KR102466758B1 - 광학용 폴리에스테르 기재필름 - Google Patents

광학용 폴리에스테르 기재필름 Download PDF

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Abstract

본 발명은 복굴절율이 0.015이하, Nz계수가 7이상, 기재필름의 기재 전폭 범위에서 폭방향에 대한 폴리에스테르 분자의 배향각 평균값이 0±3° 인 것을 특징으로 하는 광학용 폴리에스테르 기재필름을 제공한다.
상기의 특성을 가진 폴리에스테르 기재필름을 제조하여 광학용 필름의 컬러간섭을 감소키는 한편 높은 기계적 물성과 치수 안정성을 가진 광학용 폴리에스테르 필름을 제공한다.

Description

광학용 폴리에스테르 기재필름{Polyester base film for optical use}
동시 이축 연신 설비를 활용하여 광학 이방성을 최소화한 폴리에스테르 기재 필름을 제조하여 광학용 필름의 컬러간섭을 감소키는 한편 높은 기계적 물성과 치수 안정성을 가진 광학용 폴리에스테르 기재필름을 제공한다.
폴리에스테르 필름은 기계적 물성, 치수 안정성이 우수하여 디스플레이용 기재필름으로 널리 사용되고 있다. 그런데 일반적으로 디스플레이용 기재필름으로 사용되는 축차 연신 폴리에스테르 필름은 그 제조 과정에서 두 방향으로의 연신이 동시에 이루어지지 않기 때문에 복굴절성을 갖고, 등방성을 갖기가 어렵다. 즉, 축차 연신 폴리에스테르 필름의 경우, 복굴절성과 광학 이방성으로 인해 컬러 간섭현상이 발생하고 화질이 저하되는 단점을 가지고 있다.
일본 공개특허 제2002-116320호
상기와 같은 문제점을 해결하기 위해서, 본 발명에서는 동시 연신제조방법을 이용, 광학 이방성을 최소화한 폴리에스테르 필름을 제조하여, 컬러 간섭을 최소화한 광학용 폴리에스테르 필름을 제공한다. 또한 상기 광학용 폴리에스테르 필름은 기재필름의 전광성 투과율이 90%이상, 헤이즈가 1.5%이하, 필름의 표면조도가 0.5μm이하의 특성을 갖는다.
본 발명은,
복굴절율이 0.015이하;
Nz계수가 7이상;
필름의 기재 전폭 범위에서 폭방향에 대한 폴리에스테르 분자의 배향각 평균값이 0±3° 인 것을 특징으로 하는 광학용 폴리에스테르 기재필름을 제공한다.
또한 본 발명은 전광선 투과율이 90%이상, 헤이즈가 1.5%이하, 필름의 표면조도 Rz가 0.5μm 이하인 것을 특징으로 하는 광학용 폴리에스테르 기재필름을 제공한다.
또한 본 발명은 상기의 특성을 가진 광학용 폴리에스테르 기재필름이 동시 이축 연신 공정으로 제조되는 것을 특징으로 하는 광학용 폴리에스테르 기재필름을 제공한다.
또한 본 발명은 상기의 특성을 가진 광학용 폴리에스테르 기재필름 및 상기 광학용 폴리에스테르 기재필름의 편면 또는 양면에 이접착층을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학용 폴리에스테르 필름을 제공한다.
본 발명에서는 동시 연신제조방법을 이용, 광학 이방성을 최소화한 폴리에스테르 기재필름을 제조하여, 컬러 간섭을 최소화한 광학용 폴리에스테르 기재필름을 제공한다. 또한 상기 광학용 폴리에스테르 기재필름은 전광성 투과율이 90%이상, 헤이즈가 1.5%이하, 필름의 표면조도가 0.5μm이하로 광학용 기재필름으로 우수한 성능을 가진다.
이하, 본 발명의 실시예와 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위해 예시적으로 제시한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되지 않는다는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가지는 자에 있어서는 자명할 것이다.
본 발명의 기재 필름인 폴리에스테르 필름은 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트 또는 이들 수지의 구성성분을 주성분으로 하는 공중합체 등의 폴리에스테르계 수지가 사용되는 것이 바람직하다.
본 발명에서 기재 필름인 폴리에스테르 필름은 100㎛이하, 바람직하게는 두께 50㎛이하인 필름이다.
굴절율 nx는 필름층의 면내의 굴절율이 최대가 되는 방향의 굴절율이다. 굴절율 ny는 층의 면 내에서 상기 nx 방향과 직교하는 방향의 굴절율이다. 굴절율 nz는 상기 nx, ny의 각 방향에 대하여 직교하는 층의 두께 방향의 굴절율이다.
복굴절율은 종방향의 굴절율(nx)에서 횡방향의 굴절율(ny)를 뺀 값이며, 굴절계를 이용하여 종방향 및 횡방향의 굴절율을 측정한 후 계산된다. 본 발명에서 복굴절율은 0.015 이하의 값을 갖는 것이 바람직하다. 그 이상인 경우, 광학적 이방성으로 인해 컬러간섭이 나타나기 때문이다.
필름층의 면내 방향의 위상차값 Ro [λ] 값은 23 ℃ 에서의 파장 λ (㎚) 에서의 식 : Ro [λ] = (nx-ny)×d 에 의해 산출되는 면 내 위상차값이다. d 는 필름층의 두께 (㎚) 이다.
필름층의 두께 방향의 위상차값 Rth [λ] 값은 23 ℃ 에서의 파장 λ (㎚) 에서의 식 : Rth [λ] = ((nx+ny)/2-nz)×d 에 의해 산출되는 위상차값이다. d 는 층의 두께 (㎚) 이다.
Nz 계수는, Nz 계수 = Rth [λ]/Ro [λ] 에 의해 산출되는 값이다. 본 발명에서 Nz계수는 7이상인 것이 바람직하다. Nz 값이 7 미만인 경우, 본 발명의 컬러간섭 개선 효과를 달성할 수 없다.
본발명의 광학용 폴리에스테르 기래필름은 폴리에스테르 기재필름의 전광선 투과율이 90%이상, 헤이즈가 1.5%이하, 필름의 표면조도 Rz가 0.5μm 이하인 것이 바람직하다. 전광선 투과율이 90%미만, 헤이즈가 1.5%초과이거나 필름의 표면조도 Rz가 0.5μm 초과인 경우에는 시인성이 저하되어 바람직하지 않다.
본 발명의 광학용 폴리에스테르 기래필름은 동시 이축 연신설비를 활용하여 제조되는 것이 바람직하다. 동시 이축 연신공정은 튜블러 공법 또는 동시연신 설비(LISIM)를 이용한 동시이축연신방법이 이용될 수 있다.
본 발명의 폴리에스테르 기재 필름의 편면 또는 양면에는 동종 또는 이종의 수지를 포함하는 이접착층을 포함할 수 있다.
이접착층 형성을 위한 도포액에 포함되는 수지는 특별히 제한되지 않으며, 공중합 폴리에스테르계 수지, 폴리우레탄계 수지, 아크릴계 수지 등이 이용될 수 있으며, 상기 수지들이 혼합되어 사용될 수도 있다.
본 발명의 이접착층에 사용하는 공중합 폴리에스테르계 수지란, 디카르복실산 성분과 분지된 글리콜 성분을 구성성분으로 하는 것이 바람직하다. 분지된 글리콜 성분으로서는 예컨대 2,2-디메틸-1,3-프로판디올, 2-메틸-2-에틸-1,3-프로판디올, 2-메틸-2-부틸-1,3-프로판디올, 2-메틸-2-프로필-1,3-프로판디올, 2-메틸-2-이소프로필-1,3-프로판디올, 2-메틸-2-n-헥실-1,3-프로판디올, 2,2-디에틸-1,3-프로판디올, 2-에틸-2-n-부틸-1,3-프로판디올, 2-에틸-2-n-헥실-1,3-프로판디올, 2,2-디-n-부틸-1,3-프로판디올, 2-n-부틸-2-프로필-1,3-프로판디올 및 2,2-디-n-헥실-1,3-프로판디올 등을 들 수 있다.
본 발명의 광학용 폴리에스테르 필름의 이접착층에 사용하는 폴리우레탄 수지로서는 용제형, 무용제형 또는 수성의 각종 코팅제로서 사용되고 있는 각종의 것을 사용할 수 있다. 본 발명에서는 예컨대 블록형 이소시아네이트기를 함유하는 수지로서, 말단 이소시아네이트기를 친수성기로 봉쇄(이하 '블록'이라고 함)한 열반응형의 수용성 우레탄 등을 들 수 있다.
상기 도포액의 조성물에는 상기의 수지 이외에 접착성을 소실하지 않는 범위에서 대전방지제, 자외선 흡수 방지제, 항균제, 가소제, 안료, 유기, 무기 충전제 및 윤활제 등의 여러 가지의 첨가제를 함유시켜도 좋다.
상기 도포액을 도포하는 공정은 통상의 도포공정, 즉 열고정한 기재 필름에 도포하는 오프라인(off line)공정으로도 좋지만, 상술한 기재 필름의 제조공정 중에 도포하는 인 라인 코트법이 바람직하다.
미연신 폴리에스테르 기재필름에 상기 도포액을 도포한 후 연신하여도 좋고, 폴리에스테르 기재필름을 연신한 후에 상기 도포액을 도포할 수도 있다.
상기 이접착층은 0.01 내지 2μm의 두께가 바람직하다. 이접착층의 두께가 0.01 내지 2μm의 범위를 벗어나는 경우, 이접착층으로서의 기능을 충분히 발휘하기 어렵다.
실시예1
원료폴리머로서 입자를 함유하고 있지 않는 폴리에텔렌테레프탈레이트 칩(CHIP)을 드라이어(DRYER)내에서 고온, 감압(0.5Torr) 건조하여 칩(CHIP)내에 0.4%수준으로 함유된 수분을 제거한 후에 압출기를 통해 용융된 폴리머를 표면온도 25℃로 유지된 금속롤(캐스팅 드럼)에 급냉 고화시켜 50㎛ 두께의 무연신 시트를 얻었다. 이를 Bruckner 사의 LISIM라인이 적용된 동시연신 설비를 이용, 종(MD)`횡(TD) 방향으로 3.0배 연신하여 이축 배향 폴리에스테르 기재필름을 얻었다.
실시예 2
종·횡 방향으로 각각 3.5배 연신한 것 외에는 실시예1의 제조방법과 동일하게 하여 이축 배향 폴리에스테르 기재필름을 얻었다.
비교예1
실시예1에 기재된 방법으로 제조된 무연신 시트를 축차 연신방법을 이용, 종방향으로 3.0배, 횡방향으로 3.5배 연신하여 이축 배향 폴리에스테르 기재필름을 얻었다.
비교예2
실시예1에 기재된 방법으로 제조된 무연신 시트를 축차 연신방법을 이용, 종방향으로 3.0배, 횡방향으로 3.8배 연신하여 이축 배향 폴리에스테르 기재필름을 얻었다.
실험방법
상기 실시예 및 비교예에 대하여 복굴절율, Nz계수, 기재전폭방향 광학주축의 변동(배향각), 전광선 투과율(T.T) 및 헤이즈, 표면조도, 컬러 간섭 발생을 측정하였다.
(1) 복굴절율(△n=nx-ny)
종방향의 굴절율(nx)에서 횡방향의 굴절율(ny)를 뺀 값이며, Axometric社 Axoscan 장비를 이용하여 종방향 및 횡방향의 굴절율을 측정한 후 계산된다.
(2) 위상차값
면내 방향의 위상차값 Ro [λ]과, 두께 방향의 위상차값 Rth [λ]은 Axometrics社 AxoScan 장비로 측정되었다.
(3)Nz계수
Nz 계수 = Rth [λ]/Ro [λ] 에 의해 산출되는 값이다.
(4) 배향각
폭방향(TD 방향)을 0도 기준으로 할 때, 폴리에스테르분자의 주배향방향각도를 의미하여, Axometrics社 AxoScan 장비로 배향각을 측정하였다.
(5) 전광선 투과율 및 헤이즈
NIPPON DENSHOKU사에서 제조된 HAZE 측정기를 이용하여 헤이즈와 투과율을 측정하였다.
(6)컬러간섭
백색 LED를 광원으로 사용, 정면 및 경사방향에서 육안으로 관찰하여 컬러간섭 발생 유무를 관찰하였다.
O: 어느방향에서도 컬러간섭이 없는 경우
△: 엷게 컬러간섭이 발생하는 경우
X: 모든 방향에서 컬러 간섭이 발생하는 경우
(7)표면조도 Rz(μm)
일본 KOSAKA 사의 표면조도계를 사용하여 측정하였다.
구분 MD
연신비
TD
연신비
Ro
( nm )
Rth (nm) Nz △n 배향각 컬러 간섭 전광선투과율
(%)
Haze (%) 표면
조도 (㎛)
실시예1 3.0 3.0 420 6118 14.56 0.008 O 90.2 1.2 0.48
실시예2 3.5 3.5 637 6721 10.55 0.012 O 90.1 1.1 0.32
비교예1 3.0 3.5 1024 6553 6.4 0.020 90.1 1.1 0.42
비교예2 3.0 3.8 1118 6372 5.7 0.022 90.1 1.2 0.43
상기 실시예 및 비교예에 따르면 면내 위상차를 줄여 Nz를 크게 하였을 때 실험적으로 컬러간섭을 개선하는데 효과가 있었다.
실시예 3
바인더 수지로 70중량%의 물과 30중량%의 폴리우레탄 수지로 구성된 바인더 수지로 구성된 수분산액 20.0중량%와, 70중량%의 물과 멜라민 경화제 30중량%로 구성된 경화제 수분산액 5중량%와 물 63.9 중량%를 혼합하고, 90중량%의 물과 10 중량%의 음이온 계면활성제로 구성된 계면활성제 수분산액 1.0중량%와 실리카 입자는 30 중량%의 물과 실리카 입자 40중량%로 구성된 무기입자 수분산액 1중량% 및 잔량의 물을 이용하여 도포액을 제조한 후, 상기 실시예1의 미연신 폴리에스테르 기재필름 양면에 도포하였다. 이후 Bruckner 사의 LISIM라인이 적용된 동시연신 설비를 이용, 종(MD)·횡(TD) 방향으로 3.0배 연신하여 50㎛ 폴리에스테르 필름을 제조하였다. 상기 이접착층의 두께는 0.06μm로 측정되었다.

Claims (4)

  1. 복굴절율이 0.015이하;
    Nz계수가 7이상;
    기재필름의 기재 전폭 범위에서 폭방향에 대한 폴리에스테르 분자의 배향각 평균값이 0±3°이며,
    필름의 표면조도 Rz가 0.5μm 이하인 것을 특징으로 하는 광학용 폴리에스테르 기재필름.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서, 상기 광학용 폴리에스테르 기재필름은 동시 이축 연신 공정으로 제조되는 것을 특징으로 하는 광학용 폴리에스테르 기재필름.
  4. 제1항의 광학용 폴리에스테르 기재필름 및
    상기 광학용 폴리에스테르 기재필름의 편면 또는 양면에 이접착층을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학용 폴리에스테르 필름.
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