1)铜蚀刻速率的评估
首先使涂有2500埃厚的铜膜的玻璃基板在实施例1至12及比较例1至3的各清洁组成物中浸泡30分钟。在此情形，各清洁组成物的温度为40℃。继而在浸泡玻璃基板前后测量铜膜的厚度，及由铜膜的厚度变化计算铜膜的蚀刻速率。其结果示于以下表2。
2)有机污染物去除力的评估-1
为了评估有机污染物去除力，对大小为5公分×5公分的玻璃基板用指纹或有机毛毡笔迹污染，然后使用喷洒型清洁设备，使被污染的玻璃基板在40℃温度下用实施例4、8、12至19的各清洁组成物清洗2分钟。然后经清洗玻璃基板进一步用超纯水清洗30秒，然后用氮干燥。
在此情形，在以下表2中用○表示去除有机污染物的情形，及用X表示未去除有机污染物的情形。使用实施例16的清洁组成物去除有机污染物的结果示于图1至4。在此，图1为一个被毛毡笔迹(其为有机污染物之一)污染的玻璃基板的照片。图2为使用实施例16的清洁组成物去除图1的毛毡笔迹的玻璃基板的照片。图3为一个被指纹(其为有机污染物之一)污染的玻璃基板的照片。图4为使用实施例16的清洁组成物去除图3的指纹的玻璃基板的照片。
3)有机污染物去除力的评估-2
使玻璃基板单独置于大气中24小时，而使玻璃基板被大气中的有机物质、无机物质、粒子等污染，然后使用喷洒型清洁设备，使被污染的玻璃基板在40℃温度下用实施例4、8、12至19的各清洁组成物清洗2分钟。然后使经清洗玻璃基板进一步用超纯水清洗30秒，然后用氮干燥。继而将0.5微升的超纯水滴在干燥玻璃基板上以测量接触角。其结果示于以下表2。
4)有机污染物去除力的评估-3
使被有机粒子溶液污染的玻璃基板用实施例4、8、12、13、16、与18的各清洁组成物清洗。即，使玻璃基板被平均粒度为0.8微米的有机粒子溶液污染，然后使被污染的玻璃基板以3000rpm的旋转速率旋(spin)干1分钟，然后使用喷洒型清洁设备，使旋干的玻璃基板在40℃温度下用实施例4、8、12、13、16、与18的各清洁组成物清洗2分钟。然后使经清洗玻璃基板进一步用超纯水清洗30秒，然后用氮干燥。使用表面粒子探测器(Topcon WM-1500)测量清洁前后的大小为0.1微米或更大的粒子的数量，而且其结果示于以下表2。
【表2】
Figure BDA0000139116210000141
参考以上表2，实施例1至12的清洁组成物呈现防止铜腐蚀的效果。然而由比较例1至3的清洁组成物(不包括环形胺化合物而是碱性化合物)观察到铜被腐蚀。
此外，实施例4、8、12、13、16至19的清洁组成物均呈现去除有机污染物的能力，因为其具有20°-40°的接触角。
此外，在用实施例4、8、12、13、16、与18的清洁组成物清洗被有机粒子溶液污染的玻璃基板时，其呈现大约77％至86％的粒子去除率。
实施例20至38：清洁组成物的制备
借由以下表3所示的组成比例混合成分，然后搅拌混合物而制备清洁组成物。
【表3】
Figure BDA0000139116210000151
注)NHEP2：N-(2-羟乙基)哌啶
NHPP：N-(2-羟丙基)哌啶
HEP：1-(2-羟乙基)-2-吡咯酮
*1)：2，2’-[[[乙基-1H-苯并三唑-1-基]甲基]亚胺基]二乙醇
*2)：EMADOX-NA(商品名，由LABEMA Co.制造)
*3)：异抗坏血酸
*GE：计量亚烷基二醇单烷醚
*4)：二乙二醇单甲醚
*5)：二乙二醇单丁醚
*6)：三乙二醇单乙醚
*7)：聚丙烯酸聚合物(PAA)
*8)：聚(甲基)丙烯酸甲酯共聚物(PMAA)
*9)：聚氧乙烯/聚氧丙烯二醇
*10)：聚氧乙烯/聚氧丙烯乙二胺缩合物
测试例2：清洁组成物的特征评估
1)铜蚀刻速率的评估
首先使涂有2500埃厚的铜膜的玻璃基板在实施例20至31的各清洁组成物中浸泡30分钟。在此情形，各清洁组成物的温度为40℃。继而在浸泡玻璃基板前后测量铜膜的厚度，及由铜膜的厚度变化计算铜膜的蚀刻速率。其结果示于以下表4。
2)有机污染物去除力的评估-1
为了评估有机污染物去除力，对大小为5公分×5公分的玻璃基板用指纹或有机毛毡笔迹污染，然后使用喷洒型清洁设备，使被污染的玻璃基板在40℃温度下用实施例23、27、31至38的各清洁组成物清洗2分钟。然后使经清洗玻璃基板进一步用超纯水清洗30秒，然后用氮干燥。
在此情形，在以下表4中用○表示去除有机污染物的情形，及用X表示未去除有机污染物的情形。使用实施例32的清洁组成物去除有机污染物的结果示于图5至8。在此，图5为一个被毛毡笔迹(其为有机污染物之一)污染的玻璃基板的照片。图6为使用实施例32的清洁组成物去除图5的毛毡笔迹的玻璃基板的照片。图7为一个被指纹(其为有机污染物之一)污染的玻璃基板的照片。图8为使用实施例32的清洁组成物去除图7的指纹的玻璃基板的照片。
3)有机污染物去除力的评估-2
使玻璃基板单独置于大气中24小时，而使玻璃基板被大气中的有机物质、无机物质、粒子等污染，然后使用喷洒型清洁设备，使被污染的玻璃基板在40℃温度下用实施例23、27、31至38的各清洁组成物清洗2分钟。然后使经清洗玻璃基板进一步用超纯水清洗30秒，然后用氮干燥。继而将0.5微升的超纯水滴在干燥玻璃基板上测量接触角。其结果示于以下表4。
4)有机污染物去除力的评估-3
使被有机粒子溶液污染的玻璃基板用实施例23、27、31、32、35、与37的各清洁组成物清洗。即使玻璃基板被平均粒度为0.8微米的有机粒子溶液污染，然后使被污染的玻璃基板以3000rpm的旋转速率旋(spin)干1分钟，然后使用喷洒型清洁设备，使旋干的玻璃基板在40℃温度下用实施例23、27、31、32、35、与37的各清洁组成物清洗2分钟。然后使经清洗玻璃基板进一步用超纯水清洗30秒，然后用氮干燥。使用表面粒子探测器(Topcon WM-1500)测量清洁前后的大小为0.1微米或更大的粒子的数量，而且其结果示于以下表4。
【表4】
Figure BDA0000139116210000171
参考以上表4，实施例20至31的清洁组成物呈现防止铜腐蚀的效果。此外实施例27、31、32、35至38的清洁组成物均呈现去除有机污染物的能力，因为其具有20°-40°的接触角。此外，在用实施例23、27、31、32、35、与37的清洁组成物清洗被有机粒子溶液污染的玻璃基板时，其呈现大约77至86％的粒子去除率。
实施例39至60：清洁组成物的制备
借由以下表5所示的组成比例混合成分，然后搅拌混合物而制备清洁组成物。
【表5】
Figure BDA0000139116210000172
Figure BDA0000139116210000181
注)AEE：胺基乙氧基乙醇
DAEE：二甲胺基乙氧基乙醇
MEA：单乙醇胺
MIPA：单异丙醇胺
TMAH：氢氧化四甲铵
NH4OH：氢氧化铵
*1)：2，2’-[[[乙基-1H-苯并三唑-1-基]甲基]亚胺基]二乙醇
*2)：EMADOX-NA
*3)：异抗坏血酸
*GE：计量亚烷基二醇单烷醚
*4)：二乙二醇单甲醚
*5)：二乙二醇单丁醚
*6)：三乙二醇单乙醚
*7)：聚丙烯酸聚合物(PAA)
*8)：聚(甲基)丙烯酸甲酯共聚物(PMAA)
*9)：聚氧乙烯/聚氧丙烯二醇
*10)：聚氧乙烯/聚氧丙烯乙二胺缩合物
测试例3：清洁组成物的特征评估
1)铜蚀刻速率的评估
首先使涂有2500埃厚的铜膜的玻璃基板在实施例38至50的各清洁组成物中浸泡30分钟。在此情形，各清洁组成物的温度为40℃。继而在浸泡玻璃基板前后测量铜膜的厚度，及由铜膜的厚度变化计算铜膜的蚀刻速率。其结果示于以下表6。
2)有机污染物去除力的评估-1
为了评估有机污染物去除力，对大小为5公分×5公分的玻璃基板用指纹或有机毛毡笔迹污染，然后使用喷洒型清洁设备，使被污染的玻璃基板在40℃的温度用实施例42、46、47、49、51至60的各清洁组成物清洗2分钟。然后使经清洗玻璃基板进一步用超纯水清洗30秒，然后用氮干燥。
在此情形，在以下表6中用○表示去除有机污染物的情形，及用X表示未去除有机污染物的情形。使用实施例51的清洁组成物去除有机污染物的结果示于图9至12。在此，图9为被毛毡笔迹(其为有机污染物之一)污染的玻璃基板的照片。图10为使用实施例51的清洁组成物去除图9的毛毡笔迹的玻璃基板的照片。图11为一个被指纹(其为有机污染物之一)污染的玻璃基板的照片。图12为使用实施例51的清洁组成物去除图11的指纹的玻璃基板的照片。
3)有机污染物去除力的评估-2
使玻璃基板单独置于大气中24小时，而使玻璃基板被大气中的有机物质、无机物质、粒子等污染，然后使用喷洒型清洁设备，使被污染的玻璃基板在40℃温度下用实施例42、46、47、49、51至60的各清洁组成物清洗2分钟。然后使经清洗玻璃基板进一步用超纯水清洗30秒，然后用氮干燥。继而将0.5微升的超纯水滴在干燥玻璃基板上以测量接触角。其结果示于以下表6。
4)有机污染物去除力的评估-3
使被有机粒子溶液污染的玻璃基板用实施例42、46、55、57、与59的各清洁组成物清洗。即使玻璃基板被平均粒度为0.8微米的有机粒子溶液污染，然后将被污染的玻璃基板以3000rpm的旋转速率旋(spin)干1分钟，然后使用喷洒型清洁设备，使旋干的玻璃基板在40℃温度下用实施例42、46、55、57、与59的各清洁组成物清洗2分钟。然后使经清洗玻璃基板进一步用超纯水清洗30秒，然后用氮干燥。使用表面粒子探测器(Topcon WM-1500)测量清洁前后的大小为0.1微米或更大的粒子的数量，而且其结果示于以下表6。
【表6】
Figure BDA0000139116210000201
参考以上表6，实施例39至50的清洁组成物呈现防止铜腐蚀的效果。此外实施例42、46、47、49、51至60的清洁组成物均呈现去除有机污染物的能力，因为其具有20°-40°的接触角。此外在用实施例42、46、55、57、与59的清洁组成物清洗被有机粒子溶液污染的玻璃基板时，其呈现大约80％的粒子去除率。

Claims (18)

1.一种用于平板显示器的清洁组成物，其按组成物的总量计，包括：
(a)0.05-5重量％的由下式1至5任一表示的胺化合物；
(b)0.01-10重量％的添加剂，其包括选自由唑系化合物、烷醇胺盐与还原剂所构成群组中的一种或更多种；及
(c)其余为水：
<式1>
Figure FDA0000139116200000011
<式2>
Figure FDA0000139116200000012
<式3>
Figure FDA0000139116200000013
<式4>
<式5>
其中R1、R4与R5各自独立地为C1-C10的直链或支链亚烃基；
R2、R3与R6各自独立地为氢、或C1-C10的直链或支链烷基；
R7、R8与R10各自独立地为氢、C1-C10的直链或支链烷基、C6-C10的芳基、C1-C10的直链或支链烷基胺基、C1-C10的直链或支链羟烷基、C1-C10的直链或支链烷基苯、或胺基；
R9与R11各自独立地为氢、C1-C10的直链或支链烷基、C6-C10的芳基、C1-C10的直链或支链烷基胺基、或胺基；
R12为C1-C4的直链或支链羟烷基、或C1-C4的直链或支链硫烷基；
R13与R14各自独立地为C1-C5的直链或支链烷基、C1-C4的直链或支链羟烷基、C6-C10的芳基、或C1-C4的烷氧基烷基，而且R13与R14彼此键结形成杂环；及
n1与n3各自独立地为0或1，n2与n4各自独立地为0至4的整数，n5为1或2，n6为1至4的整数，n7为0至4的整数，X1为S、O或N，X2为N，X3为CH或N，及Y为羟基或胺基。
2.根据权利要求1所述的用于平板显示器的清洁组成物，其中，由式1表示的所述胺化合物选自由N-(2-羟乙基)哌嗪、N-(2-羟丙基)哌嗪、N-(2-羟丁基)哌嗪、1-(2-羟乙基)-4-甲基哌嗪、1-(2-羟丙基)-4-甲基哌嗪、1-(2-羟丁基)-4-甲基哌嗪、1-(2-羟乙基)-4-乙基哌嗪、1-(2-羟乙基)-4-丙基哌嗪、1-(2-羟乙基)-4-丁基哌嗪、1-(2-羟丙基)-4-甲基哌嗪、1-(2-羟丙基)-4-乙基哌嗪、1-(2-羟丙基)-4-丙基哌嗪、1-(2-羟丙基)-4-丁基哌嗪、1-(2-羟丁基)-4-甲基哌嗪、1-(2-羟丁基)-4-乙基哌嗪、1-(2-羟丁基)-4-丙基哌嗪、1-(2-羟丁基)-4-丁基哌嗪、N-(2-羟乙基)吗啉、N-(2-羟丙基)吗啉、N-胺基丙基吗啉、羟乙基哌嗪、羟丙基哌嗪、与1-(N-甲基哌嗪)乙醇所构成群组。
3.根据权利要求1所述的用于平板显示器的清洁组成物，其中，由式2表示的所述胺化合物选自由1，4-哌嗪二乙醇与1，4-哌嗪二甲醇所构成群组。
4.根据权利要求1所述的用于平板显示器的清洁组成物，其中，由式3表示的所述胺化合物选自由N-(2-羟乙基)亚乙基脲、N-(3-羟丙基)-2-吡咯酮、羟甲基吡咯酮、与1-(2-羟乙基)-2-吡咯酮所构成群组。
5.根据权利要求1所述的用于平板显示器的清洁组成物，其中，由式4表示的所述胺化合物选自由N-(2-羟乙基)哌啶、N-(2-羟丙基)哌啶、与N-(2-羟丁基)哌啶所构成群组。
6.根据权利要求1所述的用于平板显示器的清洁组成物，其中，由式5表示的所述胺化合物选自由胺基乙氧基乙醇、胺基丙氧基乙醇、胺基丁氧基乙醇、二甲胺基乙氧基硫醇、二乙胺基乙氧基硫醇、二丙胺基乙氧基硫醇、二丁胺基乙氧基硫醇、二甲胺基乙氧基乙醇、二乙胺基乙氧基乙醇、二丙胺基乙氧基乙醇、二丁胺基乙氧基乙醇、二甲胺基乙氧基乙硫醇、二乙胺基乙氧基丙硫醇、二丙胺基乙氧基丁硫醇、二丁胺基乙氧基乙醇、N-(甲氧基甲基)吗啉、N-(乙氧基甲基)吗啉、N-(2-甲氧基乙醇)吗啉、N-(2-乙氧基乙醇)吗啉、与N-(2-丁氧基乙醇)吗啉所构成群组。
7.根据权利要求1所述的用于平板显示器的清洁组成物，其中，所述唑系化合物选自由甲苯基三唑、1，2，3-苯并三唑、1，2，3-三唑、1，2，4-三唑、3-胺基-1，2，4-三唑、4-胺基-4H-1，2，4-三唑、1-羟基苯并三唑、1-甲基苯并三唑、2-甲基苯并三唑、5-甲基苯并三唑、苯并三唑-5-碳酸酯、硝基苯并三唑、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4，6-二叔丁基酚、与2，2’-[[[乙基-1H-苯并三唑-1基]甲基]亚胺基]二乙醇所构成群组。
8.根据权利要求1所述的用于平板显示器的清洁组成物，其中，所述烷醇胺盐选自由单乙醇胺盐、二乙醇胺盐、三乙醇胺盐、单异丙醇胺盐、二异丙醇胺盐、与三异丙醇胺盐所构成群组。
9.根据权利要求1所述的用于平板显示器的清洁组成物，其中，所述还原剂包括选自由异抗坏血酸、维生素C与α-生育酚所构成群组中的一种或更多种。
10.根据权利要求1所述的用于平板显示器的清洁组成物，其进一步包含选自由链形烷醇胺、多羧酸共聚物、计量亚烷基二醇单烷醚化合物、及表面活性剂所构成群组中的至少一种。
11.根据权利要求10所述的用于平板显示器的清洁组成物，其中，所述链形烷醇胺选自由单乙醇胺、单丙醇胺、单异丙醇胺、丁醇胺、2-丙氧基乙胺、N-丁基乙醇胺、N-甲基乙醇胺、与N-乙基乙醇胺所构成群组。
12.根据权利要求10所述的用于平板显示器的清洁组成物，其中，所述多羧酸共聚物包括由下式6表示的单元结构：
<式6>
Figure FDA0000139116200000041
其中R15至R17各自独立地为氢原子、C1-C3的直链或支链烷基、或(CH2)m2COOM2；
M1与M2各自独立地为氢原子、碱金属、碱土金属、或C1-C10的未取代或经取代烷基铵基(alkylammonium group)；及
m1与m2各自独立地为0至2的整数。
13.根据权利要求10所述的用于平板显示器的清洁组成物，其中，所述计量亚烷基二醇单烷醚化合物选自由乙二醇单丁醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、三乙二醇单丁醚、三乙二醇单乙醚、与丙二醇单甲醚所构成群组。
14.根据权利要求1所述的用于平板显示器的清洁组成物，其中，所述清洁组成物具有7至13的pH。
15.一种清洁平板显示器的方法，其使用根据权利要求1所述的清洁组成物。
16.根据权利要求15所述的清洁平板显示器的方法，其中，所述方法使用选自由喷洒、旋转、浸泡、与超音波浸泡所构成群组的一种或更多种而实行。
17.根据权利要求15所述的清洁平板显示器的方法，其中，所述方法在20至80℃的温度实行。
18.根据权利要求15所述的清洁平板显示器的方法，其中，所述方法实行30秒至10分钟。
CN201080038438.9A 2009-07-29 2010-07-29 清洁组成物及使用该组成物清洁面板的方法 Active CN102639686B (zh)

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2009-0069505 2009-07-29
KR10-2009-0069506 2009-07-29
KR1020090069505A KR20110011995A (ko) 2009-07-29 2009-07-29 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정방법
KR1020090069506A KR20110011996A (ko) 2009-07-29 2009-07-29 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정방법
KR10-2009-0073683 2009-08-11
KR1020090073683A KR20110016136A (ko) 2009-08-11 2009-08-11 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정방법
PCT/KR2010/005002 WO2011014027A2 (ko) 2009-07-29 2010-07-29 세정액 조성물 및 이를 이용한 패널의 세정방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102639686A true CN102639686A (zh) 2012-08-15
CN102639686B CN102639686B (zh) 2014-09-03

Family

ID=43529887

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201080038438.9A Active CN102639686B (zh) 2009-07-29 2010-07-29 清洁组成物及使用该组成物清洁面板的方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5890306B2 (zh)
CN (1) CN102639686B (zh)
TW (1) TWI481706B (zh)
WO (1) WO2011014027A2 (zh)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI491729B (zh) * 2011-08-31 2015-07-11 Dongwoo Fine Chem Co Ltd 清洗組成物
US9719052B2 (en) * 2014-03-27 2017-08-01 The Procter & Gamble Company Cleaning compositions containing a polyetheramine
JP6738050B2 (ja) * 2016-03-30 2020-08-12 日産化学株式会社 レジストパターン被覆用水溶液及びそれを用いたパターン形成方法
EP3575289B1 (en) * 2017-01-26 2023-04-19 Tosoh Corporation Alkanolamine, friction-reducing agent, and lubricating oil composition

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003292993A (ja) * 2002-04-03 2003-10-15 Tosoh Corp 洗浄剤
JP2005336342A (ja) * 2004-05-27 2005-12-08 Tosoh Corp 洗浄用組成物

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3328250B2 (ja) * 1998-12-09 2002-09-24 岸本産業株式会社 レジスト残渣除去剤
TWI258504B (en) * 2003-01-07 2006-07-21 Tosoh Corp Washing solution and washing method using the same
US6951710B2 (en) * 2003-05-23 2005-10-04 Air Products And Chemicals, Inc. Compositions suitable for removing photoresist, photoresist byproducts and etching residue, and use thereof
JP4498726B2 (ja) * 2003-11-25 2010-07-07 Ｋｉｓｃｏ株式会社 洗浄剤
US7888302B2 (en) * 2005-02-03 2011-02-15 Air Products And Chemicals, Inc. Aqueous based residue removers comprising fluoride
KR101251594B1 (ko) * 2006-03-23 2013-04-08 주식회사 동진쎄미켐 레지스트 스트리퍼 제거용 케미칼 린스 조성물
JP4692497B2 (ja) * 2007-02-28 2011-06-01 ナガセケムテックス株式会社 フォトレジスト剥離剤組成物
JP4716225B2 (ja) * 2007-05-15 2011-07-06 ナガセケムテックス株式会社 フォトレジスト剥離剤組成物
JP2009021377A (ja) * 2007-07-11 2009-01-29 Yushiro Chem Ind Co Ltd 電子材料用洗浄剤組成物及び電子材料の洗浄方法
TW200925800A (en) * 2007-12-06 2009-06-16 Mallinckrodt Baker Inc Fluoride-free photoresist stripper or residue removing cleaning compositions containing conjugate oligomeric or polymeric material of alpha-hydroxycarbonyl compound/amine or ammonia reaction
WO2009078123A1 (ja) * 2007-12-17 2009-06-25 Sanyo Chemical Industries, Ltd. 電子材料用洗浄剤及び洗浄方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003292993A (ja) * 2002-04-03 2003-10-15 Tosoh Corp 洗浄剤
JP2005336342A (ja) * 2004-05-27 2005-12-08 Tosoh Corp 洗浄用組成物

Also Published As

Publication number Publication date
WO2011014027A3 (ko) 2011-06-16
WO2011014027A2 (ko) 2011-02-03
TW201109435A (en) 2011-03-16
TWI481706B (zh) 2015-04-21
JP2013500601A (ja) 2013-01-07
CN102639686B (zh) 2014-09-03
JP5890306B2 (ja) 2016-03-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9201308B2 (en) Water-rich stripping and cleaning formulation and method for using same
JP5015508B2 (ja) ストリッパー
EP1576072B1 (en) Aqueous phosphoric acid compositions for cleaning semiconductor devices
KR101167240B1 (ko) 레지스트 제거용 조성물
CN104903794B (zh) 用于移除光致抗蚀剂的剥离剂组合物及使用其的光致抗蚀剂的剥离方法
US20110015108A1 (en) Aqueous Buffered Fluoride-Containing Etch Residue Removers and Cleaners
CN101286017A (zh) 厚膜光刻胶清洗剂
JP6488507B2 (ja) フォトレジスト除去用ストリッパー組成物およびこれを用いたフォトレジストの剥離方法
CN102639686B (zh) 清洁组成物及使用该组成物清洁面板的方法
WO2005109107A1 (en) Composition for removing a (photo)resist
CN110597024B (zh) 防止污渍的光刻胶剥离剂组合物及平板显示器基板的制法
KR20110007828A (ko) 구리 또는 구리합금 배선용 박리액 조성물
CN102498197A (zh) 清洗组成物
KR20130068903A (ko) 전자재료용 세정액 조성물
CN102575201B (zh) 用于制造平面显示器的基板的清洗液组合物
KR20130070061A (ko) 전자재료용 세정액 조성물
KR20130019729A (ko) 평판표시장치용 세정액 조성물 및 평판표시장치의 세정 방법
CN105824201A (zh) 抗蚀剂剥离剂组合物
KR101341754B1 (ko) 레지스트 및 건식 식각 잔사 제거용 조성물 및 이를 이용한레지스트 및 건식 식각 잔사의 제거 방법
KR101403742B1 (ko) 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정방법
KR20110011995A (ko) 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정방법
KR20110016136A (ko) 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정방법
KR20130046493A (ko) 플랫패널 디스플레이 기판용 세정액 조성물
KR20120136957A (ko) 평판표시장치용 세정제 조성물
KR20110011996A (ko) 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정방법

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C56 Change in the name or address of the patentee

Owner name: TONGWOO FINE CHEMICALS CO., LTD.

Free format text: FORMER NAME: DONG YOU FINE-CHEM

CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: Jeonbuk, South Korea

Patentee after: Tongwoo Fine Chemicals Co., Ltd.

Address before: Jeonbuk, South Korea

Patentee before: East Friends FINE-CHEM Co., Ltd.