CN102236249A - 防尘薄膜组件收纳容器 - Google Patents

防尘薄膜组件收纳容器 Download PDF

Info

Publication number
CN102236249A
CN102236249A CN2011101041518A CN201110104151A CN102236249A CN 102236249 A CN102236249 A CN 102236249A CN 2011101041518 A CN2011101041518 A CN 2011101041518A CN 201110104151 A CN201110104151 A CN 201110104151A CN 102236249 A CN102236249 A CN 102236249A
Authority
CN
China
Prior art keywords
film component
dustproof film
accommodating container
component accommodating
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN2011101041518A
Other languages
English (en)
Other versions
CN102236249B (zh
Inventor
关原一敏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Publication of CN102236249A publication Critical patent/CN102236249A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102236249B publication Critical patent/CN102236249B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65D—CONTAINERS FOR STORAGE OR TRANSPORT OF ARTICLES OR MATERIALS, e.g. BAGS, BARRELS, BOTTLES, BOXES, CANS, CARTONS, CRATES, DRUMS, JARS, TANKS, HOPPERS, FORWARDING CONTAINERS; ACCESSORIES, CLOSURES, OR FITTINGS THEREFOR; PACKAGING ELEMENTS; PACKAGES
    • B65D43/00—Lids or covers for rigid or semi-rigid containers
    • B65D43/02—Removable lids or covers
    • B65D43/08—Removable lids or covers having a peripheral flange fitting over the rim of the container
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65D—CONTAINERS FOR STORAGE OR TRANSPORT OF ARTICLES OR MATERIALS, e.g. BAGS, BARRELS, BOTTLES, BOXES, CANS, CARTONS, CRATES, DRUMS, JARS, TANKS, HOPPERS, FORWARDING CONTAINERS; ACCESSORIES, CLOSURES, OR FITTINGS THEREFOR; PACKAGING ELEMENTS; PACKAGES
    • B65D85/00—Containers, packaging elements or packages, specially adapted for particular articles or materials
    • B65D85/30—Containers, packaging elements or packages, specially adapted for particular articles or materials for articles particularly sensitive to damage by shock or pressure
    • B65D85/38—Containers, packaging elements or packages, specially adapted for particular articles or materials for articles particularly sensitive to damage by shock or pressure for delicate optical, measuring, calculating or control apparatus
    • B65D85/40—Containers, packaging elements or packages, specially adapted for particular articles or materials for articles particularly sensitive to damage by shock or pressure for delicate optical, measuring, calculating or control apparatus for watches or clocks; for components thereof
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/67303—Vertical boat type carrier whereby the substrates are horizontally supported, e.g. comprising rod-shaped elements
    • H01L21/67309—Vertical boat type carrier whereby the substrates are horizontally supported, e.g. comprising rod-shaped elements characterized by the substrate support
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735—Closed carriers
    • H01L21/67379—Closed carriers characterised by coupling elements, kinematic members, handles or elements to be externally gripped
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/60—Specific applications or type of materials
    • G01N2223/611—Specific applications or type of materials patterned objects; electronic devices
    • G01N2223/6116—Specific applications or type of materials patterned objects; electronic devices semiconductor wafer

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Packaging Frangible Articles (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Packages (AREA)

Abstract

一种用于收纳大型防尘薄膜组件的防尘薄膜组件收纳容器，其在运送过程中极少产生灰尘，从而能保持所收纳的防尘薄膜组件清洁。一种大型的防尘薄膜组件收纳容器，用来收纳至少有一边的边长大于1000mm的防尘薄膜组件，其特征为：防尘薄膜组件收纳容器的本体为金属制，且于在其周缘载置、固定的盖体所接触的防尘薄膜组件收纳容器的表面，设有保护构件，防尘薄膜组件收纳容器本体与盖体之间介于该保护构件来载置和固定。该保护构件宜由至少2层所构成，与盖体相接触的层(上层)为树脂，而与防尘薄膜组件收纳容器本体相接触的层(下层)为硅粘合剂；更理想的是具有由弹性体所构成的中间层。

Description

防尘薄膜组件收纳容器
技术领域
本发明涉及在制造半导体装置、印刷电路板或液晶显示器等时，作为防尘部件使用的光刻技术用防尘薄膜组件。
背景技术
在大规模集成电路等的半导体装置或液晶显示器等的制造过程中，将光照射到半导体晶片或液晶用原板上而制造图案，但此时有一个问题，即若有灰尘等异物附着于所使用的光掩模或中间光掩模(以下简称为光掩模)上时，因为这些灰尘会遮蔽光或使光发生折射，所以会损害到转印的图案。
所以，这些作业通常是在无尘室里进行的。但即使如此，也难于保持光掩模的时常清洁。因此，通常采用在光掩模表面贴附防尘薄膜组件以作为防尘的方法。
这种情况下，因为异物不是直接附着于光掩模的表面，而是附着在防尘薄膜组件上，所以光刻时只要把焦点对准光掩模的图案上，防尘薄膜组件上的异物就不会影响转印。
这种防尘薄膜组件，通常是在防尘薄膜组件框架的上端面涂布防尘薄膜材料的易溶溶剂，并将上述防尘薄膜风干后进行粘贴，或用粘着剂进行粘贴。同时在防尘薄膜组件框架的下端面设有用以将防尘薄膜组件粘附于光掩模的粘接层，及以保护粘接层为目的而设置的分离层(分离部)。所述防尘薄膜是由对曝光用光具有高透过率的硝化纤维素、醋酸纤维素或氟树脂等制成的透明防尘薄膜。所述防尘薄膜组件框架是由铝、不锈钢、聚乙烯等所形成。所述粘接剂为丙烯酸树脂或环氧树脂等。所述粘着剂层由聚丁烯树脂、聚醋酸乙烯酯树脂、丙烯酸树脂等构成。
另外，在防尘薄膜组件贴附于光掩模的状态下，出于消除防尘薄膜组件内部所包围的空间与外部之间的气压差的目的，在防尘薄膜组件框架的一部分位置上开设有气压调节用的小孔，还可设置用来防止异物通过小孔移动的从空气中来的过滤器。
近年来，随着液晶显示器的大型化所导致的光掩模的大型化，防尘薄膜组件也日趋大型化，当然，随之而来的防尘薄膜组件收纳容器也趋于大型化。
以往，防尘薄膜组件收纳容器基于成本低、轻量、可一体成型以及形状的自由度高等理由，使用通过真空成型或粘接剂而制成的树脂产品。
但是，在大型化的情况下，因为除了收纳物的重量增加之外，外力所造成的变形量会增大，所以会使收纳容器内的收纳物或收纳容器本身发生移动或擦伤。
因此，为了防止在容器内产生灰尘，必须提高收纳容器的刚性，关于提高刚性的方法，通常所知的是在以往的树脂制的防尘薄膜组件收纳容器的外侧装设补强体等方法(参照专利文献1)。
但是，因为这种方法在装设补强体上花费工时较多，所以另外也有人提出将铝合金、镁合金或钢铁等冲压成型或铸造成型的金属制防尘薄膜组件收纳容器或补强体。
这种金属制的防尘薄膜组件收纳容器，虽然存在有重量增加的问题，但因其能够确保所需的刚性、以及当考虑到装设补强体时其成本与树脂制的相当，所以尤其针对防尘薄膜组件的边长大于1000mm的特大型的品种，已有采用的实例。
不过，采用金属制的防尘薄膜组件收纳容器本体时，也与树脂制的情况同样，存在运送中产生灰尘的问题。通过对产生灰尘的原因进行调查，发现灰尘主要是在防尘薄膜组件收纳容器本体与盖的接触部分产生的。
金属制的防尘薄膜组件收纳容器本体，出于为增加其洗净性能的表面的平滑化、防腐、以及为增加其异物的目视辨别性的黑色化等理由，通常是施以氧化膜、电镀、涂装等表面处理之后使用。
同时，与防尘薄膜组件收纳容器本体组装在一起的盖，是将铝合金或镁合金等的薄板冲压成型而制成的金属制品，或使用聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、丙烯腈-苯乙烯-丁二烯(ABS)等树脂真空成型的制品。树脂制制品由于其表面平滑可以直接使用，但对于金属制制品，这种盖体也需施以与防尘薄膜组件收纳容器本体同样的表面处理后使用。
运送中产生灰尘，无论盖体是树脂制还是金属制都同样会发生。尽管为了防止由防尘薄膜组件收纳容器的挠曲、变形所产生的磨擦而提高刚性，但在防尘薄膜组件收纳容器本体与盖体字之间必会产生少许擦伤，而且尽管对相互表面施以处理使其平滑，但仍无法完全防止灰尘产生。
此问题有可能通过提高防尘薄膜组件收纳容器的刚性加以解决。但是，为了提高刚性可能使得重量进一步增加，考虑到可以操作的重量，刚性不可能无限制地提高，故要完全防止挠曲及变形是不可能的。
从以上所述，使用金属制的防尘薄膜组件收纳容器本体的防尘薄膜组件收纳容器，未能得到产生灰尘少的防尘薄膜组件收纳容器。
专利文献1：日本特开2009-037269号公报
鉴于以上所述的问题，本发明的目的是提供一种能收纳至少有一边的边长大于1000mm的大型防尘薄膜组件的防尘薄膜组件收纳容器。其特征在于：在运送中产生的灰尘非常少，从而能保持所收纳的防尘薄膜组件清洁。
发明内容
1.一种防尘薄膜组件收纳容器，其为收纳至少有一条边的边长大于1000mm的防尘薄膜组件的大型防尘薄膜组件收纳容器，其特征在于：
防尘薄膜组件收纳容器本体为金属制，并且在其承载，固定的盖与容器本体接触的所述防尘薄膜组件收纳容器的周缘部设置有保护部件，并且，所述保护部件为平板状，位于所述防尘薄膜组件本体与所述盖之间。
2.如上述1所述的防尘薄膜组件收纳容器，其中，所述保护部件至少由2层构成，其与盖相接的层为树脂，与防尘薄膜组件收纳容器本体相接的层为硅酮粘着剂。
3.如上述1所述的防尘薄膜组件收纳容器，其中，所述保护部件至少由3层构成，其与盖相接的层为树脂，与防尘薄膜组件收纳容器本体相接的层为硅酮粘着剂，并且其中间层为弹性体。
4.如上述3所述的防尘薄膜组件收纳容器，其中，所述保护部件中的弹性体为硅酮树脂。
5.如上述2至4的任一项所述的防尘薄膜组件收纳容器，其中，所述保护部件的与盖相接的层为聚对苯二甲酸乙二醇酯层。
根据本发明，可以得到一种能收纳边长大于1000mm的大型防尘薄膜组件的防尘薄膜组件收纳容器，其特征在于：可避免收纳容器本体与盖相接触，在运送中产生的灰尘非常少，从而能保持所收纳的防尘薄膜组件清洁。
附图说明
图1是表示本发明的实施形态的平面图。
图2是表示本发明的实施形态的前视图。
图3是表示本发明的实施形态的右视图。
图4是表示本发明的实施形态的图1中的A-A线剖面图。
图5是表示在本发明中所用的保护构件的一实施形态的剖面略图。
图6是表示在本发明中所用的保护构件的另一实施形态的剖面略图。
图7是表示在本发明中所用的保护构件的另一实施形态的剖面略图。
图8是表示在本发明的保护构件配置的一实施形态即配置于整体的实施例的概略图。
图9是表示在本发明的保护构件配置的另一实施形态即在角接续部预留间隙的实施例的概略图。
图10是表示在本发明的保护构件配置的再一实施形态即断续配置的实施例的概略图。
具体实施方式
本发明为一种防尘薄膜组件收纳容器，其为收纳至少有一条边的边长大于1000mm的防尘薄膜组件的大型防尘薄膜组件收纳容器，其特征在于防尘薄膜组件收纳容器本体为金属制，并且在其承载，固定的盖与容器本体接触的所述防尘薄膜组件收纳容器的周缘部设置有保护部件，并且，所述保护部件为平板状，位于所述防尘薄膜组件本体与所述盖之间。金属制的防尘薄膜组件收纳容器本体与盖体不会直接接触，能大幅降低产生灰尘的量。
在此，优选前述保护构件至少由2层所构成，其中，与盖相接触的层为树脂，而与防尘薄膜组件收纳容器本体相接触的层，即安装在防尘薄膜组件收纳容器本体的层为硅酮粘着剂。通过使与盖体相接触的层为树脂，就能够降低因与盖磨擦所产生的灰尘的量。
同时，因在与防尘薄膜组件收纳容器本体相接触的层使用硅酮粘着剂，不仅粘接强度提高，且由于随时间变化或温度等环境变化所引起的粘接力的劣化非常少，故而安定，对于粘接强度的可靠性较高，十分合适。同时还具有因化学性分解而污染内部的防尘薄膜组件的危险性较小的优点。再者，在更换该保护构件时，可以剥离而不留残渣，且易于清洗及再次安装。
更优选的实施形态，是所述保护构件至少由3层所构成，其特征为：与盖体相接触的层为树脂，与防尘薄膜组件收纳容器本体相接触的层为硅酮粘着剂，且其中间层为弹性体。通过弹性体的缓冲效果，能进一步得到防止灰尘发生的效果。
这种弹性体，尤其使用硅酮树脂为宜。此处所说的硅酮树脂，是指硅酮橡胶或硅酮凝胶等的弹性体。即使在厚度较薄的情况下，缓冲性能也比较高，效果特别好。
而与盖相接的树脂，使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)为宜。不仅其表面硬度高不易产生灰尘，而且与各种材质的摩擦系数低，化学性能安定，尤为合适。
以下说明本发明的实施形态，但本发明不限于此。
图1、图2、图3表示本发明的实施形态中的防尘薄膜组件收纳容器10的外观。图1为其平面图、图2为其前视图、图3为其右视图。
以10表示防尘薄膜组件收纳容器的全体。防尘薄膜组件收纳容器本体11是将铝合金或镁合金等的轻合金铸造成型，或者将铝合金、镁合金、不锈钢或碳钢等的薄板冲压成型而制造。此时，该材质并非必须以单一的材质形成，基于补强等目的，也可组合使用2种以上的金属、合金。
该防尘薄膜组件收纳容器本体11与其载置、固定所用的盖12，是将金属薄板冲压成型而形成的，或者将树脂板真空成型或压空成型后而使用。优选的实施形态，是为了确保内部的目视辨识性，将透明或半透明的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯(PC)、丙烯腈-苯乙烯-丁二烯树脂(ABS)等树脂真空成型而使用，更优选的实施形态，是具有防静电性能。
在防尘薄膜组件收纳容器本体11与盖体12之间，设有平板状的保护构件17。另外，13为脚部，16为扣接防尘薄膜组件收纳容器本体与盖体的环扣。
图4表示图1中A-A线的剖面概略图。
保护构件17，在防尘薄膜组件收纳容器本体11的外缘部，安装于盖12被载置、固定并接触的面上。并且，18为收纳于内部的防尘薄膜组件。
图5至图7，表示本发明的保护构件17的剖面构造的图。
图5所示的一实施形态的保护构件17为2层构造，上层21(保护层)，即与盖体接触的层，以树脂构成为宜。
上层21所使用的树脂，例如可列举出聚乙烯(PE)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚氯乙烯(PVC)、聚四氟乙烯(PTFE)等可形成薄膜状的树脂，而其中，以聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)尤为理想。因为其具有如下优点：表面硬度高，摩擦系数小，故不易产生灰尘，化学性能安定。此外，还具有价格低廉、对于可用作粘接剂层22的各类粘接剂、粘着剂，都具有良好的粘接性。
下层(粘接剂层)22，即粘接防尘薄膜组件收纳容器本体的粘接剂层，以丙烯酸粘着剂、硅酮粘着剂等的粘着剂，或热熔粘接剂、环氧树脂粘接剂、橡胶系粘接剂等的粘接剂构成为宜。其中，以硅酮粘着剂最佳。
使用硅酮粘着剂具有以下优点：不仅粘接力强，而且随时间的变化及因温度或湿度等环境变化所引起的粘接力的变化较少，所以粘接力的可靠度高。
并且，由于化学性能安定，由分解等产生的化学物质排出到防尘薄膜组件收纳容器内部的可能性小。此外，保护构件17，当其表面产生了污垢、损伤时需要更换，但在将其取下时，因为粘着剂不易被拉断，所以防尘薄膜组件收纳容器本体11上不易残留残渣，非常容易清洗，此点也是其优点。其结果，使得保护构件17容易更换。
图6表示保护构件17的另一实施形态，以3层构造为例。在此形态下，上层(保护层)21，与上述2层构造的情况同样，以树脂特别是聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)为宜。下层(粘接剂)22也同样是由丙烯酸粘着剂、硅酮粘着剂等粘着剂，或是热熔粘接剂、环氧树脂粘接剂、橡胶类粘接剂等粘接剂构成为宜，尤其是优选硅酮粘着剂。而中间层(缓冲层)23，宜使用树脂发泡体、橡胶等弹性体。
图6所示的中间层23，是为了获得比上述2层构造更高的缓冲性，且降低灰尘的产生的效果而设置的。
作为发泡体，虽可使用聚丙烯酸类、聚氨基甲酸乙酯类等的各种材料，但此时，宜采用独立气泡的发泡体，因其可防止清洗时的清洗水浸润。
另外，作为橡胶类材料，虽可利用丁腈橡胶、乙烯丙烯橡胶、硅酮橡胶、氟橡胶等，但特别适合的是硅酮橡胶、硅酮凝胶等的硅酮树脂。因为是非发泡体，所以表面洁净性能好，除此之外，即使在厚度较薄的情况下，其缓冲性能也高、复原能力大且不易减弱、化学性能安定，以上均为其优点。
关于中间层23(缓冲层)，如果以铸造等方式能直接形成于上层(保护层)21上固然没问题，但根据材质，有时将分别形成的上层(保护层)21与中间层(缓冲层)23予以接合，再在该处形成下层(粘接层)。这种情况下，需要在上层21或中间层23上薄薄地涂布粘接剂或粘着剂而加以粘接。
如此粘接后的断面如图7所示，其构造为：在上层21与中间层23之间夹着中间粘接层24。此时，下层22的厚度至少要有30μm，而从提高与防尘薄膜组件收纳容器本体的粘接性的观点，优选为50μm以上。但从横方向承受荷重时防止上层21的横向偏移的观点，在足以维持粘接力的情况下，厚度要尽可能的薄，优选为30μm以下。
另一种方法，是使用类似双面胶带状的材料，将其堆叠并贴合(未图示)。此时，虽然整体的层数有5层或6层以上，但只要考虑到使双面胶带的部分的材料厚度尽可能的薄，便可防止承受横向负荷时的横方向偏移等，从而可供实用。
图8、图9及图10表示防尘薄膜组件收纳容器本体11上的保护构件17的配置形态的平面图，图8为配置于全周的实施形态，图9为在角部有间隙地不连续地配置于全周的实施形态，图10为在全周断续配置的实施形态。
如图1所示，因为盖12在整个周缘部被载置、固定于防尘薄膜组件收纳容器本体11，故可以在几乎全部范围都夹着保护构件，如此，在任一实施形态均可得到防止灰尘发生这一所期望的效果。有间隙地配置的情况，因为在打开盖时外面空气易于流入防尘薄膜组件收纳容器内，所以可期待能使因为防尘薄膜组件收纳容器内成为负压而卷入异物的程度得到缓和的效果。
因为也必须考虑到保护构件17的粘接力的安定性以及制造时的操作性等，所以，可综合考虑防尘薄膜组件收纳容器的大小、及作业所费工时，从而选择适当的配置。间隙配置的情况，应考虑到至少在以用来将盖12固定于防尘薄膜组件收纳容器本体11的环扣16扣接的部分设置保护构件。
以下说明本发明的实施例，但本发明不限于此。
实施例1
在本实施例中制作了图1、图2、图3所示的防尘薄膜组件收纳容器10。该防尘薄膜组件收纳容器的大小为：外部尺寸为1950×1750×高度190mm(不包含脚部13)，重量约为80kg。
防尘薄膜组件收纳容器本体11，是将铝合金AC4C以砂模铸造成型之后，以研磨布对其表面精加工，对外周部以及搭载防尘薄膜组件的面以铣床进行切削加工。机械加工结束后，以油灰填补表面的铸孔等的铸造缺陷施以精加工，让油灰自然干燥并硬化，涂布导电性材料，在烘箱施以烘烤干燥。
脚部13，是将SUS304冷轧板弯曲加工制成，通过螺栓(未图示)，安装于防尘薄膜组件收纳容器本体11的底面。同时，为便于操作，在外面以螺栓(未图示)安装有铝合金制的把手14以及用以固定盖体12的环扣16。
在如此制成的防尘薄膜组件收纳容器本体11的外缘部安装保护构件17。保护构件17的制造步骤如下。
将硅酮粘着剂(商品名称：KR3700，信越化学工业株式会社制造)以涂布棒涂布于宽度500mm，厚度180μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯制胶膜(商品名称：路米纳(Lumirror)，东丽(TORAY)株式会社制造)，以使其干燥后的厚度为50μm，并加热使其硬化。
将此聚对苯二甲酸乙二醇酯制胶膜与分离纸贴合，维持此贴合状态而缠绕在直径75mm的聚乙烯制的卷芯部之后，将其裁断成宽度20mm的胶带状。制成的保护构件17的剖面构造如图5所示，上层21为聚对苯二甲酸乙二醇酯，下层22为硅酮粘着剂。
清洁防尘薄膜组件收纳容器本体11的外周部，一边注意不要让气泡、异物等侵入，一边将此保护构件17以橡胶滚筒滚压，以图9所示的配置贴合。另外，在角部中各保护构件之间的接缝预留约为20mm的间隙。
接下来，对厚度3mm的聚甲基丙烯酸甲酯板施以环氧树脂类的防静电涂装之后，将其真空成型，制成盖体12。将其外周以NC起槽机加工切削加工，以使其与防尘薄膜组件收纳容器本体的外周为相同尺寸。在其外面为便于操作以螺栓(未图示)安装尼龙制的把手15。
将如此制成的防尘薄膜组件收纳容器本体11与盖体12送入等级10的无尘室内，以表面活性剂与纯水清洗干净之后，让其完全干燥。
对于如此制成的防尘薄膜组件收纳容器10，关掉无尘室内的照明，一边照射聚光灯(光量40万勒克司)，一边进行防尘薄膜组件收纳容器本体及盖体的内面侧的异物检查，确认无附着异物。
接下来，将盖12轻缓地嵌合包覆于防尘薄膜组件收纳容器本体11，周缘部以粘着胶带密封，且以配置于各边的环扣16将盖体12与防尘薄膜组件收纳容器本体11固定。进而以防静电的聚乙烯制膜片(未图示)包装整体，开口部，以热封方式密封。其后，再次从无尘室运送出，收纳于底部设有缓冲材料的包装箱(未图示)。其次，将此包装箱以卡车载送，使其移动约1000km的距离。
运送结束的防尘薄膜组件收纳容器10，再次送入上述无尘室内，以纯水将其外面洗净擦拭之后，打开盖体，确认其内部产生灰尘的状况。在关掉无尘室的照明的状态下，以聚光灯(光量40万勒克司)，照射盖体与防尘薄膜组件收纳容器本体的各自的内侧面，观察异物的附着状况。
其结果，在防尘薄膜组件收纳容器本体11上，在保护构件17的表面及与其紧邻附近发现有4个大小为10-50μm左右的异物附着。另一方面，在盖12上，在与保护构件的接触部发现3个大小为10-50μm左右的异物。这些异物的附着位置均限于保护构件17的附近，而在搭载防尘薄膜组件的内侧完全未发现异物。此外，在保护构件的表面及粘着层完全未发生损伤。
实施例2
以与上述实施例1完全相同的方式制成防尘薄膜组件收纳容器。不过，这里所用的保护构件的构造与图7所示，上层21为聚对苯二甲酸乙二醇酯(商品名称：路米纳(Lumirror)，东丽株式会社制造)，中间粘接层24为硅酮粘着剂(厚度20μm，商品名称：KR-3700，信越化学工业株式会社制造)，中间层23为硅酮橡胶(硬度计(Durometer)硬度A31，商品名称：KE-931-U，信越化学工业株式会社制造)，下层22为硅酮粘着剂(厚度50μm，商品名称：KR-3700，信越化学工业株式会社制造)。
关于此防尘薄膜组件收纳容器，以与实施例1相同的方式进行运送实验，确认内部产生灰尘的状况。其结果，在防尘薄膜组件收纳容器本体11，发现有3个50μm左右的异物附着。另外，在盖12，发现1个10μm左右的异物。与实施例1一样，这些附着位置均限于保护构件17的附近，在搭载防尘薄膜组件的内侧完全未发现异物，保护构件17也未发生损伤。
比较例
以与上述实施例1、2相同的方式制成防尘薄膜组件收纳容器本体11及盖体12。但在防尘薄膜组件收纳容器本体11上，没有安装保护构件17。对于未设此保护构件17的防尘薄膜组件收纳容器，以与上述实施例1完全相同的方式进行运送实验，确认内部产生灰尘的状况。
其结果，在防尘薄膜组件收纳容器本体上发现数百个大小为10-100μm的异物，在盖体上也有数十个异物。其附着位置，不仅是外周部，而且扩散到内面整体。并且，在防尘薄膜组件收纳容器本体11上，到处都存在有因与盖体12接触所造成的擦痕。
符号说明
10：防尘薄膜组件收纳容器(整体)
11：防尘薄膜组件收纳容器本体
12：盖体
13：脚部
14：把手
15：把手
16：环扣
17：保护构件
18：防尘薄膜组件
21：上层(保护层)
22：下层(粘接层)
23：中间层(缓冲层)
24：中间粘接层

Claims (5)

1.一种防尘薄膜组件收纳容器，其为收纳至少有一条边的边长大于1000mm的防尘薄膜组件的大型防尘薄膜组件收纳容器，其特征在于：
防尘薄膜组件收纳容器本体为金属制，并且在其承载，固定的盖与容器本体接触的所述防尘薄膜组件收纳容器的周缘部设置有保护部件，并且，所述保护部件为平板状，位于所述防尘薄膜组件本体与所述盖之间。
2.如权利要求1所述的防尘薄膜组件收纳容器，其中，所述保护部件至少由2层构成，其与盖相接的层为树脂，与防尘薄膜组件收纳容器本体相接的层为硅酮粘着剂。
3.如权利要求1所述的防尘薄膜组件收纳容器，其中，所述保护部件至少由3层构成，其与盖相接的层为树脂，与防尘薄膜组件收纳容器本体相接的层为硅酮粘着剂，并且其中间层为弹性体。
4.如权利要求3所述的防尘薄膜组件收纳容器，其中，所述保护部件中的弹性体为硅酮树脂。
5.如权利要求2至4的任一项所述的防尘薄膜组件收纳容器，其中，所述保护部件的与盖相接的层为聚对苯二甲酸乙二醇酯层。
CN2011101041518A 2010-04-23 2011-04-25 防尘薄膜组件收纳容器 Active CN102236249B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010099895A JP5528190B2 (ja) 2010-04-23 2010-04-23 ペリクル収納容器
JP2010-099895 2010-04-23

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102236249A true CN102236249A (zh) 2011-11-09
CN102236249B CN102236249B (zh) 2013-03-13

Family

ID=44887033

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2011101041518A Active CN102236249B (zh) 2010-04-23 2011-04-25 防尘薄膜组件收纳容器

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP5528190B2 (zh)
KR (1) KR101754835B1 (zh)
CN (1) CN102236249B (zh)
HK (1) HK1163262A1 (zh)
TW (1) TWI423907B (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105883122A (zh) * 2015-02-17 2016-08-24 信越化学工业株式会社 防尘薄膜组件收纳容器
CN105905392A (zh) * 2015-02-24 2016-08-31 信越化学工业株式会社 防尘薄膜组件收纳容器
CN106168735A (zh) * 2015-05-18 2016-11-30 信越化学工业株式会社 防尘薄膜组件以及其安装方法

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5822401B2 (ja) * 2012-12-25 2015-11-24 信越化学工業株式会社 リソグラフィ用ペリクル
JP6308676B2 (ja) * 2014-12-18 2018-04-11 信越化学工業株式会社 リソグラフィ用ペリクル容器。
JP6320309B2 (ja) * 2015-01-19 2018-05-09 信越化学工業株式会社 ペリクル収納容器
JP6351178B2 (ja) * 2015-07-13 2018-07-04 信越化学工業株式会社 ペリクル収納容器およびペリクルの取り出し方法
JP6494111B2 (ja) * 2015-11-09 2019-04-03 信越化学工業株式会社 ペリクル収納容器の包装構造体及びその包装方法
US10416575B2 (en) * 2016-11-16 2019-09-17 Suss Microtec Photomask Equipment Gmbh & Co. Kg Apparatus and method for cleaning a partial area of a substrate
JP2020033060A (ja) * 2018-08-30 2020-03-05 株式会社吉野工業所 チューブ容器

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005107085A (ja) * 2003-09-30 2005-04-21 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 大型ペリクル収納容器の開封方法および蓋開閉治具および大型ペリクル収納容器
WO2007043217A1 (ja) * 2005-10-07 2007-04-19 Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. ペリクル用収納容器
CN101190723A (zh) * 2006-11-30 2008-06-04 信越化学工业株式会社 防护薄膜组件收纳容器
JP2008216846A (ja) * 2007-03-07 2008-09-18 Asahi Kasei Electronics Co Ltd ペリクル収納容器
JP2009037269A (ja) * 2008-11-20 2009-02-19 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 大型ペリクル収納容器及びその製造方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3157664B2 (ja) * 1993-11-22 2001-04-16 信越化学工業株式会社 ペリクル収納容器
JP3356897B2 (ja) * 1994-12-16 2002-12-16 信越化学工業株式会社 ペリクル収納容器
JP2001201847A (ja) * 2000-01-19 2001-07-27 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクル容器
JP4391435B2 (ja) * 2005-03-22 2009-12-24 信越化学工業株式会社 ペリクル収納容器
JP2007057624A (ja) * 2005-08-23 2007-03-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd レチクル収納ケース
JP5269438B2 (ja) * 2007-03-13 2013-08-21 旭化成イーマテリアルズ株式会社 大型ペリクルの保護フィルム及び大型ペリクルの収納方法
JP4955449B2 (ja) * 2007-05-10 2012-06-20 信越化学工業株式会社 ペリクル収納容器
JP5051840B2 (ja) * 2007-11-22 2012-10-17 信越化学工業株式会社 ペリクル収納容器内にペリクルを保管する方法
JP2010060992A (ja) * 2008-09-05 2010-03-18 Asahi Kasei E-Materials Corp 大型ペリクル構造体及び大型ペリクル収納構造体
JP4776721B2 (ja) * 2009-09-18 2011-09-21 旭化成イーマテリアルズ株式会社 大型ペリクル収納容器及びその製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005107085A (ja) * 2003-09-30 2005-04-21 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 大型ペリクル収納容器の開封方法および蓋開閉治具および大型ペリクル収納容器
WO2007043217A1 (ja) * 2005-10-07 2007-04-19 Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. ペリクル用収納容器
CN101190723A (zh) * 2006-11-30 2008-06-04 信越化学工业株式会社 防护薄膜组件收纳容器
JP2008216846A (ja) * 2007-03-07 2008-09-18 Asahi Kasei Electronics Co Ltd ペリクル収納容器
JP2009037269A (ja) * 2008-11-20 2009-02-19 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 大型ペリクル収納容器及びその製造方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105883122A (zh) * 2015-02-17 2016-08-24 信越化学工业株式会社 防尘薄膜组件收纳容器
CN105905392A (zh) * 2015-02-24 2016-08-31 信越化学工业株式会社 防尘薄膜组件收纳容器
CN105905392B (zh) * 2015-02-24 2018-04-13 信越化学工业株式会社 防尘薄膜组件收纳容器
CN106168735A (zh) * 2015-05-18 2016-11-30 信越化学工业株式会社 防尘薄膜组件以及其安装方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20110118558A (ko) 2011-10-31
TWI423907B (zh) 2014-01-21
JP2011232388A (ja) 2011-11-17
TW201139233A (en) 2011-11-16
HK1163262A1 (en) 2012-09-07
JP5528190B2 (ja) 2014-06-25
KR101754835B1 (ko) 2017-07-06
CN102236249B (zh) 2013-03-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102236249B (zh) 防尘薄膜组件收纳容器
CN101441405B (zh) 防护薄膜组件、收纳防护薄膜组件的收纳容器及收纳方法
US8960749B2 (en) Vacuum suction apparatus
TWI388475B (zh) 防塵薄膜組件收納容器
JP6376601B2 (ja) ペリクル支持手段及びこれを用いたペリクル支持装置とペリクル装着方法
JP2005049765A (ja) 大型ペリクル収納容器
JP3356897B2 (ja) ペリクル収納容器
CN105035466B (zh) 防尘薄膜组件收纳容器
JP2014085433A (ja) ペリクル収納容器
JP5464859B2 (ja) ペリクル収納容器
JP2008299465A (ja) 非接触型ｉｃタグ及び非接触型ｉｃタグの製造方法
CN103946130B (zh) 减轻多晶硅的金属接触污染的容器和方法
KR20170098700A (ko) 펠리클 수납 용기
JP4664746B2 (ja) リソグラフィ用大型ペリクル収納体
CN106353967B (zh) 防尘薄膜组件收纳容器以及防尘薄膜组件的取出方法
CN208970010U (zh) 一种利用静电吸附的标签
JP4672636B2 (ja) ペリクル収納容器
CN216300417U (zh) 一种防静电的pe保护膜
KR102461012B1 (ko) 도막 보호 구조물
JP4417119B2 (ja) ガラス基板搬送用ケース
JP2004224365A (ja) ガラス板の梱包方法及びガラス板梱包用スペーサ
JP5681382B2 (ja) コップカバーとコップカバーの装着方法
JP3147161U (ja) 保護プレート及び発泡金属シート用保護プレート
JP2008037434A (ja) 浮屋根式タンク及び浮屋根式タンクのウェザーシール装置
JP2009093187A (ja) 大型ペリクル収納容器

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
REG Reference to a national code

Ref country code: HK

Ref legal event code: DE

Ref document number: 1163262

Country of ref document: HK

C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
REG Reference to a national code

Ref country code: HK

Ref legal event code: GR

Ref document number: 1163262

Country of ref document: HK