CN102459429B - 双轴取向聚酯膜和磁记录介质 - Google Patents

双轴取向聚酯膜和磁记录介质 Download PDF

Info

Publication number
CN102459429B
CN102459429B CN201080031380.5A CN201080031380A CN102459429B CN 102459429 B CN102459429 B CN 102459429B CN 201080031380 A CN201080031380 A CN 201080031380A CN 102459429 B CN102459429 B CN 102459429B
Authority
CN
China
Prior art keywords
film
polyester film
width
double axial
axial orientated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201080031380.5A
Other languages
English (en)
Other versions
CN102459429A (zh
Inventor
光冈秀人
东大路卓司
堀江将人
中森由佳里
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Publication of CN102459429A publication Critical patent/CN102459429A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102459429B publication Critical patent/CN102459429B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18Manufacture of films or sheets
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C55/00Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor
    • B29C55/02Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets
    • B29C55/10Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets multiaxial
    • B29C55/12Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets multiaxial biaxial
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/62Record carriers characterised by the selection of the material
    • G11B5/73Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
    • G11B5/739Magnetic recording media substrates
    • G11B5/73923Organic polymer substrates
    • G11B5/73927Polyester substrates, e.g. polyethylene terephthalate
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/62Record carriers characterised by the selection of the material
    • G11B5/73Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
    • G11B5/739Magnetic recording media substrates
    • G11B5/73923Organic polymer substrates
    • G11B5/73927Polyester substrates, e.g. polyethylene terephthalate
    • G11B5/73929Polyester substrates, e.g. polyethylene terephthalate comprising naphthalene ring compounds, e.g. polyethylene naphthalate substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2367/00Characterised by the use of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Derivatives of such polymers
    • C08J2367/02Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2479/00Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C08J2461/00 - C08J2477/00
    • C08J2479/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08J2479/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24479Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31786Of polyester [e.g., alkyd, etc.]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

本发明提供了一种双轴取向聚酯膜,其特别是在作为磁记录介质的基膜使用时,温度、湿度的环境变化或保存造成的尺寸变化小,可以制成错误率少、并且磁头、磁性带体的磨削少、行走耐久性优异的高密度磁记录介质。本发明提供了具有海岛结构、岛部分的平均分散直径为30~200nm,膜的长度方向和宽度方向的至少一方向的湿度膨胀系数为0~6.0ppm/%RH以下的双轴取向聚酯膜。

Description

双轴取向聚酯膜和磁记录介质
技术领域
本发明涉及尺寸稳定性优异的双轴取向聚酯膜。本发明的双轴取向聚酯膜适合作为磁记录介质用、电绝缘用、电容器用、电路材料、太阳能电池用材料等。本发明的双轴取向聚酯膜,在上述用途中,特别是在作为磁记录介质的基膜使用时,可以得到温度、湿度的环境变化下的尺寸变化或保存后的尺寸变化小,错误率低,并且磁头、磁性带体的磨削少的行走耐久性优异的高密度磁记录介质。
背景技术
双轴取向聚酯膜,利用其优异的热特性、尺寸稳定性、机械特性、电气特性、耐热性和表面特性而用于磁记录介质用、电绝缘用、电容器用、包装用、磁记录介质用等各种工业材料用途。特别是作为磁记录介质等的支持体的有用性被人所熟知。
近年来,磁性带体等磁记录介质,为了基材的轻量化、小型化和大容量化,要求基膜的薄膜化、高密度记录化。为了实现高密度记录化,有效的方法是缩短记录波长,减小记录磁轨。
但在减小记录磁轨时存在以下问题:带体行走时的热或带体保管时的温湿度变化造成的带体变形容易使记录磁轨错位。因此,改善基膜相对于带体的使用环境和保管环境的尺寸稳定性的要求日渐加强。此外,对作为磁性带体时的行走耐久性的改善要求也日渐强烈。
此外,在薄膜化时,机械强度变得不充分,膜的结实强度变弱,容易沿着长度方向伸长,沿着宽度方向收缩,所以存在以下问题:出现磁轨错位,或者磁头接触恶化,电磁转换特性降低,或者磁头或带体被磨削。
从这些方面考虑,在强度、尺寸稳定性方面,作为支持体使用刚性比双轴拉伸聚酯膜非常高的芳香族聚酰胺。但芳香族聚酰胺在刚性过高时,有时会引起磁头磨削。进而由于价格昂贵,在现实中不能作为通用的记录介质的支持体。对于使用聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等的聚酯膜,也使用拉伸技术开发出了高强度化了的磁记录介质用支持体。但目前还难以满足相对于温度、湿度的尺寸稳定性等方面的苛刻要求。
近年来为了提高聚酯膜的耐热性,研究了在聚酯中掺混其它的热塑性树脂等的方法。
已经提出了,由聚酯和聚酯以外的热塑性树脂混合而成的双轴取向聚酯膜,是行走性、耐伤痕性优异的膜(例如专利文献1)。但该技术是膜表面的耐伤痕性的改良技术,与本申请的技术思想不同。实际上用该篇文献记载的技术不能提高机械物性、尺寸稳定性。此外,当在聚酯中混合聚酯以外的热塑性树脂时,并没有公开本申请所示那样的、用于提高膜的尺寸稳定性的重要混合方法和本申请实施例中示出的使用聚酰亚胺等的3成分的树脂制作膜时的具体制膜方法。
此外,对于由聚酯、聚酰亚胺和与聚酰亚胺纳米相容的聚合物形成的膜,提出了作为与聚酰亚胺纳米相容的聚合物使用芳香族聚醚酮等来提高耐热性、热尺寸稳定性的膜(例如专利文献2)。但该技术中,相对于聚酯,聚酰亚胺、以及与聚酰亚胺纳米相容的聚合物的混合量多,有时不能通过拉伸等有效使分子链取向。例如,要满足作为高密度化磁记录介质等使用时相对温度、湿度的尺寸稳定性等方面的苛刻要求未必是充分的。进而有时在膜中容易出现由未熔融物产生的异物,表面容易变得粗糙,例如在磁记录介质用等使用时有时电磁转换特性不良。
进而还提出了由聚酰亚胺与其它的热塑性树脂形成的树脂组合物(例如专利文献3),但将其用于聚酯膜的具体方法等尚无任何公开。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2001-323146号公报
专利文献2:日本特开2004-123863号公报
专利文献3:日本特开2002-249660号公报
发明内容
发明要解决的课题
本发明的目的在于解决上述问题,得到刚性和尺寸稳定性优异的双轴取向聚酯膜。特别是提供在作为磁记录介质的基膜使用时,温度、湿度的环境变化或保存造成的尺寸变化小,可以制成错误率少、并且磁头、磁性带体的磨削少、行走耐久性优异的高密度磁记录介质的双轴取向聚酯膜。
解决课题的方法
为了实现上述目的,本发明具有以下特征。
(1).一种双轴取向聚酯膜,具有海岛结构,岛部分的平均分散直径为30~200nm,膜的长度方向和宽度方向的至少一方向的湿度膨胀系数为0~6ppm/%RH。
(2).如上述(1)所述的双轴取向聚酯膜,膜内部的雾度值为0~50%。
(3).如上述(1)或(2)所述的双轴取向聚酯膜,长度方向和宽度方向的折射率的平均值为1.600~1.850。
(4).如上述(1)~(3)的任一项所述的双轴取向聚酯膜,至少一面的膜表面粗糙度Ra为0.5~20nm。
(5).如上述(1)~(4)的任一项所述的双轴取向聚酯膜,至少一面的膜表面10点平均粗糙度Rz为50~300nm。
(6).如上述(1)~(5)的任一项所述的双轴取向聚酯膜,长度方向和宽度方向的至少一方向的温度膨胀系数为-5.0~8.0ppm/℃。
(7).如上述(1)~(6)的任一项所述的双轴取向聚酯膜,具有直径为30~200nm的岛部分,该岛部分的长径与短径的比值、即长径/短径的平均为1~20。
(8).如上述(7)所述的双轴取向聚酯膜,直径为30~200nm的岛部分由非晶性树脂形成。
(9).如上述(8)所述的双轴取向聚酯膜,形成直径为30~200nm的岛部分的非晶性树脂的玻璃化转变温度大于210℃且为400℃以下。
(10).如上述(8)或(9)所述的双轴取向聚酯膜,形成直径为30~200nm的岛部分的非晶性树脂含有选自聚醚酰亚胺、聚酰亚胺和聚酰胺酰亚胺中的至少1种树脂。
(11).如上述(1)~(10)的任一项所述的双轴取向聚酯膜,含有至少2种聚醚酰亚胺。
(12).如上述(1)~(11)的任一项所述的双轴取向聚酯膜,具有直径为1nm以上且小于30nm的岛部分。
(13).如上述(12)所述的双轴取向聚酯膜,直径为1nm以上且小于30nm的岛部分含有聚醚酰亚胺。
(14).如上述(1)~(13)的任一项所述的双轴取向聚酯膜,含有结晶性的聚酯,该聚酯是选自聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯和它们的改性物中的至少1种聚酯。
(15).一种磁记录介质,使用了上述(1)~(14)的任一项所述的双轴取向聚酯膜。
发明效果
本发明可以得到适合作为磁记录介质用、电绝缘用、电容器用、电路材料、太阳能电池用的材料等,刚性、尺寸稳定性优异的双轴取向聚酯膜。本发明的双轴取向聚酯膜,在上述用途中,特别是在作为磁记录介质用基膜使用时,可以制成温度、湿度的环境变化和保存后的尺寸变化小,错误率少、并且磁头、磁性带体的磨削少、行走耐久性优异的高密度磁记录介质。
附图说明
图1是测定宽度尺寸时使用的片宽测定装置的模式图。
具体实施方式
本发明的双轴取向聚酯膜以聚酯为主成分而构成。这里的“以聚酯为主成分”是指,相对于构成膜的所有聚合物的总量,50质量%以上为聚酯。当聚酯的含量小于50质量%时,有生产性降低的倾向。相对于构成膜的所有聚合物的总量,聚酯的含量更优选为80质量%以上,进而优选为85质量%以上。
作为构成本发明的双轴取向聚酯膜的聚酯,优选为例如,以芳香族二羧酸、脂环族二羧酸或脂肪族二羧酸等酸成分、二醇成分作为构成单元(聚合单元)的聚合物。
作为芳香族二羧酸成分,可以列举出例如,对苯二甲酸、间苯二甲酸、邻苯二甲酸、1,4-萘二甲酸、1,5-萘二甲酸、2,6-萘二甲酸、6,6’-(烷撑二氧)二(-2-萘甲酸)、4,4’-联苯二甲酸、4,4’-二苯基醚二甲酸、4,4’-二苯基砜二甲酸等,尤其优选使用对苯二甲酸、邻苯二甲酸、2,6-萘二甲酸。作为6,6’-(烷撑二氧)二(-2-萘甲酸)成分,优选碳原子数2~10的亚烷基,可以列举出6,6’-(乙撑二氧)二(-2-萘甲酸)、6,6’-(丙撑二氧)二(-2-萘甲酸)和6,6’-(丁撑二氧)二(-2-萘甲酸)等。作为脂环族二羧酸成分,可以使用例如环己烷二甲酸等。作为脂肪族二羧酸成分,可以使用例如,己二酸、辛二酸、癸二酸、十二碳二酸等。这些酸成分既可以仅使用1种,也可以2种以上并用。
6,6’-(烷撑二氧)二(-2-萘甲酸)成分可以作为主成分使用,但优选与其它芳香族聚酯成分共聚。6,6’-(烷撑二氧)二(-2-萘甲酸)成分的优选共聚量为5~50摩尔%,更优选为10~40摩尔%、进而优选为15~30摩尔%。与6,6’-(烷撑二氧)二(-2-萘甲酸)成分共聚后的聚酯的熔点优选为220~260℃。更优选为230~250℃。进而优选为235~245℃。与6,6’-(烷撑二氧)二(-2-萘甲酸)成分共聚后的聚酯的玻璃化转变温度优选为100~140℃。更优选为110~130℃。进而优选为115~125℃。此外,与6,6’-(烷撑二氧)二(-2-萘甲酸)成分共聚后的聚酯的熔融结晶化峰温度优选为140~180℃。更优选为150~170℃。进而优选为155~165℃。
作为二醇成分,可以使用例如,乙二醇、1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、新戊二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、1,2-环己烷二甲醇、1,3-环己烷二甲醇、1,4-环己烷二甲醇、二甘醇、三甘醇、聚烷撑二醇、2,2’-双(4’-β-羟基乙氧基苯基)丙烷等,其中优选使用乙二醇、1,4-丁二醇、1,4-环己烷二甲醇、二甘醇等,特别优选使用乙二醇等。这些二醇成分既可以使用仅一种,也可以并用二种以上。
聚酯中可以共聚月桂醇、异氰酸苯酯等单官能化合物,还可以在不过度支化或交联、聚合物实质为线状的限度内共聚偏苯三酸、均苯四酸、甘油、季戊四醇、2,4-二羟基苯甲酸等3官能化合物等。进而,除了酸成分、二醇成分以外,还可以在不破坏本发明的效果的限度内,共聚少量的对羟基苯甲酸、间羟基苯甲酸、2,6-羟基萘甲酸等芳香族羟基羧酸和对氨基苯酚、对氨基苯甲酸等。
聚合物的共聚比例可以使用NMR法(核磁共振法)、显微FT-IR法(傅里叶变换显微红外光谱法)来调查。
本发明的双轴取向聚酯膜,特别是从具有优异的生产性、机械特性、热特性、电特性、表面特性、耐热性方面考虑,优选含有结晶性的聚酯,优选含有选自聚对苯二甲酸乙二醇酯(下文中有时称作“PET”)、聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯)(下文中有时称作“PEN”)和它们的改性物中的至少1种聚酯。当然可以是PET、PEN的共聚物,也可以是与其它热塑性树脂的聚合物合金。这里所称的聚合物合金是高分子多成分系的,既可以是共聚而成的嵌段共聚物,也可以是通过混合等方式而成的聚合物掺混物。本发明的双轴取向聚酯膜中,优选含有这些聚合物的至少1种。
本发明的双轴取向聚酯膜优选含有至少2种聚醚酰亚胺。本发明的双轴取向聚酯膜通过含有至少2种的聚醚酰亚胺,容易使本发明的双轴取向聚酯膜同时具有优异的耐热性、高取向、优异表面性。需说明的是,关于具体的聚醚酰亚胺的种类将在后文中叙述。
本发明的双轴取向聚酯膜具有海岛结构。
当具有海岛结构时,可以在保持尺寸稳定性的情况下使长度方向和宽度方向高度取向,所以可以同时提高机械物性。因此,当作为作为磁记录介质用基膜使用时,具有温度、湿度的环境变化以及保存时的尺寸变化、错误率等小的优点,所以特别优选。
为了进一步提高上述效果,在拉伸时,使岛部分发挥拘束点功能,发挥提高海部分的分子链取向的作用是重要的。因此,岛部分的平均分散直径优选为30~200nm。
当岛部分的平均分散直径小于30nm时,岛部分难以相对海部分发挥拘束点功能,有时在膜拉伸时不能提高膜长度方向和/或宽度方向的分子链取向。因此,有时双轴取向聚酯膜的尺寸稳定性、机械物性降低,在将该膜用于磁记录介质用途时,有时温度、湿度的环境变化和保存后的尺寸变化、错误率变大。
例如,在聚酯为海部分,由不同于海部分的树脂形成岛部分的海岛结构中,随着岛部分的平均分散直径变小,形成岛部分的树脂的玻璃化转变温度(下文中有时称作“Tg”)比该树脂单独存在情况下的Tg低。当岛部分的平均分散直径小于30nm时,岛部分的Tg变得十分低,该岛部分不能相对海部分发挥拘束点功能。此外,岛部分有时在膜的拉伸时会受到应力而变形。
另一方面,当本发明的双轴取向聚酯膜的岛部分的平均分散直径大于200nm时,在制膜过程中,频频发生由岛部分引起的膜裂,生产性降低。此外,拉伸时,不能赋予充分的分子链取向,膜表面变得粗糙,或膜产生孔隙,例如在用于磁记录介质用途时,电磁转换特性变低,难以得到本发明的效果。
本发明的双轴取向聚酯膜的岛部分的平均分散直径更优选为50~150nm。
这里的岛部分的平均分散直径是在多个观察面中得到的平均的等效圆直径,可以通过以下的测定法得到。
先使用透射电镜在加速电压100kV的条件下观察膜的切剖面,将以2万倍拍摄的照片作为图像输入到图像分析仪中,选择任意的100个分散相(岛部分),根据需要进行图像处理,求出分散直径,计算出算术平均值。具体如下。
将膜沿着以下方向切断,使用超薄切片法制作试样:(I)平行于长度方向、且垂直膜面的方向,(II)平行于宽度方向、且垂直膜面的方向,(III)平行于膜面的方向。为了使分散相的衬度(contrast)清晰,还可以用锇酸、钌酸等染色。使用透射电镜(日立制H-7100FA型)在加速电压100kV的条件下观察切剖面,以2万倍拍摄照片。将所得到的照片作为图像输入到图像分析仪中,选择任意100个分散相,并根据需要进行图像处理,以以下方式求出分散相的大小。求出在(I)的切剖面上显现的各分散相的膜厚度方向的最大长度(la)和长度方向的最大长度(lb)、在(II)的切剖面上显现的各分散相的膜厚度方向的最大长度(lc)和宽度方向的最大长度(ld)、在(III)的切剖面上显现的各分散相的膜长度方向的最大长度(le)和宽度方向的最大长度(lf)。接着,在设定分散相的形状指数I=(lb的算术平均值+le的算术平均值)/2、形状指数J=(ld的算术平均值+lf的算术平均值)/2、形状指数K=(la的算术平均值+lc的算术平均值)/2时,分散相的平均分散直径为(I+J+K)/3。进而将I、J、K中的最大值定为平均长径L,将最小值定为平均短径D。
此外,岛部分的直径、长径和短径测定如下。
将膜沿着平行于膜面的方向切断,用超薄切片法制作试样。为了使分散相(岛部分)的分辨清晰,还可以使用锇酸、钌酸、磷钨酸等进行染色。使用透射电镜(日立制H-7100FA型)在加速电压100kV的条件下观察切剖面,以2万倍拍摄照片。将得到的照片作为图像输入到图像分析仪中,选择任意100个分散相,并根据需要进行图像处理,以以下方式求出分散相的大小。求出切剖面上显现的各分散相的膜长度方向的最大长度(lg)和宽度方向的最大长度(lh)。
(岛部分的长径、短径)
将lg和lh值中较大的值作为长径(l),将较小的值作为短径(d)。
(岛部分的直径)
关于观察的各岛部分,直径为(lg+lh)/2。
(直径为30~200nm的岛部分的长径与短径的比值(长径/短径)的平均值)
相对于直径为30~200nm的岛部分,将长径与短径的比值(长径/短径)设为l/d,求出100个1/d的数值的平均值。
本发明的双轴取向聚酯膜,优选具有直径为30~200nm的岛成分。由此可以发挥上述效果,即可以更容易发挥以下效果:拉伸时岛部分发挥拘束点、打结点功能,在应力变形曲线中容易在低倍率下应力增高,此外,容易使膜构造中的分子链均匀拉伸取向。也就是说,更容易提高使海部分的分子链取向均匀提高的作用效果。
本发明的双轴取向聚酯膜优选直径为30~200nm的岛部分的长径与短径的比值(长径/短径)平均为1~20。
通过使长径与短径的比值(长径/短径)平均为1~20,在拉伸时,该岛部分发挥拘束点功能,使拉伸应力均匀且高效地传递给海部分。通过均匀且高效地向海部分传递拉伸应力,更容易使膜长度方向和宽度方向高取向化。结果可以极大宽度提高本发明的双轴取向聚酯膜的尺寸稳定性和机械物性,使该膜作为磁记录介质的基膜使用时温度、湿度的环境变化或保存导致的尺寸变化、错误率非常小。此外,抑制粗大突起的形成,容易将膜表面的10点平均粗糙度Rz控制在优选范围,此外,容易控制膜表面粗糙度Ra在优选范围。进而,可以抑制磁带盒保存后的电磁转换特性的降低。为了进一步提高这些效果,上述长径与短径的比值(长径/短径)的平均更优选为1~15,更优选为1~10。
本发明的双轴取向聚酯膜优选直径为30~200nm的岛部分由非晶性树脂形成。
通过使直径为30~200nm的岛部分为非晶性树脂,可以改进其与聚酯的加工性,同时容易使膜表面平滑。此外,在作为磁记录介质用基膜使用时,可以获得优异的行走耐久性和电磁转换特性。
这里的非晶性树脂是指使用差示扫描量热计(DSC)等测定试样时,仅检查出玻璃化转变温度,而检测不到熔点、熔解峰这样的特性的树脂。
上述非晶性树脂的玻璃化转变温度优选为100~400℃。通过使玻璃化转变温度为100~400℃,容易使膜中的岛部分拉伸时、热处理时发挥拘束点功能,容易提高拉伸工序中的海部分的分子链取向。分子链取向提高后,容易强力化、使尺寸稳定性提高而得到本申请的效果。进而,具有减少本发明的双轴取向聚酯膜中的缺陷点的效果。例如在通过熔融制膜法制造本发明的双轴取向聚酯膜时,在将非晶性树脂与聚酯进行同时挤出加工时,由于非晶性树脂的玻璃化转变温度接近聚酯的加工温度,所以非晶性树脂中的未熔融和分散不良现象减少,从而减少了膜中的缺陷点。
从使用熔融制膜法将聚酯和非晶性树脂挤出加工制造本发明的双轴取向聚酯膜的方面、和抑制在膜拉伸后的热处理工序中分子链取向缓和方面考虑,形成直径为30~200nm的岛部分的非晶性树脂的玻璃化转变温度更优选为210~400℃,进而优选为大于210℃且为400℃以下。特别优选为大于210℃且350℃以下,尤其优选为大于210℃且300℃以下,最优选为220~250℃。通过使形成直径为30~200nm的岛部分的非晶性树脂的玻璃化转变温度大于210℃且为400℃以下,该玻璃化转变温度比膜的拉伸温度、热处理温度还高,所以膜中的岛部分在拉伸时、热处理时容易发挥拘束点功能,使岛成分不容易变形,容易使长径与短径的比值(长径/短径)的平均在1~20的范围,所以容易提高提高海成分的分子链取向这样的本发明的效果。
进而,上述非晶性树脂,从与构成本发明的双轴取向聚酯膜的聚酯之间的混和性、使加工性良好方面考虑,优选温度350℃、剪切速度100(1/秒钟)时的熔融粘度为100~4,000(Pa·S),更优选为100~3,000(Pa·S),进而优选为100~600(Pa·S)。
本发明的双轴取向聚酯膜,构成岛部分的非晶性树脂优选含有选自聚醚酰亚胺(下文中有时称作“PEI”)、聚酰亚胺(下文中有时称作“PI”)、聚醚砜(下文中有时称作“PES”)、聚砜(下文中有时称作“PSU”)、聚酰胺酰亚胺(下文中有时称作“PAI”)、聚芳酯(下文中有时称作“PAR”)、聚碳酸酯(下文中有时称作“PC”)和聚苯醚(下文中有时称作“PPE”)中的至少1种。
通过使构成岛部分的非晶性树脂含有选自PEI、PI、PES、PSU、PAI、PAR、PC和PPE中的至少1种,可以赋予本发明的双轴取向聚酯膜优异的耐热性。
本发明的双轴取向聚酯膜中,作为构成岛部分的非晶性树脂,特别是,最优选Tg为210℃以上的PEI、PI、PES、PAI或PPE。尤其优选Tg高于210℃的PEI、PI、PES、PAI,特别优选含有酰亚胺基的PEI、PI、PAI。通过作为非晶性树脂的构成成分含有酰亚胺基,可以改进与聚酯的混合性,容易减少膜裂和孔隙发生。此外,由于难以在膜中生成粗大异物,所以容易将至少一面的膜表面10点平均粗糙度Rz控制在本发明的优选范围。
其中,PEI是在含有酰亚胺键的聚酰亚胺构成成分中含有醚键的树脂,以下述通式表示。
(其中,上述式中R1是碳原子数6~30个的2价芳香族或脂肪族残基、R2是选自碳原子数6~30个的2价芳香族残基、碳原子数2~20个的亚烷基、碳原子数2~20个的环亚烷基、和被碳原子数2~8个的亚烷基链段终止了的聚二有机硅氧烷基中的2价有机基团。)
作为上述R1、R2,可以列举出例如,下述式所示的芳香族残基。
从与构成本发明的双轴取向聚酯膜的聚酯的亲和性、成本、熔融成型性等方面考虑,作为PEI优选是2,2-双[4-(2,3-二羧基苯氧基)苯基]丙烷二酐与间苯二胺、或对苯二胺之间的缩合物,即具有下述式所示的重复单元的聚合物。
(N是2以上的整数、优选为20~50的整数)
该PEI可以以“ウルテム”(注册商标)的商品名从SABICイノベ一ティブプラスチツク公司获得,以“Ultem1000”、“Ultem1010-1000”、“Ultem1040A-1000”、“Ultem5000”、“Ultem6000”、“UltemCRS5011-1000”和“UltemXH6050-1000”系列和“ExTEm XH1015”和“ExTEm UH1016”的注册商标名等为人所知。
上述各种PEI,在本发明中优选至少含有2种。通过含有2种PEI,容易提高PEI的熔融加工性。容易在PET中混合。进而,与形成海部分的聚合物之间的分子链的抱合大,所以在拉伸的工序中可以更高效地将来自拘束点的力传递给海部分,提高海部分的分子链取向。
作为优选2种的组合,具体可以列举出,“Ultem1010-1000”和“UltemCRS5011-1000”的组合、“Ultem1010-1000”和“UltemXH6050-1000”的组合。
本发明的双轴取向聚酯膜优选直径为30~200nm的岛部分的总质量是膜总质量的0.1~30质量%。通过使该岛部分的总质量为膜总质量的0.1~30质量%,可以提高本发明的双轴取向聚酯膜的机械特性、热特性、电特性、表面特性、耐热性、加工性。进而减少制膜时拉伸造成的膜裂的频率,使本发明的双轴取向聚酯更便宜地以更良好的生产性制造。
从制膜时拉伸造成膜裂的频率减小方面考虑,直径30~200nm的岛部分的总质量为更优选为0.5~15质量%,进而优选为1~10质量%。特别优选1~5质量%。
本发明的双轴取向聚酯膜优选具有直径为1nm以上且小于30nm的岛部分。通过具有直径为1nm以上且小于30nm的岛部分,容易赋予本发明的双轴取向膜优异的耐热性。
本发明的双轴取向聚酯膜,优选直径1nm以上且小于30nm的岛部分含有聚醚酰亚胺(PEI)。通过含有PEI,可以赋予本发明的双轴取向聚酯膜优异的耐热性。
需说明的是,直径为1nm以上且小于30nm的岛部分的测定方法将在后文叙述。
本发明的双轴取向聚酯膜在30℃下湿度从40%RH变成80%RH时的膜的长度方向和宽度方向的至少一方向的湿度膨胀系数为0~6ppm/%RH。
要使上述湿度膨胀系数小于0ppm/%RH,则需要尽量提高膜的拉伸倍率。结果膜制膜时频频出现拉伸破裂,生产性降低,所以膜价格高。此外,由于得到的双轴取向膜的断裂伸长率非常小,所以膜容易破断,操作性降低,例如在将该膜用于磁记录介质等时,加工性降低。
另一方面,当上述湿度膨胀系数大于6ppm/%RH时,例如在将该膜用于磁记录介质用途中时,温度、湿度的环境变化以及保存后的尺寸变化、错误率等变大。
从作为磁记录介质用基膜使用时,提高所得的磁记录介质记录再生时的湿度变化中的尺寸稳定性和高湿条件下保存后的尺寸稳定性方面考虑,上述至少一方向的湿度膨胀系数的上限优选为5.5ppm/%RH,更优选为5ppm/%RH。优选范围为0~5.5ppm/%RH,更优选范围为0~5ppm/%RH。
在将本发明的双轴取向聚酯膜用于磁记录介质用途中时,有时,膜的宽度方向的尺寸稳定性是特别重要的,所以本发明的双轴取向聚酯膜的宽度方向的湿度膨胀系数优选为0~6ppm/%RH。宽度方向的湿度膨胀系数更优选为0~5.5ppm/%RH,进而优选为0~5ppm/%RH。
本发明的双轴取向聚酯膜,膜内部的雾度值优选为0~50%。
通过使膜内部的雾度值为0~50%,可以抑制膜中的岛部分和海部分之间产生劈开。通过这样,使拉伸时岛部分发挥拘束点作用,所以可以均匀且高效地将拉伸应力传递给海部分,在膜拉伸时实现膜长度方向和宽度方向的高取向化。因此,提高双轴取向聚酯膜的尺寸稳定性和机械物性,容易使该膜用于磁记录介质用途时,温度、湿度的环境变化和保存后的尺寸变化、错误率减小。
上述膜内部的雾度值更优选为0~40%。进而优选为0~20%。最优选为0~10%。
此外,本发明的双轴取向聚酯膜,膜内部的孔隙率优选为0~50%。
通过使孔隙率为0~50%,可以抑制在本发明的双轴取向聚酯膜中的岛部分和海部分之间产生劈开。通过抑制岛部分和海部分劈开,与上述同样,由于拉伸时岛部分发挥拘束点作用,所以拉伸应力可以均匀且高效地传递给海部分,膜拉伸时实现膜长度方向和宽度方向的高取向化。因此,可以使双轴取向聚酯膜的尺寸稳定性、机械物性提高,减小该膜用于磁记录介质用途时温度、湿度的环境变化中的尺寸变化和保存后的尺寸变化、错误率。此外,通过减小孔隙率,由岛部分和海部分之间的劈开造成的孔隙量减少,可以提高膜的耐热性、耐湿热性,容易抑制本发明的双轴取向聚酯膜和使用该膜的磁记录介质在长期间保存后的劣化。
上述膜内部的孔隙率进而优选为0~40%。更优选为0~25%。最优选为0~10%。
本发明的双轴取向聚酯膜,长度方向和宽度方向的折射率的平均值优选为1.600~1.850。
长度方向和宽度方向的折射率的平均值为1.600~1.850时,可以提高双轴取向聚酯膜的机械物性。由此在用于例如磁记录介质用途中时,容易抑制以下问题发生,并抑制边缘破损的发生:通过带体驱动器内的长度方向上的张力沿着长度方向拉伸,该拉伸变形使宽度方向收缩,由此产生的记录磁轨错位的问题。
在本发明的双轴取向聚酯膜以PET作为构成成分时,为了控制折射率而从制膜性和成本方面考虑,以及从该膜作为磁记录介质使用时的记录磁轨错位和边缘破损的发生的抑制效果方面考虑,上述折射率的平均值优选为1.630~1.780,更优选为1.650~1.750。
此外,本发明的双轴取向聚酯膜在以PEN作为构成成分时,上述折射率的平均值优选为1.780~1.850。
本发明的双轴取向聚酯膜,优选至少一面的膜表面粗糙度Ra为0.5~20nm。
通过使上述表面粗糙度Ra为0.5~20nm,可以减小在制膜、加工工序等时与移送辊等之间的摩擦系数,抑制工序故障的发生频率。结果可以廉价制造本发明的双轴取向聚酯膜。此外,在将本发明的双轴取向膜作为磁记录介质用途使用时,可以减小磁头与该膜之间的摩擦,抑制磁性带体特性的降低。此外,在作为高密度记录的磁记录介质使用时,可以特别抑制电磁转换特性的降低。
从减小与移送辊等之间的摩擦系数方面考虑,以及从加工工序中的操作性方面考虑,上述至少一面的膜表面粗糙度Ra的下限优选为1nm、更优选为2nm,上限优选为10nm、更优选为8nm、最优选为5nm。本发明的双轴取向聚酯的至少一面的膜表面粗糙度Ra的优选范围为1~10nm、更优选范围为2~8nm。
本发明的双轴取向聚酯膜优选至少一面的膜表面的10点平均粗糙度Rz为50~300nm。
特别是在将本发明的双轴取向聚酯膜作为磁记录介质使用时,从保持良好的电磁转换特的观点和抑制磁带盒保存后转印造成电磁转换特性的低下的观点,Rz的上限优选为250nm,更优选为200nm。本发明的双轴取向聚酯的至少一面的膜表面10点平均粗糙度Rz的优选范围为75~250nm、更优选范围为100~200nm。最优选选范围为50~100nm。
本发明的双轴取向聚酯膜,优选膜长度方向和宽度方向的至少一方向的温度膨胀系数为-5.0~8.0ppm/%RH。
通过使温度膨胀系数为-5.0~8.0ppm/%RH,在作为例如磁记录介质的基膜使用时,可以提高磁记录介质的记录再生时的温度变化中的尺寸稳定性,提高在高温条件下保存后的尺寸稳定性。
从尺寸稳定性的观点来看,上述温度膨胀系数的上限优选为7.0ppm/℃,更优选为5.0ppm/℃,下限优选为-3.0ppm/℃,更优选为0ppm/℃。作为更优选范围,为-3.0~7.0ppm/℃,进而优选范围为-2.0~4.0ppm/℃。
在将本发明的双轴取向聚酯膜用作磁记录介质的基膜时,特别是在重视膜的宽度方向的尺寸稳定性的情况,本发明的双轴取向聚酯膜的宽度方向的温度膨胀系数优选为-5.0~8.0ppm/℃。本发明的双轴取向聚酯膜的宽度方向的温度膨胀系数更优选为-3.0~7.0ppm/%℃,进而优选为-2~4.0ppm/℃。
本发明的双轴取向聚酯膜,长度方向的杨氏模量和宽度方向的杨氏模量之和优选为11~20GPa,更优选为12~20GPa。杨氏模量之和的优选范围为13~20GPa,更优选范围为14~18GPa。当杨氏模量之和小于11GPa时,例如在作为磁记录介质用使用等时,如后面所述,由于长度方向、宽度方向的杨氏模量不足,所以会发生由于伸缩变形而造成宽度方向收缩、记录磁轨错位的问题,容易发生边缘破损。此外,在杨氏模量之和大于20GPa时,需要提高拉伸倍率以尽量取向,因此有时会频频发生膜裂,生产性劣化,或者断裂伸长率减小,容易破断。
为了使长度方向的杨氏模量和宽度方向的杨氏模量之和在上述范围内,优选双轴取向聚酯膜的长度方向的杨氏模量为3.5~12GPa,更优选为4~12GPa,特别优选为5~12GPa。在长度方向的杨氏模量小于3.5GPa时,容易产生以下问题:通过带体驱动器内的长度方向的张力沿着长度方向伸长,该伸缩变形使宽度方向收缩,使记录磁轨错位。长度方向的杨氏模量的下限更优选为4GPa,进而优选为5GPa,更进而优选为5.5GPa,最优选为6GPa。另一方面,在长度方向的杨氏模量大于12GPa时,难以将宽度方向的杨氏模量控制在优选范围,宽度方向的杨氏模量变得不足,这常常会造成边缘破损。长度方向的杨氏模量的上限更优选为11GPa、进而优选为10GPa。更进而优选范围为5.5~11GPa,最优选范围为6~10GPa。
此外,本发明的双轴取向聚酯膜,长度方向的杨氏模量Em和宽度方向的杨氏模量Et的比Em/Et优选在0.50~0.95的范围内,更优选在0.60~0.90的范围内,进而优选在0.60~0.80的范围内。特别是,在宽度方向的杨氏模量比长度方向的杨氏模量大时,容易将宽度方向的温度膨胀系数和湿度膨胀系数控制在本发明的范围。
此外,宽度方向的杨氏模量优选在6~12GPa的范围。当宽度方向的杨氏模量小于6GPa时,有时会成为导致边缘破损的原因。宽度方向的杨氏模量的下限更优选为7GPa。另一方面,当宽度方向的杨氏模量大于12GPa时,难以将长度方向的杨氏模量控制在优选范围,有时容易通过长度方向的张力而变形,或者切条(slit)性恶化。宽度方向的杨氏模量的上限更优选为11GPa、进而优选为10GPa。再进而优选范围为7~11GPa,最优选范围为7~10GPa。
上述本发明的双轴取向聚酯膜例如以以下方式制造。
在制造双轴取向聚酯膜时,例如将聚酯的颗粒使用挤出机熔融,从口模排出,然后冷却固化成型为片状。此时为了除去聚合物中的未熔融物优选通过纤维烧结不锈钢金属过滤器过滤聚合物。此外,为了使聚酯膜的表面具有易滑性、耐摩耗性、耐划擦性等,优选添加无机粒子、有机粒子、例如粘土、云母、氧化钛、碳酸钙、高岭土、滑石、湿式二氧化硅、干式二氧化硅、胶态二氧化硅、磷酸钙、硫酸钡、氧化铝、二氧化锆等无机粒子、以丙烯酸类树脂、苯乙烯类树脂、热固化树脂、硅氧烷、酰亚胺类化合物等为构成成分的有机粒子、通过添加到聚酯聚合反应中的催化剂等而析出的粒子(所谓的内部粒子)等。进而在不妨碍本发明的范围内,还可以添加各种添加剂、例如,相容剂、增塑剂、耐气候剂、抗氧化剂、热稳定剂、润滑剂、防静电剂、增白剂、着色剂、导电剂、结晶成核剂、紫外线吸收剂、阻燃剂、阻燃助剂、颜料、染料等。接着,将上述片进行双轴拉伸。沿着长度方向和宽度方向这两轴进行拉伸,并热处理。拉伸工序优选在各方向分为2阶段以上进行。即进行再次纵向拉伸、再次横向拉伸的方法,容易得到适合作为高记录密度的磁性带体的高强度膜,所以优选。
作为拉伸形式,包括:先沿着长度方向拉伸,然后沿着宽度方向拉伸等的逐次双轴拉伸法,使用同时双轴扩幅机等沿着长度方向和宽度方向同时拉伸的同时双轴拉伸法,以及,将逐次双轴拉伸法和同时双轴拉伸法组合在一起的方法等。
特别优选使用同时双轴拉伸法。与逐次双轴拉伸法相比,同时双轴拉伸法在制膜工序中结晶会沿着长度方向、宽度方向更均匀生长,容易稳定以高倍率拉伸。即,本发明中,重要的是使聚酯膜中的岛部分发挥打结点的功能,为了在拉伸工序中利用该作用来提高海部分的分子链紧张程度,通过在逐次双轴拉伸的各工序中慢慢使分子链紧张,来使用同时双轴拉伸,会使分子链沿着长度方向和宽度方向均匀地紧张,这样可以特别有效地进行高倍率拉伸。需说明的是,这里所说的同时双轴拉伸,是包含同时进行长度方向拉伸和宽度方向拉伸的工序的拉伸方式。但并不需要在所有区间内都同时沿着长度方向和宽度方向同时拉伸,还可以是先进行长度方向的拉伸,在其中途还沿宽度方向拉伸(同时拉伸),先结束长度方向的拉伸,其余仅进行宽度方向拉伸的方式。作为拉伸装置,优选例如同时双轴拉伸扩幅机等,其中,线性电机驱动式的同时双轴扩幅机作为无破裂拉伸膜的方法特别优选。
拉伸工序后的热处理既可以在1阶段实施,但为了将温度膨胀系数、湿度膨胀系数控制在本发明的范围内,在不发生过度热处理造成分子链取向的缓和的情况下,有效进行热处理为宜,所以优选控制热处理温度,在多阶段实施热处理。多阶段是指改变热处理温度,在2阶段以上实施。
热处理温度可以以聚酯的熔点为尺度来决定。热处理温度优选为[构成膜的聚酯的熔点(Tm)-100]~(Tm-50)℃,热处理时间优选为0.5~10秒的范围。尤其是,优选将第1阶段热处理温度设定在(Tm-75)~(Tm-50)℃、更优选设定在(Tm-75)~(Tm-60)℃,将第2阶段热处理温度设定成比第1阶段温度低的温度。第2阶段热处理温度优选设定为(Tm-100)~(Tm-75)℃、更优选为(Tm-100)~(Tm-85)℃。进而优选在第1阶段或/和第2阶段热处理工序中以宽度方向1~5%的松弛率进行松弛处理。
然后将这样制造出的聚酯膜卷在筒棒上。进而为了提高尺寸稳定性、保存稳定性,还优选将卷取的膜连同筒棒一起在一定的温度条件下进行热处理。一定的温度条件下是指,将膜连同筒棒一起设置在设定在一定温度条件的热风烘箱或区域中。通过使膜以筒的样子直接进行热处理,容易除去膜的内部构造变形,改进蠕变特性等尺寸稳定性。例如,在将膜卷绕保存或作为磁性带体等磁记录介质用使用的情况,带体以卷绕状态保存或在带体行走使用时,膜的长度方向受到张力,有时会引起长度方向蠕变变形等,如果蠕变特性等尺寸稳定性得到改进,则保存稳定性会格外提高。
需说明的是,本发明中还可以对聚酯膜或该聚酯膜筒根据需要进行热处理、微波加热、成型、表面处理、层合、涂布、印刷、压纹加工、蚀刻、等任意加工。
下面以作为膜的构成成分使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET),作为形成岛部分的成分使用玻璃化转变温度为215℃的PEI(A)和玻璃化转变温度为225℃的PEI(B)的例子作为代表例来说明本发明的双轴取向聚酯膜的制造方法。当然,本申请并不限定于使用PET作为构成成分的支持体,还可以使用其它聚合物。例如,在使用玻璃化转变温度、熔点较高的聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯等来构成聚酯膜时,只要在比以下所示的温度更高的温度下进行挤出、拉伸即可。
首先准备PET。PET使用以下的任一工艺来制造。即,(1)以对苯二甲酸和乙二醇为原料,通过直接酯化反应得到低分子量的聚对苯二甲酸乙二醇酯或低聚物,然后,通过使用三氧化锑或钛化合物作为催化剂的缩聚反应来得到聚合物的工艺;(2)以对萘二甲酸二甲酯和乙二醇作为原料,通过酯交换反应得到低分子量体,然后,通过使用三氧化锑或钛化合物作为催化剂的缩聚反应得到聚合物的工艺。其中,既可以使酯化在无催化剂下进行反应,也可以在酯交换反应中,使用通常的锰、钙、镁、锌、锂、钛等的化合物作为催化剂来进行,并且在酯交换反应实质结束后,有时为了使该反应中使用的催化剂失活,而添加磷化合物。
当本发明的双轴取向聚酯膜的作为构成成分的聚酯中含有不活性粒子时,优选在乙二醇中以规定的比例以浆液形式使不活性粒子分散,在聚合时添加该乙二醇的方法。在添加不活性粒子时,例如,如果将不活性粒子的合成时得到的水溶胶或醇溶胶状态的粒子不临时干燥就直接添加,则粒子的分散性较好。此外,将不活性粒子的水性浆液直接与PET颗粒混合,使用排气式双螺杆混炼挤出机与PET混炼的方法也是有效的。作为调节不活性粒子的含量的方法,预先通过上述方法制作高浓度的不活性粒子的母粒,将其在制膜时用实质上不含不活性粒子的PET稀释来调节不活性粒子的含量的方法是有效的。
作为使PET和PEI混合的方法,优选列举出以下的2阶段熔融混炼,即,在熔融挤出前,(1)将PEI(A)和PEI(B)的混合物进行预熔融混炼(制粒),接着,(2)将(1)中得到的组合物和PET的混合物进行预熔融混炼(制粒),从而母粒化。这种情况下,优选使用双螺杆挤出机等剪切力高的高剪切混合机进行预混炼,母粒化的方法。在用双螺杆挤出机混合的情况,从降低分散不良物的方面考虑,优选3条双螺杆型或2条双螺杆型的双螺杆挤出机。通过进行2阶段的熔融混炼,本来难以与PET混合的玻璃化转变温度高的PEI(B),通过PEI(A)的存在而变得容易混合在PET中。
本发明中,第1阶段混炼中将PEI(A)和PEI(B)混合。在熔融温度300~400℃的范围、优选340~400℃的范围制作混合了高浓度的PEI(B)的母粒是优选的。尤其优选PEI(A)/PEI(B)的混合质量比率为90/10~10/90,更优选范围为80/20~20/80的范围。进而优选范围为80/20~50/50的范围。进而将第1阶段混炼中得到的组合物通过第2阶段混炼与PET混合。将在第1阶段混炼中得到的掺混颗粒在150℃下减压干燥3小时,然后进行第2阶段混炼。在第1阶段混炼中,通过控制PEI(A)/PEI(B)的混合质量比率在80/20~50/50的范围,可以防止在第2阶段混炼中PET和PEI出现相分离,防止混合不良。作为第2阶段混炼中使用的PET,使用IV为0.8以上、优选为1.0以上的高粘度PET,优选PET/(PEI(A)和PEI(B)的掺混组合物)的混合质量比率在70/30~30/70,更优选范围为70/30~40/60的范围。该方法通过高粘度PET来提高剪切应力,提高混合力,并且通过调整PEI(B)的混合量来提高PEI(B)相对PET的分散性,由此可以减少膜中的粗大异物,抑制拉伸性降低,使表面粗糙度不会过大,所以很重要。
此外,另一方面,可以预先将PET和玻璃化转变温度低的PEI(A)的混合物进行预熔融混炼(制粒),制作母粒化了的组合物原料,然后适当调节膜中的PEI(A)的含量。此外,在将PET和PEI(A)混合时,由于具有熔融粘度差别,所以优选制作以高浓度混合了PEI(A)的母粒,尤其是,优选PET/PEI(A)的混合质量比率在10/90~70/30,更优选范围为30/70~60/40的范围。
在将PET和PEI(A)混炼时,从使PEI在PET中良好分散方面考虑,加工温度为重要的。重要的是在PET不会热分解的温度、并且显示出足以对PEI(A)进行加工的充分流动性的温度区域。具体地说,优选例如280℃~320℃。在使用含有PET和PEI(A)的母料颗粒来制作本发明的双轴取向聚酯膜时,从所得的膜具有优异的机械物性和尺寸稳定性方面考虑,PET和PEI(A)的加工温度更优选为290~315℃。
在膜化时,既可以将该混合的母粒原料投入到通常的单螺杆挤出机中熔融制膜,也可以在作用高剪切力的状态下不母粒化就直接定型。
此外,在使用双螺杆挤出机制粒时,优选螺杆转速为100~500转/分钟,更优选为200~400转/分钟的范围。通过将螺杆转速设定在优选范围,容易赋予高剪切应力,容易减少分散不良物。此外,优选将双螺杆挤出机的(螺杆轴长度/螺杆轴径)的比率设定在20~60的范围,更优选为30~50的范围。
进而,在双螺杆中,为了提高混炼力,优选设置通过捏合叶片(kneadingpaddle)等进行混炼的混炼部,还可以是设置了优选为2处以上、更优选为3处以上、特别是4处以上该混炼部的螺杆形状。此时对原料的混合顺序没有特殊限定,可以使用以下的任一种方法:在配合所有原材料后通过上述方法熔融混炼的方法,在配合部分原材料后通过上述方法熔融混炼,再配合其余的原材料,熔融混炼的方法,或在配合部分原材料后通过单螺杆或双螺杆挤出机进行熔融混炼,在此熔融混炼时使用侧面进料器将其余的原材料混入的方法等。此外还可以优选列举出,プラスチツク成形加工学会誌“成型加工”第15卷第6号、第382~385页(2003年)中记载的使用超临界流体的方法等。
在设置4处以上混炼部时,混炼时间容易增长,从减少聚合物的热劣化、并且同时提高分散性、得到本发明的效果方面考虑,优选以螺杆转速300~700转/分钟混炼,更优选以400~600转/分钟混炼。
接着将得到的上述颗粒在180℃下减压干燥3小时以上,然后为了不降低特性粘度在氮气流下或减压下供给加热到270~320℃的挤出机,从缝隙状的模头挤出,在流延辊上冷却,得到未拉伸膜。此时,为了除去异物、变质聚合物,优选使用各种过滤器例如,由烧结金属、多孔性陶瓷、沙子、金属网等材料形成的过滤器。此外,还可以根据需要,为了提高定量供给性而设置齿轮泵。在将膜叠层时,使用2台以上的挤出机和歧管或合流模块,将多种不同的聚合物熔融叠层。
接着,将得到的未拉伸膜双轴拉伸,使之双轴取向。作为拉伸方法,可以使用逐次双轴拉伸法或同时双轴拉伸法。
例如,在使用逐次双轴拉伸法时,最开始沿着长度方向拉伸,接着沿着宽度方向拉伸。长度方向的拉伸通常使用辊进行。拉伸温度可以根据使用的聚合物的种类来适当决定,可以以未拉伸膜的聚酯的玻璃化转变温度Tg为基准来确定。此外,在玻璃化转变温度(Tg)不明晰或具有多个Tg时,将构成膜的所有聚酯中含量最多的聚酯的Tg作为未拉伸膜的Tg。
长度方向的拉伸工序中的温度优选在(Tg-10℃)~(Tg+25℃)的范围、更优选为(Tg)~(Tg+10℃)进行1阶段或2阶段以上的多阶段拉伸。在拉伸温度低于上述范围时,有时频频发生膜裂,生产性降低,或者再次拉伸性降低,难以以高倍率稳定拉伸。此外,在拉伸温度比上述范围高时,分子取向不能充分进行,有时制造的膜的杨氏模量低。
以拉伸倍率为2~8倍、优选为2.5~7倍、更优选为3~4倍的范围、最优选为3~3.5倍的范围进行拉伸,容易得到本发明的膜,所以优选。即,由于本发明的膜构造中岛部分作为打结点存在,所以在应力变形曲线中,容易在低倍率下应力增高。因此,如果长度方向的拉伸倍率过高,则分子链的紧张、结晶化过度进行,有时不能进行之后的拉伸,所以优选将长度方向的拉伸倍率设定在上述范围。
宽度方向的拉伸,优选使用扩幅机,设定2阶段以上温度梯度进行拉伸。第1阶段中在(长度方向的拉伸温度)~(长度方向的拉伸温度+30℃)的范围的温度下、更优选为(长度方向的拉伸温度+5℃)~(长度方向的拉伸温度+20℃)下进行拉伸,然后将该膜进而在第2阶段中优选在(宽度方向第1阶段拉伸温度+60℃)~(宽度方向第1阶段拉伸温度+100℃)下进行拉伸,更优选在(宽度方向第1阶段拉伸温度+80℃)~(宽度方向第1阶段拉伸温度+100℃)下拉伸。
当拉伸温度偏离上述范围时,由于热量不足、结晶化过度进行,有时频频发生膜裂,生产性低,或者有时不能充分提高取向,强度降低。
尤其是,本发明的双轴取向聚酯膜,以岛部分为打结点,所以优选阶段性提高温度进行拉伸。特别优选将宽度方向第2阶段温度条件设定在(宽度方向第1阶段拉伸温度+60℃)~(宽度方向第1阶段拉伸温度+100℃),更优选设定在(宽度方向第1阶段拉伸温度+80℃)~(宽度方向第1阶段拉伸温度+100℃),这在得到本发明的高尺寸稳定性效果方面是有效的。
在第1阶段和第2阶段宽度方向的拉伸之间还可以使用辊式拉伸机等进行长度方向拉伸。此时的温度优选为(宽度方向的第1阶段拉伸温度+30℃)~(宽度方向的第1阶段拉伸温度+60℃)。
接着将该拉伸膜进行热处理。此时的热处理优选在温度180~250℃、特别是190~220℃下进行1~20秒钟。接着,在100~180℃下进行中间冷却,然后将膜冷至室温,必要时一边进行纵向和横向的松弛处理一边将膜冷却,再卷取,就得到了目标的双轴取向聚酯膜。此时,在要进一步提高纵向或横向的强度时,优选在进行上述热处理前沿着纵向、横向进行再次拉伸。此时的拉伸条件优选拉伸温度为110~150℃、拉伸倍率为1.1~1.8。
在以上的制造例中示出了使用逐次双轴拉伸机进行的制造例,但也可以使用同时双轴拉伸装置制造,这种情况优选夹子的驱动方式为线性电机方式的拉伸装置。
例如导入到同时双轴拉伸扩幅机中,沿着长度和宽度方向同时进行双轴拉伸。优选拉伸速度为,长度、宽度方向均为100~20000%/分钟的范围。更优选为500~10000%/分钟、更优选为2,000~7000%/分钟。在拉伸速度小于100%/分钟时,膜被置于热中的时间变长,所以有时特别是边缘部分结晶化,成为导致拉伸破裂的原因,制膜性降低,或者分子取向不能充分进行,制造出的膜的杨氏模量等机械物性低。此外,在大于20000%/分钟时,在拉伸时容易出现分子间抱合,所以拉伸性降低,有时难以进行高倍率拉伸。
拉伸温度根据使用的聚合物的种类来适当决定为宜,例如可以以未拉伸膜的聚酯的玻璃化转变温度Tg为基准进行确定。长度方向和宽度方向的各自第1阶段拉伸工序中的温度优选在Tg~Tg+30℃的范围,更优选为Tg+5℃~Tg+20℃。在拉伸温度低于上述范围时,有时会频频出现膜裂,生产性降低,或者再次拉伸性降低,难以以高倍率稳定拉伸。此外,当拉伸温度高于上述范围时,有时尤其是边缘部分结晶化,成为拉伸破裂的原因,制膜性降低,或者分子取向不能充分进行,制造出的膜的杨氏模量降低。
而且,在聚酯膜的制造工序含有多段拉伸、即再次拉伸工序的情况,第1阶段拉伸温度为上述那样的温度,但优选第2阶段拉伸温度为Tg+40℃~Tg+120℃,更优选为Tg+60℃~Tg+100℃。最优选为Tg+80℃~Tg+100℃。当拉伸温度偏离上述范围时,由于热量不足、结晶化的过度进行,所以有时频频出现膜裂,生产性降低,或者不能充分提高取向,强度降低。
此外,拉伸倍率根据聚合物的种类、拉伸温度、拉伸方法(多段拉伸等)来适当确定为宜,例如总面积拉伸倍率(总纵向拉伸倍率×总横向拉伸倍率)优选20~40倍的范围。更优选为25~35倍。作为长度方向、宽度方向的一方向的总拉伸倍率,优选2.5~8倍,更优选为3~7倍。当拉伸倍率比上述范围小时,有时会出现拉伸斑驳等,膜的加工适合性降低。此外,在拉伸倍率高于上述范围时,有时会频频出现拉伸破裂,生产性降低。
关于各个方向,当以多阶段进行拉伸时,第1阶段的长度、宽度方向上的各拉伸倍率优选为2~4倍,更优选为3~3.8倍。此外,第1阶段中的优选面积拉伸倍率为4~18倍,更优选为7~15倍。这些拉伸倍率的值,特别是在采用同时双轴拉伸法时是优选的值,但也适于逐次双轴拉伸法。本发明的膜构造中岛部分作为打结点存在,所以在应力变形曲线中应力容易在低倍率下增高。因此,在过度提高第1阶段拉伸倍率时,分子链的紧张、结晶化过度进行,有时不能进行第2阶段拉伸,所以优选将第1阶段拉伸倍率设定在上述范围。
此外,在进行再次拉伸时的一方向上的拉伸倍率优选为1.05~2.5倍,更优选为1.2~1.8倍。作为再次拉伸的面积拉伸倍率优选为1.4~4倍,更优选为1.9~3倍。
接着,将该拉伸膜在紧张下或在宽度方向上松弛下进行热处理。热处理条件中的热处理温度优选为155℃~205℃,热处理时间优选为0.5~10秒的范围。优选热处理工序分为2阶段以上的多阶段进行,尤其是,第1阶段热处理温度优选设定为180~205℃、更优选设定为180~195℃,第2阶段热处理温度设定为比第1阶段的温度低,优选设定为155~180℃、更优选为155~170℃。进而优选仅在第2阶段热处理工序中以宽度方向上1~5%的松弛率进行松弛处理。在进行上述多阶段的热处理工序时,杨氏模量等机械物性、温度和湿度变化时的尺寸稳定性提高,同时有效使分子链缓和,所以表示在承受负荷的状态下保存时的尺寸变化的保存稳定性容易提高。
然后,除去膜边缘,卷到芯上。并且为了进一步提高尺寸稳定性、保存稳定性的效果,优选将膜在卷在芯上的状态(筒状膜)下用热风烘箱等进行加热处理。加热处理的环境温度可以以膜的玻璃化转变温度(Tg)为基准进行确定,优选在(Tg-80)~(Tg-30)℃的范围、更优选为(Tg-75)~(Tg-35)℃的范围、更优选为(Tg-70)~(Tg-40)℃的范围。优选处理时间在10~360小时的范围、更优选为24~240小时的范围、更优选为72~168小时的范围。优选分多阶段进行的筒状膜的加热处理的合计时间在上述范围内。
下面对制造磁记录介质的方法予以说明。
将以上述方式得到的磁记录介质用支持体(双轴取向聚酯膜)切条成例如0.1~3m宽,一边以20~300m/分钟的速度、50~300N/m的张力移送,一边在一面(A)上将磁性涂料和非磁性涂料通过挤压式涂布机(Extrusioncoater)叠层涂布。需说明的是,作为上层涂布厚度0.1~0.3μm的磁性涂料,作为下层涂布厚度0.5~1.5μm的非磁性涂料。然后,使涂布上了磁性涂料和非磁性涂料的支持体进行磁取向,在温度80~130℃下干燥。接着,在相反侧的面(B)上涂布厚度0.3~0.8μm的反面涂层,进行轧光处理后卷取。需说明的是,轧光处理是使用小型实验轧光装置(钢/尼龙辊、5段)在温度70~120℃、线压0.5~5kN/cm下进行的。然后,在60~80℃下熟化处理24~72小时,切成1/2英寸(1.27cm)宽的条,就制成了带盘饼。接着,将该带盘饼的特定的长度安装到盒体中,就制作出了卡式磁带型磁记录介质。
这里,磁性涂料等组成可以列举出例如以下组成。
(磁性涂料的组成)
·强磁性金属粉末:100质量份
·改性氯乙烯共聚物:10质量份
·改性聚氨酯:10质量份
·多异氰酸酯:5质量份
·油酸2-乙基己基酯:1.5质量份
·棕榈酸:1质量份
·碳黑:1质量份
·氧化铝:10质量份
·甲基乙基酮:75质量份
·环己酮:75质量份
·甲苯:75质量份
(反面涂层的组成)
·碳黑(平均粒径20nm):95质量份
·碳黑(平均粒径280nm):10质量份
·氧化铝:0.1质量份
·改性聚氨酯:20质量份
·改性氯乙烯共聚物:30质量份
·环己酮:200质量份
·甲基乙基酮:300质量份
·甲苯:100质量份
磁记录介质适合用于例如,数字记录用途、具体如计算机数据的备份用途(例如线性带式记录介质(LTO4、LTO5等))、影像等数码图像的记录用途等。
(物性的测定方法以及效果的评价方法)
本发明中的特性值的测定方法以及效果的评价方法如下。
(1)分散相的平均分散直径
将膜沿着(I)平行于长度方向且垂直膜面的方向、(II)平行于宽度方向且垂直膜面的方向、(III)平行于膜面的方向切断,使用超薄切片法制作试样。为了使分散相的衬度清晰,还可以用锇酸、钌酸、磷钨酸等染色。使用透射电镜(日立制H-7100FA型),在加速电压100kV的条件下观察切剖面,以2万倍拍摄照片。将得到的照片作为图像输入到图像分析仪中,选取任意100个分散相(岛部分),根据需要进行图像处理,然后以下面所示的方式求出分散相的大小。求出:(I)的切剖面上显现的各分散相的膜厚度方向的最大长度(la)和长度方向的最大长度(lb)、(II)的切剖面上显现的各分散相的膜厚度方向的最大长度(lc)和宽度方向的最大长度(ld)、(III)的切剖面上显现的各分散相的膜长度方向的最大长度(le)和宽度方向的最大长度(lf)。接着,在设定:分散相的形状指数I=(lb的算术平均值+le的算术平均值)/2、形状指数J=(ld的算术平均值+lf的算术平均值)/2、形状指数K=(la的算术平均值+lc的算术平均值)/2时,将分散相的平均分散直径设为(I+J+K)/3。进而,将I、J、K中的最大值作为平均长径L,将最小值作为平均短径D。
需说明的是,下面示出了进行图像解析时的方法。
将各试样的透射电镜照片使用扫描仪输入到计算机中。然后使用专用的软件(プラネトロン公司制Image Pro Plus Ver.4.0)进行图像解析。通过操作色阶曲线(tone curve)来调节明暗度和衬度,然后,使用高斯滤波器,观察所得图像的高衬度成分的任意100点的等效圆直径,依照上述的计算法计算出平均分散直径。这里在使用透射电镜照片的负照片时,作为上述扫描仪使用日本サイテツクス公司制Leafscan 45Plug-In,在使用透射电镜的正照片时,作为上述扫描仪使用セイコ一エプソン制GT-7600S,但都得到了同等值。
图像处理的步骤和参数:
平坦化1次
衬度(contrast)+30
高斯1次
衬度+30、辉度-10
高斯1次
平面化滤波器:背景(黑)、目标宽度(20pix)
高斯滤波器:尺寸(7)、强度(10)
(2)岛部分的直径、长径与短径的比值(长径/短径)
将膜沿着平行膜面的方向切断,使用超薄切片法制作试样。为了使分散相(岛部分)的衬度清晰,还可以用锇酸、钌酸、磷钨酸等染色。使用透射电镜(日立制H-7100FA型)在加速电压100kV的条件下观察切剖面,以2万倍拍摄照片。将得到的照片作为图像输入到图像分析仪中,选取任意100个分散相,并根据需要进行上述同样的图像处理,以下面所示方式求出分散相的大小。求出切剖面上显现的各分散相的膜长度方向的最大长度(lg)和宽度方向的最大长度(lh)。
(岛部分的长径、短径)
将lg和lh的值中较大的那一个值作为长径(l),将较小的那一个值作为短径(d)。
(岛部分的直径)
对于观察的各岛部分,将(lg+lh)/2作为直径。
(直径为30~200nm的岛部分的长径与短径的比值(长径/短径)的平均)
对于直径为30~200nm的岛部分,将长径与短径的比值(长径/短径)设为l/d,求出100个1/d的数值的平均值。
(3)温度膨胀系数
对于膜的宽度方向,在下述条件下进行测定,将3次测定结果的平均值作为本发明中的温度膨胀系数。
·测定装置:岛津制作所制热机械分析装置TMA-50
·试样尺寸:膜长度方向10mm×膜宽度方向12.6mm
·载重:0.5g
·测定次数:3次
·测定温度:在通入氮气的状态下以升温速度2℃/分钟从温度25℃提高到温度50℃,然后保持5分钟,再以降温速度2℃/分钟降到温度25℃,测定温度40~30℃的膜宽度方向的尺寸变化量ΔL(mm)。通过下式计算温度膨胀系数(ppm/℃)。
·温度膨胀系数(ppm/℃)=106×{(ΔL/12.6)/(40-30)}
对于长度方向的温度膨胀系数,改变试样的方向以上述同样的方式测定。
(4)湿度膨胀系数
对于膜的宽度方向,在下述条件进行测定,将3次测定结果的平均值作为本发明中的湿度膨胀系数。
·测定装置:岛津制作所制热机械分析装置TMA-50(湿度发生器:アルバツク理工制湿度环境调节装置HC-1)
·试样大小:膜长度方向10mm×膜宽度方向12.6mm
·载重:0.5g
·测定次数:3次
·测定温度:30℃
·测定湿度:在40%RH下保持6小时后测定尺寸,然后在时间40分钟内提高湿度至80%RH,再在80%RH下保持6小时,然后测定膜宽度方向的尺寸变化量ΔL(mm)。代入下式求出湿度膨胀系数(ppm/%RH)。
·湿度膨胀系数(ppm/%RH)=106×{(ΔL/12.6)/(80-40)}
对于长度方向的湿度膨胀系数也同样,改变试样的方向以与上述同样方式进行测定。
(5)三维表面粗糙度Ra和表面10点平均粗糙度Rz
使用小坂研究所的三维微细形状测定器(型号Et-350K)和三维表面粗糙度解析系统(型号TDA-22)测定三维表面粗糙度Ra(中心面平均粗糙度)和表面粗糙度Rz(表面10点平均粗糙度)。条件如下,取20次测定的平均值。此外,两面均各测定20次,Ra、Rz均取数值较小的那一面的值。
·触针直径:2μm
·触针的负荷:0.04mN
·纵向倍率:5万倍
·截止值(cutt off):0.25mm
·移送节距:5μm
·测定长度:0.5mm
·测定面积:0.2mm2
·测定速度:0.1mm/秒
(6)玻璃化转变温度(Tg)
使用下述装置在下述条件下测定比热,依照JIS K7121(1987年)来确定。
·装置:TA Instrument公司制温度变化DSC
·测定条件:
·加热温度:270~570K(RCS冷却法)
·温度校正:高纯度铟和锡的熔点
·温度波动幅度:±1K
·温度波动周期:60秒
·升温梯度:5K
·试样重量:5mg
·试样容器:铝制开放型容器(22mg)
·参照容器:铝制开放型容器(18mg)
需说明的是,玻璃化转变温度是通过下述式计算出的。
玻璃化转变温度=(外推玻璃化转变开始温度+外推玻璃化转变结束温度)/2
(7)熔点(Tm)
作为差示扫描量热计使用セイコ一インスツルメンツ公司制DSC(RDC220),作为数据分析装置使用上述同一公司制デイスクステ一シヨン(SSC/5200),将试样约5mg放到铝制接收皿上,在300℃下保持5分钟熔融,然后迅速冷却固化,再从室温以升温速度20℃/分钟升温。将此时观察到的熔解的吸热峰的峰温度作为熔点(Tm)。
(8)宽度尺寸测定
将切条成1m宽的膜以200N张力移送,在支持体一侧的表面(A)上通过挤压式涂布机叠层涂布下述组成的磁性涂料和非磁性涂料(上层为磁性涂料,涂布厚度0.2μm,下层为非磁性涂料,涂布厚度为0.9μm),使其磁取向,在干燥温度100℃下干燥。然后在相反侧的表面(B)上涂布下述组成的反面涂层,然后使用小型实验轧光装置(钢/尼龙辊、5段)在温度85℃、线压2.0×105N/m下进行轧光处理,然后卷取。将上述带材切成宽1/2英寸(12.65mm)的条,制成带盘饼。接着,将该带盘饼长度200m组装到盒体中,制成卡式磁带。
(磁性涂料的组成)
·强磁性金属粉末:100质量份
〔Fe∶Co∶Ni∶Al∶Y∶Ca=70∶24∶1∶2∶2∶1(质量比)〕
〔长轴长:0.09μm,轴比:6,矫顽力:153kA/m(1922Oe),饱和磁化:146Am2/kg(146emu/g),BET比表面积:53m2/g,X射线粒径:15nm〕
·改性氯乙烯共聚物(粘合剂):10质量份
(平均聚合度:280、环氧基含量:3.1质量%、磺酸基含量:8×10-5当量/g)
·改性聚氨酯(粘合剂):10质量份
(数均分子量:25,000,磺酸基含量:1.2×10-4当量/g、玻璃化转变温度:45℃)
·多异氰酸酯(固化剂):5质量份
(日本ポリウレタン工业(株)制コロネ一トL(商品名))
·油酸2-乙基己基酯(润滑剂):1.5质量份
·棕榈酸(润滑剂):1质量份
·碳黑(防静电剂):1质量份
(平均一次粒径:0.018μm)
·氧化铝(研磨剂):10质量份
(α-氧化铝、平均粒径:0.18μm)
·甲基乙基酮:75质量份
·环己酮:75质量份
·甲苯:75质量份
(非磁性涂料的组成)
·改性聚氨酯:10质量份
(数均分子量:25000、磺酸基含量:1.2×10-4当量/g、玻璃化转变温度:45℃)
·改性氯乙烯共聚物:10质量份
(平均聚合度:280、环氧基含量:3.1质量%、磺酸基含量:8×10-5当量/g)
·甲基乙基酮:75质量份
·环己酮:75质量份
·甲苯:75质量份
·多异氰酸酯:5质量份
(日本ポリウレタン工业(株)制コロネ一トL(商品名))
·油酸2-乙基己基酯(润滑剂):1.5质量份
·棕榈酸(润滑剂):1质量份
(反面涂层的组成)
·碳黑:95质量份
(防静电剂、平均一次粒径0.018μm)
·碳黑:10质量份
(防静电剂、平均一次粒径0.3μm)
·氧化铝:0.1质量份
(α-氧化铝、平均粒径:0.18μm)
·改性聚氨酯:20质量份
(数均分子量:25000、磺酸基含量:1.2×10-4当量/g、玻璃化转变温度:45℃)
·改性氯乙烯共聚物:30质量份
(平均聚合度:280、环氧基含量:3.1质量%、磺酸基含量:8×10-5当量/g)
·环己酮:200质量份
·甲基乙基酮:300质量份
·甲苯:100质量份
从卡式磁带的磁带盒中取出带体,将以图1所示方式制作的片宽测定装置放入到下述恒温恒湿槽内进行宽度尺寸测定。需说明的是,图1所示的片宽测定装置是使用激光测定宽度方向的尺寸的装置,将磁性带体9设置在自由辊(free roll)5~8上,并同时将磁性带体9固定在载重检测器3上,在端部下吊作为负载的重物4。对该磁性带体9照射激光10,从激光发射器1发射出在宽度方向上呈线状的激光10仅被磁性带体9的部分阻挡,进入到受光部2,将该被阻挡的激光的宽度作为磁性带体的宽度进行测定。将3次测定结果的平均值作为本发明中的宽度。
·测定装置:(株)アヤハエンジニアリング公司制片宽测定装置
·激光发射器1、受光部2:激光尺寸测定机キ一エンス公司制LS-5040
·载重检测器3:称重传感器(load cell)、NMB公司制CBE1-10K
·恒温恒湿槽:(株)力ト一公司制SE-25VL-A
·负载4:重物(长度方向)
·试样大小:宽度1/2英寸×长度250mm
·保持时间:5小时
·测定次数:测3次。
(宽度尺寸变化率:尺寸稳定性)
在两种条件下分别测定宽度尺寸(lA、lB),代入下式求出尺寸变化率。具体地说,依照下述基准评价尺寸稳定性。
在A条件下经过了24小时后测定lA,然后,在B条件下经过了24小时后测定lB。测定从距离磁带盒的始端30m的位置切下的试样、从距离磁带盒的始端100m的位置切下的试样、从距离磁带盒的始端170m的位置切下的试样共3点。×为不合格。
A条件:10℃10%RH张力0.85N
B条件:29℃80%RH张力0.55N
宽度尺寸变化率(ppm)=106×((lB-lA)/lA)
◎:宽度尺寸变化率的最大值小于500(ppm)
○:宽度尺寸变化率的最大值为500(ppm)以上、且小于600(ppm)
△:宽度尺寸变化率的最大值为600(ppm)以上、且小于700(ppm)
×:宽度尺寸变化率的最大值为700(ppm)以上
(9)保存稳定性
以与上述(8)同样的方式,从制作的卡式磁带的磁带盒中取出带体,然后在以下2个条件下分别测定宽度尺寸(lC、lD),代入下式求出尺寸变化率。
具体地说,按照以下基准评价尺寸稳定性。
在23℃65%RH下经过了24小时后测定lC,在40℃20%RH的环境下保管磁带盒10天后、再在23℃65%RH下经过了24小时后测定lD。测定从距离磁带盒的始端30m位置切下的试样、从距离磁带盒的始端100m的位置切下的试样、从距离磁带盒的始端170m的位置切下的试样共3点。×为不合格。
宽度尺寸变化率(ppm)=106×(IlC-lDI/lC)
◎:宽度尺寸变化率的最大值小于80(ppm)
○:宽度尺寸变化率的最大值为80(ppm)以上、且小于100(ppm)
△:宽度尺寸变化率的最大值为100(ppm)以上、且小于150(ppm)
×:宽度尺寸变化率的最大值为150(ppm)以上
(10)行走耐久性
以与上述(8)同样的方式制作卡式磁带,使用市售的IBM公司制LTO驱动器3580-L11在23℃65%RH的环境下行走300次来评价。错误率是通过将驱动器输出的错误信息(错误比特数)代入下式算出的。×为不合格。
错误率=(错误比特数)/(写入比特数)
◎:错误率小于1.0×10-6
○:错误率为1.0×10-6以上、且小于1.0×10-5
△:错误率为1.0×10-5以上、且小于1.0×10-4
×:错误率为1.0×10-4以上
(11)电磁转换特性
以与上述(8)同样的方式制作卡式磁带,C/N的测定时使用卷轴至卷轴试验机(reel to reel tester),搭载上市售的MR磁头在下述条件下实施。
相对速度:2m/秒
记录磁轨宽度:18μm
再生磁轨宽度:10μm
屏蔽间距离:0.27μm
记录用信号发生器:HP公司制8118A
再生信号处理:频谱分析仪(Spectrum analyzer)
将该C/N与市售的LTO4带(富士フイルム公司制)比较,将-0.5dB以上评价为◎,将-1dB以上且小于-0.5dB评价为○,将-2dB以上且小于-1dB评价为△,将小于-2dB评价为×。◎和○是所希望的,△为不能实际使用的。
(12)膜内部的孔隙率
切出膜横截面,蒸镀上铂-钯,然后使用日立制作所(株)制扫描电镜S-2100A,以2000~10000倍的倍率中的、足以观察膜内部构造的倍率进行放大观察。使用该图像,求出单位截面积的孔隙的面积,计算出孔隙的面积占有率。任意选择10点反复测定,将它们的平均值作为膜内部的孔隙率(%)。
(13)折射率
依照JIS-K7105(1981)规定的方法,使用阿贝折射计,以钠D线作为光源进行测定。需说明的是,载液(mount liquid)使用二碘甲烷,在25℃、65%RH下测定。需说明的是,试样的长度方向是膜的制膜方向,在磁性带体等情况,与带体的长度方向一致。宽度方向是与长度方向呈直角的方向。长度方向和宽度方向的折射率的平均值如下。
长度方向和宽度方向的平均折射率=(长度方向的折射率+宽度方向的折射率)/2
任意选出10点反复测定,将它们的平均值作为该膜的平均折射率。
(14)膜中的树脂的含量的测定
将膜称量后溶解在六氟异丙醇(HFIP)/氯仿(质量比50/50)的混合溶剂中。在有不溶成分时,通过离心分离来分离出该不溶成分,然后,测定质量,通过元素分析、FT-IR、NMR法测定该成分的构造和质量百分率。如果对上澄液成分也同样进行分析,则可以确定聚酯成分和其它成分的质量百分率和构造。具体地说,从该上澄液成分蒸馏除去溶剂,然后将残余物溶解在HFIP/氘代氯仿(质量比50/50)的混合溶剂中,然后测定1H NMR谱图。
求出所得谱图中各成分的特征吸收(例如,PET时是对苯二甲酸的芳香族的质子,PEI时是双酚A的芳香族的质子)峰的面积强度,根据其比率和质子数计算出掺混的摩尔比。进而通过聚合物的结构单元的式量计算出质量比。这样可以确定各成分的质量百分率和构造。
(15)膜的雾度值
基于JIS K 7105(1985年)使用雾度仪(スガ试验器公司制HZ-2)进行测定。此外,将膜放入液体测定用石英槽中,填充液体石蜡后进行测定,测定去除了膜表面雾度后的内部雾度。对任意10点反复进行测定,将它们的平均值作为该膜的雾度值。
(16)长时间保存后的电磁转换特性
除了使在40℃20%RH的环境下的磁带盒保管期间为100天以外,以与上述(8)同样的方式制作卡式磁带,在C/N的测定时使用卷轴至卷轴试验机,装载市售的MR磁头在下述条件下实施。
相对速度:2m/秒
记录磁轨宽:18μm
再生磁轨宽:10μm
屏蔽间距离:0.27μm
记录用信号发生器:HP公司制8118A
再生信号处理:频谱分析仪
将该C/N与在40℃20%RH的环境下保存100天前的带体相比较,将-1dB以上评价为◎,将-2dB以上且小于-1dB评价为○,将-3dB以上且小于-2dB评价为△,将小于-3dB评价为×。◎和○是希望的,△是实际不能应用的。
(17)长时间保存后的高湿度下的行走耐久性
除了在40℃20%RH的环境下、磁带盒保管期间为100天以外,以与上述(8)同样的方式制作卡式磁带,使用市售的IBM公司制LTO驱动器3580-L11,在40℃80%RH的环境下行走300次进行评价。错误率是将驱动器输出的错误信息(错误比特数)代入下式计算出的。2点以上视为合格。
错误率=(错误比特数)/(写入比特数)
5点:错误率为小于1.0×10-6
4点:错误率为1.0×10-6以上、且小于1.0×10-5
3点:错误率为1.0×10-5以上、且小于1.0×10-4
2点:错误率为1.0×10-4以上、且小于1.0×10-3
1点:错误率为1.0×10-3以上、且小于1.0×10-2
(18)直径为1~30nm的岛部分的测定
将膜(I)沿着平行于长度方向、且垂直膜面的方向切断、(II)沿着平行于宽度方向且垂直膜面的方向切断、(III)沿着平行于膜面的方向切断,使用超薄切片法制作试样。为了使分散相的衬度清晰,还可以使用锇酸、钌酸、磷钨酸等进行染色。使用透射电镜(日立制H-7100FA型)在加速电压100kV的条件下观察切剖面,以50万倍拍摄照片。将得到的照片作为图像输入到图像分析仪中,并根据需要进行图像处理,以下面所示方式求出岛部分的直径。求出(I)的切剖面上显现的各分散相的膜厚度方向的最大长度(La)和长度方向的最大长度(Lb)、(II)的切剖面上显现的各分散相的膜厚度方向的最大长度(Lc)和宽度方向的最大长度(Ld)、(III)的切剖面上显现的各分散相的膜长度方向的最大长度(Le)和宽度方向的最大长度(Lf)。接着,在设定分散相的形状指数I=(Lb+Le)/2、形状指数J=(Ld+Lf)/2、形状指数K=(La+Lc)/2时,设定岛部分的直径为(I+J+K)/3。
需说明的是,下面示出了进行图像解析时的方法。
使用扫描仪将各试样的透射电镜照片输入到计算机中。然后,使用专用软件(プラネトロン公司制Image Pro Plus Ver.4.0)进行图像解析。通过操作色阶曲线来调节明暗度和衬度,然后,使用高斯滤波器观察所得图像的高衬度成分的岛部分,通过上述计算法计算出岛部分的直径。这里,在使用透射电镜照片的负照片时,作为上述扫描仪使用日本サイテツクス公司制Leafscan 45Plug-In,但使用透射电镜的正照片时,作为上述扫描仪使用セイコ一エプソン制GT-7600S,但均得到同等值。
图像处理的步骤和参数:
平坦化1次
衬度+30
高斯1次
衬度+30、辉度-10
高斯1次
平面化滤波器:背景(黑)、目标宽度(20pix)
高斯滤波器:尺寸(7)、强度(10)
实施例
基于以下实施例来说明本发明的实施方式。
(参考例1)
将对苯二甲酸二甲酯194质量份和乙二醇124质量份加入到酯交换反应装置中,将内容物加热到140℃溶解。然后,一边搅拌内容物,一边加入乙酸镁四水和物0.3质量份和三氧化锑0.05质量份,在140~230℃下一边蒸馏出甲醇一边进行酯交换反应。接着,添加磷酸三甲基的5质量%乙二醇溶液1质量份(磷酸三甲酯为0.05质量份)。当添加磷酸三甲酯的乙二醇溶液时,反应内容物的温度降低。然后一边蒸馏出剩余的乙二醇,一边继续搅拌直至反应内容物的温度恢复到230℃。在这样使酯交换反应装置内的反应内容物的温度达到230℃后,将反应内容物转移到聚合装置中,转移后将反应体系从230℃慢慢升温至290℃,同时使压力降低到0.1kPa。达到最终温度、最终压力所花的时间均为60分钟。达到最终温度、最终压力后反应2小时(开始聚合3小时),结果聚合装置的搅拌扭矩显示出了规定的值(根据聚合装置的类型而具体值不同,但本聚合装置将特性粘度0.62的聚对苯二甲酸乙二醇酯所示的值作为规定值)。然后向反应体系中通入氮气,恢复到常压,停止缩聚反应,条状排到冷水中,然后马上剪切,就得到了特性粘度0.62的聚对苯二甲酸乙二醇酯的PET颗粒(X)。
(参考例2)
将参考例1得到的PET颗粒(X)在160℃、3mmHg的减压下干燥4小时,然后在220℃、133Pa以下的减压度下固相聚合反应8小时,从而得到特性粘度1.2的PET颗粒(Y)。
(参考例3)
将SABICイノベ一ティブプラスチツク公司制的PEI“Ultem1010-1000”的颗粒50质量份和PET颗粒(Y)分别在180℃、3mmHg的减压下干燥6小时。
将日本制钢所制的设置了3处螺杆直径为30mm、螺杆长度/螺杆直径=45.5的捏合叶片混炼部的同方向转动型排气式双螺杆混炼挤出机从螺杆区到挤出头部、在270℃~320℃之间设置温度梯度。向该挤出机供给减压干燥后的颗粒,以螺杆转速300转/分钟、滞留时间3分钟进行熔融挤出,以条状排出,在温度25℃的水中冷却,然后马上剪切,制成PET-PEI(Ul1010)掺混颗粒(Z)。
(实施例1)
将SABICイノベ一ティブプラスチツク公司制的PEI“Ultem1010-1000”(Tg=215℃)颗粒75质量份和SABICイノベ一ティブプラスチツク公司制的PEI“UltemCRS5011-1000”(Tg=225℃)颗粒25质量份分别在150℃、3mmHg的减压下干燥6小时。
将日本制钢所制的设置了3处螺杆直径为30mm、螺杆长度/螺杆直径=45.5的捏合叶片混炼部的同方向转动型排气式双螺杆混炼挤出机从螺杆区到挤出头部的区域、在320℃~380℃之间设定温度梯度。向该挤出机中供给减压干燥了的颗粒,在螺杆转速300转/分钟、滞留时间3分钟的条件下熔融挤出,以条状排出,在温度10℃的水中冷却,然后马上剪切,从而制作PEI(Ul1010)-PEI(CRS5011)(混合比率75/25)掺混颗粒(I)。
接着将PET颗粒(Y)50质量份和掺混颗粒(I)50质量份分别在180℃、3mmHg的减压下干燥3小时,然后供给到将上述挤出机在从螺杆区到挤出头部的区域、在270℃~320℃之间设定温度梯度的挤出机中,以同样方式供给到具有3处加热到温度310℃的捏合叶片混炼部的同方向转动型排气式双螺杆混炼挤出机(日本制钢所制、螺杆直径30mm、螺杆长度/螺杆直径=45.5)中,在螺杆转速300转/分钟下熔融挤出,以条状排出,在温度25℃的水中冷却,然后马上剪切,制成PET-PEI(Ul1010)-PEI(CRS5011)掺混颗粒(II)。
接着,将PET颗粒(X)88质量份、掺混颗粒(Z)4质量份和掺混颗粒(II)8质量份以表2所示的含量(质量%)混合,在180℃下3mmHg的减压下干燥3小时,然后加入到挤出机中,在300℃下熔融挤出,从纤维烧结不锈钢金属过滤器(14μm孔径(cut))通过,然后从T型模以片状排出,借助静电外加法使该片附着在表面温度25℃的冷却鼓上固化冷却,从而得到未拉伸膜。未拉伸膜的Tg为83℃。
用夹子把持该未拉伸膜的两端部,导入到线性电机方式的同时双轴拉伸扩幅机中制膜。将膜温度加热到95℃,以面积拉伸倍率12.25倍(纵向倍率:3.5倍、横向倍率:3.5倍)进行同时双轴拉伸。接着使膜温度为160℃,以面积拉伸倍率2.16倍(纵向倍率:1.2倍、横向倍率:1.8倍)进行再次拉伸,在热定型温度210℃下热定型处理2秒钟后,在热定型温度下进行长度方向2%和宽度方向2%的松弛热处理I,然后在150℃和100℃下进行这两阶段合起来为长度方向4%、宽度方向2%的松弛热处理II,从而得到厚度5μm的双轴拉伸聚酯膜。该双轴取向聚酯膜的组成和特性等如表1~3所示,具有作为磁记录介质用基膜的优异特性。
(实施例2和3)
替换实施例1中使用的PET颗粒(X)而使用PET颗粒(Y),并且将SABICイノベ一ティブプラスチツク公司制的PEI“UltemCRS5011-1000”分别变成表2所示的树脂,除此以外,以与实施例1同样的方式得到双轴取向聚酯膜。这些双轴取向聚酯膜的组成和特性等如表1~3所示,具有作为磁记录介质用基膜的优异特性。
(实施例4)
以与实施例1的掺混颗粒(I)同样的方式制作PEI(Ul1010)-PEI(CRS5011)(混合比率10/90)掺混颗粒(III)。进而以与实施例1同样的方式由PET颗粒(Y)25质量份和掺混颗粒(III)75质量份制作PET-PEI(Ul1010)-PEI(CRS5011)掺混颗粒(混合比率25/7.5/67.5)(IV)。接着,将PET颗粒(X)58.6质量份、掺混颗粒(Z)4.4质量份和掺混颗粒(IV)37.0质量份以表2所示的含量(质量%)混合,以与实施例1同样的方式得到厚度5μm的双轴拉伸聚酯膜。该双轴取向聚酯膜的组成和特性等如表1~3所示,具有作为磁记录介质用基膜的优异特性。
(实施例5)
以与实施例1的掺混颗粒(I)同样的方式,制作PEI(Ul1010)-PEI(CRS5011)(混合比率25/75)掺混颗粒(V)。进而以与实施例1同样的方式由PET颗粒(Y)25质量份和掺混颗粒(III)75质量份制作PET-PEI(Ul1010)-PEI(CRS5011)掺混颗粒(混合比率25/18.75/56.25)(VI)。接着,将PET颗粒(X)76.7质量份、掺混颗粒(Z)2.0质量份和掺混颗粒(VI)21.3质量份以表2所示的含量(质量%)混合,以与实施例1同样的方式得到厚度5μm的双轴拉伸聚酯膜。该双轴取向聚酯膜的组成和特性等如表1~3所示,具有作为磁记录介质用的基膜的优异特性。
(实施例6、8和9)
替换实施例1中使用的PET颗粒(X)而使用由通常的方法得到的PEN颗粒或PET颗粒(Y),并将SABICイノベ一ティブプラスチツク公司制的PEI“UltemCRS5011-1000”在实施例8、9中分别改成表2所示的树脂,除此以外,以与实施例1同样的方式得到双轴取向聚酯膜。这些双轴取向聚酯膜的组成和特性等如表1~3所示,具有作为磁记录介质用基膜的优异特性。
(实施例7)
使用辊式拉伸机对以与实施例1同样的方式得到的未拉伸膜在温度105℃下沿着长度方向拉伸3.0倍,进而使用扩幅机,在温度110℃下沿着宽度方向拉伸2.8倍。接着使用辊式拉伸机沿着长度方向经2阶段、在温度150℃下再次拉伸1.5倍,使用扩幅机在温度190℃下沿着宽度方向再次拉伸1.8倍。进而在固定长度下、温度200℃热处理10秒钟,然后进行宽度方向1%的松弛处理,从而得到厚度5μm的双轴取向聚酯膜。该双轴取向聚酯膜的组成和特性等如表1~3所示,具有作为磁记录介质用基膜的优异特性。
(实施例10)
以与实施例4同样的方式,将PET颗粒(X)49.7质量份、掺混颗粒(Z)2.9质量份和掺混颗粒(IV)47.4质量份以表2所示的含量(质量%)混合,以与实施例1同样的方式得到厚度5μm的双轴拉伸聚酯膜。该双轴取向聚酯膜的组成和特性等如表1~3所示,具有作为磁记录介质用基膜的优异特性。
(比较例1)
将PET颗粒(X)在180℃、3mmHg的减压下干燥3小时,然后加入到挤出机中,在285℃熔融挤出,从纤维烧结不锈钢金属过滤器(14μm孔径)通过,然后从T型模以片状排出,通过静电外加法使该片附着在表面温度25℃的冷却鼓上固化冷却,从而得到未拉伸膜。未拉伸膜的Tg为78℃。
用夹子把持该未拉伸膜的两端部,导入到线性电机方式的同时双轴拉伸扩幅机中制膜。将膜温度加热到95℃,以面积拉伸倍率12.25倍(纵向倍率:3.5倍、横向倍率:3.5倍)进行同时双轴拉伸。接着,使膜温度为160℃,以面积拉伸倍率2.16倍(纵向倍率:1.2倍、横向倍率:1.8倍)进行再次拉伸,在热定型温度210℃下热定型处理2秒钟,然后在热定型温度下进行长度方向2%和宽度方向2%的松弛热处理I,然后,在150℃和100℃下进行2阶段合起来为长度方向4%、宽度方向2%的松弛热处理II,从而得到厚度5μm的双轴拉伸聚酯膜。该双轴取向聚酯膜的组成和特性等如表1~3所示。
(比较例2)
以与实施例1的掺混颗粒(I)同样的方式制作PEI(Ul1010)-PEI(CRS5011)(混合比率5/95)掺混颗粒(VII)。进而,以与实施例1同样的方式由PET颗粒(Y)25质量份和掺混颗粒(III)75质量份制作PET-PEI(Ul1010)-PEI(CRS5011)掺混颗粒(混合比率25/3.75/71.25)(VIII)。接着,将PET颗粒(X)25.1质量份、掺混颗粒(Z)4.7质量份和掺混颗粒(IV)70.2质量份以表2所示的含量(质量%)混合,以与实施例1同样的方式得到厚度5μm的双轴拉伸聚酯膜。该双轴取向聚酯膜的组成和特性等如表1~3所示,具有作为磁记录介质用基膜的优异特性。
将该未拉伸膜在温度150℃下用辊式拉伸机沿着长度方向拉伸3.2倍,然后使用扩幅机,温度155℃下沿着宽度方向拉伸4.5倍,再使用辊式拉伸机在温度155℃下沿着长度方向再次纵向拉伸1.6倍,使用扩幅机在温度195℃下沿着宽度方向再次横向拉伸1.1倍,结果频频出现拉伸破裂,无法获取样品。
(比较例3)
使用2台挤出机,将ソルベイアドバンストポリマ一ズ公司制的PSU“ユ一デル(UDEL)P-3900”10质量%、和由通常的方法得到的特性粘度0.85的PET颗粒90质量%的掺混聚合物(含有平均粒径0.3μm的高分子交联微粒0.03质量%和平均粒径0.2μm的硅酸铝微粒0.12质量%)在180℃下减压干燥3小时,然后供给到加热到280℃的挤出机A中,将PET颗粒在180℃下减压干燥3小时,然后供给到加热至280℃的挤出机B中。然后,在T型模中合流(叠层比6.0/0.5),在表面温度25℃的流延转鼓上一边施加静电一边使其附着、冷却固化,从而制作叠层未拉伸膜。
使用辊式拉伸机将该未拉伸膜在温度97℃下沿着长度方向拉伸3.2倍,接着使用扩幅机,沿着宽度方向在温度103℃下拉伸4.5倍,进而使用辊式拉伸机在温度155℃下沿着长度方向再次纵向拉伸1.6倍,使用扩幅机在温度195℃下沿着宽度方向再次横向拉伸1.1倍,然后在固定长度下、温度210℃热处理10秒钟,然后进行宽度方向2%的松弛处理,从而得到厚度6.5μm的叠层双轴取向聚酯膜。该双轴取向聚酯膜的组成和特性等如表1~3所示。
(比较例4)
使用2台挤出机,将SABICイノベ一ティブプラスチツク公司制的PEI“ウルテム(Ultem)1010-1000”10质量%和ソルベイアドバンストポリマ一ズ公司制的PES“レ一デル(RADEL)Aグレ一ドA-300A”5质量%与PEN85质量%的掺混聚合物(含有平均粒径0.25μm的球状二氧化硅微粒0.1质量%和平均粒径0.02μm的氧化铝微粒0.5质量%)在180℃下减压干燥3小时后,供给到加热到280℃的挤出机A中,将PEN在180℃下减压干燥3小时后供给到加热到280℃的挤出机B中。然后在T型模中合流(叠层比8.5/1.0),一边向表面温度25℃的流延鼓上外加静电荷,一边使叠层膜附着、冷却固化,从而制作叠层未拉伸膜。
使用辊式拉伸机将该未拉伸膜沿着长度方向、温度150℃下拉伸3.2倍,然后使用扩幅机、温度155℃下沿着宽度方向拉伸4.5倍拉伸,进而使用辊式拉伸机沿着长度方向温度155℃下再次纵向拉伸1.6倍,使用扩幅机温度195℃下沿着宽度方向1.1倍再次横向拉伸,但频频出现拉伸破裂,无法获取样品。
(比较例5)
将SABICイノベ一ティブプラスチツク公司制的PEI“ウルテム(Ultem)1010”(75质量%)和ユニチカ公司制的PAR“Uポリマ一U-100”(25质量%)供给到加热到350℃的、具有2轴3条型螺杆的排气式双螺杆混炼挤出机中,在滞留时间3分钟下熔融混炼,得到PEI-PAR掺混颗粒。接着,将特性粘度0.65的PET颗粒(60质量%)和经上述制粒操作得到的PEI-PAR掺混颗粒(40质量%)在180℃下减压干燥3小时,然后投入到加热到290℃的、具有直径150mm的螺杆的单轴挤出机中,进行熔融挤出,以剪切速度10/秒钟从纤维烧结不锈钢金属过滤器(5μm孔径)内穿过,然后由T型模以片状排出,使该片以牵伸比为10、以30m/分钟的速度附着在表面温度25℃的冷却鼓上固化、迅速冷却,从而得到实质上无取向的未拉伸膜。接着,使用被加热了的含有多个辊组的纵向拉伸机,利用辊的周转速度差将该未拉伸膜在110℃的温度下沿着膜的纵向拉伸3.8倍的倍率。然后,将该膜用夹子把持两端部导入到扩幅机中,在拉伸温度115℃、拉伸倍率4倍下沿着膜的宽度方向拉伸,接着在235℃的温度下热处理,然后在被控制到150℃和100℃的2个冷却区中沿着横向分别进行3%和1%的松弛处理,冷却至室温,然后除去膜的边缘,从而得到厚度100μm的双轴取向膜。该双轴取向聚酯膜的组成和特性等如表1~3所示。
(比较例6)
将通过通常方法得到的聚对苯二甲酸乙二醇酯(特性粘度0.85)的颗粒(50质量%)和聚醚酰亚胺的颗粒(“Ultem”1010(SABICイノベ一ティブプラスチツク公司制、注册商标))(50质量%)供给到加热到280℃的排气式双螺杆混炼挤出机中熔融挤出,得到含有50质量%聚醚酰亚胺的碎粒(I)。将得到的含有聚醚酰亚胺的碎粒(I)与聚对苯二甲酸乙二醇酯(特性粘度0.62)以40∶60的比例干式掺混,在180℃下减压干燥3小时,然后直接投入到加热到285℃的挤出机中。以剪切速度10/秒钟从纤维烧结不锈钢金属过滤器(5μm孔径)通过,然后从T型模以片状排出。进而使该片以5m/分钟的速度附着在表面温度25℃的冷却鼓上冷却固化。得到的未拉伸膜是透明性差的、浑浊膜。将该未拉伸膜通过通常方法进行双轴拉伸,得到双轴取向膜。得到膜中的聚醚酰亚胺的平均分散直径为150nm,得到了100℃热收缩率差的膜。
(比较例7)
将PET颗粒(X)50质量份和SABICイノベ一ティブプラスチツク公司制的PEI“ウルテム(Ultem)1010-1000”50质量份在150℃下除湿干燥5小时后,供给到被加热到320~290℃(在螺杆区、挤出头部设定温度梯度)、具有2轴3段型螺杆(PET和PEI的混炼塑化区/杜尔麦基(Dulmage)式混炼区/以反向螺丝杜尔麦基式进行的微分散相容化区)的排气式双螺杆挤出机(L/D=40、排气孔的减压度为200Pa)中,以3分钟滞留时间熔融挤出,得到含有50质量%PEI的PET/PEI掺混颗粒。
接着,将得到的PET/PEI掺混颗粒和PET颗粒(X)以表1~3所示含量(质量%)混合,在180℃下3mmHg的减压下干燥3小时,然后投入到挤出机中,在285℃下熔融挤出,从纤维烧结不锈钢金属过滤器(14μm孔径)通过后,从T型模以片状排出,通过静电外加法将该片附着在表面温度25℃的冷却鼓上固化、冷却,从而得到未拉伸膜。
将该未拉伸膜用夹子把持两端部,导入到线性电机方式的同时双轴拉伸扩幅机中制膜。将膜温度加热到95℃,以面积拉伸倍率12.25倍(纵向倍率:3.5倍、横向倍率:3.5倍)进行同时双轴拉伸。接着,使膜温度为160℃,以面积拉伸倍率2.16倍(纵向倍率:1.2倍、横向倍率:1.8倍)进行再次拉伸,在热定型温度210℃下热定型处理2秒钟,然后在热定型温度下进行长度方向2%和宽度方向2%的松弛热处理I,然后,在150℃和100℃下进行2阶段合起来为长度方向4%、宽度方向2%的松弛热处理II,从而得到厚度5μm的双轴拉伸聚酯膜。该双轴取向聚酯膜的组成和特性等如表1~3所示。
(实施例11)
以与实施例1同样的方式制作掺混颗粒(II)。
接着,将PET颗粒(X)80质量份和掺混颗粒(II)20质量份以表2所示的含量(质量%)混合,在180℃下3mmHg的减压下干燥3小时,然后投入到挤出机中,在300℃下熔融挤出,从纤维烧结不锈钢金属过滤器(14μm孔径)通过后,从T型模以片状排出,通过静电外加法使该片附着在表面温度25℃的冷却鼓上固化、冷却,从而得到未拉伸膜。未拉伸膜的Tg为85℃。
用夹子把持该未拉伸膜的两端部,导入到线性电机方式的同时双轴拉伸扩幅机中制膜。将膜温度加热到97℃,以面积拉伸倍率12.25倍(纵向倍率:3.5倍、横向倍率:3.5倍)进行同时双轴拉伸。接着,使膜温度为160℃,以面积拉伸倍率2.16倍(纵向倍率:1.2倍、横向倍率:1.8倍)进行再次拉伸,在热定型温度210℃下热定型处理2秒钟,然后在热定型温度下进行长度方向2%和宽度方向2%的松弛热处理I,然后,在150℃和100℃下进行2阶段合起来为长度方向4%、宽度方向2%的松弛热处理II,从而得到厚度5μm的双轴拉伸聚酯膜。该双轴取向聚酯膜的组成和特性等如表1~3所示,具有作为磁记录介质用基膜的优异特性。
(实施例12)
以与实施例1的掺混颗粒(I)同样的方式制作PEI(Ul1010)-PEI(CRS5011)(混合比率40/60)掺混颗粒(XI)。进而,以与实施例1同样的方式由PET颗粒(X)50质量份和掺混颗粒(XI)50质量份制作PET-PEI(Ul1010)-PEI(CRS5011)掺混颗粒(混合比率50/20/30)(XII)。接着,将PET颗粒(X)91.7质量份、和掺混颗粒(XII)8.3质量份以表2所示的含量(质量%)混合,以与实施例1同样的方式得到厚度5μm的双轴拉伸聚酯膜。该双轴取向聚酯膜的组成和特性等如表1~3所示,具有作为磁记录介质用基膜的优异特性。
(实施例13)
将SABICイノベ一ティブプラスチツク公司制的PEI“ウルテム(Ultem)1040A-1000”(355℃、300(1/秒钟)下的熔融粘度为250Pa·s)83质量份和ビクトレツクス公司制的聚醚醚酮(PEEK)“VICTREXPEEK90G”(355℃、300(1/秒钟)下的熔融粘度为410Pa·s)17质量份、以及作为相容剂的信越化学公司制的γ-异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷“KBE9007”1.0质量份供给到被加热到320~380℃(在螺杆区、挤出头部设定温度梯度)、具有2轴3段型螺杆(PEI和PEEK的混炼塑化区/杜尔麦基式混炼区/以反向螺丝杜尔麦基式进行的微分散相容化区)的排气式双螺杆挤出机(L/D=40、排气孔的减压度为200Pa)中,以滞留时间3分钟熔融挤出,得到含有17质量%PEEK树脂的PEI/PEEK/相容剂的掺混颗粒。进而使用被加热到320~380℃的双螺杆挤出机将得到的PEI/PEEK/相容剂的掺混颗粒100质量份和离子交换水3质量份的混合物熔融挤出。将得到的颗粒作为掺混颗粒A(315℃、300(1/秒钟)下的熔融粘度为1900Pa·s)。
接着,将掺混颗粒A10质量份和参考例2中得到的PET颗粒(Y)90质量份供给到加热到200~350℃的双螺杆挤出机中熔融挤出。
这里,熔融挤出时使用含有15个料筒区的排气式双螺杆挤出机(L/D=40)。为了抑制PET的热劣化,将掺混颗粒A投入到第1料筒中,在第2~5料筒中310~350℃下充分熔融后,在第6料筒中投入PET颗粒(Y),在第7~15料筒中200~300℃下将掺混颗粒A和PET颗粒(Y)混合。从而得到PET/PEI/PEEK的掺混颗粒。将得到的掺混颗粒作为掺混颗粒B(315℃、300(1/秒钟)下的熔融粘度为300Pa·s)。
接着,将参考例3中得到的PET/PEI掺混颗粒(Z)0.2质量份和PET/PEI/PEEK掺混颗粒B 58.8质量份、以及参考例1中得到的PET颗粒(X)的41质量份混合,在180℃下减压干燥3小时,然后投入到挤出机中,在300℃下熔融挤出,从纤维烧结不锈钢金属过滤器(14μm孔径)通过后,从T型模以片状排出,通过静电外加法使该片附着在表面温度25℃的冷却鼓上固化、冷却,从而得到未拉伸膜。
将该未拉伸膜用夹子把持两端部,导入到线性电机方式的同时双轴拉伸扩幅机中制膜。将膜温度加热到95℃,以面积拉伸倍率12.25倍(纵向倍率:3.5倍、横向倍率:3.5倍)进行同时双轴拉伸。接着,使膜温度为160℃,以面积拉伸倍率2.16倍(纵向倍率:1.2倍、横向倍率:1.8倍)进行再次拉伸,在热定型温度210℃下热定型处理2秒钟,然后在热定型温度下进行长度方向2%和宽度方向2%的松弛热处理I,然后,在150℃和100℃下进行2阶段合起来为长度方向4%、宽度方向2%的松弛热处理II,从而得到厚度5μm的双轴拉伸聚酯膜。该双轴取向聚酯膜的组成和特性等如表1~3所示,具有作为磁记录介质用基膜的优异特性。
(实施例14)
将SABICイノベ一ティブプラスチツク公司制的PEI“ウルテム(Ultem)1040A-1000”(355℃、300(1/秒钟)下的熔融粘度为250Pa·s)83质量份、住友ダウ公司制的聚碳酸酯(PC)树脂“カリバ一301-4”17质量份和作为相容剂的信越化学公司制的γ-异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷“KBE9007”1.0质量份供给到被加热到320~380℃(在螺杆区、挤出头部设定温度梯度)、具有2轴3段型螺杆(PEI和PEEK的混炼塑化区/杜尔麦基(Dulmage)式混炼区/以反向螺丝杜尔麦基式进行的微分散相容化区)的排气式双螺杆挤出机(L/D=40、排气孔的减压度为200Pa)中,以滞留时间3分钟熔融挤出,从而得到含有17质量%PC树脂的PEI/PC/相容剂的掺混颗粒。进而使用加热到320~380℃的双螺杆挤出机将得到的PEI/PC/相容剂的掺混颗粒100质量份和离子交换水3质量份的混合物熔融挤出。将得到的颗粒作为掺混颗粒C。
接着,将掺混颗粒C10质量份和参考例2得到的PET颗粒(Y)90质量份供给到加热到200~350℃的双螺杆挤出机中熔融挤出。
这里,熔融挤出时使用含有15个料筒区的排气式双螺杆挤出机(L/D=40)。为了抑制PET的热劣化将掺混颗粒A投入到第1料筒中,在第2~5料筒中310~350℃下充分熔融后,在第6料筒中投入PET颗粒(Y),在第7~15料筒中200~300℃下将掺混颗粒C和PET颗粒(Y)混合在一起,从而得到PET/PEI/PC的掺混颗粒D。
接着,将参考例3中得到的PET/PEI掺混颗粒(Z)0.2质量份、PET/PEI/PC的掺混颗粒D 58.8质量份、以及参考例1得到的PET颗粒(X)41质量份混合在一起,在180℃下减压干燥3小时,然后投入到挤出机中,在300℃下熔融挤出,从纤维烧结不锈钢金属过滤器(14μm孔径)通过后,从T型模以片状排出,通过静电外加法使该片附着在表面温度25℃的冷却鼓上固化、冷却,从而得到未拉伸膜。
用夹子把持该未拉伸膜的两端部,将其导入到线性电机方式的同时双轴拉伸扩幅机中制膜。将膜温度加热到95℃,以面积拉伸倍率12.25倍(纵向倍率:3.5倍、横向倍率:3.5倍)进行同时双轴拉伸。接着,使膜温度为160℃,以面积拉伸倍率2.16倍(纵向倍率:1.2倍、横向倍率:1.8倍)进行再次拉伸,在热定型温度210℃下热定型处理2秒钟,然后在热定型温度下进行长度方向2%和宽度方向2%的松弛热处理I,然后,在150℃和100℃下进行2阶段下合起来为长度方向4%、宽度方向2%的松弛热处理II,得到厚度5μm的双轴拉伸聚酯膜。该双轴取向聚酯膜的组成和特性等如表1~3所示,具有作为磁记录介质用基膜的优异特性。
(实施例15)
将SABICイノベ一ティブプラスチツク公司制的PEI“Ultem1010-1000”(Tg=215℃)的颗粒60质量份和SABICイノベ一ティブプラスチツク公司制的PEI“UltemCRS5011-1000”(Tg=225℃)的颗粒40质量份分别分开地在150℃、3mmHg的减压下干燥6小时。
将日本制钢所制的设置4处螺杆直径44mm、螺杆长度/螺杆直径=45.5的捏合叶片混炼部的同方向转动型排气式双螺杆混炼挤出机从螺杆区到挤出头部,在320℃~350℃之间设定温度梯度。向该挤出机供给减压干燥后的颗粒,以螺杆转速600转/分钟熔融挤出,以条状排出,在温度70℃的水中冷却,然后马上剪切,制成PEI(Ul1010)-PEI(CRS5011)(混合比率60/40)掺混颗粒(D)。
接着将PET颗粒(X)50质量份和掺混颗粒(D)50质量份分别在180℃、3mmHg的减压下干燥3小时。将上述挤出机从螺杆区到挤出头部、在320℃~270℃之间设定温度梯度。将干燥后的PET颗粒(X)50质量份和掺混颗粒(D)50质量份同时加入到料筒1中,以螺杆转速600转/分钟熔融挤出,以条状排出,在温度10℃的冰水中冷却,然后马上剪切,制成PET-PEI(Ul1010)-PEI(CRS5011)掺混颗粒(E)。
接着,将PET颗粒(X)93.75质量份和掺混颗粒(E)12.5质量份混合,在180℃下3mmHg的减压下干燥3小时,然后投入到挤出机中,在280℃下熔融挤出,从纤维烧结不锈钢金属过滤器(14μm孔径)通过,然后从T型模以片状排出,通过静电外加法将该片附着在表面温度25℃的冷却鼓上固化、冷却,从而得到未拉伸膜。未拉伸膜的Tg为85℃。
将得到的未拉伸膜通过逐次双轴拉伸法先沿着长度方向拉伸,然后沿着宽度方向拉伸。
先将未拉伸膜导入到加热了的含有多个辊组的纵向拉伸装置中,在温度90℃下沿着长度方向拉伸3.3倍。接着,用夹子把持膜端部导入到扩幅机中,在95℃下沿着宽度方向以3.5倍的倍率拉伸,然后再次在180℃下沿着宽度方向拉伸1.6倍。
接着将该膜在固定长度下、210℃下进行5秒钟热处理,接着,进行中间冷却,然后将膜一边沿着纵向和横向进行松弛处理,一边将膜冷至室温并卷取,从而得到厚度4.5μm的双轴取向聚酯膜。
该双轴取向聚酯膜的组成和特性等如表所示,具有作为磁记录介质用基膜的优异特性。
(实施例16)
以与实施例15同样的方式,将得到的未拉伸膜沿着长度和宽度方向进行同时双轴拉伸。
使用具有线性电机式夹子的同时双轴扩幅机将未拉伸膜在温度95℃下同时沿着长度方向和宽度方向拉伸至3.5倍×3.5倍,然后冷至70℃。接着,在温度180℃下同时沿着长度方向和宽度方向再次拉伸至1.2×1.8倍。然后,在热定型温度210℃下热定型处理2秒钟,然后在热定型温度下进行长度方向2%和宽度方向2%的松弛热处理I,然后,在150℃和100℃进行2阶段合起来为长度方向4%、宽度方向2%的松弛热处理II,得到厚度4.5μm的双轴拉伸聚酯膜。该双轴取向聚酯膜的组成和特性等如表1~3所示,具有作为磁记录介质用基膜的优异特性。
(比较例8)
以与比较例1同样的方式将得到的未拉伸膜沿着长度和宽度方向进行同时双轴拉伸。
使用具有线性电机式夹子的同时双轴扩幅机,温度95℃下将未拉伸膜沿着长度方向和宽度方向同时拉伸3.5倍×3.5倍,然后冷至70℃。接着,在温度180℃下同时沿着长度方向和宽度方向再次拉伸1.2×1.8倍,结果频频出现拉伸破裂,无法获取样品。
[表1]
[表2]
[表3]
附图标记说明
1:激光发射器
2:受光部
3:载重检测器
4:负载
5:自由辊
6:自由辊
7:自由辊
8:自由辊
9:磁性带体
10:激光

Claims (13)

1.一种双轴取向聚酯膜,具有海岛结构,岛部分的平均分散直径为30~200nm,膜的长度方向和宽度方向的至少一方向的湿度膨胀系数为0~6ppm/%RH,含有至少2种聚醚酰亚胺,
至少一面的膜表面粗糙度Ra为0.5~20nm,
宽度方向的杨氏模量为6~12GPa,且长度方向的杨氏模量和宽度方向的杨氏模量之和为11~20GPa。
2.如权利要求1所述的双轴取向聚酯膜,膜内部的雾度值为0~50%。
3.如权利要求1或2所述的双轴取向聚酯膜,长度方向和宽度方向的折射率的平均值为1.600~1.850。
4.如权利要求1所述的双轴取向聚酯膜,至少一面的膜表面10点平均粗糙度Rz为50~300nm。
5.如权利要求1所述的双轴取向聚酯膜,长度方向和宽度方向的至少一方向的温度膨胀系数为-5.0~8.0ppm/℃。
6.如权利要求1所述的双轴取向聚酯膜,具有直径为30~200nm的岛部分,该岛部分的长径与短径的比值、即长径/短径的平均为1~20。
7.如权利要求6所述的双轴取向聚酯膜,直径为30~200nm的岛部分由非晶性树脂形成。
8.如权利要求7所述的双轴取向聚酯膜,形成直径为30~200nm的岛部分的非晶性树脂的玻璃化转变温度大于210℃且为400℃以下。
9.如权利要求7或8所述的双轴取向聚酯膜,形成直径为30~200nm的岛部分的非晶性树脂含有选自聚醚酰亚胺、聚酰亚胺和聚酰胺酰亚胺中的至少1种树脂。
10.如权利要求1所述的双轴取向聚酯膜,具有直径为1nm以上且小于30nm的岛部分。
11.如权利要求10所述的双轴取向聚酯膜,直径为1nm以上且小于30nm的岛部分含有聚醚酰亚胺。
12.如权利要求1所述的双轴取向聚酯膜,含有结晶性的聚酯,该聚酯是选自聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯和它们的改性物中的至少1种聚酯。
13.一种磁记录介质,使用了权利要求1~12的任一项所述的双轴取向聚酯膜。
CN201080031380.5A 2009-05-15 2010-05-11 双轴取向聚酯膜和磁记录介质 Expired - Fee Related CN102459429B (zh)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009118421 2009-05-15
JP118421/2009 2009-05-15
JP2009181271 2009-08-04
JP181271/2009 2009-08-04
PCT/JP2010/057940 WO2010131643A1 (ja) 2009-05-15 2010-05-11 二軸配向ポリエステルフィルムおよび磁気記録媒体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102459429A CN102459429A (zh) 2012-05-16
CN102459429B true CN102459429B (zh) 2014-12-03

Family

ID=43085015

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201080031380.5A Expired - Fee Related CN102459429B (zh) 2009-05-15 2010-05-11 双轴取向聚酯膜和磁记录介质

Country Status (6)

Country Link
US (1) US8609264B2 (zh)
EP (1) EP2431406A4 (zh)
JP (1) JP5712614B2 (zh)
KR (1) KR20120096952A (zh)
CN (1) CN102459429B (zh)
WO (1) WO2010131643A1 (zh)

Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
MY162751A (en) * 2009-10-28 2017-07-14 Toray Industries Biaxially oriented polyester film
CN103476863B (zh) * 2011-03-28 2015-08-26 富士胶片株式会社 聚酯膜及使用其的太阳能电池用背板以及聚酯膜的制造方法
WO2013080827A1 (ja) * 2011-12-02 2013-06-06 東レ株式会社 ポリエステルフィルム、太陽電池バックシート、太陽電池
FR3017072B1 (fr) * 2014-01-31 2016-02-19 Toray Films Europ Film de polyester transparent multicouche, son procede de fabrication et son utilisation notamment dans les faces arrieres de panneaux photovoltaiques
US10095140B2 (en) * 2015-11-10 2018-10-09 Xerox Corporation Styrene/acrylate and polyester resin particles
KR102466758B1 (ko) * 2016-02-18 2022-11-14 효성화학 주식회사 광학용 폴리에스테르 기재필름
WO2018186355A1 (ja) * 2017-04-03 2018-10-11 デンカ株式会社 多層フィルム及び耐熱粘着テープ
JP6691512B2 (ja) 2017-06-23 2020-04-28 富士フイルム株式会社 磁気記録媒体
JP6884874B2 (ja) 2017-09-29 2021-06-09 富士フイルム株式会社 磁気テープおよび磁気記録再生装置
JP6884220B2 (ja) * 2017-09-29 2021-06-09 富士フイルム株式会社 磁気テープおよび磁気記録再生装置
CN111868147B (zh) * 2018-03-02 2022-11-29 三菱化学株式会社 双轴拉伸薄膜
US11361793B2 (en) 2018-03-23 2022-06-14 Fujifilm Corporation Magnetic tape having characterized magnetic layer and magnetic recording and reproducing device
US11361792B2 (en) 2018-03-23 2022-06-14 Fujifilm Corporation Magnetic tape having characterized magnetic layer and magnetic recording and reproducing device
US11514944B2 (en) 2018-03-23 2022-11-29 Fujifilm Corporation Magnetic tape and magnetic tape device
US11514943B2 (en) 2018-03-23 2022-11-29 Fujifilm Corporation Magnetic tape and magnetic tape device
JP6830931B2 (ja) 2018-07-27 2021-02-17 富士フイルム株式会社 磁気テープ、磁気テープカートリッジおよび磁気テープ装置
JP6830930B2 (ja) 2018-07-27 2021-02-17 富士フイルム株式会社 磁気テープ、磁気テープカートリッジおよび磁気テープ装置
JP6784738B2 (ja) 2018-10-22 2020-11-11 富士フイルム株式会社 磁気テープ、磁気テープカートリッジおよび磁気テープ装置
JP6830945B2 (ja) 2018-12-28 2021-02-17 富士フイルム株式会社 磁気テープ、磁気テープカートリッジおよび磁気テープ装置
JP7042737B2 (ja) 2018-12-28 2022-03-28 富士フイルム株式会社 磁気テープ、磁気テープカートリッジおよび磁気テープ装置
JP7003073B2 (ja) 2019-01-31 2022-01-20 富士フイルム株式会社 磁気テープ、磁気テープカートリッジおよび磁気テープ装置
EP3738994A1 (en) * 2019-05-14 2020-11-18 SABIC Global Technologies B.V. Flexible substrate, method for the manufacture thereof, and flexible electronic assemblies comprising the flexible susbtrate
TW202106772A (zh) * 2019-05-28 2021-02-16 日商富士軟片股份有限公司 二軸配向聚酯膜
TWI704042B (zh) * 2019-08-20 2020-09-11 南亞塑膠工業股份有限公司 聚酯薄膜及其製造方法
US11244704B2 (en) 2019-09-17 2022-02-08 International Business Machines Corporation Magnetic recording tape having resilient substrate
US11315596B2 (en) 2019-09-17 2022-04-26 International Business Machines Corporation Magnetic recording tape fabrication method having peek substrate
JP6778804B1 (ja) 2019-09-17 2020-11-04 富士フイルム株式会社 磁気記録媒体および磁気記録再生装置
JP2022550445A (ja) * 2019-10-02 2022-12-01 エセックス フルカワ マグネット ワイヤ ユーエスエイ エルエルシー ポリマー絶縁フィルム
WO2023100877A1 (ja) * 2021-12-02 2023-06-08 富士フイルム株式会社 磁気テープカートリッジおよび磁気記録再生装置
WO2023100876A1 (ja) * 2021-12-02 2023-06-08 富士フイルム株式会社 磁気テープカートリッジおよび磁気記録再生装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1914275A (zh) * 2004-01-29 2007-02-14 帝人杜邦薄膜日本有限公司 双轴取向膜
EP1983512A1 (en) * 2006-02-09 2008-10-22 Teijin Dupont Films Japan Limited Biaxially oriented polyester film and magnetic recording tape

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
MY121414A (en) * 1998-09-11 2006-01-28 Toray Industries Biaxially oriented polyester film and production method thereof
JP3409771B2 (ja) * 1999-04-15 2003-05-26 東レ株式会社 ポリエステルフィルムとその製造方法
EP1273428A4 (en) * 2000-03-07 2006-05-17 Toray Industries POLYESTER FILM AND PROCESS FOR PRODUCING THE POLYESTER FILM FILM AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
JP3893884B2 (ja) 2000-03-09 2007-03-14 東レ株式会社 2軸配向ポリエステルフィルム
JP2002170217A (ja) * 2000-11-29 2002-06-14 Fuji Photo Film Co Ltd 磁気ディスク
JP3991668B2 (ja) 2000-12-19 2007-10-17 東レ株式会社 ポリエーテルイミド含有熱可塑性樹脂組成物
JP2003246870A (ja) 2001-12-17 2003-09-05 Toray Ind Inc 二軸配向ポリエステルフィルム
JP4521804B2 (ja) 2002-09-04 2010-08-11 東レ株式会社 二軸配向ポリエステルフィルム
JP2004107471A (ja) 2002-09-18 2004-04-08 Toray Ind Inc 二軸配向ポリエステルフィルム
JP4565800B2 (ja) 2002-10-01 2010-10-20 東レ株式会社 二軸配向フィルム
JP2005163020A (ja) * 2003-11-13 2005-06-23 Toray Ind Inc 2軸配向ポリエステルフィルム
JP2005146162A (ja) * 2003-11-18 2005-06-09 Toray Ind Inc 2軸配向ポリエステルフィルム
JP2005169972A (ja) * 2003-12-15 2005-06-30 Toray Ind Inc 二軸配向積層フィルムおよび二軸配向積層フィルムの製造方法
WO2005073318A1 (ja) * 2004-01-29 2005-08-11 Teijin Dupont Films Japan Limited 二軸配向フィルム
US6979501B2 (en) * 2004-04-13 2005-12-27 Imation Corp. Magnetic recording medium having a smooth biaxially tensilized film substrate
JP2005346865A (ja) * 2004-06-04 2005-12-15 Toray Ind Inc 磁気記録媒体
JP4270318B2 (ja) * 2005-09-22 2009-05-27 東レ株式会社 磁気記録媒体用支持体および磁気記録媒体
US20070230054A1 (en) * 2006-03-29 2007-10-04 Fujifilm Corporation Magnetic tape
US20080118730A1 (en) * 2006-11-22 2008-05-22 Ta-Hua Yu Biaxially oriented film, laminates made therefrom, and method
JP2009209351A (ja) * 2008-02-05 2009-09-17 Toray Ind Inc 二軸配向フィルム
JP5098719B2 (ja) * 2008-03-14 2012-12-12 東レ株式会社 二軸配向ポリエステルフィルムおよび磁気記録媒体
JP2010043214A (ja) * 2008-08-18 2010-02-25 Toray Ind Inc 二軸配向ポリエステルフィルム
JP2010065144A (ja) * 2008-09-11 2010-03-25 Toray Ind Inc 二軸配向ポリエステルフィルム

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1914275A (zh) * 2004-01-29 2007-02-14 帝人杜邦薄膜日本有限公司 双轴取向膜
EP1983512A1 (en) * 2006-02-09 2008-10-22 Teijin Dupont Films Japan Limited Biaxially oriented polyester film and magnetic recording tape

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JP特开2004-107471A 2004.04.08 *
JP特开2005-163020A 2005.06.23 *
JP特开2005-346865A 2005.12.15 *

Also Published As

Publication number Publication date
JP5712614B2 (ja) 2015-05-07
JPWO2010131643A1 (ja) 2012-11-01
WO2010131643A1 (ja) 2010-11-18
KR20120096952A (ko) 2012-08-31
US8609264B2 (en) 2013-12-17
US20120114977A1 (en) 2012-05-10
CN102459429A (zh) 2012-05-16
EP2431406A4 (en) 2012-10-10
EP2431406A1 (en) 2012-03-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102459429B (zh) 双轴取向聚酯膜和磁记录介质
CN103118853B (zh) 双轴取向聚酯膜和线性磁记录介质
JP4893190B2 (ja) 二軸配向ポリエステルフィルム
JP5136271B2 (ja) 二軸配向ポリエステルフィルムおよび磁気記録媒体
JP2021055077A (ja) 二軸配向ポリエステルフィルム
JP6819082B2 (ja) 二軸配向ポリエステルフィルムおよび磁気記録媒体
JP6701666B2 (ja) 二軸配向ポリエステルフィルムおよび磁気記録媒体
US10589497B2 (en) Biaxially oriented polyester film
JP2009221277A (ja) 二軸配向ポリエステルフィルムおよび磁気記録媒体
JP2011183714A (ja) 二軸配向ポリエステルフィルム
JP7205748B2 (ja) 樹脂フィルム
JP5098719B2 (ja) 二軸配向ポリエステルフィルムおよび磁気記録媒体
JP6866703B2 (ja) 二軸配向ポリエステルフィルムおよび磁気記録媒体
JP2011068807A (ja) 二軸配向ポリエステルフィルム
JP2011184605A (ja) 二軸配向フィルム
JPH10217410A (ja) 二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルム
JP7205749B2 (ja) 樹脂フィルム
JPH11269283A (ja) 二軸配向ポリエステルフィルム
JP2010043214A (ja) 二軸配向ポリエステルフィルム
JP5521627B2 (ja) 二軸配向ポリエステルフィルムおよび磁気記録媒体
JP2012102251A (ja) 二軸配向ポリエステルフィルムおよび磁気記録媒体
JP2024047655A (ja) 二軸配向ポリエステルフィルムおよびそれを用いたフィルムロール
JP2004285145A (ja) 二軸配向ポリエステルフィルム
JP2005163020A (ja) 2軸配向ポリエステルフィルム
JP2012101457A (ja) 二軸配向ポリエステルフィルム

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20141203

Termination date: 20210511